CN110531897A - 盖板组件、其制备方法、触控面板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

一种盖板组件包括可挠的硬化层、位于硬化层一侧的圆偏光层以及直接形成于所述圆偏光层远离所述硬化层表面的遮蔽层。还提供一种盖板组件的制备方法、应用该盖板组件的触控面板和显示装置。

Description

盖板组件、其制备方法、触控面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种盖板组件及其制备方法、应用该盖板组件的触控面板及显示装置。
背景技术
一般，应用到显示装置中的盖板组件包括保护层、遮蔽层以及圆偏光片。圆偏光片包括基材以及形成于所述基材一侧的圆偏光层。在制程中，首先在保护层上印刷遮蔽层，然后再通过胶粘层与圆偏光片的基材进行贴合。然而，该种结构的盖板组件，整体厚度较大。
发明内容
本发明提供一种盖板组件，其包括：
可挠的硬化层；
圆偏光层，位于所述硬化层的一侧；以及
遮蔽层，直接形成于所述圆偏光层远离所述硬化层的表面。
本发明还提供一种触控面板，包括盖板组件以及触控模组，所述盖板组件为上述的盖板组件，所述触控模组位于所述遮蔽层远离所述硬化层的一侧。
本发明还提供一种显示装置，包括触控面板以及显示模组，所述触控面板为上述的触控面板，所述显示模组位于所述触控模组远离所述盖板组件的一侧。
本发明还提供一种盖板组件的制备方法，其包括：
于一可挠的硬化层上形成圆偏光层；以及
于所述圆偏光层远离所述硬化层的表面直接形成遮蔽层。
相较于现有技术，本案遮蔽层直接形成于所述圆偏光层的表面，而不是通过一层胶粘层将遮蔽层与圆偏光片的基材进行贴合，同时本案圆偏光层减少了基材，也减少了遮蔽层和原本圆偏光片之间贴合的一层胶粘层，降低了盖板组件的整体厚度。
附图说明
图1为本发明第一实施例的盖板组件的剖面示意图。
图2为图1所示的盖板组件的制备方法的流程示意图。
图3为本发明第二实施例的盖板组件的剖面示意图。
图4为图3所示的盖板组件的制备方法的流程示意图。
图5为应用本发明一实施例的盖板组件的显示装置的剖面示意图。
主要元件符号说明
盖板组件 10a、10b
硬化层 12
硬质涂层 122
基材 124
底涂层 126
圆偏光层 14
线偏光层 142
透明胶层 144
相位差补偿层 146
遮蔽层 16
触控模组 20
触控面板 30
显示模组 40
显示装置 100
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
如图1所示，本发明第一实施例的盖板组件10a包括可挠的硬化层12、圆偏光层14以及遮蔽层16。圆偏光层14直接形成于硬化层12的表面。遮蔽层16直接形成于圆偏光层14远离硬化层12的表面。
由于圆偏光层14直接形成于硬化层12的表面，而不是将圆偏光层14形成在一基材上，如此省去了圆偏光片的一层基材，节约了成本，降低了盖板组件10a的整体厚度。另外，遮蔽层16直接形成于圆偏光层14的表面，而不是通过一层胶粘层将遮蔽层16与圆偏光片的基材进行贴合，如此减少了遮蔽层16和原本圆偏光片之间贴合的一层胶粘层，简化了制作流程，节约了成本，进一步地降低了盖板组件10a的整体厚度，利于盖板组件10a的弯折。于一实施例中，硬化层12、圆偏光层14以及遮蔽层16的整体厚度不大于100微米。于一实施例中，该整体厚度大致为80微米到100微米，甚至可以小于80微米，大大提高了盖板组件10a的弯折能力。
于一实施例中，遮蔽层16环绕硬化层12的边缘区域设置。遮蔽层16例如为遮光油墨或黑色光阻。遮光油墨可以为环氧树脂型(Epoxy Type)油墨、丙烯酸酯型(AcrylicType)油墨、硅胶型(Silicon Type)油墨等。遮蔽层16可为单层或多层的堆叠结构。
请继续参考图1，圆偏光层14包括线偏光层142、透明胶层144以及相位差补偿层146。线偏光层142直接形成于硬化层12的表面。透明胶层144位于线偏光层142和相位差补偿层146之间，以粘接线偏光层142和相位差补偿层146。相位差补偿层146位于线偏光层142和遮蔽层16之间，遮蔽层16直接形成于相位差补偿层146的表面。
由于线偏光层142直接形成于硬化层12的表面上，相较于现有技术来说，减少了形成圆偏光层14的基材，降低了盖板组件10a的整体厚度。
另外，线偏光层142用于将自然光变成线偏振光。相位差补偿层146用于使入射到其膜层上的光产生相位延迟，进而形成相应形状的偏振光，如圆偏振光、椭圆偏振光等，从而降低外界光线射入到应用该盖板组件10a的显示装置100的显示模组40内产生的反射，减少外界光线的干扰，增强应用该盖板组件10a的显示装置100的显示效果，达到入射光线补偿的目的。
于一实施例中，线偏光层142为液晶分子层，其通过涂布液晶材料的方式制得。相位差补偿层146可以为四分之一波长相位差补偿膜或二分之一波长相位差补偿膜，其也可以为由液晶材料涂布制成的薄膜层。透明胶层144为光学透明胶(Optical ClearAdhesive，OCA)或液态光学透明胶(Liquid Optical Clear Adhesive，LOCA)等具有高透光率的胶粘剂。
请继续参考图1，硬化层12包括透明且可挠的基材124、硬质涂层122以及底涂层126。硬质涂层122位于基材124远离圆偏光层14的一侧。底涂层126位于基材124靠近圆偏光层14的一侧。
于一实施例中，基材124可以为聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymeric methyl methacrylate，PMMA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene glycolterephthalate，PET)或透明聚酰亚胺(Colorless Polymide，CPI)等。硬质涂层122为有机无机混合层，其可以为高硬度树脂涂层或高硬度透明光阻膜，例如其可以包括聚硅氧烷、聚硅氮烷、环氧树酯、压克力树酯或二氧化硅中的至少一种。硬质涂层122可以采用沉积、涂覆或喷溅等方式形成在基材124的表面。基材124使得硬化层12具有高可挠性，硬质涂层122使得硬化层12兼具高硬度。底涂层126用于降低基材124和线偏光层142之间的磨损，其为易接着的有机无机混合层可采用与硬质涂层122相同的材料及制作工艺，在此不再赘述。
如图2所示，本发明第一实施例的盖板组件10a的制备方法，包括以下步骤：
步骤S11：于一硬化层12的表面形成线偏光层142。
于一实施例中，通过涂布液晶材料的方式形成线偏光层142。
步骤S12：利用一透明胶层144，将线偏光层142贴合至一相位差补偿层146。其中，线偏光层142和形成有线偏光层142的硬化层12通过透明胶层144粘接。
步骤S13：于相位差补偿层146远离硬化层12的表面形成遮蔽层16。
于一实施例中，遮蔽层16为遮光油墨，其可采用印刷、喷涂或溅镀的方式形成。于另一实施例中，遮蔽层16还可以黑色光阻，其可采用黄光制程图案化的方式形成。
该盖板组件10a的制备方法，线偏光层142直接形成硬化层12的表面，遮蔽层16直接形成于相位差补偿层146的表面，相较于现有技术，无需额外设置的线偏光层142的支撑基材，减少了将硬化层12与线偏光层142的支撑基材进行贴合的制程以及将遮蔽层16与线偏光层142的支撑基材进行贴合的制程。
如图3所示，本发明第二实施例的盖板组件10b与第一实施例的盖板组件10a区别在于：第二实施例中，圆偏光层14包括线偏光层142和相位差补偿层146。线偏光层142直接形成于相位差补偿层146靠近硬化层12的表面。圆偏光层14和硬化层12通过透明胶层144粘接。如图4所示，本发明第二实施例的盖板组件10b的制备方法，包括以下步骤：
步骤S21：于一相位差补偿层146的表面形成线偏光层142。
于一实施例中，通过涂布液晶材料的方式形成线偏光层142。
步骤S22：利用一透明胶层144，将线偏光层142贴合至一硬化层12。其中，线偏光层142和硬化层12通过透明胶层144粘接。
步骤S23：于相位差补偿层146远离硬化层12的表面形成遮蔽层16。
步骤S23同上步骤S13，在此不再赘述。
该盖板组件10b的制备方法，线偏光层142直接形成硬化层12的表面，遮蔽层16直接形成于相位差补偿层146的表面，相较于现有技术，无需额外设置的线偏光层142的支撑基材，减少了将硬化层12与线偏光层142的支撑基材进行贴合的制程以及将遮蔽层16与线偏光层142的支撑基材进行贴合的制程。
如图5所示，显示装置100包括触控面板30以及显示模组40。触控面板30，包括盖板组件10a以及触控模组20。触控模组20位于遮蔽层16远离硬化层12的一侧。显示模组40位于触控模组20远离盖板组件10a的一侧。显示装置100可以为手机，也可以为平板电脑、智能穿戴设备(如智能手表)等。由于盖板组件10a厚度的降低，有利于显示装置100轻薄化的实现。
于一实施例中，触控模组20包括自容式触控感测结构或者互容式触控感测结构。当盖板组件10a上有导电物体(例如手指)触摸时，该区域的电容感应信号出现差异，该电容感应信号经处理，换算即可得到触摸点的相对位置。
于一实施例中，触控模组20为柔性可弯折的，形成自容式触控感测结构或者互容式触控感测结构的导电层可以采用金属网格(metal mesh)、纳米银线、纳米铜线、碳纳米管、石墨烯、导电高分子等耐挠折性佳的导电材料制作而成。
于一实施例中，显示模组40为有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示模组，其为柔性可弯折的。于另一实施例中，显示模组40还可以为液晶显示模组或微型发光二极管显示模组。
可以理解地，当显示装置100包括的触控模组20和显示模组40均为柔性可弯折的时，由于盖板组件的厚度的降低，使得整个显示装置100的厚度降低，有利于显示装置100的轻薄化、可绕折及柔性化的实现。
以上实施方式仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施方式对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种盖板组件，其特征在于，包括：
可挠的硬化层；
圆偏光层，位于所述硬化层的一侧；以及
遮蔽层，直接形成于所述圆偏光层远离所述硬化层的表面。
2.如权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述圆偏光层包括：
线偏光层，直接形成于所述硬化层的表面；
相位差补偿层，位于所述线偏光层和所述遮蔽层之间，所述遮蔽层直接形成于所述相位差补偿层的表面；以及
透明胶层，位于所述线偏光层和所述相位差补偿层之间，以粘接所述线偏光层和所述相位差补偿层。
3.如权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述圆偏光层包括：
线偏光层；以及
相位差补偿层，位于所述线偏光层和所述遮蔽层之间；
其中，所述线偏光层直接形成于所述相位差补偿层靠近所述硬化层的表面，所述遮蔽层直接形成于所述相位差补偿层远离所述硬化层的表面。
4.如权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述硬化层包括透明且可挠的基材以及位于所述基材远离所述圆偏光层的一侧的硬质涂层。
5.如权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述硬化层、所述圆偏光层以及所述遮蔽层的整体厚度不大于100微米。
6.一种触控面板，包括盖板组件以及触控模组，其特征在于，所述盖板组件为如权利要求1至5任一项所述的盖板组件，所述触控模组位于所述遮蔽层远离所述硬化层的一侧。
7.一种显示装置，包括触控面板以及显示模组，其特征在于，所述触控面板为如权利要求6所述的触控面板，所述显示模组位于所述触控模组远离所述盖板组件的一侧。
8.一种盖板组件的制备方法，其包括：
于一可挠的硬化层上形成圆偏光层；以及
于所述圆偏光层远离所述硬化层的表面直接形成遮蔽层。
9.如权利要求8所述的盖板组件的制备方法，其特征在于，于一可挠的硬化层上形成圆偏光层的步骤包括于一所述硬化层的表面形成线偏光层以及利用一透明胶层将所述线偏光层贴合至一相位差补偿层的步骤。
10.如权利要求8所述的盖板组件的制备方法，其特征在于，于一可挠的硬化层上形成圆偏光层的步骤包括于一相位差补偿层的表面形成线偏光层以及利用一透明胶层将所述线偏光层贴合至所述硬化层的步骤。
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