TW201922867A - 用作為基材間之插件的薄膜 - Google Patents

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班金 Ｂ. 迪薩伊
卡爾 Ｄ. 雷
里奇 桑托索
夏利斯 Ｃ. 帕特
凱文 Ａ. 布雷迪
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美商屈德加薄膜產品股份有限公司
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Abstract

薄膜可以用作為硬質且不可壓縮表面間之插件，該等表面諸如為由玻璃、諸如鋼之金屬、聚碳酸酯及/或聚(甲基丙烯酸甲酯)製成之片或板的表面。該等薄膜可以為壓花的及/或可以包括具有多個微孔之發泡芯層。具體言之，該等薄膜可以包括聚烯烴、在約30 gsm與約70 gsm之間的基本重量、在約150微米與800微米之間的壓花厚度、以及根據圓形彎曲剛度測試在約150公克與約750公克之間的剛度。

Description

用作為基材間之插件的薄膜
發明領域
本發明係有關於用作為諸如玻璃片或板的基材間之插件的薄膜。
發明背景
玻璃片製造商在處理及運輸期間典型地使用紙插件作為保護片，其中多個玻璃片通常並排地或一個在另一個上面地堆疊在傾斜平面上。紙插件藉由充當物理障壁來提供保護，該物理障壁減少堆疊的玻璃片之間的衝擊及磨損。然而，紙插件經常在玻璃片之表面上留下細小微粒，此會沾染、污染及/或刮擦玻璃片之表面。
期望提供一種當前供玻璃片用之紙插件的替代插件，其足夠剛性以在處理期間轉換，便於代替類似於紙的插件片，使細小微粒減至最少或消除細小微粒，以及提供在相鄰玻璃片之間的緩衝效果。
發明概要
根據本發明之一態樣，提供一種用作為玻璃片間之插件的薄膜。
根據一個實施例，用作為基材間之插件的薄膜包括聚烯烴、在約30 gsm與約70 gsm之間的基本重量、在約150微米與800微米之間的壓花厚度、以及根據圓形彎曲剛度測試(Circular Bend Stiffness Test)在約150公克與約750公克之間的剛度。
在另一實施例中，聚烯烴涵蓋聚乙烯、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、線性低密度聚乙烯、聚丙烯、高結晶度聚丙烯、均聚物聚丙烯、成核聚丙烯、共聚物聚丙烯及/或其摻合物。
聚烯烴可以為聚丙烯。
該薄膜可包括至少一種添加劑，包括但不限於助滑劑、成核劑及抗氧化劑穩定劑。
在一實施例中，薄膜可以包括在其一側上的多個凸起部分及在其相對側上的多個突起。
此外，該多個凸起部分可以為沿單一方向對準的多個基本上平行的肋狀物。
該多個凸起部分可以為沿第一方向對準之第一多個基本上平行的肋狀物及沿第二方向以相對於第一方向成一角度對準之第二多個基本上平行的肋狀物。
角度可以在0°至90°的範圍內。
第一方向可相對於薄膜之加工方向成約45°。
第二方向可以與第一方向成約90°。
基材可以由玻璃、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)或不鏽鋼製成。
本發明亦涵蓋用作為基材間之插件的薄膜，其具有由具有多個微孔之聚烯烴基質製成的發泡芯層。預期發泡芯層界定第一側及與第一側相對之第二側。第一表層安置在第一側上。第二表層安置在第二側上。該薄膜之基本重量在約60 gsm與約80 gsm之間，厚度在約90微米與約200微米之間，且剛度根據圓形彎曲剛度測試在約250公克與約550公克之間。
對於具有發泡芯層之薄膜，剛度根據圓形彎曲剛度測試可以在約300公克與約350公克之間。
具有發泡芯層之薄膜亦可包括在約5%與約20%之間的可壓縮性。
預期具有發泡芯層之薄膜構造成使其具有在約80%與約99%之間的彈性。
對於具有發泡芯層之薄膜，第一表層及/或第二表層亦可以發泡。
此外，對於具有發泡芯層之薄膜，第一表層可具有壓花外表面，該壓花外表面具有在其上整體形成之成形宏觀結構之規則陣列或隨機圖案。
此處，第二表層可以為及/或包括黏著表面。
具有發泡芯層之薄膜可以構造成使得薄膜之一個外表面具有在約0.1 μm與約10 μm之間的平均表面粗糙度Ra。
另外，薄膜之一個外表面可具有在約1 μm與約35 μm之間的表面粗糙度Rz。
更進一步地，薄膜之一個外表面可以具有在約100 μm與約350 μm之間的表面峰Sm之間的平均間距。
對於具有發泡芯層之薄膜，預期聚烯烴基質涵蓋聚乙烯、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、線性低密度聚乙烯、聚丙烯、高結晶度聚丙烯、均聚物聚丙烯、成核聚丙烯、共聚物聚丙烯或其摻合物。
聚烯烴基質亦可包括至少一種添加劑，包括但不限於助滑劑、成核劑及抗氧化劑穩定劑。
對於此實施例，第一表層及/或第二表層可包括聚乙烯、聚丙烯或其摻合物。
此外，對於具有發泡芯層之薄膜，第一表層及/或第二表層可以摻有至少一種添加劑，諸如助滑劑、成核劑及抗氧化劑穩定劑。
基材涵蓋玻璃、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)及不鏽鋼等材料。
參考附圖考慮以下實施方式及隨附申請專利範圍後，本發明之此等及其他態樣、特點及特徵，以及相關結構元件之製造方法及功能以及製造部件及經濟性之組合將變得更加顯而易見，該實施方式、該等隨附申請專利範圍及該等附圖均形成本說明書之一部分。然而，應該清楚地理解，附圖僅用於繪示及描述的目的，並不意欲作為本發明之限制的定義。如說明書及申請專利範圍中所使用的，單數形式的“一(a/an)”及“該”包括複數指示物，除非上下文另有明確規定。
較佳實施例之詳細說明
圖1a及1b示出根據本發明之一實施例的薄膜100。薄膜100具有x維度、y維度及z維度。當在圖3所示並在下文進一步詳細討論的設備上製造薄膜100時，x維度與薄膜100的加工方向重合。當在圖3所示的設備上製造薄膜100時，y維度與薄膜100的橫向方向重合，其垂直於x維度及加工方向，並且z維度垂直於x維度及y維度二者。薄膜100具有壓花高度或厚度120，其在z維度上自薄膜100之第一側110延伸至薄膜之第二側130。壓花高度120可以在約30微米(μm)至約800微米(μm)的範圍內。在一實施例中，壓花高度120可以在約150微米(μm)至約800微米(μm)的範圍內。在一實施例中，壓花高度120可以在約100微米(μm)至約300微米(μm)的範圍內。
在圖1a及1b所示之實施例中，薄膜100包括多個“肋狀物”或凸起部分140，其自薄膜100之基底部分160偏移。凸起部分140基本上彼此平行，並且利用亦基本上彼此平行之基底部分160之區段間隔開。基底部分160的每個區段包括多個凹口180，其在z維度上沿與凸起部分140相對之方向延伸。該多個凹口180在基底部分160之相對側上顯現為多個突起190，該相對側與薄膜之第二側130重合，如所示。當薄膜100之第二側130置放在諸如玻璃片之平坦表面上時，僅突起190之尖端將接觸平坦表面。相反，當薄膜100之第一側110置放在平坦表面上時，僅凸起部分140之頂部將接觸平坦表面。
若在薄膜100之暴露表面之頂部上或鄰近該暴露表面接著置放另一玻璃片，則凸起部分140之頂部或突起190之尖端將接觸第二玻璃片，取決於薄膜100之取向。與基本重量相同但沒有壓花結構及基本上平行且連續的第一及第二側之薄膜(亦即“平面”薄膜)相比，凸起部分140為玻璃片提供緩衝效果以及提高的抗撓剛度。期望薄膜100具有紙樣剛度，以便用作為玻璃片間之插件。
圖2a-2f示出根據本發明之一實施例的薄膜200。薄膜200具有x維度、y維度及z維度。當在圖3所示並在下文進一步詳細討論的設備上製造薄膜200時，x維度與薄膜200的加工方向(MD)重合。當在圖3所示的設備上製造薄膜200時，y維度與薄膜200的橫向方向(TD)重合，其垂直於x維度及加工方向，並且z維度垂直於x維度及y維度二者。薄膜200具有壓花高度或厚度220，其在z維度上自薄膜200之第一側210延伸至薄膜之第二側230。壓花高度220可以在約30微米(μm)至約800微米(μm)的範圍內。在一實施例中，壓花高度220可以在約150微米(μm)至約800微米(μm)的範圍內。在一實施例中，壓花高度220可以在約100微米(μm)至約300微米(μm)的範圍內。
薄膜200包括多個“肋狀物”或凸起部分240，其自薄膜200之基底部分260偏移。凸起部分240排列成以90°角度相交的二個平行的組，從而形成網格，使得基底部分260之每個區段大致呈正方形並且被凸起部分240圍繞。在所示實施例中，凸起部分240相對於x維度以約45°的角度對準。在其他實施例中，凸起部分240通常可以相對於x維度以在0°與90°之間的角度對準。在一實施例中，圍繞基底部分260之每個區段的每個凸起部分240的長度可以在約2000微米(μm)至約2500微米(μm)的範圍內，並且每個凸起部分240的寬度可以在約150微米(μm)至約200微米(μm)的範圍內。
基底部分260之每個區段包括多個凹口280，其在z維度上沿與凸起部分240相對之方向延伸。該多個凹口280在基底部分260之相對側上顯現為多個凸起290，該相對側與薄膜之第二側230重合，如所示。當薄膜200之第二側230置放在諸如玻璃片之平坦表面上時，僅突起290之尖端將接觸平坦表面。相反，當薄膜200之第一側210置放在平坦表面上時，僅凸起部分240之頂部將接觸平坦表面。
若在另一暴露表面之頂部上或鄰近該暴露表面接著置放另一玻璃片，則凸起部分240之頂部或突起290之尖端將接觸第二玻璃片，取決於薄膜200之取向。與基本重量相同但沒有壓花結構及基本上平行且連續的第一及第二側之薄膜(亦即“平面”薄膜)相比，凸起部分240為玻璃片提供緩衝效果以及提高的抗撓剛度。期望薄膜200具有紙樣剛度，以便用作為玻璃片間之插件，如下文進一步詳細討論的。
圖3示出設備300，其可用於製造根據本發明實施例的薄膜，包括上述薄膜100、200。如所示，設備300包括擠出模頭302，其位於至少一個擠出機(未示出)的末端，並組態成形成聚合物幅材304，亦稱為擠出物或熔體簾。聚合物幅材304可以為單層或多層聚合物幅材。用於形成聚合物幅材304之材料可以為聚乙烯(PE)、高密度聚乙烯(HDPE)、聚丙烯(PP)、低密度聚乙烯(LDPE)及線性低密度聚乙烯(LLDPE)之摻合物，其中HDPE及/或PP作為主要成分。聚丙烯可以為高結晶度PP、均聚物PP、成核PP及共聚物PP中之任何一種及/或其組合。此外，聚烯烴中可包括添加劑。添加劑包括但不限於助滑劑、成核劑及抗氧化劑穩定劑。
在圖3所示之實施例中，聚合物幅材304離開擠出模頭302並沈積在成形結構306上，成形結構306圍繞被抽真空的固定真空槽308旋轉。成形結構306及固定真空槽308為成形站307之一部分。成形結構306包括多個開口306a及以一種或多種圖案佈置的多個凸起部分(未示出)。當成形結構306上的聚合物幅材304經過真空槽308時，聚合物幅材304之直接位於成形結構306中的開口306a上方的部分被拉入開口306a中以在聚合物幅材304面向成形結構306之表面上形成突起，而聚合物幅材304之直接位於成形結構306上的凸起部分上方的部分與凸起部分共形以形成壓花薄膜310。若所抽真空足夠高(負壓更大)，則可以在突起末端形成孔，從而形成開孔幅材。
成形結構306亦在聚合物幅材304轉變成壓花薄膜310時冷卻聚合物幅材304，使得壓花薄膜310可以藉由輥312自成形結構306拉出，經由另外的輥316、318傳送至捲繞機314，且藉由捲繞器314將其捲繞成卷320。所示實施例並不意欲以任何方式進行限制。例如，在另一實施例中，代替將聚合物幅材304直接擠出至成形結構306上，可以將先前已經擠出至冷卻輥上並驟冷成固態聚合物幅材之聚合物幅材再加熱並傳送至成形站307。
在一實施例中，壓花薄膜310之基本重量可以在約20公克/平方公尺(gsm)與約200 gsm之間。在一實施例中，壓花薄膜310之基本重量可以在約35公克/平方公尺(gsm)與約70 gsm之間。在一實施例中，壓花薄膜310之基本重量可以在約40公克/平方公尺(gsm)與約65 gsm之間。在一實施例中，壓花薄膜310可具有在約30微米(μm)與約800微米(μm)之間的壓花厚度。在一實施例中，壓花薄膜310可具有在約120微米(μm)與約300微米(μm)之間的壓花厚度。在一實施例中，壓花薄膜310可具有在約200微米(μm)與約250微米(μm)之間的壓花厚度。
圖4示出根據本發明之一實施例的薄膜400。如所示，薄膜400包括夾在其相對側上的二個表層412、414之間的發泡芯層410。發泡芯層410包括聚合物基質416及多個微孔418，其可以使用圖5中所示的設備形成，如下文進一步詳細描述的。可以調節微孔418的尺寸及分佈以達成薄膜400之所期望的抗撓剛度，使得薄膜400可以用作為玻璃片之間的插件。在所示之實施例中，表層412中之一個具有壓花外表面420，其可以用作為離型表面，該離型表面不黏著至被薄膜400保護之基材(諸如玻璃)的鄰接表面上。
發泡芯層410之聚合物基質416可以為摻合物，主要含HDPE或PP，摻合有選自各種LDPE，LLDPE及助滑劑或抗黏連添加劑之次要組分。在發泡芯層410二側的表層412、414可以為PE、HDPE、PP、LDPE及LLDPE之摻合物，其中HDPE及/或PP作為主要組分。PP可以為高結晶度PP、均聚物PP、成核PP及共聚物PP中之任何一種及/或其組合。此外，聚烯烴中可包括添加劑。添加劑包括但不限於助滑劑、成核劑及抗氧化劑穩定劑。
圖5示意性地示出可用於製造薄膜400之設備500。如所示，設備500包括主擠出機502及二個進料至進料塊508中之衛星擠出機504、506。主擠出機502調適成包括注射系統510，用於根據所謂的MuCell方法注射發泡劑，如例如美國專利第6,051,174號及第6,284,810號以及美國專利申請公開案第2013/0303645號中所述。在一實施例中，衛星擠出機504、506中之一個或二個亦可以調適成包括注射系統以用於根據MuCell方法注射發泡劑。發泡劑可以為二氧化碳、氮氣或其混合物。如上文引用之專利文獻中所述，發泡劑可以作為超臨界流體引入擠出機502中。具有注射系統510之主擠出機502組態成產生發泡芯層410，並且衛星擠出機504、506組態成產生上述表層412、414。進料塊508向擠出模頭512進料，擠出模頭512將熔體簾或擠出物514輸出至光滑或紋理化(表面粗糙度Ra在0.01微米(μm)至約20微米(μm)之間)鍍鉻金屬鑄造輥516上。當擠出物514在鑄造輥516上驟冷時，擠出物514可以用表面粗糙度(Ra)至多20微米(μm)之光滑、經研磨及/或紋理化的精加工橡膠壓花輥518壓花，以產生薄膜520，諸如圖4中所示之薄膜400。薄膜520可以藉由輥524、526傳送至捲繞器522並捲繞成卷528。
壓花輥518之外表面530可以紋理化、研磨及/或雕刻成具有固定或隨機陣列的月球形凹陷的凹坑或凹痕(類似於高爾夫球之外表面)，如圖6中更詳細地示出的。壓印固定陣列或隨機凹坑之目的在於在薄膜中有意地產生一個各向同性的“重複缺陷”的陣列(亦即凹痕、凹坑或壓痕)，其中一部分薄膜厚度在壓花表面420上拉出或突出，如圖4所示。在薄膜400之壓花表面420上產生的規則及週期性突起產生剝離表面，該剝離表面不會黏著至被薄膜400保護之基材的鄰接表面上。如一般技術者所理解的，壓花表面420上之“重複缺陷”(亦即凹痕、凹坑或壓痕)可根據需要具有任何圖案、密度、形狀、高度等。
在一實施例中，設備500可以組態成製造吹塑薄膜，而非如圖5所描繪的鑄造薄膜。在此類實施例中，擠出模頭512可以組態成用於習知吹塑薄膜製造線之圓形模頭，且可以使用空氣使擠出物膨脹成氣泡，如一般技術者所理解的。
薄膜400之總基本重量可以在介於約20 gsm與約200 gsm之間的範圍內。在一實施例中，薄膜400之基本重量可以在約50 gsm與約100 gsm的範圍內。在一實施例中，薄膜400之基本重量可以在約50 gsm與約80 gsm的範圍內。在一實施例中，薄膜400之基本重量可為約60 gsm。取決於最終所期望的抗撓剛度，薄膜400之總厚度422可以在介於約30微米(μm)與約800微米(μm)之間的範圍內。在一實施例中，總厚度可以在約50微米(μm)與約200微米(μm)之間。在一實施例中，薄膜400之總厚度422可以在介於約90微米(μm)與約200微米(μm)之間的範圍內。在一實施例中，薄膜400之總厚度422可以在介於約80微米(μm)至約120微米(μm)的範圍內。
預期可以使用其他技術來產生發泡芯層410。例如，化學發泡劑及/或填料可用於在發泡芯層410之聚合物基質416內產生微孔418。
圖7a及7b為在吹塑薄膜製造設備(未示出)上使用MuCell方法製造的薄膜700之顯微照片。薄膜700具有包含HDPE及多個微孔720之聚合物基質710。各種微孔之量測值在圖7b中示出，並且在介於約100微米(μm)與約1000微米(μm)之間的範圍內。預期可以獲得直徑低至5微米(μm)的較小微孔。
在期望增加薄膜與基材之黏著性的應用中，薄膜係為了保護的，可以加入另外的黏著層，尤其在薄膜之未壓花側上。
製造根據上述方法製成之薄膜樣品並測試二種類型的剛度、可壓縮性及彈性。實例1用圖2a-2f所示之結構製成，且基本重量為約49公克/平方公尺(gsm)。實例2用圖2a-2f所示之結構製成，且基本重量為約70 gsm。實例3用圖7a及7b所示之結構製成，且基本重量為約60 gsm。比較實例A為基本重量為約49 gsm且用作為玻璃片之插件之紙。比較實例B為基本重量為約76 gsm且用於影印機及桌上列印機之標準影印紙。測試實例1-3及比較實例A及B之樣品之格利剛度(Gurley Stiffness)，測試實例1-3及比較實例B之圓形彎曲剛度，並測試實例1-3之可壓縮性及彈性，如下所述。
格利剛度測試方法使用了量測在受控及可重複條件下彎曲各種平面材料及維度產品所需的力之測試儀器(Teledyne Gurley，型號4171，數位型，Genuine Gurley剛度測試儀)。量測到的力可以等同於測試材料之剛度、可撓度或柔韌性。對於每個樣品，在加工方向(MD)上切割三個樣本(n = 3)並進行測試，並且在垂直於加工方向之橫向方向(TD)上切割三個樣本(n = 3)並進行測試。將MD樣本及TD樣本之剛度值取平均值並列於下表I中。
圓形彎曲剛度測試方法使用具有25.4 mm(1吋)直徑平坦表面之柱塞，該柱塞迫使材料樣品通過平台中之孔口。在57 mm(2.25吋)向下行程中，自平台頂部上方3 mm(八分之一吋)處開始，將樣品推過38.1毫米(1.5吋)孔口所需之最大力用力量測儀量測。最大量測力藉由同時量測多於一個平面中之彎曲阻力來提供材料剛度之指示。
使用可壓縮性及彈性測試方法，藉由量測在將862.60 g(30.4盎司)砝碼施加至樣品並自樣品移除後的厚度變化，從而評估薄膜承受壓縮及在壓縮後恢復之能力。在2平方吋上施加0.98 psi之壓力。施加砝碼之前及之後的厚度變化量測薄膜之抗壓縮性，並且在壓力下厚度的減小給出了薄膜之可壓縮性。施加砝碼之前及砝碼移除後之總厚度表明薄膜之彈性(恢復能力)。如下所述，可壓縮性為薄膜承受壓縮壓力之能力的量度，且定義為壓縮厚度除以原始厚度(乘以100)。如下所述，彈性量測薄膜在壓縮後恢復之能力，並定義為薄膜之回彈厚度(在壓力移除後)除以原始厚度(乘以100)。
表 I ：實例 1-3 及比較實例 A 及 B 之測試結果
壓縮性及彈性數據提供實例1-3提供之緩衝效果的量度。相對於接近100%之較高彈性值，壓縮性值越高，緩衝效果越好。藉由最佳化根據上述本發明實例的薄膜之基本重量及結構，預期所得薄膜將提供所期望的剛度及緩衝效果，以便用作為硬質基材諸如玻璃片或板間之插件。
測試紙之另外的比較實例之基本重量、圓形彎曲剛度、可壓縮性及彈性(如上所述)以及低負荷厚度與高負荷厚度(如下所述)。另外的比較實例之測試結果列於下表II中。
如上所述量測薄膜之壓花厚度的低負荷厚度測試方法使用了具有2吋直徑砧及95 g/in2 靜重負荷之電動測微器，並且使用2-5秒之停留時間。在單個薄膜樣品上進行五次量測，並量測四個不同的薄膜樣品。每個實例的所有量測值均取平均值並報告為“低負荷厚度”，單位為微米(μm)。
高負荷厚度測試方法通常用於量測平坦(亦即未壓花)薄膜之厚度，其使用了具有3/16吋砧尺寸及113 g靜重之測微器。在單個薄膜樣品上進行五次量測，並量測四個不同的薄膜樣品。每個實例的所有量測值均取平均值並報告為“高負荷厚度”，單位為微米(μm)。
比較實例C為來自由Staples出售之速記本的一張紙。比較實例D為來自由OfficeMax/Office Depot出售之速記本(貨號1379800)的一張紙。
表 II ：比較樣品 C 及 D 之厚度、剛度、可壓縮性及彈性測試結果
根據本發明之實例製備另外的樣品，並測試本文所述之各種物理性質。實例4-6使用圖3中示意性描繪之設備300製造。
對於實例4，將85%聚丙烯及15%低密度聚乙烯之摻合物進料至擠出機中，且將單層熔體簾擠出至成形結構307上，形成具有圖1a-1b中大體示出之結構及44.6 gsm基本重量之壓花薄膜。
對於實例5，將三層熔體簾擠出至成形結構307上，形成具有圖2a及2b中大體示出之結構的壓花薄膜，不同之處在於肋狀物240平行於x及y軸取向，與薄膜之加工方向(MD)及橫向方向(TD)重合。所得薄膜之基本重量具有46.8 gsm之基本重量。所有三層均具有相同的99%高密度聚乙烯及1%低密度聚乙烯母料與助滑劑之摻合物。
對於實例6，將用於實例5中的三層薄膜之相同材料摻合物擠出至成形結構307上，該成形結構307設計成為薄膜提供凸起肋狀物之圖案，所述凸起肋狀物均以相對於薄膜之加工方向(MD)45°角安置，如例如圖2a所示。所得薄膜之基本重量為64.1 gsm。
根據上述測試方法測試樣品之低負荷厚度、高負荷厚度、圓形彎曲剛度、可壓縮性及彈性。實例4-6的此類測試結果列於下表III中。
表 III ：實例 4-6 之厚度、剛度、可壓縮性及彈性測試結果
預期具有至少200公克之圓形彎曲剛度的樣品將具有所期望的剛度以替代紙作為插件材料。
使用殘留物量測測試方法來確定在負荷下在高溫及高濕度下老化之後薄膜樣品在乾淨的玻璃表面上沈積了多少殘留物，以及當玻璃接著經歷洗滌時有多少沈積的殘留物被洗掉。具體地，將每個薄膜樣品層壓至乾淨的玻璃表面上，並在1.2 kg載重下在55℃、85%相對濕度的環境中老化72小時。在層壓之前，藉由干涉量測法在50 mm×50 mm區域內的25個位置處分析乾淨的玻璃表面，每個位置的尺寸為1.40 mm×1.05 mm，從而確定玻璃上已經存在的基線殘留物體積。老化後，移除薄膜，並在相同的25個位置量測玻璃表面上的表面殘留物的體積，以確定薄膜在玻璃上沈積了多少殘留物。在自動洗碗機中洗滌玻璃，並在相同的25個位置再次量測玻璃表面，以確定玻璃上殘留了多少殘留物。實例4、5及6之結果列於下表IV中。
根據漢姆克滾筒方法(Helmke Drum Method，環境科學與技術研究所(Institute of Environmental Sciences and Technology，IEST) RP-CC003.3)完成粒子計數測試方法。將尺寸為125 mm×125 mm正方形的薄膜樣品引入漢姆克滾筒室並在漢姆克滾筒中以10 rpm翻滾10分鐘。連接至腔室的空中粒子計數器提供尺寸大於0.3微米(μm)及大於0.5微米(μm)之粒子計數。實例4-6之結果亦列於下表IV中。
表 IV ：實例 4-6 之殘餘物量測及粒子計數測試結果
使用圖5中所示的設備500製備實例7-11，並在下面討論。
對於實例7，將三層熔體簾擠出至表面粗糙度Ra為0.01 μm之鑄造輥上，並且當薄膜在鑄造輥上冷卻時，使表面粗糙度Ra為1.14 μm的壓花輥與薄膜的相對側接觸。三層結構的芯層為98%聚丙烯及2%聚丙烯母料與成核劑之摻合物。此樣品之芯層未發泡。三層薄膜之表層為98%聚丙烯及2%聚丙烯母料與成核劑之摻合物。所得薄膜之基本重量為68.8 gsm。
對於實例8，將三層熔體簾擠出至表面粗糙度Ra為4.19 μm之鑄造輥上，並且當薄膜在鑄造輥上冷卻時，使表面粗糙度Ra為2.03 μm的壓花輥與薄膜的相對側接觸。三層結構的芯層為92%高密度聚乙烯及8%聚乙烯母料與滑石之摻合物。使用MuCell方法使芯層發泡以產生具有聚合物基質及多個微孔之發泡芯層，所述微孔之主要直徑通常落在介於約0.5 μm與約12 μm之間的範圍內。三層薄膜之表層為59%高密度聚乙烯、40%聚丙烯及1%聚丙烯母料與成核劑之摻合物。所得薄膜之基本重量為71.8 gsm。
對於實例9，將三層熔體簾擠出至表面粗糙度Ra為3.81 μm之鑄造輥上，並且當薄膜在鑄造輥上冷卻時，使表面粗糙度Ra為7.62 μm的壓花輥與薄膜的相對側接觸。三層結構的芯層為92%高密度聚乙烯及8%聚乙烯母料與滑石之摻合物。使用MuCell方法使芯層發泡以產生具有聚合物基質及多個微孔之發泡芯層，所述微孔之長軸直徑通常落在介於約0.3 μm與約45 μm之間的範圍內。三層薄膜之表層為59%高密度聚乙烯、40%聚丙烯及1%聚丙烯母料與成核劑之摻合物。所得薄膜之基本重量為67.1 gsm。
對於實例10，將三層熔體簾擠出至表面粗糙度Ra為0.02 μm之鑄造輥上，並且當薄膜在鑄造輥上冷卻時，使表面粗糙度Ra為2.54 μm的壓花輥與薄膜的相對側接觸。三層結構的芯層為88%聚丙烯、8%聚乙烯母料與滑石、2%低密度聚乙烯母料與抗氧化劑以及2%聚丙烯母料與成核劑之摻合物。使用MuCell方法使芯層發泡以產生具有聚合物基質及多個微孔之發泡芯層，所述微孔之長軸直徑通常落在介於約0.3 μm與約50 μm之間的範圍內。三層薄膜之表層為96%聚丙烯、2%低密度聚乙烯母料與抗氧化劑及2%聚丙烯母料與成核劑之摻合物。所得薄膜之基本重量為69.9 gsm。
對於實例11，將三層熔體簾擠出至表面粗糙度Ra為8.89 μm之鑄造輥上，並且當薄膜在鑄造輥上冷卻時，使表面粗糙度Ra為7.62 μm的壓花輥與薄膜的相對側接觸。三層結構的芯層為91%高密度聚乙烯、8%聚乙烯母料與滑石及低密度聚乙烯母料與抗氧化劑之摻合物。使用MuCell方法使芯層發泡以產生具有聚合物基質及多個微孔之發泡芯層，所述微孔之長軸直徑通常落在介於約0.3 μm與約50 μm之間的範圍內。三層薄膜之表層為65%聚丙烯、34%高密度聚乙烯及1%聚丙烯母料與成核劑之摻合物。將薄膜在85℃下退火72小時。所得薄膜之基本重量為70.2 gsm。
為實例7-11而產生的樣品各自測試低負荷厚度、高負荷厚度、圓形彎曲剛度、可壓縮性及彈性，並且此等測試之結果列於下表V中。
表 V ：實例 7-11 之厚度、剛度、可壓縮性及彈性測試結果
使用由Kosaka Laboratory Ltd.製造的表面粗糙度量測儀器，測試為實例7-11產生的樣品的每一側(亦即，與鑄造輥接觸的一側及與壓花輥接觸的一側)的表面以及比較實例D的表面之表面粗糙度，包括Ra(表面粗糙度平均值)、Rz(五個最高峰及五個最低谷的高度的平均值)及Sm(峰之間的平均間距)。表面粗糙度測試之結果列於表VI如下。
表 VI ：實例 7-11 及比較實例 D 之表面粗糙度測試結果
如上所述，亦根據殘留物量測測試方法及粒子計數測試方法測試為實例7-10產生的樣品，且結果列於表VII中。

表 VII ：實例 7-10 之殘餘物量測及粒子計數測試結果
應注意，本文所述的薄膜及/或發泡體之任何實施例可藉由向混合物中的聚丙烯中加入高結晶度聚丙烯來改質。高結晶度聚丙烯應理解為增加高結晶度聚丙烯所摻入之材料的整體剛度。
由本發明實施例提供的聚合物薄膜被設計成替代目前在玻璃工業中用作為插件材料的紙，以在儲存及運輸至使用者目的地期間保護多個堆疊的玻璃片。通常，可能會認為壓花薄膜之“重複缺陷”，亦即凹痕、凹坑、壓痕及/或凸起部分對於將轉錄至功能性基材之柔軟且敏感的光學基材有害，從而使基材不能用於高解析度顯示器。相反，當玻璃或類似的硬質表面，亦即聚碳酸酯(PC)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、拋光不鏽鋼為要保護之基材時，此類基材的硬度抵抗由聚合物薄膜之重複缺陷及壓花表面引起的任何變形，且規則或隨機的重複缺陷或凸起的突起可以有助於形成離型表面，以允許一個玻璃片與相鄰的玻璃片乾淨分離，同時甚至在貨架上顯著老化之後從所儲存或運輸的多個玻璃片的包裝中進行卸堆。
本發明之實施例係有關解決光學玻璃製造商長期以來面臨的問題，由於在製造紙插件中使用的成分引起的沾染及刮擦，造成在儲存及運輸期間玻璃良率損失，此對光學玻璃製造商有著顯著影響。根據本發明實施例的薄膜之潛在優點包括可再循環性、可調節的摩擦係數、比紙更低的遷移物種及粒子，低靜電荷及/或緩衝。
預期本發明之實施例亦可用於保護除玻璃外的其他基材。例如，任何硬質且不可壓縮的表面，諸如金屬表面，諸如鋼、聚碳酸酯(PC)、聚(甲基丙烯酸甲酯)(P MMA)及/或由其他熱塑性或熱固性聚合物製成之片或板，可以用根據本發明實施例的聚合物薄膜保護。
本文描述之實施例表示許多可能的實施方式及實例，並且不意欲將本揭露內容限制為任何特定實施例。相反，如一般技術者將理解的，可以對此等實施例進行各種修改。任何此類的修改均意欲包括在本揭露內容之精神及範圍內，並受隨附申請專利範圍的保護。
100、200、400、520、700‧‧‧薄膜
110、210‧‧‧第一側
120、220‧‧‧壓花高度或厚度
130、230‧‧‧第二側
140、240‧‧‧凸起部分
160、260‧‧‧基底部分
180、280‧‧‧凹口
190、290‧‧‧突起
300、500‧‧‧設備
302、512‧‧‧擠出模頭
304‧‧‧聚合物幅材
306‧‧‧成形結構
306a‧‧‧開口
307‧‧‧成形站
308‧‧‧固定真空槽
310‧‧‧壓花薄膜
312、316、318、524、526‧‧‧輥
314、522‧‧‧捲繞器
320、528‧‧‧卷
410‧‧‧發泡芯層
412、414‧‧‧表層
416、710‧‧‧聚合物基質
418、720‧‧‧微孔
420‧‧‧壓花外表面
422‧‧‧總厚度
502‧‧‧主擠出機
504、506‧‧‧衛星擠出機
508‧‧‧進料塊
510‧‧‧注射系統
514‧‧‧熔體簾或擠出物
516‧‧‧金屬鑄造輥
518‧‧‧壓花輥
530‧‧‧外表面
x‧‧‧x維度
y‧‧‧y維度
z‧‧‧z維度
以下附圖的組件係為了強調本揭露內容之一般原理而示出的，並且不一定按比例繪製。為了一致及清楚起見，在整個附圖中根據需要重複指定相應組件之附圖標記。
圖1a示意性地示出根據本發明之一實施例的薄膜之頂視圖；
圖1b示意性地示出圖1a的薄膜之側視圖；
圖2a示意性地示出根據本發明之一實施例的薄膜之頂視圖；
圖2b示意性地示出圖2a的薄膜之側視圖；
圖2c為圖2a的薄膜之一實施例的頂側之顯微照片；
圖2d為圖2a的薄膜之底側之顯微照片；
圖2e為以圖2c的薄膜之頂側的透視圖拍攝之顯微照片；
圖2f為以圖2d的薄膜之底側的透視圖拍攝之顯微照片；
圖3示意性地示出用於製造圖1a-2f中所示的壓花薄膜之設備之一實施例；
圖4示意性地示出根據本發明之一實施例的薄膜之透視圖；
圖5示意性地示出用於製造圖4中所示的薄膜之設備之一實施例；
圖6示意性地示出可用於圖5中所示的設備的軋輥之橫截面；
圖7a為根據本發明之一實施例的薄膜之頂側之顯微照片；及
圖7b為圖7a的薄膜之底側之顯微照片。

Claims (26)

  1. 一種用作為基材間之一插件的薄膜，其包含： 一聚烯烴； 在約30 gsm與約70 gsm之間的一基本重量； 在約150微米與800微米之間的一壓花厚度；以及 根據圓形彎曲剛度測試在約150公克與約750公克之間的一剛度。
  2. 如請求項1之薄膜，其中該聚烯烴包含聚乙烯、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、線性低密度聚乙烯、聚丙烯、高結晶度聚丙烯、均聚物聚丙烯、成核聚丙烯、共聚物聚丙烯或其摻合物。
  3. 如請求項1之薄膜，其中該聚烯烴為聚丙烯。
  4. 如請求項1之薄膜，其進一步包含至少一種選自由一助滑劑、一成核劑及一抗氧化劑穩定劑組成之群的添加劑。
  5. 如請求項1之薄膜，其進一步包含在其一側上的多個凸起部分及在其相對一側上的多個突起。
  6. 如請求項5之薄膜，其中該多個凸起部分包含沿單一方向對準的多個基本上平行的肋狀物。
  7. 如請求項5之薄膜，其中該多個凸起部分包含沿一第一方向對準之第一多個基本上平行的肋狀物及沿一第二方向以相對於該第一方向成一角度對準之第二多個基本上平行的肋狀物。
  8. 如請求項7之薄膜，其中該角度在0°至90°的範圍內。
  9. 如請求項7之薄膜，其中該第一方向相對於該薄膜之一加工方向成約45°。
  10. 如請求項9之薄膜，其中該第二方向與該第一方向成約90°。
  11. 如請求項1之薄膜，其中該等基材包含玻璃、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)或不鏽鋼。
  12. 一種用作為基材間之一插件的薄膜，其包含： 一發泡芯層，其包含具有多個微孔之一聚烯烴基質，其中該發泡芯層界定一第一側及與該第一側相對之一第二側； 該第一側上之一第一表層； 該第二側上之一第二表層； 在約60 gsm與約80 gsm之間的一基本重量； 在約90微米與約200微米之間的一厚度；以及 根據圓形彎曲剛度測試在約250公克與約550公克之間的一剛度。
  13. 如請求項12之薄膜，其中該剛度根據圓形彎曲剛度測試在約300公克與約350公克之間。
  14. 如請求項12之薄膜，其進一步包含在約5%與約20%之間的一可壓縮性。
  15. 如請求項12之薄膜，其進一步包含在約80%與約99%之間的一彈性。
  16. 如請求項12之薄膜，其中該第一表層及/或該第二表層為發泡的。
  17. 如請求項12之薄膜，其中該第一表層包含一壓花外表面，該壓花外表面具有在其上整體形成之成形宏觀結構之一規則陣列或一隨機圖案。
  18. 如請求項17之薄膜，其中該第二表層包含一黏著表面。
  19. 如請求項12之薄膜，其中該薄膜之至少一個外表面具有在約0.1 μm與約10 μm之間的一平均表面粗糙度Ra。
  20. 如請求項12之薄膜，其中該薄膜之至少一個外表面具有在約1 μm與約35 μm之間的一表面粗糙度Rz。
  21. 如請求項12之薄膜，其中該薄膜之至少一個外表面具有在約100 μm與約350 μm之間的表面峰Sm之間的一平均間距。
  22. 如請求項12之薄膜，其中該聚烯烴基質包含聚乙烯、高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、線性低密度聚乙烯、聚丙烯、高結晶度聚丙烯、均聚物聚丙烯、成核聚丙烯、共聚物聚丙烯或其摻合物。
  23. 如請求項22之薄膜，其中該聚烯烴基質進一步包含至少一種選自由一助滑劑、一成核劑及一抗氧化劑穩定劑組成之群的添加劑。
  24. 如請求項12之薄膜，其中該第一表層及/或該第二表層包含聚乙烯、聚丙烯或其摻合物。
  25. 如請求項24之薄膜，其中該第一表層及/或該第二表層進一步包含至少一種選自由一助滑劑、一成核劑及一抗氧化劑穩定劑組成之群的添加劑。
  26. 如請求項12之薄膜，其中該等基材包含玻璃、聚碳酸酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)及不鏽鋼。
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