JPWO2007116752A1 - ステージ装置、露光装置、ステージ制御方法、露光方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
ステージ装置は、基板を保持する保持部を有する可動体と、第1機構と、制御装置とを備える。可動体は、第1位置と第2位置との間で移動する。第1位置では基板が保持部に保持され、第2位置では基板が保持部から離間される。第1機構は、基板と保持部との間の間隔を調整する。制御装置は、第1位置と第2位置との間の可動体の移動と、第1機構による間隔の調整の少なくとも一部とを並列的に実行する。
Description
本発明は、ステージ装置、露光装置、ステージ制御方法、露光方法、およびデバイス製造方法に関するものである。
本願は、2006年4月5日に出願された特願2006−103860号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本願は、2006年4月5日に出願された特願2006−103860号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
従来、ウエハやガラスプレートなどの基板を露光する露光装置においては、基板を吸着保持した状態で二次元平面内を自在に移動するステージ装置が設けられている。
このようなステージ装置は、水平面(二次元平面)内を移動自在に構成されたステージ本体と、ステージ本体上に配置される上下動可能なテーブル部とを備える。ステージ装置への基板の搬入(ロード)、及びステージ装置からの基板の搬出(アンロード)に伴い、ステージ本体上でテーブル部が上下方向に動く。
ステージ本体を二次元平面内で駆動する際には、テーブル部を予め下降しておく。ステージ本体は、テーブル部が下降状態のまま、二次元平面内を移動する。これにより、例えば、所定の露光位置に基板が移動される、あるいは露光後の基板が交換位置に移動される(例えば、特許文献1参照)。
図13は、基板交換動作に伴う、従来のステージ移動を示すフローチャートである。図13に示すように、従来の基板交換動作において、まず、露光後の基板を載せたステージ本体が基板交換位置に移動する(ステップS101)。次に、ステージ本体上のテーブル部が上昇する(ステップS102)。次に、上昇したテーブル部から露光後の基板がローダに搬出され、未露光の基板が搬入される(ステップS103)。次に、テーブル部が下降する(ステップS104)。次に、ステージ本体が露光位置に移動する(ステップS105)。次に、基板が露光される(ステップS106)。その後、再びステップS101に戻り、ステージ本体が基板交換位置に移動する(ステップS101)。
特開平6−163357号公報
近年スループット(単位時間当たりの基板処理枚数)のさらなる向上要求が高まっている。基板交換時間の短縮は、スループットの向上につながる。
本発明は、基板交換時間を短縮することができる手法を提供するものである。
本発明の構成について実施の形態に記した符号を参酌して以下に述べる。なお、各要素に付した括弧付け符号は、その要素の例示に過ぎず、各要素を限定するものではない。
本発明の第1態様に従えば、基板(W)を保持する保持部(15)を有し、第1位置(P1)と第2位置(P2)との間で移動する可動体(11)であり、前記第1位置(P1)では前記基板(W)が前記保持部(15)に保持され、前記第2位置(P2)では前記基板(W)が前記保持部(15)から離間される、前記可動体(11)と、前記基板(W)と前記保持部(15)との間の間隔を調整する第1機構(12)と、前記第1位置(P1)と前記第2位置(P2)との間の前記可動体(11)の移動と、前記第1機構(12)による前記間隔の調整の少なくとも一部とを並列的に行う制御装置(3)と、を備えたステージ装置が提供される。
本発明の第2態様に従えば、上記態様のステージ装置を用いて前記基板(W)を露光位置に位置決めし、その露光位置にてその基板(W)に対して露光処理を行う露光装置(A)が提供される。
本発明の第3態様に従えば、基板(W)が保持部(15)に保持される第1位置(P1)と、前記基板(W)が前記保持部(15)から離間される第2位置(P2)との間で前記基板(W)を移動させる動作と、前記基板(W)と前記保持部(15)との間の間隔を調整する動作との少なくとも一部が前記基板(W)の移動と並列的に行われるステージ制御方法が提供される。
本発明の第4態様に従えば、上記態様のステージ制御方法を用いてステージを制御する動作と、前記基板(W)を露光位置に位置決めし、その露光位置にてその基板(W)に対して露光処理を行う動作と、を備える露光方法が提供される。
本発明の第5態様に従えば、上記態様のステージ制御方法を用いて、ステージを制御するステップを含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の第6態様に従えば、基板(W)を保持する保持部(15)を有し、第1位置(P1)と第2位置(P2)との間で移動可能な可動体(11)であり、前記第1位置(P1)では前記基板(W)が前記保持部(15)に保持され、前記第2位置(P2)では前記基板(W)が前記保持部(15)から離間される、前記可動体(11)と、前記基板(W)に対してガスを吹き出す第2機構(11b)であり、前記第1位置(P1)と前記第2位置(P2)との間の前記可動体(11)の移動の少なくとも一部と並列的に、前記ガスの吹き出しの少なくとも一部を行う前記第2機構(11b)と、を備えるステージ装置が提供される。
本発明の第7態様に従えば、基板(W)が保持部(15)に保持される第1位置(P1)と、前記基板(W)が前記保持部(15)から離間される第2位置(P2)との間で前記基板(W)を移動させる動作と、前記基板(W)に対してガスを吹出す動作との少なくとも一部が並列的に行われるステージ制御方法が提供される。
本発明によれば、スループット(単位時間当たりの基板処理枚数)を向上することができる。
A 露光装置
W ウエハ
S 領域
P1 ウエハ交換位置
P2 露光処理位置
P3 確認位置
1 ステージ装置
3 CPU
11 ステージ本体
11a 吸引孔
11b エアー吹出し孔
12 センターピン
13 ローダ
15 ウエハホルダ
W ウエハ
S 領域
P1 ウエハ交換位置
P2 露光処理位置
P3 確認位置
1 ステージ装置
3 CPU
11 ステージ本体
11a 吸引孔
11b エアー吹出し孔
12 センターピン
13 ローダ
15 ウエハホルダ
本発明の一実施形態を、図面を用いて具体的に説明する。
図1は、半導体デバイスなどのマイクロデバイスの製造過程に用いられるウエハを露光する露光装置Aの概略図である。露光装置Aは、CPU3の制御指令に基づいて、所定のパターンをウエハWに投影露光する。ローダ13及びステージ装置1によって、並設されたFOUP(Front Open Unified Pod)等のウエハ収納部(図示しない)から露光処理位置P2にウエハWが移動される。また、光学部2によって、ウエハWが露光処理される。
図1は、半導体デバイスなどのマイクロデバイスの製造過程に用いられるウエハを露光する露光装置Aの概略図である。露光装置Aは、CPU3の制御指令に基づいて、所定のパターンをウエハWに投影露光する。ローダ13及びステージ装置1によって、並設されたFOUP(Front Open Unified Pod)等のウエハ収納部(図示しない)から露光処理位置P2にウエハWが移動される。また、光学部2によって、ウエハWが露光処理される。
まず、光学部2について説明する。光学部2は、図1に示すように、転写対象としてのレチクルパターンが形成されたレチクル21を保持するレチクルステージ23と、レチクル21を照射するエキシマレーザなどからなる照明系22と、レチクルパターンを基板上に縮小投影する投影レンズ24とを備える。
ここで、図1〜図10において、投影レンズ24の光軸AXの方向をZ軸方向とし、図1の紙面左右方向をY軸方向とし、図1の紙面直交方向をX軸方向とする。
レチクルステージ23は、例えば真空吸着または静電吸着などによりレチクル21を吸着保持する。
レチクルステージ23のXY平面内の位置情報は、干渉計(図示しない)などの位置検出系により検出される。この検出した位置情報に基づいて、CPU3からレチクルステージ23の制御指令が供給される。レチクルステージ23は、例えばモータ(図示しない)などによって駆動され、照明系22の光軸(投影レンズ24の光軸AXと一致)に垂直なXY平面内を移動可能である。
投影レンズ24は、縮小倍率(例えば1/4または1/5)を有する屈折光学系を装備している。レチクル21を通過した照明光(露光光)は、投影レンズ24を介して、後述するウエハホルダ15に吸着保持されたウエハWに照射される。これにより、レチクル21のパターンの縮小像が、ウエハWに転写される。
次に、ステージ装置1について説明する。ステージ装置1は、ステージ本体11とウエハホルダ15とを備える。ステージ本体11は、ステージ定盤T上に配置された第1ステージと、第1ステージ上に配置された第2ステージとを備える。第1ステージは、モータなどの駆動源(図示しない)によってY方向(前後方向)に動く。第2ステージは、モータなどの駆動源(図示しない)によってX方向(左右方向)に動く。ステージ本体11は、CPU3の制御指令に基づいて、露光装置A内の水平面(XY平面)内を移動可能である。
ステージ本体11の側面には、検出光が照射される移動鏡が設けられている。移動鏡で反射された光は、干渉計14によって検出される。この検出光に基づき、ステージ本体11のXY平面内の位置が検出される。検出したステージ本体11の位置情報は、CPU3に供給される。
CPU3は、検出されたステージ本体11の位置情報に基づいて、ステージ本体11の移動、特に、前記投影レンズ24の真下の露光処理位置P2と、ウエハ交換位置P1との間の移動を制御する。
ステージ本体11上には、図1〜図3に示すように、ウエハWを保持するウエハホルダ15が設けられている。ウエハホルダ15上には、例えば棒状に形成されるセンターピン12(本実施形態では3本)が昇降自在に配置されている。センターピン12は、モータなどの駆動源(図示しない)によって上下動する。CPU3からの制御指令に基づいて、センターピン12が昇降することにより、センターピン12上に載置されたウエハWが上下動される。
センターピン12は、その上端部がローダ13の移動面を超える高さに達するように、上昇できる。また、センターピン12は、その上端部がウエハホルダ15の上面よりも低い位置に達するように、下降できる。
図5および図10に示すように、センターピン12を上昇することによって、ローダ13との間でウエハWの受け渡しを行うことができる。また、図7に示すように、センターピン12を下降することによって、ウエハホルダ15上へウエハWを載置することができる。このように、センターピン12を介してウエハWを昇降することで、ウエハWとウエハホルダ15との間隔(相対的な位置関係)を調整することができる。
センターピン12の上面には、図2および図3に示すように、吸引孔12aが設けられている。この吸引孔12aは、配管16aを介して吸引機構16に接続されている。吸引孔12aを介した吸引動作により、センターピン12上にウエハWが吸着保持される。センターピン12は、ウエハWを吸着保持した状態で、ウエハWを上下動することができる。
なお、ウエハホルダ15上にウエハWが載置されると、吸引孔12aからの吸引動作が解除される。
また、後述するローダ13によるウエハWの移動時には、プリアライメント計測が行われる。プリアライメント計測の結果に基づいて、ウエハWの中心とセンターピン12の中心とがそれぞれ一致するように、ウエハWがセンターピン12上に載置される。
なお、3本のセンターピン12の代わりに、特開2003−156322号公報に開示されているように、円柱状の昇降軸上に円盤状のウエハ支持台を備えるセンターテーブルを用いてもよい。
図3に示すように、ウエハホルダ15の上面には、複数の吸引孔11aが設けられている。吸引孔11aは、配管17aを介して吸引機構17に接続されている。センターピン12が下降し、ウエハWがウエハホルダ15上に載置されると、吸引孔11aを介した吸引が実行され、その結果、ウエハホルダ15に対してウエハWが吸着される。ウエハWを吸着保持(ウエハホルダ15に密着保持)した状態で、ステージ本体11を移動することができる。
なお、本実施形態では、上述した吸引機構16と吸引機構17とを別々にして設けたが、本発明はこれに限られるものではない。例えば、吸引機構16と吸引機構17とを兼用してもよい。具体的には、吸引機構と各吸引孔11a,12aとの間に電磁弁を設け、この電磁弁の開閉を制御する。これにより、吸引機構16による吸引と、吸引機構17による吸引との切り替え制御が可能となる。
また、ウエハホルダ15の上面であって吸引孔11a,12aとは異なる位置に、複数のエアー吹出し孔11bが設けられている。エアー吹出し孔11bは、配管18aを介してエアー吹出し装置18と接続されている。ウエハホルダ15からウエハWを離間する際、センターピン12が上昇するとともに、エアー吹出し孔11bからエアーが吹出される。エアー吹出し装置18からのエアーは、エアー吹出し孔11bを介してウエハWの下面(裏面)に噴出される。
ウエハWの下面にエアーを吹出すことで、ウエハWの一部がウエハホルダ15に張り付き、ウエハWの上昇の妨げになることが防止される。したがって、ウエハWの上昇を円滑に行うことができる。
さらに、ウエハホルダ15の上面において、吸引孔11aとエアー吹出し孔11bとが互いに異なる位置に設けられているので、吸引孔11aとエアー吹出し孔11bとを兼用とする構成と比較して、それぞれの孔11a,11bを最適な位置に設定することができ、ウエハWの吸着保持および上昇動作をより円滑に行うことができる。
なお、本実施形態では、吸引機構16、吸引機構17、およびエアー吹出し装置18を別々に設けたが、吸引機構16、吸引機構17およびエアー吹出し装置18を兼用してもよい。具体的には、吸引孔11aまたは吸引孔12aを介した吸引動作、ウエハWをウエハホルダ15上に載置した際の吸引孔12aを介した吸引の停止、及びウエハWをウエハホルダ15から離間させる際のエアーの吹出動作などを、切り替え制御することができる。
次に、ローダ13について説明する。ローダ13は、図2に示すように、ウエハWを下方から支持する指部13a,13aを備える。指部13a,13aを有するアームは、基板収納部と露光装置A内のウエハ交換位置P1の上方位置との間を移動可能である。
こうしたローダ13は、基板収納部に収納されたウエハWを取り出したり、ウエハ交換位置P1の上方でウエハWをセンターピン12に受け渡したり、ウエハWを基板収納部に収納したりすることができる。
すなわち、ウエハWの搬入時には、ローダ13の指部13a上に支持されたウエハWがウエハ交換位置P1の上方に搬入される。その後、センターピン12が上昇し、指部13a,13aで保持していたウエハWがセンターピン12に受け渡される(図4、図5参照)。
ウエハWの搬出時には、センターピン12で支持されたウエハWがローダ13よりも高位置に上昇する。すなわち、ウエハWとウエハホルダ15間の相対的な間隔が広がる。その広がった間隔内にローダ13の指部13a,13aを有するアームが移動する(挿入される)。その後、センターピン12が下降することによって、センターピン12上で支持されたウエハWがローダ13の指部13a,13a上に受け渡される(図10参照)。
本実施形態における露光装置Aは、以上のように構成されている。
次に、CPU3によるウエハ交換制御について図11のフローチャートとともに、適宜図4〜図10を用いて説明する。
(1)露光処理前ウエハの受け渡し準備工程
ステージ本体11をウエハ交換位置P1へ移動する(ステップS201)とともに、センターピン12を上昇する(ステップS202)。一方、露光処理前のウエハWを載置したローダ13を移動する(ステップS203)。このように、各ステップS201〜S203を並列的に行う。
ステージ本体11をウエハ交換位置P1へ移動する(ステップS201)とともに、センターピン12を上昇する(ステップS202)。一方、露光処理前のウエハWを載置したローダ13を移動する(ステップS203)。このように、各ステップS201〜S203を並列的に行う。
具体的には、図4に示すように、ステージ本体11をウエハ交換位置P1へ水平移動させながら、センターピン12を、ローダ13によりウエハWの受け渡し可能な高さまで上昇する。一方、基板収納部内に収納されている露光処理前のウエハWを、ローダ13によって露光装置A内のウエハ交換位置P1の上方に搬入する。
このとき、ローダ13によるウエハWのウエハ交換位置P1の上方への搬入が完了してから、ローダ13の高さよりも高くセンターピン12を上昇させる。このようにして、搬入中のウエハWにセンターピン12が接触することが防止される。なお、このとき、ステージ本体11のウエハホルダ15上にはウエハWが載置されていないものとする。
(2)ウエハの受け渡し工程
ローダ13上に載置されたウエハWの下方からセンターピン12を上昇させることによって、ウエハWをローダ13からセンターピン12に受け渡す(ステップS204)。このとき、ウエハWの中心とセンターピン12の中心とが一致するように、センターピン12(ステージ本体11)のXY位置をあらかじめ位置決めした上で、センターピン12上にウエハWを支持する。またこのとき、吸引機構16によって吸引孔12aを介してウエハWをセンターピン12上に吸着する。このようにして、ウエハWをセンターピン12で吸着保持する。
ローダ13上に載置されたウエハWの下方からセンターピン12を上昇させることによって、ウエハWをローダ13からセンターピン12に受け渡す(ステップS204)。このとき、ウエハWの中心とセンターピン12の中心とが一致するように、センターピン12(ステージ本体11)のXY位置をあらかじめ位置決めした上で、センターピン12上にウエハWを支持する。またこのとき、吸引機構16によって吸引孔12aを介してウエハWをセンターピン12上に吸着する。このようにして、ウエハWをセンターピン12で吸着保持する。
(3)ウエハの露光処理位置への移動工程
ステージ本体11を露光処理位置P2に水平移動する(ステップS205)とともに、センターピン12を下降する(ステップS206)。また、ローダ13を露光装置A外に移動する(ステップS207)。このように、ステップS205〜S207を並列的に行う。
ステージ本体11を露光処理位置P2に水平移動する(ステップS205)とともに、センターピン12を下降する(ステップS206)。また、ローダ13を露光装置A外に移動する(ステップS207)。このように、ステップS205〜S207を並列的に行う。
具体的には、図5、図6A〜6Cに示すように、ステージ本体11を、ウエハ交換位置P1から投影レンズ24直下の露光処理位置P2へ向けて水平移動しながら、センターピン12を下降しウエハWをウエハホルダ15上に載置する。すなわち、図6Bに示すように、ステージ本体11の移動と同時に、センターピン12を下降する。一方、ローダ13を露光装置A外へと移動する。
このとき、ローダ13の露光装置A外の移動は、センターピン12の下降動作よりも先に開始する。すなわち、センターピン12に受け渡され下降を始めるウエハWが、ローダ13に接触しないように、ローダ13が露光装置A外へ移動するまでセンターピン12を下降しないようする。
なお、センターピン12を下降しないまま、まずステージ本体11の水平移動のみを行い、ウエハWを下降してもローダ13に接触しない位置までステージ本体11を移動した後、センターピン12を下降するようにしてウエハWがローダ13に接触することを防止するようにしてもよい。
ここで、センターピン12の下降は、投影レンズ24の周辺である領域Sにステージ本体11が入る前に完了するように制御する。すなわち、図6B及び図6Cに示すように、ステージ本体11が領域Sに入る前に、センターピン12の上端がウエハホルダ15の上面よりも下方位置に至るように、センターピン12が下降する。センターピン12の下降が完了することにより、ウエハWがウエハホルダ15に密着保持され、ウエハWが最小高さ位置に配置される。このようにして、投影レンズ24にウエハWが接触することを防止することができる。
なお、本実施形態では、ステージ装置1の駆動範囲内の一部上空にある領域Sを投影レンズ24の周辺にのみ設定したが、本発明はこれに限られるものではない。例えばオートフォーカス(AF)系やアライメント系などの接触を防止したい領域、すなわち、ウエハWが上昇すれば構成物に接触してしまう領域およびその周辺を領域Sとしてあらかじめ設定しておき、領域S内にステージ装置1が位置する際には、センターピン12を上昇しないように制御して、これらの構成物に接触しないようにすることもできる。
また、ステージ本体11がXY面内の確認位置P3(本実施形態では、領域Sとその他領域との境界)に移動した際、ウエハWの高さを図示しないセンサなどにより測定するようにして、ウエハWがウエハホルダ15に密着していない場合には、ステージ本体11の移動を停止し、センターピン12の下降動作の終了を待ち、ウエハWをウエハホルダ15上に密着するようにして、投影レンズ24などへのウエハWの接触をより防止するようにしている。
(4)ウエハ露光工程
露光処理位置P2に移動したウエハWに、レチクル21に形成されたパターンを露光する(ステップS208)(図7参照)。
露光処理位置P2に移動したウエハWに、レチクル21に形成されたパターンを露光する(ステップS208)(図7参照)。
(5)ウエハのウエハ交換位置への移動工程
ステージ本体11のウエハ交換位置P1への水平移動(ステップS209)、センターピン12の上昇(ステップS210)、ローダ13のウエハ交換位置P1上方への移動(ステップS211)の各ステップS209〜S211を並列的に行う。
ステージ本体11のウエハ交換位置P1への水平移動(ステップS209)、センターピン12の上昇(ステップS210)、ローダ13のウエハ交換位置P1上方への移動(ステップS211)の各ステップS209〜S211を並列的に行う。
具体的には、図8、図9A〜9Cに示すように、ステージ本体11をウエハ交換位置P1へ水平移動させながら、センターピン12をローダ13にウエハWを受け渡すことができる高さまで上昇する。すなわち、図9Bに示すように、ステージ本体11の移動と同時に、センターピン12を上昇する。一方、ローダ13の露光装置A内のウエハ交換位置P1の上方への移動を開始する。
このとき、ウエハWがセンターピン12の上昇によりローダ13の高さよりも高く上昇してから、ローダ13をウエハ交換位置P1の上方へ移動するようにして、上昇中のウエハWにローダ13が接触することを防止する。
ここで、ステージ本体11を移動させながら、センターピン12を上昇させて、ウエハWをウエハホルダ15から離間させる際、図9Bに示すように、エアー吹出し孔11bからウエハWの下面(裏面)にエアーを吹出す。このように、ウエハWの下方(ウエハWとウエハホルダ15との間)にエアーを吹出すことにより、ウエハWの一部がウエハホルダ15に張り付いて上昇の妨げになることを防止している。すなわち、ステージ本体11の移動と、センターピン12の上昇と、ウエハWの下面へのエアー吹出しを並列的に行っている。したがって、ステージ本体11を移動させながら、円滑にウエハWを上昇させることができる。
なお、ステージ本体11が領域S内に位置している際にはセンターピン12を上昇させないように制御している。このようにして、投影レンズ24の下方でセンターピン12が上昇し、ウエハWが投影レンズ24に接触することを防止するようにしている。
(6)露光済みウエハの受け渡し工程
センターピン12上のウエハWを、ウエハ交換位置P1上方で、ローダ13に受け渡す(ステップS212)(図10参照)。そして、センターピン12は、次の未露光のウエハWをローダ13から受け取る。
センターピン12上のウエハWを、ウエハ交換位置P1上方で、ローダ13に受け渡す(ステップS212)(図10参照)。そして、センターピン12は、次の未露光のウエハWをローダ13から受け取る。
以上の(1)〜(6)の工程を繰り返し行うように制御する。
なお、本実施形態では、ステージ本体11によるウエハ交換位置P1と露光処理位置P2との水平移動と、センターピン12による上下動と、ローダ13の露光装置A内外への移動のそれぞれの移動をほぼ同期させて行うとともに、これらの動作の全て並列的に行っているが、本発明はこれに限られるものではない。ステージ本体11による水平移動と、センターピン12による上下動と、ローダ13の露光装置A内外へ移動のそれぞれの動作の開始タイミング、終了タイミングをずらすこともできる。また、ステージ本体11による水平移動と、センターピン12による上下動と、ローダ13の露光装置A内外へ移動のそれぞれの動作のうち、いずれか2つを組み合わせて、その2つの動作のみ並列的に行うこともできる。
また、本実施形態では、センターピン12を上下動することによって、ウエハWとウエハホルダ15との間隔を調整するようにしているが、本発明はこれに限られるものではない。センターピン12を固定するとともに、ウエハホルダ15を上下動させることによって、ウエハWとウエハホルダ15との相対的な間隔を調整することもできる。さらには、センターピン12を上下動するとともに、ウエハホルダ15をも上下動させることによって、ウエハWとウエハホルダ15との相対的な間隔を調整できる。
また、本実施形態では、リソグラフィ工程の一工程に設けた露光装置に本発明に係る搬送部を適用したが、本発明はこれに限られるものではなく、搬送部を用いて基板を移動させる装置などに幅広く適用できるものである。
なお、上記各実施形態の基板としては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)、またはフィルム部材等が適用される。また、基板はその形状が円形に限られるものでなく、矩形など他の形状でもよい。
上記各実施形態では、干渉計システムを用いて、マスクステージ及び基板ステージの位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えば基板ステージの上面に設けられるスケール(回折格子)を検出するエンコーダシステムを用いてもよい。この場合、干渉計システムとエンコーダシステムの両方を備えるハイブリッドシステムとし、干渉計システムの計測結果を用いてエンコーダシステムの計測結果の較正(キャリブレーション)を行うことが好ましい。また、干渉計システムとエンコーダシステムとを切り替えて用いる、あるいはその両方を用いて、基板ステージの位置制御を行うようにしてもよい。
また、上記各実施形態の露光装置は、例えば特開平11−135400号公報(対応国際公開1999/23692)、及び特開2000−164504号公報(対応米国特許第6,897,963号)などに開示されているように、基板を保持する基板ステージとは独立に移動可能であるとともに、計測部材(例えば、基準マークが形成された基準部材及び/又は各種の光電センサを搭載した計測ステージを備えていてもよい。
上記各実施形態では、パターンを形成するためにマスクを用いたが、これに代えて、可変のパターンを生成する電子マスク(可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはパターンジェネレータとも呼ばれる)を用いることができる。電子マスクとして、例えば非発光型画像表示素子(空間光変調器:Spatial Light Modulator (SLM)とも呼ばれる)の一種であるDMD(Deformable Micro-mirror Device又はDigital Micro-mirror Device)を用い得る。DMDは、所定の電子データに基づいて駆動する複数の反射素子(微小ミラー)を有し、複数の反射素子は、DMDの表面に2次元マトリックス状に配列され、かつ素子単位で駆動されて露光光を反射、偏向する。各反射素子はその反射面の角度が調整される。DMDの動作は、制御装置により制御され得る。制御装置は、基板上に形成すべきパターンに応じた電子データ(パターン情報)に基づいてDMDの反射素子を駆動し、照明系により照射される露光光を反射素子でパターン化する。DMDを使用することにより、パターンが形成されたマスク(レチクル)を用いて露光する場合に比べて、パターンが変更されたときに、マスクの交換作業及びマスクステージにおけるマスクの位置合わせ操作が不要になる。なお、電子マスクを用いる露光装置では、マスクステージを設けず、基板ステージによって基板をX軸及びY軸方向に移動するだけでもよい。なお、DMDを用いた露光装置は、例えば特開平8−313842号公報、特開2004−304135号公報、米国特許第6,778,257号公報に開示されている。
また、本発明は、特開平10−163099号公報、特開平10−214783号公報、特表2000−505958号公報などに開示されているような複数の基板ステージを備えたマルチステージ型の露光装置にも適用できる。
なお、法令で許容される限りにおいて、上記各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許などの開示を援用して本文の記載の一部とする。
なお、半導体デバイスなどのマイクロデバイスは、図12に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップS301、この設計ステップに基づいたレチクル21を製作するステップS302、シリコン材料からウエハWを製造するステップS303、前述した実施形態の露光装置Aによりレチクル21のパターンをウエハWに露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱(キュア)及びエッチング工程などの基板処理プロセスを含むステップS304、デバイス組み立てステップ(ダイジング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)S305、検査ステップS306などを経て製造される。
また、上記の実施の形態の搬送部(ステージ装置)の用途としては、半導体素子製造用の露光装置に限定されることはない。例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子(CCD等)、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド、又はDNAチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。さらに、本発明は、各種デバイスのレチクルパターンが形成されたレチクル(フォトマスク等)をフォトリソグラフィ工程を用いて製造する際の、露光工程(露光装置)にも適用することができる。
Claims (16)
- 基板を保持する保持部を有し、第1位置と第2位置との間で移動する可動体であり、前記第1位置では前記基板が前記保持部に保持され、前記第2位置では前記基板が前記保持部から離間される、前記可動体と、
前記基板と前記保持部との間の間隔を調整する第1機構と、
前記第1位置と前記第2位置との間の前記可動体の移動と、前記第1機構による前記間隔の調整の少なくとも一部とを並列的に行う制御装置と、を備えたことを特徴とするステージ装置。 - 前記制御装置は、前記第1機構による前記間隔の調整を、前記可動体の所定移動範囲内で行うことを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
- 前記第1機構は、前記可動体上に設けられる、前記基板を昇降させる第2機構を有することを特徴とする請求項1または請求項2記載のステージ装置。
- 前記基板を前記第2位置に搬入または搬出する第3機構をさらに備え、
前記制御装置は、前記第3機構による前記基板の搬入または搬出と、前記第1位置と前記第2位置との間の前記可動体の移動と、前記第2機構による前記基板の昇降の少なくとも一部とを並列的に行うことを特徴とする請求項3記載のステージ装置。 - 前記基板の昇降に伴い、前記可動体から前記基板に向けてガスを吹き出す第4機構をさらに備えることを特徴とする請求項3または請求項4記載のステージ装置。
- 前記第4機構における前記ガスの吹き出し位置とは異なる位置に配される吸引口を有し、前記可動体に対して前記基板を吸着する第5機構をさらに備えることを特徴とする請求項3〜5のいずれか一項に記載のステージ装置。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載のステージ装置を用いて前記基板を露光位置に位置決めし、その露光位置にてその基板に対して露光処理を行うことを特徴とする露光装置。
- 基板が保持部に保持される第1位置と、前記基板が前記保持部から離間される第2位置との間で前記基板を移動させる動作と、
前記基板と前記保持部との間の間隔を調整する動作との少なくとも一部が並列的に行われることを特徴とするステージ制御方法。 - 前記間隔の調整は、前記基板の所定移動範囲内で行われることを特徴とする請求項8記載のステージ制御方法。
- 前記間隔の調整は、前記基板を昇降させる動作を有することを特徴とする請求項8または請求項9記載のステージ制御方法。
- 前記基板を前記第2位置に搬入または搬出する動作をさらに備え、この動作は、前記基板の移動及び前記間隔の調整との少なくとも一部と並列的に行われることを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項に記載のステージ制御方法。
- 前記基板の昇降に伴い、前記基板に向けてガスを吹き出す動作をさらに備えることを特徴とする請求項10または請求項11記載のステージ制御方法。
- 基板を保持する保持部を有し、第1位置と第2位置との間で移動可能な可動体であり、前記第1位置では前記基板が前記保持部に保持され、前記第2位置では前記基板が前記保持部から離間される、前記可動体と、
前記基板に対してガスを吹き出す第2機構であり、前記第1位置と前記第2位置との間の前記可動体の移動の少なくとも一部と並列的に、前記ガスの吹き出しを行う前記第2機構と、
を備えることを特徴とするステージ装置。 - 基板が保持部に保持される第1位置と、前記基板が前記保持部から離間される第2位置との間で前記基板を移動させる動作と、
前記基板に対してガスを吹出す動作との少なくとも一部が並列的に行われることを特徴とするステージ制御方法。 - 請求項8〜12、及び14のいずれか一項に記載のステージ制御方法を用いてステージを制御する動作と、
前記基板を露光位置に位置決めし、その露光位置にてその基板に対して露光処理を行う動作と、を備えることを特徴とする露光方法。 - 請求項8から12、及び14のいずれか一項に記載のステージ制御方法を用いて、ステージを制御するステップを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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