TW202106782A - 氧化鋯奈米粒子、分散液及樹脂組合物 - Google Patents

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Abstract

本發明的目的在於提供一種粒徑大的氧化鋯奈米粒子。該氧化鋯奈米粒子為藉由動態光散射法的粒徑測定的體積基準的累積90%粒徑D90相對於體積基準的累積50%粒徑D50的比值（D90/D50）為3.0以下，藉由CuKα射線作為光源的XRD測定的（101）面的半值寬度為1.20°以下。該粒子較佳為藉由動態光散射法的粒徑測定的擴散係數為7.0×10-7 cm2 /sec以下。

Description

氧化鋯奈米粒子、分散液及樹脂組合物
本發明關於一種氧化鋯奈米粒子、以及含有其之分散液及樹脂組合物。
近年來，金屬氧化物的奈米粒子在有助於例如光學材料、電子部件材料、磁性記錄材料、觸媒材料及外線吸收材料等的各種材料的高功能化或高性能化方面非常受到注目。舉例而言，氧化鋯粒子具有高折射率，因此已知藉由將氧化鋯奈米粒子分散在樹脂中以使折射率提升的技術。
舉例而言，專利文獻1中，揭示由2種以上的被覆劑被覆，該被覆劑中的至少一種是以R1 -COOH（R1 表示為碳數6以上的烴基）所示之氧化鋯奈米粒子。
［先前技術文獻］ ［專利文獻］ ［專利文獻1］日本特開2008-44835號公報
［發明所欲解決的課題］ 將氧化鋯奈米粒子分散在樹脂中以使含有粒子的樹脂組合物的折射率提升的技術中，認為將氧化鋯奈米粒子的粒徑變大對於提升樹脂組合物的折射率是有效的。然而，在上述專利文獻1中具體揭示的氧化鋯奈米粒子的粒徑為5nm左右。
在此，本發明的目的在於提供一種粒徑大的氧化鋯奈米粒子。
［用於解決課題的手段］ 本發明如下： ［1］一種氧化鋯奈米粒子，其中藉由動態光散射法的粒徑測定的體積基準的累積90%粒徑D90相對於體積基準的累積50%粒徑D50的比值（D90/D50）為3.0以下， 藉由CuKα射線作為光源的XRD測定的（101）面的半值寬度為1.20°以下。 ［2］如［1］所載之氧化鋯奈米粒子，其中藉由動態光散射法的粒徑測定的擴散係數為7.0×10-7 cm2 /sec以下。 ［3］如［1］或［2］所載之氧化鋯奈米粒子，其以被覆劑被覆。 ［4］如［3］所載之氧化鋯奈米粒子，其中以被覆劑被覆的氧化鋯奈米粒子的折射率為1.83以上。 ［5］如［3］或［4］所載之氧化鋯奈米粒子，其中以被覆劑被覆的氧化鋯奈米粒子的加熱重量減少率為15.0%以下。 ［6］如［1］至［5］中任一項所載之氧化鋯奈米粒子，其中藉由動態光散射法的粒徑測定的最大粒徑為100nm以下。 ［7］一種分散液，其含有如［1］至［6］中任一項所載之氧化鋯奈米粒子。 ［8］一種樹脂組合物，其含有如［1］至［6］中任一項所載之氧化鋯奈米粒子。
［發明的效果］ 根據本發明之氧化鋯奈米粒子，能夠提供折射率高的樹脂組合物。
本發明之氧化鋯奈米粒子為藉由CuKα射線作為光源的XRD測定的（101）面的半值寬度為1.20°以下，再者，藉由動態光散射法的粒徑測定的體積基準的累積90%粒徑D90（以下，有僅稱為D90的情況）相對於體積基準的累積50%粒徑D50（以下，有僅稱為D50的情況）的比值（D90/D50）為3.0以下。
（101）面為正方晶的繞射面，（101）面的半值寬度為1.20°以下表示微晶尺寸的大的正方晶比例高，因此氧化鋯奈米粒子亦成為粒徑大者。（101）面的半值寬度以1.1°以下為佳，以1.0°以下較佳。又，（101）面的半值寬度以0.6°以上為佳，以0.65°以上較佳，以0.7°以上更佳。較佳地，藉由將（101）面的半值寬度增大至預定以上，亦即使微晶尺寸成為預定以下，而氧化鋯奈米粒子的粒徑成為預定以下，能夠提升含有氧化鋯奈米粒子之樹脂組合物的透明性。
又，本發明之氧化鋯奈米粒子，藉由動態光散射法的粒徑測定的累積90%粒徑D90相對於累積50%粒徑D50的比值（D90/D50）為3.0以下，亦即粒度分佈為尖銳的。當粒度分佈為尖銳時，在粒子分散於膜等的薄膜的情況下，能夠均一地分散，因此能夠製造表現出穩定物性的膜等的薄膜。D90/D50的值，以2.5以下為佳，以2以下較佳，又以1.1以上為佳，以1.2以上較佳。
在上述動態光散射法，基於將氧化鋯奈米粒子的礦油精（mineral spirit）溶液與己烷混合製作以成為氧化鋯奈米粒子濃度為5質量％以上且10質量％以下的溶液的氧化鋯奈米粒子的移動速度計測粒徑。在上述溶液中的氧化鋯奈米粒子的移動速度，由於與該粒子所占的體積相關，藉由此方法可估計氧化鋯奈米粒子的粒徑。
又，以動態光散射法測定的D50例如為13nm以上，以14nm以上較佳，以15nm以上更佳。又，D50以20nm以下為佳，以19nm以下較佳，以18nm以下更佳。再者，以動態光散射法測定的最大粒徑以100nm以下為佳，以80nm以下較佳，以60nm以下更佳。
以動態光散射法測定的擴散係數，以7.0×10-7 cm2 /sec以下為佳。擴散係數在上述範圍，可為氧化鋯奈米粒子的粒徑大、或粒度分佈為尖銳的指標。擴散係數以6.5×10-7 cm2 /sec以下較佳，以6.0×10-7 cm2 /sec以下更佳，或者以3.0×10-7 cm2 /sec以上為佳，以3.5×10-7 cm2 /sec以上，以4.0×10-7 cm2 /sec以上更佳。
在本發明之氧化鋯奈米粒子，正方晶的比例可藉由來自以X射線繞射測定的各結晶結構的尖峰強度的比計算，正方晶的尖峰強度相對於正方晶與單斜晶的總計尖峰強度之比例，以80%以上為佳，以85%以上較佳，也可為100%。 X射線繞射的測定範圍並未特別限定，但由於作為氧化鋯的結晶結構之正方晶、立方晶以及單斜晶的最大繞射峰皆在2θ:26~38°的範圍內檢測出，因此以測定至少此範圍為佳。
本發明之氧化鋯奈米粒子以被覆劑被覆者為佳，作為被覆劑，可舉出羧酸化合物。
作為羧酸化合物，可舉出例如： 草酸、丙二酸、酪酸（butyric acid）、琥珀酸、吉草酸、戊二酸、己酸、己二酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、十二酸、十四酸、棕櫚酸、硬脂酸等的直鏈狀飽和脂肪族羧酸； 三甲基乙酸（pivalic acid）、2,2-二甲基酪酸、3,3-二甲基酪酸、2,2-二甲基吉草酸、2,2-二乙基酪酸、3,3-二乙基酪酸、2-乙基己酸、2-甲基庚酸、4-甲基辛酸、新癸酸（neodecanoic acid）等的分枝鏈狀飽和脂肪族羧酸； 環烷酸、環己烷二羧酸等的含脂環式烴基羧酸； 丙烯酸、甲基丙烯酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、油酸、亞麻油酸、次亞麻油酸等的直鏈狀不飽和脂肪族羧酸； 甲氧乙酸、乙氧乙酸、3-乙氧基丙酸、2-甲氧基乙氧乙酸、2-甲氧基乙氧基乙氧乙酸等的含醚鍵羧酸； 乳酸、蘋果酸、檸檬酸、羥基硬脂酸等的含羥基羧酸； 丙酮酸等的含羰基羧酸； 苯甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸等的芳香族羧酸； 2-丙烯醯氧基乙基琥珀酸（2-acryloyloxyethyl succinic acid）、2-甲基丙烯醯氧基乙基琥珀酸（2-methacryloyloxyethyl succinic acid）、2-丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸（2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid）、2-甲基丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸（2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid）、2-丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸、2-甲基丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸等的含（甲基）丙烯醯基羧酸；等。
本發明之氧化鋯奈米粒子以羧酸化合物中的至少總碳數為6以上（較佳為7以上）的羧酸化合物（特別是單羧酸化合物）被覆者為佳，以總碳數為6以上（較佳為7以上）的分枝鏈狀飽和脂肪族羧酸（特別是單羧酸化合物）較佳。
本發明之氧化鋯奈米粒子以2種以上的羧酸化合物被覆者為佳，以至少總碳數為6以上（較佳為7以上）的分枝鏈狀飽和脂肪族羧酸被覆，同時以含醚鍵羧酸覆者為佳。 作為分枝鏈狀飽和脂肪族羧酸，以總碳數為9以下的分枝鏈狀飽和脂肪族羧酸為佳，以總碳數為8以下的分枝鏈狀飽和脂肪族羧酸較佳，以2-乙基己酸特佳。 作為含醚鍵羧酸，以甲氧乙酸、乙氧乙酸、3-乙氧基丙酸、2-甲氧基乙氧乙酸、2-甲氧基乙氧基乙氧乙酸為佳，以甲氧乙酸、乙氧乙酸較佳，以甲氧乙酸更佳。
上述被覆劑的量，可藉由將被覆的氧化鋯奈米粒子加熱，測定加熱前後的重量，並算出重量減少量而得知。亦即，將被覆的氧化鋯奈米粒子在空氣氣氛下，以10℃/分，自室溫加熱至800℃，測定加熱前後的粒子重量，並以下列公式計算重量減少率。 加熱重量減少率（%）＝｛（加熱前的粒子重量）－（加熱後的粒子重量）｝/（加熱前的粒子重量）×100
加熱重量減少率以15.0%以下為佳，以13%以下較佳，雖然並未限定下限值，但例如為8%。
在本發明之氧化鋯奈米粒子以被覆劑被覆的情況，被覆的氧化鋯奈米粒子的折射率以1.83以上為佳。被覆的氧化鋯奈米粒子的折射率為藉由下文的實施例所示之方法計算的值。上述折射率以1.84以上較佳，以1.85以上更佳。上述折射率的上限並未特別限定，但例如為2.2以下。
本發明的較佳態樣的被覆的氧化鋯奈米粒子的折射率的計算步驟如下所示。如下文的實施例所示，首先使用作為分散媒的水、醇系溶媒或烴系溶媒，製作被覆的氧化鋯奈米粒子濃度為58~82%的分散液。接著，使用ATAGO公司製的多波長阿貝折射計DR-M4型（干涉濾波器 波長589(D)nm）測定此分散液的折射率nd 以及僅溶媒的折射率ns ，同時測定溶媒的比重及分散液的比重。可計算出溶媒的比重及分散液的比重以及來自固形物量的粒子與分散媒的體積比。計算出的粒子的體積比例Xp （%）以及分散媒的體積比例Xs （%）（但，Xp +Xs =100）與測定的上述分散液的折射率nd 、僅溶媒的折射率ns 及被覆的氧化鋯粒子的折射率np 滿足下列的關係式，而可自測定的Xp 、Xs 及nd 求得被覆的氧化鋯粒子的折射率np 。 np ×Xp /100+ns ×Xs /100=nd
本發明之氧化鋯奈米粒子可藉由將氧化鋯前驅物在水的存在下進行加熱（以下稱為水熱合成）而製造。較佳地，使氧化鋯前驅物與羧酸化合物反應，並生成鍵結有羧酸酯基（carboxylate group）的鋯，並且將其進行水熱合成為佳。再者，在本發明，較佳地，在混合氧化鋯前驅物與羧酸化合物之前，設有將氧化鋯前驅物在水的存在下，於50~100℃（較佳為60~90℃，更佳為85~90℃）的溫度維持2~8小時（較佳為3~6小時）之步驟（以下稱為前驅物-水反應步驟（2）），經過該前驅物-水反應步驟（2）的氧化鋯前驅物與羧酸化合物混合，並使兩者反應，而生成鍵結有羧酸酯基的鋯（以下稱為羧酸酯鍵結鋯的生成步驟（3））。
上述前驅物-水反應步驟（2）中，與氧化鋯前驅物共存的水可為與氧化鋯前驅物分開添加的水，也可使用作為氧化鋯前驅物的含水物。又，維持在上述50~100℃（較佳為60~90℃，更佳為85~90℃）的期間，以進行攪拌為佳。在該步驟（2），以與烴系等的溶劑共存更佳。
在上述羧酸酯鍵結鋯的生成步驟（3），經過上述步驟（2）的氧化鋯前驅物與羧酸化合物、以及較佳的溶劑（可直接使用上述步驟（2）使用的溶劑），在100~150℃，較佳為100~140℃，更佳為100~130℃的溫度維持2~6小時，以生成羧酸酯鍵結鋯。在此步驟（3），藉由熱處理發生酸．鹼基反應或酯化反應，使得在氧化鋯前驅物中鍵結至鋯的基團（例如，後述的鹼基性碳酸鋯的情況為-O-C(=O)-O-）的一部份被羧酸酯基（-OCOR）部分取代而生成羧酸酯鍵結鋯。
在上述步驟（3），與氧化鋯前驅物共存的羧酸化合物的量，相對於氧化鋯前驅物中的Zr的莫耳比以0.85~1.6（較佳為.05~1.5，更佳為1.1~1.3）左右為佳。又，在步驟（3），儘管生成作為氧化鋯前驅物與羧酸化合物的反應生成物的水，但是該水可殘留在系統內，也可以蒸餾至系統外，較佳為將其蒸餾至系統外。藉由將水蒸餾至系統外，不僅可提高氧化鋯前驅物與羧酸的反應溫度而促進反應，也具有提升最終生成的氧化鋯奈米粒子分散至溶劑或樹脂時的透明性之優點。在步驟（3）將水蒸餾至系統外的情況，步驟（3）的反應溫度的最高溫度例如為120℃以上（通常為130℃以下）。
作為氧化鋯前驅物，只要與羧酸反應並形成羧酸酯鍵結鋯者，則沒有特別限定，但以使用鹼基性碳酸鋯為佳，使用含有水的鹼基性碳酸鋯較佳。鹼基性碳酸鋯含有的水，相對於含有水的鹼基性碳酸鋯整體，以20~50質量%為佳。作為鹼基性碳酸鋯，可舉出例如日本輕金屬股份有限公司製的鹼基性碳酸鋯、Saint-Gobain ZirPro(Handan)Co.,Ltd製的碳酸鋯（產品名稱：S-ZBC、SN-ZBC）、STREAM CHEMICALS、INC.製的鹼基性碳酸鋯、ThermoFisher SCIENTIFIC製的鹼基性碳酸鋯。此外作為羧酸化合物，以使用較佳的羧酸化合物所舉出的上述的總碳數為6以上之分枝鏈狀飽和脂肪族羧酸為佳。
在上述的前驅物-水反應步驟（2）之前，以設有將氧化鋯前驅物與溶劑一起於常溫（20~40℃）攪拌3~60分鐘（較佳為5~30分鐘）的氧化鋯前驅物攪拌步驟（1）更佳，在該步驟（1），較佳為將與上述步驟（3）使用的羧酸化合物分開的少量羧酸化合物混合，該羧酸化合物的量，相對於氧化鋯前驅物的鋯1莫耳，可例如為0.01~0.20莫耳，較佳0.03~0.15莫耳左右。
上述羧酸酯鍵結鋯的生成步驟（3）之後，設有藉由過濾等除去殘存於步驟（3）的反應溶液的水分或副生成物、未反應物之純化步驟（4），藉由添加溶劑等，可調整濃度以使鋯的濃度為例如10〜15質量%。
在上述羧酸酯鍵結鋯的生成步驟（3）或純化步驟（4）所得到的羧酸酯鍵結鋯的溶液中加入水，進行水熱合成，可得到本發明之氧化鋯奈米粒子（特別是以羧酸化合物被覆的氧化鋯奈米粒子）。水熱合成的條件並未特別限定，但水熱合成時的壓力可例如為0.1MPaG（表示錶壓（gage pressure））以上，以0.2MPaG以上為佳，以0.4MPaG以上較佳，或可為1.5MPaG以下。水熱合成時的溫度可例如為130℃以上，以150℃以上為佳，以160℃以上較佳，或以220℃以下為佳，以210℃以下較佳。水熱合成時間可例如為4~20小時，以6~10小時為佳。水熱合成反應可在一定溫度下反應，也可在以一定溫度反應後將反應溫度提高而以多階段進行，以2階段實施為佳。此外，此情況的反應溫度及反應時間以在上述範圍為佳。
又，水熱合成時，水的莫耳數相對於鋯的莫耳數的比值以3以上且50以下為佳，以5以上且30以下較佳。
又，在水熱合成所得到的氧化鋯奈米粒子與以水熱合成被覆的羧酸化合物不同的被覆劑（以含醚鍵羧酸為佳）一起混合於溶劑，於30~100℃的溫度下攪拌1~10小時，而可得到以2種被覆劑被覆的氧化鋯奈米粒子。只要該溶劑可分散氧化鋯奈米粒子則未特別限定，也可直接使用含有氧化鋯奈米粒子的水熱合成液，也可為甲苯等的芳香族烴系溶劑。
本發明可更包含含有上述的本發明之氧化鋯奈米粒子之分散液、以及樹脂組合物。
本發明之分散液使用的溶劑，可舉出例如，甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、乙二醇等醇類；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丙酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯等酯類；乙二醇單甲基醚、二乙二醇單丁基醚等醚類；丙二醇單甲基醚乙酸酯等改質醚類（較佳為醚改質及/或酯改質醚類，更佳為醚改質及/或酯改質烷二醇類）；苯、甲苯、二甲苯、乙苯、三甲苯、己烷、環己烷、甲基環己烷、乙基環己烷、礦油精等烴類；二氯甲烷、氯仿等鹵化烴類；二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等醯胺類；水；礦物油、植物油、蠟油、矽酮油等油類。可選擇該等中的1種使用，亦可選擇2種以上混合使用。
在本發明的分散液，可將單官能單體或交聯性單體等的聚合性化合物作為介質。
單官能單體，只要為僅具有1個可聚合的碳-碳雙鍵的化合物即可，可舉出(甲基)丙烯酸酯；苯乙烯、對-第三丁基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯、對-甲基苯乙烯、對-氯苯乙烯、對-氯甲基苯乙烯等苯乙烯系單體；(甲基)丙烯酸等含羧基單體；(甲基)丙烯酸羥基乙酯等含羥基單體等。作為上述的(甲基)丙烯酸酯，具體而言，可舉出例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等(甲基)丙烯酸烷基酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯；(甲基)丙烯酸苯甲酯等(甲基)丙烯酸芳烷基酯；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有縮水甘油基的(甲基)丙烯酸酯，但以(甲基)丙烯酸甲酯特佳。該等例示的單官能單體，可單獨使用，或亦可二種以上適宜混合使用。
交聯性單體，只要含有複數個單官能單體具有的碳-碳雙鍵與可共聚合的碳-碳雙鍵的化合物即可。作為該交聯性單體，具體而言，可舉出例如二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二丙二醇酯等多(甲基)丙烯酸烷二醇酯；二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸二新戊二醇酯等多(甲基)丙烯酸新戊二醇酯；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等三羥甲基丙烷多(甲基)丙烯酸酯；四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯等的多(甲基)丙烯酸新戊四醇酯等多官能(甲基)丙烯酸酯；二乙烯基苯等多官能苯乙烯系單體；酞酸二烯丙基酯（diallyl phthalate）、異酞酸二烯丙基酯、三聚氰酸三烯丙基酯、三聚異氰酸三烯丙基酯等多官能烯丙基酯系單體等。
樹脂組合物使用的樹脂，只是是作為通常樹脂使用者則並未特別限定，但可舉出例如熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂。
作為熱塑性樹脂，具體而言，可例示6-尼龍、66-尼龍、12-尼龍等聚醯胺類；聚醯亞胺類；聚氨酯類；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴類；PET、PBT、PEN等聚酯類；聚醚碸、聚醚醚碸、聚醚酮、聚醚醚酮等芳香族系聚醚類；聚氯乙烯類；聚氯化亞乙烯（polyvinylidene chloride）類；聚乙酸乙烯酯類；聚苯乙烯類；（甲基）丙烯酸樹脂系聚合物；ABS樹脂；氟樹脂；醯亞胺矽烷（imidosilane）樹脂；等。又，亦可舉出聚乙烯醇縮丁醛系樹脂、聚氨酯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系樹脂等的軟質樹脂或硬質樹脂等。在將熱塑性樹脂作為介質的情況下，可以使用已知的混合手段，例如，可以適當地採用藉由擠出機的混合或藉由溶液的混合。
作為熱硬化性樹脂，可舉出縮合系熱硬化樹脂，例如酚．福馬林樹脂、甲酚．福馬林樹脂等的酚樹脂；尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、三聚氰二胺（Guanamine）樹脂等的胺基樹脂；等。當採用酚系樹脂的情況，以與具有三嗪環的化合物、三聚氰二胺衍生物、三聚氰酸（cyanuric acid）衍生物或異三聚氰酸衍生物併用為較佳的實施形態。
作為以熱或光硬化之樹脂，亦可使用具有陽離子聚合性基團及/或自由基聚合性基團的樹脂。具體而言，可舉出環氧樹脂；胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯、環氧基(甲基)丙烯酸酯；聚酯(甲基)丙烯酸酯；不飽和聚酯；二乙烯基苯等苯乙烯系樹脂；鄰苯二甲酸二烯丙酯、間苯二甲酸二烯丙酯、三聚氰酸三烯丙酯、異三聚氰酸三烯丙酯等的烯丙酯系樹脂；二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己烷二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,9-壬二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸3-甲基-1,5-戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇酯、二羥甲基-三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、五環十五烷二甲醇二二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚的二(甲基)丙烯酸加成物、環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、降莰烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、對薄荷烷-1,8-二醇二(甲基)丙烯酸酯、對薄荷烷-2,8-二醇二(甲基)丙烯酸酯、對薄荷烷-3,8-二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙環[2.2.2]-辛烷-1-甲基-4-異丙基-5,6-二羥甲基二(甲基)丙烯酸酯等的二官能(甲基)丙烯酸酯化合物；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇聚(甲基)丙烯酸酯、四新戊四醇聚(甲基)丙烯酸酯、五新戊四醇聚(甲基)丙烯酸酯等的三官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物等的(甲基)丙烯酸系衍生物；(甲基)丙烯酸-2-乙烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸四乙二醇酯、三羥甲基丙烷的乙烯氧化物加成物的三(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的乙烯氧化物加成物的二(甲基)丙烯酸酯等的具有醚結構的(甲基)丙烯系衍生物；三乙二醇二乙烯基醚、環己烷二甲醇二乙烯基醚等的乙烯基醚系化合物；三羥甲基丙烷二烯丙基醚、新戊四醇三烯丙基醚等的烯丙基醚、甘油二烯丙基醚之己二酸酯等的烯丙基醚系化合物；含有側鏈型雙鍵的聚合物；具有聚合性官能基及含有矽基之三聚異氰酸酯化合物；等。
上述之中，以聚醯亞胺類、聚氨酯類、聚酯類、(甲基)丙烯酸樹脂系聚合物、酚樹脂、胺基樹脂、環氧樹脂較佳。該等可以單獨使用，亦可混合2種以上使用。
此外，本發明之樹脂組合物，也含有構成上述聚合物的單體（聚合物前驅物），例如二羧酸和二胺的混合物、丙烯酸或甲基丙烯酸等的不飽和羧酸或其酯化合物等、以及本發明之氧化鋯奈米粒子之組成物。又，本發明之樹脂組合物，亦可為包含聚合物與單體之雙方者。
含有本發明之氧化鋯奈米粒子的分散體，由於可實現良好的分散性及保存安定性，因此可使用分散體發揮在應用於成形或硬化之物品等的各種用途。作為需要高分散性的用途，可適當地用於例如抗蝕劑用途、光學用途、塗佈用途、黏著用途，可適當地使用於光學透鏡、光學薄膜用黏著劑、光學薄膜用接著劑、奈米壓印用樹脂組合物、微透鏡陣列、使用於透明電極之反射防止層、反射防止薄膜或反射防止劑、光學透鏡的表面塗層、有機EL之光萃取層、各種硬塗層材、TFT用平坦化膜、彩色濾光片用表面保護層、反射防止薄膜等的各種保護膜、及光學濾光器、觸控感測器用絕緣膜、TFT用絕緣膜、彩色濾光片用光隔片、觸控面板用保腹膜等的光學材料。特別是，加上本發明之氧化鋯奈米粒子除了具有顯著的分散性，也具有高折射率、高硬度、高安定性，故以使用於光學透鏡、光學透鏡的表面塗層、各種硬塗層材、觸控感測器用絕緣膜、TFT用絕緣膜、觸控面板用保護膜為佳。
再者，本發明之氧化鋯奈米粒子除了光學用途以外，可利用其高介電常數而適用於半導體之閘極絕緣膜或DRAM等的記憶體用電容器絕緣膜。作為得到如此之高介電常數的絕緣膜的方法，已知有使用有機金屬前驅物以化學氣相沉積法（Chemical Vapor Deposition，CVD）法或原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）法等的氣相成長法蒸鍍之後，進行氧化處理之方法。為得所期望的高介電常數的金屬氧化物需要600℃以上的高溫處理，但因其影響，會帶來以釘扎（pinning）現象為首之半導體層的動作不安定化的現象。本發明之氧化鋯奈米粒子，無須高溫處理，於生成時已經具有高介電常數，可對應半導體細微化之積層化的同時，由於無需高溫處理，亦可適用在塑膠基板上的半導體製造。又，作為本發明之氧化鋯奈米粒子的其他用途，可舉出人工牙等的牙科材料、或自動鉛筆用鉛筆芯、木軸用鉛筆芯等的用途。
本申請案係基於2019年5月22日申請的日本國專利申請號第2019-095849號主張優先權效益。於2019年5月22日申請的日本國專利申請號第2019-095849號的說明書的全部內容，係以參考方式引用於本申請。
［實施例］ 下文將舉出實施例更具體說明本發明。本發明不受以下實施例的限制，當然亦可在能切合於上述、後述要旨的範圍施加適當地變更而實施，該等之任一者皆包含於本發明的技術範圍。
下述的實施例及比較例所得到的氧化鋯奈米粒子，係以以下的方法評價。
（1）藉由動態光散射法所測定的粒徑及擴散係數 藉由動態光散射法的粒徑及擴散係數使用測定裝置（大塚電子股份有限公司製，濃厚系粒徑分析器 FPAR-1000）進行測定。使用經5B濾紙過濾的氧化鋯奈米粒子礦油精溶液0.6 g加入己烷0.7~1.0 g者（氧化鋯奈米粒子的濃度為5~10質量%左右）作為測定樣品，在測定溫度25℃，測定時間180秒下測定3次，並自體積分佈求得的D50的平均值作為平均粒徑。又，亦針對D90、最大粒徑、擴散係數分別進行測定3次，求得平均值。此外，在調配氧化鋯粒子礦油精溶液時有白濁的情況下，將選自2-甲氧基乙氧基乙氧乙酸、羥基硬脂酸、硬脂酸的群組中的1種羧在相對於Zr為5重量%以下的範圍添加可成為澄清的最小量，以使其成為澄清溶液。
（2）藉由粉末X射線繞射解析的結晶結構 氧化鋯奈米粒子的結晶結構使用全自動多功能X射線繞射裝置（Rigaku公司 Smart Lab)進行測定。測定條件如下： X射線源：CuK α(0.154nm) X射線輸出設定：45kV、200mA 取樣寬幅：0.02° 掃描速度：5°/min 測定範圍：5~90° 測定溫度：25℃ 所得到的X射線繞射圖表以解析軟體（PDXL2）解析，求得(101)面的分析值的FWHM（Full Width at Half Maximum），將其作為（101）面的半值寬度。
（3）加熱重量減少率的測定 加熱重量減少率使用BRUKER axs公司製的TG-DTA2000SR（附有自動取樣器）進行測定。在空氣氣氛下，以10℃/分，將氧化鋯奈米粒子自室溫加熱至800℃，測定加熱前後的粒子重量，並以下列公式測定該粒子的重量減少率。 加熱重量減少率（%）＝｛（加熱前的粒子重量）－（加熱後的粒子重量）｝/（加熱前的粒子重量）×100
（4）氧化鋯奈米粒子的折射率 在水熱合成後經乾燥的氧化鋯奈米粒子添加作為分散媒的ISOPA G（Andoh Parachemie公司製）並進行加熱及攪拌，以製作氧化鋯奈米粒子濃度58~82%的分散液，使用ATAGO公司製的多波長阿貝折射計DR-M4型（干涉濾波器 波長589(D)nm）測定該分散液的折射率，更進一步測定分散液的比重及固形物量含有率。固形物量含有率作為粒子與分散媒的重量比，自溶媒與分散液的比重計算出粒子與分散媒的的體積比。自該體積比及溶媒與分散液的折射率計算出粒子的折射率。 又，在水熱合成後經乾燥的氧化鋯奈米粒子添加作為分散媒的水及/或甲醇並進行加熱及攪拌，以製作氧化鋯奈米粒子濃度58~82%的分散液，使用ATAGO公司製的多波長阿貝折射計DR-M4型（干涉濾波器 波長589(D)nm）測定該分散液的折射率，更進一步測定分散液的比重及固形物量含有率。固形物量含有率作為粒子與分散媒的重量比，自溶媒與分散液的比重計算出粒子與分散媒的的體積比。亦自該體積比及溶媒與分散液的折射率計算出表面處理後的粒子的折射率。 ［實施例1］
2-乙基己酸鋯的製造 在備有攪拌機、溫度計及冷卻管的200ml可分離式燒瓶添加鹼基性碳酸鋯（日本輕金屬製ZBC ZrO2 含有率42.3% 含水分37%）50 g以及作為溶劑的礦油精73.5 g、2-乙基己酸2.5 g，在常溫下攪拌5~10分鐘後（步驟（1）），浸入油浴，以400 rpm攪拌並將內溫升溫至70℃。接著，將內溫維持在70~80℃繼續攪拌3小時（步驟（2））。接著，添加2-乙基己酸23.8 g（與步驟（1）添加的2-乙基己酸2.5 g合併，相對於Zr為1.1莫耳），將油浴的溫度調節成內溫為100~103℃並維持4小時，以使鹼基性碳酸鋯與2-乙基己酸反應（步驟（3））。
反應物在反應開始時為白色漿狀，但在反應結束時，呈半透明的混濁溶液。將反應液冷卻至室溫時分離成2層，上層為礦油精層。將上層進行過濾，並添加少量礦油精，以將Zr濃度調整成約12%左右後（步驟（4）），使用該溶液實施下述的水熱合成。
水熱合成 將所得到的2-乙基己酸鋯-礦油精溶液42.4 g與純水7.3 g混合，裝料至附有溫度計及攪拌機的高壓釜（內容量100ml），將反應器中的氣氛替換成氮氣。接著，將內溫加熱至190℃反應9小時，以合成氧化鋯奈米粒子。在以190℃進行反應之際容器中的壓力為1.2MPa。將反應後的溶液取出，過濾生成的沉澱物並以丙酮洗淨後進行減壓乾燥，而得到氧化鋯奈米粒子（以2-乙基己酸被覆的氧化鋯奈米粒子）。
將上述氧化鋯奈米粒子的結晶結構以X射線繞射裝置確認，檢測出屬於正方晶與單斜晶的晶體結構的繞射線。自繞射線的強度可以確認，結晶結構主要為正方晶，自繞射峰推定的正方晶與單斜晶的尖峰強度比為91/9。由上述「（1）藉由動態光散射法所測定的粒徑及擴散係數」測定的粒徑及擴散係數、由上述「（2）藉由粉末X射線繞射解析的結晶結構」測定的（101）面的半值寬度、上述「（3）加熱重量減少率的測定」及上述「（4）氧化鋯奈米粒子的折射率」的測定結果示於表1。
氧化鋯奈米粒子的表面處理 將上述水熱合成所得到的以2-乙基己酸被覆的氧化鋯奈米粒子9.4 g及礦油精溶媒41 g裝料至備有攪拌機、溫度計及冷卻管的200ml可分離式燒瓶，添加硬脂酸0.2 g、甲氧乙酸1.2 g，並在50℃維持1小時，以藉由甲氧乙酸將氧化鋯奈米粒子的表面進行表面修飾。針對以甲氧乙酸表面處理後的氧化鋯奈米粒子，根據上述「（3）加熱重量減少率的測定」及「（4）氧化鋯奈米粒子的折射率」，以上述方法計算出氧化鋯奈米粒子的加熱重量減少率及折射率。 ［實施例2~實施例4］
在實施例1，鹼基性碳酸鋯、礦油精、2-乙基己酸的混合液浸入油浴並升溫後的攪拌溫度、以及在上述攪拌溫度的維持時間、上述攪拌後添加的2-乙基己酸相對於Zr的莫耳比、2-乙基己酸與鹼基性碳酸鋯的反應溫度分別變更成表1所載之值以外，以與實施例1同樣的方式，製作以2-乙基己酸與甲氧乙酸被覆的氧化鋯奈米粒子。此外，在（步驟（3））的反應溫度描述為100~130℃的例子為蒸餾出作為（步驟（3））的反應生成物的水之例子。 ［實施例5］
在備有攪拌機、溫度計及冷卻管的200ml可分離式燒瓶添加鹼基性碳酸鋯（Saint-Gobain ZirPro（Handan）Co.,Ltd製SZBC ZrO2 含有率41.1% 含水分40.2%）50 g及作為溶劑的礦油精74 g、2-乙基己酸2.5 g，並在常溫下攪拌5~10分鐘後（步驟（1）），浸入油浴，以250 rpm攪拌並將內溫升溫至85℃。接著，將內溫維持在85~90℃繼續攪拌3小時（步驟（2））。接著，添加2-乙基己酸24 g（與步驟（1）添加的2-乙基己酸2.5 g合併，相對於Zr為1.1莫耳），將油浴的溫度調節成內溫為100~130℃並維持4小時，以使鹼基性碳酸鋯與2-乙基己酸反應（步驟（3））。
反應物在反應開始時為白色漿狀，但在反應結束時，呈半透明的混濁溶液。將反應液冷卻至室溫時分離成2層，上層為礦油精層。將上層進行過濾，並添加少量礦油精，以將Zr濃度調整成約12%左右後（步驟（4）），使用該溶液實施與實施例1同樣的水熱合成及表面處理。 ［實施例6］
使用經由與實施例5同樣的（步驟（1））~（步驟（4））製造的2-乙基己酸鋯並以下述方法實施水熱合成。
水熱合成 將以與實施例5同樣的方法得到的2-乙基己酸鋯-礦油精溶液42.4 g與純水7.3 g混合，裝料至附有溫度計及攪拌機的高壓釜（內容量100ml），將反應器中的氣氛替換成氮氣。接著，將內溫加熱至190℃反應9小時後，將內溫提高至195℃反應8小時，以合成氧化鋯奈米粒子。在以190℃進行反應之際容器中的壓力為1.2MPa，在以195℃進行反應之際容器中的壓力為1.40MPa。將反應後的溶液取出，過濾生成的沉澱物並以丙酮洗淨後進行減壓乾燥，而得到氧化鋯奈米粒子（以2-乙基己酸被覆的氧化鋯奈米粒子）。
將上述氧化鋯奈米粒子的結晶結構以X射線繞射裝置確認，檢測出屬於正方晶與單斜晶的晶體結構的繞射線。自繞射線的強度可以確認，結晶結構主要為正方晶，自繞射峰推定的正方晶與單斜晶的尖峰強度比為92/8。由上述「（1）藉由動態光散射法所測定的粒徑及擴散係數」測定的粒徑及擴散係數、由上述「（2）藉由粉末X射線繞射解析的結晶結構」測定的（101）面的半值寬度、上述「（3）加熱重量減少率的測定」及上述「（4）氧化鋯奈米粒子的折射率」的測定結果示於表1。
氧化鋯奈米粒子的表面處理 將上述水熱合成所得到的以2-乙基己酸被覆的氧化鋯奈米粒子9.4 g及礦油精溶媒41 g裝料至備有攪拌機、溫度計及冷卻管的200ml可分離式燒瓶，添加硬脂酸0.2 g、甲氧乙酸1.2 g，並在50℃維持1小時，以進一步藉由甲氧乙酸將氧化鋯奈米粒子的表面進行表面修飾。針對以甲氧乙酸表面處理後的氧化鋯奈米粒子，根據上述「（3）加熱重量減少率的測定」及「（4）氧化鋯奈米粒子的折射率」，以上述方法計算出氧化鋯奈米粒子的加熱重量減少率及折射率。 ［比較例1］
在備有攪拌機、溫度計及冷卻管的200ml可分離式燒瓶添加鹼基性碳酸鋯（日本輕金屬製ZBC ZrO2 含有率42.3% 含水分37%）50 g、作為溶劑的礦油精73.5 g、2-乙基己酸32.1 g（相對於Zr為1.3莫耳），浸入油浴，將油浴的溫度調節成內溫為100~130℃並維持4小時，以使鹼基性碳酸鋯與2-乙基己酸反應。
接著，將所得的2-乙基己酸鋯-礦油精溶液以與實施例1同樣地進行水熱合成，以與實施例1同樣地進行以甲氧乙酸的表面處理，製作以2-乙基己酸與甲氧乙酸被覆的氧化鋯奈米粒子。 ［比較例2］
在比較例1，除了將鹼基性碳酸鋯與2-乙基己酸反應的溫度設為100~130℃以外，以與比較例1同樣的方式，製作以2-乙基己酸與甲氧乙酸被覆的氧化鋯奈米粒子。
［表1］
Figure 02_image001
［產業上的可利性］ 本發明之氧化鋯奈米粒子可適當地用於半導體雷射的封裝劑、液晶顯示裝置用基板、有機EL顯示裝置用基板、彩色濾光片用基板、觸控面板用基板、太陽電池用基板等的光學片、透明板、光學透鏡、光學元件、光波導器、牙科材料、自動鉛筆用鉛筆芯、木軸用鉛筆芯等。
無。
無。

Claims (8)

  1. 一種氧化鋯奈米粒子，其中藉由動態光散射法的粒徑測定的體積基準的累積90%粒徑D90相對於體積基準的累積50%粒徑D50的比值（D90/D50）為3.0以下， 藉由CuKα射線作為光源的XRD測定的（101）面的半值寬度為1.20°以下。
  2. 如請求項1所述之氧化鋯奈米粒子，其中藉由動態光散射法的粒徑測定的擴散係數為7.0×10-7 cm2 /sec以下。
  3. 如請求項1或2所述之氧化鋯奈米粒子，其以被覆劑被覆。
  4. 如請求項3所述之氧化鋯奈米粒子，其中以被覆劑被覆的氧化鋯奈米粒子的折射率為1.83以上。
  5. 如請求項3或4所述之氧化鋯奈米粒子，其中以被覆劑被覆的氧化鋯奈米粒子的加熱重量減少率為15.0%以下。
  6. 如請求項1至5中任一項所述之氧化鋯奈米粒子，其中藉由動態光散射法的粒徑測定的最大粒徑為100nm以下。
  7. 一種分散液，其含有如請求項1至6中任一項所述之氧化鋯奈米粒子。
  8. 一種樹脂組合物，其含有如請求項1至6中任一項所述之氧化鋯奈米粒子。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022175182A (ja) * 2021-05-13 2022-11-25 東京応化工業株式会社 金属ナノ粒子含有組成物精製品の製造方法、及び金属ナノ粒子分散液精製品の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0532416A (ja) * 1991-07-31 1993-02-09 Seiko Instr Inc ジルコニア粉末の再生方法
JPH11245004A (ja) * 1998-03-02 1999-09-14 Kyushu Refract Co Ltd ストッパ−ヘッド
JP5356639B2 (ja) * 2005-03-04 2013-12-04 東ソー株式会社 ジルコニア微粉末及びその製造方法
JP5030694B2 (ja) 2006-07-18 2012-09-19 株式会社日本触媒 酸化ジルコニウムナノ粒子
JP2013091585A (ja) * 2011-10-26 2013-05-16 Tosoh Corp ジルコニア粉末及びその製造方法並びにその用途
WO2015005464A1 (ja) * 2013-07-12 2015-01-15 味の素株式会社 光取出し用樹脂組成物
JP5794275B2 (ja) * 2013-10-25 2015-10-14 堺化学工業株式会社 酸化ジルコニウム分散液とその製造方法とそれを含む樹脂組成物
US9737383B2 (en) * 2013-12-24 2017-08-22 Tosoh Corporation Translucent zirconia sintered body and zirconia powder, and use therefor
WO2016158736A1 (ja) * 2015-03-27 2016-10-06 東レ株式会社 生分解性白色フィルムおよびその製造方法
JP6543433B2 (ja) 2016-12-31 2019-07-10 大研化学工業株式会社 ジルコニア系ナノ粒子の製造方法

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