TW305767B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW305767B
TW305767B TW085105563A TW85105563A TW305767B TW 305767 B TW305767 B TW 305767B TW 085105563 A TW085105563 A TW 085105563A TW 85105563 A TW85105563 A TW 85105563A TW 305767 B TW305767 B TW 305767B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
solvent
boiling impurities
evaporator
low
boiling
Prior art date
Application number
TW085105563A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Sharp Kk
Kimura Kakoki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Kk, Kimura Kakoki Co Ltd filed Critical Sharp Kk
Application granted granted Critical
Publication of TW305767B publication Critical patent/TW305767B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D3/00Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/14Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/06Evaporators with vertical tubes
    • B01D1/10Evaporators with vertical tubes with long tubes, e.g. Kestner evaporators
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D5/00Condensation of vapours; Recovering volatile solvents by condensation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D5/00Condensation of vapours; Recovering volatile solvents by condensation
    • B01D5/0057Condensation of vapours; Recovering volatile solvents by condensation in combination with other processes
    • B01D5/006Condensation of vapours; Recovering volatile solvents by condensation in combination with other processes with evaporation or distillation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/36Regeneration of waste pickling liquors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/04Apparatus

Description

305767 A|86. 1,- 充丨 «濟部中央橾準工消费合作社印装 五、發明说明(1 ) 本發明像有關溶劑的淨化及回收,而尤其有關溶劑淨 化的方法與裝置,用以禅化製迪液晶裝置或稹體霄路板等 工廠内曾使用過且含有相當多低沸點溶離份子及萵沸點溶 離份子的溶劑。 製造液晶裝置或積體霣路(1C)時會使用各種抗蝕劑, 並以一種溶劑洗濯除去抗蝕劑。溶劑可為非水溶性或水溶 性二者。水溶性溶劑易於在那痤裝置或m路去除溶劑後洗 淨之。 而溶劑一再用以洗灌液晶之類的霄子裝置時,會趣漸 失去洗淨的效力。乃因溶劑内會累積像水之類的低沸溶離 份子與抗蝕劑成份之類的高沸溶離份子。 因此一般的作法,是立卽以新的溶劑換掉髒或不純淨 的溶劑,或是以固定的速率添加新溶_。 如此,餅的溶劑會間歇性或連纊地被上述工廠所窠置 ,而迪成琛境汚染及經濟損失。縱使在速皰的回收廠能使 不純淨的溶劑變成純淨者,也热支付牖大的高額運費。 本發明艦於上述缺貼而有一目的,即提供一種改進的 方法及一種改良的裝置,為淨化並回收已使用在製造液晶 裝置或1C的工廠內洗灌及去除抗蝕劑的溶劑。另一目的為 使那些製造工廠不再满要作整批或固定速率的嫌置,或是 將污械的溶劑浬送到通逋的回收廠,因此在製迪工廠内使 用溶劑的製程能持鑛不斷且更具效力。 本文所提出為連成上述目的的方法包括以下步驟:在 —部蒸發器内蒸發因製造過程中使用溶劑處理霣子裝置而 -3 一
In ' [ I 1......- I Λ— -I - - 1 …· I (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國國家梂準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) 經免部中央梂準局貝工揀费合作社印製 305767 A7: ‘ : ___Β78β. 1. - 士:!克丨_五、發明说明(2 ) 被低沸及商沸雜質汚染的溶劑,商沸雜質會被留在無發器 内,故取出時像一種桶底的廢料,在蒸發器内産生一種溶 刺赛汽\121其中含有低沸雜質,故而被由蒸器中取出;而 後將此溶劑蒸汽導經一濕氣分離器而進入一冷凝器,如此 被留在蒸汽内的游氣粒子遂由分離器捕犓,該蒸汽部份在 冷凝器中冷凝而回到分離器,並在其内作為捕源氣的液黼 ,該溶期1蒸汽未冷凝的剩餘部份仍含有低沸雜W ;最後使 未冷凝的溶劑蒸汽在一精脯塔中實施分凝作業,使得該蒸 汽有一部份冷凝成一種含有許多低沸雜質的液體廢料而被 ..取出該塔,其餘的溶劑蒸汽則也被冷凝,但它被回收而再 度用於霄子裝置的製程,因而在該製程中蓮作的溶劑整嫌 之純度得以控制而介於一定的範園内。 以上所摘述方法有一典型的實例,其中使用溶劑的製 程有一步驟,是由製作中的液晶裝置上洗滌並剝落抗触劑 。此中,低沸雜質的主要成份為水,而高沸雜質主要含有 抗触劑的成份。 本發明提供以達成其目的,並為施行以上所摘述的方 法之裝置包含(a)—個蒸發段,以及(b)—個在作業中與此 相連的精蹓段,其中蒸發段包含一蒸發器,為使一種因處 理霣子裝置而被低沸雜質及高沸雜質污染的既用溶劑*此 種麻理是在使用·ί容劑以製迪霄子裝置的製程中實施者,高 沸雜質被留在蒸發器内而作為一種桶底廢料而被取出,因 此含有低沸雜質的溶劑之混合氣得由蒸發器中取出。該蒸 發段更含有:一個在蒸發器下游與之連接的濕氣分離器用 — —· -- ---- ---^».------Γ 訂 (請先閱讀背面之注f項#填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央橾準局貝工消费合作社印製 B7 v ............-五、發明説明(3) 以捕捉,由蒸發器流出的混合氣内目.含有低沸雜質的漱氣 粒子;又有一冷凝器也在漱氣分離器下游並與之連接,為 使由該溅氣分離器流出的混合氣作部份冷凝,而形成一種 回到分離器作為一檷捕捉滿氣的液鼸之冷凝液,該溶劑蒸 汽未冷凝的其餘部份仍含有低沸雜質,其中精餾段則包含 一精脯塔,為分凝未冷凝的溶劑蒸汽,使得其低沸雜質完 全冷凝而被取出該塔,其餘溶劑蒸汽也被冷凝並回收而成 一種淨化的溶劑。 蒸發器最好屬「薄膜下行式」,而漉氣分離器可為一 種用灘氣捕取液操作的填充塔,該液體為冷凝器中産生的 冷凝液。 在本文所提的方法中,被低沸雜質及高沸雜質汚染的 溶撕ί,經稷沸而留下一部份先予提及的雜質成為桶底廢料 而由絲'發器中取出。留在混合氣並擁箸另一部份上述高沸 雜質的源氣,用一種自下游的冷凝器供予灘氣分離器的冷 凝液洗灌並被其捕住。由於分別有逭二種功用,高沸雜質 各部份幾乎完全從該糸統中消除。又由於在精膀f塔内實施 分概作業,低沸雜質的冷凝液會由其餘溶劑中有效去除。 淨化的溶劑因而幾乎完全淸除了低沸與高沸雜質而於製程 中再行使用,例如用於洗灌及將抗蝕劑由液晶裝置,積髄 «路板(ic)等《子零件上剝落。如此在各製程中浬作的溶 撕I整鳒純淨度可以控制於一定範園内,因而改良此等製程 的效力.:、黎與缠作的溶劑任何受汚染部份將不再被棄置於 該糸統之外或送至遙速的回收X廠應;理。 -5 - n' I —I— —I— i - - - - I ml i ! ml*. (锖先M讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標率(CNS ) A4规格(210X297公釐) 經濟部中央梂率局貝X消费合作社印製 A7 ! , ; _B7 ! . ; .; .,, ί ____ ' 一 " ~^ "f , -色 丨· .Μ五、發明説明(4 ) ~ 此BS提供的機槭裝置,如上所述,包括彼此相聯的蒸 發及精臃段、,因而离沸雜質得藉蒸發器及瀨氣分離器的功 能而幾乎充金自溶劑中去除,然後低沸雜質得藉精播塔除 去而淨化溶撕I再供使用。如此,本發明方法卽可鞴用此種 機槭裝置便利地實行。 「薄膜下行式」蒸發器優點在於,溶劑所需加熱時W 較短,故能防止i容劑的熱分解。用作灘氣分離器的填充塔 優貼在於,_氣捕取液無需由逋方來源以一種控制速率加 以供應,反而在下游冷凝器内産生的冷凝液易於取用,且 無满任何有難度的控制。 將未冷凝溶劑供予精餾段的「蒸汽供給」方式改進了 整偭製程的效率。 -本發明提供以淨化及回收溶劑的方法與裝置,特別對 其中在較低姐度下沸騰的低沸雜質,及大部份為水而在較 髙溫度沸騰的高沸雜質為抗蝕劑時尤佳,該溶劑用以洗灌 並剝除液晶裝置上的抗蝕層雜質,經初步去除的淨化溶劑 之再循琢使用,以保持溶_糸統的有效固定洗灌力。故本 發明消滅了已換新及未換新溶劑糸統之間明顯洗灌力差異 的問題。在畔注窓到,將成批的溶劑送進送出工廠處理淨 化的耗時费力工作,曾是提窩製迪液晶裝置之生産效率上 的瓶頸之一。洗灌及剝落步驟現在因本發明而得便利進行 ,不再傷及整雠的效力。安播的洗濯力5¾長了溶劑更換的 時WK因此減低整醱溶劑的材料與作業成本,並降低對環 境有害的液態廢料數量。 一 6 一 (請先閱讀背面之注$項再填寫本I ) 訂 本纸At尺度適用中國《家鏢準(CNS > A4規格(2丨0X297公釐) 炫濟部中央樣率局貝工消費合作社印装 A 7 ____B7 咫:' :.:J五、發明说明(5 ) 圖示之簡單跣明 第一圓條為用以淨化溶劑的機械裝置》該裝置設於本 發明某一具鳢實例内; 第二圓像為在一段期間内觀察溶劑中所含水嫌之變動 ,分別在有及沒有一圖所示機械裝置的情況下 作業; 第三圖係為類似的画說,也示出在一段期間内觀察溶 劑中所含抗触化合物濃度的變勧,分別在有及 沒有上述機械裝置的情況下作業_:、 圆號簡單說明: ----------1 ‘------訂 (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 蒸發器 2 藤氣分離器 3 冷觥器 B 冷凝區 6 回收瓸 V 粮腺塔 3 再煮熱器 1 〇 背子 1 1 冷凝器 12 處理站 13 管子 A 無發段 B 精臃段 今黎考各画所示之具雅實例對本發明詳加說明 一圖具釅實例中的機槭裝置設計以淨化一種含有DMSO (二_甲亞楓)與NMP(N-甲基-2_册咯焼_)的水溶性混合溶劑 Z ·» 本紙張尺度逋用中國國家梂準(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) 305767 Α7 Β7 經濟部中央標率Λ貝工消费合作社印製 五、發明説明(6) 。一般,在製迪液晶裝置中用於洗灌及剝耩抗蝕劑層,此 種溶劑即免不了受汚染而含有顧耕數最的水(為低沸雜質) 與抗蝕劑成份(為高沸雜質)。 該實例中的機械裝置包括一蒸發段~ ~ 及一精蹓段 、B —,二者在運作上相聯。蒸發段< A >含有一蒸發器1 為蒸沸含有低沸雜質與高沸雜質的既用溶劑,因而産生一 種溶_蒸汽。在無發器1内所累稹的桶底酿料含有許多离 沸雜質,故而被週期性地抽盡。有一濕式氣分離器2也 參與構成該蒸發段' A / ,為能由溶劑蒸汽中捕取並分離 濡氣粒子。蒸發段、A —又含有一冷凝器3,能使一部份通 過灘氣分離器2的溶劑蒸汽冷凝,該蒸汽未冷凝的其餘部 份被送'到'精腺段* B —。冷凝器3内産生的冷凝液將固到· 氣分離器2,在其内做為溉氣捕取或洗灌液體。未冷凝蒸 汽有一小部份鉗绩流入精瞄段' B < 而在其内冷凝成含有 許多低沸雜質者,因而被索置或以其它方式予以處理。流 入精腺段、B < 的未冷凝無汽有一大部份也會在其内冷凝 而成為不含雜質的純淨浓劑。 在此實例中,蒸發段内的蒸發器1颶薄膜下行式 ,故溶劑能在短時間内迅速加熱以防熱分解。 該資例中的瀬氣分離器2為一種缜充塔(稱為「灞式除 霧器」),在受控制的狀態下被镇入Λ充物。冷凝器3屬多 管製,有一發冷凝蒸汽可回到漱氣分_器為在其内作為一 種灘氣洗灌及捕取液體。 用於分凝的精瞄段~ Β *·主要含有一精皤塔7及一再煮 -8 一 (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) i 本纸張又度逍用中國國家捸準(CNS ) Α4规格(210X297公釐) 級濟部中央橾冬局貝工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(7 ) ................ 熱器9。精腺塔7包含一冷凝區5及一回收區6,再煮熱器9 形狀像一個薄膜下行式的加熱器ΠΙΙ。回收區6在低沸雜質 的含量不難以腰低到理想水平以下時,可以不用,就像一 般溶劑回收機械裝置的情形.:, 溶劑蒸汽在精餾塔7之内接受分凝作用。詳言之,大 部份或相當多蒸汽窗在該塔中冷凝,並由再煮熱器9的底 部提取而在其與低沸雜質分離後,播得新純的溶劑。按此 回收的溶剛被送給皰理站12,在此再用以洗瀰(剝落)抗触 劑。 有一與稍臟塔7頂部連接的管子10用以由塔中提取一 種主要成份為水蒸汽的低沸雜質蒸汽。有一與管子10連通 的冷凝器1Λ會冷凝該水蒸汽:、鴬上述機槭裝置浬作時,將 —種溶劑蒸汽達缠不斷地供予蒸發段< A >中的蒸發器1, 髙沸雜質在此不被蒸發而成桶底廢料被取出,其餘部份則 被蒸發以供往後的製程使用。 在由蒸發段、A -接受溶劑蒸汽的濕氣分離器2中,高 沸雜質的猫氣粒子與溶劑蒸汽分離。該蒸汽由分離器2流 出而不含咳雜質,當其進入冷凝器3即在其中局部冷凝。 該冷凝器中華生的冷凝液會回到分離器作為游氣捕取液。 在冷凝器3内未冷凝的溶劑蒸汽將對精腩段~ B —「供 給蒸汽」並在精餾塔7之内受分凝作用。低沸雜質.會在冷 凝器11内冷凝,並由大部份蒸汽中被提取出,並且也被冷 凝而由'再漱熱器Q的底部提取。有一部份由冷凝器11流出 的冷凝液經一管子13回到精腺塔7的頂部,其餘則被排出 —Q — 本紙張尺度適用中困國家梯準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) -:I _ - - 1 ι^ϋ - —ii - - - ^I -- —^1 --=·- —i - - I ! ml veJ (請先閱讀背面之注意事項再填荈本頁) 級濟部中央揉準局天工消费合作社印«. A7 一 B7 五、發明说明(& ) · 該条統〇 如此淨化並回收的溶劑會連續不斷地再循環到抗触酬 洗灌(剝落)製程12。不痛要由該糸統中取出任何溶劑的受 污染部份為予以棄置或淨化,如今己能夠使溶劑的純淨度 維持於足夠髙的程度,以有效進行抗独_洗灌(剝落)程序 。二圖示出在一段期間内在溶劑中所含水量的變動情形, 其中淨化裝置在某一情況下有運作而在另一‘lit形下沒有蓮 作。同樣,三圖示出在逭二種情況下溶劑中抗触劑成份的 濃度變動情形。 為更容易且更能了解本發明,本實例舉示的溶_為水 溶性者,其并1低沸與高沸雜質為水及抗触劑成份。但溶劑 也可為非水溶性,本發明也可用於其上.:, 因此,雜質與其他細目並不限於寅例所舉示者。蒸發 段的結構,其中所包含無發汽的型式(包括熵充物的型式 及裝缜的方式),該無發段内冷凝器的型式與結檐,通有 在精棚段内各?@段之結構與數目,在本發明範園内啬可改 變。在精腺段中的回收區不合宜或不補要時可以不用。 狳宫之,赭此處所提的方法受低沸雜質與高沸雜質污 染的溶劑被蒸沸而背下一部份先予提及的雜質作為桶底廢 料而由無發器中取出。溶劑熬汽中所留存且帶有該商沸雜 質,另一部份的源氣則自下游冷凝器供給滿氣分離器的冷 凝液洗縣並被其捕播。由於逋二種分開實施的功用,各商 沸雜質部份幾乎完全且確實由該条統中除去。又由於在精 餾塔内實施的分凝作用,低沸雜質冷凝液能有效自其餘溶 -10 " 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS M4規格(2丨0 X 297公釐) —^ϋ imj temmmt ^^^^1 mlv mf —fc ^ —«ffn ^^^^9 ^ 1 J^i (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉牟局貝工消费合作社印装 五、發明説明(9 ) 劑中除去。其中低沸及高沸雜質幾乎完金除去的純淨溶劑 得再用於各製程,例如為洗灌及剝落抗蝕劑。故此,在各 製程中浬作的溶_截嫌純淨度可控制於一定範園内。 因而在製造液晶、ic等之時,由其中洗灌及剝落抗蝕 劑的上述各製程之效率得以改進。邇作中溶_的任何受汚 染部份不再需要窠置於条統外或在逋處的回收工廠處理, 如此得改進生産效率。 此應:提供的機械裝置,如上所述,包含彼此相聯的蒸 發段與精描段,故輔着蒸發器與灘氣分離器的功用而自溶 劑中幾平完全除去高沸雜質,然後内精餾塔除去低沸雜質 ,以淨化溶劑再予以使用。因此,本發明方法便於藉用此 種機械裝置施行。 無發器的「薄膜下行式」是有利的,因溶劑加熱所需 時間較短,而保護溶劑免於熱分解。作為濕氣分離器的缜 充塔長處在於漱氣捕取液不必由一逋處的來源而在控制速 率下供應,反而下游冷凝器中産生的冷凝液便於取用,不 冊任何有難度的控制。 將未冷镟溶撕!供予精餾段的「蒸汽供給」方式改進了 整嫌製程的效率。 本發明提供以淨化及回收溶劑的方法與裝鶩,在低溫 的低沸雜質大部份成份為水;而在較高溫的离沸雜質大部 份成扮為抗触化合物,且溶劑被用以洗濶及剝辅液晶裝置 的抗蝕層時特別有用。由初步取出的雜質而得以淨化溶劑 之再循環利用,能有效保持溶劑物条的固定洗灌力。故本 _ 11 _ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐)~ (請先閲讀背面之注f項再填寫本頁) 305767 A7 B7 Ά
補充I 五、發明説明(10 ) 發明減少了已換新及未換新溶劑間所觀察洗潘能力顯著差 異的問埋。在此注意到,將成枇的溶劑送進送出工廠為處 理潘化的耗時耗工之工作,是提高製造液晶裝置生産效率 上的瓶頸之一〇洗灌及剝落步驟現在因本發明而得便利進 行,不再會傷及整鳒的效力。安穩的洗灌力延長了溶劑物 糸必須整個換新的時間間隔,因此減低為維持整髏溶劑物 糸的材料與作業成本,並降低對瑠塊有窨的液態廢料數量 經·濟部中央樣準局貝工消费合作社印製 12 (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁)
本紙張尺度通用中國國家橾準(CNS ) A4坭格(210X29?公釐)

Claims (1)

  1. 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 六、申請專利範圍 1. —種溶劑淨化方法,該法包括以下步驟: 在一蒸發器内將一種因於使用該溶劑之製程中處理 電子裝置而受低沸與高沸雜質污染的既用溶劑蒸發,其 中高沸雜質留在蒸發器内成桶底廢料而被除去,在該蒸 發器中産生而含有低沸雜質之溶劑蒸汽則由該蒸發汽中 取出,而該低沸雜質溶劑以水為最佳; 而後經一源氣分離器而將此溶劑蒸汽導入一個冷凝 器,因此被扣留於蒸汽内的灘氣粒子被該分離器所捕獲 ,該蒸汽在此冷凝器内局部冷凝而回到該分離器,並在 其内作為一種濃氣捕取液,該溶劑蒸汽之其餘未冷凝物 仍含有低沸雜質;又最後使該未冷凝溶劑蒸汽在一精餾 塔中分凝而使該蒸汽冷凝液一部份成一種含有許多低沸 雜質的液態廢料並由塔中除去,其餘溶劑蒸汽也被冷凝 ,但被回收以在霄子装置製程中再予使用,如該溶劑在 該製程中蓮作之整體純淨度得控制於一定範圔内。 2. 如申誚專利範園第1項所述之溶劑淨化法,其中使用溶 劑的程序是由液晶裝置上洗灌並剝落抗蝕劑的步驟。 3. —種溶劑淨化装置,該裝置包括: (a) —蒸發段,其内含有: 一個蒸發器為蒸沸一種因處理霉子裝置而受低沸雜質與 高沸雜質污染的既用溶劑,該處理在使用該溶劑以製造 電子裝置的製程中實施,有高沸雜質留在蒸發器中成為 一種桶底廢料而被取出,然後一種含有低沸雜質的溶劑 蒸汽由該蒸發器取出; -13 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· '訂 緣. 本紙張尺度速用中國國家標準(CNS)A4规格(210 X 297公釐) 305767 ABCD i mr I * 申請專利範圍 Ka 有一濕氣分離器在該蒸器下游與之連接,為捕取留 在那自蒸發器流出而含有低沸雜質的混合蒸汽中的濕氣 粒子;以及 有一冷凝器在該瀰氣分離器下游與之連接為使自該 濕氣分離器流出的混合蒸汽局部冷凝以形成一種冷凝液 而回到該灘氣分離器做為一種濕氣捕取液,該溶劑的其 餘未冷凝物仍含有低沸雜質;以及 (b)—精餾段,在蓮作時與蒸發段相聯,含有一精 餾塔為使未冷凝之溶劑蒸汽分凝,因此其低沸雜質完全 冷凝而由塔中取出,其餘溶劑蒸汽也被冷凝並回收而成 為淨化之溶劑。 4. 如申諳專利範園第3項所述之溶劑淨化装置,其中的蒸 發器屬「薄膜下行式」,而源氣分離器為一値用冷凝器 中所産生之冷凝作為濕氣捕取液的填充塔。 5. 如申誚專利範園第3項或第4項所述之溶劑淨化裝置, 其中的精餾塔能由冷凝器直接以「蒸汽供給」的方式接 收未在其内冷凝的蒸汽混合物。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂. 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 —14 - 本紙張尺度遑用中國國家標準(CNS)A4规格(210 X 297公釐)
TW085105563A 1995-08-04 1996-06-06 TW305767B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21974895A JP3172401B2 (ja) 1995-08-04 1995-08-04 溶剤の再生回収方法及び再生回収装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW305767B true TW305767B (zh) 1997-05-21

Family

ID=16740382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW085105563A TW305767B (zh) 1995-08-04 1996-06-06

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5925224A (zh)
JP (1) JP3172401B2 (zh)
KR (1) KR100395363B1 (zh)
TW (1) TW305767B (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3721016B2 (ja) 1999-09-30 2005-11-30 宮崎沖電気株式会社 レジスト処理装置
KR100858047B1 (ko) 2005-09-30 2008-09-10 니폰 리파인 가부시키가이샤 용제 회수 장치 및 용제 회수 방법
JP4476356B2 (ja) * 2007-09-05 2010-06-09 コレックス コーポレーション フォトレジストストリッパー廃液の再生方法及び再生装置、並びにその再生回収率の改善方法
KR100891747B1 (ko) * 2007-09-05 2009-04-03 주식회사 코렉스 포토레지스트 스트리퍼의 재생장치
US8961744B2 (en) * 2013-02-25 2015-02-24 Korex Corporation System and method for recycling high-boiling-point waste photoresist stripper
CN105060602B (zh) * 2015-09-17 2017-05-24 天津科技大学 工业废水超声协同处理和超声蒸发结晶一体化工艺及装置
KR102612139B1 (ko) * 2017-08-02 2023-12-08 주식회사 쿠라레 회수 레지스트 박리제로부터의 디메틸술폭시드의 회수 방법

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3073755A (en) * 1959-08-11 1963-01-15 Laporte Chemical Concentration of hydrogen peroxide
US5348588A (en) * 1993-06-29 1994-09-20 Church & Dwight Co., Inc. Evaporative treatment of inorganic saponifier wash water
TW305821B (zh) * 1993-09-13 1997-05-21 Mitsubishi Gas Chemical Co

Also Published As

Publication number Publication date
KR970009840A (ko) 1997-03-27
US5925224A (en) 1999-07-20
JP3172401B2 (ja) 2001-06-04
JPH0949093A (ja) 1997-02-18
KR100395363B1 (ko) 2003-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2392455T3 (es) Procedimiento y aparato para tratar suspensiones abrasivas agotadas para la recuperación de sus componentes reutilizables
TW305767B (zh)
KR20030007838A (ko) 초고순도 이소프로판올의 제조 방법
CN103748071B (zh) 尿素精整加工方法
FI58519B (fi) Foerfarande foer regenerering av betningssyror
US4285881A (en) Dioxane removal from ether sulfate
JP2889337B2 (ja) 金属硫酸塩を含む硫酸の濃縮法
US3713991A (en) Recovery of dimethylformamide by crystallization and distillation
JP2752001B2 (ja) 蒸気乾燥装置
JPH0859564A (ja) ジニトロトルエンの製造方法
JP2003144801A (ja) サイドカット式溶剤再生回収方法及び溶剤再生回収装置
JP3692497B2 (ja) ジメチルスルホキシドの回収方法
CA1076773A (fr) Procede continu de fabrication d'acide phosphorique de voie humide
JPH11104450A (ja) 脱硫排水の処理方法
CN110384995A (zh) 一种高沸点有机物废气处理设备及其处理方法
JP2004043434A (ja) 高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法
JPS6214901A (ja) フロン蒸気洗浄装置
CN214399880U (zh) 一种剥离液回收系统
JPH03147323A (ja) 洗浄システム
JPH0780240A (ja) 有機溶剤の回収方法及び装置
US1857632A (en) Method of purifying and drying crude iodine
CN211515369U (zh) 一种掩膜板清洗液回收装置
JP2003236328A (ja) 溶剤回収方法及び溶剤回収装置
FI80385B (fi) Foerfarande foer extraktion av ett aemne fraon vattenloesning.
JP5328612B2 (ja) 液体回収装置および液体回収方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees