TW201837671A - 整合有偏光層及觸控感測器之光學堆疊結構以及包含該光學堆疊結構之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種光學堆疊結構，其包含窗口以及偏光層及觸控感測器層，該偏光層及該觸控感測器層位於該窗口之一表面上。該光學堆疊結構具有改良之撓度及機械可靠性，且被應用為包含撓性顯示器在內之影像顯示裝置之窗口基板。

Description

整合有偏光層及觸控感測器之光學堆疊結構以及包含該光學 堆疊結構之影像顯示裝置
本發明係關於一種整合有偏光層及觸控感測器之光學堆疊結構以及一種包含該光學堆疊結構之影像顯示裝置。
近來，可顯示包含影像之資訊的顯示裝置被積極地開發。該顯示裝置可包含液晶顯示(liquid crystal display；LCD)裝置、有機發光顯示(organic light emitting display；OLED)裝置、電漿顯示面板(plasma display panel；PDP)裝置、場發射顯示(field emission display；FED)裝置等。
在顯示面板(例如，液晶顯示面板或有機發光顯示面板)上可設置有窗口基板，以保護顯示面板免受外部環境之影響。窗口基板可由玻璃形成。隨著撓性顯示裝置被開發，亦將透明塑膠材料應用於窗口基板。
在窗口基板與顯示面板之間可更包含其他構件，例如偏光板、觸控螢幕面板等。舉例而言，自顯示面板之電極圖案反射之外部光可被偏光板阻擋。可藉由觸控螢幕面板透過顯示螢幕輸入使用者之指令。
然而，由於在顯示面板上堆疊包含偏光板、觸控螢幕面板、窗口基板等之複數個層或結構，因此近來對顯示裝置之需求(例如增強之 撓性性質及薄層式結構)可能不能充分達成。此外，由於堆疊複數個層或結構，因此可能不能在維持機械強度及穩定性之同時達成充足之撓性性質。
舉例而言，韓國公開專利申請案第2012-0076026號揭露一種包含偏光板及觸控螢幕面板之透明基板。
根據本發明之目標，提供一種具有改良之機械可靠性及撓性性質之光學堆疊結構。
根據本發明之態樣，提供一種包含具有改良之機械可靠性及撓性性質之光學堆疊結構之影像顯示裝置。
本發明概念之上述態樣將藉由以下特徵來達成：
(1)一種光學堆疊結構，包含：窗口；以及偏光層及觸控感測器層，位於該窗口之一表面上。
(2)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該窗口包含一個表面及該一個表面之相對表面，其中該偏光層及該觸控感測器層係堆疊於該一個表面上，且該相對表面係朝向觀看側。
(3)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該光學堆疊結構滿足以下方程式1：
在以上方程式1中，該修正後韌度係該光學堆疊結構之應力-應變曲線(stress-strain curve)中之斷裂點處應力(MPa)與應變(%)之乘積。
(4)如上述(3)所述之光學堆疊結構，其中該修正後韌度係400MPa%或更大。
(5)如上述(3)所述之光學堆疊結構，其中該修正後韌度係1,000MPa%或更小。
(6)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該窗口包含由聚合物材料形成之光學基板。
(7)如上述(6)所述之光學堆疊結構，其中該窗口更包含位於該光學基板之一表面或二個表面上之硬塗層(hard coating layer)。
(8)如上述(6)所述之光學堆疊結構，其中該窗口更包含位於該光學基板之一表面或二個表面上之功能層(functional layer)。
(9)如上述(8)所述之光學堆疊結構，其中該功能層包含紫外線阻擋層、抗散射層、或抗指紋層中之至少一者。
(10)如上述(1)所述之光學堆疊結構，更包含位於該窗口之該表面之周邊部上之光遮蔽圖案。
(11)如上述(10)所述之光學堆疊結構，其中該光遮蔽圖案係設置於與該偏光層或該觸控感測器層相同之水平高度處。
(12)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該窗口之修正後韌度係10,000MPa%或更大。
(13)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該窗口在380奈米(nm)之紫外線波長下具有15%或更小之透射率。
(14)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該窗口在1公斤(kg)之負載下具有3H或更大之鉛筆硬度(pencil hardness)。
(15)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中在10毫牛頓(mN)之負載下，該窗口之馬氏硬度(Martens Hardness)係200牛頓/平方毫米(N/mm2)或更大。
(16)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該窗口滿足以下方程式2：
(17)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該偏光層包含拉伸型偏光器(stretched-type polarizer)或塗佈型偏光器(coating-type polarizer)。
(18)如上述(17)所述之光學堆疊結構，其中該偏光層更包含保護膜，該保護膜位於以下中之至少一者上：該偏光器之一個表面、或與該偏光器之該一個表面面對之相對表面。
(19)如上述(18)所述之光學堆疊結構，其中該保護膜包含延遲膜(retardation film)。
(20)如上述(19)所述之光學堆疊結構，其中該保護膜包含分別形成於該偏光器之二個表面上之第一保護膜及第二保護膜，且該第二保護膜係該延遲膜。
(21)如上述(17)所述之光學堆疊結構，其中該塗佈型偏光器包含液晶層。
(22)如上述(21)所述之光學堆疊結構，其中該液晶層接觸該窗口。
(23)如上述(21)所述之光學堆疊結構，其中該塗佈型偏光器更包含位於該窗口與該液晶層間之配向層(alignment layer)。
(24)如上述(21)所述之光學堆疊結構，其中該塗佈型偏光器更包含位於該液晶層上之外覆層(overcoat layer)。
(25)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該偏光層之偏光度係95%或更大。
(26)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該偏光層之光透射率係42%或更大。
(27)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該偏光層之收縮力(contractile force)係1.5牛頓(N)或更小。
(28)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層包含電極。
(29)如上述(28)所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層更包含基板，且該電極形成於該基板之上表面上。
(30)如上述(28)所述之光學堆疊結構，其中該電極直接形成於該窗口或該偏光層上。
(31)如上述(28)所述之光學堆疊結構，其中該電極包含沿彼此交叉之方向配置之第一電極及第二電極。
(32)如上述(31)所述之光學堆疊結構，其中該第一電極設置於該偏光層之上表面上，且該第二電極設置於該偏光層之下表面上。
(33)如上述(28)所述之光學堆疊結構，其中該電極具有500歐姆/平方(Ω/□)或更小之片電阻(sheet resistance)。
(34)如上述(28)所述之光學堆疊結構，其中該電極具有1.5奈米或更小之表面粗糙度。
(35)如上述(28)所述之光學堆疊結構，其中該電極之折射率處於自1.3至2.5之範圍內。
(36)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層之光透射率係85%或更大。
(37)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該偏光層及該觸控感測器層係自該窗口之該表面依序設置。
(38)如上述(1)所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層及該偏光層係自該窗口之該表面依序設置。
(39)如上述(1)所述之光學堆疊結構，更包含形成於以下中之至少一個區中之黏合層：該窗口與該偏光層之間、該窗口與該觸控感測器層之間、或該偏光層與該觸控感測器層之間。
(40)一種影像顯示裝置，包含如上述(1)至(39)中任一項所述之光學堆疊結構。
在根據本發明實施態樣之光學堆疊結構中，窗口、偏光層及觸控感測器層可被整合以應用於影像顯示裝置。因此，應用於撓性顯示器之每一層之機械性質可同時受到控制，且可以高可靠性來達成在抑制裂縫、斷裂等的同時具有所需撓度之光學堆疊結構。
在實例性實施態樣中，光學堆疊結構可具有為特定值或更大之修正後韌度，修正後韌度被定義為在斷裂點處應力與應變之乘積。因此，在反覆地彎曲或折疊時，可防止發生例如層間脫層(interlayer delamination)、裂縫或撕裂等缺陷。
此外，偏光層及觸控感測器層可整合於光學堆疊結構中以有效地應用於薄層式撓性顯示器。
100‧‧‧窗口/基板膜
100a‧‧‧表面
100b‧‧‧表面
102‧‧‧光學基板
102a‧‧‧表面
102b‧‧‧表面
104‧‧‧硬塗層
104a‧‧‧功能層
107‧‧‧光遮蔽圖案
110‧‧‧偏光層
110a‧‧‧液晶層
110b‧‧‧配向層
111‧‧‧外覆層
112‧‧‧第一保護膜
113‧‧‧保護膜
114‧‧‧拉伸型偏光器
116‧‧‧第二保護膜
120‧‧‧黏合層
120a‧‧‧第一黏合層
120b‧‧‧第二黏合層
130‧‧‧觸控感測器層
200‧‧‧基板
205‧‧‧分離層
210‧‧‧中間層
220‧‧‧電極
220a‧‧‧第一電極
220b‧‧‧第二電極
230‧‧‧絕緣層
240‧‧‧保護膜
第1圖、第2A圖及第2B圖係例示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖；第3圖至第7圖係例示根據某些實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖；第8圖係例示根據某些實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖；第9圖及第10圖係例示根據某些實例性實施態樣之觸控感測器層之結構之示意性剖視圖；第11圖係例示根據某些實例性實施態樣之觸控感測器層之電極配置之示意性剖視圖；第12圖係例示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖；第13圖及第14圖係例示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖；第15圖至第17圖係例示根據某些實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖；以及第18圖係顯示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之修正後韌度之曲線圖。
根據本發明之實例性實施態樣，提供一種光學堆疊結構，其包含窗口以及偏光層及觸控感測器層，該偏光層及該觸控感測器層形成於窗口之一表面上。偏光層及觸控感測器層可整合於光學堆疊結構中，並且光學堆疊結構可具有等於或大於特定臨限值(threshold value)之修正後韌度且亦可具有改良之撓度及耐久性。根據本發明之實例性實施態樣，亦提供一種包含該光學堆疊結構之影像顯示裝置。
在下文中，將參照附圖詳細地闡述本發明。然而，熟習此項技術者應瞭解，提供參照附圖所述之此等實施態樣係為了進一步理解本發明之精神，而非用於限制在詳細說明及申請專利範圍中所揭露之欲受保護之標的物。
光學堆疊結構
第1圖、第2A圖及第2B圖係例示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖。舉例而言，該光學堆疊結構可用作影像顯示裝置(例如撓性顯示器)之窗口堆疊結構。
參照第1圖，光學堆疊結構可包含窗口100以及偏光層110及觸控感測器層130，偏光層110及觸控感測器層130設置於窗口100之一表面上。
窗口100可用作光學堆疊結構之窗口膜或光學基板。光學基板可包含透明材料，該透明材料可被使用者透視且可對於施加至液晶顯示裝置、有機發光顯示裝置、觸控螢幕面板(touch screen panel；TSP)等之外部震動具有耐久性。光學基板亦可包含可具有恰當撓性性質之塑膠材料 或聚合物材料。在此種情形中，包含該光學堆疊結構之顯示裝置可被提供為撓性顯示器。
舉例而言，光學基板可包含聚醯亞胺(polyimide；PI)、聚醚碸(polyethersulphone；PES)、聚丙烯酸酯(polyacrylate；PAR)、聚醚醯亞胺(polyetherimide；PEI)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate；PEN)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide；PPS)、聚烯丙酸酯、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、三乙酸纖維素(cellulose triacetate；TAC)、乙酸丙酸纖維素(cellulose acetate propionate；CAP)等。此等材料可單獨使用或以其組合形式使用。
窗口100包含一個表面100b及表面100b之相對表面100a。舉例而言，一個表面100b及相對表面100a可分別對應於上表面及下表面。
當光學堆疊結構被應用於影像顯示裝置時，相對表面100a可朝向觀看側而設置。舉例而言，影像係透過窗口100之相對表面100a向使用者顯示，且使用者之指令可透過相對表面100a(例如，藉由使用者之觸控)而被輸入。窗口100之表面100b可例如面對顯示面板，且在表面100b上可堆疊或設置有其他層及/或結構。
如第1圖中所示，偏光層110可設置於窗口100之表面100b上，且觸控感測器層130可設置於偏光層110上。
偏光層110可包含塗佈型偏光器或拉伸型偏光器。觸控感測器層130可黏附至偏光層110。觸控感測器層130可包含電極圖案，該等電極圖案用於將透過窗口100之相對表面100a輸入之觸控訊號轉換成電性訊號。將參照第9圖及第10圖來闡述觸控感測器層130之詳細元件。
在實例性實施態樣中，黏合層可形成於偏光層110與窗口100之間及/或觸控感測器層130與偏光層110之間。
本文中所使用之用語「黏合層」亦包含接合層及增黏層(tackifying layer)。黏合層可使用壓敏黏合(pressure sensitive adhesive；PSA)組成物或光學透明黏合(optically clear adhesive；OCA)組成物而形成。
在某些實施態樣中，如第6圖中所示，第一黏合層120a可形成於偏光層110與窗口100之間。在一實施態樣中，第一黏合層120a可形成於窗口100之一個表面100a上，然後，偏光層110可藉由第一黏合層120a黏附至窗口100。在一實施態樣中，第一黏合層120a可形成於偏光層110上，然後可附著至窗口100。
在某些實施態樣中，如第8圖中所示，觸控感測器層130可藉由第二黏合層120b與偏光層110組合。
黏合層可具有恰當黏附力，俾在光學堆疊結構被彎曲時不會引起脫層、氣泡等，且黏合層亦可具有黏彈性以應用於撓性顯示器。在某些實施態樣中，鑒於上述態樣，黏合層可使用丙烯酸酯系壓敏黏合組成物而形成。舉例而言，壓敏黏合組成物可包含(甲基)丙烯酸酯共聚物、交聯劑及溶劑。
交聯劑之類型可不受具體限制，且可恰當地使用在相關技術中常用之交聯劑。舉例而言，交聯劑可包含聚異氰酸酯化合物、環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、尿素樹脂、二醛化合物、羥甲基聚合物等。較佳地，可使用聚異氰酸酯化合物。
可使用在樹脂組成物中廣泛使用之溶劑。舉例而言，醇系溶劑(甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、丙二醇、甲氧基醇等)、酮系溶劑(甲基乙基酮、甲基丁基酮、甲基異丁基酮、二乙基酮、二丙基酮等)、乙酸酯系溶劑(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲氧基乙酸酯等)、溶纖劑系溶劑(甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙基溶纖劑等)、烴系溶劑(正己烷、正庚烷、苯、甲苯、二甲苯等)等等。此等材料可單獨使用或以其組合形式使用。
參照第2A圖，窗口100可更包含硬塗層104。在實例性實施態樣中，窗口100可包含由上述光學基板102及硬塗層104形成之堆疊結構。
舉例而言，光學基板102可包含一個表面102b及相對表面102a，且硬塗層104可形成於光學基板102之相對表面102a上。在此種情形中，硬塗層104之表面可暴露於觀看側。偏光層110及觸控感測器層130可堆疊於光學基板102之一個表面102b上。
硬塗層104可使用硬塗佈組成物而形成，該硬塗佈組成物可包含光可固化化合物、光引發劑及溶劑，俾可進一步改良窗口100之撓度、耐磨性、表面硬度等。
光可固化化合物可例如包含矽氧烷系化合物、丙烯酸酯系化合物、具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基之化合物等。此等材料可單獨使用或以其組合形式使用。
矽氧烷系化合物可例如包含聚二甲基矽氧烷(polydimethyl siloxane；PDMS)。矽氧烷系化合物可含有例如環氧丙基等環氧基。因此，可藉由光輻照來有利於透過環氧開口進行交聯反應或固化反應。
丙烯酸酯系化合物可例如包含二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、含有氧乙烯基之(甲基)丙烯酸酯、酯(甲基)丙烯酸酯、醚(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯等。
具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基之化合物可例如包含(甲基)丙烯酸酯、N-乙烯基化合物、經乙烯基取代之芳香族化合物、乙烯醚化合物、乙烯酯化合物等。
光引發劑可包含可藉由活性能量射線(例如可見光、紫外光、X射線、或電子束)而產生路易斯酸或自由基之化合物，以引發光可固化化合物之聚合反應。光引發劑可例如包含鎓鹽(例如芳香族重氮鎓鹽、芳香族錪鎓鹽、芳香族鋶鹽等)、苯乙酮系化合物、苯偶姻系化合物、二苯甲酮系化合物、噻噸酮系化合物等。
亦可使用與在壓敏黏合組成物中所使用之溶劑實質上相同或相似之溶劑，但並非具體僅限於此。
在某些實施態樣中，硬塗佈組成物可更包含紫外線吸收劑。能夠吸收380奈米或更短之紫外線波長之化合物皆可用作紫外線吸收劑，而不受特別限制。在某些實施態樣中，紫外線吸收劑可包含苯並噁嗪酮系化合物、三嗪系化合物、苯並三唑系化合物、或二苯甲酮系化合物。此等材料可單獨使用或以其組合形式使用。因此，硬塗層104可降低紫外線透射率，俾可增強光學性質及可見光透射率。
如第1圖及第2A圖中所示，可採用由光學基板102形成之單 層式結構作為窗口100，或者可採用包含硬塗層104及光學基板102之多層式結構作為窗口100。
在某些實施態樣中，窗口100可包含形成於光學基板102之一個表面102b上之其他硬塗層。在此種情形中，窗口100可包含由第一硬塗層-基板膜-第二硬塗層形成之堆疊結構。
參照第2B圖，窗口100可更包含可被應用於影像顯示裝置之至少一個功能層，例如紫外線阻擋層、抗散射層、抗指紋層等。在某些實施態樣中，可在光學基板102之相對表面102a上設置包含第2A圖所示硬塗層104及功能層104a之堆疊結構。
第3圖至第7圖係例示根據某些實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖。
參照第3圖，偏光層可包含塗佈型偏光器。舉例而言，偏光層可包含液晶層110a。
在某些實施態樣中，可藉由將液晶塗佈組成物塗佈於窗口100之一個表面100b上來形成液晶層110a。在此種情形中，液晶層110a可直接接觸窗口100。液晶塗佈組成物可包含反應性液晶化合物及二向色染料(dichroic dye)。
反應性液晶化合物可包含提供液晶性質之反應性液晶原(Reactive Mesogen；RM)、以及包含可聚合末端官能團且在光交聯反應或熱交聯反應之後具有液晶相之單體分子。當藉由光輻照或熱量輻照而使反應性液晶化合物聚合時，可在維持液晶配置之同時形成聚合物網狀結構。可使用反應性液晶化合物來形成在維持液晶之光學各向異性性質及介電性 質的同時具有改良之機械穩定性及熱穩定性之薄層式偏光器。
二向色染料可包含於液晶塗佈組成物中以提供偏光性質，且可在分子之長軸方向上與分子之短軸方向上具有不同之吸光度。二向色染料可包含吖啶、噁嗪染料、花青染料、萘染料、偶氮染料、蒽醌染料等。此等染料可單獨使用或以其組合形式使用。
液晶塗佈組成物可更包含用於溶解反應性液晶化合物及二向色染料之溶劑。舉例而言，可使用丙二醇單甲基醚乙酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate；PGMEA)、甲基乙基酮(methyl ethyl ketone；MEK)、二甲苯、及氯仿。液晶塗佈組成物可更包含在不使塗層之偏光性質劣化之範圍內的流平劑(leveling agent)、聚合引發劑等。
參照第4圖，偏光層110可包含液晶層110a及配向層110b。舉例而言，液晶層110a可形成於配向層110b上。
舉例而言，可將包含配向聚合物、光聚合引發劑及溶劑之配向層塗佈組成物塗佈於窗口100上並使該配向層塗佈組成物固化以形成配向層，然後，可將液晶塗佈組成物塗佈於配向層上並使該液晶塗佈組成物固化，以形成包含配向層110b及液晶層110a之偏光層110。
配向聚合物可例如包含聚丙烯酸酯系樹脂、聚醯胺酸樹脂、聚醯亞胺系樹脂、含有肉桂酸酯基團之聚合物等。
參照第5圖，偏光層110可更包含外覆層111。舉例而言，外覆層111可形成於液晶層110a之上表面上以面對配向層110b。
在某些實施態樣中，如第5圖中所示，保護膜113可設置於外覆層111上。在此種情形中，偏光層110可包含由配向層-液晶層-外覆層-保護 膜形成之堆疊結構，且可在維持透射率之同時具有改良之機械耐久性。
外覆層111亦可實質上用作用於組合保護膜113之黏合層。在實施態樣中，在外覆層111與保護膜113之間可另外形成有黏合層。
在某些實施態樣中，保護膜113可包含光學功能層，例如，延遲膜。延遲膜可用作可使穿過液晶層110a之光之相位延遲之功能層。用於延遲膜之材料可不受具體限制。舉例而言，延遲膜可包含傾斜拉伸樹脂膜、液晶塗層等。
舉例而言，延遲膜可包含λ/4膜。延遲膜可具有包含λ/4膜及λ/2膜之多層式結構。
在某些實施態樣中，例如延遲膜等光學功能層可更堆疊於保護膜113上。
參照第6圖，偏光層110可包含拉伸型偏光器114。舉例而言，偏光層110可包含第一保護膜112及拉伸型偏光器114，且可實質上用作拉伸型偏光板。
第一保護膜112可包含：聚酯系樹脂，例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等；纖維素系樹脂，例如二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素等；聚碳酸酯系樹脂；丙烯醯基系(acryl-based)樹脂，例如聚甲基(甲基)丙烯酸酯、聚乙基(甲基)丙烯酸酯等；環烯烴聚合物(cyclo olefin polymer；COP)等。
拉伸型偏光器114可例如包含拉伸聚乙烯醇(polyvinyl alcohol；PVA)樹脂。較佳地，聚乙烯醇樹脂可係藉由聚乙酸乙烯酯系樹脂之皂化而獲得。聚乙酸乙烯酯樹脂可包含乙酸乙烯酯之均聚物、或乙酸乙 烯酯與能夠和乙酸乙烯酯發生共聚合之單體之共聚物。單體可包含不飽和羧酸系單體、不飽和磺酸系單體、烯烴系單體、乙烯醚系單體、具有銨基之丙烯醯胺系單體等。聚乙烯醇樹脂可係為改性樹脂，且可例如包含藉由醛類改性之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛。
在實例性實施態樣中，第一黏合層120a可形成於偏光層110之第一保護膜112上，且偏光層110可藉由第一黏合層120a黏附至基板膜100。
參照第7圖，偏光層110可更包含形成於拉伸型偏光器114之上表面上之第二保護膜116。因此，偏光層110可用作偏光板，其包含第一保護膜112及第二保護膜116以及夾置於第一保護膜112與第二保護膜116間之拉伸型偏光器114。
在一實施態樣中，第二保護膜116可包含與第一保護膜112之材料實質上相同或相似之材料。
在一實施態樣中，第二保護膜116可包含光學功能層。光學功能層可如上所述包含例如延遲膜。
在某些實施態樣中，第二保護膜116可包含與第一保護膜112之材料實質上相同或相似之材料，且例如延遲膜等光學功能層可更形成於第二保護膜116上。
第8圖係例示根據某些實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖。第9圖及第10圖係例示根據某些實例性實施態樣之觸控感測器層之結構之示意性剖視圖。第11圖係例示根據某些實例性實施態樣之觸控感測器層之電極配置之示意性剖視圖。
參照第8圖，觸控感測器層130可藉由第二黏合層120b黏附至 偏光層110。參照第9圖，觸控感測器層130可包含基板200及設置於基板200上之電極220。此外，覆蓋電極220之絕緣層230可形成於基板200上。
基板200可包含撓性樹脂膜，例如聚醯亞胺膜。電極220可包含用以藉由電容變化來實施觸控感測之感測電極、以及用於訊號傳送之接墊電極(pad electrode)。
舉例而言，電極220可包含金屬、金屬線(例如，金屬奈米線)、或透明導電氧化物。
金屬可例如包含銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鎢(W)、鈮(Nb)、鉭(Ta)、釩(V)、鐵(Fe)、錳(Mn)、鈷(Co)、鎳(Ni)、鋅(Zn)、或其合金。此等金屬可單獨使用或以其組合形式使用。
透明導電氧化物可例如包含氧化銦錫(indium tin oxide；ITO)、氧化銦鋅(indium zinc oxide；IZO)、氧化鋅(zinc oxide；ZnO)、氧化銦鋅錫(indium zinc tin oxide；IZTO)、氧化鎘錫(cadmium tin oxide；CTO)等。
在一實施態樣中，電極220可包含例如透明金屬氧化物-金屬線或者透明金屬氧化物-金屬(或金屬線)-透明金屬氧化物之堆疊結構。
在某些實施態樣中，觸控感測器層130可包含以互電容類型操作之觸控感測器。在此種情形中，感測電極可包含被配置成在不同方向(例如，X方向及Y方向)上彼此交叉之第一感測電極及第二感測電極。
舉例而言，第一感測電極可包含彼此連接之單元圖案(unit pattern)以界定感測線，且可配置有複數個感測線。第二感測電極可包含彼 此實體上隔離之單元圖案。舉例而言，可更包含將相對於第一感測電極彼此相鄰之第二感測電極連接之橋接電極(bridge electrode)。在此種情形中，絕緣層230可包含絕緣圖案，該絕緣圖案可在將第一感測電極與第二感測電極彼此絕緣之同時用作橋接電極之支撐圖案。
在某些實施態樣中，觸控感測器層130可包含自電容型觸控感測器。在此種情形中，電極220可包含彼此實體上隔離之單元圖案。各該單元圖案可藉由跡線(trace)或佈線電性連接至驅動電路。
舉例而言，單元圖案可係藉由將網格金屬電極圖案化為多邊形形狀而形成。
絕緣層230可覆蓋基板200上之電極220。絕緣層230可包含無機絕緣材料(例如氧化矽)或透明有機材料(例如丙烯醯基系樹脂)。
在一實施態樣中，觸控感測器層130之基板200可藉由第二黏合層120b黏附至偏光層110。在一實施態樣中，觸控感測器層130之絕緣層230可黏附至偏光層110。
參照第10圖，觸控感測器層130可包含分離層205、中間層210、電極220、及絕緣層230。
分離層205可包含聚合物有機層。用於分離層205之材料之非限制性實例可包含聚醯亞胺、聚乙烯醇、聚醯胺酸、聚醯胺、聚乙烯、聚苯乙烯、聚降莰烯(polynorbornene)、苯基馬來醯亞胺共聚物、聚偶氮苯、聚伸苯基鄰苯二甲醯胺、聚酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚芳酯、肉桂酸系聚合物、香豆素系聚合物、苄甲內醯胺、查耳酮系聚合物、芳香族乙炔系聚合物等。此等材料可單獨使用或以其組合形式使用。
在某些實施態樣中，分離層205可形成於例如玻璃基板等承載基板(圖中未例示)上，且可有利於在形成電極220及絕緣層230之後自承載基板進行拆離製程。
可形成中間層210以保護觸控感測器層130之電極220且提供與電極220匹配之折射率。舉例而言，中間層210可由例如氧化矽、氮化矽、氮氧化矽等無機絕緣材料或聚合物有機絕緣材料形成。
在某些實施態樣中，可省略分離層205及中間層210中之一者。
黏合層120可形成於觸控感測器層130上，且保護膜240可附著至黏合層120。舉例而言，在附著保護膜240之後，可移除承載基板。隨後，可移除保護膜240，且可使用黏合層120將觸控感測器層130堆疊於偏光層110上。
在某些實施態樣中，黏合層120亦可與保護膜240一起被移除，且可再次在絕緣層230上形成黏合層以形成整合式光學堆疊結構。
在某些實施態樣中，可在拆離承載基板之後將分離層205另外組合一基板。
在某些實施態樣中，觸控感測器層130可實質上被製作為無基板型(substrate-less type)。在此種情形中，電極220可直接形成於偏光層110上。
在某些實施態樣中，分離層205及/或中間層210可實質上用作基板，且可整合於光學堆疊結構中。
參照第11圖，觸控感測器層中所包含之電極可分散於偏光層 110之上表面及下表面中。
在實例性實施態樣中，第一電極220a可配置於偏光層110之上表面上，且第二電極220b可配置於偏光層110之下表面上。
舉例而言，第一電極220a可包含可沿列方向(例如，X方向)配置以形成感測線之感測電極。第二電極220b可包含可沿行方向(例如，Y方向)配置以形成感測線之感測電極。
第一電極220a及第二電極220b可設置於不同平面或不同水平高度處，俾可省略用於將第一電極220a與第二電極220b彼此絕緣之橋接電極。另外，偏光層110可實質上用作觸控感測器層130之基板。
第12圖係例示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖。參照第12圖，觸控感測器層130及偏光層110可係從窗口100之一個表面100b依序堆疊。
如參照第2A圖及第2B圖所述，窗口100可包含由光學基板及硬塗層或由光學基板及功能層形成之堆疊結構。
根據第12圖中所示之一實施態樣，觸控感測器層130可被定位成更接近觀看側或觸控輸入面。因此，可更多地增強觸控感測之靈敏度或訊號傳送。
第13圖及第14圖係例示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖。
參照第13圖，在第12圖所示之窗口-觸控感測器層-偏光層結構中，觸控感測器層130可藉由第一黏合層120a黏附至窗口100。
如參照第9圖所述，觸控感測器層130可包含基板及配置於基 板上之電極。在某些實施態樣中，觸控感測器層可實質上被製作為無基板型。在此種情形中，電極可直接形成於窗口100上。在某些實施態樣中，如第10圖中所示，分離層205及中間層210可實質上用作基板。
在一實施態樣中，如第11圖中所示，觸控感測器層130之電極可分散於偏光層110之上表面及下表面中。
偏光層110可如參照第3圖所述包含塗佈型偏光器，且可如第4圖中所示包含配向層及液晶層。在某些實施態樣中，如第5圖中所示，偏光層110可包含形成於液晶層上之外覆層。
參照第14圖，在觸控感測器層130與偏光層110之間可包含第二黏合層120b。
在某些實施態樣中，偏光層110可係包含第一保護膜112及拉伸型偏光器114之拉伸型偏光板。
在某些實施態樣中，如第7圖中所示，偏光層110可更包含黏附於拉伸型偏光器114上之第二保護膜116。舉例而言，第二保護膜116可包含光學功能層，例如延遲膜。光學功能層可另外堆疊於第二保護膜116上。
第15圖至第17圖係例示根據某些實例性實施態樣之光學堆疊結構之示意性剖視圖。舉例而言，第15圖至第17圖例示包含光遮蔽圖案之光學堆疊結構之實例。
參照第15圖，光遮蔽圖案107可形成於窗口100之一個表面100b之周邊部上。舉例而言，光遮蔽圖案107可用作光學堆疊結構或影像顯示裝置之邊框。
光遮蔽圖案107可包含彩色圖案(例如白色圖案或黑色圖 案)，且可具有由不同顏色之圖案形成之多層式結構。舉例而言，光遮蔽圖案107可由混合有用於呈現顏色之顏料及/或染料之樹脂材料(例如丙烯醯基系樹脂、環氧系樹脂、聚胺甲酸酯、聚矽氧等)形成。
第一黏合層120a可形成於光遮蔽圖案107之一表面上及窗口100之一個表面100b上。第15圖例示第一黏合層120a之上表面係平面的。然而，第一黏合層120a可沿光遮蔽圖案107之表面保形地形成且形成於窗口100之一個表面100b上。
舉例而言，偏光層110之第一保護膜112如參照第6圖所述可黏附至第一黏合層120a，且觸控感測器層130可藉由第二黏合層120b堆疊於偏光層110上。
參照第16圖，光遮蔽圖案107可與偏光層110橫向交疊或可設置於與偏光層110相同之水平高度處。舉例而言，偏光層110可係包含液晶層之塗佈型偏光器，且可如第16圖中所示塗佈於光遮蔽圖案107之表面及窗口100之一個表面100b上。
在一實施態樣中，偏光層110可形成於光遮蔽圖案107之側壁及窗口100之一個表面100b上，且可不在光遮蔽圖案107之頂表面上延伸。
參照第17圖，光遮蔽圖案107可與觸控感測器層130橫向交疊或可設置於與觸控感測器層130相同之水平高度處。
舉例而言，光遮蔽圖案107可設置於偏光層110上，且黏合層120可形成於光遮蔽圖案107及偏光層110上。觸控感測器層130可插入穿過黏合層120由光遮蔽圖案107界定之開口中。偏光層110可如參照第3圖至第5圖所述具有包含塗佈型偏光器之結構或如參照第6圖及第7圖所述具有包含 拉伸型偏光器之結構。
觸控感測器層130中所包含之接墊、跡線或佈線可與光遮蔽圖案107垂直交疊。
根據本發明實施態樣之光學堆疊結構可具有其中偏光器及觸控感測器與窗口或光學基板整合於一起之構造。因此，通常可在堆疊結構單元中控制及調整機械性質，以獲得在將光學結構應用於撓性顯示器(例如撓性有機發光顯示裝置)時所需之撓度、可靠性及耐久性。
因此，與當撓性顯示器中所包含之單獨結構之性質被獨立地控制時相較，可有效地達成例如撓度、硬度、抗脫層性等所需性質。
在根據如參照第1圖至第17圖所述之實例性實施態樣之光學結構中，可控制整個光學堆疊結構之修正後韌度。在實例性實施態樣中，光學堆疊結構可滿足以下方程式1。
在以上方程式1中，「修正後韌度」表示在光學堆疊結構之應力-應變曲線中之斷裂點處應力(MPa)與應變(%)之乘積。
應力-應變曲線係顯示在對包含聚合物之結構之抗拉測試(tensile test)中施加至結構之應力與結構對應於該應力之應變之關係的曲線圖。應力-應變曲線表示基於聚合物材料之應變之增加而需要之應力變化。
第18圖係顯示根據實例性實施態樣之光學堆疊結構之修正後韌度之曲線圖。參照第18圖，X軸表示應變(%)，且Y軸表示應力(MPa)。在第18圖中標示為圓圈之區域表示結構隨著應變增加而斷裂或撕裂時之斷 裂點。修正後韌度係在斷裂點處X軸值(應變)與Y軸值(應力)之乘積，其對應於由粗線標示之四邊形之截面。第18圖例示修正後韌度為389.7MPa%之實例。
在實例性實施態樣中，光學堆疊結構之修正後韌度可被調整為約300MPa%或更大，俾可隨同高硬度一起獲得抗彎曲疲勞性、抗裂縫性及抗脫層性。若光學堆疊結構之修正後韌度小於約300MPa%，則可能不能獲得充足之撓度，進而在光學堆疊結構應用於撓性顯示器時引起層間脫層、裂縫等。在某些實施態樣中，光學堆疊結構之修正後韌度可係約400MPa%或更大。在此種情形中，可更多地增強光學堆疊結構之撓度。
隨著修正後韌度變得更大，撓度可更多地改良。修正後韌度之上限可不受具體限制，而自經濟態樣來看可係1,000MPa%或更小、較佳800MPa%或更小。
根據實例性實施態樣，光學堆疊結構之每一層或每一結構可具有如下所述之光學性質、機械性質及電性性質。
光學堆疊結構之窗口100可本質地具有約10,000MPa%或更大之修正後韌度。舉例而言，本文中所使用之用語「窗口」可表示如參照第1圖所述之光學基板或可表示如參照第2A圖及第2B圖所述由光學基板102、硬塗層104及/或功能層104a形成之堆疊結構。如上所述，窗口可包含分別形成於光學基板之一個表面及相對表面上之第一硬塗層及第二硬塗層。
在一實施態樣中，窗口在1公斤之負載下可具有3H或更大之鉛筆硬度，以保護影像顯示裝置之外表面。
在一實施態樣中，窗口之水接觸角可係約105度(°)或更大。在此範圍內，可改良窗口膜之防潮、防汙及防堵性質。
在一實施態樣中，相對於厚度相同之玻璃基板之衝擊力而言，窗口之衝擊力可係約70%或更小。因此，可改良光學堆疊結構之防震性質，且可防止因外部震動而發生斷裂。
在一實施態樣中，窗口可具有改良之防刮性質，且亦可滿足以下方程式2。
在一實施態樣中，窗口可滿足以下方程式3。
在方程式3中，馬氏硬度係在10毫牛頓之負載下測得。
在某些實施態樣中，窗口可滿足方程式2及方程式3，俾可在獲得恰當滑移性質之同時改良窗口之表面硬度，且因此可增強防刮性質。
在一實施態樣中，窗口在380奈米之紫外線波長下可具有約15%或更小之透射率。本文中所使用之用語「380奈米之紫外線波長」包含精確地380奈米波長且亦包含380奈米至390奈米之波長。舉例而言，可使用硬塗層104中所包含之紫外線吸收劑或使用功能層104a中之紫外線阻擋層來獲得上述範圍之紫外線透射率。因此，窗口上之偏光層之耐光性(light resistance)可得以改良。
在一實施態樣中，窗口之厚度可處於自40微米(μm)至150 微米之範圍內。
光學堆疊結構中所包含之偏光層110可如上所述包含塗佈型偏光器或拉伸型偏光器。
在一實施態樣中，偏光層之偏光度(Py)可係約95%或更大，且偏光層之光透射率可係42%或更大。若偏光層係拉伸型偏光板，則偏光層之收縮力可係約1.5牛頓或更小。因此，可在獲得尺寸穩定性之同時以所需偏光性質來實施高品質影像。
舉例而言，收縮力可係在將尺寸為2毫米(mm)寬度×50毫米長度(MD方向)之樣品置於80℃下達2小時時作為收縮力之絕對值而測得。舉例而言，收縮力可係使用例如由TA儀器(TA-Instruments)公司製造之Q800等設備而測得。
在一實施態樣中，偏光層之厚度可係約100微米或更小，例如處於自約5微米至100微米之範圍中。
光學堆疊結構中所包含之觸控感測器層130之電極220之片電阻可係約500歐姆/平方或更小。電極之表面粗糙度可係約1.5奈米或更小。因此，可達成改良之感測靈敏度及訊號均勻度。
在一實施態樣中，觸控感測器層之光透射率可係約85%或更大、較佳約89%或更大。觸控感測器層之折射率可處於自約1.3至約2.5之範圍中。因此，可在不使光學堆疊結構之光學性質或透射率劣化之情況下防止電極220被觀看到。
在一實施態樣中，觸控感測器層之厚度可處於自約1微米至100微米之範圍中。
如上所述，光學堆疊結構可包含至少一個黏合層，且每一黏合層之厚度可處於自約5微米至100微米之範圍中。
在實例性實施態樣中，光學堆疊結構之總厚度可被調整為600奈米或更小。
影像顯示裝置
根據本發明之實施態樣，揭露一種包含如上所述光學堆疊結構之影像顯示裝置。光學堆疊結構可與有機發光顯示裝置、液晶顯示裝置等中所包含之顯示面板組合。顯示面板可包含：畫素電路，包含配置於基板上之薄膜電晶體(thin film transistor；TFT)；以及畫素單元或發光單元，電性連接至畫素電路。
舉例而言，如參照第1圖至第17圖所述之光學堆疊結構可設置於顯示面板上。光學堆疊結構可被提供為暴露於影像顯示裝置之外的窗口基板或窗口堆疊結構。
影像顯示裝置可係撓性顯示器。在折疊或彎曲時，可因改良之撓度及耐久性而防止影像顯示裝置發生機械故障或損壞(例如裂縫、脫層、斷裂等)。
在下文中，將參照實例來闡述較佳實施態樣以更具體地理解本發明。然而，熟習此項技術者將明瞭，提供此等實施態樣係出於例示目的，並且可在不背離本發明之範圍及精神之條件下作出各種潤飾及變更，且此等潤飾及變更被適當包含於由隨附申請專利範圍所界定之本發明中。
實例及比較例
實例1
(1)硬塗佈組成物之製備
在攪拌器中混合並使用PP過濾器來過濾以下各者以製備硬塗佈組成物：35重量份作為光可固化樹脂之六官能丙烯酸酯(PU620D，美源專業化學公司(Miwon Specialty Chemical))及10重量份作為光可固化樹脂之己二醇二丙烯酸酯、2.7重量份作為光引發劑之1-羥基-環己基-苯基-酮、52重量份作為溶劑之丙二醇單甲基醚、及0.3重量份作為流平劑之BYK-UV3570(BYK)。
(2)窗口之製作
將如上所製備的在固化之後具有10微米厚度之硬塗佈組成物塗佈於厚度為80微米之光學聚醯亞胺膜上、在80℃下固化達1分鐘、然後使用高壓汞燈以300毫焦耳/平方公分(mJ/cm2)之光量來固化，以形成包含硬塗層之窗口。
(3)窗口-偏光板堆疊結構之製作
在窗口的上面形成有硬塗層之表面之相對表面上形成第一黏合層。將厚度為20微米之聚乙烯醇(PVA)偏光器附著於80微米三乙醯基纖維素(TAC)保護膜上，然後附著於第一黏合層上，俾使保護膜及偏光器係依序設置於第一黏合層上，以獲得窗口-偏光板堆疊結構。
實例2
在攪拌器中混合並使用PP過濾器來過濾以下各者以製備硬塗佈組成物：35重量份作為光可固化樹脂之六官能丙烯酸酯(PU620D，美源專業化學公司)、10重量份分散於丙二醇單甲基醚中之15奈米反應性矽溶膠(固體含量40%)、2.7重量份作為光引發劑之1-羥基-環己基-苯基-酮、52 重量份作為溶劑之丙二醇單甲基醚、及0.3重量份作為流平劑之BYK-UV3570(BYK)。
藉由與實例1之(2)及(3)相同之製程使用硬塗佈組成物來製作窗口-偏光板堆疊結構。
實例3
在攪拌器中混合並使用PP過濾器來過濾以下各者以製備硬塗佈組成物：25重量份作為光可固化樹脂之六官能丙烯酸酯(PU620D，美源專業化學公司)、20重量份分散於丙二醇單甲基醚中之15奈米反應性矽溶膠(固體含量40%)、2.7重量份作為光引發劑之1-羥基-環己基-苯基-酮、52重量份作為溶劑之丙二醇單甲基醚、及0.3重量份作為流平劑之BYK-UV3570(BYK)。
藉由與實例1之(2)及(3)相同之製程使用硬塗佈組成物來製作窗口-偏光板堆疊結構。
實例4
藉由與實例1相同之製程來製作窗口-偏光板堆疊結構，只不過使用的係80微米聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)保護膜。
實例5
藉由與實例1相同之製程來製作窗口-偏光板堆疊結構，只不過使用的係50微米環烯烴聚合物(COP)保護膜。
比較例1
藉由與實例1相同之製程來製作窗口-偏光板堆疊結構，只不過在實例1之製程(2)中固化之後，硬塗層之厚度係20微米。
比較例2
在攪拌器中混合並使用PP過濾器來過濾以下各者以製備硬塗佈組成物：15重量份作為光可固化樹脂之六官能丙烯酸酯(PU620D，美源專業化學公司)、30重量份分散於丙二醇單甲基醚中之15奈米反應性矽溶膠(固體含量40%)、2.7重量份作為光引發劑之1-羥基-環己基-苯基-酮、52重量份作為溶劑之丙二醇單甲基醚、及0.3重量份作為流平劑之BYK-UV3570(BYK)。
藉由與實例1之(2)及(3)相同之製程使用硬塗佈組成物來製作窗口-偏光板堆疊結構。
比較例3
在攪拌器中混合並使用PP過濾器來過濾以下各者以製備硬塗佈組成物：15重量份作為光可固化樹脂之季戊四醇三丙烯酸酯、30重量份分散於丙二醇單甲基醚中之15奈米反應性矽溶膠(固體含量40%)、2.7重量份作為光引發劑之1-羥基-環己基-苯基-酮、52重量份作為溶劑之丙二醇單甲基醚、及0.3重量份作為流平劑之BYK-UV3570(BYK)。
藉由與實例1之(2)及(3)相同之製程使用硬塗佈組成物來製作窗口-偏光板堆疊結構。
實驗例
將厚度為45奈米的作為電極之氧化銦錫圖案、及氧化矽絕緣層轉移至在實例1至實例5以及比較例1至比較例3中所製作之每一窗口-偏光板堆疊結構之偏光器上，以獲得光學堆疊結構。
自光學堆疊結構製備尺寸為50毫米長度×5毫米寬度之樣 品，且使用由SHIMAZHU公司製造之AUTOGRAPH AG-X 1KN來測得樣品之修正後韌度。具體而言，沿長度方向以4毫米/分鐘之固定速度拉動樣品，且直至發生斷裂時根據應變而測得應力。因此，應力及應變係在斷裂點處獲得。然後，根據方程式1從例如第18圖所示應力-應變曲線來獲得修正後韌度。
如下來評估實例及比較例中之每一光學堆疊結構之撓度，且結果顯示於表1中。
撓度之評估
將直徑為3毫米之桿置於實例及比較例中之光學堆疊結構之寬度之中心上(硬塗層上)。將光學堆疊結構折疊直至光學堆疊結構在長度方向上之二側彼此接觸為止，並恢復至原始狀態。重複以上循環，且直至發生膜斷裂時測得循環之數目。評估標準之說明提供於下。
S：直至200,000個循環時才發生斷裂
A：在100,000個循環或更多且少於200,000個循環時發生斷裂。
B：在50,000個循環或更多且少於100,000個循環時發生斷裂。
C：在少於50,000個循環內發生斷裂。
參照表1，在實例之光學堆疊結構中，當修正後韌度超過約300MPa%時，會實質上達成改良之撓度而不會引起斷裂。在修正後韌度超過約400MPa%時，撓度會進一步改良。
在比較例之光學堆疊結構中，在修正後韌度低於約300MPa%時，會輕易發生斷裂。修正後韌度進一步降低時，撓度會進一步劣化。

Claims (40)

  1. 一種光學堆疊結構，包含：窗口；以及偏光層及觸控感測器層，位於該窗口之一表面上。
  2. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該窗口包含一個表面及該一個表面之相對表面，其中該偏光層及該觸控感測器層係堆疊於該一個表面上，且該相對表面係朝向觀看側。
  3. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該光學堆疊結構滿足以下方程式1： 其中，在以上方程式1中，該修正後韌度係該光學堆疊結構之應力-應變曲線(stress-strain curve)中之斷裂點處應力(MPa)與應變(%)之乘積。
  4. 如請求項3所述之光學堆疊結構，其中該修正後韌度係400MPa%或更大。
  5. 如請求項3所述之光學堆疊結構，其中該修正後韌度係1,000MPa%或更小。
  6. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該窗口包含由聚合物材料形成之光學基板。
  7. 如請求項6所述之光學堆疊結構，其中該窗口更包含位於該光學基板之一表面或二個表面上之硬塗層(hard coating layer)。
  8. 如請求項6所述之光學堆疊結構，其中該窗口更包含位於該光學基板之一 表面或二個表面上之功能層(functional layer)。
  9. 如請求項8所述之光學堆疊結構，其中該功能層包含紫外線阻擋層、抗散射層、或抗指紋層中之至少一者。
  10. 如請求項1所述之光學堆疊結構，更包含位於該窗口之該表面之周邊部上之光遮蔽圖案。
  11. 如請求項10所述之光學堆疊結構，其中該光遮蔽圖案係設置於與該偏光層或該觸控感測器層相同之水平高度處。
  12. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該窗口之修正後韌度係10,000MPa%或更大。
  13. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該窗口在380奈米(nm)之紫外線波長下具有15%或更小之透射率。
  14. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該窗口在1公斤(kg)之負載下具有3H或更大之鉛筆硬度(pencil hardness)。
  15. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中在10毫牛頓(mN)之負載下，該窗口之馬氏硬度(Martens Hardness)係200牛頓/平方毫米(N/mm 2)或更大。
  16. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該窗口滿足以下方程式2：
  17. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該偏光層包含拉伸型偏光器(stretched-type polarizer)或塗佈型偏光器(coating-type polarizer)。
  18. 如請求項17所述之光學堆疊結構，其中該偏光層更包含保護膜，該保護 膜位於以下中之至少一者上：該偏光器之一個表面、或與該偏光器之該一個表面面對之相對表面。
  19. 如請求項18所述之光學堆疊結構，其中該保護膜包含延遲膜(retardation film)。
  20. 如請求項19所述之光學堆疊結構，其中該保護膜包含分別形成於該偏光器之二個表面上之第一保護膜及第二保護膜，以及該第二保護膜係該延遲膜。
  21. 如請求項17所述之光學堆疊結構，其中該塗佈型偏光器包含液晶層。
  22. 如請求項21所述之光學堆疊結構，其中該液晶層接觸該窗口。
  23. 如請求項21所述之光學堆疊結構，其中該塗佈型偏光器更包含位於該窗口與該液晶層間之配向層(alignment layer)。
  24. 如請求項21所述之光學堆疊結構，其中該塗佈型偏光器更包含位於該液晶層上之外覆層(overcoat layer)。
  25. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該偏光層之偏光度係95%或更大。
  26. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該偏光層之光透射率係42%或更大。
  27. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該偏光層之收縮力(contractile force)係1.5牛頓(N)或更小。
  28. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層包含電極。
  29. 如請求項28所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層更包含基板，且該電極形成於該基板之上表面上。
  30. 如請求項28所述之光學堆疊結構，其中該電極直接形成於該窗口或該偏 光層上。
  31. 如請求項28所述之光學堆疊結構，其中該電極包含沿彼此交叉之方向配置之第一電極及第二電極。
  32. 如請求項31所述之光學堆疊結構，其中該第一電極設置於該偏光層之上表面上，且該第二電極設置於該偏光層之下表面上。
  33. 如請求項28所述之光學堆疊結構，其中該電極具有500歐姆/平方(Ω/□)或更小之片電阻(sheet resistance)。
  34. 如請求項28所述之光學堆疊結構，其中該電極具有1.5奈米或更小之表面粗糙度。
  35. 如請求項28所述之光學堆疊結構，其中該電極之折射率處於自1.3至2.5之範圍內。
  36. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層之光透射率係85%或更大。
  37. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該偏光層及該觸控感測器層係自該窗口之該表面依序設置。
  38. 如請求項1所述之光學堆疊結構，其中該觸控感測器層及該偏光層係自該窗口之該表面依序設置。
  39. 如請求項1所述之光學堆疊結構，更包含形成於以下中之至少一個區中之黏合層：該窗口與該偏光層之間、該窗口與該觸控感測器層之間、或該偏光層與該觸控感測器層之間。
  40. 一種影像顯示裝置，包含如請求項1至39中任一項所述之光學堆疊結構。
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