TW315496B - - Google Patents

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TW315496B TW086100920A TW86100920A TW315496B TW 315496 B TW315496 B TW 315496B TW 086100920 A TW086100920 A TW 086100920A TW 86100920 A TW86100920 A TW 86100920A TW 315496 B TW315496 B TW 315496B
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Description

A7 B7 經濟部中央梂準局員工消費合作社印装 五、發明説明(1 ) 本發明係有關於一種例如塗布處理L C D基板等被處 理體的前過程之處理裝置及處理方法。 —般液晶顯示裝置(Liquids Crustal Display)裝 置之製造過程,爲了在LCD基板(玻璃基板)上形成例 如I TO ( Indium Tin Oxide)之薄膜和電極圖案等,採 用半導體製造過程之光蝕刻技術。即,在具有被處理膜的 L C D基板上形成光致抗蝕劑膜,於此光致抗蝕劑膜轉印 電路圖案等,利用顯影處理施實部分除去光致抗蝕劑膜的 一連串之處理(所謂抗蝕劑處理)。 例如用洗淨裝洗淨LCD基板後,對此LCD基板用 附著力處理裝置施以疏水化處理,用冷卻處理裝置冷卻這 裡。接著用附著力處理裝置對此L C D基板上塗布形成光 致抗蝕劑膜即感光膜。然後用熱處理裝翟加熱具有抗蝕劑 膜的LCD基板並施以烘乾處理(前烘乾)後,藉由曝光 裝置的曝光將規定的圖案轉印在抗蝕劑膜。接著,用顯影 裝S對曝光後之的L C D基板施以顯影處理形成規定的抗 蝕圖案後,施以烘乾處理(後烘乾)使抗蝕劑膜髙分子化 ,同時强化L C D基板與抗蝕圖案間的密著性。 被施以上述處理之L C D基板,係在施以抗蝕劑塗布 處理前施以各種成膜處理。因此處理中暫時保存L C D基 板,於運送之際,LCD基板被曝露在空氣中,會在 L C D基板附著粒子和有機污染物。爲了除去此粒子和有 機污染物,故在抗蝕劑處理前的過程會進行使用刷子和洗 淨液之洗淨處理,加以清洗LCD基板的表面。又,爲了 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) r 裝.
.1T 本紙張又度適用中國國家揉準(CNS)A4規格( 210X297公釐9 4 - 315496 A7 Β7· 經濟部中央梯準局負工消費合作社印製 五、發明説明(2 ) 將L C D基板的抗蝕劑膜之密著性做得非常良好,故須施 行附著力處理。 ‘又,作爲除去有機污染物之裝置,附著有機污染物之 被處理體_,例如藉由在半導體晶片照射紫外線利用所產生 的臭氧而加以分解有機污染物之技術爲眾所周知(日本特 公平4 — 9 3 7 3號公報)。若按此技術,點亮紫外線燈 例如低壓水銀燈,以波長2 5 4 n m的水銀共鳴線的紫外 線爲主要的波長被射出外部,以1 8 5 nm紫外線爲次要 的,甚至僅是射出其他的波長。於是可利用此生成機構來 分解有機污染物。即,藉由該些紫外線中的波長1 8 5 nm的紫外線所生成的臭氧,將此臭氧藉由波長2 5 4 n m的紫外線生成分解發生基的氧。此發生基的氧即可分 解有機污染物並以氣體狀態飛散。 因而,就連上述洗淨處理中,亦有所謂無法完全除去 附著在L C D基板的有機污染物,在下一次過程的抗蝕劑 處理中無法形成均一的抗蝕劑膜,導致良率品降低的問題 0 又,此技術方面,雖然有機污染物能被分解除去,但 卻必須防止來自紫外線照射裝置所產生的臭氧波及被處理 體以外的其他裝置、機器類等的不良影響和朝裝外部的洩 漏° 本發明因有鑑於上述情形,故提供一有效利用臭氧除 去附著在被處理體的有機污染物之處理裝置及處理方法爲 目的。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格( 210X297公釐) 5 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) h 裝· 訂 315496 A7 B7 五、發明説明(3 ) 爲達成上述目的,本發明之處理裝朦,係具備固持被 處理體之被處理固持裝置、收藏前述被處理體及前述被處 理體固持裝置之處理室、對前述被處理體照射紫外線之紫 外線照射裝置、收藏前述紫外線照射裝置之紫外線照射裝 置之紫外線照射裝置室、開關連通前述處理室與前述紫外 線照射裝置室之開關裝置、排出經由前述紫外線照射裝置 的紫外線照射所生成的存在於前述處理室內的臭氧之第1 排氣裝置、排出產生在前述紫外線照射裝置室的臭氧之第 2排氣裝B爲特徵。. 本發明之處理裝置方面,最好是能相對平行移動的設 置被處理體固持裝置與紫外線照射裝置。又,最好是能相 對接近·隔開被處理髋固持裝置與紫外線照射裝置。甚至 ,最好是能相對平行移動且相對接近·隔開的設置被處理 體固持裝置與紫外線照射裝置。再者:若能以相對規定位 置設置被處理體固持裝置與紫外線照射裝置的話,即可固 定兩者。 經濟部中央梂準局貝工消费合作社印製 (請先閲讀背面之注^h項再填寫本頁) 本發明之處理裝置方面,最好被處理體固持裝置設有 加熱裝置及/或冷卻裝置。 又,本發明之處理裝置方面,最好第1排氣裝置設有 施實排氣的停止·開啓之開關機構,最好第2排氣裝置設 有施實排氣的停止·開啓之開關機構。 甚至,本發明之處理裝方面,最好設有將紫外線照射 裝置室內的熱氣排至外界之熱排氣裝置。 本發明之處理方法,係具備將被處理體載置在處理室 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格( 210X297公釐4 6 · 315496 A7 B7 五、發明説明(4 ) 內的被處理體固持裝置之過程、將前述被處理體固持裝置 與前述紫外線照射裝置的至少一邊移動至紫外線照射之際 的位置之過程、對前述被處理體照射紫外線之過程、將前 述被處理體固持裝置與前述紫外線照射裝置的至少一邊從 紫外線照射之際的位置移開之過程、將經由前述紫外線照 射裝置的紫外線照射所生成的存在於前述處理室內的臭氧 利用第1排氣裝置排氣之過程、將產生在收藏前述紫外線 照射裝置的紫外線照射裝置室之臭氧利用第2排氣裝置排 氣之過程爲特徵。 本發明之處理方法方面,在被處理體照射紫外線之過 程,利用開關裝置來關閉連通處理室與紫外線照射裝e室 之開口,但在該狀態作動紫外線照射裝置,最好利用前述 開關裝置打開開口。 又,本發明之處理方法方面,最好將紫外線處理裝置 室內的熱氣利用熱排氣裝置排至外面,最好在處理中經常 進行利用熱排氣裝置的散熱。 經濟部中央橾準局男工消费合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 又,本發明之處理方法方面,最好在被處理體照射紫 外線的過程,使紫外線照射裝置可相對被處理體的表面平 行移動,最好可改變被處體固持裝置與紫外線照射裝置的 距離。 又,本發明之處理方法方面,最好在被處理體照射紫 外線的過程,停止經由紫外線照射裝置的紫外線照射所生 成的存在於前述處理室內的臭氧之排氣。 又,本發明之處理方法方面,最好在藉由開關裝置關 本尺度通用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐-)7 _ A7 B7 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印装 五、發明説明(5 ) 上開口的狀態進行存在於紫外線照射裝置室內的臭氧之排 氣。 若按本發明,將附著有機污染物的被處理體載置在處 理室的被處理體固持裝置後,將處理室與外氣瞞斷,作動 被處理固持裝置將被k理體移動至紫外線照移之際的位置 ,而且,對被處理體做規定時間照射紫外線之時,有效利 用來自紫外線照射裝置產生的臭氧分解除去附著在被處理 體的有機污染物。又,藉由除去有機污染物,即可變小被 處理體表面的表面能i而降低接觸角,提高所謂“濕潤性 ”。因而,能達到下一次過程的洗淨處理、塗布處理等的 處理提昇。 又,藉由將供給在上述處理室內的處理之臭氧及來自 紫外線照射裝置產生的其他臭氧排氣至外部,即可防止臭 氧向外部洩漏,同時能防止由於臭氧的裝置、機器類之不 良影響。接著,根據所附圖面說明本發明之實施形態。此 實施例係說明將有關本發明之處理裝置應用在L C D基板 的塗布處理方法的情形。 上述塗布處理方法,係如第1圖所示,作爲被處理體 運入·運出LCD基板G (以下稱爲基板。本詳細說明書 方面基板包含仍是L C D基板的情形與在L C D基板上形 成各種膜的情形)之裝貨部1、基板G之前處理部2和介 於中斷部3而被連設在前處理部2之塗布處理4爲主要之 構成。再者;於塗布處理部4介於中斷部3而被連設之顯 影處理部6,另於,顯影處理部6介於交貨部可連設一對 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) A4規格(210 X 2们公釐)§ (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁)
X 裝. 訂 315496 A7 B7 五、發明説明(6 ) 抗蝕劑膜曝光規定的微細圖案之曝光裝置(圖未表示)。 上述裝貨部1 ,係由收藏未處理基板G之卡匣7、載 置收藏處理過的基板G的卡匣7 a之卡匣載置台8、須在 此卡匣載置台8上的卡匣7,7 a間進行基板G的運入出 能水平(X,Y )方向與垂直(Z )方向移動及旋轉(Θ )之基板運出入小鉗子9所構成。 上述前處理部2 ,係可在X,Y,Z方向移動及 旋轉的主臂10的運送路11的這邊,配置以刷子洗淨基 板G之刷子洗淨裝置12與以高壓噴射水洗淨基板G之噴 射水洗淨裝置1 3,在運送路1 1的另一邊,配置基板G 之加熱裝置14與有關具備臭氧照射裝置的本發明之處理 裝置2 0。 經濟部中央梂準局貝工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意^項再填寫本頁) 一方面,上述塗布處理部4,係設有與前處理部2相 同,具有可向X,γ,Ζ方向移動及β角旋轉之主臂 1 0 a,在此主臂1 0 a的運送路1 1 a的這邊,配置疏 水化處理基板G表面之附著力處理裝置1 5、以規定的溫 度冷卻基板G之冷卻裝置16和使用以規定溫度加熱基板 G之加熱裝置1 7,在運送路1 1 a的另一邊則配置抗蝕 劑塗布裝置1 8及塗布膜除去裝置1 9。 又,上述中斷部3,係在具有立設支撑基板G的支撑 銷3 a的交貨台3 b的箱體3 c之底面具備腳輪(圖未表 示)之構造,對應所需將此中斷部3自前處理部2及塗布 處理部4分開拉出以保留空間,即可方便作業員進入前處 理部2或者塗布處理部4內進行修補和檢査。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公9 . ' 經濟部中央梂準局負工消费合作社印製 A7 _B7五、發明説明(7 ) 再者;連顯影處理部6方面,也設有圖示沒有但卻與 上述前處理部2及塗布處理部4相同的運送路及主臂之運 送機構,插在此運送機構的運送路而在顯影的前後配置進 行前烘乾或者後烘乾之加熱裝置與顯影裝置(圖未表示) 0 如上所述的構成之塗布處理方法方面,被收藏在卡匣 7內的未處理之基板G再利用裝貨部1的運出入小鉗子9 而取出後,交貨到前處理部2之主臂1 0,然後運送到處 理裝置2 0。在處理裝置2 0中藉由在基板G利用紫外線 照射裝置照射紫外線的臭氧,除去附著在基板G的有機污 染物後,基板G則會被運送到刷子洗淨裝置1 2內。在此 刷子洗淨裝置12內被刷子洗淨的基板G對應所需在噴射 水洗淨裝置1 3內利用高壓噴射水洗淨。之後,基板G則 用附著力處理裝置1 5施行疏水化處理,用冷卻裝® 1 6 冷卻之後,用抗蝕劑塗布裝置1 8塗布形成抗蝕劑膜即感 光膜,接著利用塗布膜除去裝置19除去基板G周邊部所 不要的抗蝕劑膜。然後此抗蝕劑膜會用加熱裝置17加熱 並施以烘乾處理後,用曝光裝置曝光規定的圖案。而且, 曝光後的基板G會被運送到顯影處理部6的顯影裝置內, 再利用顯影液顯影之後利用沖洗液沖洗顯影液,即可完成 顯影處理。 接著,說明有關本發明之處理裝置。 (第一實施形態) 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐-)- (請先閲讀背面之注項再填寫本頁) 裝. 訂 經濟部中央梂準局员工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(8 ) ~ 第2圖係表示本發明之處理裝置之概略斷面圖。 上述處理裝置2 0,係具備處理基板G之處理室2 1 、設在此處理室2 1上部,收藏紫外線照射裝g例如紫外 線燈2 2之燈室(紫外線照射裝置室)2 3、開關被設在 處理室2 1與燈室2 3間的開口 2 4之燈快門(開關裝置 )2 5、被連接在處理室2 1之第1排氣裝置4 1和被連 接在燈室2 3之第2排氣裝置4 2。 於處理室2 1的側面設置基板G之運入.運出口 2 6 ,此運入·運出口 2 6可藉著利用汽缸2 7而向垂直方向 作動的組件快門2 8加以開關。又,於處理室2 1內,則 配設利用上述主臂1 0來固持自運入·運出口 2 6運入處 理室2 1內的基板G之固持裝置(被處理體固持裝置) 3 0 〇 固持裝置3 0,係如第3及4圖所示,設有載置基板 G例如施行撞錘處理的鋁合金製之載置台31、分別自由 嵌合被設在此載置台3 1的多個例如四個貫穿孔(圖未表 示)之支撑銷3 2、介於支撑棒3 3被連結在支撑載置台 3 1的支撑板3 4而向上下方向移動載置台3 1之載置台 移動用汽缸3 5。此時,支撑板3 4係可滑動嵌裝在支撑 支撑銷3 2下部之支柱3 2 a °藉由此種構成,可驅動載 置台移動用汽缸3 5,下降載置台3 1而以自支撑銷3 2 自載®台3 1突出的狀態在支撑銷3 2上安裝基板G,上 昇載置台3 1支撑銷3 2向上方移動的狀態載置基板G, 同時將基板G朝來自紫外線燈2 2產生之臭氧的照射最適 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐-)11 - * - -- -I —^1 - I Jn m m In I (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 訂 315496 A7 B7 五、發明説明(9 ) 當位置移動。 再者:此時,在支撑板3 4下面懸吊兩根垂直棒 3 6 a,在架設該些垂直棒3 6 a的下端部間之板構件 3 6 b安裝定位構件3 6 c。此定位構件3 6 c,會與載 置台3 1—起移動,以抵接在被配置於載置台3 1下方的 固定板3 7下面的狀態來停止載置台3 1之上昇,亦即將 基板G停止在臭氧照射最適當也最接近紫外線燈2 2的位 置。此時的紫外線燈2 2與基板G的最小距離約爲1 〇 mm。再者;利用螺釘等形成可微調定位構件3 6 c。 上述說明,雖是說明對支撑銷3 2的載置台3 1構成 可上下移動的情形,但也可爲固定載置台31,構成可上 下移動支撑銷3 2。 經濟部中央搮準局貝工消費合作社印掣 (请先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ς 又,支撑上述支撑銷3 2之支柱3 2 a與載置台移動 用汽缸3 5 ,係被設置在固持板3 8上,固持板3 8則在 固定板3 7的上面介於線型導件3 9 a而向水平方向移動 的被安裝。而且,固持板3 8會介於無端皮帶(圖未表示 )被連接在利用可正反旋轉的步進馬達3 9 b旋轉之皮帶 輪3 9 c,利用步進馬達3 9 b的驅動向水平方向移動固 持板3 8。因而,即可利用固持板3 8的水平方向移動來 水平移動支撑銷3 2、載置台移動用汽缸3 5及載置台 3 1 ,同時被固持在載置台3 1上的基板G可對紫外線燈 2 2向平行方向移動(擺動)。利用此基板G的擺動,即 可在基板G表面均一地照射來自紫外線燈2 2產生的臭氧 。再者:若基板G擺動之際的速度考慮到馬達的加速度的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格( 210X297公釐-)12 - A7 ______B7_ 五、發明説明(10 ) 話,則最好爲馬達的自行啓動速度程度,若基板G擺動之 際的移動距離考慮到照度分布的話,則最好爲燈距的一半 0 又,上述處理室2 1內周面,則安裝著向載置台3 1 的外周部附近延伸的斷面略橫L形之側蓋4 3,載置台 3 1下方位置,則在中央設有排氣口 4 4,在周緣安裝具 有配置成重*在側蓋4 3的垂下片4 3 a的起立片4 5 a 之杯盤4 5。又,處理室2 1的下部,則利用下蓋4 6將 上述載置台移動用汽缸3 5和步進馬達3 9 b等之驅動控 制部與處理室2 1隔開配置。在排氣口 4 4連接第1排氣 管4 7,在被設於處理室2 1的下部側面之側部排氣口 4 4 a連接第2排氣管4 8,以該些第1及第2排氣管 4 7 ,4 8與被介設在第1及第2徘氣管4 7 ,4 8之排 氣扇4 0構成第1排氣裝® 4 1。再者;若氣密連設側蓋 4 3與杯盤4 5就可解除臭氣的洩漏,也可以用第1排氣 管4 7與排氣漏4 0構成第1排氣裝置4 1。 經濟部中央梂準局貝工消费合作社印聚 I '-I I -I ! i ml i H (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 藉由此種構成,若驅動排氣扇,被照射在載置台3 1 上的基板G上面的臭氧會從基板G的表面流向周邊而流到 下方,之後,從側蓋4 3的垂下片4 3 a與杯盤4 5的直 立片4 5 a之間隙4 9所漏出的臭氧,則會由側部排氣口 4 4 a流到第2排氣管4 8而加以排出。 一方面,上述燈室2 3內,則水平互相平行配列多根 例如七根之紫外線燈2 2 (例如低水銀燈)。此紫外線燈 2 2則介於介設流量調整器5 0及過濾器5 1的管路5 2 本紙張尺度適用中國囷家梯準(CNS ) Α4规格(210Χ297公董-)13 _ 經濟部中央梯準局貝工消费合作社印製 A7 ___B7 五、發明説明(η ) 而被連接在空氣供給源5 3,將來自空氣供給源5 3所供 給的清淨空氣介於開口 2 4供給至基板g的表面,同時構 成得以有效使用所產生的臭氧。此空氣清淨線爲極力避開 空氣亂流最好不要設置。 又,燈室2 3,係藉著具有多個小孔的隔板2 3 ^而 被分隔成上部室2 3 a與下部室2 3 b。下部室2 3 .b, 則在側面設有側部排氣口 4 4 a,在此下部排氣口 4 4 a 介於觸媒5 4來連接第3排氣管5 5。此第3排氣管5 5 會與上述第1及2排氣管4 7,4 8合流,同時介設排氣 扇4 0,構成將產生在燈室2 3內的臭氧排氣至外部。在 第1及第2排氣管4 7,4 8分別介設臭氧排氣之開關用 制動器7 1 ,7 2 (排氣開關機構),藉著開關操作此制 動器7 1 ,7 2而選擇性施行處理室2 1內的臭氧之排氣 。即,將開關被設在處理室2 1與燈室2 3間的開口 2 4 之燈快門2 5利用圚未表示的汽缸成爲打開的狀態(紫外 線照射處理中),藉由打開制動器7 1 ,7 2 ,將來自紫 外線燈2 2所產生的臭氧排氣至外部。又,開關燈快門 2 5爲關閉的狀態,即可關閉制動器7 1 ,7 2 。 又,第^排氣管5 5,係介設有臭氧排氣之開關用制 動器5 6 (排氣開關機構),藉由開關操作此制動器5 6 可選擇性施行燈室2 3內的臭氧之排氣。即,將開關被設 在處理室2 1與燈室2 3闉的開口 2 4之燈快門2 5利用 圚未表示的汽缸成爲打開的狀態,藉由關上制動器5 6 , 將來自紫外線燈2 2所產生的臭氧更有效率的供給至基板 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(2丨〇><297公釐) 14 - (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 裝· 訂 315496 A7 B7 五、發明説明(l2 ) G側。又,關閉燈快門2 5的狀態利用打開制動器5 6 , 將存在燈室2 3內的臭氧排氣至外部。 於上部室2 3 a的相對側這邊設有空氣供給口5 7, 相反側則設有上部排氣口 5 8。此時亦可在空氣供給口 5 7安裝空氣扇。上部排氣口 5 8則連接著第4排氣管 5 9。於第4排氣管5 9 ,則介設熱排氣之開關用制動器 7 3 (排氣開關機構),藉由開關操作此制動器7 3可施 行燈室2 3內的熱排氣。此第4排氣管5 9 ,則與上述第 1及第2排氣管4 7,4 8合流,同時介設有排氣扇,將 產生在燈室2 3內的加熱空氣經常的排氣至外部而冷卻燈 室2 3內部。 以上述第3排氣管5 5與第4排氣管5 9構成第2排 氣裝置4 2。藉此第2排氣裝置4 2,將產生在燈室2 3 內的臭氧排氣至外部並自臭氧開始保護電裝品等,同時可 經常冷卻燈室2 3防止熱破壞。 再者;作爲制動器5 6,7 1〜7 3,係可適當使用 密閉式、手動可變式等。 經濟部中央梂準局貝工消费合作社印衆 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 接著:說明有關使用如上述所構成的處理'裝置將附著 在基板G的表面之有機污染物除去之順序。 .首先;如第3及第4 A圖所示,以降低組件快門2 8 而打開運入·運出口 2 6的狀態,利用前處理部2的主臂 10將被運送的基板G交貨至突出於載置台31上之支撑 銷3 2。接著;如第4B圇所示,將基板G交貨至支撑銷 3 2的主臂1 0朝處理室2 1的外部後退後,上昇組件快 本紙浪尺度適用中國國家梯準(CNS)A4規格(210Χ297公釐J 15 - 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印製 A7 ____ B7 五、發明説明(13) 門2 8以關閉運入·運出口 2 6 ,同時藉著利用載置台移 動用汽缸3 5的驅動所上昇之載®台3 1來固持基板G而 將基板G移動至紫外線照射位置。 若以基板G被移動至紫外線照射位置的狀態,利用 未表示的汽缸之驅動來打開燈快門2 5的話,來自紫外線 燈2 2所產生的臭氧會即可介於開口 2 1分解除去被照射 在基板G表面而附著在基板G表面的有機污染物。分解除 去有機污染物的臭氧則利用第1排氣裝置41將臭氧自基 板G的周緣流到下方,介於排氣口 4 4及側部排氣口 4 4 a排氣至外部。再者;因打開瞬間開關器2 5的狀態 可關上第2排氣裝® 4 2之制動器5 6,故可將來自紫外 線燈2 2所產生的臭氧很有效率的供給至基板G側。又, 對基板G被臭氧照射的期間,可利用步進馬達3 9 b的驅 動向平行方向移動(擺動)載置台3 1及基板G,臭氧會 被均等的照射在基板G的表面整體,可很有效率的施行有 機污染物的除去。再者;於臭氧照射中對應所需可使基板 G相對紫外線燈2 2做接近•隔開移動。 以規定時間打開燈快門2 5將臭氧照射在基板G後, 降低組件快門2 8打開運入·運出口 2 6的同時下降載置 台3 1 °然後關上燈快門2 5並用支撑銷3 2支撑基板G 。而且,前處理部2的主臂1 0則會進入處理室2 1內接 收基板G,朝處理室2 1的外部運出而結束處理。再者; 由於連打開組件快門2 8的狀態,也能將殘存在處理室 21內的臭氧利用第1排氣裝®41排氣至外部,故前處 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS)A4規格( 210X297公釐·)16 _ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝.
、1T 經濟部中央標準局貝工消費合作社印策 A7 _____B7_ 五、發明説明(14) 理部2內無臭氧洩漏之虞。又,因關上燈快門2 5的狀態 ,可打開第2排氣裝置4 2之制動器5 6,故產生在燈室 2 3內的臭氧會自第3排氣管5 5排氣至外部。 若藉由如上述所構成之處理裝置,因可在利用洗淨裝 置1 2,1 3及附著力處理裝置1 5洗淨或者疏水化處理 的基板G照射臭氧,除去附著在基板G的有機污染物,故 可縮小基板G的接觸角,即可提高基板G的“濕潤性”。 因而,可提高利用洗淨裝置1 2 ,1 3之洗淨效果,同時 附著力處理後的抗蝕劑塗布中,可抑制抗蝕劑的彈力而均 一化抗蝕劑膜,達到良品率的提昇。 (第二實施形態) 第5圖係表示本發明之處理裝置之第二實施形態之概 略斷面圖。第二實施形態,會更加活性化來自紫外線燈 2 2所產生的臭氧,更有效率的除去附著在基板G的有機 汚染物之情形。亦即,在上述載置台3 1的內部內裝加熱 裝置例如加熱器6 0,對被固持在載置台3 1上的基板G ,照射來自紫外線燈2 2臭氧的期間,藉由作動此加熱器 6 〇來加熱基板G,更加活性化來自臭氧所被分解的氧會 更有效率的施行有機污染物的分解除去的情形。上述加熱 裝置未必需要加熱器6 0 ,除加熱器6 0以外例如也可使 被設置在載置台31的循環通路流通熱媒體。 再者;第二實施形態中,因其他的部分與上述第一實 施形態相同,故於相同的部分附上相同的符號,省略其說 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) M規格(2i〇X297公羞-)17 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
X 裝- 訂 B7 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印製 五、發明説明(15)明。 (第三實施形態) 第6圖係表示本發明之處理裝置之第三實施形態之概 略斷面圖。第三實施形態,係利用來自紫外線燈2 2所產 生的熱氣防止基板G受到不良影響的情形。亦即,在上述 載置台3 1的內部設置循環通路6 1 ,同時在此循環通路 6 1連接冷媒供給源6 2,使循環通路6 1內流通規定溫 度之冷媒液,使載置台3 1上的基板G維持在一定溫度的 情形。因此種藉由冷卻載置台3 1上的基板G,可將經由 紫外線燈2 2的熱氣而被曝露在高溫下的基板G之溫度.維 #在規定之一定溫度,故可以安定的狀態在基板G照射臭 氧。 再者:第三實施形態中,因其他部分與上述第一實施 形態相同,故於相同的部分附上相同的符號,省略其說明 0 (第四實施形態) 第7圖係表示本發明之處理裝置之第四實施形態之概 略斷面圖。第四實施形態,可更加活性化來自紫外線燈 2 2所產生的臭氧,並更有效率的的除去附著在基板G的 有機污染物,同時將基板G的溫度維持在一定達到處理之 安定化的情形。亦即,在上述載置台31的內部內裝加熱 裝fi例如加熱器6 0,同時形成冷媒液之循環通路6 1 , (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) £ 裝· 訂 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) A4規格(210X297公秦)18 - 經濟部中央梂準局員工消费合作社印製 A7 ____B7五、發明説明(16) 且在循環通路6 1連接冷媒供給源6 2,將檢測載置台 3 1的溫度之溫度檢測裝置例如來自熱電阻6 3之檢測信 號用圖未表示的控制裝置例如c PU作爲控制處理而傳達 至加熱器6 0或冷卻供源6 2,得以選擇性施行來自加熱 器6 0或冷卻供給源6 2之冷媒供給的情形。 按此種構成,例如能作動加熱器6 0來加熱基板G, 藉此,可更活性化自臭氧被分解的氧並更有效率的施行有 機污染物之分解除去。又,使循環通路6 1內流通規定溫 度之冷媒液,將載g台3 1上的基板G維持在一定的溫度 ,以安定的狀態對基板G照射臭氧。 再者;第四實施形態中,因其他部分與上述第一實.施 形態相同,故於相同的部分附上相同的符號,省略其說明 0 (其他之實施形態)1 上述實施形態,係說明有關相對紫外線燈2 2使載® 台3 1接近·隔開移動的情形,但未必需要使載置台3 1 移動,也可使紫外線燈2 2接近·隔開移動載置台3 1亦 即基板G側,或者也可以形成兩者互相接近.隔開移動。 又,上述實施形態,係說明有關相對紫外線燈2 2可 形成水平移動載置台3 1而使基板G擺動的情形,但未必 需要使載置台3 1水平移動,亦可以將紫外線燈2 2形成 相對載β台3 1亦即基板G做水平移動,或者兩者相對水 平移動。 (請先閱積背面之注$項再填寫本頁) ί 裝· 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐-)19 - 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印裝 A7 __B7 五、發明説明(17) 本發明中,以控制裝置(圖未表示)電氣連接制動器 5 6 ,7 1〜7 3之開關,亦可根據開關裝置的開關動作 控制制動器5 6,7 1〜7 3之開關。又,以控制裝置電 氣連接接近·隔開移動裝置及/或水平移動裝置,也可按 照紫外線照射處理條件和狀態以自動控制接近•隔開移動 裝置及/或水平移動裝置。 上述實施形態,係說明有關被處理體爲LCD基板G 的情形,但除LCD基板G以外之例如有關半導體晶片、 玻璃基板、CD等也可做同樣的處理。 如以上說明,若按本發明,將附著有機污染物的被處 理體移動至紫外線照射位置,藉由對被處理體以規定時間 照射紫外線,有效利用來自紫外線照射裝置所產生的臭氧 來分解除去附著在被處理體之有機污染物,同時能降低被 處理體之接觸角,提高所謂“濕潤性”,達到下一次過程 之洗淨處理、塗布處理等之處理的提昇。 又,藉著將供給至處理室內的處理的臭氧及紫外線照 射裝置所產生的其他臭氧排氣至外部,防止臭氧朝外部洩 漏,同時因可防止經由臭氧的裝置、機器類之不良影響, 故可達到裝置壽命的增長。 〔圖面之簡單說明〕 第1圖係適用本發明之處理裝置之L C D基板之塗布 處理方法之概略平面圖; 第2圚係表示有關本發明之處理裝置之第一實施形態 本紙張尺度通用中國國家榇準(CNS ) A4規格(210X297公釐·)20 _ (锖先閲讀背面之注$項再填寫本頁)
K 裝· 訂 A7 B7 五、發明説明(18) 之概略斷面圖; 第3圖係表示本發明中之固持裝置之概略側面圖; 面 側 略 概 之 態 狀 的 前 持 固 之 體 rml 理 處 被 示 表 係 圇 A 4 第 圖 •,要 圖主 面態 側形 略施 概實 之二 態第 狀之 持置 固裝 之理 體處 理之 處明 被發 示本 表示 係表 圖係 B 圇 4 5 第第 裝 理 處 之 明 發 ;本 圖示 面表 斷係 略圖 概 6 之第 分 部 要 主 態 形 施 實 三 第 之 要 主 態 形 施 實 四 第 之 置 裝 理 處 之 明 發 •, 本 〇 圖示圖 面表面 斷係斷 略圖略 概 7 概 之第之 分 分 部 部 (請先閲讀背面之注項再填寫本頁) £ 經濟部中央樣準局®C工消費合作社印裝 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐-)21 -

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1、 一種有關處理裝置,其特徵爲:具備固持被處理 體之被處理固持裝置:及 收藏被處理體及被處理體固持裝置之處理室:及 對著被處理體照射紫外線之紫外線照射裝置:及 收藏紫外線照射裝置之紫外線照射裝置室:及 開關連通處理室與紫外線照射裝e室的開口之開關裝 置:及 排出經由紫外線照射裝e的紫外線照射所生成的存在 於處理室內的臭氧之第1排氣裝置:及 排出產生在紫外線照射裝e室的臭氧之第2排氣裝置 之處理裝置。 2、 如申請專利範圍第1項所述之處理裝置,其中, 前述被處理體固持裝置與前述紫外線照射裝置係被設置成 可相對平行移動。 3、 如申請專利範園第1項所述之處理裝置,其中, 前述被處理體固持裝置與前述紫外線照射裝置係被設置成 可相對接近·隔開。 經濟部中央梂準局貝工消費合作社印裝 n - - - .. · i I -I I I 1 ml — - - n (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 4、 如申請專利範圍第1項所述之處理裝置,其中, 前述被處理體固持裝置與前述紫外線照射裝置係被設置成 可相對平行移動且相對接近·隔開。 5、 如申請專利範圍第1項所述之處理裝置,其中, 前述被處理體固持裝B設有加熱器。 6、 如申請專利範圍第1項所述之處理裝置,其中, 前述被處理體固持裝置設有冷卻器。 本紙張又度逋用中國國家梂準(CNS ) A4規格(210X297公釐)22 - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印袈 A8 B8 C8 D8六、申請專利範圍 7、 如申請專利範圍第1項所述之處理裝置,其中, 前述第1排氣裝置設有施行排氣停止·開啓之開關機構。 8、 如申請專利範圍第1項所述之處理裝置,其中, 前述第2排氣裝置設有施行排氣停止·開啓之開關機構。 9、 如申請專利範園第1項所述之處理裝置,其中, 前述第2排氣裝置設有將前述紫外線照射裝置室內的熱氣 排出外界之熱排氣裝置。 1 0、一種有關處理方法,其特徵爲:具備將被處理 酱載置在處理室內的被處理體固持裝置之過程:及 將前述被處理體固持裝置與前述紫外線照射裝置的至 少一邊移動至紫外線照射之際的位置之過程:及 對前述被處理體照射紫外線之過程;及 將前述被處理體固持裝置與前述紫外線照射裝置的至 少一邊從紫外線照射之際的位置移開之過程;及 將經由前.述紫外線照射裝的紫外線照射所生成的存在 於前述處理室內的臭氧利用第1排氣裝置排氣之過程;及 將產生在收藏前述紫外線照射裝置的臭氧利用第2排 氣裝置排氣之過程。 1 1、如申請專利範圍第1 〇項所述之處理方法,其 中,對前述被處理體照射紫外線之過程,係利用開關裝e 關閉連通前述處理室與紫外線照射裝置室之開α,在該狀 態作動紫外線照射裝置,利用前述開關裝置打開開口。 1 2、如申請專利範圍第1 0項所述之處理方法,其 中,將前述紫外線處理裝置室內的熱氣利用熱排氣裝置排 J--^------、裝-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ λ 0 · -IT. 本紙張尺度適用中國a家梂準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)23 - 315496 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 出外界。 1 3、如申 中,處理中經常 1 4、如申 中,於前述被處 照射裝置對著前 1 5、如申 中,於前述被處 處理體固持裝置 1 6、如申 中,於前述被處 紫外線照射裝置 內的臭氧之排氣 1 7、如申 中,在藉著前述 紫外線照射裝置 請專利範圍第10項所述之處理方法,其 進行前述熱排氣裝置之散熱。 請專利範圍第10項所述之處理方法,其 理體照射紫外線之過程中,使前述紫外線 述被處理體的表面平行移動。 請專利範圍第10項所述之處理方法,其 理體照射紫外線之過程中,可改變前述被 與前述紫外線照射裝置之距離。 請專利範圍第10項所述之處理方法,其 理體照射紫外線之過程中,停止經由前述 的紫外線照射所生成的存在於前述處理室 0 請專利範圍第10項所述之處理方法,其 開關裝置關閉開口的狀態進行存在於前述 室內的臭氧之排氣。 (請先閲讀背面之注意事項再填窝本頁) 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公爱024 -
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