TW271002B - - Google Patents

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TW271002B
TW271002B TW80108634A TW80108634A TW271002B TW 271002 B TW271002 B TW 271002B TW 80108634 A TW80108634 A TW 80108634A TW 80108634 A TW80108634 A TW 80108634A TW 271002 B TW271002 B TW 271002B
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271002 A7 B7 五、發明説明(1 ) 本發明係有關一種防塵護膜,其製法與防塵溝件,此 防塵護膜可用於防止如灰塵之外來物霣附蓋於製造半導 鼸元件(如1C或LSI )之照相步驟所用光軍、線網或其類 似者(之後稱為防護罩或其類似者)上。 影印石版術(Photolithographic)步驟中傜選用於形 成於玻璃板表面,且包含以鉻真空沈積膜構成之電路圖 的防護罩或其類似者,而進行使該電路圖傳送至塗覆有 光阻劑之矽晶Η上之操作。若在此步驟,於有外來物質 附著在防護罩或其顯著上的電路圖之狀態進行光照射時 ,該外來物質亦會傳送至該液晶Η上,則會形成不良製 品。尤其是,當利用步進電動機進行光照射時,則會導 致在晶片上形成所有集成電路Η之失牧率增加的危險性 。因此,外來物質附著在防護罩或其類者之電路圖是一 件極簌重的問題。為解決此問題之方法,近年來已有人 提出一種防塵薄膜(護膜),其包括在光罩或其類似者之 防護基質的單面或兩表面間,以適當間隔配置之透明透 光性的防塵膜(護膜)。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先 閱讀背方之注意事項再填寫本頁) 通常此種防塵構件包括鋁製的支撐架及塗佈在支撐架 某一面之有機物質(例如硝基纖維素)的透明透光防塵 膜,以及在支撐架另一面粘上雙面膠帶,因此該防鑒構 件可粘在防護罩及其類似者的防護基質上。ϋ該防塵模 件卽可避免外來物質之介入,而印使外來物質附箸在該 膜上,&不致外來物質傳送至該晶Μ上,且可提高半導 體元件的産率。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2丨ΟΧ297公釐) 271002 at B7 經濟部中央標隼局員工消費合作杜印^
五、發明説明 ( 2 ) 1 1 由 於 新 近 的 半 導 體 元 件 之 積 層 度 增 加 故 光 照 射 所 採 1 1 用 的 射 線 已 移 至 短 波 長 由 8 射 線 ( 436 X 1 0' 9 米 ) 移 1 I 至 射 線 ( 3 6 5 X 10- 9 米 ) ,且 再 度 移 至 激 元 雷 射 射 線 請 1 | ( 248 X 10- .$ ;米 3傳統的 透 光 性 防 塵 膜 % 僅 由 有 機 先 閲 1 I ik 1 I 物 質 (例如硝基纖維素) 所 構 成 其 分 子 結 A σ 狀 態 弱 9 故 背 \^j 1 I 之 1 導 致 於 膜 上 産 生 光 分 解 > 結 果 該 膜 本 身 變 得 不 透 明 並 破 意 1 I m 膜 的 機 械 強 度 〇 所 以 傳 统 的 防 塵 膜 之 實 用 性 仍 無 法 令 事 項 1 I 再 1 | 人 滿 意 〇 填 寫 本 装 為 克 服 上 述 困 難 曾 提 出 以 無 機 物 質 ( 例 如 合 成 的 二 頁 1 I .氣 化 矽 玻 璃 及 熔 融 的 二 氧 化 矽 玻 璃 氟 化 物 ) 製 成 的 透 光 1 1 性 防 塵 膜 > 其 中 分 子 鍵 結 強 且 不 易 引 起 光 分 解 ( 參 閲 曰 1 I 本 未 審 査 專 利 公 報 號 碼 6 2 -2 8 8 8 4 2及日本未審査專利公 1 1 訂 1 報 號 碼 6 3 -6 5 5 3 ) 〇 在 由 上 述 無 m 物 質 裂 成 防 塵 膜 之 情 形 > 由 於 該 壁 不 具 可 撓 性 故 其 較 由 有 機 物 質 製 成 之 膜 9 更 1 I 難 於 製 成 αο 単 層 膜 〇 1 1 本 發 明 的 主 要 巨 的 即 在 於 解 決 上 述 問 題 9 且 提 出 - 種 1 I 具 良 好 可 撓 性 及 高 透 光 性 且 經 長 期 光 照 射 ( g 射 線 1 1 | i 射 線 甚 至 雷 射 及 其 他 短 波 長 射 線 ) 亦 不 産 生 光 分 解 1 1 的 高 透 光 性 防 塵 m 0 1 1 本 發 明 另 一 的 俱 提 出 一 種 在 短 時 間 内 即 可 挪 易 製 備 1 1 具 有 上 逑 極 佳 特 性 之 高 透 光 性 防 塵 膜 的 方 法 〇 1 1 本 發 明 進 一 步 巨 的 則 提 出 一 種 由 : 具 上 述 極 佳 持 性 之 I I 高 透 光 性 防 塵 膜 所 構 成 的 防 塵 構 件 〇 1 1 ί农 本 發 明 t 提 供 種 高 透 -4 光 性 防 塵 膜 1 η 由 少 1 1 1 1 I 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印掣 271002 A7 B7 五、發明説明(3 ) 種選自多價金驅之氣化物、氫氣化物、含有機基的氣化 物及含有機基的氳氧化物,並經溶膠-凝膠方法所製成 者。 較佳而言,多價金颶為至少一種選自矽,鋁,鈦及錯 的金屬。 本發明中,U )多價金颶氣化物為具Y - 〇 - Y键(Y表多 價金屬)的化合物。 (2) 多價金屬氫氣化物為具Υ-0Η鍵(Y表多價金靨)的 化合物。 (3) 含有機基的多價金颶氣化物為分子中具有有機基 及Υ-0-Υ鍵的化合物。 (4) 含有機基的多價金屬氫氧化物為至少一部份分子 上含有機基及Υ-0Η鍵(Y為多價金屬)的化合物。 化合物(3)及(4)中的有機基可為烷氧基,羧酸酯基, 且R基舉例在下文中》 溶膠-凝膠製程所用的起始化合物可為該多價金屬的 可水解有機化合物(例如烷氣化物及羧酸鹽或由其之水 解作用所得的寡聚合物和聚合物)及可水解無機化合物 ,例如該多價金屬的硝酸鹽、氣化物、氣化物及氫氣化 物。作為起始化合物的多價金腸氣化物及/或氫氣化物 為細顆粒狀。 本發明所採最佳起始化合物可為: (i )具下列化學式的化合物 Y- R 1 k ( 1 ) 本紙張尺度適用中國阐家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公着) ---------士—衣------ΪΤ (請先閱讀背而:之注意事項再填寫本頁) A7 271002 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印裝 五、發明説明 ( 6 ) 1 1 η 中Y 為 1 白 的 > 鋁 t 鈦 及 la 的 金 屬 原子, R 1為 可 1 I 水 解 單價 基 k 則 為 金 屬 原 子 的 價 數 0 1 1 (i i )具 下 列 化 學 式 的 化 合 物 請 1 先 1 R η — Y- R 1 k- η (2 ) 鬩 讀 1 1 其 中R 為 aa 単 價 烴 基 或 取 代 的 烴 基 9 η 為1 至k -1的 數 背 面 1 1 之 1 巨 » Y , R 1 及 k 定 義 如 上 〇 意 1 I (i i i ) 化 合 物 (i ) 及 /或化合物(i i )經水 解 鍵 結所 得 事 項 1 I 再 1 I 的 寡 聚合 物 或 聚 合 物 〇 填 % 本 装 (i V)具 下 列 化 學 式 的 化 合 物 (硝酸鹽) : 頁 1 I Y (N 0 ) (3 ) 1 1 其 中Y 及 k 定 義 如 上 1 1 I (V )具 下 列 化 學 式 的 化 合 物 (氯化物) : 1 1 訂 Y (c 1 ) K (4 ) 1 其 中Y 及 k 定 義 如 上 1 I (V i )具 下 列 化 學 式 的 細 顆 粒 化 合 物 (氣化 物 ): 1 1 Y (〇 )k/2 1 1 其 中Y 及 k 定 義 如 上 1 I (V i i ) 具 下 列 化 學 式 的 細 顆 粒 化 合 物 (氳 氣 化 物): 1 1 Y (〇 Η ) k/2 - 1 1 其 中Y 及 k 定 義 如 上 ♦ 及 1 (V i i i) 結 合 兩 種 或 多 種 上 逑 (i )至( ν i )之 化 合 物的 組 1 1 合 物 〇 1 I 此 膜可 act 爭 獼 使 用 做 為 防 塵 膜 1 但 該 膜 亦可與己知的防 1 1 反 射 膜( 尤 指 由 氟 非 晶 形 -6 氟 樹 脂 構 成 之防反射膜) 形 1 1 ! I 1 1 本紙張尺度通用中國國家標率(CNS ) Λ4規格(210 X2y7公鏟) 271002 A7 B7 經濟部中央橾準局員工消費合作杜印¾.
五、發明説明 ( 5 ) I 成 層 合 防 塵 膜 之 形 式 使 用 〇 I I 上 述 之 膜 可 積 合 支 if 體 以 做 為 防 塵 構 件 0 I I 本 發 明 另 一 較 佳 具 體 例 傜 提 出 _- 種 製 備 高 透 光 性 防 塵 讀 I I 膜 的 方 法 其 中 包 括 將 化 合 物 (i )- (V i i )至少部份水解 先 閱 I I 讀 I | 成 溶 膠 液 體 ♦ 再 於 室 溫 至 5 0 o°c的溫度範圍内將該溶膠 背 I I 之 I 液 體 轉 換 成 凝 膠 膜 〇 意 I I 圖 1 為 本 發 明 之 防 塵 構 件 例 的 切 面 圖 〇 事 項 I I 再 I I 圖 2 為 本 發 明 之 高 透 光 性 防 塵 膜 所 舉 各 例 的 切 面 圖 填 寫 本 I 装 其 中 (A)為僅由凝膠膜構成的膜, ( B ) 為 包 含 凝 膠 膜 及 DO 単 頁 I I 一 防 反 射 層 之 膜 層 而 (C) 為 包 含 凝 膠 層 及 以 高 折 射 率 I I 層 和 低 折 射 率 層 構 成 之 複 合 防 反 射 層 的 膜 層 〇 I I 圖 3 為 例 1 之 凝 膠 膜 的 透 光 圖 0 I I 圖 4 為 例 1 之 凝 膠 膜 的 遠 紅 外 線 吸 收 圖 〇 玎 I 圖 5 為 例 3 之 凝 膠 膜 的 透 光 圖 0 I I 圖 1 及 圖 2 中 的 數 字 1 指 防 塵 膜 數 字 2 指 支 撐 體 I I 數 字 3 指 高 透 光 性 防 塵 膜 數 字 5 指 防 護 基 質 » 數 字 6 I I 指 凝 膠 膜 y 數 字 7 指 防 反 射 層 數 字 7 a 指 高 折 射 率 層 X I 而 數 字 7b指 低 折 射 率 層 0 I I 本 發 明 之 高 透 光 性 防 塵 膜 的 持 激 為 : 該 膜 偽 由 至 少 - I I 種 選 自 多 價 元 素 的 氣 化 物 、 氫 氯 化 物 、 含 有 愧 基 之 氣 化 I I 物 及 含 有 機 基 的 氫 氣 化 物 * 並 經 溶 膠 — 凝 膠 製 程 所 製 得 I I 者 〇 該 溶 膠 — 凝 膠 製 程 為 一 種 用 於 形 成 陶 瓷 等 之 形 成 方 I I 法 1 其 % 利 用 下 列 現 象 t 即 當 製 備 可 水 解 有 機 金 屬 化 合 I I 物 ( 例 如 金 羼 氣 化 物 ) 之 -7 水 i容 液 時 $ 使 於 溶 液 中 之 有 I I I I I 本紙悵尺度適用中國國家標芈(CNS ) A4現格(210X 297公釐) 2710271002 五、發明説明(ί> ) 機金腸化合物進行水解,a铋該水解以形成溶膠,該溶 於之 散質 分介 細體 撤液 狀藉 粒再 頼膠 體溶 隱使 以而 物’ 化中 0 ) 氫質 或介 物體 化液 氣 ί 的劑 成溶 形的 所液 0 溶 水為 可物 用化 選氱 可屬 亦金 中及 程鹽 製酸 膠硝 凝颶 〇 - 金 膠膠 , 凝溶物 成 ,合 換外化 轉物屬 以化金 熱氧機 加烷有 經屬他 或金其 發除的 Μ 解 物解解 化水水 氣之焰 氫物火 屬合經 金化物 或颶化 物金氱 化機屬 氣有金 屬解或 金水物 之可合 膠由化 溶可靥 該僅金 成不機 構傜有 0 ,由 物粒可 合顆亦 化鼷 , 始謬成 起之而 多 明 透 自 選 中 其 構 結 膠 凝 有 具 膜 蜃 防 之 明 發 本 0 於 成由 而 機故 有 , 含之 及化 物固 化並 氣集 之凝 基會 機粒 有頼 含體 、膠 物種 化一 氣少 氫至 、之 物物 化化 氣氣 屬氫 金之 價基 定長 穩或 常留 非殘 亦熱 射 , 照射 複照 3 ^ 線因 射會 長不 波性 短待 經械 且機 ,及 性性 光待 透學 高光放 具其置 膜而間 該,時 级 降 而 (請先鬩讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 有機 解有 水解 可水 在可 則不 ,的 膜例 膠比 凝意 成任 形含 以包 程可 製中 膠膜 凝膠 - 凝 膠物 溶合 用化 採靨 若金 機 全儲 完及 於性 優理 尤處 性其 靭因 及 , 性膜 撓塵 可防 其為 -做 膜於 膠利 凝且 的 , 基膜 機膠 有凝 含之 該機 。無 基為 極備 性製 一〇 存 過 超 不 度 溫 在 須 必 燥 乾 是 的 要 i ρΐη 最 膜 塵 防 之 明 。 發 佳本 金 機 有 解 水 可 用 採 全 完 使 ΕΠ 明 發 本 ο 之 一了 会° 道 f p 本紙張尺度過用中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X 297公釐) 271002 A7 B7五、發明説明(7 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 嘐種並機凝 體 ,的在於在 中 f 則 7 具層 可收因 尋 凝此 '有對 撐 ·12 粘 1 著 2UC)層 7 率 亦吸。 /IV 得。程的且 支 圖體者件附 圖 射層射 ,光解 所度製量, 在。考撐似構者 。^及反射折 性無分 ,軟膠少中 佈之參支類塵似 圖?fB)防反高 光上光 丨之凝,構 分述 C 在其防類 面 M2 的防之。透質起 鹽離 I 際結 瞑詳圖佈或此其 切 W 中 B 之上 7 高實引 酸剝膠之膠 塵示面塗 4 。或 份 122(上 6 層有且會 的止溶膜凝 防圖切 3 帶上塵 部膠圖圖 6 膜率具-不 基防以膠該 該附的膜膠I)灰 的溶而。膜膠射線nte 乙以藉凝於 由所例塵面 U 止 3 經 ,7 膠凝折射 U 射 <足在成含 及考件防雙^ 防 膜僅成層凝在低 照 院或斷形包 膜參構性用 U 可 塵為構射於合之及 Μ 光 矽度推而偽 塵將塵光利 , 防 3 所反成層上線一7C間 氧曲可燥質 防,防透則 t 驟 性膜 6 防形層7a射(¾時 乙撓但乾介 性件舉高面 步 光塵膜層的一於 gtos 四及’内散。光構所將側 ^之 透防膠一C)含合對 j 經 如度怪圍分用透塵明括一 件 高性凝合2(包層僅(#<使 例密奇範或作高防發包另丨元。示光的層圖,層不線即 ,高很度劑化之之本 1 ,5 體上顯透成 6 但構一 6 射 , 物有乎溫溶塑明成為件面質導質為高構膜 ,結另膜長此 合具似述之施發構 1 構例基半基 2 的膠膠層層而膠波因 fh亦法上質實本所圖塵一護造護圖A)凝凝單雙,凝短 。 屬糢說於物膠 上 防某防製防2(之於為有7a透性 (請先閱讀背而'之注意事項再填寫本頁) 本紙悵尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐) 271002 at B7 五、發明説明(8 ) 此不致破壊透光性及機械強度。此外,凝膠膜6亦具良 好的可撓性及高透光性。 _成高透光性防塵膜3之凝嘐膜6 ,其厚度較佳為0 . 2 至10徹米,而透過凝膠膜6的射線波長為24X1 (Γ9至500 X ( 1 (Γ9 米),其平均透光率至少8 5 5!。 此處所指的平均透光性傜指240X 1 Ο·9 米 及500X1 0-9 米間所發生透光干擾波的波底及波峰間的平均值。 凝膠膜6的厚度較佳少於前述的10徹米,但厚度若少 於0.2徹米時無法獲得足夠的強度。當然,若不考慮強 度問題亦可採用小於〇 . 2徹米的厚度β亦可選用大於1 0 徹米的厚度,但鑒於進行光照射時所産生之光行差,較 佳厚度不應超過1Q微米。換言之,當膜厚超過微米時 ,在使用短波長射線(例如激元雷射射線)光照射之際, 會因此種高透光性膜而産生光行差,則於半導體晶Η上 重製細圖案時,具有易生光阻擾之慮。 選擇凝膠膜6的厚度,因此於所採光照射波長下可得 高透光率。 如圖2(A)所示僅由凝膠膜所構成之高透光性防塵膜3 之情形,若滿足下列程式即可避免反射並犓得高透光率: 經濟部中央橾準局員工消費合作杜印^ ---------Λ—— (請先閱讀背面乏注意事項再填寫本頁) m λ 其中d t為凝謬膜6的厚度,n l為膜6的折射率,m為 整數,但至少為1 ,凡則為所採用的波畏。例如n L = 1 . 3 -1 0 - 本紙悵尺度適用中國阄家橾準(CNS ) A4規格(210/2们公缝) 271002 A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印袈 五、發明説明(9 ) 時,為了增加g射線(4 3 6 X I (Γ9米)的透光率,膜厚 dL可調至1.006微米,而欲增加雷射(248X 1 (Γ3米)的 透光率時,膜厚di可調至0.954微米。 為避免凝膠膜6在所希望厚度下減少透光率,或為避 免因改變波長而産生透光起伏波動,可如圖2(B)或2(C) 所示於凝膠膜6的上面層合一層防反射層7 。此狀況下 透光率即不受凝膠膜6的厚度改變或波長起伏變動及膜 厚不均的影遒。 圖2(B)所示防反射層7為單層結構。而當所選擇折射 率及膜厚符合(1 ) J η 1 = Π2及(2)d2 =ιπ又/4η2之要求 ,即可避免反射且可逹最高透光率,其中niS凝膠膜6 的折射率,η 2為防反射層7所用波長的折射率,d 2則 為防反射層7的厚度。防反射層7可僅層合於凝膠膜6 的某一表面。在此情形,於單一表面的該膜厚度定為d2 〇 凝膠膜6的折射率111通常約1.3至約1.6。故若層合 一層折射率n 2 = /F7為約1.14至約1.26的基質時即足夠 0 如圖2(C)所示,該防反射層7包括一層高折射率層 7a及一層低折射率層7b的情況,當所選擇折射率及膜厚 符合(1 ) /ΪΓΤ = Π2 /n3 , (2)d2 =πιΛ /4n2 及(3)d3 =«1又 /4[13時,即可完全避免反射並增加透光率,其中〇1為 凝膠膜6的祈射率,η 2為高折射率層7 a所採波長的折 射率,d 2為層7 a的厚度,η 3為低祈射率層7 b所採収波 -1 I - 本紙悵尺度邋用中國國家標隼(CNS ) Α4規格(210Χ 297公釐) ---------1----^---ΐτ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 271002 B7 五、發明説明U〇 ) (請先閱讀背面乏注意事項再填寫本頁) 長的祈射率,d 3則為層7 b的厚度。高折射率層7 a及低 折射率層7 b可僅層合於凝膠膜(5的某一表面。此時層7 a 及層7b於單一表面上的厚度各定為d2及d3 。 本發明中的凝膠膜6偽由至少一種選自上述化合物 (i )至(v i )的凝膠所構成。 通式(1)中的可水解單價基R1可為高至C4的烷氣基 (例如甲氣基,乙氣基,丙氧基及丁氧基)及(:3至(:17的 醯氧基,例如氣乙醯基及辛氣基。 較佳的通式(1)化合物為烷氣化物(例如四甲氣矽烷 [Si(0CH3 )4 1,四乙氧矽烷[Si(0C2Hs )4 1,異丙醇 鋁{A1[0CH(CH3 )2 13 },異丙醇鈦{Ti[0CH(CH3 )2 ]4 } 及丙醇結[Zr(0C3 H7 )4 ])及有機酸的金屬鹽類,例如 辛酸矽[Si(C7 H15C00)4 j 及辛酸鋁[A1(C7 H1SC00)3 ] 。若為硝酸鹽則可如硝酸鋁[A1(N03 )3 1,硝酸锆 [Zr(N03 )4 ]及硝酸鈦[Ti(N03 )4 ]。若為氣化物可如 氛化鋁(A 1 C 1 3 ),四氱化鈦(T i C 1 4 ),氛化誥(Z r C 1 4 ) 及四氛化矽(SiCl4 )。 經濟部中央標準局員工消費合作杜印取 細顆粒狀金屬氧化物或金屬氫氧化物可如於氫氣焰下 水解四氯化矽(S i C 1 4 )之蒸氣而得的二氣化矽(S i 0 2 ), 及於水溶液中水解異丙醇鋁U 1 [ 〇 c H ( C Η 3 ) 2 1 3 }而得 的氫氣化鋁,金屬氣化物或金屬氫氣化物的細顆粒大小 較佳少於〇 . 2徹米,尤少於0 . 0 5徹米》但可趣用的化合 物不受限於所舉例的化合物。 通式(2)中的可水解基R1為如前述所舉例者,Κ基 -1 2 - 本紙悵尺度適用中國國家橾準(CNS ) Λ4規格(210XW7公釐) 271002 at B7五、發明説明(11 ) 經濟部中央橾準局員工消費合作社印裝 會 例子。甲烷 機的例形凝 J高物沸 醇芳如 , 但基基,原之二矽 有度。會之 d 為合的 乙,例醇 解甲丙基鹵代,氣 將軔的則R)U 點混劑 ,}丨二 水如烯芳以取烷乙 可及目出1-~τί沸之溶 醇胺類乙 可例及的可基矽三 則度之看 sFm之劑種 丙醯烴如/ilv , III 不 — 基10基烷氣基。&強明 4ίiir水溶一 異甲族例 基 C 物,R 其 烯 烴 «乙丙烷tt發圖基 Μ 較種有 ,基肪丨 , 乙 e 類全三單矽tjg 本IR烷 Μ 用多少 醇甲脂類 基 g 如C6此或基,氣W 可到由矽 Η 使更至 丁二 ,酵 機 CW 及。基甲院乙卜 b 達,甲 Μ 為或時 三及 >11 有至1(1)基氣單矽三(2S 於院機is佳種物 第胺笨乙 11極 £ 的高tsal葉烷為氣基式員用矽有 Μ 尤二合 如醯甲 , 上如 及氣物乙稀通— 適之及]?而或混 例甲二丨 的 SS 得 ^ 子可 etof基全合三乙用 I? 別式基 ,劑的 < 如及烷 原基“以苯.化基及使1D特學醇 f 質溶劑 類例苯辛 屬 R -(«乙基的乙烷合,膜化矽 Μ 介一溶。醇ί甲及 金 。2 基,氣 }單矽混上謬述 ,im散單種點如類,烷 在上e烷基烷(2,氧或膜凝前基 U 分用兩沸可胺苯庚 結膜),環苯,式烷乙用膠該具烷 Η 或使少的劑醯如 , 鍵瞟基的甲Κ)通矽二採凝而用氣 W 劑可至水溶,例烷 接凝丁10,^«之氣基獨在 ,選矽-«I溶,用於之 己 c » _ 直在及-基 佳乙苯單含膜若有。謬的劑選高定醇類 , 為留基6苯 U 較二二若包膠,具膜溶膠溶若應持甲烴烷 則遣乙C6如(¾]基, 基凝如成膠 溶的。點 及族戊 (請先閲讀背面乏注意事項再填寫本頁) 本紙伕尺度適用中國國家標芈(CNS ) 格(210X 297公釐) A7 271002 B7 五、發明説明(12 ) 二乙二醇及三乙二醇),胺類(例如二乙醇胺及三乙醇 胺I ,乙二醇單醴類(例如乙二醇單甲醚及乙二醇單乙 _),酮類(例如乙酮及甲乙酮)及点一二酮類,例如 乙醛乙酮及苯醯乙酮。 溶劑用量未持別限定,但通常每莫耳構成凝膠膜6之 金驅加0.1至20莫耳。 製備溶膠時可加水,觸媒,抗絮凝劑及其類似者。此 外亦可配合週期表1八,2丸,3&,4丸,28,38,48,58或68族之 元素的氧化物,氟化物,氱化物或硝化物。 在添加水以製備溶膠之情形,水之較佳添加量為每莫 耳構成凝膠膜6之金屬之0.1至20莫耳。 至於觸媒可如鹽酸,硝酸,醋酸,四氯化矽,氫氟酸 ,四氯化鈦,氫氣化鈉及氨水。該觸媒之較佳添加量為 每莫耳構成凝膠膜3金屬之1X1 Ο-5至1莫耳。 抗絮凝劑則可選用鹽酸,硝酸,醋酸,氫氟酸,氨水 及聚乙烯醇。較佳添加量以溶膠重為準可加至多20重量% 〇 製備溶膠時,可採用將溶劑加至起始物質後,將該混 合物在室溫至溶劑的回流溫度下予以«拌之方法;另一 方法則將溶劑加至起始物質後,將該混合物在室溫至溶 劑的回流溫度下予以攪拌,之後再加溶劑。 若加有水,觸媒,抗絮凝劑或其類似之添加剤時,添 加方法不限定,但最好預先將該添加劑添加至該溶劑内 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4规格(210X 297公釐) .^n n^i n^i UK 1-- 1 In ^^^1 ^n. I I 士1^1 .^ϋ —J—· i ^^^1 I ir (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 2710Q2五、發明説明U3 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 換膜, 平膜質種 例瓷’力質法在機 於中?或置 ) 容 轉膠度 且成基此 ί 陶纟克基方抹有 至水;!中装 璃 以 膜凝粘 淨轉的用 質.,^亞瓷類塗和 。在 水滌 該成的 乾旋面利 基1)^ 及陶其及丨 膜放.2於洗 將形膠 在用表則 晶 HfT;酯、或以泊 層浸質入波 再此溶 塗利滑, 單Ksu 酸質法.,鋁 單質基浸音 ,藉之 膠再平起 機 usi碳基敷質如 得基刻用超 膜,膜 溶質且抽 無Jiffls»聚颶塗基例 而將蝕利用 成劑膠 將基淨質 採(«",金轉之ί 此如液。選 破 形溶凝1)該乾基 可質 烯 、旋得膜 因用溶質可 嘐發成·(轉具將 ,基石乙質 、所屬 -採刻基, 溶蒸形 種旋將再 質屬吧苯基法膜金 膜可蝕解形 的並欲 兩 ’ } ’ 基金員聚晶方機之。膠,以分情 得置整。有上(2中 的;以,單 D 有面}凝法 I 理之 。製靜調施法?),膠 用片Μ烯機CV或上膜的方 1 處膜 之法膠等實方"膜溶。所晶 丙無用膜者素成的Μ 熱層 拌方溶器於的 Μ 層在膜中石聚之利瓷似維形膜"Μ 單 Is述使發易膜 單浸成法簀 t 如述,陶類纖所膠,«或得 分上如蒸作成J»成K)形方藍 I 例上上 '其基離凝中 ,製 充以例用操形(^形 f 以述及 αί 於質膜或硝剝離劑質以 璃 再,,利膜膠質以®s法上片 U 質.,基屬髏如質剝溶基劑 後後膠好成溶基 ,U 方於晶(^基丨機金支例基霣機解溶 隨之凝最使由的法 j放至矽質機脂有成屬 ί由基有溶機 , 成。以 滑方(^浸 如基有樹及形金膜 由或等有 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙悵尺度適用中國國家標芈(CNS ) Α4規格(210Χ 297公1 ) ^72002 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 (14 ) I 1 使 之 振 動 以 脱 膜 » 或 μ 水 或 有 機 溶 劑 之 溫 度 維 持 在 室 溫 1 1 至 约 5 0 °c 而 使 其 更 容 % 剝 離 〇 1 1 根 據 另 一 種 由 溶 膠 形 成 膜 的 方 法 1 使 溶 膠 在 比 溶 膠 具 請 1 先 1 較 大 比 重 及 表 面 張 力 的 液 體 表 面 展 開 以 得 該 膜 〇 所 用 液 聞 it 1 體 可 如 四 溴 乙 烯 (C Η Β r : C Η Β Γ 2 ) 〇 形 成 的 膜 再 由 液 體 表 背 面 1 | 之 1 面 取 出 以 得 αα 军 層 膜 〇 意 1 I 基 質 上 的 凝 膠 膜 或 所 形 成 αα 単 層 膜 再 於 可 高 至 5 0 0 °c溫 事 項 1 I 再 | 度 下 乾 燥 之 9 較 佳 溫 度 為 10 °c 至 5 0 0°C , 最佳為室溫(2 5 填 寫 本 1 装 °c )至2 5 0 °c ♦ 且 需 低 於 製 備 溶 m 所 用 溶 劑 的 沸 點 1 如 此 頁 1 I 即 可 得 高 透 光 性 防 塵 膜 〇 該 塗 層 之 乾 燥 時 間 偽 依 乾 燥 溫 1 1 度 等 條 件 而 不 同 1 但 通 常 傜 1 至 12 0 分 鐘 範 圍 内 〇 於 上 I 述 溫 度 進 行 乾 燥 之 情 形 當 選 用 多 價 金 屬 之 有 機 化 合 物 1 訂 為 起 始 物 質 時 t 則 在 製 備 溶 謬 之 際 所 形 成 的 有 機 物 質 不 1 會 c±r» 兀 全 轉 換 成 無 機 物 質 〇 若 於 上 述 溫 度 進 行 乾 燥 時 1 則 1 1 在 製 備 溶 膠 之 際 所 形 成 的 溶 劑 及 / 或 有 慨 物 質 無 法 由 凝 1 1 膠 中 兀 全 去 除 而 遣 留 其 中 〇 1 1 依 需 要 可 在 所 得 凝 膠 膜 6 上 層 合 一 層 防 反 射 膜 7 而 1 1 高 透 光 性 防 塵 膜 3 偽 塗 佈 在 以 金 屬 陶 瓷 材 料 或 塑 膠 材 I 1 料 構 成 的 支 撐 架 2 上 面 以 兀 成 防 塵 構 件 1 〇 1 | 做 為 防 反 射 層 7 的 材 料 可 採 含 氟 聚 合 物 , 較 佳 為 非 晶 1 1 形 含 氟 聚 合 物 最 佳 為 全 氟 非 晶 形 樹 脂 0 至 於 全 氟 非 晶 1 1 形 樹 脂 可 m 用 由 至 少 一 種 選 白 下 列 式 [ 1 至 [VI 結 構 式 1 1 之 重 複 αα 军 位 所 構 成 的 均 聚 合 物 及 共 聚 物 1 如 曰 本 未 審 査 1 1 1 專 利 公 報 號 碼 0 1 -1 3 1 2 1 4, 0 1 - 1 3 12 1 Γ〕 及 歐 洲 專 利 3 0 3 2 9 8 A 2 1 1 | -1 ()- 1 1 本紙张尺度適州中國國家標準(CNS ) Λ4規格(210X297公釐) 271002 A7 B7五、發明説明(I5 ) o A 2 9 者 示 掲 所 中 F c 2
F F f^wncic C -/F CIO 2 F c 2
• 2 F F 2 CICV 2 F\ /F c c \F \ CIO
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F C 2 2 批衣 I 訂 (請先閲讀背v&之注意事項再填寫本頁) CF—O、 F cr 0
7/ V C c F c 2
VI 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 碼 號 報 公 利 專 重本 3 ] 日 式 構 結 及 以 位 單 複 佳 較 為 式1;脂 掲 列(S樹 下物形 由聚晶 將共非 之氟 於 示 掲 so5 物 2 持 F 2今聚 c F 的 t、 0 C ί^Ν _ 2脂希 , F 枝 FA子OC形 S C冑}aff氟 原 晶 Ϊ - 3 四 ? 氟 F 非 / F2表(C氟¾ e代CF全噁 A 3 為二 F 冊 中 C 做 3 ο , 其 - 1
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V 4 6 9 8 成全 構為 所做 1用 使 氟 全 如 可 例 定 位 後 9 由 本紙张尺度適用中國國家橾隼(CNS ) A4规格(210X 297公釐) 基 甲 的 成 搆 所 ^/i〇〇2 五、發明説明(it> ) 聚位 均單 的複 成重 溝由 所’ III物 t 合 位聚 單均 複的 重成 由構 '^ 物1 合 聚位 均單 合
IV 複的 重成 由構 ,所 物
V 物位 合單 聚複 .ΧΤΡ thm 一 女 3 的由 成’ 構物 所聚 丨共 的 位成 單構 複所 S 由[I , 及 物j Ti 合 丨 聚位 均單 ®[ΙΠ 重及 由1 物 聚重 共由 的 , 成物 構聚 所共 j的 成 及構 丨所 I .—- i ^ /Λ- ΓΙ 單 及 複— ΤΛ ihnll I ΐρππ η 由 , ί 物t 聚位 共單 的複 成重 構由 所 ,
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IV Τ1 H 位 單 位複 DQL && 複由 i , 由7 ’子 物原 聚氟 共為 的 成 構 所 j物 聚 及共 A 中 其 物t 聚位 共單 的複 成重 構由 所 , 為 A 中 其 及 及 VI 及 3V1 的 f 成及 構1 所
IV
2 F
F (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 物 聚 共 的 成 構 所 自共 為生物 A 衍生 中與衍 其物之 /rv \—/ 聚 2 共或 和I 物 合 聚 均 述 VI前 為 η 中 其 物位 聚單 共複 SS 成含 而包 δ 達 擾 阻 不 他 其 與 可 物 聚 共 VI 至 非 2 氟 F 全=c 為CF 做 η 以 } 2 , F 合{c 聚F0 C 共 -- 行 2 F 進 C 體 由 單 可 合 脂 聚 樹 共 形 可 晶 之 非 的。氣 目脂金 明樹類 發形此 本晶 經濟部中央標隼局員工消費合作社印裝 或 為 η 中 其 氣r 全如 , 義 >定 ?1 6 A 如 1 中 品AF 其 産⑨ /V Π A 售 C F- II C 市 f J e 7 ο Β τ ,:?成 的 而 合 聚 基 由 3 , 自 - 經 基者 甲似 二類 2-其 2,及 茂 噁 二 司氟 公^ 邦為 杜做 , 用 '©使 OP可 T Y , C ο 的40 2 司 F 、'A s's' 本紙張尺度適/Π中國國家標隼(CNS ) Λ4規格(2丨0'Χ297公釐) 五、發明説明(17 A7 B7 防 的 成 構 物 合 聚 氟 含 形 晶 非 之 述 前 由 層 一 〇 合 脂層 樹為 形佳 晶較 非 為 常 通 度 厚 的 0 層米 射徹 反00 防2 。至 r 2 率 ο 光Q 膠 透為溶 進佳由 增較用 可-採 其米因 為微 , 因 CD 明 , 5 發 層至本 射 CT3 依 反 ο 防 為0 凝 的 成 形 程 M 膠 凝 光長 透波 高短 的經 性 , 光線 透射 高 i 及及 性線 撓射 可 g 好用 良利 具膜 得該 可使 故01 ,而 料 -材膜 之塵 膜防 塵性 線 射 射 雷 元 激估 如卜’ { 夕 〇 線此膜 射 塵 發 本 可 防 〇 之 解性 分光 光透 生高 産得 會製 不單 亦簡 射内 照間 期時 長短 丨在 高 1 之件 質構 性膜 佳塵 極防 述此 上 , 具是 含別 包待 得 〇 製件 可構 明膜 發塵 本防 依的 ,膜 之塵 ^s防 而性 甚光 透 膜 5 塵質 防基 性護 光防 透在 高附 的粘 上 4 2 帶 架膠 撐面 支雙 在以 佈再 塗 1 括件 包構 塵 防 該 且 罩 護 防 如 例 膠 , 凝解 因分 。光 著生 附産 之會 塵。 Htfe^ 射效 ί 照射 質線照 物射光 來長加 外波增 時短可 射經故 照時 , 光射高 免照率 避光光 以於透 i ,6因1 上膜且t (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) •装· 、11 經濟部中央標準扃員工消費合作社印裝
不 例 各 舉 所 但 之 明 說 1^ 詳 例 施 實 各 〇 列圍 下範 以之 將明 明發 發本 本制 限M 下 溫 室 於 丨烷 2 {矽 烷氧 矽乙 基四 甲的 二耳ο· 氧Μ, 乙5水 二。的 的1,耳 耳 2Μ Μ ) 及 醇 丙 異 的 耳Μ 本紙張尺度適用十國國家梯準(CNS ) Α4规格(21»Χ 297公釐) 271002 A7 B7五、發明説明(is ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 溫 室 在 物 合 混 得 所 時 小 2 合0 起1 酸 鹽 的 耳 莫 膠 溶 成 形 以 天 5 置 靜 下 Μ» 法 敷 塗 轉 旋 轉璃 00玻 5 該 以在 丨成 形 和 板 璃 玻 法由 膜在 成佈 式塗 轉 , 旋秒 用60 採轉 係度 膠速 溶的 得鐘 所分 徹 而在 因持 ,維 上入 質放 基再 的質 成基 構的 所膜 膜膠 素凝 雒覆 纖 0 基膜 硝膠 之凝 厚成 米形 上 板 之璃 上玻 板於 膜 素 雒 纖 基 硝 將 而 〇 之 燥 乾 以 鐘 分 ο 3 烘 内 箱 烘 的 °c 由 膜 素 維 纖 基 硝 將 再 後 下 剝 上 板 璃 玻 由 起1 膜 膠 凝 及 凝 的 〇 米 膜毫 層80 單為 的徑 成直 構而 所米 膜徹 膠23 凝3 由厚 得# 可可 則 , » 中 離法 剝方 上述 膜上 膠於 凝 之米在 痕-9括 餓 1 包 何X對 任00膜 無 2P 間¥凝 中米得 而 所 米0-9出 毫1看 ◦X 6 ο 一口 為 5 , 徑於示 直得所 具測 3 在 。圖 佈上如 塗架率 係狀光 其盤透 . 的 的 膜位間 膠空之 乾 一了 /i 進 下 度 溫 的 度 溫 。解 性分 光基 透甲 高於 具低 均在 線藉 射 , 的中 長法 波製 圍述 範上 廣 間良 空有 度具 三其 0)此 1-由 S/|\ , 氣鍵I之 砂 } 具 3 除CH 其.1· S 1 /V 膠 凝 種 一 矽 成含 形尚 可 -即外 ,鍵 燥之 基 甲 I 由 之係 膜要 該主 量膠 測凝 則該 , 實 構證 結可 之圖 膠由 凝 0 得圖 所佈 試分 測之 為 4 。圖 性得 撓 , 可譜 的 射 好透 及 於凝 易該 膜 0 得膜 所層 , 單 此為 因做 。以45 之膜至 成膠-9 構凝10 所的 X 鍵積50 Η 3 ο 面 1-大 3當米 相徹 得86 製.1 3 可 且 理膜 處膠 厚 對
X 之 畏 波 米 (請先鬩讀背面·之注意事項再填寫本頁)
. 厚 93在 為可 率射 光反 透線 均射 平免 的避 線為 4J 得 製0 溶 述 上 由 而 米 微 本紙張Κ度適用中國阐家標準(CNS ) Λ4規格(210Χ 297公釐) A7 271002 B7 五、發明説明(19 ) 之凝膠糢的每一面旋轉塗覆〇 . Q 7 3撤米厚的非晶形樹脂 U s a h i (ί I a s s 公司的 C Y T 0 P ® )膜,則對 3 5 0 X 〖0·9 至 .1 5 0 X 1 (T3米波長之射線的透光率可由93. 6¾增至95. 5%。 對照例1 將由四乙氧矽烷,水,異丙醇及鹽酸製得的溶嘐旋轉 噴塗在不同的基質上,以形成邊長至少30毫米的正方形 膜,而後再以8 0 0 °C熱處理使該膜轉變成無機二氣化矽 玻璃膜。但形成的膜極難由基質上剝下,且該膜有破裂 及起皺的現象。亦即無法製得厚為1至1Q徹米,而邊長 至少30毫米的正方形平滑單層膜。 ®L2_ 於室溫下將1.0莫耳的四乙氣矽烷(l)[Si(0C2 H5, )4 ] ,1.0莫耳的水,4 .7莫耳的異丙醇及Q.05莫耳的硝酸混 合2小時,並於室溫下(2 5 °C )在約1 0 0小時以上的時間 内蒸發掉大部份的溶劑,且進行濃縮以成粘度為5厘泊 的溶膠。之後再將0.2莫耳的Ν,Ν -二甲基甲醯胺(之後 稱為D M F ”)加至該濃縮溶膠中,且於室溫下混合2小時 〇 所得濃縮的溶膠偽藉旋轉式成膜法以1 Q Q Q轉/分鐘的 速度轉6Q秒而塗敷在聚苯乙烯基質上,以形成凝膠膜, 所得凝膠膜再於溫度維持在1 Q 〇 °C的烘箱中乾燥3 0分鐘 ,乾燥溫度需低於D M F的沸點(1 5 3 °C )。將所得膜由基 質剝離以成單層膜。此單膜厚2 . 3撤米。而於2 4 8 X 1 (Γ9 米的透光率為803!。 本紙張尺度適用中國國家標孳(CNS ) Λ4规格(2IOX2W公釐) (請先閱讀背面乏注意事項再填寫本頁) •装 -* 經濟部中央標準局員工消費合作社印^ A7 271002 B7 五、發明説明(2〇 ) 例3 (請先閱讀背面•之注意事項再填寫本頁) 於室溫(2 5 °C )下將1 . 0莫耳的四乙氧矽烷 [3〖(()(:2115)4丨,1.〇莫耳的水,4.7莫耳的異丙醇及 0 . 0 5莫耳的硝酸混合2小時,並於室溫下在約1 Q 0小時 以上的時間内蒸發掉大部份的溶劑,且進行濃縮以成粘 度為5厘泊的溶膠。 所得濃縮的溶膠傜藉旋轉式成膜法以1 Q Q Q轉/分鐘的 速度轉60秒而塗敷在聚苯乙烯基質上,以形成凝膠膜, 所得凝膠膜再於溫度維持在1〇〇 °C的烘箱中乾燥3Q分鐘 。將所得膜由基質剝離並做為單層膜。該膜厚2.1微米 。並測定對5 G 0 X 1 Q·9至2 0 0 X 1 (Γ9米之射線的透光率, 結果如圖5所示,該膜對相當廣範圍之波長均具高透光 性。 例4 於室溫下,將0.6莫耳的二乙氣二甲基矽烷 [(CH3 )2 Si(0C2 H5 )2 ], 0.4莫耳的四乙氣矽烷 [Si(0C2H5)4 , 2.0莫耳的水,0.9莫耳的異丙醇及 0 . I】0 7莫耳的鹽酸一起混合2小時,所得混合物在室溫 (2 5 °C )下靜置1 0天以形成溶膠。 經濟部中央標隼局員工消費合作社印^ 所得溶膠傜採用旋轉式成膜法(旋轉塗敷法)以3 0 Q 0鞞 /分鐘的速度轉30秒,塗佈在由直徑為8英时的玻璃板 及形成在其上之0.1徹米之CYTOP®薄膜所構成之基質 上,因而於玻璃板上形成凝膠膜。*凝_膜有的基質置 放入溫度維持在1 4 IKC的烘箱内歷1 ϋ分鐘以乾燥之。而 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 乂 297公釐) 271002 A7 B7 五、發明説明(21 ) 將C Y T 0 P⑧薄膜及凝膠膜一起由玻璃板上剝下,則得由 凝膠膜及CYTOP® (作為反射層膜)所構成之雙層膜。 (請先閱讀背面:之注意事項再填寫本頁) 於上述方法中,可得一雙層膜(即具厚2. 9徹米之凝 膠膜及具0.1徹米厚之CYTOP®膜、98X 120毫米),其 偽塗佈在具中間無任何皺痕之9 5 X 1 1 7毫米空位的圖6 所示之鋁框上。 測得於5 0 0 X 1 Q ·9米至2 0 0 X 1 0 米之間的透光率如圖 7所示,其顯示所得凝膠膜對包括相當廣範圍波長射線 之透光性。 上述製法中,藉在低於甲基分解溫度的溫度下進行乾 燥,即可製得一種凝膠,其除了具矽-氣(Si-Ο)三度空間 之鍵外,尚含矽-甲基(Si-CH3 )之鍵,所以具有良好的 可撓性。為測試所得凝膠之結構,可以固態^Si ΝΜϋ及 a C N M R光譜分析,則得表1所示之結果。 由此結果可證實凝膠主要傜由Si-0, Si-CH3及Si-OH 鍵所構成。因此,所得膜易於處理且可製得相當大面積 的凝膠膜以做為雙層膜。 經濟部中央標準局員工消費合作.社印製 本紙張尺度遴用中國國家標準(CNS ) Λ4规格(2丨0X297公釐) 2M0Q2
A 7 B7 五、發明説明(22 ) 表1 (在凝謬楔中s i - (〕, S卜C Η 3及,S i - Ο Η 基之含量:以Ν Μ ϋ光譜測得) 組成份(基團) 莫耳% CHa
I _0_Si_0_
I CHa
OH
I -0 - S i ~ 0 ~
I 0 i 0
I -0 - S i ~ 0 ~ 1-4.7
I 0
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I -0 -S i ~ 0 - 4.7 ---------ΐ衣------IT (請先闊讀背面乏注意事項再填寫本頁)
經濟部中央標準局員工消費合作杜印V -24- 本紙張尺度通用中國國家標準(CNS )八4規格(21〇X 297公釐) 年月 修正補尤 本· 申請曰期 案 號 Λ.γΆ 類 別 以上各攔由本局填註) A4 C4 271002 雲蜃專利説明書 中 文 發明 新型 名稱 英 文 名 姓 國 籍 由溶嘐凝嘐方法形成之透明凝賴所構成之高透光性 防塵護膜,其製法及防塵構件
Highly 1ight-trans*itting dust protective pellicle film composed of a transparent:明1 by sol-s?el process· process for preparation thereof and dust, protective member ίφ Φ /IV 美 也由夫 哲真隆 崎崎野 宮ΠΙ大 .—-2 3 1-3皆屬日本 裝 發明 創作 人 住、居所 1. 千葉縣袖少浦市長浦字拓2號580番32 三井石油化學工業株式會社内 2. 同上所 3. 同上所 訂 姓 名 (名稱) 三井石油化學工業株式會社 三并石油化學工業股份有限公司 線 纯濟部中央標隼局N工消费合作社印贤 國 籍 住、居所 (事務所) 代表人 姓 名 曰本 東京都千代田區霞狀關三丁目2番5號 竹林省吾 本紙张尺度適用中國國家標隼(CNS ) Α4規格(210X2W公釐)

Claims (1)

  1. 271002 M. - 1「、申請專利範圍 A8 B8 C§~ D8 第80108634號「由溶膠凝膠方法形成之透明凝膠所構成 之高透光性防匾護膜,其製法及防塵構件」專利案 (84年12月1日修正) Λ、申請專 1 .-種 取代 氣化 其中 或鹵 至矽 護膜 具下 利範園: 高透光性防塵護膜,其僳實質上由含烷基或鹵素 烷基之矽《化物和含烷基或鹵素取代烷基之矽氫 物之基園所形成者,且藉溶騵-凝繆法所製得者; 該含烷基或鹵素取代烷基之矽氣化物、或含烷基 素取代烷基之矽氫氣化物具有一至三痼直接連接 原子之Ci - +烷基或被取代Ci - *烷基;且該 傜由下列方法所製得,該方法包括至少部份水解 列化學式U)之化合物以形成溶膠液醱, (i ) R S i-(R 1 ) 4 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 其中 η為 將所 溫度 膜自 存在 缌數 對波 之平 2 .-種 R SCi - 4烷基或被鹵素取代Ci - +烷基* 1至3的數目,烷氣基; 得溶膠液體塗佈於基質上,並於室溫至500 υ之 下乾燥該塗層歴1至120分鐘,再將所形成之薄 基質予以剝離;其中於作為護膜成分之凝謬中, 於凝膠中之矽-(被取代)烷基之數目對矽價鍵 之比例為2Θ至45%,該膜厚度為0.2至10wnt,且 長為240至500X10- 3米之光射線具有至少85% 均透光率。 高透光性防應護膜*其包含如申請專利範匾第1 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) ABCD 271002 六、申請專利範圍 項防塵護膜所述之凝膠膜並層合防反射層膜而得。 —HI— nn fm ^^^^1 IV nn si^n ^^^^1 ^^^^1 ^^^^1 I y 牙 、vd (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 3. 如申請專利範圍第2項的防塵護膜,其中的防反射層 膜保由全戴非晶形樹脂所構成。 4. 一種製備高透光性防應護膜的方法,其傜實質上由含 烷基或鹵索取代烷基之矽氣化物及含烷基或鹵素取代 烷基之矽氫氣化物所形成者,該方法包括:藉將具下列 化學式(i)之化合物於一液體介質中、並在1X10— 5 至1莫耳(對毎莫耳該Si化合物而言)之觸媒予以至 少部份水解而形成溶膠液體, (i ) Rn -S i - (R 1 )4 - n 式中R為(:1 - 4烷基或被鹵素取代Ci - 4烷基, n為1至3的數目,R1為Ci - +烷氯基; 其中該液體介質僳由有機溶劑(其用量為每荑耳該Si 化合物的0.1至20莫耳)和水(其用量為每莫耳該Si 化合物之0. 1至20莫耳)所構成者, 經濟部中央標準局員工消費合作社印聚 將所得溶瞟液髓塗佈於基質上,並於室溫至500 C之 溫度、且低於溶膠液體中之液醴介質之沸點下乾燥該 塗層歴1至120分鐘,再將所形成之薄膜自基質予以 剝離,該膜厚度為0.2至10« η,且對波長為240至 5 00 X 1 0- 3米之光射線具有至少85%之平均透光率。 5. —種防塵構件,其包含如申讅專利範圃第1項所述之 高透光性防鑒護膜及支撐構件。 6. —種防塵構件,其包含如申誚專利範圍第2項所述之 高透光性防廛護膜及支撐構件。 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8721919B2 (en) 2012-06-13 2014-05-13 Industrial Technology Research Institute Organic-inorganic metal oxide hybrid resin, a method for forming the same, and transparent resin composition formed therefrom

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2915744B2 (ja) * 1993-04-13 1999-07-05 信越化学工業株式会社 ペリクル
WO1995017347A1 (en) * 1993-12-23 1995-06-29 Ppg Industries, Inc. Silica aerogel produced under subcritical conditions
US5776581A (en) 1995-12-21 1998-07-07 Sifel; Lawrence J. Organic shell blank and method for making same
WO1997038041A1 (en) * 1996-04-04 1997-10-16 Nanophase Technologies Corporation Siloxane star-graft polymers, ceramic powders coated therewith and method of preparing coated ceramic powders
GB9702171D0 (en) 1997-01-30 1997-03-26 Martinswerk Gmbh Aluminium hydroxide composite glass microspheres
CA2251638A1 (en) * 1997-02-13 1998-08-20 Mitsui Chemicals, Incorporated Pellicle membrane for ultraviolet rays and pellicle
US5993967A (en) * 1997-03-28 1999-11-30 Nanophase Technologies Corporation Siloxane star-graft polymers, ceramic powders coated therewith and method of preparing coated ceramic powders
JP2000012428A (ja) * 1998-06-19 2000-01-14 Canon Inc X線マスク構造体、該x線マスク構造体を用いたx線露光方法、前記x線マスク構造体を用いたx線露光装置、前記x線マスク構造体を用いた半導体デバイスの製造方法、および該製造方法によって製造された半導体デバイス
DE19840525A1 (de) * 1998-09-06 2000-03-09 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Verfahren zur Herstellung optischer Schichten von gleichmäßiger Schichtdicke
KR100804873B1 (ko) 1999-06-10 2008-02-20 얼라이드시그날 인코퍼레이티드 포토리소그래피용 sog 반사방지 코팅
US6824879B2 (en) 1999-06-10 2004-11-30 Honeywell International Inc. Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography
DE19943789A1 (de) * 1999-09-13 2001-03-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Abscheidung von Zirkonoxid-Schichten unter Verwendung von löslichen Pulvern
JP2001100393A (ja) * 1999-09-28 2001-04-13 Toshiba Corp フォトマスク
US6538364B1 (en) * 1999-09-29 2003-03-25 Osram Sylvania Inc. Light diffusing coating for exterior bulb surfaces
US7000078B1 (en) * 1999-10-01 2006-02-14 Stmicroelectronics Ltd. System and method for maintaining cache coherency in a shared memory system
US6413647B1 (en) * 2000-02-28 2002-07-02 Jsr Corporation Composition for film formation, method of film formation, and silica-based film
KR20010086934A (ko) * 2000-03-04 2001-09-15 양용진 박판 자개시트칩을 이용한 후판 자개시트의 제조방법과,이 제조방법에 의해 제조된 후판 자개시트 및 이 후판자개시트를 컷팅하여 얻은 장식문양을 적용한 현악기
US6627356B2 (en) * 2000-03-24 2003-09-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Photomask used in manufacturing of semiconductor device, photomask blank, and method of applying light exposure to semiconductor wafer by using said photomask
CN1198316C (zh) * 2000-12-27 2005-04-20 三井化学株式会社 薄膜
US6524754B2 (en) 2001-01-22 2003-02-25 Photronics, Inc. Fused silica pellicle
US7351503B2 (en) * 2001-01-22 2008-04-01 Photronics, Inc. Fused silica pellicle in intimate contact with the surface of a photomask
JP2002372763A (ja) * 2001-04-10 2002-12-26 Mitsubishi Electric Corp 赤外線カメラ用光学窓およびそれを用いた赤外線カメラ並びに赤外線カメラ用光学窓の製造方法
US6594073B2 (en) 2001-05-30 2003-07-15 Micro Lithography, Inc. Antistatic optical pellicle
US6566021B2 (en) * 2001-07-26 2003-05-20 Micro Lithography, Inc. Fluoropolymer-coated photomasks for photolithography
EP1472574A4 (en) 2001-11-15 2005-06-08 Honeywell Int Inc ANTI-REFLECTIVE COATINGS DESIGNED TO BE INSTALLED BY ROTATION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
US8053159B2 (en) 2003-11-18 2011-11-08 Honeywell International Inc. Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof
EP1432285B1 (de) * 2003-12-30 2016-06-08 Sonova AG Hydrophobe Beschichtung einzelner Komponenten von Hörgeräten
KR20080023338A (ko) * 2005-07-18 2008-03-13 칼 짜이스 에스엠테 아게 마이크로리소그래피 노출 장치용 펠리클
SG135142A1 (en) * 2006-02-22 2007-09-28 Air Prod & Chem Top coat for lithography processes
US20070196773A1 (en) * 2006-02-22 2007-08-23 Weigel Scott J Top coat for lithography processes
US7723704B2 (en) * 2006-11-10 2010-05-25 Globalfoundries Inc. EUV pellicle with increased EUV light transmittance
US8642246B2 (en) 2007-02-26 2014-02-04 Honeywell International Inc. Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof
WO2008104825A1 (en) * 2007-02-28 2008-09-04 Corning Incorporated Strengthening glass using coatings
US8445774B2 (en) * 2007-07-26 2013-05-21 Guardian Industries Corp. Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same
US8450594B2 (en) 2007-07-26 2013-05-28 Guardian Industries Corp. Method of making an antireflective silica coating, resulting product and photovoltaic device comprising same
US7988778B2 (en) * 2008-12-16 2011-08-02 Cheng Uei Precision Industry Co., Ltd. Method of making composite coating and product formed with the composite coating
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
US8617641B2 (en) 2009-11-12 2013-12-31 Guardian Industries Corp. Coated article comprising colloidal silica inclusive anti-reflective coating, and method of making the same
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
US9139737B1 (en) 2011-11-21 2015-09-22 Nanophase Technologies Corporation Multifunctional coated powders and high solids dispersions
WO2016167892A1 (en) 2015-04-13 2016-10-20 Honeywell International Inc. Polysiloxane formulations and coatings for optoelectronic applications
JP6729233B2 (ja) * 2016-09-20 2020-07-22 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠及びペリクル並びにその製造方法
US10555892B1 (en) 2017-03-09 2020-02-11 Nanophase Technologies Corporation Functionalized siloxane or polysiloxane coated particles with enhanced light filtering properties
US10590278B2 (en) 2017-04-10 2020-03-17 Nanophase Technologies Corporation Coated powders having high photostability
RU2713004C1 (ru) * 2018-11-27 2020-02-03 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлоорганической химии им. Г.А. Разуваева Российской академии наук Способ получения покрытий из диоксида кремния на силикатном стекле при пониженной температуре отверждения 60-90C, обладающих повышенной твёрдостью

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2347733A (en) * 1941-06-06 1944-05-02 Bell Telephone Labor Inc Switching device
US3847583A (en) * 1969-08-13 1974-11-12 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Process for the manufacture of multi-component substances
JPS521926B2 (zh) * 1974-03-25 1977-01-19
US4028085A (en) * 1976-02-03 1977-06-07 Owens-Illinois, Inc. Method for manufacturing silicate glasses from alkoxides
US4170690A (en) * 1977-03-18 1979-10-09 Rohm And Haas Company Process of coating weatherable, abrasion resistant coating and coated articles
US4186026A (en) * 1978-10-30 1980-01-29 American Optical Corporation Abrasion-resistant coating composition
US4282314A (en) * 1979-09-26 1981-08-04 Western Electric Co., Inc. Mask for selectively transmitting therethrough a desired light radiant energy
JPS5777044A (en) * 1980-10-30 1982-05-14 Central Glass Co Ltd Manufacture of glass from metallic alcoholate
EP0166363B1 (en) * 1984-06-26 1991-08-07 Asahi Glass Company Ltd. Low reflectance transparent material having antisoiling properties
GB2165534B (en) * 1984-10-05 1988-10-19 Suwa Seikosha Kk Method of preparing parent material for optical fibres
US4614673A (en) * 1985-06-21 1986-09-30 The Boeing Company Method for forming a ceramic coating
US4808315A (en) * 1986-04-28 1989-02-28 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Porous hollow fiber membrane and a method for the removal of a virus by using the same
US4910276A (en) * 1987-08-14 1990-03-20 Asahi Glass Company, Ltd. Cyclic polymerization
JP2535971B2 (ja) * 1987-11-05 1996-09-18 三井石油化学工業株式会社 ペリクル
US4929278A (en) * 1988-01-26 1990-05-29 United States Department Of Energy Sol-gel antireflective coating on plastics
US4966812A (en) * 1988-01-26 1990-10-30 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Sol-gel antireflective coating on plastics
US5061024C1 (en) * 1989-09-06 2002-02-26 Dupont Photomasks Inc Amorphous fluoropolymer pellicle films
US5204381A (en) * 1990-02-13 1993-04-20 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Hybrid sol-gel optical materials

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8721919B2 (en) 2012-06-13 2014-05-13 Industrial Technology Research Institute Organic-inorganic metal oxide hybrid resin, a method for forming the same, and transparent resin composition formed therefrom

Also Published As

Publication number Publication date
DE69130280D1 (de) 1998-11-05
CA2053518A1 (en) 1992-04-17
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US5674624A (en) 1997-10-07
DE69130280T2 (de) 1999-04-08
EP0482821B1 (en) 1998-09-30
EP0482821A1 (en) 1992-04-29
KR950002949B1 (ko) 1995-03-28
ES2124697T3 (es) 1999-02-16
ATE171791T1 (de) 1998-10-15
US5667726A (en) 1997-09-16

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JP2005336421A5 (zh)
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