JP2004043434A - 高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ジメチルスルホキシドとアミン類を含む混合物から、ジメチルスルホキシドを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシド、または、アミン類を65%以上含有するジメチルスルホキシドとアミン類の混合物を、蒸留により、分離回収し、高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物を精製する。
【選択図】 なし
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくともジメチルスルホキシド(以下、DMSOという)とアミン(2−アミノエタノール別名モノエタノールアミン以下、MEAという)などのアミン類を含む混合物からDMSOを95%以上含有する高純度DMSO、および、MEAなどのアミン類を65%以上含有するDMSOとアミン類の混合物を精製する方法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、医農薬中間体製造時の反応溶剤や電子材料等の処理に使用する特殊洗浄液、特殊剥離液等として工業的に幅広く使用されているDMSOおよびDMSOとMEAなどのアミン類の混合物の各使用済み液から、従来の方法より安価で効率よく、さらに産業廃棄物発生量の少ない、高純度DMSOおよびDMSOとアミン類の混合物の精製方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
DMSOは、医農薬中間体製造時の反応溶剤や、電子材料等の処理に使用する特殊洗浄液、特殊剥離液等として工業的に幅広く使用されている。特にDMSO30%とMEA70%の混合物は、優れた電子材料処理用特殊剥離液のひとつであり、液晶デバイスやICなどの製造過程の一つであるレジスト洗浄剥離工程の多くで使用されている。また、DMSOは剥離液を使用してレジスト剥離を行った後のリンス工程においてリンス液としても使用されている。これらの工程で使用した使用済み剥離液および使用済みリンス液中には、各工程内で発生した各種有機化合物および各種無機化合物、それぞれの前工程(操作)および/または後工程(操作)で使用した薬液、および、それぞれの前工程(操作)および/または後工程(操作)内で発生した各種有機化合物および各種無機化合物などが混入している。具体的には、使用済み剥離液中には、前工程(操作)、レジスト洗浄剥離工程、後工程(操作)、各工程内の雰囲気などから、水分、各種金属分、フォトレジスト、リンス工程で使用したDMSOなどが混入している。使用済みリンス液中には、前工程(操作)、リンス工程、後工程(操作)、各工程内の雰囲気などから、水分、各種金属分、フォトレジスト、前工程であるレジスト洗浄剥離工程において用いた剥離液などが混入している。
【0003】
近年、液晶デバイスやICなどの生産量が急激に増加し、これらの製造過程に必要不可欠なこれら剥離液やリンス液の使用量が著しく増加し、それに伴い発生する各使用済み液量が著しく増加して、使用済み液の処理が重要な課題となっていた。
【0004】
この課題については以前から様々な取り組みがなされ、下記のような解決策が提案されている。具体的には、使用済み剥離液の処理方法としては、使用済み剥離液から蒸留により前記剥離液を回収する方法が提案されている(特許文献1、2参照)。また、使用済みリンス液の処理方法としては、晶析操作を繰り返して使用済みリンス液からDMSOを回収する方法(特許文献3参照)や、使用済みリンス液から蒸留、中和、その他物理的化学的処理などによりDMSOを回収する方法(特許文献4、5、6参照)が提案されている。
【0005】
しかしながらここ数年の市場経済の著しい変動に伴い、剥離液やリンス液および各使用済み液の数量および組成が以前に比べ著しく変動してきた。これに伴い、以前の各使用済み液の数量、組成では一応の解決策であったこれらの提案も現在の各使用済み液の数量、組成では必ずしも効率的な解決策とは言えない状況となってきている。具体的には使用済み剥離液の場合、先に述べたとおり使用済み剥離液中には、前工程(操作)、レジスト洗浄剥離工程、後工程(操作)、各工程内の雰囲気などから、水分、各種金属分、フォトレジスト、リンス工程で使用したDMSOなどが混入しているが、この内特に後工程であるリンス工程で使用するDMSOの混入量が増加することがあり、剥離液中のDMSO濃度が30%であるのに対し、使用済み剥離液中ではDMSO濃度が増加することがある。現状の使用済み剥離液を、以前提案された使用済み剥離液から蒸留により剥離液を回収する方法で処理しようとすると、DMSOとMEAの沸点がほぼ同じであるため、回収された剥離液の組成は蒸留前の使用済み剥離液とほぼ同じ組成となる。このため、現状では回収精製された使用済み剥離液を剥離液として使用するためにMEAを加え組成を調整することが必要となる。従って、回収された使用済み剥離液中のDMSO濃度を使用前のDMSO濃度に戻すためには、MEAを大量に添加、調整する必要があり、需要と供給のバランスが大きく崩れ、深刻な問題となっている。
【0006】
また、使用済みリンス液の場合、先に述べたとおり使用済みリンス液中には、前工程(操作)、リンス工程、後工程(操作)、各工程内の雰囲気などから水分、各種金属分、フォトレジスト、前工程であるレジスト洗浄剥離工程において用いた剥離液などが混入しているが、この内、特に前工程であるレジスト洗浄剥離工程で使用する剥離液の混入量が増加することがあり、使用済みリンス液中のMEA濃度が増加することがある。現状の使用済みリンス液を以前提案された晶析操作を繰り返して使用済みリンス液からDMSOを回収する方法で処理した場合、晶析によるDMSOとMEAの分離が不十分であるため、使用済みリンス液から回収したDMSOをリンス液として再利用することは出来ない。さらに、混入しているMEAがすべて産業廃棄物となるため、現状のMEA混入量では多量の産業廃棄物が発生し、コスト面、資源の有効利用という観点から問題である。また、現状の使用済みリンス液を以前提案された蒸留、中和、その他物理的化学的処理などによりDMSOを回収する方法で処理した場合、前記使用済みリンス液から回収したDMSOは、リンス液として再利用可能ではあるが、この方法でも混入しているMEAがすべて産業廃棄物となるため、現状のMEA混入量では多量の産業廃棄物が発生し、コスト面、資源の有効利用という観点から問題である。
【0007】
以上のことから、現状の各使用済み液の数量、組成に合った安価で効率のよい、さらに産業廃棄物発生量の少ない適切な回収方法の開発が急務となってきた。
【0008】
【特許文献1】
特開平9−49093号公報
【0009】
【特許文献2】
特開2001−194807号公報
【0010】
【特許文献3】
特開平7−118223号公報
【0011】
【特許文献4】
特開平9−12534号公報
【0012】
【特許文献5】
特開平9−278743号公報
【0013】
【特許文献6】
特開2001−89438号公報
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ジメチルスルホキシドとアミン類を含む混合物、例えば、電子材料等の処理に使用する特殊洗浄液、特殊剥離液等として工業的に幅広く使用されているDMSOおよびDMSOとMEAの混合物の各使用済み液から従来の方法より安価で効率よく、かつ産業廃棄物発生量が少なく、DMSOおよびDMSOとアミン類の混合物を回収し、さらに、回収されたDMSOおよびDMSOとアミン類の混合物が電子材料用として再利用が可能な高純度なDMSOおよびDMSOとアミン類の混合物を得ることのできる精製方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、DMSOとアミン類を含む混合物から、DMSOを95%以上含有する高純度DMSO、および、アミン類を65%以上含有するDMSOとアミン類の混合物を蒸留により分離回収するDMSOとアミン類の精製方法によって達成される。
【0016】
【発明の実施の形態】
DMSOとMEAなどのアミン類を含む混合物を1本の蒸留塔で分離して、純粋なDMSOと純粋なMEAなどのアミン類を得ることは理論的には可能であるが、このためには非常に段数の多い蒸留塔が必要であり、工業的には不経済である。
【0017】
本発明は、DMSOとアミン類を含む混合物から、DMSOを95%以上含有する高純度DMSO、または、アミン類を65%以上含有するDMSOとアミン類の混合物を蒸留により分離回収するDMSOとアミン類の精製方法である。
【0018】
本発明は、好ましくは、DMSOとアミン類を含む混合物から、DMSOを95%以上含有する高純度DMSO、および、アミン類を65%以上含有するDMSOとアミン類の混合物を蒸留により分離回収するDMSOとアミン類の精製方法である。
【0019】
本発明における蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物は、少なくともDMSOおよびアミン類の2成分を含むものであればよく、特定の組成に限定されるものではない。蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物は、DMSOおよびMEAの2成分を含むものが好ましい。
【0020】
蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物は、好ましくは、DMSOとアミン類を含む組成が異なる2種類以上の混合物である。DMSOとアミン類を含む組成が異なる2種類以上の混合物は、例えば、DMSO含量がMEAの含量よりも高い混合物と、DMSO含量がMEAの含量と同じかMEAの含量よりも低い混合物との組み合わせである。さらに好ましくは、DMSO含量が50%以上の混合物とDMSO含量が50%以下の混合物の組み合わせであり、さらにより好ましくは、DMSO含量が80%以上の混合物とDMSO含量が40%以下の混合物の組み合わせであるが好ましい。また、蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物は、含水しているもの、非含水のどちらでもよく、DMSOとアミン類以外に若干量の有機物、無機物が含まれていてもよい。
【0021】
本発明における蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物の代表的な例として、電子材料等の処理に使用した使用済み特殊洗浄液および使用済み特殊剥離液が挙げられるが、本発明のDMSOとアミン類の混合物はこれに限定されず、他用途に使用したものでもよい。また、使用済み液に限定されず、広くDMSOとアミン類の混合物に適用できる。
【0022】
また、本発明では、蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物は、組成が異なるDMSOとアミン類を含む混合物をそれぞれ単独で使用して蒸留することも、混合して使用して蒸留することもできる。
【0023】
また、本発明において、蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物は、アミン類、例えば、MEAよりも沸点の低い成分、具体的には、水、2−プロパノールなどの有機物を予め蒸留などの操作により除去した後、蒸留することが好ましい。アミン類、例えば、MEAよりも沸点の低い成分を除去する蒸留操作における減圧度は、好ましくは、53.3kPa以下、より好ましくは13.3kPa以下である。
【0024】
本発明の精製方法では、DMSOを95%以上含有する溜分を高純度ジメチルスルホキシドという。
【0025】
本発明の精製方法では、好ましくは、蒸留塔を用いて、ジメチルスルホキシドを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシド、または、アミン類を65%以上含有するジメチルスルホキシドとアミン類の混合物を分離回収する。
【0026】
このときに使用する蒸留塔の種類は、充填塔、棚段塔、ぬれ壁塔など、どのような種類の蒸留塔でもよい。充填塔を選択したときに使用する充填物は規則、不規則のどちらでもよい。また、このときの蒸留塔の操作条件は以下のものが例示される。本減圧蒸留操作における圧力は、好ましくは、13.3kPa以下、より好ましくは6.7kPa以下である。また、本減圧蒸留操作において、蒸留塔関連設備の接液部、特に気化部以降の設備の材質にステンレス鋼などの耐食性材料を使用することが好ましい。
【0027】
本発明の精製方法では、より好ましくは、DMSOとアミン類を含む混合物を蒸留塔の異なる2箇所以上から供給する。
【0028】
本発明の精製方法では、さらにより好ましくは、2種類のDMSOとアミン類を含む混合物を1本の蒸留塔の異なる2箇所以上から供給する。
【0029】
本発明の精製方法では、好ましくは、塔頂から、DMSO1〜35%、アミン類65〜99%以上の混合物を得る。アミン類は、MEAが好ましい。
【0030】
さらに、本発明の精製方法では、好ましくは、塔底から、DMSOを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシドを得る。アミン類は、MEAが好ましい。
【0031】
このときの分離仕様は、蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物の組成、得ようとするDMSOとアミン類の混合物の組成とDMSOを95%以上含有する高純度DMSOの組成などから任意に決定される。
【0032】
一般的に、蒸留前のDMSOとアミン類を含む混合物として、MEA濃度の比較的高いMEAとDMSOの混合液が剥離液として使用され、使用済み剥離液は、通常、使用前の液に比べてDMSO濃度が高くなっている。本発明では、好ましくは、本使用済み剥離液と使用済みリンス液を本蒸留塔に同時に供給することにより1本の蒸留塔でMEAの低いDMSOを塔底から、前記剥離液と同等またはMEA濃度の高い組成のMEAとDMSOの混合液を塔頂から得ることが出来る。さらに本発明では、好ましくは、2種類の組成の異なる使用済液を1本の蒸留塔の2箇所から供給することにより、塔底のDMSO中のMEA濃度を下げるとともに、2種類の組成の異なる使用済液のうち、MEA濃度の低い使用済液から分離したMEAを塔頂から得、MEA濃度の高い使用済液から分離したDMSOを塔底から得ることができる。
【0033】
さらに、本発明において、塔底から得られたDMSOは再利用可能である。このDMSOの純度を上げるため、後に述べるような操作を行うことが好ましい。
【0034】
また、本発明においては、得られた高純度DMSO中に残存するMEAをさらに除去するため、酸により中和した後、減圧蒸留することが好ましい。
【0035】
中和は、硫酸、塩酸、リン酸等の無機酸(鉱酸)が好ましく用いられる。混合物中のアミン類、例えば、MEAを無機酸塩として固定化することにより、DMSOを減圧蒸留することができる。なかでも、不揮発性であること、蒸留後の缶残の産廃処理が容易であること等の理由で、硫酸が特に好ましく用いられる。このときに用いられる硫酸の量は、高純度DMSO中に存在するMEAの0.8〜2.0倍当量が好ましく、1.0〜1.5倍当量がより好ましい。硫酸量が0.8倍当量未満では、MEAが十分中和されず、留出する場合がある。また、2.0倍当量より多い場合は、酸によるDMSOの分解が著しく促進されるため、また、硫酸が過剰となるため、コストアップにつながる場合がある。
【0036】
酸により中和した後の減圧蒸留は、缶温が通常は130℃以下、より好適には110℃以下が好ましい。このときの缶内の圧力としては、それぞれ14.2kPa以下、6.7kPa以下が好ましい。温度または圧力が高くなりすぎるとDMSOの分解が著しく促進される場合があるので、好ましくない。
【0037】
本発明において、このようにして減圧蒸留して得られたDMSOを、さらに、イオン交換処理、活性炭吸着処理、酸性白土処理、モレキュラーシーブ吸着処理等の処理を行うことが好ましい。このような処理を行うことにより、中和、減圧蒸留によっても除去しきれなかった微量のMEAを、より完全に除去することができる。なかでも、MEAの除去が確実であること、処理速度が比較的速いこと等の理由でイオン交換処理が最も好ましい。
【0038】
イオン交換処理は、好適にはDMSOを主成分とする液体をイオン交換塔に通液することにより行なわれる。このとき、塔に充填するイオン交換樹脂としては、カチオン交換樹脂を単独で使用するのが適当である。カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを混合したものを使用しても処理能力は有るが、カチオン交換樹脂単独で使用するのが適当である。
【0039】
また、イオン交換は、流動床式でも固定床式でも良く、固定床式が好ましい。処理温度は常温が好ましい。
【0040】
イオン交換処理の通液量は、ウエット状態のイオン交換樹脂の100〜150倍量が目安であるが、適切な通液量は樹脂の交換容量と被処理液中のMEA濃度に大きく依存する。処理前に被処理液中のMEA濃度の分析をすることが重要である。
【0041】
本発明では、イオン交換処理後の液体をさらに精留すると、より好ましい。例えば精留における缶温は130℃以下、より好適には110℃以下である。缶内の圧力としては、それぞれ14.2kPa以下、6.7kPa以下の減圧下が好ましい。温度または圧力が高くなりすぎるとDMSOの分解が著しく促進されるので、好ましくない場合がある。
【0042】
また、精留において、蒸留塔関連設備の接液部、特に気化部以降の設備の材質に耐食性材料を使用することが好ましい。
【0043】
さらに、精留時のDMSOの熱分解防止等のため、蒸留に使用するDMSOを主成分とする粗液のpHをアルカリ性に保つことが好ましい。好ましいpHは8以上で、より好ましくはpH9〜12の範囲内で好適なpHが選択される。粗液のpHをアルカリ性に調整する際に使用する物質としてはアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物または炭酸塩等が挙げられるが、特に水酸化ナトリウムが好ましく使用される。
【0044】
本発明において、各使用済み液などのDMSOとアミン類を含む混合物から、高純度DMSOおよびDMSOとアミン類MEAの混合物を回収精製する際の回収率や精製率を高め、コストを下げる等のため、上記に述べる好ましい条件を用いることが望ましい。
【0045】
本発明により、従来の方法より安価で効率よく、さらに産業廃棄物発生量が少なく、電子材料処理用として再使用が可能な高純度なDMSOが回収精純度DMSOは、電子材料処理用に好ましく使用することができる。ま製される。本発明の精製方法で得られたDMSOを95%以上含有する高た、本発明の精製方法で得られたアミン類を65%以上含有するジメチルスルホキシドとアミン類の混合物は、電子材料処理用に好ましく使用することができる。
【0046】
本発明で回収精製されたDMSOは、電子材料処理の他、医農薬中間体の反応溶剤や合成試薬に好適に使用される。
【0047】
【実施例】
以下、図面を参照して本発明の実施例について詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【0048】
(実施例1)
図1は、本発明のジメチルスルホキシド及びその混合物の精製において使用する回収精製装置の概要を説明するためのモデル図である。
【0049】
図1において、充填高さ5mの蒸留塔1の塔頂から1m下に接続されている配管4からDMSOを40%、MEAを60%含む混合物7.0(kg/h)を、蒸留塔1の塔頂から3m下に接続されている配管5からDMSOを82%、MEAを18%含む混合物6.0(kg/h)をそれぞれ蒸留塔1に供給し、塔内圧を4.0kPaの減圧に保ち蒸留した。発生したベーパを配管6でコンデンサ2に導きコンデンサ2で凝縮して得られたDMSOとMEAの混合物のうち一部を配管7から蒸留塔1に供給し、その他のDMSOとMEAの混合物を配管8から取り出した。このとき得られたDMSOとMEAの混合物の量は7.0(kg/h)であり、その組成はDMSO30%、MEA70%であった。この回収精製されたDMSOとMEAの混合物の品質は、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。また、このとき配管11からはDMSO99%、MEA1%の高純度DMSOが6.0(kg/h)得られた。高純度DMSO中のMEAを除去するために、この高純度DMSOをさらに中和、減圧蒸留、イオン交換、精溜を行い、DMSOを回収精製した。この回収精製されたDMSOの品質は、合成したDMSOと同等の品質であり、MEA含有量が検出限界以下で、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。
【0050】
(実施例2)
実施例1と同様の構造の装置を用い、配管4からDMSOを50%、MEAを50%含む混合物420(kg/h)を、配管5からDMSOを90%、MEAを10%含む混合物1,314(kg/h)をそれぞれ蒸留塔1に供給し、塔内圧力を4.0kPaに保ち蒸留した。コンデンサ2で凝縮して得られたDMSOとMEAの混合物のうち、一部を配管7から蒸留塔1に供給し、その他の混合物を配管8から取り出した。この時得られたDMSOとMEAの混合物の量は470(kg/h)であり、その組成はDMSO30%、MEA70%であった。この回収精製されたDMSOとMEAの混合物の品質はメンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。また、このとき配管11からはDMSO99%、MEA1%の高純度DMSOが1,264(kg/h)得られた。この高純度DMSOをさらに中和、減圧蒸留、イオン交換、精溜を行い、DMSOを回収精製した。この回収精製されたDMSOの品質は、合成したDMSOと同等の品質で、MEA含有量が検出限界以下で、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。
【0051】
(実施例3)
実施例1と同様の構造の装置を用い、配管4からDMSOを40%、MEAを60%含む混合物420(kg/h)を、配管5からDMSOを70%、MEAを30%含む混合物1,320(kg/h)をそれぞれ蒸留塔1に供給し、塔内圧力を4.0kPaに保ち蒸留した。コンデンサ2で凝縮して得られたDMSOとMEAの混合物のうち一部を配管7から蒸留塔1に供給し、その他の混合物を配管8から取り出した。この時得られたDMSOとMEAの混合物の量は911(kg/h)であり、その組成はDMSO30%、MEA70%であった。この回収精製されたDMSOとMEAの混合物の品質は、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。また、このとき配管11からはDMSO99%、MEA1%の高純度DMSOが823(kg/h)得られた。この高純度DMSOを、さらに中和、減圧蒸留、イオン交換、精溜を行い、DMSOを回収精製した。この回収精製されたDMSOの品質は、合成したDMSOと同等の品質で、MEA含有量が検出限界以下で、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。
【0052】
(実施例4)
実施例1と同様の構造の装置を用い、配管4からDMSOを40%、MEAを60%含む混合物1,734(kg/h)を蒸留塔1に供給し、塔内圧力を4.0kPaに保ち蒸留した。コンデンサ2で凝縮して得られたDMSOとMEAの混合物のうち一部を配管7から蒸留塔1に供給し、その他の混合物を配管8から取り出した。この時得られたDMSOとMEAの混合物の量は1,483(kg/h)であり、その組成は、DMSO30%、MEA70%であった。この回収精製されたDMSOとMEAの混合物の品質はメンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。また、このとき配管11からはDMSO99%、MEA1%の高純度DMSOが251(kg/h)得られた。この高純度DMSOをさらに中和、減圧蒸留、イオン交換、精溜を行い、DMSOを回収精製した。この回収精製されたDMSOの品質は、合成したDMSOと同等の品質で、MEA含有量が検出限界以下で、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。
【0053】
(実施例5)
実施例1と同様の構造の装置を用い、配管5からDMSOを90%、MEAを10%含む混合物1,740(kg/h)を蒸留塔1に供給し、塔内圧力を4.0kPaに保ち蒸留した。コンデンサ2で凝縮して得られたDMSOとMEAの混合物のうち一部を配管7から蒸留塔1に供給し、その他の混合物を配管8から取り出した。この時得られたDMSOとMEAの混合物の量は226(kg/h)であり、その組成はDMSO30%、MEA70%であった。この回収精製されたDMSOとMEAの混合物の品質は、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。また、このとき配管11からはDMSO99%、MEA1%の高純度DMSOが1,508(kg/h)得られた。この高純度DMSOを、さらに中和、減圧蒸留、イオン交換、精溜を行い、DMSOを回収精製した。この回収精製されたDMSOの品質は、合成したDMSOと同等の品質で、MEA含有量が検出限界以下で、メンブランフィルターで濾過するだけでそのまま電子材料処理用として再利用可能であった。
【0054】
【発明の効果】
本発明によれば、現状のDMSOおよびDMSOとアミン類の混合物の各使用済み液から従来の方法より簡便に効率よく、かつ産業廃棄物発生量が少なく、さらに回収精製されたDMSOおよびDMSOとMEAなどアミン類の混合物が電子材料処理用として再利用が可能な高純度なDMSOおよびDMSOとMEAなどアミン類の混合物を回収精製することができる。また、本発明の方法により回収精製したDMSOは、各種反応溶媒、染料用溶剤、防カビ剤等にも再利用可能である。さらに、本発明によれば、従来の方法に比べて簡単な構造の装置で回収精製することができ、処理コストが安価である。本発明は、省資源化、コスト低減化に寄与できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明のジメチルスルホキシド及びその混合物の精製において使用する精製装置の概要を説明するためのモデル図である。
【符号の説明】
1 蒸留塔(充填塔)
2 コンデンサ
3 リボイラ
4〜11 配管
12 減圧ライン
Claims (12)
- ジメチルスルホキシドとアミン類を含む混合物から、ジメチルスルホキシドを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシド、または、アミン類を65%以上含有するジメチルスルホキシドとアミン類の混合物を、蒸留により、分離回収する高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- ジメチルスルホキシドとアミン類を含む混合物から、ジメチルスルホキシドを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシド、および、アミン類を65%以上含有するジメチルスルホキシドとアミン類の混合物を、分離回収する請求項1記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- ジメチルスルホキシドとアミン類を含む組成が異なる2種類以上の混合物を用いる請求項1記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- ジメチルスルホキシドとアミン類を含む混合物を、蒸留塔を用いて分離回収する請求項1記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- ジメチルスルホキシドとアミン類を含む混合物を、蒸留塔の2箇所以上の異なる箇所から供給する請求項4記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- 2種類のジメチルスルホキシドとアミン類を含む混合物を1本の蒸留塔の2箇所から供給する請求項4記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- 塔頂から、ジメチルスルホキシド1〜35%、アミン類65〜99%以上の混合物を得る請求項4に記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- 塔底から、ジメチルスルホキシドを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシドを得る請求項4に記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- ジメチルスルホキシドを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシドを、酸により中和した後、減圧蒸留し、さらにイオン交換処理によりアミン成分を除去する請求項1に記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- ジメチルスルホキシドを95%以上含有する高純度ジメチルスルホキシドを、電子材料処理用に使用する請求項1に記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- アミン類を65%以上含有するジメチルスルホキシドとアミン類の混合物を、電子材料処理用に使用する請求項1に記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
- アミン類が、2−アミノエタノールである請求項1に記載の高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003117935A JP4345082B2 (ja) | 2002-05-13 | 2003-04-23 | 高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002136724 | 2002-05-13 | ||
JP2003117935A JP4345082B2 (ja) | 2002-05-13 | 2003-04-23 | 高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004043434A true JP2004043434A (ja) | 2004-02-12 |
JP4345082B2 JP4345082B2 (ja) | 2009-10-14 |
Family
ID=31719264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003117935A Expired - Fee Related JP4345082B2 (ja) | 2002-05-13 | 2003-04-23 | 高純度ジメチルスルホキシドと、ジメチルスルホキシドとアミン類の混合物の精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4345082B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017175856A1 (ja) * | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 |
CN107362568A (zh) * | 2017-09-04 | 2017-11-21 | 中安信科技有限公司 | 一种高性能碳纤维生产中高效回收溶剂的装置和方法 |
CN108686397A (zh) * | 2017-04-12 | 2018-10-23 | 东丽精细化工株式会社 | 蒸馏二甲亚砜的方法及多段式蒸馏塔 |
WO2019026868A1 (ja) * | 2017-08-02 | 2019-02-07 | 株式会社クラレ | 回収レジスト剥離剤からのジメチルスルホキシドの回収方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101183336B1 (ko) * | 2004-03-31 | 2012-09-14 | 미츠비시 덴센 고교 가부시키가이샤 | 회로기판을 이용한 조인트 박스 |
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2003
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017175856A1 (ja) * | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 |
US11480880B2 (en) | 2016-04-08 | 2022-10-25 | Fujifilm Corporation | Treatment liquid, method of manufacturing treatment liquid, pattern forming method, and method of manufacturing electronic device |
CN108686397A (zh) * | 2017-04-12 | 2018-10-23 | 东丽精细化工株式会社 | 蒸馏二甲亚砜的方法及多段式蒸馏塔 |
WO2019026868A1 (ja) * | 2017-08-02 | 2019-02-07 | 株式会社クラレ | 回収レジスト剥離剤からのジメチルスルホキシドの回収方法 |
JPWO2019026868A1 (ja) * | 2017-08-02 | 2020-07-27 | 株式会社クラレ | 回収レジスト剥離剤からのジメチルスルホキシドの回収方法 |
US11028047B2 (en) | 2017-08-02 | 2021-06-08 | Kuraray Co., Ltd. | Method for recovering dimethyl sulfoxide from recovered resist remover |
JP7191831B2 (ja) | 2017-08-02 | 2022-12-19 | 株式会社クラレ | 回収レジスト剥離剤からのジメチルスルホキシドの回収方法 |
CN107362568A (zh) * | 2017-09-04 | 2017-11-21 | 中安信科技有限公司 | 一种高性能碳纤维生产中高效回收溶剂的装置和方法 |
CN107362568B (zh) * | 2017-09-04 | 2018-12-04 | 中安信科技有限公司 | 一种高性能碳纤维生产中高效回收溶剂的方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4345082B2 (ja) | 2009-10-14 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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