KR20230057284A - 적층체 및 표시 장치 - Google Patents

Abstract

[과제] 굴곡성을 가지면서도 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우에 풀빠짐의 발생을 억제할 수 있는 적층체를 제공한다.
[해결수단] 적층체는 적어도 직선편광층을 포함하는 편광판과 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층을 포함한다. 점착제 조성물을 이용하여 두께 150 ㎛로 형성된 점착제 기준층의 온도 60℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1)은 10% 이상 200% 이하이다. 적층체의 온도 60℃에서의 굽힘 강도(D1)는 1200 m·gf 이상 1700 m·gf 이하이다.

Description

적층체 및 표시 장치{LAMINATE AND DISPLAY DEVICE}

본 발명은 적층체 및 그것을 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.

표시 장치에 이용되는 광학 필름 등은 적층체로서 표시 장치에 삽입된다는 것이 알려져 있다(예컨대 특허문헌 1∼5 등). 적층체에 포함되는 광학 필름은, 점착제층 등의 접합층을 통해 적층되어 있다. 표시 패널을 반복해서 굴곡할 수 있게 한 플렉시블 디스플레이에서는, 표시 패널의 양호한 굴곡 특성을 실현할 수 있는 적층체가 이용되고 있다(예컨대 특허문헌 1, 2, 4, 5 등).

한국공개특허 제10-2014-0085299호 공보 일본 특허공개 2018-27995호 공보 일본 특허공개 2017-125195호 공보 일본 특허공개 2018-28573호 공보 일본 특허공표 2019-528330호 공보

표시 패널에 이용되는 적층체는 재단 처리 및/또는 연마 처리를 실시하여 소정의 형상 및 크기로 된다. 굴곡성을 갖는 적층체에 고온 조건 하에서 재단 처리를 실시하거나, 굴곡성을 갖는 적층체에 상온 조건 하에서 연마 처리를 실시하거나 하면, 점착제층의 일부가 적층체의 단부면으로부터 누락되는 풀빠짐이 발생하는 경우가 있었다.

본 발명은, 굴곡성을 가지면서도, 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우에 풀빠짐의 발생을 억제할 수 있는 적층체 및 그것을 포함하는 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 이하의 적층체 및 표시 장치를 제공한다.

[1] 적어도 직선편광층을 포함하는 편광판과, 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층을 포함하는 적층체로서,

상기 점착제 조성물을 이용하여 두께 150 ㎛로 형성된 점착제 기준층의 온도 60℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1)은 10% 이상 200% 이하이고,

상기 적층체의 온도 60℃에서의 굽힘 강도(D1)는 1200 m·gf 이상 1700 m·gf 이하인 적층체.

[2] 상기 전단 크리프율(C1)은 80% 이상 200% 이하인 [1]에 기재한 적층체.

[3] 상기 점착제층의 두께는 10 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인 [1] 또는 [2]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[4] 상기 점착제층의 유리 전이 온도는 -50℃ 이하인 [1]∼[3]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[5] 상기 점착제층의 겔분율은 45% 이상 85% 이하인 [1]∼[4]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[6] 상기 점착제 조성물은 (메트)아크릴계 폴리머를 포함하고,

상기 (메트)아크릴계 폴리머는, 탄소수가 1 이상 24 이하인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르에 유래하는 제1 구성 단위와, 우레탄 결합을 갖는 모노머에 유래하는 제2 구성 단위를 포함하는 [1]∼[5]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[7] 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 전체 구성 단위에 대한 상기 제2 구성 단위의 함유량은 2.0 질량% 이하인 [6]에 기재한 적층체.

[8] 상기 우레탄 결합을 갖는 모노머는 1개 또는 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 [6] 또는 [7]에 기재한 적층체.

[9] 상기 편광판은 상기 직선편광층의 한면 또는 양면에 적층된 보호 필름을 갖는 [1]∼[8]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[10] 상기 편광판은 상기 직선편광층과 위상차층을 갖는 원편광판인 [1]∼[9]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[11] 상기 편광판에 대하여 박리 가능하게 형성된 프로텍트 필름을 추가로 포함하는 [1]∼[10]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[12] 상기 점착제층에 대하여 박리 가능하게 형성된 세퍼레이터를 추가로 포함하는 [1]∼[11]의 어느 하나에 기재한 적층체.

[13] [1]∼[12]의 어느 하나에 기재한 적층체를 포함하는 표시 장치.

본 발명에 의하면, 굴곡성을 가지면서도 재단 처리 및/또는 연마 처리를 실시한 경우에 풀빠짐의 발생을 억제할 수 있는 적층체를 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층체를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시형태에 따른 적층체를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다.
도 3의 (a) 및 (b)는 굴곡 시험의 방법을 설명하기 위한 개략도이다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 이하의 모든 도면은 본 발명의 이해를 돕기 위해서 도시하는 것이며, 도면에 도시되는 각 구성 요소의 사이즈나 형상은 실제의 구성 요소의 사이즈나 형상과 반드시 일치하지는 않는다.

(적층체)

도 1 및 도 2는 본 실시형태의 적층체의 일례를 모식적으로 도시하는 개략 단면도이다. 적층체(1, 2)는, 적어도 직선편광층(31)을 포함하는 편광판(30)과, 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층(X)을 포함한다. 적층체(1, 2)에 포함되는 점착제층(X)은 1층이라도 좋고 2층 이상이라도 좋다. 2층 이상의 점착제층(X)이 포함되는 경우, 2층 이상의 점착제층(X)은, 동일한 조성의 점착제층이라도 좋고, 다른 조성의 점착제층이라도 좋으며, 또한, 동일한 두께라도 좋고, 다른 두께라도 좋다. 편광판(30)과 점착제층(X)은 직접 접해 있는 것이 바람직하지만, 편광판(30)과 점착제층(X)의 사이에 다른 층이 개재하고 있어도 좋다. 편광판(30)은, 적어도 직선편광층(31)을 포함하며, 후술하는 것과 같이 직선편광판이라도 좋고, 원편광판이라도 좋다. 적층체(1, 2)는, 도 1 및 도 2에 도시하는 것과 같이, 추가로 편광판(30)에 대하여 박리 가능하게 형성된 프로텍트 필름(11)을 포함하고 있어도 좋고, 점착제층(X)에 대하여 박리 가능하게 형성된 세퍼레이터(15)를 포함하고 있어도 좋다. 적층체(1, 2)는 후술하는 플렉시블 표시 장치용 적층체의 층 구조를 갖고 있어도 좋다.

적층체(1, 2)는, 후술하는 것과 같이, 접어 구부리거나 두루감거나 할 수 있는 표시 장치(플렉시블 디스플레이)에 적용할 수 있다. 적층체(1, 2)는 편광판(30) 측(프로텍트 필름(11) 측)이 내측 또는 외측이 되도록 굴곡시켰을 때의 굴곡성이 우수하다.

적층체(1, 2)에 있어서, 점착제층(X)을 형성하는 점착제 조성물을 이용하여 두께 150 ㎛로 형성된 점착제 기준층의 온도 60℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1)은 10% 이상 200% 이하이다. 또한, 적층체(1, 2)의 온도 60℃에서의 굽힘 강도(D1)는 1200 m·gf 이상 1700 m·gf 이하이다.

적층체(1, 2)의 온도 60℃라는 고온 조건 하에서의 재단 처리에 의해 및/또는 온도 25℃라는 상온 조건 하에서의 연마 처리에 의해서 발생하는 열로 인해서 적층체(1, 2)의 온도가 높아지는 경우가 있다. 또한, 적층체(1, 2)가 적용되는 표시 장치는 고온 조건 하에 노출되는 경우가 있다. 본 발명자들은, 온도 60℃에서의 전단 크리프율(C1) 및 굽힘 강도(D1)가, 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리 시, 그리고 굴곡 시의 적층체(1, 2)의 특성과 상관이 있다는 것을 알아냈다. 구체적으로는 상기 전단 크리프율(C1) 및 상기 굽힘 강도(D1)가 상기한 범위 내임으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 적층체에 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우에, 점착제층(X)의 일부가 단부면으로부터 누락되는 풀빠짐의 발생을 억제한다는 것을 알아냈다.

상기 전단 크리프율(C1)은, 30% 이상이라도 좋으며, 50% 이상이라도 좋고, 75% 이상이라도 좋고, 80% 이상이라도 좋고, 85% 이상이라도 좋다. 상기 전단 크리프율(C1)은, 190% 이하라도 좋으며, 180% 이하라도 좋고, 150% 이하라도 좋고, 100% 이하라도 좋다.

상기 전단 크리프율(C1)은, 예컨대 점착제층(X)을 형성하는 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 종류 및 양, 상기 폴리머의 중량 평균 분자량, 상기 폴리머를 형성하기 위해서 이용하는 모노머의 종류 및 양, 상기 점착제 조성물에 포함되는 첨가제의 종류 및 양, 점착제층(X)의 두께 등에 의해서 조정할 수 있다. 상기 전단 크리프율(C1)은, 점착제층(X)을 형성하는 점착제 조성물을 이용하여 형성된 두께 150 ㎛의 점착제 기준층에 관해서 측정한 온도 60℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율이며, 후술하는 실시예에 기재한 방법에 의해서 측정할 수 있다.

상기 굽힘 강도(D1)는 1250 m·gf 이상이라도 좋으며, 1300 m·gf 이상이라도 좋고, 1400 m·gf 이상이라도 좋다. 상기 굽힘 강도(D1)는 1690 m·gf 이하라도 좋으며, 1680 m·gf 이하라도 좋고, 1650 m·gf 이하라도 좋고, 1600 m·gf 이하라도 좋고, 1500 m·gf 이하라도 좋다.

상기 굽힘 강도(D1)는, 점착제층(X)을 형성하는 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 종류 및 양, 상기 폴리머의 중량 평균 분자량, 상기 폴리머를 형성하기 위해서 이용하는 모노머의 종류 및 양, 상기 점착제 조성물에 포함되는 첨가제의 종류 및 양, 점착제층(X)의 두께 등에 의해서 조정할 수 있다. 상기 굽힘 강도(D1)는 후술하는 실시예에 기재한 방법에 의해서 측정할 수 있다.

상기 점착제 기준층의 온도 25℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C2)은 50% 이상 160% 이하인 것이 바람직하다. 상기 전단 크리프율(C2)은, 55% 이상이라도 좋으며, 60% 이상이라도 좋고, 80% 이상이라도 좋다. 상기 전단 크리프율(C2)은, 150% 이하라도 좋으며, 140% 이하라도 좋고, 120% 이하라도 좋고, 100% 이하라도 좋다.

상기 전단 크리프율(C2)이 상기한 범위 내임으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 적층체에 상온 조건 하에 있어서 재단 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제할 수 있다. 상기 전단 크리프율(C2)에 의하면, 상온 하에서의 적층체(1, 2)의 특성을 평가할 수 있다. 상기 전단 크리프율(C2)은, 예컨대 점착제층(X)을 형성하는 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 종류 및 양, 상기 폴리머의 중량 평균 분자량, 상기 폴리머를 형성하기 위해서 이용하는 모노머의 종류 및 양, 상기 점착제 조성물에 포함되는 첨가제의 종류 및 양, 점착제층(X)의 두께 등에 의해서 조정할 수 있다. 상기 전단 크리프율(C2)은, 상기한 점착제 기준층에 관해서 측정한 온도 25℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율이며, 측정 온도를 25℃로 변경하는 것 이외에는, 후술하는 실시예에 기재한 전단 크리프율(C1)의 측정 방법에 준하여 측정할 수 있다.

상기 점착제 기준층의 온도 -20℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C3)은, 5% 이상이라도 좋으며, 10% 이상이라도 좋고, 15% 이상이라도 좋고, 20% 이상이라도 좋고, 25% 이상이라도 좋다. 상기 전단 크리프율(C3)은, 85% 이하라도 좋으며, 80% 이하라도 좋고, 75% 이하라도 좋고, 70% 이하라도 좋다.

상기 전단 크리프율(C3)이 상기한 범위 내임으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 적층체에 재단 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제할 수 있다. 상기 전단 크리프율(C3)에 의하면, 저온 조건 하에서의 적층체(1, 2)의 특성을 평가할 수 있다. 상기 전단 크리프율(C3)은, 예컨대 점착제층(X)을 형성하는 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 종류 및 양, 상기 폴리머의 중량 평균 분자량, 상기 폴리머를 형성하기 위해서 이용하는 모노머의 종류 및 양, 상기 점착제 조성물에 포함되는 첨가제의 종류 및 양, 점착제층(X)의 두께 등에 의해서 조정할 수 있다. 상기 전단 크리프율(C3)은, 상기한 점착제 기준층에 관해서 측정한 온도 -20℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율이며, 측정 온도를 -20℃로 변경하는 것 이외에는, 후술하는 실시예에 기재한 전단 크리프율(C1)의 측정 방법에 준하여 측정할 수 있다.

적층체(1, 2)의 온도 25℃에서의 굽힘 강도(D2)는 1300 m·gf 이상 1800 m·gf 이하인 것이 바람직하다. 상기 굽힘 강도(D2)는 1350 m·gf 이상이라도 좋으며, 1400 m·gf 이상이라도 좋고, 1450 m·gf 이상이라도 좋다. 상기 굽힘 강도(D2)는 1780 m·gf 이하라도 좋으며, 1750 m·gf 이하라도 좋고, 1700 m·gf 이하라도 좋고, 1600 m·gf 이하라도 좋다.

상기 굽힘 강도(D2)가 상기한 범위 내임으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 적층체에 상온 조건 하에 있어서 재단 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제할 수 있다. 상기 굽힘 강도(D2)에 의하면, 상온 하에서의 적층체(1, 2)의 특성을 평가할 수 있다. 상기 굽힘 강도(D2)는, 점착제층(X)을 형성하는 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 종류 및 양, 상기 폴리머의 중량 평균 분자량, 상기 폴리머를 형성하기 위해서 이용하는 모노머의 종류 및 양, 상기 점착제 조성물에 포함되는 첨가제의 종류 및 양, 점착제층(X)의 두께 등에 의해서 조정할 수 있다. 상기 굽힘 강도(D2)는, 적층체를 방치할 때의 온도를 25℃로 변경하는 것 이외에는, 후술하는 실시예에 기재한 전단 크리프율(C1)의 측정 방법에 준하여 측정할 수 있다.

적층체(1, 2)의 두께는, 100 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 150 ㎛ 이상이라도 좋으며, 또한, 2000 ㎛ 이하라도 좋고, 1000 ㎛ 이하라도 좋고, 500 ㎛ 이하라도 좋고, 250 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 200 ㎛ 이하라도 좋다.

(점착제층(X))

점착제층(X)은 (메트)아크릴계 폴리머를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴계 폴리머」란, 아크릴계 폴리머 및 메타크릴계 폴리머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. 그 밖의 「(메트)」를 붙인 용어에 있어서도 마찬가지다.

점착제층(X)의 두께는 10 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 15 ㎛ 이상이라도 좋고, 20 ㎛ 이상이라도 좋고, 25 ㎛ 이상이라도 좋으며, 또한, 100 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 80 ㎛ 이하라도 좋고, 75 ㎛ 이하라도 좋고, 70 ㎛ 이하라도 좋다.

점착제층(X)의 두께가 상기 범위 내임으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제한 적층체(1, 2)를 얻기 쉽게 된다.

점착제층(X)의 유리 전이 온도는 -50℃ 이하라도 좋고, -55℃ 이하라도 좋고, -57℃ 이하인 것이 바람직하고, -59℃ 이하라도 좋으며, 통상 -80℃ 이상이다. 점착제층(X)가 상기 범위의 유리 전이 온도를 가짐으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제한 적층체(1, 2)를 얻기 쉽다. 점착제층(X)의 유리 전이 온도는, 예컨대 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 종류 및 양, 상기 폴리머를 형성하기 위해서 이용하는 모노머의 종류 및 양 등에 의해서 조정할 수 있다. 유리 전이 온도는 후술하는 실시예에 기재한 방법에 의해서 측정할 수 있다.

점착제층(X)의 겔분율은, 45% 이상인 것이 바람직하고, 50% 이상이라도 좋고, 55% 이상이라도 좋으며, 또한, 85% 이하인 것이 바람직하고, 80% 이하라도 좋고, 76% 이하라도 좋다. 점착제층(X)이 상기 범위의 겔분율을 가짐으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제한 적층체(1, 2)를 얻기 쉽다. 점착제층(X)의 겔분율은, 예컨대 점착제 조성물에 포함되는 폴리머의 종류 및 양, 상기 폴리머를 형성하기 위해서 이용하는 모노머의 종류 및 양 등에 의해서 조정할 수 있다. 겔분율은 후술하는 실시예에 기재한 방법에 의해서 측정할 수 있다.

점착제층(X)의 온도 60℃에서의 저장 탄성률(G1)은, 통상 10 kPa 이상이며, 15 kPa 이상이라도 좋고, 20 kPa 이상이라도 좋고, 25 kPa 이상이라도 좋다. 상기 저장 탄성률(G1)은, 통상 70 kPa 이하이며, 65 kPa 이하라도 좋고, 60 kPa 이하라도 좋고, 50 kPa 이하라도 좋다. 상기 저장 탄성률(G1)은 후술하는 실시예에 기재한 방법에 의해서 측정할 수 있다.

점착제층(X)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률(G2)은, 통상 20 kPa 이상이며, 30 kPa 이상이라도 좋고, 40 kPa 이상이라도 좋고, 45 kPa 이상이라도 좋다. 상기 저장 탄성률(G2)은, 통상 80 kPa 이하이며, 70 kPa 이하라도 좋고, 60 kPa 이하라도 좋다. 상기 저장 탄성률(G2)은 후술하는 실시예에 기재한 방법에 의해서 측정할 수 있다.

(점착제 조성물)

점착제 조성물은 (메트)아크릴계 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다. (메트)아크릴계 폴리머는, 탄소수가 1 이상 24 이하인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르(모노머)에 유래하는 제1 구성 단위와, 우레탄 결합을 갖는 모노머에 유래하는 제2 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제한 적층체(1, 2)를 얻기 쉽게 된다.

제1 구성 단위가 갖는 알킬기는 직쇄상이라도 좋고 분기쇄상이라도 좋다. (메트)아크릴계 폴리머는, 제1 구성 단위로서, 탄소수가 20 이상 24 이하인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르에 유래하는 구성 단위를 포함하는 것이 보다 바람직하다.

상기 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산트리데실, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산스테아릴, (메트)아크릴산도코실 등을 들 수 있다. 상기 (메트)아크릴산알킬에스테르는, 1종만을 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다.

(메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 대한 제1 구성 단위의 함유량은, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 70 질량% 이상이라도 좋고, 85 질량% 이상이라도 좋고, 95 질량% 이상이라도 좋으며, 또한, 99질량% 이하라도 좋고, 98 질량% 이하라도 좋다.

(메트)아크릴계 폴리머는, 제1 구성 단위로서, 호모폴리머의 유리 전이 온도가 -40℃ 이하인 (메트)아크릴산알킬에스테르(이하, 「저Tg 모노머」라고 하는 경우가 있다.)에 유래하는 구성 단위, 그리고 호모폴리머의 유리 전이 온도가 0℃를 넘는 (메트)아크릴산알킬에스테르(이하, 「고Tg 모노머」라고 하는 경우가 있다.)에 유래하는 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 (메트)아크릴계 폴리머를 포함하는 점착제 조성물을 이용하여 점착제층(X)을 형성함으로써, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 재단 처리 및/또는 연마 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제한 적층체(1, 2)를 얻기 쉽게 된다. 저Tg 모노머 및 고Tg 모노머는 각각 1종 또는 2종 이상을 이용하여도 좋다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 유리 전이 온도는 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌치를 채용할 수 있다.

(메트)아크릴계 폴리머는, 제1 구성 단위로서, 호모폴리머의 유리 전이 온도가 -40℃ 초과 0℃ 이하인 (메트)아크릴산알킬에스테르(이하, 「중Tg 모노머」라고 하는 경우가 있다.)에 유래하는 구성 단위를 추가로 포함하고 있어도 좋다. 중Tg 모노머는 1종 또는 2종 이상을 이용하여도 좋다.

저Tg 모노머의 유리 전이 온도는 -45℃ 이하라도 좋고 -50℃ 이하라도 좋다. (메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 대한 저Tg 모노머에 유래하는 구성 단위의 함유량은, 예컨대 50 질량% 이상이고, 60 질량% 이상이라도 좋고, 70 질량% 이상이라도 좋고, 80 질량% 이상이라도 좋으며, 또한, 99질량% 이하라도 좋고, 95 질량% 이하라도 좋다.

고Tg 모노머의 유리 전이 온도는, 5℃ 이상이라도 좋고, 10℃ 이상이라도 좋으며, 또한, 100℃ 이하라도 좋고, 80℃ 이하라도 좋고, 60℃ 이하라도 좋다. (메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 대한 고Tg 모노머에 유래하는 구성 단위의 함유량은, 예컨대 1 질량% 이상이고, 2 질량% 이상이라도 좋고, 3 질량% 이상이라도 좋으며, 또한, 30 질량% 이하라도 좋고, 20 질량% 이하라도 좋고, 15 질량% 이하라도 좋다.

(메트)아크릴계 폴리머에 포함되는 제2 구성 단위는 우레탄 결합을 갖는 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함한다. 우레탄 결합을 갖는 모노머는 예컨대 이소시아네이트 화합물과 폴리올 화합물의 반응물로서 얻을 수 있다. 상기 우레탄 결합을 갖는 모노머는, 1개 또는 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 바람직하고, 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 1개 또는 2개의 (메트)아크릴로일기를 가지면서 또한 우레탄 결합을 갖는 모노머는, 예컨대 이소시아네이트 화합물과 폴리올 화합물과 (메트)아크릴레이트 화합물의 반응물로서 얻을 수 있다. 우레탄 결합을 갖는 모노머는, 1종만을 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다. 제2 구성 단위를 포함하는 (메트)아크릴계 폴리머를 이용하여 점착제층(X)을 형성함으로써, 점착제층(X)의 상기 전단 크리프율(C1) 및 적층체(1, 2)의 상기 굽힘 강도(D1)를 상기한 범위로 조정하기 쉽게 된다. 이에 따라, 우수한 굴곡성을 가지면서도, 고온 조건 하에서의 재단 처리 및/또는 상온 조건 하에서의 연마 처리를 실시한 경우의 풀빠짐의 발생을 억제한 적층체(1, 2)를 얻기 쉽게 된다.

(메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 대한 제2 구성 단위의 함유량은, 2.0 질량% 이하인 것이 바람직하고, 1.5 질량% 이하라도 좋고, 1.0 질량% 이하라도 좋으며, 통상 0.1 질량% 이상이고, 0.3 질량% 이상이라도 좋다.

제2 구성 단위가 되는 우레탄 결합을 갖는 모노머의 중량 평균 분자량은, 폴리스티렌 환산으로 300 이상인 것이 바람직하고, 500 이상이라도 좋고, 1000 이상이라도 좋으며, 통상 15000 이하이고, 10000 이하라도 좋고, 8000 이하라도 좋고, 6000 이하라도 좋다. 상기 중량 평균 분자량은 겔 파미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있다.

(메트)아크릴계 폴리머는 반응성 작용기를 갖는 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하고 있어도 좋다. 반응성 작용기는, 활성에너지선의 조사 처리, 가열 처리 또는 가열 수분 처리에 의해서, 다른 작용기와 반응하여 공유 결합을 형성할 수 있는 작용기를 예로 들 수 있다. 가열 수분 처리는, 고온 환경 하(예컨대 온도 80℃)에서 물 또는 수증기와 접촉시키는 처리이며, 고온 환경 하에서의 가습 처리라도 좋다. 반응성 작용기로서는 예컨대 수산기, 카르복실기, 아미노기, 에폭시기 및 아미드기 등을 들 수 있다.

반응성 작용기를 갖는 모노머로서는,

(메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산2-히드록시부틸, (메트)아크릴산3-히드록시부틸, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산2-(2-히드록시에톡시)에틸, (메트)아크릴산2- 또는 3-클로로-2-히드록시프로필, 디에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메트)아크릴레이트;

(메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 이타콘산, 시트라콘산, β-카르복시에틸(메트)아크릴레이트 등의 에틸렌성 불포화 카르복실산;

(메트)아크릴산아미노에틸, (메트)아크릴산n-부틸아미노에틸, (메트)아크릴산디메틸아미노프로필, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸 등의 아미노기를 갖는 (메트)아크릴레이트;

(메트)아크릴산(3,4-에폭시시클로헥실)메틸, (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기를 갖는 (메트)아크릴레이트;

(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N-메틸올(메트)아크릴아미드 등의 아미드기를 갖는 (메트)아크릴레이트;

(메트)아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트 등의 복소환기를 갖는 모노머;

등을 들 수 있다. 반응성 작용기를 갖는 모노머는, 1종만을 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다.

(메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 대한 반응성 작용기를 갖는 모노머에 유래하는 구성 단위의 함유량은, 2 질량% 이하인 것이 바람직하며, 2 질량% 미만이라도 좋고, 1질량% 이하라도 좋다. (메트)아크릴계 폴리머는 반응성 작용기를 갖는 모노머에 유래하는 구성 단위를 포함하고 있지 않아도 좋다.

(메트)아크릴계 폴리머는, 알콕시기를 갖는 단작용성 (메트)아크릴계 모노머 및 카프로락톤(메트)아크릴계 모노머 등을 포함하고 있어도 좋다.

상기 단작용성 (메트)아크릴계 모노머가 갖는 알콕시기로서는, 예컨대 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시 등을 들 수 있다. 알콕시기를 갖는 단작용성 (메트)아크릴계 모노머로서는, 아크릴산에톡시에톡시에틸(EOEOEA), 노닐페놀 EO 변성 아크릴레이트[NP(EO)8A] 등을 들 수 있다. 상기 단작용성 (메트)아크릴계 모노머는, 1종만을 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다.

(메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 대한 상기 단작용성 (메트)아크릴계 모노머에 유래하는 구성 단위의 함유량은, 1 질량% 이상인 것이 바람직하고, 2 질량% 이상이라도 좋고, 3 질량% 이상이라도 좋으며, 또한, 30 질량% 이하라도 좋고, 20 질량% 이하라도 좋고, 10 질량% 이하라도 좋다.

카프로락톤(메트)아크릴계 모노머로서는 아크릴산카프로락톤 등을 들 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머의 전체 구성 단위에 대한 카프로락톤(메트)아크릴계 모노머에 유래하는 구성 단위의 함유량은, 1 질량% 이상이라도 좋고, 2 질량% 이상이라도 좋으며, 또한, 30 질량% 이하라도 좋고, 20 질량% 이하라도 좋고, 10 질량% 이하라도 좋다.

(메트)아크릴계 폴리머는, 상기한 모노머를 혼합하고, 중합개시제 등을 첨가하여, 모노머를 중합함으로써 얻을 수 있다. 중합 방법은 특별히 한정되지 않지만, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 광중합 등의 공지된 중합 방법을 들 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체 또는 그라프트 공중합체라도 좋다.

중합개시제는, 중합 방법에 따라 선택하면 되며, 예컨대 양이온 중합개시제 또는 라디칼 중합개시제를 들 수 있다. 중합 방법이 광중합인 경우에는, 예컨대 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등의 광중합개시제를 이용할 수 있다.

(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량(Mw)은, 폴리스티렌 환산으로 60만 이상인 것이 바람직하고, 70만 이상이라도 좋고, 90만 이상이라도 좋으며, 200만 이하라도 좋고, 180만 이하라도 좋고, 150만 이하인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량(Mw)은 겔 파미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있다.

점착제 조성물은, 상기한 (메트)아크릴계 폴리머를 1종 또는 2종 이상을 포함하고, (메트)아크릴계 화합물 및 중합개시제를 추가로 포함하고 있어도 좋다.

점착제 조성물의 고형분에 대한 (메트)아크릴계 폴리머의 함유량은, 예컨대 80 질량% 이상이고, 90 질량% 이상이라도 좋고, 95 질량% 이상이라도 좋으며, 또한, 99 질량% 이하라도 좋고, 98 질량% 이하라도 좋고, 95 질량% 이하라도 좋다.

점착제 조성물에 포함되는 중합개시제로서는 광중합개시제 및 열중합개시제 등을 들 수 있다. 중합개시제는 1종 또는 2종 이상을 이용할 수 있다. 점착제 조성물의 고형분에 대한 중합개시제의 함유량은, 예컨대 0.1 질량% 이상이고, 1 질량% 이상이라도 좋으며, 또한, 10 질량% 이하라도 좋고, 5 질량% 이하라도 좋다.

광중합개시제로서는 예컨대 벤질디메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다.

열중합개시제로서는 아조계 화합물, 유기 과산화물, 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 아조계 화합물로서는, 예컨대 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 2,2'-아조비스(2-히드록시메틸프로피오니트릴), 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판] 등을 들 수 있다.

유기 과산화물로서는, 예컨대 과산화벤조일, t-부틸퍼벤조에이트, 쿠멘히드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디-n-프로필퍼옥시디카보네이트, 디(2-에톡시에틸)퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드, 디프로피오닐퍼옥사이드, 디아세틸퍼옥사이드 등을 들 수 있다.

무기 과산화물로서는 예컨대 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소 등을 들 수 있다.

점착제 조성물은, 가교제, 실란커플링제, 가교 촉매, 내후안정제, 택키파이어, 가소제, 연화제, 염료, 안료, 무기 필러, 광산란성 미립자, 이온성 화합물 등의 대전방지제 등의 첨가제를 포함하고 있어도 좋다.

가교제는, 예컨대 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아민계 가교제, 멜라민계 가교제, 아지리딘계 가교제, 히드라진계 가교제, 알데히드계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 금속 알콕시드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 금속염계 가교제, 암모늄염계 가교제 등을 들 수 있다.

실란커플링제로서는 분자 내에 알콕시실릴기를 적어도 1개 갖는 유기 규소 화합물을 들 수 있다. 실란커플링제는, 예컨대

비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물;

3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물;

3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필디메톡시메틸실란 등의 메르캅토기 함유 규소 화합물;

3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물;

3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 혹은 이들의 적어도 하나와, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란 등의 알킬기 함유 규소 화합물과의 축합물 등을 들 수 있다.

점착제 조성물은, 예컨대 (메트)아크릴계 폴리머, 우레탄 결합을 갖는 화합물, (메트)아크릴계 화합물, 중합개시제 및 첨가제 등을 혼합함으로써 조제할 수 있다. 점착제 조성물은, 그 자체 또는 점착제 조성물의 유기 용제 희석액을 기재 상에 도포하여 건조시킴으로써, 점착제층(X)을 형성할 수 있다. 점착제 조성물 또는 그 유기 용제 희석액을 도포하는 방법으로서는, 예컨대 바코트법, 나이프코트법, 롤코트법, 블레이드코트법, 다이코트법, 그라비아코트법 등을 들 수 있다.

기재 상에 도포된 점착제 조성물에 대하여 활성에너지선의 조사 처리 또는 가열 처리 등을 행하여 점착제층(X)을 형성하여도 좋다. 활성에너지선으로서는 자외선 및 전자선 등을 들 수 있고, 자외선인 것이 바람직하다.

(편광판)

편광판(30)은 적어도 직선편광층을 포함하는 것이면 된다. 편광판(30)은 직선편광판이라도 좋고(도 1), 원편광판이라도 좋다(도 2). 직선편광판은 직선편광층(31)의 한면 또는 양면에 보호 필름(32)을 갖는다. 보호 필름(32)은, 직선편광층(31)의 한면 또는 양면에, 접합층(접착제층 또는 점착제층)을 통해 형성할 수 있다. 직선편광판은, 도 1 및 도 2에 도시하는 것과 같이, 적어도 직선편광층(31)의 점착제층(X) 측과는 반대측에 보호 필름(32)을 갖는 것이 바람직하다.

원편광판은, 도 2에 도시하는 것과 같이, 직선편광층(31) 및 제1 위상차층(33)(위상차층)을 갖는다. 원편광판은, 직선편광층(31)의 한면 또는 양면에 보호 필름(32)을 갖는 직선편광판과 제1 위상차층(33)을 갖는 것이라도 좋다. 직선편광층(31) 또는 직선편광판과 제1 위상차층(33)은 접합층(37)(접착제층 또는 점착제층)을 통해 적층되어 있어도 좋다. 상기 접합층(37)이 점착제층인 경우, 이 점착제층은 상기한 점착제층(X)이라도 좋고, 점착제층(X)과는 다른 점착제층이라도 좋다. 제1 위상차층(33)은 λ/4 위상차층이며, 역파장 분산성의 λ/4 위상차층이라도 좋다.

원편광판은, 제1 위상차층(33)에 더하여, 제2 위상차층(34)(위상차층)을 갖고 있어도 좋다. 제2 위상차층(34)은, 직선편광층(31)과 제1 위상차층(33)의 사이에 마련되어도 좋고, 도 2에 도시하는 것과 같이 제1 위상차층(33)의 직선편광층(31) 측과는 반대측에 마련되어도 좋다. 제2 위상차층(34)은 λ/2 위상차층 또는 포지티브 C층인 것이 바람직하다. 제1 위상차층(33)과 제2 위상차층(34)은 접합층(38)(접착제층 또는 점착제층)을 통해 적층되어도 좋다. 상기 접합층(38)이 점착제층인 경우, 상기 점착제층은, 상기한 점착제층(X)이라도 좋고, 점착제층(X)과는 다른 점착제층이라도 좋다.

도 2에 도시하는 것과 같이 원편광판이 직선편광판을 포함하는 경우, 직선편광판은 직선편광층(31)의 한면에 보호 필름(32)을 갖는 것이라도 좋다. 이 경우, 직선편광층(31)의 보호 필름(32) 측과는 반대측에, 접합층(접착제층 또는 점착제층)(37)을 통해 제1 위상차층(33) 또는 제2 위상차층(34)을 형성하여도 좋다.

(직선편광층)

직선편광층은, 무편광의 빛을 입사시켰을 때, 흡수축에 직교하는 진동면을 갖는 직선편광을 투과시키는 성질을 갖는다. 직선편광층은, 요오드가 흡착 배향되어 있는 폴리비닐알코올계 수지 필름(이하, 「PVA계 필름」이라고 하는 경우가 있다.)이라도 좋고, 흡수 이방성 및 액정성을 갖는 화합물을 포함하는 조성물을 기재 필름에 도포하여 형성한 액정성의 편광층을 포함하는 필름이라도 좋다. 흡수 이방성 및 액정성을 갖는 화합물은, 흡수 이방성을 갖는 색소와 액정성을 갖는 화합물의 혼합물이라도 좋고, 흡수 이방성 및 액정성을 갖는 색소라도 좋다.

PVA계 필름인 직선편광층은, 예컨대 폴리비닐알코올 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 PVA계 필름에, 요오드에 의한 염색 처리 및 연신 처리가 실시된 것 등을 들 수 있다. 필요에 따라서, 염색 처리에 의해 요오드가 흡착 배향한 PVA계 필름을 붕산 수용액으로 처리하고, 그 후에, 붕산 수용액을 씻어내는 세정 공정을 행하여도 좋다. 각 공정에는 공지된 방법을 채용할 수 있다.

폴리비닐알코올계 수지(이하, 「PVA계 수지」라고 하는 경우가 있다.)는 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 제조할 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체일 수도 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 암모늄기를 갖는 아크릴아미드류 등을 들 수 있다.

PVA계 수지의 비누화도는 통상 85∼100 몰% 정도이며, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. PVA계 수지는 변성되어 있어도 좋으며, 예컨대 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용 가능하다. PVA계 수지의 평균 중합도는 통상 1,000∼10,000 정도이며, 바람직하게는 1,500∼5,000 정도이다. PVA계 수지의 비누화도 및 평균 중합도는 JIS K 6726(1994)에 준거하여 구할 수 있다. 평균 중합도가 1000 미만이면 바람직한 편광 성능을 얻기 어렵고, 10000을 넘으면 필름 가공성이 뒤떨어지는 경우가 있다.

PVA계 필름인 직선편광층의 제조 방법은, 기재 필름을 준비하고, 기재 필름 상에 PVA계 수지 등의 수지 용액을 도포하고, 용매를 제거하는 건조 등을 행하여 기재 필름 상에 수지층을 형성하는 공정을 포함하는 것이라도 좋다. 또, 기재 필름의 수지층이 형성되는 면에는 미리 프라이머층을 형성할 수 있다. 기재 필름으로서는, 후술하는 보호 필름을 형성하기 위해서 이용하는 열가소성 수지로서 설명하는 수지 재료를 이용한 필름을 사용할 수 있다. 프라이머층의 재료로서는 직선편광층에 이용되는 친수성 수지를 가교한 수지 등을 들 수 있다.

이어서, 필요에 따라서 수지층의 수분 등의 용매량을 조정하고, 그 후, 기재 필름 및 수지층을 일축 연신하고, 이어서, 수지층을 요오드로 염색하여 요오드를 수지층에 흡착 배향시킨다. 이어서, 필요에 따라서 요오드가 흡착 배향한 수지층을 붕산 수용액으로 처리하고, 그 후에, 붕산 수용액을 씻어내는 세정 공정을 행한다. 이에 따라, 요오드가 흡착 배향된 수지층, 즉, 직선편광층으로 되는 PVA계 필름이 제조된다. 각 공정에는 공지된 방법을 채용할 수 있다.

요오드가 흡착 배향한 PVA계 필름 또는 수지층을 처리하는 붕산 함유 수용액에 있어서의 붕산의 양은, 통상 물 100 질량부 당 2∼15 질량부 정도이며, 5∼12 질량부가 바람직하다. 이 붕산 함유 수용액은 요오드화칼륨을 함유하는 것이 바람직하다. 붕산 함유 수용액에 있어서의 요오드화칼륨의 양은, 통상 물 100 질량부 당 0.1∼15 질량부 정도이며, 5∼12 질량부 정도가 바람직하다. 붕산 함유 수용액에의 침지 시간은, 통상 60∼1,200초 정도이며, 150∼600초 정도가 바람직하고, 200∼400초 정도가 보다 바람직하다. 붕산 함유 수용액의 온도는 통상 50℃ 이상이며, 50∼85℃가 바람직하고, 60∼80℃가 보다 바람직하다.

PVA계 필름, 그리고 기재 필름 및 수지층의 일축 연신은, 염색 전에 행하여도 좋고, 염색 중에 행하여도 좋고, 염색 후의 붕산 처리 중에 행하여도 좋고, 이들의 복수의 단계에서 각각 일축 연신을 행하여도 좋다. PVA계 필름, 그리고 기재 필름 및 수지층은, MD 방향(필름 반송 방향)으로 일축 연신하여도 좋으며, 이 경우, 원주 속도가 다른 롤 사이에서 일축으로 연신하여도 좋고, 열롤을 이용하여 일축으로 연신하여도 좋다. 또한, PVA계 필름, 그리고 기재 필름 및 수지층은, TD 방향(필름 반송 방향에 수직인 방향)으로 일축 연신하여도 좋으며, 이 경우, 소위 텐터법을 사용할 수 있다. 또한, 상기 연신은, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신이라도 좋고, 용제로 PVA계 필름 또는 수지층을 팽윤시킨 상태에서 연신을 행하는 습식 연신이라도 좋다. 직선편광층의 성능을 발현하기 위해서는, 연신 배율은 4배 이상이며, 5배 이상인 것이 바람직하고, 특히 5.5배 이상이 바람직하다. 연신 배율의 상한은 특별히 없지만, 파단 등을 억제한다는 관점에서 8배 이하가 바람직하다.

기재 필름을 이용하는 제조 방법으로 제작한 직선편광층은, 보호 필름을 적층한 후에 기재 필름을 박리함으로써 얻을 수 있다. 이 방법에 의하면, 직선편광층의 한층더 박막화가 가능하게 된다.

PVA계 필름인 직선편광층의 두께는, 1 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 2 ㎛ 이상이라도 좋고, 5 ㎛ 이상이라도 좋으며, 또한, 30 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 15 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 10 ㎛ 이하라도 좋고, 8 ㎛ 이하라도 좋다.

액정성의 편광층을 포함하는 필름은, 액정성 및 흡수 이방성을 갖는 색소를 포함하는 조성물, 또는 흡수 이방성을 갖는 색소와 색소 이외의 중합성 액정 화합물 등의 액정성 화합물을 포함하는 조성물을 기재 필름에 도포하여 얻어지는 직선편광층을 들 수 있다. 기재 필름으로서는, 예컨대 후술하는 보호 필름을 형성하기 위해서 이용하는 열가소성 수지로서 설명하는 수지 재료를 이용한 필름을 들 수 있다. 액정성의 편광층을 포함하는 필름으로서는 예컨대 일본 특허공개 2013-33249호 공보 등에 기재된 편광층을 들 수 있다.

액정성 화합물로서는, 액정 상태를 보이는 성질을 갖고 있으면 되고, 특히 스멕틱상 등의 고차의 배향 상태를 갖고 있는 것이 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 액정성 화합물은 중합성 액정 화합물인 것이 바람직하다. 중합성 액정 화합물은 중합성 작용기를 갖는 액정성 화합물이다.

흡수 이방성을 갖는 색소는 예컨대 2색성 색소이다. 2색성 색소는, 액정성을 갖고 있어도 좋고, 중합성 작용기를 갖고 있어도 좋다. 2색성 색소는, 2색성 색소 자신의 액정성에 의해 배향하거나 또는 액정성 화합물과 함께 배향하여, 2색성을 보일 수 있다. 액정성의 편광층을 형성하기 위한 조성물에 포함되는 어느 하나의 화합물은 중합성 작용기를 갖고 있는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 또한 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란커플링제 등을 포함할 수 있다.

액정성의 편광층을 포함하는 필름은, 배향막 상에 상기 조성물을 도포하여 액정성의 편광층을 포함하는 필름을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정성의 편광층을 포함하는 필름은 PVA계 필름의 편광층과 비교하여 두께를 얇게 형성할 수 있다. 액정성의 편광층을 포함하는 필름의 두께는 예컨대 0.5∼10 ㎛이며, 1∼5 ㎛라도 좋다.

배향막은, 예컨대 기재 필름 상에 배향막 형성 조성물을 도포하고, 러빙, 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조할 수 있다. 배향막 형성 조성물은, 배향제 외에 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란커플링제 등을 포함하고 있어도 좋다. 배향제로서는 예컨대 폴리비닐알코올류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 사용할 수 있다. 광배향제를 이용하는 경우에는 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다.

배향제로서 사용되는 고분자는 중량 평균 분자량이 10,000∼1000,000이라도 좋다. 배향막의 두께는 5 nm∼10000 nm가 바람직하고, 특히 10∼500 nm이면 배향 규제력이 충분히 발현되기 때문에 바람직하다.

액정성의 편광층은, 기재 필름으로부터 박리하여 다른 부재에 전사하여 표시 장치 등에 삽입되어도 좋고, 기재 필름을 그대로 표시 장치 등에 삽입할 수도 있다다. 기재 필름은, 후술하는 보호 필름이나 위상차층, 윈도우의 투명 기재로서의 역할을 담당하여도 좋다.

상기한 것과 같이 하여 형성한 기재 필름과 직선편광층의 합계 두께는 작은 쪽이 바람직하지만, 지나치게 작으면 강도가 저하하여 가공성이 뒤떨어지는 경향이 있기 때문에, 통상 20 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 5 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5∼3 ㎛이다.

(보호 필름)

보호 필름으로서는, 예컨대 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성, 연신성 등이 우수한 열가소성 수지로 형성된 필름이 이용된다. 열가소성 수지의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지; 폴리에테르술폰 수지; 폴리술폰 수지; 폴리카보네이트 수지; 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드 수지; 폴리이미드 수지; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀 수지; 시클로계 및 노르보르넨 구조를 갖는 환상 폴리올레핀 수지(노르보르넨계 수지라고도 한다); (메트)아크릴 수지; 폴리아릴레이트 수지; 폴리스티렌 수지; 폴리비닐알코올 수지 및 이들의 혼합물을 들 수 있다.

보호 필름은, 에폭시 수지 등의 양이온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하고 경화하여 얻어지는 코팅형 보호 필름이라도 좋다.

보호 필름에는, 필요에 따라 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 윤활제, 용제 등을 포함하고 있어도 좋다.

보호 필름은 반사 방지 특성, 방현 특성, 하드코트 특성 등을 갖는 것이라도 좋다(이하, 상기 특성을 갖는 보호 필름을 「기능성 보호 필름」이라고 하는 경우가 있다.). 보호 필름이 기능성 보호 필름이 아닌 경우, 직선편광판의 한면에는 반사방지층, 방현층, 하드코트층 등의 표면 기능층이 형성되어 있어도 좋다. 표면 기능층은 보호 필름에 직접 접하도록 형성되는 것이 바람직하다. 표면 기능층은 보호 필름의 직선편광층 측과는 반대측에 설치되는 것이 바람직하다.

보호 필름은, 1 ㎛ 이상이라도 좋고, 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 또한, 200 ㎛ 이하라도 좋고, 100 ㎛ 이하라도 좋고, 50 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 30 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 두께가 200 ㎛를 넘는 보호 필름은 유연성이 저하하는 경우가 있다.

보호 필름은 후술하는 윈도우의 투명 기재의 역할을 겸할 수도 있다.

(제1 위상차층, 제2 위상차층)

제1 위상차층 및 제2 위상차층(이하, 양자를 통합하여 「위상차층」이라고 하는 경우가 있다.)은, 연신 필름이라도 좋고, 액정성 화합물을 포함하는 것이라도 좋다. 위상차층이 액정성 화합물을 포함하는 경우, 위상차층은 중합성 액정 화합물의 경화물층을 포함하는 것이라도 좋다. 편광판이 2층 이상의 위상차층을 포함하는 경우, 연신 필름의 위상차층과 액정성 화합물을 포함하는 위상차층의 조합은 임의이지만, 원편광판의 두께를 작게 한다는 관점에서는 액정성 화합물을 포함하는 위상차층을 이용하는 것이 바람직하다.

위상차층이 연신 필름인 경우, 연신 필름은 종래 공지된 것을 이용할 수 있으며, 수지 필름을 일축 연신 또는 이축 연신함으로써 위상차를 부여한 것을 이용할 수 있다. 수지 필름으로서는, 트리아세틸셀룰로오스 및 디아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트 및 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리메틸(메트)아크릴레이트 및 폴리에틸(메트)아크릴레이트 등의 아크릴 수지 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리술폰 필름, 폴리이미드 필름, 폴리올레핀 필름, 폴리노르보르넨 필름 등을 이용할 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.

연신 필름은, 필요에 따라서 위상차조정제, 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 윤활제, 용제 등을 포함하고 있어도 좋다.

위상차층이 연신 필름인 경우, 위상차층의 두께는, 통상 1 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이고, 1 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하라도 좋고, 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하라도 좋고, 바람직하게는 10 ㎛ 이상 80 ㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 40 ㎛ 이하이다. 위상차층의 두께가 200 ㎛를 넘으면 유연성이 저하하는 경우가 있다.

위상차층이 액정성 화합물을 포함하는 경우, 액정성 화합물은 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 보이는 성질을 가질 수 있다. 액정성 화합물을 포함하는 위상차층은 액정성 화합물을 포함하는 조성물을 기재 필름 등에 도포함으로써 형성할 수 있다. 상기 조성물에 포함되는 어느 하나의 화합물은 중합성 작용기를 갖고 있는 것이 바람직하다. 상기 조성물은 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란커플링제 등을 추가로 포함할 수 있다.

액정성 화합물을 포함하는 위상차층은, 액정성의 편광층을 포함하는 필름과 마찬가지로, 배향막 상에, 액정성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고, 건조, 경화 등을 행함으로써 제조할 수 있다. 액정성 화합물을 포함하는 위상차층은 연신 필름의 위상차층과 비교하여 두께를 작게 형성할 수 있다. 액정성 화합물을 포함하는 위상차층의 두께는 예컨대 0.5∼10 ㎛이며, 1∼5 ㎛라도 좋다.

위상차층이 상기 경화물층을 포함하는 것인 경우, 중합성 액정 화합물로서는 공지된 중합성 액정 화합물을 이용할 수 있다. 중합성 액정 화합물은 적어도 하나의 중합성의 기를 가지며 또한 액정성을 갖는 화합물이다.

중합성 액정 화합물의 종류는 특별히 한정되지 않고, 막대형 액정 화합물, 원반형 액정 화합물 및 이들의 혼합물을 이용할 수 있다. 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 형성되는 경화물층은, 중합성 액정 화합물을 알맞은 방향으로 배향시킨 상태에서 경화함으로써 위상차를 발현한다. 막대형의 중합성 액정 화합물이 적층체의 평면 방향에 대하여 수평 배향 또는 수직 배향한 경우는, 상기 중합성 액정 화합물의 광축은 상기 중합성 액정 화합물의 장축 방향과 일치한다. 원반형의 중합성 액정 화합물이 배향한 경우는, 상기 중합성 액정 화합물의 광축은 상기 중합성 액정 화합물의 원반면에 대하여 직교하는 방향으로 존재한다. 막대형의 중합성 액정 화합물로서는 예컨대 일본 특허공표 평11-513019호 공보(청구항 1 등)에 기재된 것을 적합하게 이용할 수 있다. 원반형의 중합성 액정 화합물로서는, 일본 특허공개 2007-108732호 공보(단락 [0020]∼[0067] 등), 일본 특허공개 2010-244038호 공보(단락 [0013]∼[0108] 등)에 기재된 것을 적합하게 이용할 수 있다.

중합성 액정 화합물이 갖는 중합성의 기란, 중합 반응에 관여하는 기를 의미하며, 광중합성의 기인 것이 바람직하다. 광중합성의 기란, 광중합개시제로부터 발생한 활성라디칼이나 산 등에 의해서 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 중합성의 기로서는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, (메트)아크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기, 스티릴기, 알릴기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 (메트)아크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 중합성 액정 화합물이 갖는 액정성은 서모트로픽성 액정이라도 리오트로픽 액정이라도 좋고, 서모트로픽 액정을 질서도로 분류하면, 네마틱 액정이라도 스멕틱 액정이라도 좋다. 중합성 액정 화합물의 경화물층을 형성하기 위해서 중합성 액정 화합물을 두 종류 이상을 병용하는 경우, 적어도 한 종류가 분자 내에 2 이상의 중합성의 기를 갖는 것이 바람직하다.

위상차층이 상기 경화물층을 포함하는 것인 경우, 위상차층은 배향층을 포함하고 있어도 좋다. 배향층은 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 배향시키는 배향 규제력을 갖는다. 배향층은, 중합성 액정 화합물의 분자축을 적층체의 평면 방향에 대하여 수직 배향한 수직 배향층이라도 좋고, 중합성 액정 화합물의 분자축을 적층체의 평면 방향에 대하여 수평 배향한 수평 배향층이라도 좋고, 중합성 액정 화합물의 분자축을 적층체의 평면 방향에 대하여 경사 배향시키는 경사 배향층이라도 좋다. 위상차층이 2 이상의 배향층을 포함하는 경우, 배향층은 서로 동일하여도 좋고 서로 다르더라도 좋다.

배향층으로서는, 중합성 액정 화합물을 포함하는 액정층 형성용 조성물의 도공 등에 의해 용해하지 않는 용매 내성을 갖고, 용매의 제거나 중합성 액정 화합물의 배향을 위한 가열 처리에 대한 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향층으로서는, 배향성 폴리머로 형성된 배향성 폴리머층, 광배향 폴리머로 형성된 광배향성 폴리머층, 층 표면에 요철 패턴이나 복수의 그루브(홈)를 갖는 그루브 배향층을 들 수 있다.

상기 경화물층은, 중합성 액정 화합물과 용제, 필요에 따라서 각종 첨가제를 포함하는 위상차층 형성용의 조성물을, 배향층 상에 도포하여 도막을 형성하고, 이 도막을 고화(경화)시킴으로써, 중합성 액정 화합물의 경화물층을 형성할 수 있다. 혹은, 기재 필름 상에 상기 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 이 도막을 기재 필름과 함께 연신함으로써 경화물층을 형성하여도 좋다. 상기 조성물은, 상기한 중합성 액정 화합물 및 용제 외에, 중합개시제, 반응성 첨가제, 레벨링제, 중합금지제 등을 포함하고 있어도 좋다. 중합성 액정 화합물, 용제, 중합개시제, 반응성 첨가제, 레벨링제, 중합금지제 등은 공지된 것을 적절하게 이용할 수 있다.

기재 필름으로서는, 수지 재료로 형성된 필름을 이용할 수 있으며, 예컨대 상기한 보호 필름을 형성하기 위해서 이용하는 열가소성 수지로서 설명하는 수지 재료를 이용한 필름을 들 수 있다. 기재 필름의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성의 점에서 1∼300 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 20∼200 ㎛인 것이 보다 바람직하고, 30∼120 ㎛인 것이 더욱 바람직하다. 기재 필름은, 중합성 액정 화합물의 경화물층과 함께 적층체에 삽입되어 있어도 좋고, 기재 필름을 박리하고서, 중합성 액정 화합물의 경화물층만 또는 상기 경화물층 및 배향층이 적층체에 삽입되어 있어도 좋다.

액정성 화합물을 포함하는 위상차층은, 기재 필름으로부터 박리하여 다른 부재에 전사하여 표시 장치 등에 삽입되어도 좋고, 기재 필름을 그대로 표시 장치 등에 삽입할 수도 있다. 기재 필름은 후술하는 위상차층의 보호층 등으로서의 역할을 담당하여도 좋다.

상기한 것과 같이, 제1 위상차층은 λ/4 위상차층일 수 있다. λ/4 위상차층은 입사광의 진행 방향에 직교하는 방향(필름의 면내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 일반적으로 단파장일수록 복굴절이 크고, 장파장이 될수록 작은 복굴절을 보이는 재료가 많다. 이 경우에는 전체 가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성하기가 어렵게 되기 때문에, 시감도가 높은 560 nm 부근의 파장에 대하여 λ/4의 위상차층이 되는 면내 위상차 100∼180 nm, 바람직하게는 130∼150 nm가 되도록 설계하는 것이 바람직하다.

상기한 것과 같이, λ/4 위상차층은 역파장 분산성의 λ/4 위상차층이라도 좋다. 역파장 분산성의 λ/4 위상차층은, 통상과는 반대의 복굴절률 파장 분산 특성을 갖는 재료를 이용하여 형성할 수 있으며, 시인성을 향상시킬 수 있다. 이러한 재료로서는, 연신 필름의 위상차층의 경우는 일본 특허공개 2007-232873호 공보 등에 기재되어 있는 것, 액정성 화합물을 포함하는 위상차층의 경우는 일본 특허공개 2010-30979호 공보 등에 기재되어 있는 것을 이용할 수 있다.

상기한 것과 같이, 제2 위상차층은 λ/2 위상차층이라도 좋다. λ/4 위상차층과 λ/2 위상차층을 조합함으로써, 소위 광대역 λ/4 위상차판을 얻을 수 있다(예컨대 일본 특허공개 평10-90521호 공보).

제2 위상차층은 상기한 것과 같이 포지티브 C층이라도 좋다. 포지티브 C층을 이용함으로써 원편광판의 경사 방향의 시인성을 향상시킬 수 있다(예컨대 일본 특허공개 2014-224837호 공보). 포지티브 C층의 두께 방향의 위상차는 예컨대 -200∼-20 nm이며, 바람직하게는 -140∼-40 nm이다.

(프로텍트 필름)

프로텍트 필름은 편광판(30)에 대하여 박리 가능하게 형성된다. 프로텍트 필름은, 기재층과 점착제층을 포함하고 있어도 좋고, 자기 점착성의 기재층이라도 좋다. 기재층은 수지 필름이라도 좋으며, 수지 필름은 예컨대 상기한 보호 필름을 형성하기 위해서 이용하는 열가소성 수지로 형성할 수 있다. 자기 점착성의 기재층을 구성하는 열가소성 수지로서는 예컨대 폴리프로필렌계 수지 및 폴리에틸렌계 수지 등을 들 수 있다.

(세퍼레이터)

세퍼레이터는, 예컨대 점착제층(X)에 대하여 박리 가능하게 형성되어, 점착제층(X)의 표면을 피복 보호한다. 세퍼레이터는, 적층체(1, 2)에 포함되는 점착제층(X) 이외의 점착제층에 대하여 박리 가능하게 설치되어도 좋다. 세퍼레이터로서는 기재층 및 이형 처리층을 갖는다. 기재층은 수지 필름이라도 좋다. 수지 필름은 예컨대 상기한 보호 필름을 형성하기 위해서 이용하는 열가소성 수지로 형성할 수 있다. 이형 처리층은, 공지된 이형 처리층이면 되며, 예컨대 불소 화합물이나 실리콘 화합물 등의 이형제를 기재층에 코팅하여 형성된 층을 들 수 있다.

(접합층)

접합층은 점착제층 또는 접착제층이다. 접합층이 점착제층인 경우, 점착제를 이용하여 형성된 점착제층이다. 점착제는, 그 자체를 피착체에 붙임으로써 접착성을 발현하는 것이며, 소위 감압형 접착제라고 불리는 것이다. 점착제는, 상기에서 설명한 점착제 조성물이라도 좋으며, 또한, 공지된 광학적인 투명성이 우수한 점착제를 이용할 수 있다. 공지된 점착제는, 예컨대 아크릴 폴리머, 우레탄 폴리머, 실리콘 폴리머, 폴리비닐에테르 등의 베이스 폴리머를 함유하는 점착제를 이용할 수 있다. 또한, 점착제는 활성에너지선 경화형 점착제 또는 열 경화형 점착제 등이라도 좋다. 이들 중에서도 투명성, 점착력, 재박리성(재작업성), 내후성, 내열성 등이 우수한 아크릴 수지를 베이스 폴리머로 한 점착제가 적합하다. 점착제층은, (메트)아크릴 수지, 가교제, 실란커플링제를 포함하는 점착제로 구성되는 것이 바람직하고, 그 밖의 성분을 포함하고 있어도 좋다.

점착제층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 5 ㎛ 이상이고, 10 ㎛ 이상이라도 좋고, 15 ㎛ 이상이라도 좋고, 20 ㎛ 이상이라도 좋고, 25 ㎛ 이상이라도 좋으며, 통상 300 ㎛ 이하이고, 250 ㎛ 이하라도 좋고, 100 ㎛ 이하라도 좋고, 50 ㎛ 이하라도 좋다.

접합층이 접착제층인 경우, 접착제층은 접착제 조성물 중의 경화성 성분을 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 접착제층을 형성하기 위한 접착제 조성물로서는, 감압형 접착제(점착제) 이외의 접착제이며, 예컨대 수계 접착제, 활성에너지선 경화형 접착제를 들 수 있다.

수계 접착제로서는 예컨대 폴리비닐알코올 수지를 물에 용해 또는 분산시킨 접착제를 들 수 있다. 수계 접착제를 이용한 경우의 건조 방법에 관해서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예컨대 열풍 건조기나 적외선 건조기를 이용하여 건조하는 방법을 채용할 수 있다.

활성에너지선 경화형 접착제로서는, 예컨대 자외선, 가시광, 전자선, X선과 같은 활성에너지선의 조사에 의해서 경화하는 경화성 화합물을 포함하는 무용제형의 활성에너지선 경화형 접착제를 들 수 있다. 무용제형의 활성에너지선 경화형 접착제를 이용함으로써, 층 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있다.

활성에너지선 경화형 접착제로서는, 양호한 접착성을 보이므로, 양이온 중합성의 경화성 화합물, 라디칼 중합성의 경화성 화합물의 어느 한쪽 또는 양쪽 모두를 포함하는 것이 바람직하다. 활성에너지선 경화형 접착제는, 상기 경화성 화합물의 경화 반응을 시작하게 하기 위한 광양이온 중합개시제 등의 양이온 중합개시제, 또는 라디칼 중합개시제를 추가로 포함할 수 있다.

접합층이 접착제층인 경우의 두께는, 0.1 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상이라도 좋으며, 또한 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5 ㎛ 이하라도 좋다.

(표시 장치)

표시 장치는 적층체(1, 2)를 포함한다. 표시 장치는 굴곡 가능한 플렉시블 디스플레이(플렉시블 표시 장치)인 것이 바람직하다. 표시 장치는, 편광판(30) 측이 내측이 되도록(점착제층(X) 측이 외측이 되도록) 굴곡 가능하여도 좋고, 편광판(30) 측이 외측이 되도록(점착제층(X) 측이 내측이 되도록) 굴곡 가능하여도 좋다. 굴곡 가능하다는 것은, 후술하는 굴곡성의 평가에 의한 굴곡 횟수 10만회 이상에 있어서, 적층체(1, 2)에 기포 또는 점착제의 누락을 발생시키는 일 없이 굴곡시킬 수 있다는 것을 의미한다.

표시 장치에 포함되는 적층체(1, 2)는 점착제층(X)을 통해 표시 장치의 화상 표시 소자에 접합되는 것이 바람직하다. 적층체(1, 2)는, 통상 적층체(1, 2)로부터 세퍼레이터(15)를 박리한 상태에서 표시 장치에 삽입되고, 그 후, 프로텍트 필름(11)이 박리 제거된다. 그 때문에, 표시 장치에 포함되는 적층체는 통상 세퍼레이터(15) 및 프로텍트 필름(11)을 포함하고 있지 않은 적층체이다. 표시 장치는 특별히 한정되지 않지만, 유기 EL 표시 장치인 것이 바람직하다.

표시 장치는, 스마트폰이나 태블릿 등의 휴대 단말이라도 좋고, 텔레비전, 디지털 포토 프레임, 전자간판, 측정기나 계량기류, 사무용 기기, 의료 기기, 전자계산 기기 등이라도 좋다.

(플렉시블 표시 장치용 적층체)

플렉시블 표시 장치에 포함되는 적층체는 플렉시블 표시 장치용 적층체라도 좋다. 플렉시블 표시 장치용 적층체는, 편광판 및 점착제층(X)에 더하여, 윈도우, 터치 센서 및 차광 착색 패턴 등에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다. 플렉시블 표시 장치용 적층체는 예컨대 편광판의 양면에 점착제층(X)을 갖고 있어도 좋다. 예컨대 편광판의 일측에 설치된 점착제층(X)을 통해 윈도우 및/또는 차광 착색 패턴이 적층되어 있어도 좋고, 편광판의 타측에 설치된 점착제층(X)을 통해 터치 센서 등이 적층되어 있어도 좋다. 플렉시블 표시 장치용 적층체가 윈도우와 차광 착색 패턴을 갖는 경우, 이들은 점착제층(X)을 통해 적층되어 있어도 좋다.

플렉시블 표시 장치는, 예컨대 플렉시블 표시 장치용 적층체와 유기 EL 표시 패널을 포함할 수 있고, 유기 EL 표시 패널에 대하여 시인 측에 플렉시블 표시 장치용 적층체가 배치되어, 접어 구부릴 수 있게 구성되어 있다. 플렉시블 표시 장치용 적층체로서는, 윈도우, 상기한 원편광판, 터치 센서를 함유하고 있어도 좋고, 이들의 적층 순서는 임의이지만, 시인 측에서부터 윈도우, 원편광판, 터치 센서의 순으로 적층되어 있거나, 또는 윈도우, 터치 센서, 원편광판의 순으로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서의 시인 측에 원편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어렵게 되어 표시 화상의 시인성이 향상되기 때문에 바람직하다. 각각의 부재는 접착제층 또는 점착제층 등을 이용하여 적층할 수 있다. 점착제층을 이용하는 경우, 상기 점착제층은 상기한 점착제층(X)이라도 좋고, 점착제층(X)과는 다른 점착제층이라도 좋다.

플렉시블 표시 장치용 적층체는, 윈도우, 원편광판, 터치 센서의 어느 하나의 층의 적어도 일면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수도 있다. 플렉시블 표시 장치는 또한 차광 착색 패턴을 갖고 있어도 좋다.

(윈도우)

윈도우는, 플렉시블 표시 장치의 시인 측에 배치되어, 표시 장치의 그 밖의 구성 부재를 외부로부터의 충격 또는 온습도 등의 환경 변화로부터 보호하는 역할을 담당하고 있다. 종래 이러한 윈도우에는 유리가 사용되어 왔지만, 플렉시블 표시 장치에 있어서의 윈도우는 유리와 같이 딱딱한 것이 아니라, 플렉시블한 특성을 갖는 것이 바람직하다. 윈도우는 플렉시블한 투명 기재를 포함하며, 적어도 일면에 하드코트층을 포함하고 있어도 좋다.

투명 기재는 가시광선의 투과율이 70% 이상, 바람직하게는 80% 이상이다. 투명 기재에는 투명성이 있는 고분자 필름을 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 노르보르넨 또는 시클로올레핀을 포함하는 단량체의 단위를 갖는 시클로올레핀계 유도체 등의 폴리올레핀류; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 프로피오닐셀룰로오스 등의 (변성) 셀룰로오스류; 메틸메타크릴레이트 (공)중합체 등의 아크릴류; 스티렌 (공)중합체 등의 폴리스티렌류; 아크릴로니트릴·부타디엔·스티렌 공중합체류; 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체류; 에틸렌아세트산비닐 공중합체류; 폴리염화비닐류; 폴리염화비닐리덴류; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 폴리에스테르류; 나일론 등의 폴리아미드류; 폴리이미드류; 폴리아미드이미드류; 폴리에테르이미드류; 폴리에테르술폰류; 폴리술폰류; 폴리비닐알코올류; 폴리비닐아세탈류; 폴리우레탄류; 에폭시 수지류 등의 고분자로 형성된 필름이라도 좋다. 고분자 필름은 미연신이라도 좋고, 1축 또는 2축 연신 필름이라도 좋다. 이들 고분자는 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 투명성 및 내열성이 우수한 폴리아미드 필름, 폴리아미드이미드 필름, 폴리이미드 필름, 폴리에스테르계 필름, 올레핀계 필름, 아크릴 필름, 셀룰로오스계 필름이 좋다.

고분자 필름에는, 실리카 등의 무기 입자, 유기 미립자, 고무 입자 등을 분산시키는 것도 바람직하다. 또한, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 가소제, 열안정제, 광안정제, 적외선흡수제, 자외선흡수제, 대전방지제, 산화방지제, 윤활제, 용제 등의 배합제를 함유시키더라도 좋다.

투명 기재의 두께는 예컨대 5∼200 ㎛이며, 바람직하게는 20∼100 ㎛이다.

투명 기재에는 하드코트층이 형성되어 있어도 좋다. 하드코트층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 2∼100 ㎛일 수 있다. 하드코트층의 두께가 작아지면, 충분한 내충격성 및 내찰상성을 확보하기가 어렵게 되는 경향이 있고, 하드코트층의 두께가 커지면, 내굴곡성이 저하하여, 경화 수축에 의한 컬의 발생이 생기기 쉽게 되는 경향이 있다.

하드코트층은, 활성에너지선 또는 열에너지를 조사하여 가교 구조를 형성하는 반응성 재료를 포함하는 하드코트 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있지만, 활성에너지선 경화에 의한 것이 바람직하다. 활성에너지선이란, 활성종을 발생하는 화합물을 분해하여 활성종을 발생시킬 수 있는 에너지선이라고 정의된다. 활성에너지선으로서는, 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 및 전자선 등을 들 수 있고, 자외선이 특히 바람직하다.

하드코트 조성물은 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물 등의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 라디칼 중합성 화합물이란 라디칼 중합성의 기를 갖는 화합물이다. 라디칼 중합성 화합물이 갖는 라디칼 중합성의 기로서는, 라디칼 중합 반응을 생기게 할 수 있는 작용기이면 되며, 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 포함하는 기 등을 들 수 있다. 구체적으로는 비닐기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 라디칼 중합성 화합물이 2개 이상의 라디칼 중합성의 기를 갖는 경우, 이들 라디칼 중합성의 기는 각각 동일하더라도 좋고 다르더라도 좋다. 라디칼 중합성 화합물이 1 분자 중에 갖는 라디칼 중합성 기의 수는, 하드코트층의 경도를 향상시킨다는 점에서, 2개 이상인 것이 바람직하다. 라디칼 중합성 화합물로서는, 반응성이 높다는 점에서, 그 중에서도 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하고, 1 분자 중에 2∼6개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다작용 아크릴레이트 모노머라고 불리는 화합물이나 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트라고 불리는 분자 내에 여러 개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 분자량이 수백에서부터 수천인 올리고머를 바람직하게 사용할 수 있다. 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 및 폴리에스테르(메트)아크릴레이트에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다.

양이온 중합성 화합물이란, 에폭시기, 옥세타닐기, 비닐에테르기 등의 양이온 중합성의 기를 갖는 화합물이다. 상기 양이온 중합성 화합물이 1 분자 중에 갖는 양이온 중합성 기의 수는, 하드코트층의 경도를 향상시킨다는 점에서, 2개 이상인 것이 바람직하고, 3개 이상인 것이 더욱 바람직하다. 양이온 중합성 화합물로서는, 양이온 중합성의 기로서 에폭시기 및 옥세타닐기의 적어도 1종을 갖는 화합물이 바람직하다. 에폭시기, 옥세타닐기 등의 환상 에테르기는 중합 반응에 동반되는 수축이 작기 때문이다. 환상 에테르기 중 에폭시기를 갖는 화합물은, 다양한 구조의 화합물이 입수하기 쉽고, 얻어진 하드코트층의 내구성에 악영향을 주지 않고, 라디칼 중합성 화합물과의 상용성도 컨트롤하기 쉽다고 하는 이점이 있다. 환상 에테르기 중 옥세타닐기는, 에폭시기와 비교하여 중합도가 높아지기 쉽고, 저독성이며, 얻어진 하드코트층의 양이온 중합성 화합물로부터 얻어지는 네트워크 형성 속도를 빠르게 하여, 라디칼 중합성 화합물과 혼재하는 영역에서도 미반응의 모노머를 막 내에 남기지 않고서 독립된 네트워크를 형성하는 등의 이점이 있다.

에폭시기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 예컨대 지환족환을 갖는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르 또는 시클로헥센환, 시클로펜텐환 함유 화합물을, 과산화수소, 과산 등의 적당한 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는 지환족 에폭시 수지; 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 호모폴리머, 코폴리머 등의 지방족 에폭시 수지; 비스페놀A, 비스페놀F나 수첨 비스페놀A 등의 비스페놀류, 또는 이들의 알킬렌옥사이드 부가체; 카프로락톤 부가체 등의 유도체와, 에피크롤히드린과의 반응에 의해서 제조되는 글리시딜에테르; 노볼락 에폭시 수지 등이며, 비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르형 에폭시 수지등을 들 수 있다.

하드코트 조성물에는 중합개시제를 추가로 포함할 수 있다. 중합개시제로서는, 라디칼 중합개시제, 양이온 중합개시제, 라디칼 및 양이온 중합개시제 등이며, 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 이들 중합개시제는, 활성에너지선 조사 및 가열의 적어도 1종에 의해 분해되고, 라디칼 혹은 양이온을 발생하여 라디칼 중합과 양이온 중합을 진행시키는 것이다.

라디칼 중합개시제는, 활성에너지선 조사 및 가열의 적어도 어느 하나에 의해 라디칼 중합을 개시하게 하는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 예컨대 열라디칼 중합개시제로서는, 과산화수소, 과안식향산 등의 유기 과산화물, 아조비스부티로니트릴 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다.

활성에너지선 라디칼 중합개시제로서는, 분자의 분해로 라디칼이 생성되는 Type1형 라디칼 중합개시제와, 3급 아민과 공존하여 수소 방출형 반응으로 라디칼을 생성하는 Type2형 라디칼 중합개시제가 있고, 각각 단독으로 또는 병용하여 사용할 수도 있다.

양이온 중합개시제는, 활성에너지선 조사 및 가열의 적어도 어느 하나에 의해 양이온 중합을 개시하게 하는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 양이온 중합개시제로서는, 방향족 요오도늄염, 방향족 술포늄염, 시클로펜타디에닐철(II) 착체 등을 사용할 수 있다. 이들은, 구조의 차이에 따라 활성에너지선 조사 또는 가열의 어느 하나 또는 모두 양이온 중합을 개시할 수 있다.

중합개시제는 하드코트 조성물 전체 100 중량%에 대하여 0.1∼10 중량%를 포함할 수 있다. 중합개시제의 함량이 0.1 중량% 미만인 경우, 경화를 충분히 진행시킬 수 없어, 최종적으로 얻어진 도막의 기계적 물성이나 밀착력을 구현하기가 어렵고, 10 중량%를 넘는 경우, 경화 수축에 의한 접착력 불량이나 균열 현상 및 컬 현상이 발생하는 경우가 있다.

하드코트 조성물은 또한 용제, 첨가제로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다. 용제는, 중합성 화합물 및 중합개시제를 용해 또는 분산시킬 수 있는 것이며, 본 기술 분야의 하드코트 조성물의 용제로서 알려져 있다면 제한없이 사용할 수 있다. 첨가제는 무기 입자, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 대전방지제, 윤활제, 방오제 등을 들 수 있다.

(터치 센서)

터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는, 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 다양한 양식이 제안되어 있고, 어느 방식이라도 상관없다. 그 중에서도 정전 용량 방식이 바람직하다. 정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역이고, 사용자의 터치가 감지되는 영역이며, 비활성 영역은 표시 장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는, 플렉시블한 특성을 갖는 기판과; 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과; 기판의 비활성 영역에 형성되어, 감지 패턴과 패드부를 통해 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인;을 포함할 수 있다.

플렉시블한 특성을 갖는 기판으로서는 윈도우를 구성하는 투명 기판으로서 예시한 것을 사용할 수 있다. 터치 센서의 기판은, 인성(靭性)이 2,000 MPa% 이상인 것이 터치 센서의 크랙 억제의 면에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 인성이 2,000 MPa%∼30,000 MPa%라도 좋다. 인성은 온도 23℃, 상대습도 55%의 조건 하에서 인장 평가 시험기(유니버셜 테스터)에 의해서 측정한 값이다.

감지 패턴은 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 구비할 수 있다. 제1 패턴과 제2 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 제1 패턴 및 제2 패턴은, 동일한 층에 형성되고, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야만 한다. 제1 패턴은 각 단위 패턴이 이음매를 통해 서로 접속된 형태이지만, 제2 패턴은 각 단위 패턴이 아일런드형으로 서로 분리된 구조로 되어 있기 때문에, 제2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브릿지 전극이 필요하다.

감지 패턴은 주지된 투명 전극 소재를 적용할 수 있다. 예컨대 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 아연 주석 산화물(IZTO), 카드뮴 주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4 ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 ITO를 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티탄, 텔레늄, 크롬 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

브릿지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 통해 절연층 상부에 형성할 수 있고, 기판 상에 브릿지 전극이 형성되어 있고, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 브릿지 전극은 감지 패턴과 동일한 소재로 형성할 수도 있으며, 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티탄 또는 이들 중 2종 이상의 합금 등의 금속으로 형성할 수도 있다. 제1 패턴과 제2 패턴은 전기적으로 절연되어야 하기 때문에, 감지 패턴과 브릿지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 절연층은 제1 패턴의 이음매와 브릿지 전극의 사이에만 형성할 수도 있고, 감지 패턴을 덮는 층의 구조에 형성할 수도 있다. 후자의 경우는, 브릿지 전극은 절연층에 형성된 컨택트 홀을 통해 제2 패턴에 접속할 수 있다.

터치 센서는, 패턴이 형성된 패턴 영역과, 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역 사이의 투과율의 차, 구체적으로는 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해서 유발되는 광투과율의 차를 적절하게 보상하기 위한 수단으로서, 기판과 전극의 사이에 광학 조절층을 추가로 포함할 수 있다. 광학 조절층은 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 광학 조절층은, 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 광경화 조성물은 무기 입자를 추가로 포함할 수 있다. 무기 입자에 의해서 광학 조절층의 굴절률을 상승시킬 수 있다.

광경화성 유기 바인더는, 예컨대 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르복실산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 광경화성 유기 바인더는, 예컨대 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르복실산 반복 단위 등의 서로 다른 각 반복 단위를 포함하는 공중합체라도 좋다.

무기 입자는 예컨대 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 포함할 수 있다. 광경화 조성물은 광중합개시제, 중합성 모노머, 경화보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.

(차광 착색 패턴)

차광 착색 패턴은 플렉시블 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 착색 패턴에 의해서 플렉시블 표시 장치의 변연부(邊緣部)에 배치되는 배선이 숨겨져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 차광 착색 패턴은 단층 또는 복층의 형태라도 좋다.

차광 착색 패턴의 컬러는 특별히 제한되지 않고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러를 갖는다. 차광 착색 패턴은, 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자로 형성할 수 있다. 이들의 단독 또는 두 종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 차광 착색 패턴은 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등의 각종 방법으로 형성할 수 있다. 차광 착색 패턴의 두께는 1∼100 ㎛라도 좋고, 바람직하게는 2∼50 ㎛이다. 차광 착색 패턴의 두께 방향에 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.

실시예

이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해서 한정되는 것은 아니다.

[비틀림에 의한 전단 크리프율(C1 및 C3)의 측정]

점착제층(x)의 온도 60℃에 있어서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1)은 점탄성 측정 장치(MCR-301MCR-301, Anton Paar사)를 사용하여 측정했다. 후술하는 점착 시트를 폭 20 mm×길이 20 mm로 재단하고, 세퍼레이터를 벗겨내고, 두께가 150 ㎛가 되도록 복수 매 적층하여 점착제 기준층을 얻었다. 이 점착제 기준층을 플레이트에 접합하고, 측정 칩과 접착한 상태에서, 온도 60℃에 있어서, Normal force 1N, 압력 10000 Pa의 조건 하에서 측정을 행하여, 600초에 있어서의 전단 변형량치(전단 크리프율)를 측정했다. 온도 60℃에서 측정한 값을 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1)로 했다. 측정 온도를 -20℃로 변경한 것 이외에는 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1)의 측정과 같은 식으로 하여 비틀림에 의한 전단 크리프율(C3)을 측정했다.

[굽힘 강도(D1)의 측정]

실시예 및 비교예에서 얻은 적층체를 온도 60℃의 환경 하에 24시간 방치한 후, 5분 이내에, 온도 25℃의 환경 하에서 굽힘 강도 평가 기기(GURLEY STIFFNESS TESTER, KUMAGAI RIKI KOGYO 제조)를 이용하고, 25 g의 하중을 걸어 굽힘 강도를 측정하여, 얻어진 값을 온도 60℃의 굽힘 강도(D1)로 했다.

[두께의 측정]

두께는 접촉식 막두께 측정 장치(가부시키가이샤니콘 제조 「ZC-101」)를 이용하여 측정했다.

[유리 전이 온도의 측정]

후술하는 점착 시트로부터 세퍼레이터를 박리하여 점착제층(x)을 얻었다. 얻어진 점착제층(x)의 유리 전이 온도는, 에스아이아이나노테크놀로지(주) 제조의 시차 주사 열량계(DSC) 「EXSTAR DSC6000」를 이용하여, 질소 분위기 하에, 측정 온도 범위 -80∼50℃, 승온 속도 10℃/분의 조건으로 측정했다.

[겔분율의 측정]

후술하는 점착 시트를 폭 80 mm×길이 80 mm로 잘라낸 후, 잘라낸 점착 시트에 포함되는 점착제층(x)을 시료로 했다. 시료를 폴리에스테르제 메쉬(메쉬 사이즈 200)에 감싸고, 그 질량을 정밀 천칭을 이용하여 칭량했다. 칭량한 질량으로부터 상기 메쉬 단독의 질량을 뺌으로써 시료만의 질량 M1을 산출했다.

이어서, 상기 폴리에스테르제 메쉬에 둘러싸인 점착제층(x)을 실온 하(23℃)에서 아세트산에틸에 72시간 침지하여, 시료를 빼냈다(이하, 빼낸 시료를 「침지 후의 시료」라고 한다.). 침지 후의 시료를, 온도 23℃, 상대습도 50%의 환경 하에서 24시간 풍건(風乾)시키고, 또한 120℃의 오븐 안에서 4시간 건조시킨 후, 그 질량을 정밀 천칭을 이용하여 칭량했다. 칭량한 질량으로부터 상기 메쉬 단독의 질량을 뺌으로써, 침지 후의 시료만의 질량 M2를 산출했다. 질량 M1 및 질량 M2로부터 하기 식에 따라서 겔분율을 결정했다.

겔분율[%]=(M2/M1)×100

[저장 탄성률(G1 및 G2)의 측정]

점착제층(x)의 온도 60℃에 있어서의 저장 탄성률(G1) 및 온도 25℃에 있어서의 저장 탄성률(G2)은 점탄성 측정 장치(MCR-301, Anton Paar사)를 사용하여 측정했다. 후술하는 점착 시트를 폭 20 mm×길이 20 mm로 잘라낸 후, 세퍼레이터를 벗겨내고, 두께가 150 ㎛가 되도록 복수 매 적층하여 유리판에 접합하고, 측정 칩과 접착한 상태에서 -20℃부터 80℃의 온도 영역에서 주파수 1.0 Hz, Normal force 1N, 변형량 1%, 승온 속도 2℃/분의 조건 하에서 측정하여, 온도 25℃ 및 온도 60℃에 있어서의 저장 탄성률(G1 및 G2)을 구했다.

[굴곡성의 평가]

실시예 및 비교예에서 얻은 적층체로부터 세퍼레이터 A를 박리하여 노출한 점착제층(x)에, 화상 표시 소자를 상정한 두께 100 ㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 접합하여 시험편(100)을 얻었다. 이 시험편(100)을 이용하여 이하와 같이 고온 굴곡성 시험을 실시했다. 도 3의 (a) 및 (b)는 고온 굴곡성 시험 방법을 모식적으로 도시하는 도면이다. 2개의 스테이지(501, 502)를 갖춘 굴곡 장치(Science Town사 제조, STS-VRT-500)를 준비했다. 스테이지(501, 502) 상에 시험편(100)을 프로텍트 필름 측이 상향이 되도록 얹었다(도 3(a)). 2개의 스테이지(501, 502)를 간극(x1)으로 배치하고, 간극(x1)의 중심에 폭 방향의 중심이 위치하도록 시험편(100)을 고정하여 배치했다(도 3(a)). 이 스테이지(501, 502)는 요동 가능하며, 초기는 2개의 스테이지(501, 502)가 동일 평면을 구성한다. 2개의 스테이지(501, 502)를 위치(P1) 및 위치(P2)를 회전축의 중심으로 하여 위쪽으로 90도 회전시켜, 대향하는 시험편(100)끼리의 간격(x2)이 6 mm가 되도록 2개의 스테이지(501, 502)를 닫고(도 3(b)), 다시 스테이지(501, 502)를 여는 동작을 1회의 굴곡이라고 정의한다. 이 동작을 온도 60℃의 조건 하에서 반복하여, 시험편(100)의 점착제층(x)에 기포 또는 점착제의 누락이 발생하기까지의 굴곡 횟수를 세어, 온도 60℃에 있어서의 굴곡성을 평가했다. 평가 기준은 다음과 같다.

A: 굴곡 횟수가 20만회에 달하여도 기포 및 점착제의 누락이 발생하지 않았다.

B: 굴곡 횟수가 10만회 이상 20만회 미만에 기포 또는 점착제의 누락이 발생했다.

C: 굴곡 횟수가 10만회 미만에 기포 또는 점착제의 누락이 발생했다.

[재단성의 평가]

실시예 및 비교예에서 얻은 적층체를 온도 60℃의 환경 하에 24시간 방치한 후, 5분 이내에 온도 25℃의 환경 하에서 수퍼커터를 이용하여 재단했다. 이 재단에 의해서 얻어진 단면을 현미경으로 관찰하여, 이하에 나타내는 기준으로 평가했다.

a: 풀빠짐이 보이지 않거나 또는 풀빠짐이 1 mm 미만이며 세정에 의해 제거할 수 있다.

b: 풀빠짐이 1 mm 이상이며 세정에 의해 제거할 수 없다.

[(메트)아크릴계 폴리머 A1∼A4의 조제]

질소 가스가 환류하여 온도 조절이 용이하게 되도록 냉각 장치를 설치한 1 L의 반응기에, 표 1에 나타내는 모노머 성분을 표 1에 나타내는 배합량으로 혼합한 혼합물을 투입했다. 산소를 제거하기 위해서, 반응기 내에 질소 가스를 1시간 환류한 후, 혼합물을 온도 60℃로 유지했다. 혼합물을 균일하게 혼합한 후, 표 1에 나타내는 광중합개시제를 표 1에 나타내는 배합량으로 투입하고, 교반하면서 UV 램프(10 mW)를 조사하여, (메트)아크릴계 폴리머 A1∼A4를 얻었다. 표 1에 나타내는 배합량은 모노머 성분 및 광중합개시제의 합계 질량에 대한 질량 비율을 나타낸다. 결과를 표 1에 나타낸다.

표 1에 있어서의 각 약호는 다음과 같다.

TDA: 아크릴산트리데실(유리 전이 온도: -55℃)

IDA: 아크릴산이소데실(유리 전이 온도: -60℃)

EOEOEA: 아크릴산에톡시에톡시에틸(유리 전이 온도: -56℃)

CA: 아크릴산카프로락톤(유리 전이 온도: -40℃)

2-EHA: 아크릴산2-에틸헥실(유리 전이 온도: -70℃)

BA: 아크릴산n-부틸(유리 전이 온도: -55℃)

2-HEA: 아크릴산2-히드록시에틸(유리 전이 온도: -15℃)

LA: 아크릴산라우릴(유리 전이 온도: 15℃)

DCA: 아크릴산도코실

I-651: 벤질디메틸케탈

I-184: 1-히드록시시클로헥실페닐케톤

[점착제 조성물 B1∼B7의 조제]

표 2에 나타내는 아크릴계 폴리머, 화합물 및 중합개시제를 표 2에 나타내는 배합량으로 혼합하여, 점착제 조성물 B1∼B7을 얻었다. 표 2에 나타내는 배합량은 폴리머, 화합물 및 중합개시제의 합계 질량에 대한 질량 비율을 나타낸다.

표 2에 있어서의 각 약호는 다음과 같다.

PU2100: 우레탄아크릴 단량체(Miwon specialty chemical사의 「MIRAMER PU2100」, 아크릴로일기의 수: 2, 중량 평균 분자량: 1300)

PU2200: 우레탄아크릴 단량체(Miwon specialty chemical사의 「MIRAMER PU2200」, 아크릴로일기의 수: 2, 중량 평균 분자량: 2000)

PU2510: 우레탄아크릴 단량체(Miwon specialty chemical사의 「MIRAMER PU2510」, 아크릴로일기의 수: 2, 중량 평균 분자량: 4900)

SC2565: 우레탄아크릴 단량체(Miwon specialty chemical사의 「MIRAMER SC2565」, 아크릴로일기의 수: 2, 중량 평균 분자량: 5100)

HDDA: 1,6-헥산디올디아크릴레이트

IDA: 이소데실아크릴레이트

[점착 시트 (1)∼(10)의 제작]

표 3 및 표 4에 나타내는 두께의 세퍼레이터 A(실리콘 화합물을 포함하는 이형제를 코팅한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)의 이형 처리면에, 표 3 및 표 4에 나타내는 점착제 조성물을 도포했다. 도포층 상에, 표 3 및 표 4에 나타내는 두께의 세퍼레이터 B(실리콘 화합물을 포함하는 이형제를 코팅한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름)를, 이형 처리면 측이 도포층 측으로 되도록 적층한 후, UV 조사를 행하여, 세퍼레이터 A/점착제층(x)/세퍼레이터 B의 층 구조를 갖는 점착 시트 (1)∼(10)을 얻었다. UV 조사는 적산 광량이 400 mJ/cm², 조도가 1.8 mW/cm²(UVV 기준)가 되도록 실시했다. 얻어진 점착 시트 (1)∼(10)의 점착제층(x)에 관해서, 온도 60℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1), 온도 60℃ 및 25℃에서의 저장 탄성률(G1 및 G2), 두께, 유리 전이 온도(Tg), 겔분율을 측정했다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.

〔실시예 1, 2, 6, 비교예 1〕

(원편광판의 준비)

보호 필름(시클로올레핀계 수지 필름, 두께 18 ㎛)과 직선편광층(두께 8 ㎛)을 수계 접착제를 이용하여 접합하여, 보호 필름/접착제층/직선편광층의 층 구조를 갖는 직선편광판을 얻었다.

제1 위상차층(두께 3 ㎛), 접착제층(두께 1 ㎛) 및 제2 위상차층(두께 2 ㎛)이 이 순서로 적층된 위상차 적층체를 얻었다. 제1 위상차층은 λ/4 위상차층이며, 중합성 액정 화합물의 경화물층이었다. 접착제층은 광경화형 접착제 조성물인 에폭시계 접착제의 경화물층이었다. 제2 위상차층은 포지티브 C층이며, 중합성 액정 화합물의 경화물층이었다.

상기에서 얻은 직선편광판의 직선편광층 측과 위상차 적층체의 제1 위상차층 측을, 아크릴계 점착제층(두께 5 ㎛)을 이용하여 접합하여, 편광판으로서의 원편광판을 얻었다. 원편광판의 층 구조는 직선편광판(보호 필름/접착제층/직선편광층)/위상차 적층체(제1 위상차층/접착제층/제2 위상차층)였다.

(프로텍트 필름의 준비)

기재층(폴리에스테르 수지 필름, 두께 38 ㎛)의 한쪽의 면에 아크릴계 경화형 점착제층(두께 15 ㎛)이 형성된 프로텍트 필름을 준비했다.

(적층체의 제작)

프로텍트 필름의 아크릴계 경화형 점착제층 측이 직선편광판 측으로 되도록 상기에서 얻은 원편광판과 프로텍트 필름을 접합하고, 원편광판의 위상차 적층체 측에, 표 3 및 표 4에 나타내는 점착 시트로부터 세퍼레이터 B를 박리하여 노출한 점착제층(x)을 접합함으로써 적층체 (1), (2), (6), (7)을 얻었다. 이들 적층체의 층 구조는 프로텍트 필름(기재층/아크릴계 경화형 점착제층)/직선편광판(보호 필름/접착제층/직선편광층)/아크릴계 점착제층/위상차 적층체(제1 위상차층/접착제층/제2 위상차층)/점착제층(x)/세퍼레이터 A였다.

얻어진 적층체에 관해서 굽힘 강도(D1), 굴곡성 및 재단성을 평가했다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.

〔실시예 3, 4〕

(원편광판의 준비)

제1 위상차층(두께 2 ㎛), 접착제층(두께 2 ㎛) 및 제2 위상차층(두께 1 ㎛)이 이 순서로 적층된 위상차 적층체를 얻었다. 제1 위상차층은 λ/2 위상차층이며, 중합성 액정 화합물의 경화물층이었다. 접착제층은 광경화형 접착제 조성물인 에폭시계 접착제의 경화물층이었다. 제2 위상차층은 λ/4 위상차층이며, 중합성 액정 화합물의 경화물층이었다.

상기에서 얻은 위상차 적층체를 이용한 것 이외에는, 실시예 1, 2, 6, 비교예 1에서 설명한 수순과 같은 식으로 하여 편광판으로서의 원편광판을 얻었다. 원편광판의 층 구조는 직선편광판(보호 필름/접착제층/직선편광층)/위상차 적층체(제1 위상차층/접착제층/제2 위상차층)이었다.

(적층체의 제작)

상기에서 얻은 원편광판을 이용한 것 이외에는, 실시예 1, 2, 6, 비교예 1에서 설명한 수순과 같은 식으로 하여 적층체 (3), (4)를 얻었다. 이들 적층체의 층 구조는 프로텍트 필름(기재층/아크릴계 경화형 점착제층)/직선편광판(보호 필름/접착제층/직선편광층)/아크릴계 점착제층/위상차 적층체(제1 위상차층/접착제층/제2 위상차층)/점착제층(x)/세퍼레이터 A였다.

얻어진 적층체에 관해서 굽힘 강도(D1), 굴곡성 및 재단성을 평가했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

〔실시예 5, 비교예 2, 3〕

(직선편광판의 준비)

시클로올레핀계 수지 필름(두께 25 ㎛)의 한쪽의 면에 하드코트층(두께 2 ㎛)이 형성된 보호 필름을 준비했다. 이 보호 필름의 시클로올레핀계 수지 필름 측과 직선편광층(두께 8 ㎛)을 수계 접착제를 이용하여 접합하여, 보호 필름(하드코트층/시클로올레핀계 수지 필름)/접착제층/직선편광층의 층 구조를 갖는 직선편광판을 얻었다.

(프로텍트 필름의 준비)

기재층(폴리에스테르 수지 필름, 두께 38 ㎛)의 한쪽의 면에 아크릴계 경화형 점착제층(두께 15 ㎛)이 형성된 프로텍트 필름을 준비했다.

(적층체의 제작)

프로텍트 필름의 아크릴계 경화형 점착제층 측이 보호 필름 측으로 되도록 상기에서 얻은 직선편광판과 프로텍트 필름을 접합하고, 직선편광판의 직선편광층 측에, 표 3 및 표 4에 나타내는 점착 시트로부터 세퍼레이터 B를 박리하여 노출한 점착제층(x)을 접합함으로써, 적층체 (5), (8), (9)를 얻었다. 이 적층체의 층 구조는 프로텍트 필름(기재층/아크릴계 경화형 점착제층)/직선편광판(보호 필름/접착제층/직선편광층)/점착제층(x)/세퍼레이터 A였다.

얻어진 적층체에 관해서 굽힘 강도(D1), 굴곡성 및 재단성을 평가했다. 결과를 표 3 및 표 4에 나타낸다.

〔실시예 7〕

(윈도우의 준비)

일본 특허공개 2018-119141호 공보의 실시예 4의 기재에 따라서 제작한 투명 기재 필름(폴리아미드이미드 필름, 두께 50 ㎛)의 한쪽의 표면에 하드코트층용 조성물(1)을 코팅한 후, 용제를 건조시켜 UV 경화함으로써, 기재 필름의 한면에 두께 8 ㎛의 하드코트층이 형성된 윈도우(두께 58 ㎛)를 제작했다. 하드코트층 형성용 조성물(1)은, 다기능 아크릴레이트(MIWON 스페샬티 케미컬, MIRAMER M340) 30 질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르에 분산된 나노실리카졸(입자경 12 nm, 고형분 40%) 50 질량부, 에틸아세테이트 17 질량부, 광중합개시제(BASF사, I184) 2.7 질량부, 불소계 첨가제(신에츠가가쿠고교가부시키가이샤, KY1203) 0.3 질량부를 교반기를 이용하여 배합하고, 폴리프로필렌(PP) 재질의 필터를 이용하여 여과함으로써 조제했다. 윈도우의 층 구조는 하드코트층/폴리이미드 필름이었다.

점착 시트(10)로부터 세퍼레이터 B를 박리했다. 노출한 점착제층(x)의 표면 및 윈도우의 폴리이미드 필름 측의 표면에 코로나 처리를 실시했다(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분). 코로나 처리 후에, 점착제 시트(10)와 윈도우를 적층하여, 하드코트층/폴리이미드 필름/점착제층(x)/세퍼레이터 A의 층 구조를 갖는 점착제층 구비 윈도우를 얻었다.

(직선편광판의 준비)

폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(두께 100 ㎛)에, 하드코트층용 조성물(2)을 바코트법에 의해 도포하여, 80℃의 건조 오븐 안에서 3분간 가열 건조했다. 얻어진 건조 피막에 UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7, 우시오덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 노광량 500 mJ/cm²(365 nm 기준)의 UV광을 조사하여 하드코트층(HC층)을 형성함으로써, HC층 구비 PET 필름을 얻었다. 하드코트층용 조성물(2)은, 18 작용의 아크릴기를 갖는 덴드리머 아크릴레이트(Miramer SP1106, Miwon) 2.8 질량부와, 6 작용의 아크릴기를 갖는 우레탄아크릴레이트(Miramer PU-620D, Miwon) 6.6 질량부와, 광중합개시제(Irgacure-184, BASF) 0.5 질량부와, 레벨링제(BYK-3530, BYK) 0.1 질량부와, 메틸에틸케톤(MEK) 90 질량부를 혼합함으로써 조제했다. 하드코트층(HC층)의 두께를 레이저 현미경(올림푸스가부시키가이샤 제조 OLS3000)에 의해 측정한 바, 2.0 ㎛였다.

상기에서 얻은 HC층 구비 PET 필름의 HC층 측에 코로나 처리를 1회 실시했다. 코로나 처리 조건은 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분으로 했다. 그 후, HC층 구비 PET 필름의 HC층 상에, 배향막 형성용 조성물을 바코트법에 의해 도포하여, 온도 80℃의 건조 오븐 안에서 1분간 가열 건조했다. 배향막 형성용 조성물은 일본 특허공개 2020-157577호 공보의 단락 [0103]에 기재된 것을 이용했다. 얻어진 건조 피막에 편광 UV 조사 처리를 실시하여 배향막을 형성했다. 편광 UV 처리는, UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7; 우시오덴키가부시키가이샤 제조)로부터 조사되는 빛을 와이어그리드(UIS-27132##, 우시오덴키가부시키가이샤 제조)를 투과시켜, 파장 365 nm에서 측정한 적산 광량이 100 mJ/cm²인 조건으로 처리했다. 배향막의 두께는 100 nm였다.

상기에서 형성한 배향막 상에, 편광층 형성용 조성물을 바코트법에 의해 도포하고, 120℃의 건조 오븐으로 1분간 가열 건조한 후, 실온까지 냉각했다. 상기 UV 조사 장치를 이용하여, 적산 광량 1200 mJ/cm²(365 nm 기준)로 자외선을 건조 피막에 조사함으로써, 편광층을 형성했다. 편광층 형성용 조성물은 일본 특허공개 2020-157577호 공보의 단락 [0104]∼[0107]에 기재된 것을 이용했다. 얻어진 편광층의 두께를 레이저 현미경(올림푸스가부시키가이샤사 제조 OLS3000)에 의해 측정한 바, 1.8 ㎛였다.

상기에서 얻은 편광층 상에, 오버코트층용 조성물을 바코트법에 의해 도포하고, 건조 후의 두께가 1.0 ㎛가 되도록 도공하고, 온도 80℃에서 3분간 건조하여, 오버코트층(OC층)을 형성함으로써, 직선편광판을 얻었다. 오버코트층용 조성물은 일본 특허공개 2020-157577호 공보의 단락 [0108]에 기재된 것을 이용했다. 직선편광판의 층 구조는 PET 필름/HC층/배향막/편광층/OC층이었다.

중(重)박리 필름/점착제층 A(두께 5 ㎛의 아크릴계 점착제)/경(輕)박리 필름을 포함하는 점착 시트 A를 준비했다. 점착 시트 A로부터 경박리 필름을 박리했다. 노출한 점착제층 A의 표면 및 직선편광판의 OC층 표면에 코로나 처리를 실시했다(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분). 코로나 처리 후, 점착제층 A와 OC층을 접합하여, 점착제층 구비 직선편광판을 얻었다. 점착제층 구비 직선편광판의 구성은 PET 필름/HC층/배향막/편광층/OC층/점착제층 A/중박리 필름이었다.

(원편광판의 준비)

이하의 성분을 혼합하고, 탈포하여 UV 경화형 접착제 A를 조제했다.

3',4'-에폭시시클로헥실메틸3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트(CEL2021P, 가부시키가이샤다이셀) 70 부,

네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(EX-211, 나가세켐텍스가부시키가이샤 제조) 20 질량부,

2-에틸헥실글리시딜에테르(EX-121, 나가세켐텍스가부시키가이샤 제조) 10 질량부,

양이온 중합개시제(CPI-100, 산아프로가부시키가이샤, 고형 분량 2.25 질량부(50% 프로필렌카보네이트 용액으로서 배합했다.),

1,4-디에톡시나프탈렌 2 부.

기재 필름 A, 제1 위상차층, 접착제층, 제2 위상차층 및 기재 필름 B가 이 순서로 적층된 두께 7 ㎛의 기재 구비 위상차 적층체를 준비했다. 접착제층은 UV 경화형 접착제 A의 경화물을 포함하며, 두께가 2 ㎛였다. 제1 위상차층은 λ/4 위상차층이며, 중합성 액정 화합물이 경화한 층 및 배향막을 갖고, 두께가 2 ㎛였다. 제2 위상차층은 포지티브 C층이며, 중합성 액정 화합물이 경화한 층 및 배향막을 갖고, 두께가 3 ㎛였다. 기재 구비 위상차 적층체의 층 구조는 기재 필름 A/제1 위상차층(λ/4 위상차층)/접착제층/제2 위상차층(포지티브 C층)/기재 필름 B였다.

상기에서 얻은 점착제층 구비 직선편광판의 중박리 필름을 박리하고, 상기에서 얻은 기재 구비 위상차 적층체로부터 기재 필름 A를 박리했다. 중박리 필름을 박리하여 노출한 점착제층 A 표면 및 기재 필름 A를 박리하여 노출한 제1 위상차층표면에, 코로나 처리(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분)를 실시하고, 점착제층 A와 λ/4층을 접합하여, 기재 구비 원편광판을 얻었다. 기재 구비 원편광판의 층 구조는 PET 필름/HC층/배향막/편광층/OC층/점착제층 A/제1 위상차층(λ/4 위상차층)/접착제층/제2 위상차층(포지티브 C층)/기재 필름 B였다.

점착 시트(10)로부터 세퍼레이터 B를 박리하고, 기재 구비 원편광판으로부터 기재 필름 B를 박리했다. 세퍼레이터 B의 박리에 의해 노출된 점착제층(x)의 표면 및 기재 필름 B의 박리에 의해 노출된 제2 위상차층의 표면에, 코로나 처리를 실시했다(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분). 코로나 처리 후, 점착제층(x)과 제2 위상차층을 접합하여, 점착제층 구비 원편광판을 얻었다. 점착제층 구비 원편광판의 층 구조는 PET 필름/HC층/배향막/편광층/OC층/점착제층 A/제1 위상차층(λ/4 위상차층)/접착제층/제2 위상차층(포지티브 C층)/점착제층(x)/세퍼레이터 A였다.

(적층체(10)의 제작)

상기에서 얻은 점착제층 구비 윈도우로부터 세퍼레이터 A를 박리하고, 점착제층 구비 원편광판의 PET 필름을 박리했다. 세퍼레이터 A의 박리에 의해 노출된 점착제층(x) 표면 및 PET 필름의 박리에 의해 노출된 HC층 표면에, 코로나 처리를 실시했다(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분). 코로나 처리 후, 점착제층(x)과 HC층을 접합하여, 적층체(10)를 얻었다. 적층체(10)의 층 구조는 하드코트층/폴리이미드 필름/점착제층(x)/HC층/배향막/편광층/OC층/점착제층 A/제1 위상차층(λ/4 위상차층)/접착제층/제2 위상차층(포지티브 C층)/점착제층(x)/세퍼레이터 A였다.

얻어진 적층체에 관해서 굽힘 강도(D1), 굴곡성 및 재단성을 평가했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

〔실시예 8〕

(착색 부재 적층체의 준비)

아크릴계 수지를 유리판(지지체)에 코팅하여 분리층(두께: 0.3 ㎛)을 형성했다. 분리층 상에, 착색층 형성용 조성물을 이용하여 건조 후의 두께가 1.5 ㎛가 되도록 착색층을 포토리소그래피법에 의해 패터닝하여, 착색층을 부분적으로 형성함으로써, 차광 착색 패턴으로 했다. 착색층 형성용 조성물은 카본 블랙을 함유하는 활성에너지선 경화형 착색층 형성용 조성물(Samsung SDI사 제조 「CR-BK0951L」)을 이용했다. 포토리소그래피법에서는, 착색층 형성용 조성물을 도포하여 도포층을 형성하는 공정, 도포층을 노광하는 공정, 노광한 도포층을 현상하는 공정, 현상 후의 층을 열경화하는 공정을 행하여, 착색층을 형성했다.

이어서, 형성한 착색층 측의 면에, 일본 특허공개 2016-014877호 공보에서의 실시예 1의 조성물을 코팅하여 보호층(두께: 3 ㎛)을 형성했다. 이와 같이 하여 보호층/착색층/분리층의 층 구성을 갖는 착색 부재를 유리판 상에 형성했다. 이어서, 보호층 상에 프로텍트 필름을 접합했다. 그 후, 유리판을 제거하고, 노출한 분리층과 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름(PET)의 한쪽의 면을, 실시예 7에서 설명한 수순으로 조제한 UV 경화형 접착제 A를 이용하여 적층하고, 적산 광량 250 mJ/cm²(UVB)의 조건으로 자외선을 조사하여, UV 경화형 접착제 A를 경화시켜 접착제층을 형성함으로써, 착색 부재 적층체를 얻었다. 착색 부재 적층체의 층 구조는 PET 필름/접착제층/착색 부재(분리층/착색층/보호층)/프로텍트 필름이었다.

점착 시트(10)로부터 세퍼레이터 B를 박리하고, 착색 부재 적층체로부터 프로텍트 필름을 박리했다. 세퍼레이터 B의 박리에 의해 노출된 점착제층(x) 표면 및 프로텍트 필름의 박리에 의해 노출된 보호층 표면에, 코로나 처리를 실시했다(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분). 코로나 처리 후, 점착제층(x)과 보호층을 접합하여, 점착제층 구비 착색 부재를 얻었다. 점착제층 구비 착색 부재의 층 구조는 PET 필름/접착제층/착색 부재(분리층/착색층/보호층)/점착제층(x)/세퍼레이터 A였다.

(적층체(11)의 제작)

상기에서 얻은 점착제층 구비 착색 부재로부터 세퍼레이터 A를 박리하고, 실시예 7에서 설명한 수순으로 준비한 점착제층 구비 원편광판으로부터 PET 필름을 박리했다. 세퍼레이터 A의 박리에 의해 노출된 점착제층(x) 표면 및 PET 필름의 박리에 의해 노출된 HC층 표면에, 코로나 처리를 실시했다(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분). 코로나 처리 후, 점착제층(x)과 HC층을 접합했다.

상기한 접합 후, 착색 부재 상에 접착제층을 통해 적층되어 있는 PET 필름 및 실시예 7에서 설명한 수순으로 준비한 점착제층 구비 윈도우로부터 세퍼레이터 A를 박리하여 노출된 점착제층(x)에, 코로나 처리(출력 0.3 kW, 속도 3 m/분)를 실시하고, PET 필름과 점착제층(x)을 접합하여, 적층체(11)를 얻었다. 적층체(11)의 층 구조는 하드코트층/폴리이미드 필름/점착제층(x)/PET 필름/접착제층/착색 부재(분리층/착색층/보호층)/점착제층(x)/HC층/배향막/편광층/OC층/점착제층 A/제1 위상차층(λ/4 위상차층)/접착제층/제2 위상차층(포지티브 C층)/점착제층(x)/세퍼레이터 A였다.

얻어진 적층체에 관해서 굽힘 강도(D1), 굴곡성 및 재단성을 평가했다. 결과를 표 3에 나타낸다.

X: 점착제층, 1, 2: 적층체, 11: 프로텍트 필름, 15: 세퍼레이터, 30: 편광판, 31: 직선편광층, 32: 보호 필름, 33: 제1 위상차층(위상차층), 34: 제2 위상차층(위상차층), 37, 38: 접합층, 100: 시험편, 501, 502: 스테이지.

Claims (13)

1. 적어도 직선편광층을 포함하는 편광판과, 점착제 조성물을 이용하여 형성된 점착제층을 포함하는 적층체로서,
   상기 점착제 조성물을 이용하여 두께 150 ㎛로 형성된 점착제 기준층의 온도 60℃에서의 비틀림에 의한 전단 크리프율(C1)은 10% 이상 200% 이하이고,
   상기 적층체의 온도 60℃에서의 굽힘 강도(D1)는 1200 m·gf 이상 1700 m·gf 이하인 적층체.
2. 제1항에 있어서, 상기 전단 크리프율(C1)은 80% 이상 200% 이하인 적층체.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 점착제층의 두께는 10 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하인 적층체.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 점착제층의 유리 전이 온도는 -50℃ 이하인 적층체.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 점착제층의 겔분율은 45% 이상 85% 이하인 적층체.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 점착제 조성물은 (메트)아크릴계 폴리머를 포함하고,
   상기 (메트)아크릴계 폴리머는 탄소수가 1 이상 24 이하인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르에 유래하는 제1 구성 단위와, 우레탄 결합을 갖는 모노머에 유래하는 제2 구성 단위를 포함하는 것인 적층체.
7. 제6항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 전체 구성 단위에 대한 상기 제2 구성 단위의 함유량은 2.0 질량% 이하인 적층체.
8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 우레탄 결합을 갖는 모노머는 1개 또는 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 것인 적층체.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편광판은 상기 직선편광층의 한면 또는 양면에 적층된 보호 필름을 갖는 것인 적층체.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편광판은 상기 직선편광층과 위상차층을 갖는 원편광판인 적층체.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편광판에 대하여 박리 가능하게 형성된 프로텍트 필름을 추가로 포함하는 적층체.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 점착제층에 대하여 박리 가능하게 형성된 세퍼레이터를 추가로 포함하는 적층체.
13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재한 적층체를 포함하는 표시 장치.

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