TW202222964A - 四氟乙烯系聚合物之組合物、積層體及膜 - Google Patents

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Abstract

本發明提供電特性之降低得到抑制且四氟乙烯系聚合物之紫外線波長區域之吸收率得到改良之組合物、及積層體或膜。 本發明係包含氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物之粒子、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑的組合物。本發明係具有至少1層包含具有含羰基之基且氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物、及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑，且1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上之層之積層體或膜。

Description

四氟乙烯系聚合物之組合物、積層體及膜
本發明係關於一種包含四氟乙烯系聚合物之粒子及紫外線吸收劑之組合物，以及具有包含四氟乙烯系聚合物及紫外線吸收劑，且特定波長之光線吸收率處於特定範圍內之層的積層體及膜。
四氟乙烯系聚合物之電絕緣性、撥水撥油性、耐化學品性、耐熱性等物性優異，可用作用以形成抗蝕劑、接著劑、電絕緣層、潤滑劑、墨水、塗料等之材料。尤其是四氟乙烯系聚合物之相對介電常數及介電損耗正切較小，因此具有四氟乙烯系聚合物之層的積層體適宜用於印刷配線基板(參照專利文獻1)。
然而，四氟乙烯系聚合物之紫外線波長區域之光線吸收率較低，而於印刷配線基板之UV(ultraviolet，紫外線)雷射加工時需要照射高輸出之雷射。當照射此種高輸出之雷射時，存在因發熱而產生四氟乙烯系聚合物層之變形等之顧慮。 因此，有時會嘗試將紫外線吸收劑調配於四氟乙烯系聚合物中，以改良紫外線波長區域之光線吸收率。然而，紫外線吸收劑於四氟乙烯系聚合物中之分散性較差，又，於四氟乙烯系聚合物之成形溫度下存在揮發或分解之傾向。又，當使用紫外線吸收劑時，存在四氟乙烯系聚合物之電絕緣性等電性特性降低之傾向。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：WO2019/087939號
[發明所欲解決之問題]
該等傾向在相對介電常數及介電損耗正切特別小且氟含量較高之四氟乙烯系聚合物中較為顯著，難以獲得具備電性特性及紫外線波長區域之光線吸收率之材料，本發明人等知曉上述問題。 本發明人等對四氟乙烯系聚合物與有機系紫外線吸收劑之組合進行了研究，發現藉由將特定之四氟乙烯系聚合物與紫外線吸收劑加以組合，會抑制電特性之降低並改良四氟乙烯系聚合物之紫外線波長區域之吸收率，從而達成本發明。 [解決問題之技術手段]
本發明具有下述形態。 [1]一種組合物，其包含：氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物之粒子、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑。 [2]如[1]之組合物，其中上述紫外線吸收劑之含量相對於上述四氟乙烯系聚合物之含量之質量比為0.001～0.1。 [3]如[1]或[2]之組合物，其係進而包含液狀分散介質之液狀組合物。 [4]如[3]之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物之粒子之含量為30質量%以上。 [5]如[3]或[4]之組合物，其中上述紫外線吸收劑以粒子之形式包含於上述組合物中。 [6]如[5]之組合物，其中上述紫外線吸收劑之粒子係由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之粒子。
[7]如[1]至[6]中任一項之組合物，其進而含有無機填料或除上述四氟乙烯系聚合物以外之聚合物。 [8]如[1]至[7]中任一項之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物係具有260～320℃之熔融溫度之聚合物。 [9]如[1]至[8]中任一項之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物係具有含羰基之基之聚合物。 [10]如[9]之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物係每1×10 6個主鏈碳數具有10～5000個含羰基之基之聚合物。 [11]如[1]至[10]中任一項之組合物，其中上述紫外線吸收劑之熔點為50～200℃。 [12]如[1]至[11]中任一項之組合物，其中上述紫外線吸收劑所具有之羥基為酚性羥基。 [13]如[1]至[12]中任一項之組合物，其中上述紫外線吸收劑所具有之含氮雜環結構為三𠯤結構、苯并三唑結構或羥苯基三𠯤結構。
[14]一種積層體，其具有至少1層包含具有含羰基之基且氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上之層。 [15]一種膜，其包含具有含羰基之基且氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上。 [發明之效果]
根據本發明，提供一種組合物，其包含四氟乙烯系聚合物，可用於形成電特性之降低得到抑制並紫外線波長區域之光線吸收率得到改良之成形物。 進而，根據本發明，提供一種具有至少1層包含四氟乙烯系聚合物之層的積層體或包含四氟乙烯系聚合物之膜。該積層體及膜之紫外線波長區域之吸收率較高，電特性優異，因此可合適地用於印刷配線基板。
以下用語具有以下含義。 「四氟乙烯系聚合物」係包含基於四氟乙烯(以下亦記作TFE)之單元(以下亦記作TFE單元)之聚合物。 「聚合物之玻璃轉移點(Tg)」係藉由動態黏彈性測定(DMA)法對聚合物進行分析而測定之值。 「聚合物之熔融溫度(熔點)」係與藉由示差掃描熱測定(DSC)法所測得之熔解峰之最大值對應之溫度。 「D50」係對象物(粒子集群中之粒子)之平均粒徑，係藉由雷射繞射散射法所求出之粒子之體積基準累積50%直徑。即，係藉由雷射繞射散射法測定粒子之粒度分佈，將粒子集群之總體積設為100%而求出累積曲線，於該累積曲線上累積體積成為50%之點之粒徑。 「D90」係對象物之累積體積粒徑，係以與「D50」相同之方式求出之粒子之體積基準累積90%直徑。 「黏度」係使用B型黏度計，於室溫下(25℃)在轉速為30 rpm之條件下對液狀組合物進行測定所得之值。重複進行3次測定，取3次測定之測定值之平均值。 「觸變比」係液狀組合物於轉速為30 rpm之條件下進行測定所求出之黏度η 1除以於轉速為60 rpm之條件進行測定所求出之黏度η 2而算出之值(η 1/η 2)。 聚合物中之「基於單體之單元」意指藉由聚合而由1分子單體直接形成之原子團，以及藉由對所生成之聚合物進行處理，上述原子團之一部分轉換為其他結構而成之原子團。以下，將基於單體a之單元亦簡略記作「單體a單元」。 「分散層率」係將18 mL之液狀組合物放入至內容積30 mL之螺旋管中，於25℃下靜置14天時，根據靜置後的螺旋管中之組合物整體之高度及分散層之高度，藉由以下之式所算出之值。再者，於靜置後確認不到分散層，狀態無變化之情形時，視作組合物整體之高度無變化，分散層率視為100%。分散層率越大，分散穩定性越優異。 分散層率(%)＝(分散層之高度)/(組合物整體之高度)×100 「泡沫體積比率」係對標準大氣壓且20℃下之液狀組合物之體積(V N)以及將其減壓至0.003 MPa時之泡沫合計之體積(V V)進行測定，藉由以下之計算式所求出之值。 泡沫體積比率[%]＝100×(V V－V N)/V N。
本發明之組合物(以下亦記作「本組合物」)係包含氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物(以下亦記作「F聚合物」)之粒子(以下亦記作「本F聚合物粒子」)、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑(以下亦記作「本紫外線吸收劑」)的組合物。 又，本發明之積層體(以下亦記作「本積層體」)係具有至少1層包含具有含羰基之基且氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上之層(以下亦記作「本層」)之積層體。 進而，本發明之膜(以下亦記作「本膜」)係包含具有含羰基之基且氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上之膜。
四氟乙烯系聚合物係高剛直性之聚合物，表面能量較低，其粒子彼此容易凝聚，並且與如紫外線吸收劑之其他成分之親和性較差。因此，尤其是有機系紫外線吸收劑於四氟乙烯系聚合物中之分散性較差，且於四氟乙烯系聚合物之成形溫度下會揮發或分解。本組合物中所使用之氟含量較高之F聚合物之此種傾向特別顯著。然而，本發明人等知曉如下兩方面：藉由將特定之有機系紫外線吸收劑與F聚合物加以組合，兩者之親和性得到改良，F聚合物及紫外線吸收劑各者變得難以凝聚；本紫外線吸收劑之分子量較大，因此容易抑制F聚合物之熔融成形溫度下之揮發或分解。其結果，可於不會導致F聚合物之電特性降低之情況下改良F聚合物之紫外線波長區域之光線吸收率。
作為本組合物，可例舉：包含本F聚合物粒子及本紫外線吸收劑之粒子的粉末狀組合物；包含本F聚合物粒子、本紫外線吸收劑及液狀分散介質的液狀組合物；包含本F聚合物粒子、本紫外線吸收劑及黏合劑的塊狀或顆粒狀等固體狀組合物；等。再者，液狀分散介質意指至少不溶解本F聚合物粒子之液狀介質。 粉末狀之本組合物較佳為用作成形材料或粉體塗料等塗佈用材料之粉末狀組合物。 作為液狀之本組合物，根據液狀分散介質之量或其物性，可例舉作為相對黏度較低之分散液的液狀組合物、作為漿狀或溶膠狀等之相對黏度較高之分散液的液狀組合物等。液狀之本組合物較佳為用作塗料等塗佈用材料之液狀組合物。 於液狀之本組合物中，本紫外線吸收劑可溶解於液狀分散介質中，亦可以不溶解於液狀分散介質中之粒子之形式存在於液狀分散介質中。作為不溶解於液狀分散介質中之粒子，可例舉：不溶解於液狀分散介質中之本紫外線吸收劑本身之粒子、本紫外線吸收劑之粒子由不溶解於液狀分散介質中之聚合物所被覆而成之粒子、包含本紫外線吸收劑與不溶解於液狀分散介質中之聚合物之混合物的粒子等。 作為固體狀之本組合物，可例舉：雖包含液狀介質等但無流動性之溶膠狀或黏土狀之固體狀組合物、包含熱塑性聚合物(其中，其係除F聚合物以外之聚合物)或熱硬化性樹脂或其硬化物作為黏合劑之固體狀組合物等。固體狀之本組合物較佳為用作成形材料之固體狀組合物。上述溶膠狀或黏土狀之固體狀組合物亦較佳為作為前驅物，該前驅物係用於供添加液狀分散介質來用作上述液狀之本組合物者。
F聚合物之氟含量為70質量%以上，較佳為76質量%以下。氟含量更佳為74質量%以上。對於該氟含量較高之F聚合物而言，F聚合物之電物性等物性優異，但相對地其極性較低，因此與紫外線吸收劑之親和性亦較低。然而，藉由選定特定之紫外線吸收劑，可獲得不損害F聚合物之物性而分散性或均勻性優異之組合物。
F聚合物可為熱熔融性，亦可為非熱熔融性。又，亦可併用熱熔融性聚合物與非熱熔融性聚合物。 熱熔融性聚合物意指於負載49 N之條件下，存在熔融流動速度成為1～1000 g/10 min之溫度之聚合物。 非熱熔融性聚合物意指於負載49 N之條件下，不存在熔融流動速度成為1～1000 g/10 min之溫度之聚合物。 F聚合物較佳為熱熔融性。熱熔融性F聚合物之熔融溫度較佳為260～320℃，更佳為285～320℃。 F聚合物之玻璃轉移點較佳為50℃以上，更佳為75℃以上。F聚合物之玻璃轉移點較佳為125℃以下，更佳為100℃以下。
F聚合物較佳為聚四氟乙烯(PTFE)、包含TFE單元及乙烯單元之聚合物、包含TFE單元及丙烯單元之聚合物、包含TFE單元及基於全氟(烷基乙烯基醚)(以下亦記作「PAVE」)之單元(以下亦記作「PAVE單元」)之聚合物(以下亦記作「PFA」)、包含TFE單元及氟烷基乙烯單元之聚合物、包含TFE單元及三氟氯乙烯單元之聚合物、以及包含TFE及六氟丙烯單元之聚合物(以下亦記作「FEP」)，更佳為PFA及FEP，進而較佳為PFA。該等聚合物亦可進而包含基於其他共聚單體之單元。 PAVE較佳為CF 2=CFOCF 3、CF 2=CFOCF 2CF 3及CF 2=CFOCF 2CF 2CF 3(以下亦記作「PPVE」)，更佳為PPVE。
F聚合物較佳為具有極性官能基。若F聚合物具有極性官能基，則F聚合物與本紫外線吸收劑之親和性上升，本組合物之均勻分散性容易上升。又，於由本組合物形成成形物時之F聚合物之成形溫度下，本紫外線吸收劑之揮發或分解容易進一步得到抑制。 極性官能基較佳為含羥基之基、含羰基之基及含膦酸基之基，就上述觀點而言，更佳為含羥基之基及含羰基之基，就由於形成氫鍵等而使成分間之親和性特別容易上升之觀點而言，進而較佳為含羰基之基。 含羥基之基較佳為含醇性羥基之基，更佳為-CF 2CH 2OH、-C(CF 3) 2OH及1,2-乙二醇基(-CH(OH)CH 2OH)。
含羰基之基較佳為羧基、烷氧羰基、醯胺基、異氰酸基、胺基甲酸酯基(-OC(O)NH 2)、酸酐殘基(-C(O)OC(O)-)、醯亞胺殘基(-C(O)NHC(O)-等)及碳酸酯基(-OC(O)O-)，更佳為酸酐殘基。 於F聚合物具有含羰基之基之情形時，F聚合物中之含羰基之基之數量較佳為每1×10 6個主鏈碳數中為10～5000個，更佳為50～4000個，進而較佳為100～2000個。於此情形時，F聚合物容易與本紫外線吸收劑相互作用，本組合物容易於加工性或分散穩定性方面優異。再者，F聚合物中之含羰基之基之數量可藉由聚合物之組成或國際公開2020/145133號中所記載之方法進行定量。
F聚合物較佳為熔融溫度為260～320℃，包含PAVE單元，相對於所有單元包含1～5莫耳%之PAVE單元之聚合物，其中更佳為進而具有極性官能基之聚合物(以下亦記作「聚合物(1)」)。含有聚合物(1)之本組合物於加工為成形物時，會於成形物中形成微小球晶，因此所獲得之成形物之接著性等特性亦容易提高。
聚合物(1)所具有之極性官能基可包含於聚合物所含有之單體單元中，亦可包含於聚合物主鏈之末端基中。作為後者之聚合物，可例舉具有源自聚合起始劑、鏈轉移劑等之極性官能基作為末端基的聚合物，或者藉由電漿處理、游離線處理或放射線處理所製備之具有極性官能基之聚合物。 若F聚合物為聚合物(1)，則本F聚合物粒子容易於聚合物(1)與本紫外線吸收劑之親和性方面優異，本組合物容易於加工性或分散穩定性方面優異。
聚合物(1)較佳為相對於所有單元，分別含有93～98.99莫耳%之TFE單元，1～5莫耳%之PAVE單元，以及0.01～2莫耳%之基於具有極性官能基之單體之單元。 又，具有極性官能基之單體較佳為伊康酸酐、檸康酸酐及5-降𦯉烯-2,3-二羧酸酐(以下亦記作「NAH」)。 作為聚合物(1)之具體例，可例舉國際公開第2018/16644號中所記載之聚合物。
本F聚合物粒子係含有F聚合物之粒子，粒子中之F聚合物之量較佳為80質量%以上，更佳為100質量%。 本F聚合物粒子之D50較佳為20 μm以下，更佳為8 μm以下，進而較佳為5 μm以下。本F聚合物粒子之D50較佳為0.1 μm以上，更佳為0.3 μm以上，進而較佳為1 μm以上。又，本F聚合物粒子之D90較佳為10 μm以下，更佳為5 μm以下。若本F聚合物粒子之D50及D90處於該範圍內，則其表面積變大，本F聚合物粒子之分散性容易進一步得到改良。 本F聚合物粒子之比表面積較佳為1～25 m 2/g。
本F聚合物粒子亦可含有無機物或與F聚合物不同之聚合物。 無機物之例較佳為氧化物、氮化物、金屬單質、合金及碳，更佳為氧化矽(silica)、氧化鈹、氧化鈰、氧化鋁、鹼氧化鋁、氧化鎂、氧化鋅、氧化鈦等金屬氧化物、氮化硼、塊滑石及偏矽酸鎂，進而較佳為氧化矽及氮化硼，特佳為氧化矽。 包含無機物之本F聚合物粒子較佳為具有以F聚合物為芯，於殼具有無機物之芯殼結構，或者具有以F聚合物為殼，於芯具有無機物之芯殼結構。該本F聚合物粒子例如藉由碰撞或凝聚等使F聚合物之粒子與無機物之粒子結合而獲得。 作為除F聚合物以外之聚合物之例，可例舉芳香族聚合物。芳香族聚合物可例舉如苯乙烯彈性體之芳香族彈性體、芳香族聚醯亞胺、芳香族馬來醯亞胺、芳香族聚醯胺酸。
本組合物亦可包含2種以上之本F聚合物粒子。包含2種本F聚合物粒子之情形之本F聚合物粒子較佳為熱熔融性F聚合物之粒子(聚合物(1)之粒子等)與非熱熔融性F聚合物之粒子(非熱熔融性PTFE之粒子等)之組合。於此情形時，可提高本組合物之均勻分散性，並可於由本組合物獲得之成形物中高度地展現出基於PTFE之電特性等物性。 又，前者之粒子占2種本F聚合物粒子之總量之比率較佳為50質量%以下，更佳為25質量%以下。又，上述比率較佳為0.1質量%以上，更佳為1質量%以上。 又，較佳為前者之粒子之D50為1～4 μm，且後者之粒子之D50為0.1～1 μm。
本紫外線吸收劑具有含氮雜環結構及羥基，分子量為250以上。本紫外線吸收劑可以粒子之形式包含於本組合物中，於本組合物包含液狀分散介質之情形時，亦可以溶解於液狀分散介質中之狀態包含於本組合物中。 含氮雜環結構係包含氮原子作為環之構成元素之結構，作為環，可例舉三員環、四員環、五員環、六員環，較佳為不飽和環。作為環之構成元素之氮數至少為1以上，通常為4以下。含氮雜環之環之構成元素通常為氮或碳，但亦可包含除氮及碳以外之元素。 含氮雜環有具有芳香族性之芳香族雜環及不具有芳香族性之非芳香族雜環，較佳為芳香族雜環。
羥基較佳為作為與芳香族環鍵結之羥基的酚性羥基。本紫外線吸收劑中之羥基數為1以上，通常為6以下。於此情形時，氫鍵等之形成所致之化合部物間之相互作用會提昇，於由本組合物形成成形物時之F聚合物之成形溫度下，本紫外線吸收劑之揮發或分解容易進一步得到抑制。
作為含氮雜環結構，例如可例舉吖吮結構、二吖吮結構、吖唉結構、二吖唉結構、吡咯結構、咪唑結構、吡唑結構、三唑結構、吡啶結構、二𠯤結構、三𠯤結構、四𠯤結構等。又，可例舉於該等結構上縮合有苯環之結構，即吲哚結構、異吲哚結構、苯并咪唑結構、嘌呤結構、苯并三唑結構、喹啉結構、異喹啉結構、喹唑啉結構、喹㗁啉結構、㖕啉結構、喋啶結構等。 又，亦可為在該等結構上取代有各種取代基之結構。 於該等結構中，就紫外線吸收能力之觀點而言，較佳為三𠯤結構及苯并三唑結構。
包含酚性羥基之結構之例可例舉苯酚結構、甲酚結構、萘酚結構、兒茶酚結構、間苯二酚結構、鄰苯三酚結構、六羥基苯結構、羥基二苯甲酮結構、二羥基二苯甲酮結構、四羥基二苯甲酮結構等，亦可為在該等結構上取代有各種取代基之結構。於該等結構中，就紫外線吸收能力之觀點而言，較佳為苯酚結構。
本紫外線吸收劑具有上述含氮雜環結構及上述包含羥基之結構這兩者。該等含氮雜環結構及包含羥基之結構亦可進而具有其他取代基。 本紫外線吸收劑較佳為具有三𠯤結構或苯并三唑結構、及苯酚結構。 於具有三𠯤結構及苯酚結構之情形時，本紫外線吸收劑較佳為在羥苯基三𠯤結構或羥苯基結構上取代有各種取代基之結構。
本紫外線吸收劑之分子量為250以上，較佳為300以上，更佳為400以上。藉由具有該分子量，會抑制F聚合物之成形溫度下之揮發或分解，例如於藉由如下所述之方法製成包含F聚合物及本紫外線吸收劑之聚合物層(以下亦記作「F層」)時，本紫外線吸收劑可存在於F層中。其結果，所獲得之成形體之紫外線波長區域之光線吸收率變高。 本紫外線吸收劑之分子量通常為1000以下。
本紫外線吸收劑之熔點較佳為50～200℃，更佳為60～180℃。當熔點處於該範圍內時，會抑制F聚合物之成形溫度下之揮發或分解，於製成F層時，本紫外線吸收劑可存在於F層中。其結果，所獲得之成形體之紫外線波長區域之光線吸收率變高。
本紫外線吸收劑之熱分解溫度較佳為250℃以上，更佳為300℃以上，更佳為350℃以上。熱分解溫度較佳為400℃以下。當熱分解溫度處於該範圍內時，F聚合物於成形溫度下之分解得到抑制，於製成F層時，本紫外線吸收劑可存在於F層中。其結果，所獲得之成形體之紫外線波長區域之光線吸收率變高。再者，紫外線吸收劑之熱分解溫度係於氮氣氛圍下使紫外線吸收劑以10℃/min從50℃升溫至400℃時，質量成為升溫開始時之95%的溫度。
本紫外線吸收劑之市售品可例舉：巴斯夫製造之「Tinuvin 326」(分子量：315.8；熔點：139℃；Tinuvin係註冊商標)、「Tinuvin 405」(分子量：583.8；熔點：74～77℃)、「Tinuvin 460」(分子量：629.8；熔點：93～102℃)、「Tinuvin 900」(分子量：447.6；熔點：137～141℃)、「Tinuvin 928」(分子量：441.6；熔點：109～113℃)、Clariant製造之「Sanduvor VSU powder」(分子量：312.0；熔點：123～127℃)、Clariant製造之「Hastavin PR-25 Gran」(分子量：250.0；熔點：55～59℃)、ADEKA公司製造之「Adekastab LA-F70」(分子量：700；熔點：144～150℃)等。
至於本組合物中之上述F聚合物與上述本紫外線吸收劑之質量比，較佳為將F聚合物之質量設為1而本紫外線吸收劑之質量為0.001～0.1。作為F聚合物與本紫外線吸收劑之質量比之下限，就所獲得之本組合物之分散穩定性、紫外線波長區域之光線吸收率之觀點而言，更佳為0.01。又，就相同觀點而言，上述質量比之上限較佳為0.05，更佳為0.03。藉由上述作用機制，由本組合物形成之成形物容易於紫外線吸收能力方面優異。
於本組合物中，就進一步提高紫外線波長區域之光線吸收率之觀點而言，亦可和與上述本紫外線吸收劑不同之紫外線吸收劑併用。與本紫外線吸收劑不同之紫外線吸收劑係不具有上述含氮雜環或羥基中之任一者之紫外線吸收劑，可為無機系紫外線吸收劑、有機系紫外線吸收劑中之任一者。 作為上述不同之紫外線吸收劑，例如可例舉：二苯甲酮系紫外線吸收劑、三唑系紫外線吸收劑、三𠯤系紫外線吸收劑、苯甲酸酯系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑。該等紫外線吸收劑亦可為聚合物狀。又，亦可為包含受阻胺系光穩定劑(HALS)者、包含抗氧化劑者、同時包含HALS與抗氧化劑者。
本組合物較佳為液狀組合物，於此情形時，本組合物包含液狀分散介質。液狀之本組合物亦可包含2種以上之液狀分散介質，於此情形時，較佳為不同種類之液狀分散介質相溶。再者，液狀係於25℃下黏度為10 mPa·s以下之化合物，以下亦相同。 液狀分散介質之沸點較佳為125～250℃。對於含有具有該範圍之沸點之液狀分散介質之本組合物而言，於使本組合物與基材等接觸後，去除液狀分散介質時，本F聚合物粒子高度地流動而容易緻密地堆積。其結果，容易由本組合物形成緻密之成形物。
液狀分散介質係具有使本F聚合物粒子分散之功能及使本紫外線吸收劑分散或溶解之功能之液體，係於25℃下為惰性之液體化合物。具有液狀分散介質之本組合物係含有本F聚合物粒子、本紫外線吸收劑及液狀分散介質之處於液狀狀態之組合物，通常情況下，本F聚合物粒子分散於液狀分散介質中。 作為液狀分散介質，就與具有作為極性官能基之羥基的本紫外線吸收劑之親和性的觀點而言，較佳為極性溶劑。 極性溶劑可為水，亦可為非水系溶劑。又，極性溶劑可為非質子性極性溶劑，亦可為質子性溶劑。又，極性溶劑可單獨使用1種，又，例如亦可如水與N-甲基-2-吡咯啶酮之組合般混合組合2種以上而使用。 極性溶劑較佳為水、醯胺、酮及酯，更佳為水、N-甲基-2-吡咯啶酮、γ-丁內酯、甲基乙基酮、環己酮及環戊酮，更佳為N-甲基-2-吡咯啶酮。
再者，於本組合物含有液狀分散介質之情形時，本組合物中之本F聚合物粒子之含量較佳為30質量%以上，更佳為40質量%以上。上述含量較佳為60質量%以下，更佳為50質量%以下。於此情形時，本組合物容易於分散性方面優異，又，容易由本組合物獲得電特性及平滑性優異之成形物。 又，該情形之本組合物中之本紫外線吸收劑之含量較佳為0.1質量%以上，更佳為1質量%以上。上述含量較佳為10質量%以下，更佳為3質量%以下。
再者，含有上述液狀分散介質之情形時之本組合物之固形物成分意指由本組合物形成之成形物中，形成固形物成分之物質之總量(除液狀分散介質以外之成分)。將含有上述液狀分散介質之情形時之本組合物之總質量設為100%，固形物成分濃度較佳為20質量%以上，更佳為30質量%以上。又，就本組合物之分散性之觀點而言，固形物成分濃度較佳為70質量%以下，更佳為60質量%以下。 至於固形物成分中之本F聚合物粒子之量，將固形物成分之總質量設為100質量%，較佳為50質量%以上，更佳為70質量%以上。上述量較佳為未達100質量%。
於本組合物為液狀組合物之情形時，本組合物中之本紫外線吸收劑較佳為以粒子之形式包含於本組合物中。於此情形時，本紫外線吸收劑之粒子較佳為其本身係不溶解於液狀分散介質中之化合物，且其粒子存在於液狀分散介質中，或者，無論其本身有無溶解性，均以本紫外線吸收劑粒子之表面由不溶解於液狀分散介質中之聚合物等所被覆之粒子之形式存在於液狀分散介質中。於後者之情形時，亦可為包含如下混合物之粒子，該混合物係本紫外線吸收劑與包含不溶解於液狀分散介質中之聚合物等之黏合劑的混合物。 作為被覆本紫外線吸收劑粒子之表面之聚合物、或成為本紫外線吸收劑之黏合劑的不溶解於液狀分散介質中之聚合物，係除F聚合物以外之聚合物，可例舉：熱塑性聚合物、硬化性樹脂之硬化物、進而藉由交聯等成為硬化物之聚合物或低聚物等。具體而言，例如可例舉：胺基甲酸酯系聚合物、丙烯酸酯系聚合物、甲基丙烯酸酯系聚合物、聚酯系聚合物等。 上述聚合物較佳為胺基甲酸酯系聚合物、丙烯酸酯系聚合物及甲基丙烯酸酯系聚合物，更佳為胺基甲酸酯系聚合物。 包含本紫外線吸收劑之粒子較佳為D50為20～100 nm，D90為100～300 nm之粒子。包含本紫外線吸收劑及上述聚合物之粒子中之本紫外線吸收劑之含量較佳為10～90質量%，更佳為40～80質量%。 藉由本紫外線吸收劑以粒子之形式包含於液狀之本組合物中，本組合物容易於均勻分散性方面優異，由本組合物獲得之成形體之紫外線波長區域之光線吸收率容易變高。
本紫外線吸收劑之粒子較佳為由胺基甲酸酯系聚合物所被覆。作為由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之本紫外線吸收劑之形態，可例舉：包含與本紫外線吸收劑由胺基甲酸酯系聚合物包接而成之粒子之混合物的粒子、本紫外線吸收劑之粒子之表面由胺基甲酸酯系聚合物所覆蓋而成之粒子(以本紫外線吸收劑為芯，以胺基甲酸酯系聚合物為殼之芯殼粒子)等。 由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之本紫外線吸收劑粒子於本組合物為包含液狀分散介質之液狀組合物之情形時，尤其是於本組合物為包含水之液狀組合物之情形時，不僅會良好地於液體中分散，亦會使本F聚合物粒子穩定，亦容易提高本組合物之流變。
作為胺基甲酸酯系聚合物，可例舉：聚異氰酸酯與多元醇之反應產物；聚異氰酸酯、多元醇及鏈伸長劑之反應產物；聚異氰酸酯、多元醇、具有活性氫基及親水基之化合物、以及鏈伸長劑之反應產物。
作為聚異氰酸酯，可例舉：六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、4,4'-二環己基甲烷二異氰酸酯、3,3'-二甲基-4,4'-二環己基甲烷二異氰酸酯。 多元醇較佳為聚醚多元醇、聚碳酸酯多元醇。作為聚醚多元醇，可例舉環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷、四氫呋喃等之開環加成聚合物，作為聚碳酸酯多元醇，可例舉1,4-丁二醇、1,6-己二醇、二乙二醇等二醇與碳酸二苯酯或光氣之反應物。
作為活性氫基，可例舉羥基、巰基、胺基，作為親水基，可例舉羧基、磺酸基、聚氧伸烷基。 作為具有活性氫基及親水基之化合物，可例舉：2,2-二羥甲基丙酸、2-羥基乙磺酸、聚乙二醇。 作為鏈伸長劑，可例舉：乙二醇等二醇；甘油、三羥甲基乙烷等多羥基化合物；乙二胺、1,6-六亞甲基二胺等多胺。 胺基甲酸酯系聚合物較佳為聚碳酸酯改性胺基甲酸酯系聚合物、醚改性胺基甲酸酯系聚合物。該等改性聚合物係使用聚碳酸酯多元醇或聚醚多元醇作為多元醇而獲得之胺基甲酸酯系聚合物。
作為獲得由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之本紫外線吸收劑之方法，例如可例舉向多元醇與聚異氰酸酯之反應物溶解於有機溶劑而成之溶液中加入本紫外線吸收劑，使上述反應物於水中乳化之方法。於多元醇與聚異氰酸酯之反應物為異氰酸基末端預聚物之情形時，亦可進而視需要添加二胺作為鏈伸長劑，而形成由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之本紫外線吸收劑之水分散液。 作為更具體之方法，可例舉如下方法，即，在使用於分子末端具有異氰酸基之胺基甲酸酯預聚物之情形時，該胺基甲酸酯預聚物係多元醇、聚異氰酸酯以及具有活性氫基及羧基之化合物之反應物，向該預聚物溶解於有機溶劑中之溶液中依序添加本紫外線吸收劑、三乙胺等中和劑、及水，進而添加二胺作為鏈伸長劑而形成胺基甲酸酯系聚合物，進而蒸餾去除有機溶劑，從而獲得包含由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之本紫外線吸收劑之水分散液。
本紫外線吸收劑亦可使用2種以上。 於使用2種以上之本紫外線吸收劑之情形時，較佳為使用2種以上之具有三𠯤結構之本紫外線吸收劑，更佳為使用2種以上之由胺基甲酸酯系聚合物所被覆且具有三𠯤結構之本紫外線吸收劑。
本組合物視需要亦可進而含有無機填料、除F聚合物以外之聚合物或除該聚合物以外之硬化性低聚物(以下亦將該等記作「其他聚合物」)等。又，液狀之本組合物亦可為界面活性劑。
作為無機填料，例如於提高成形物之介電常數之目的之情形時，較佳為鈣鈦礦型強介電體填料、鉍層狀鈣鈦礦型強介電體填料等無機填料。 作為鈣鈦礦型強介電體，可例舉：鈦酸鋇、鋯鈦酸鉛、鈦酸鉛、氧化鋯、氧化鈦。另一方面，作為鉍層狀鈣鈦礦型強介電體，可例舉：鉭酸鉍鍶、鈮酸鉍鍶、鈦酸鉍。
又，例如於降低成形物之介電常數及介電損耗正切、或線膨脹率之目的之情形時，使用低介電常數及低介電損耗正切、或低線膨脹率之無機填料。 該無機填料較佳為氮化硼填料、氧化鈹填料(beryllia filler)、氧化矽填料(silica filler)、矽灰石填料、及偏矽酸鎂填料(塊滑石填料)。
進而，例如於提高成形物之導熱性或耐擦傷性之目的之情形時，使用金屬氧化物之填料。 金屬氧化物較佳為氧化鋁、氧化鉛、氧化鐵、氧化錫、氧化鎂、氧化鈦、氧化鋅、五氧化二銻、氧化鋯、氧化鑭、氧化釹、氧化鈰及氧化鈮，更佳為氧化鋁。
又，除該等以外之無機填料亦可使用玻璃纖維填料、碳填料。 作為碳填料，可例舉：碳纖維(carbon fiber)、碳黑、石墨烯、氧化石墨烯、富勒烯、石墨、氧化石墨。作為碳纖維，可例舉：聚丙烯腈系碳纖維、瀝青系碳纖維、氣相生長碳纖維、奈米碳管(單壁、雙壁、多壁、疊杯型等)。
上述無機填料之形狀根據目的適當選定，可為粒子狀亦可為纖維狀。粒子狀無機填料可為鱗片狀，亦可為球狀。 於粒子狀無機填料之情形時，其平均粒徑(D50)較佳為0.02～200 μm。 於纖維狀無機填料之情形時，其平均纖維長較佳為0.05～300 μm。纖維狀無機填料之平均纖維直徑較佳為0.01～15 μm。
至於上述無機填料，就本組合物之加工性及分散性之觀點而言，其表面之至少一部分亦可藉由矽烷偶合劑進行表面處理。 作為矽烷偶合劑之具體例，可例舉：3-胺基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷及3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷。
作為無機填料之適宜具體例，可例舉：氧化矽填料(Admatechs公司製造之「Admafine(註冊商標)」系列等)、藉由二癸酸丙二醇酯等酯進行了表面處理之氧化鋅(堺化學工業股份有限公司製造之「FINEX(註冊商標)」系列等)、球狀熔融氧化矽(DENKA公司製造之「SFP(註冊商標)」系列等)、藉由多元醇及無機物進行了被覆處理之(石原產業公司製造之「Tipaque(註冊商標)」系列等)、藉由烷基矽烷進行了表面處理之金紅石型氧化鈦(Tayca公司製造之「JMT(註冊商標)」系列等)、中空狀氧化矽填料(太平洋水泥公司製造之「E-SPHERES」系列、日鐵礦業公司製造之「SiliNax」系列、Emerson & Cuming公司製造之「Ecco sphere」系列等)、滑石填料(NIPPON TALC公司製造之「SG」系列等)、塊滑石填料(NIPPON TALC公司製造之「BST」系列等、氮化硼填料(昭和電工公司製造之「UHP」系列、DENKA製造之「HGP」系列、「GP」系列等))。 於本組合物包含上述無機填料之情形時，本F聚合物粒子與無機填料之比率較佳為將本F聚合物粒子之質量設為1而無機填料之質量為0.5～2之比率。
上述其他聚合物係不包含TFE單元之聚合物及包含TFE單元且氟含量未達70質量%之四氟乙烯系聚合物。 作為其他聚合物，可例舉：熱塑性聚合物、熱塑性彈性體、熱硬化性聚合物或低聚物等。具體而言，可例舉：芳香族聚酯、芳香族聚醯亞胺、芳香族聚醯胺酸、芳香族聚醯胺醯亞胺、上述胺基甲酸酯系聚合物、脂肪族聚醯胺醯亞胺、聚苯醚(polyphenylene ether)、聚苯醚(polyphenylene oxide)、液晶聚酯、多糖類、脂肪族聚醯胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚乙烯醇縮丁醛、ABR橡膠、纖維素、除F聚合物以外之含氟聚合物。
其他聚合物較佳為芳香族聚酯、芳香族聚醯亞胺、芳香族聚醯胺酸、芳香族聚醯胺醯亞胺、聚苯醚(polyphenylene ether)。芳香族聚醯亞胺可為熱塑性，亦可為熱硬化性。 作為芳香族聚醯亞胺之具體例，可例舉：「Neopulim(註冊商標)」系列(三菱瓦斯化學公司製造)、「SPIXAREA(註冊商標)」系列(SOMAR公司製造)、「Q-PILON(註冊商標)」系列(PI技術研究所製造)、「WINGO」系列(Wingo Technology公司製造)、「TOHMIDE(註冊商標)」系列(T＆K TOKA公司製造)、「KPI-MX」系列(河村產業公司製造)、「UPIA(註冊商標)-AT」系列(宇部興產公司製造)、「HPC-1000」、「HPC-2100D」(均為昭和電工材料公司製造)。 作為除F聚合物以外之含氟聚合物，可例舉：聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、聚氯三氟乙烯等。
進而，其他聚合物較佳為非離子性多糖類。作為非離子性多糖類，可例舉：肝糖、直鏈澱粉、瓊脂糖、支鏈澱粉、纖維素、糊精、葡聚糖、果聚糖、甲殼素。纖維素較佳為羧甲基纖維素、羥乙基纖維素。 作為非離子性多糖類之具體例，可例舉：「SUNROSE(註冊商標)」系列(日本製紙公司製造)、「Metolose(註冊商標)」系列(信越化學工業公司製造)、「HEC CF Grade」(住友精化公司製造)。 於本組合物包含非離子性多糖類之情形時，本組合物容易於均勻分散性及處理性方面優異，由本組合物獲得之成形物容易於電特性方面優異。
本組合物亦可包含2種以上之其他聚合物。其他聚合物之組合較佳為芳香族聚合物與非離子性多糖類之組合。 於本組合物包含上述其他聚合物之情形時，作為本F聚合物粒子與其他聚合物之質量比，較佳為將本F聚合物粒子之質量設為1而其他聚合物之質量為0.01～0.5之比率，更佳為0.03～0.3之比率。
本組合物、尤其是含有液狀分散介質之本組合物就提高分散穩定性及處理性之觀點而言，亦可進而含有非離子性界面活性劑。 界面活性劑之親水部位較佳為具有聚氧乙烯鏈或醇性羥基。 聚氧乙烯鏈可僅由氧伸乙基所構成，亦可包含氧伸乙基及其他氧伸烷基。於後者之情形時，氧伸乙基及其他氧伸烷基可呈無規狀地配置，亦可呈嵌段狀地配置。
界面活性劑之疏水部位較佳為具有乙炔基、聚矽氧烷基、全氟烷基或全氟烯基。換言之，界面活性劑較佳為乙炔系界面活性劑、矽系界面活性劑及氟系界面活性劑，更佳為矽系界面活性劑。 作為該界面活性劑之具體例，可例舉：「FTERGENT」系列(NEOS股份有限公司製造，FTERGENT係註冊商標)、「Surflon」系列(AGC清美化學公司製造，Surflon係註冊商標)、「MEGAFAC」系列(DIC股份有限公司製造，MEGAFAC係註冊商標)、「Unidyne」系列(大金工業股份有限公司製造，Unidyne係註冊商標)、「BYK-347」、「BYK-349」、「BYK-378」、「BYK-3450」、「BYK-3451」、「BYK-3455」、「BYK-3456」(BYK-Chemie Japan股份有限公司製造)、「KF-6011」、「KF-6043」(信越化學工業股份有限公司製造)。 於含有界面活性劑之情形時，本組合物中之界面活性劑之含量較佳為1～15質量%，更佳為1～5質量%。於此情形時，成分間之親和性增加，本組合物之分散穩定性更容易提昇。又，可減少由本組合物形成之成形物中之界面活性劑之殘留量，容易提高成形物之電特性。
液狀之本組合物之黏度較佳為10 mPa·s以上，更佳為100 mPa·s以上。液狀之本組合物之黏度較佳為10000 mPa·s以下，更佳為1000 mPa·s以下。於此情形時，液狀之本組合物之塗敷性優異，因此容易由液狀之本組合物形成具有任意厚度之F聚合物之層等成形物。 液狀之本組合物之觸變比較佳為1以上。本組合物之觸變比較佳為3以下，更佳為2以下。於此情形時，液狀之本組合物不僅塗敷性優異，其均質性亦優異，因此容易形成更加緻密之F聚合物之層等成形物。
液狀之本組合物之分散層率較佳為60%以上，更佳為70%以上。分散層率之上限為100%。液狀之本組合物之分散性優異，因此容易調整至該分散層率。
就抑制由液狀之本組合物獲得之成形物之成分分佈之均勻性降低或空隙的觀點而言，液狀之本組合物中之泡沫體積比率較佳為未達10%，更佳為未達5%。泡沫體積比率較佳為超過0%。
本組合物除了上述成分以外，亦可進而含有觸變性賦予劑、黏度調節劑、消泡劑、矽烷偶合劑、脫水劑、塑化劑、耐候劑、抗氧化劑、熱穩定劑、潤滑劑、抗靜電劑、增白劑、著色劑、導電劑、離型劑、表面處理劑、阻燃劑、各種填料等其他成分。
本組合物係藉由將上述本F聚合物粒子及本紫外線吸收劑、視需要之上述無機填料、上述其他聚合物、液狀分散介質、界面活性劑及其他成分加以混合而獲得。
於添加上述無機填料、上述其他聚合物、或其他成分之情形時，可於將上述本F聚合物粒子與上述本紫外線吸收劑混合時添加；亦可預先將無機填料、上述其他聚合物、或其他成分與本紫外線吸收劑混合，再向其中添加本F聚合物粒子；亦可預先將本F聚合物粒子與無機填料、上述其他聚合物、或其他成分混合，再向其中添加本紫外線吸收劑。於添加無機填料、其他聚合物及其他成分之情形時，可分別添加該等；亦可一起添加；亦可預先將該等成分混合而製成母料，再添加母料。
又，於本組合物含有上述液狀分散介質之情形時，可將本F聚合物粒子及本紫外線吸收劑添加至上述液狀分散介質中；亦可將本F聚合物粒子與上述液狀分散介質混合，再向其中添加上述紫外線吸收劑；亦可將本紫外線吸收劑與上述液狀分散介質混合，再向其中添加上述本F聚合物粒子。 於將本F聚合物粒子、本紫外線吸收劑及上述液狀分散介質混合之情形時，可一面除氣一面混合。又，於將本F聚合物粒子、本紫外線吸收劑及上述液狀分散介質混合後，可放置一段時間。 上述無機填料、上述其他聚合物、其他成分、或液狀分散介質之添加可連續進行，亦可間歇地進行。
作為本組合物包含水作為液狀分散介質之情形之適宜形態，亦可例舉進而包含非離子性界面活性劑之形態、本紫外線吸收劑由丙烯酸酯系聚合物所被覆之形態。 該情形之非離子性界面活性劑可使用與上述非離子性界面活性劑相同之界面活性劑。 作為該情形之本紫外線吸收劑，可例舉由丙烯酸酯系聚合物所被覆且具有苯并三唑結構或羥苯基三𠯤結構之紫外線吸收劑，更合適的可例舉由丙烯酸酯系聚合物所被覆且具有羥苯基三𠯤結構之紫外線吸收劑。 作為該紫外線吸收劑之具體例，可例舉：ADEKA公司製造之「UC-3140」、巴斯夫製造之「Tinuvin 479-DW(N)」(Tinuvin係註冊商標)、「Tinuvin 477-DW(N)」。 該本組合物較佳為將包含本F聚合物粒子、非離子性界面活性劑及水之組合物與包含本紫外線吸收劑、非離子性界面活性劑及水之組合物加以混合而製造。
不含上述液狀分散介質之情形之本組合物通常係粉末狀之本組合物或顆粒狀等固體狀之本組合物。固體狀之本組合物亦可為將上述本F聚合物粒子與本紫外線吸收劑、視需要加入之上述無機填料、其他聚合物或其他成分進行熔融混練而獲得之混練物。 若使該混練物熔融成形，則可獲得包含上述F聚合物及本紫外線吸收劑之膜等成形物。作為熔融成形，可例舉擠出成形及射出成形，較佳為擠出成形。擠出成形可使用單軸螺旋擠出機、多軸螺旋擠出機等而進行。 熔融混練可於上述擠出機內進行，直接在不取出之情況下進行擠出成形而製成膜；亦可預先進行熔融混練而製成顆粒狀之本組合物，將其用於擠出成形、射出成形等。
藉由上述熔融成形而獲得之膜可單獨使用，亦可與其他膜或基材積層而製成積層體。作為積層體之製造方法，可例舉：使用共擠壓機作為上述擠出機，與基材之原料一起對本組合物進行擠出成形之方法；將本組合物擠出成形於上述基材上之方法；對本組合物之擠出成形物與上述基材進行熱壓接合之方法。
於本組合物包含液狀分散介質之情形時，使本組合物與基材等接觸，進行乾燥、燒成，則可形成具有F層與基材之積層體。 作為該積層體之適宜形態，可例舉具有金屬箔及形成於其至少一表面之F層之金屬箔積層體、具有樹脂膜(尤其是聚醯亞胺膜)及形成於其至少一表面之F層之多層膜。 再者，藉由蝕刻或溶解而從金屬箔積層體或多層膜除去基材，或者亦可將F層從基材剝離，而製成單一F層之膜。
於上述積層體之製造中，在基材之表面之至少單面形成F層即可，可僅在基材之單面形成F層，亦可在基材之兩面形成F層。基材之表面亦可藉由矽烷偶合劑等進行表面處理。於液狀之本組合物之接觸時，可使用噴霧法、輥塗法、旋轉塗佈法、凹版塗佈法、微凹版塗佈法、凹版膠版法、刮塗法、接觸塗佈法、棒式塗佈法、模嘴塗佈法、噴注麥勒棒法、狹縫式模嘴塗佈法等塗佈方法。
F層較佳為於藉由加熱而將上述液狀分散介質去除後，進而藉由加熱對F聚合物進行燒成而形成。液狀分散介質之去除溫度較佳為比液狀分散介質之沸點低50～150℃之溫度。例如於使用沸點約為200℃之N-甲基-2-吡咯啶酮之情形時，較佳為於150℃以下、較佳為於100～120℃下進行加熱。較佳為於去除液狀分散介質之步驟中吹送空氣。
較佳為於去除分散介質後，將基材加熱至F聚合物燒成之溫度範圍而形成F層，較佳為於例如300～400℃之範圍內對聚合物進行燒成。F層較佳為包含F聚合物之燒成物。 F層如上所述地經過包含液狀分散介質之本組合物之接觸、乾燥、燒成之步驟而形成。該等步驟可為1次，亦可為2次以上。例如，塗佈上述本組合物，藉由加熱將液狀分散介質去除而形成膜。亦可於所形成之膜上進而塗佈上述液狀之本組合物，藉由加熱而去除上述液狀分散介質，進而藉由加熱對聚合物進行燒成而形成。就容易獲得平滑性優異之厚膜之觀點而言，較佳為進行2次本組合物之塗佈、乾燥、燒成之步驟。
F層之厚度較佳為0.1 μm以上，更佳為1 μm以上。厚度之上限為200 μm。於該範圍內，可容易地形成耐龜裂性優異之F層。 F層與基材層之剝離強度較佳為10 N/cm以上，更佳為15 N/cm以上。上述剝離強度較佳為100 N/cm以下。若使用本組合物，則可於不損害F層中之F聚合物之物性之情況下容易地形成該積層體。 F層之空隙率較佳為5%以下，更佳為4%以下。空隙率較佳為0.01%以上，更佳為0.1%以上。再者，空隙率係根據使用掃描型電子顯微鏡(SEM)所觀察到之成形物之剖面的SEM照片，藉由圖像處理而判定F層之空隙部分，空隙部分所占之面積除以F層之面積所得之比率(%)。空隙部分所占之面積係將空隙部分近似成圓形而求出。
作為基材之材質，可例舉銅、鎳、鋁、鈦、其等之合金等之金屬箔等金屬基板，聚醯亞胺、聚芳酯、聚碸、聚芳基碸、聚醯胺、聚醚醯胺、聚苯硫醚、聚芳醚酮、聚醯胺醯亞胺、液晶性聚酯、液晶性聚酯醯胺等之樹脂膜，作為纖維強化樹脂基板之前驅物的預浸體。作為基材之形狀，可例舉平面狀、曲面狀、凹凸狀，進而亦可為箔狀、板狀、膜狀、纖維狀之任一者。作為積層體之具體例，可例舉具有金屬箔且於該金屬箔之至少一表面具有F層的金屬箔積層體、具有聚醯亞胺膜且於該聚醯亞胺膜之兩表面具有F層的多層膜。該等積層體之電特性等各物性優異，適宜作為印刷基板材料等。具體而言，該積層體可用於製造軟性印刷基板或剛性印刷基板。
作為F層與其他基材之積層體之構成，可例舉金屬基板/F層/其他基材層/F層/金屬基板、金屬基板層/其他基材層/F層/其他基材層/金屬基板層等。各個層可進而包含玻璃布或填料。
本發明之積層體係具有至少1層包含具有含羰基之基之F聚合物及本紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上之層(本層)之積層體，換言之，係具備255～355 nm之紫外線區域中之光線吸收率較高之層的積層體。再者，每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率係藉由使用市售之分光光度計測定本層之光線吸收率，將厚度換算為1 μm而求出。
上述光線吸收率較佳為85%以上，更佳為90%以上。光線吸收率之上限為100%。 具有含羰基之基之F聚合物及本紫外線吸收劑之定義及範圍以及其適宜形態與上述本組合物中之其等相同。又，本層可進而包含無機填料、其他聚合物及其他成分。無機填料、其他聚合物及其他成分之定義及範圍以及其適宜形態與上述本組合物中之其等相同。 作為本積層體中所包含之與本層不同之層，可例舉由上述本組合物獲得積層體時所可使用之基材。 本層之厚度較佳為0.1 μm以上，更佳為1 μm以上。厚度之上限為200 μm。
本積層體例如可由包含具有含羰基之基之F聚合物之本組合物形成，作為其方法，可例舉由本組合物獲得積層體之上述方法。 使用上述適宜之化合物作為具有含羰基之基之F聚合物及本紫外線吸收劑，使其量處於上述適宜範圍內，藉此可使本積層體之每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上，更佳為90%以上。 本層之紫外線波長區域之吸收率較高，且維持F聚合物之電特性等物性。
本膜包含具有含羰基之基之F聚合物及本紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上。再者，光線吸收率係藉由與上述相同之方法測定。 本膜之每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率較佳為85%以上，更佳為90%以上。光線吸收率之上限為100%。 具有含羰基之基之F聚合物及本紫外線吸收劑之定義及範圍以及其適宜形態與上述本組合物中之其等相同。又，本膜亦可進而包含無機填料、其他聚合物及其他成分。無機填料、其他聚合物及其他成分之定義及範圍以及其適宜形態與上述本組合物中之其等相同。
本膜之厚度較佳為0.1 μm以上，更佳為1 μm以上。厚度之上限為200 μm。 本膜例如對如下混練物進行擠出成形而獲得，該混練物係對包含具有含羰基之基之F聚合物且為粉末狀或顆粒狀之本組合物進行熔融混練而獲得者。又，本膜亦可從本積層體去除與本層不同之層而獲得。 使用上述適宜之化合物作為具有含羰基之基之F聚合物及本紫外線吸收劑，使其量處於上述適宜範圍內，藉此可使本膜之每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上，更佳為90%以上。
本積層體及本膜可用作天線零件、印刷基板、航空器用零件、汽車用零件、運動用具、食品工業用品、塗料、化妝品、保護膜、散熱基板、散熱零件等。具體而言，可用作電線被覆材(航空器用電線等)、電絕緣性帶、石油挖掘用絕緣帶、印刷基板用材料、分離膜(微濾膜、超過濾膜、逆滲透膜、離子交換膜、透析膜、氣體分離膜等)、電極黏合劑(鋰二次電池用、燃料電池用等)、複製輥、傢俱、汽車儀錶板、家電製品等之外罩、滑動構件(負載軸承、滑動軸、閥、軸承、齒輪、凸輪、帶式輸送機、食品搬送用傳送帶等)、工具(鏟、銼、錐子、鋸等)、鍋爐、料斗、管、烘箱、烤模、滑槽、模具、馬桶、容器被覆材、面向汽車之散熱基板、電子裝置(功率裝置、電晶體、閘流體、整流器、變壓器、電力MOS(metal oxide semiconductor，金屬氧化物半導體)、FET(field effect transistor，場效電晶體)、CPU(central processing unit，中央處理單元)等)之散熱片或散熱板。 更具體而言，可用作電腦或顯示器之殼體、電子裝置材料、汽車之內外裝等、於低氧下進行加熱處理之加工機或真空烘箱、電漿處理裝置等之密封材料、或者濺鍍或各種乾式蝕刻裝置等之處理單元內之散熱零件。
如上所述包含F聚合物及本紫外線吸收劑之本組合物之紫外線吸收劑之分散性優異，可由本組合物形成紫外線波長區域之光線吸收率較高，不損害F聚合物本來所具有之電特性等物性之成形物。 進而，本積層體及本膜於不損害F聚合物本來所具有之電特性等物性之情況下，紫外線波長區域之吸收率較高。因此，UV加工性優異，可用於印刷配線基板等。
以上，對本組合物、本積層體及本膜進行了說明，但本發明並不限定於上述實施方式之構成。 例如，本組合物、本積層體及本膜於上述實施方式之構成中，可追加其他任意構成，亦可與發揮相同功能之任意構成置換。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進行詳細說明，但本發明並不限定於該等實施例。 1.各成分之準備 [粉末] 粉末1：包含如下聚合物(氟含量：76質量%)之粒子(D50：2.0 μm)之集合體，該聚合物包含97.9莫耳%之TFE單元、0.1莫耳%之NAH單元及2.0莫耳%之PPVE單元，且每1×10 6個主鏈碳數具有1000個含羰基之基。 粉末2：包含如下聚合物(氟含量：76質量%)之粒子(D50：2.4 μm)之集合體，該聚合物包含TFE單元及PPVE單元，且每1×10 6個主鏈碳數具有40個含羰基之基。
[紫外線吸收劑] UVA1：羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑(分子量250以上，熔點68～102℃，巴斯夫日本公司製造之「Tinuvin 479」) UVA2：羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑(分子量250以上，熔點106～108℃，ADEKA公司製造之「LA-46」) UVA3：羥基苯并三唑系紫外線吸收劑(分子量250以上，熔點161～166℃，Shipro Kasei公司製造之「SEESORB 706」) UVA4：2-(2-羥基-5-甲基苯基)苯并三唑(分子量225，熔點129～133℃) UVA5：由丙烯酸酯系聚合物所被覆之羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑之粒子(分子量250以上，熔點68～102℃，巴斯夫日本公司製造之「Tinuvin 479-DW(N)」。再者，粒子中之上述羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑之含量為80質量%以上) UVA6：具有酚性羥基之苯并三唑系紫外線吸收劑(分子量250以上，熔點50～200℃，ADEKA公司製造之「UC-3140」) UVA7：由丙烯酸酯系聚合物所被覆之羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑之粒子(分子量250以上，熔點50～200℃，巴斯夫日本公司製造之「Tinuvin 477-DW(N)」。再者，粒子中之上述羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑之含量為80質量%以上) UVA8：羥苯基三𠯤系紫外線吸收劑(分子量250以上，熔點144～150℃，D50：54 nm；D90：213 nm；ADEKA公司製造之「Adekastab LA-F70」) UVA9：不具有羥基之三𠯤系紫外線吸收劑 [紫外線吸收劑分散液] UVA分散液1：包含UVA8及UVA9，UVA8及UVA9由碳酸酯改性胺基甲酸酯系聚合物所被覆，分散於水中之水分散液 [液狀分散介質] NMP：N-甲基-2-吡咯啶酮 [界面活性劑] 界面活性劑1：CH 2=C(CH 3)C(O)OCH 2CH 2(CF 2) 6F與CH 2=C(CH 3)C(O)(OCH 2CH 2) 23OH之共聚物，且氟含量為35質量%之非離子性聚合物 界面活性劑2：矽系界面活性劑(BYK-Chemie Japan公司製造之「BYK-3450」) [其他聚合物] HEC1：羥乙基纖維素(住友精化公司製造之「HEC CF-Y」) [其他聚合物之清漆] 清漆1：包含芳香族聚醯胺醯亞胺(PAI1)之前驅物之水清漆
2.分散液之製造例 (例1) 首先，向坩堝中，投入粉末1、界面活性劑1及NMP，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而製備組合物11。向另一坩堝中，投入UVA1及NMP，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而製備組合物12。 向又一坩堝中，投入組合物11及組合物12，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而獲得包含粉末1之粒子(100質量份)、UVA1(2質量份)、界面活性劑1(10質量份)、NMP(128質量份)之黏度為400 mPa·s之分散液1。
(例2～8) 除了如下表1所示地變更粉末、紫外線吸收劑、界面活性劑、液狀分散介質之種類以外，以與例1相同之方式，獲得分散液2～8。
(例9) 首先，向坩堝中，投入粉末1、界面活性劑1、清漆1、HEC1及水，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而製備組合物91。 向另一坩堝中，投入組合物91及UVA分散液1，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而獲得包含粉末1之粒子(100質量份)、UVA8(0.25質量份)、UVA9(0.25質量份)、PAI1(0.8質量份)、HEC1(0.5質量份)、界面活性劑1(3.5質量份)、水(104質量份)，UVA8及UVA9分別為由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之粒子，且黏度為150 mPa·s之分散液9。
(例10) 首先，向坩堝中，投入粉末1、界面活性劑1、HEC1、清漆1及水，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而製備組合物101。向另一坩堝中，投入UVA8、UVA9及水，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而調整組合物102。 向又一坩堝中，投入組合物101及組合物102，投入氧化鋯球。其後，於150 rpm下轉動坩堝1小時，而獲得包含粉末1之粒子(100質量份)、UVA8(0.25質量份)、UVA9(0.25質量份)、PAI1(0.8質量份)、HEC1(0.5質量份)、界面活性劑1(3.5質量份)、水(104質量份)，UVA8及UVA9係未由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之粒子，且黏度為300 mPa·s之分散液10。
將各分散液中所包含之成分之種類及量、以及各分散液中所包含之UVA有無由胺基甲酸酯系聚合物所被覆彙總示出於下表1中。 [表1]
分散液編號 粉末種類 UVA種類 UVA有無由胺基甲酸酯所被覆 界面活性劑種類 其他樹脂 液狀分散介質
1 1(100) 1(2) 無 1(10) - NMP(128)
2 1(100) 2(2) 無 1(10) - NMP(128)
3 1(100) 3(2) 無 1(10) - NMP(128)
4 2(100) 1(2) 無 1(10) - NMP(128)
5 1(100) 4(2) 無 1(10) - NMP(128)
6 1(100) 5(2) 無 1(10) - 水(128)
7 1(100) 6(2) 無 1(10) - 水(128)
8 1(100) 7(2) 無 2(10) - 水(128)
9 1(100) 8(0.25) 9(0.25) 有 2(3.5) PAI(0.8) HEC(0.5) 水(104)
10 1(100) 8(0.25) 9(0.25) 無 2(3.5) PAI(0.8) HEC(0.5) 水(104)
※各個成分欄中之括號內之數字表示含量(質量份)。
3.積層體及膜之製造例 使用棒式塗佈機將分散液1塗佈於厚度18 μm之長條銅箔之表面，形成濕膜。繼而，將形成有該濕膜之金屬箔在120℃下以5分鐘通過乾燥爐，藉由加熱使其乾燥，而獲得乾膜。其後，於氮烘箱中，將乾膜於380℃下加熱3分鐘。藉此，製造具有金屬箔，且於其表面具有包含粉末1之熔融燒成物及UVA1的厚度為5 μm之聚合物層作為成形物的積層體1。於氯化鐵水溶液中，藉由蝕刻去除積層體1之銅箔而製造膜1。 除了使用分散液2～8來代替分散液1以外，以與膜1相同之方式，製造積層體2～8及膜2～8。 進而，變更膜1之製造中之塗佈條件，由分散液9製造具有厚度25 μm之聚合物層作為成形物之積層體9，由其獲得膜9。以相同之方式，由分散液10獲得積層體10及膜10。
4.評價 4-1.分散液之評價 4-1-1.分散液之分散穩定性 於將分散液1～10在容器中在25℃下保管保存後，藉由目視來確認其分散性，按照下述基準評價分散穩定性。 [評價基準] 〇：視認不到凝聚物。 △：視認到細小之凝聚物附著於容器側壁。輕輕攪拌後會均勻地再分散，而視認不到凝聚物。 ×：視認到細小之凝聚物附著於容器側壁。於輕輕攪拌後亦視認到細小之凝聚物附著於容器側壁。
4-2.膜之評價 4-2-1.膜之介電損耗正切 對膜1～10，分別藉由SPDR(Split Post Dielectric Resonation，分離柱電介質諧振)法測定膜之介電損耗正切(測定頻率：10 GHz)。按照下述基準，評價膜之介電損耗正切。 [評價基準] 〇：介電損耗正切未達0.0010。 △：介電損耗正切為0.0010以上0.0025以下。 ×：介電損耗正切超過0.0025。
4-2-2.膜之光線吸收率 對膜1～10，分別使用分光光度計(島津製作所股份有限公司製造，「UV-3600」)測定波長355 nm之紫外線之吸收率，求出膜之每1 μm厚度之紫外線之吸收率。按照下述基準，評價膜之光線透過率。 [評價基準] 〇：光線吸收率為90%以上。 △：光線吸收率為80%以上且未達90%。 ×：光線吸收率未達80%。 將各自之評價結果彙總示出於下表2中。
[表2]
分散液或膜編號 分散液之評價 膜之評價
分散穩定性 介電損耗正切 光線吸收率
1 〇 〇 〇
2 〇 〇 〇
3 〇 〇 〇
4 × △ △
5 〇 × ×
6 〇 〇 〇
7 〇 〇 〇
8 〇 〇 〇
9 〇 〇 〇
10 △ 〇 △
再者，即便將分散液6～10之各者及聚醯亞胺膜應用於伴隨塗敷及加熱之卷對卷方式，來製造於表面具有包含粉末1之熔融燒成物及UVA之層的聚醯亞胺膜之積層體，亦可高效率地連續生產由分散液形成之層上確認不到龜裂且紫外線吸收性優異之積層體。 [產業上之可利用性]
根據上述結果可知，本組合物之分散穩定性優異。又，本積層體及本膜於四氟乙烯系聚合物本來所具有之物性不會降低之情況下，紫外線吸收能力優異。 再者，將2020年11月25日申請之日本專利申請2020-195004號之說明書、申請專利範圍及摘要之全部內容引用於此，作為本發明之說明書之揭示而併入至本文。

Claims (15)

  1. 一種組合物，其包含：氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物之粒子、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑。
  2. 如請求項1之組合物，其中上述紫外線吸收劑之含量相對於上述四氟乙烯系聚合物之含量之質量比為0.001～0.1。
  3. 如請求項1或2之組合物，其係進而包含液狀分散介質之液狀組合物。
  4. 如請求項3之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物之粒子之含量為30質量%以上。
  5. 如請求項3或4之組合物，其中上述紫外線吸收劑以粒子之形式包含於上述組合物中。
  6. 如請求項5之組合物，其中上述紫外線吸收劑之粒子係由胺基甲酸酯系聚合物所被覆之粒子。
  7. 如請求項1至6中任一項之組合物，其進而含有無機填料或除上述四氟乙烯系聚合物以外之聚合物。
  8. 如請求項1至7中任一項之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物係具有260～320℃之熔融溫度之聚合物。
  9. 如請求項1至8中任一項之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物係具有含羰基之基之聚合物。
  10. 如請求項9之組合物，其中上述四氟乙烯系聚合物係每1×10 6個主鏈碳數具有10～5000個含羰基之基之聚合物。
  11. 如請求項1至10中任一項之組合物，其中上述紫外線吸收劑之熔點為50～200℃。
  12. 如請求項1至11中任一項之組合物，其中上述紫外線吸收劑所具有之羥基為酚性羥基。
  13. 如請求項1至12中任一項之組合物，其中上述紫外線吸收劑所具有之含氮雜環結構為三𠯤結構、苯并三唑結構或羥苯基三𠯤結構。
  14. 一種積層體，其具有至少1層包含具有含羰基之基且氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上之層。
  15. 一種膜，其包含具有含羰基之基且氟含量為70質量%以上之四氟乙烯系聚合物、以及具有含氮雜環結構及羥基且分子量為250以上之紫外線吸收劑，且每1 μm厚度之波長255～355 nm之光線吸收率為80%以上。
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