TW201823008A - 薄膜及積層體 - Google Patents
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- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 53
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 676
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 361
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 100
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 63
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 52
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 32
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 16
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 7
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 7
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 5
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920006127 amorphous resin Polymers 0.000 claims 1
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 claims 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 abstract description 105
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 33
- 238000013461 design Methods 0.000 abstract description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 61
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 description 59
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 39
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 31
- -1 automobiles or trams Substances 0.000 description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 17
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 16
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 10
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 10
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 9
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 8
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 8
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N dicesium;dioxido(dioxo)tungsten Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-][W]([O-])(=O)=O VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002472 indium compounds Chemical class 0.000 description 5
- 150000002604 lanthanum compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYWDBAKATHNVAA-YZXKGSGOSA-N (2r,3s,6r,8r,10s)-2-[(2s)-butan-2-yl]-8-(2-hydroxyethyl)-3-methyl-1,7-dioxaspiro[5.5]undecan-10-ol Chemical compound C1C[C@H](C)[C@@H]([C@@H](C)CC)O[C@@]21O[C@H](CCO)C[C@H](O)C2 XYWDBAKATHNVAA-YZXKGSGOSA-N 0.000 description 2
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical compound FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229940058905 antimony compound for treatment of leishmaniasis and trypanosomiasis Drugs 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043375 1,5-pentanediol Drugs 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAVWXKQADKRESO-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;prop-1-ene Chemical compound CC=C.CC(=C)C(O)=O FAVWXKQADKRESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxy 2-methylprop-2-eneperoxoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OOOC(=O)C(C)=C POYODSZSSBWJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenoxy)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZDDUFFXSBGRMP-UHFFFAOYSA-N 9h-fluoren-1-ylphosphane Chemical compound C12=CC=CC=C2CC2=C1C=CC=C2P VZDDUFFXSBGRMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000531908 Aramides Species 0.000 description 1
- UUAGPGQUHZVJBQ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A bis(2-hydroxyethyl)ether Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCO)C=C1 UUAGPGQUHZVJBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N F.F.F.F.C=C Chemical compound F.F.F.F.C=C PYVHTIWHNXTVPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDODWINGEHBYRT-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCCCC1CO XDODWINGEHBYRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCCC(CO)C1 LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032900 absorption of visible light Effects 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229920002988 biodegradable polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004621 biodegradable polymer Substances 0.000 description 1
- CQAIBOSCGCTHPV-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxycyclohexa-2,4-dien-1-yl)methanone Chemical compound C1C=CC=CC1(O)C(=O)C1(O)CC=CC=C1 CQAIBOSCGCTHPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007707 calorimetry Methods 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 208000035475 disorder Diseases 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTOLVRQCDHIQQA-UHFFFAOYSA-N hexane;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCCCCC RTOLVRQCDHIQQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ATFCOADKYSRZES-UHFFFAOYSA-N indium;oxotungsten Chemical compound [In].[W]=O ATFCOADKYSRZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- DJZHPOJZOWHJPP-UHFFFAOYSA-N magnesium;dioxido(dioxo)tungsten Chemical compound [Mg+2].[O-][W]([O-])(=O)=O DJZHPOJZOWHJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1 ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1C(O)=O DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- KPPUJEGBJUZQMJ-UHFFFAOYSA-N oxotungsten;thorium Chemical compound [Th].[W]=O KPPUJEGBJUZQMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229960005222 phenazone Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 229920000417 polynaphthalene Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002215 polytrimethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)=C BOQSSGDQNWEFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C=C LYBIZMNPXTXVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000007152 ring opening metathesis polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N valeric aldehyde Natural products CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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Abstract
本發明之課題在於解決:可見光線穿透率高、並具有高反射率時,迄今之層設計係於波長1200nm為止存在界限。另一方面,若使用711構成,雖然可使波長1200nm以上之波長反射、並將可見光線穿透率維持為較高狀態,但為了獲得高反射率必須較多層數,薄膜厚度增大,故對曲率高之玻璃的貼合惡化。
本發明為一種薄膜,係在由至少一面射入光時,在波長1200~1800nm之範圍中,具有至少1個反射率連續地依100nm以上之範圍成為30%以上之反射頻帶,且波長430~600nm之範圍的平均穿透率為70%以上,薄膜之主配向軸方向及與其正交之方向的軸剛性的平均值為45N/m以下。
Description
本發明係關於薄膜及積層體。
近年來,受到因環境保護所造成之二氧化碳排放限制,將可抑制夏日外部、尤其是太陽光所造成之熱之流入的遮熱玻璃使用於汽車或電車等交通工具、建築物之窗玻璃等受到矚目。
作為此種遮熱玻璃之一例,有如:在玻璃中或夾層玻璃中所使用的中間膜中含有熱射線吸收劑,藉由熱射線吸收劑遮斷熱射線者(例如專利文獻1);於玻璃表面上藉由濺鍍等形成金屬膜而使熱射線反射予以遮斷者(例如專利文獻2);將使折射率相異之聚合物交替積層的聚合物多層積層薄膜插入至玻璃及中間膜之膜,使熱射線反射而予以遮斷者(例如專利文獻3)等。
專利文獻1:日本專利特開2010-17854號公報
專利文獻2:日本專利第3901911號公報
專利文獻3:日本專利第4310312號公報
專利文獻4:國際專利公開第2005/095097號公報
專利文獻5:美國專利第5360659號公報
於專利文獻1記載之使用熱射線吸收劑的方法中,由於將由外部射入之太陽光轉換為熱能,故有其熱被放射至室內而遮熱效率降低之問題。此外,亦有由於吸收熱射線而玻璃溫度上升,因與外氣溫間之差而玻璃本身發生破損的情況。又,於專利文獻2記載之於玻璃表面上藉由濺鍍等形成金屬膜之方法中,由於不僅是熱射線、亦遮蔽電磁波,而有汽車或建築物內部無法使用通信機器等的情形。
另一方面,專利文獻3記載之聚合物多層積層薄膜由於僅控制其層厚,可選擇反射之波長,故可選擇性地反射近紅外區域之光,可於維持可見光線穿透率之下提升遮熱性能。又,由於不含有金屬等遮斷電波者,故保持優越之電波穿透性。聚合物多層積層薄膜中,作為選擇性地反射光之層構成,已知有例如專利文獻4記載般之滿足下式(1)的層構成。
[數1]λ/m=2(n A d A +n B d B ) (1)
此時,除了目標之反射波長(主反射波長λ)以外,於λ/m(m為自然數)之波長亦發生m次之干涉反射。因此,例如在依於1200nm以上之波長頻帶存在主反射波長(1次)之方式控制層厚的情況,3次之干涉反射亦發生於400nm以上之可見光區域。此種情況下,有無法使用於重視透明性、車之擋風玻璃等般之用途中的課題。
作為抑制此種高階反射的方法,已知如專利文獻5所記載般,將層厚比率設為1:7:1的層構成(所謂711構成的層構成)。然而,經本案發明人等之檢討,發現由此711構成所形成之多層積層薄膜由於反射率較專利文獻4記載之層構成低,故在欲獲得所需反射率的情況,由於層數增加,故有裝置成本變高的課題。又,若層數增加,薄膜厚度亦變厚。薄膜變厚時由於薄膜剛性變強,在貼合至曲率高的玻璃時,由於薄膜不易追隨玻璃,故無法貼黏。又,即使可貼黏,仍有因風或振動之影響而立刻剝離的課題。尤其是近年來為了設計,曲率高之玻璃增加,此課題變得明確化。
亦即,於專利文獻4記載之層設計中,若欲在提高可見光線頻帶之穿透率之下、使近紅外區域之反射率提升,則可提高反射率之界限為波長1200nm為止。另一方面,於專利文獻5所記載般之711構成,雖然可使波長1200nm以上之反射頻帶反射、並提高可見光線頻帶之穿透率,為了獲得高反射率必須較多層數,薄膜厚度增大,故有無法黏貼黏於曲率高之玻璃的問題。
為了解決相關課題,本發明為一種薄膜,係在由至少一面射入光時,在波長1200~1800nm之範圍中,具有至少1個反射率連續地依100nm以上之範圍成為30%以上之反射頻帶,且波長430~600nm之範圍的平均穿透率為70%以上,薄膜之主配向軸方向及與其正交之方向的軸剛性的平均值為10N/m以上且45N/m以下。
根據本發明,可提供在擴大迄今之反射頻帶之下、同時維持高反射率、進而具有高可見光線穿透率的薄膜,並由於軸剛 性小而可容易貼合至高曲率之玻璃。
圖1表示積層單元1之概念圖。
圖2表示積層單元2之概念圖。
圖3表示組合了狹縫板1與狹縫板2時所產生之層構成之一例。
圖4表示積層裝置1中狹縫板1與狹縫板2之關係。
圖5(a)表示使用了積層裝置1~2時之薄膜的全層厚度分佈;圖5(b)表示1~51層為止的擴大圖。
圖6(a)表示比較例2之薄膜的全層厚度分佈;圖6(b)表示631~681層為止的擴大圖。
圖7(a)表示使用了積層裝置3時之薄膜的全層厚度分佈;圖7(b)表示131~181層為止的擴大圖。
圖8(a)表示使用了積層裝置5時之薄膜的全層厚度分佈;圖8(b)表示431~481層為止的擴大圖。
圖9(a)表示使用了積層裝置6時之薄膜的全層厚度分佈;圖9(b)表示481~531層為止的擴大圖。
圖10(a)表示使用了積層裝置7時之薄膜的全層厚度分佈;圖10(b)表示481~531層為止的擴大圖。
圖11(a)表示使用了積層裝置11時之薄膜的全層厚度分佈;圖11(b)表示61~111層為止的擴大圖。
圖12(a)表示使用了積層裝置26時之薄膜的全層厚度分佈;圖12(b)表示131~181層為止的擴大圖。
圖13(a)表示使用了積層裝置27時之薄膜的全層厚度分佈;圖 13(b)表示131~181層為止的擴大圖。
圖14(a)表示使用了積層裝置28時之薄膜的全層厚度分佈;圖14(b)表示131~181層為止的擴大圖。
圖15(a)表示使用了積層裝置29時之薄膜的全層厚度分佈;圖15(b)表示131~181層為止的擴大圖。
圖16(a)表示使用了積層裝置30時之薄膜的全層厚度分佈;圖16(b)表示131~181層為止的擴大圖。
圖17(a)表示使用了積層裝置31時之薄膜的全層厚度分佈;圖17(b)表示201~251層為止的擴大圖。
以下說明本發明之實施形態,但本發明並不限定解釋為以下包含實施例之實施形態,在可達成發明目的、且不脫離發明要旨的範圍內當然可進行各種變更。
本發明之薄膜係必須在由至少一面射入光時,在波長1200~1800nm之範圍中,具有至少1個反射率連續地依100nm以上之範圍成為30%以上之反射頻帶,且波長430~600nm之範圍的平均穿透率為70%以上。波長1200~1800nm的反射率較佳為50%以上、更佳70%以上。於此,所謂具有至少1個反射率成為30%以上之反射頻帶,係表示具有連續100nm以上反射率為30%以上之反射頻帶。反射率為30%以上之頻帶較佳為200nm以上、更佳300nm以上。藉由反射波長1200~1800nm範圍之波長,可阻斷總太陽光能中之12%。另一方面,在利用光干擾使1200~1800nm範圍反射的情況,在其波長之2分之一、或3分之一附近發生高階反射,可見光線穿透率附低。為了提升可見光線穿透率,必須將波長430~600nm之平 均穿透率設為70%以上,更佳80%以上。為了使波長430~600nm之平均穿透率提升,必須作成抑制高階反射的層設計。
又,薄膜之主配向軸方向及與其正交之方向的軸剛性的平均值為10N/m以上且45N/m以下。所謂主配向軸,係指在薄膜面內測定折射率時,折射率為最高之方向。又,所謂軸剛性,可由楊氏率與薄膜剖面積之乘積表記。若軸剛性大,由於對曲率大之玻璃的追隨性惡化,故對例如擋窗玻璃般曲率大之玻璃的貼合性惡化而不佳。軸剛性之平均值最大為45N/m以下、較佳40N/m以下、更佳35N/m以下。另一方面,若軸剛性過小,則薄膜本身變脆、操作性降低。從而,軸剛性較佳為10N/m以上、更佳15N/m以上、再更佳20N/m以上。
又,在由至少一面射入光時,波長400~800nm範圍之平均穿透率較佳為80%以上。藉由設為此範圍,由於成為透明性高之薄膜,故即使設置含有熱射線吸收劑之層,仍容易維持高透明性,故可組合更多種之熱射線吸收劑,可增加其厚度,故可具有高遮熱性。
本發明之薄膜較佳係波長900~1400nm範圍之平均反射率為70%以上。藉由將例如較可見光區域稍大之波長900~1200nm(總太陽光中,佔波長900~1200nm之強度之比例為約18%)之光反射,可作成透明且具有高熱射線阻斷性能的薄膜。再者,若拓寬反射頻帶,可涵蓋波長900~1400nm反射太陽光,則可作成將總太陽光之強度中22%阻斷的薄膜。太陽光主要於可見光區域具備強度分佈,有隨著波長變大而其強度分佈變小的傾向,但為了使用於要求高透明性之用途中,藉由將較可見光區域稍大之波長 900~1400nm之光有效率地反射,可賦予高熱射線阻斷性能,藉由拓寬反射頻帶,則可將ISO9050所規定之日光輻射熱取得率設為70%以下。
再者,波長900~1800nm之平均反射率較佳為70%以上。若於波長900~1800nm拓寬反射頻帶,則阻斷約29%之太陽光,若僅針對波長900nm以上而言,則可作成能阻斷約99%之薄膜,進而可降低加日光輻射熱取得率。為了增大平均反射率,由於藉由將光學特性相異之2種以上樹脂之面內折射率之差增加則可實現,故在作成雙軸延伸薄膜時較佳係設為將由屬於結晶性之聚酯樹脂所構成之層、與由延伸時保持非晶性或於熱處理步驟中融解之低折射率之共聚合聚酯所構成之層交替積層的多層積層薄膜。進而為了增加平均反射率時,係使用增加層數之方法,但隨著薄膜厚度增加,由於薄膜軸剛性增加、及使操作性惡化,故必須設定為適當範圍。尤其是本發明中,係設計成藉由將後述積層單元1與積層單元2之比例改變,而使薄膜厚度儘量變薄。
本發明之薄膜較佳係具有:將以熱可塑性樹脂A為主成分之層(A層)與以熱可塑性樹脂B為主成分之層(B層)交替積層,並滿足以下(i)之積層單元1;及將以熱可塑性樹脂C為主成分之層(C層)與以熱可塑性樹脂D為主成分之層(D層)交替積層,並滿足以下(ii)之積層單元2。
(i)相鄰接之A層與B層之厚度比(A層厚度/B層厚度)為0.7以上且1.4以下。
(ii)相鄰接之3層中,在將3層中厚度最薄之層的厚度設為1時,其餘2層中一者之厚度為1.0以上且1.4以下,另一者之厚度為5以 上且9以下。
於此,較佳係熱可塑性樹脂A與熱可塑性樹脂C為相同樹脂,熱可塑性樹脂B與熱可塑性樹脂D為相同樹脂,亦可僅有熱可塑性樹脂A與C為相同,僅有熱可塑性樹脂B與D為相同。熱可塑性樹脂A必須具有與熱可塑性樹脂B相異之光學性質,熱可塑性樹脂C必須具有與熱可塑性樹脂D相異之光學性質。所謂相異之光學性質,係指在面內任意選擇之正交之2方向及由垂直該面之方法所選擇之方向的任一者中,折射率相異0.01以上。又,於此交替積層而成,係指由相異樹脂所構成之層於厚度方向上依規則配列進行積層,例如在由具有相異光學性質之2種聚酯樹脂A、聚酯樹脂B所構成的情況,若將各層表示為A層、B層,則如A(BA)n(n為自然數)般依規則配列進行積層。藉由如此使光學性質相異之樹脂交替積層,可藉由各層之折射率之差與層厚之關係使特定波長之光反射。又,所積層之層之總數越多、可涵蓋越廣之頻帶獲得高反射率。本發明之薄膜之總層數較佳為51層以上、更佳201層以上。上述干擾反射係層數越增加、可對越廣之波長頻帶之光達成高反射率,獲得具備高光學阻斷性能的薄膜。又,層數雖無上限,但由於隨著層數增加,發生製造裝置之大型化所伴隨的製造成本增加、或因薄膜厚度變厚而操作性惡化,故現實上分別以1000層以內為實用範圍。
於此,上述積層單元1(參照圖1)較佳係相鄰接之A層與B層之光學厚度同時滿足下述(1)(2)式。
[數2] λ/m=2(n A d A +n B d B ) (1)
[數3]n A d A =n B d B (2)
於此,λ為反射波長,nA為A層之面內折射率,dA為A層厚度,nB為B層之面內折射率,dB為B層厚度,m為次數且為自然數。藉由具有同時滿足(1)式與(2)式之層厚度分佈,可消除偶數次之反射。因此,可將波長900~1200nm範圍中之平均反射率提高、同時可將屬於可見光區域之波長400~800nm範圍中之平均反射率降低,可獲得透明且熱射線阻斷性能高之薄膜。一般將熱可塑性樹脂成形、延伸後之薄膜之折射率為約1.4~1.9,故藉由將相鄰接之A層與B層之厚度比(A層厚度/B層厚度)設為0.7以上且1.4以下,可獲得抑制了偶數次反射的薄膜。從而,較佳係將相鄰接之A層B層之厚度比(A層厚度/B層厚度)設為0.7以上且1.4以下。更佳0.8以上且1.2以下。
又,上述積層單元2較佳係在積層單元2中相鄰接之3層中,於將3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,其餘2層中一者之厚度為1.0以上且1.4以下,另一者之厚度為5以上且9以下。上述構成係以美國專利5360659號說明書記載之711構成為基本。此構成係對某層,形成光學性質相異、且厚度為約1/7之層所挾持的層,藉此可視為假性之1層,如此,不僅是2次反射,3次反射亦受到抑制的方法(參照圖2)。相鄰接之3層係在將3層中厚度最薄之層的厚度設為1時,較厚層較佳為5~9倍、更佳6~8倍,另一 層較佳為1.0~1.4倍、更佳1.0~1.2倍。藉由設為此種範圍,即使將反射頻帶設為1200nm以上,於可見光區域(波長400~800nm)中,仍可獲得解除了2次、3次反射的薄膜。作為此時之層厚度,如圖2般,由於將上起第1~3層視為C’層,將第4~6層視為D’層,故反射波長係適用改良了式(1)、(2)的下式(3)、(4)。
[數4]λ/m=2(n C d C'+n D d D') (3)
[數5]n C d C'=n D d D' (4)
在開發本發明之薄膜時,在欲藉由僅由積層單元1所構成之薄膜使波長900~1800nm範圍之波長反射時,由於在300nm~600nm附近發生3次(m=3)之反射,故在屬於可見光區域之400nm~600nm範圍發生干擾反射,有可見光線穿透率降低之情形。另一方面,本案發明人等經檢討僅由積層單元2所構成之薄膜後,在欲達成所需之反射頻帶(例如波長900~1800nm)、且與積層單元1相同程度之平均反射率時,相較於僅由積層單元1所構成之薄膜,於同程度薄膜厚度之下其平均反射率劣化。推定其原因在於積層單元2因薄膜而形成假性界面,故平均反射率未提升。從而,已知在構成僅由積層單元2所構成之薄膜時,需要較多層,故不僅裝置成本變高,薄膜厚度亦變厚,薄膜軸剛性增加以及操作性惡化。因此,本案發明人經潛心研究後,結果發現藉由將積層單元1與積層單元2依適當比率及條件組合,成功地將波長900~1400nm、或波長 900~1800nm之反射頻帶依高反射率反射,且使薄膜厚度減薄。再者,在單純地組合積層單元1與積層單元2時,判明了由於對後述狹縫板及狹縫所施加之樹脂壓力係於積層單元1與積層單元2相異,故有容易出現流痕之課題,或於寬方向之光學特性出現不均。關於此情況,本案發明人等經潛心研究後,結果發現,藉由依各狹縫板調整積層單元之厚度比、對狹縫板間插入中間厚膜層,成功發現最佳處方。
作為本發明薄膜之層構成,積層單元1較佳係設計成使波長1200nm以下之波長反射。如上述所示,若積層單元1欲反射1200nm以上之波長,則於可見光區域發生3次反射。另一方面,積層單元2雖可反射900nm以上之波長,但在積層單元1充分反射900~1200nm之光的情況,較佳係設計為選擇性地反射1200nm以上之光。於1200nm以下亦發生3次反射,但在欲涵蓋900~1800nm使其反射的情況,將造成層數增加。從而,積層單元2較佳係使1200nm以上之頻帶反射以彌補積層單元1之反射頻帶。在作成為上述反射頻帶時,由式(1)積層單元1之每1單元之厚度(相鄰之A層與B層之和)較佳係於250nm以上且400nm以下具有層厚度分佈,積層單元2之6層份之厚度(圖2中之dC’與dD’之和)較佳設為300nm以上且600nm以下。藉由設為此種區域,在使折射率為1.5~1.8之物質積層的情況可使波長900~1800nm之波長反射。
又,本發明之薄膜之積層單元1的總厚度d1較佳為5μm以上。若積層單元1之總厚度d1為5μm以上,可效率佳地反射波長900~1200nm之頻帶。更佳為10μm以上,但若過厚仍導致最終薄膜厚度增加、或於所需反射頻帶中反射率成為上限之 100%,故較佳為50μm以下。
又,本發明之薄膜之積層單元2的總厚度d2較佳為20μm以上。若積層單元2之總厚度d2為20μm以上,可使波長1200~1800nm之平均反射率成為50%以上,故於波長900~1800nm之範圍,平均反射率容易達成70%以上。更佳係20μm以上且50μm以下。
又,本發明之薄膜之總厚度較佳為100μm以下。若薄膜之總厚度超過100μm,則造成操作性惡化,尤其是亦造成玻璃施工業者等之作業負擔。又,由於捲起狀亦變得巨大,故搬送成本增大。
本發明之薄膜中之積層單元1、該積層單元2、或該積層單元1與該積層單元2之雙方,較佳係相鄰接之6層之層厚度之和相對於薄膜厚度方向具有連續之層厚度分佈。由式(1)或式(3)亦可得知,若相鄰之層之厚度為一定,則成為僅有單一波長之反射。又,較佳係連續具有分佈,例如亦可為使積層單元1與積層單元2交替般之層厚度分佈,但層厚度分佈呈連續者由於干擾反射變強,故造成反射率提升。因此,較佳係相對於厚度方向,連續具有某一定斜率的層厚度分佈。所謂連續,係指在設為A(BA)n的情況,n=10以上、更佳20以上。
又,該積層單元1、該積層單元2、或該積層單元1與該積層單元2之雙方,較佳係相鄰接之6層之層厚度的和包含薄膜某一表面起朝中央部緩緩變薄的區域。經本案發明人等重複研究後,結果得知,藉由層厚度分佈由至少一表面起變薄,則可見光區域之反射率降低。因此,藉由由至少一面起層厚度緩緩減少,在將 本發明之薄膜貼合至玻璃等、由外進行觀察時,外觀變佳。
作為更佳形態,較佳係包含由薄膜之兩面起朝中央緩緩變薄的區域。藉由如此,即使在如夾層玻璃化般自兩面觀看之外觀重要的場所由於光學性能變佳,故通用性高。
又,該積層單元1、該積層單元2、或該積層單元1與該積層單元2之雙面,亦較佳係含有相鄰接之6層之層厚度的和自薄膜之某一表面朝中央緩緩變薄的區域、與緩緩變厚之區域的兩者。藉由如此,即使隨著其波長之反射率增加,或一者(例如,緩緩變薄之區域)之層厚度混亂,由於可藉由另一者(例如緩緩變厚之區域)補完,故容易獲得所需之反射頻帶、及反射率。若進一步重複變厚之區域與變薄之區域,則反射率之增加、及反射頻帶之脫離變少,但若重複變多,由於造成薄膜厚度增加,故較佳係組合積層單元1與積層單元2,緩緩變薄之區域為2次,緩緩變厚之區域為2次以下。
又,本發明之薄膜較佳係具有厚1μm以上之層。特佳係於表層具有1μm以上之層。藉由具有層厚度為1μm以上之層,可於寬度方向上抑制積層厚度不均的發生,可使寬度方向之光學性能穩定。尤其在表層為1μm以上的情況,在與玻璃貼合時,可抑制與玻璃間之界面的干擾,抑制虹不均之發生。因此,本發明之薄膜較佳係於表層具有1μm以上、更佳2μm以上、最佳3μm以上之層。再者,較佳係薄膜之表層以外(內部)亦具有1μm以上之層。特佳係於積層單元1與積層單元2之間、或後述薄膜之製造階段中形成各狹縫板之端的層(相當於表層厚膜層、或中間厚膜層之部分)具有。積層單元1與積層單元2由於層厚度構成相異,故對各狹縫所施加 之樹脂壓相異。因此,尤其在積層單元1與積層單元2之境界容易發生層混亂。又,由於在薄膜製造階段中即使是狹縫板間亦受到剪切所造成之樹脂發熱影響,故容易發生積層不均。因此,較佳係於薄膜間、尤其是薄膜製造階段中與狹縫板間之境界的層為1μm以上、更佳2μm以上的層。作為中間厚膜層之作成方法的一例,較佳係如圖3記載般將由薄膜製造階段中之狹縫板1所排出之A層與由狹縫板2所排出之A層重疊為一層(圖3中,由狹縫板1排出之A(中間厚膜層)與由狹縫板2排出之A(中間厚膜層)重疊而形成1層之中間厚膜層)。
本發明之薄膜較佳係在使波長900~1400nm反射的情況,在將積層單元1之總厚度設為d1、將積層單元2之總厚度設為d2時,滿足下式(5)。
[數6]0.4≦d1/(d1+d2)<1 (5)
上式係表示積層單元1之總厚度(d1(μm))相對於積層單元1與積層單元2之總厚度之和(d1+d2(μm))為40%以上且未滿100%。由於積層單元1係依較少層數即具有較高之反射率,故較佳係涵蓋儘可能寬之範圍形成反射頻帶,但在所有層為積層單元1的情況,如上述般,在欲於波長900~1400nm範圍提高平均反射率的情況,於波長400~450nm發生高階反射。因此,較佳係依儘可能少之層數使波長900~1200nm範圍反射。另一方面,積層單元2雖然即使將所有單元均設為積層單元2仍不易發生高階反射,但反射率容易降低。因此,在依積層單元1與積層單元2使具有同程度之折射率差之樹脂積層的情況,為了儘可能較高地保持反射率、且使其 於可見光區域不發生高階反射,較佳係積層單元1之總厚度(d1(μm))於積層單元1與積層單元2之總厚度之和(d1+d2(μm))中所佔比例為40%以上、更佳50%以上,上限較佳為未滿100%、更佳為未滿60%。藉由設為此種範圍,可效率最佳地將波長900~1400nm範圍之波長反射,薄膜厚度亦可減薄。
又,本發明之薄膜較佳係在使波長900~1800nm反射的情況,在將積層單元1之總厚度設為d1、將積層單元2之總厚度設為d2時,滿足下式(6)。
[數7]0.01≦d1/(d1+d2)<0.4 (6)
上式係表示積層單元1之總厚度(d1(μm))相對於積層單元1與積層單元2之總厚度之和(d1+d2(μm))為1%以上且未滿40%。由於積層單元1係依較少層數即具有較高之反射率,故較佳係涵蓋儘可能寬之範圍形成反射頻帶,但在所有層為積層單元1的情況,如上述般,在欲於波長900~1800nm範圍提高平均反射率的情況,於波長400~600nm發生高階反射。因此,較佳係依儘可能少之層數使波長900~1200nm範圍反射。另一方面,積層單元2雖然即使將所有單元均設為積層單元2仍不易發生高階反射,但反射率容易降低。因此,在依積層單元1與積層單元2使具有同程度之折射率差之樹脂積層的情況,為了儘可能較高地保持反射率、且使其於可見光區域不發生高階反射,較佳係積層單元1之總厚度(d1(μm))於積層單元1與積層單元2之總厚度之和(d1+d2(μm))中所佔比例為1%以上、更佳10%以上,上限較佳為未滿40%。藉由設為此種範圍,可效率最佳地將波長900~1800nm範圍之波長反射,薄膜厚度 亦可減薄。
作為可使用於本發明之多層積層薄膜的熱可塑性樹脂,可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚(4-甲基戊烯-1)等聚烯烴;作為環烯烴有如降烯類之開環複分解聚合、加成聚合、與其他烯烴類之加成共聚合體的脂環族聚烯烴;聚乳酸、聚琥珀酸丁酯等之生分解性聚合物、尼龍6、尼龍11、尼龍12、尼龍66等之聚醯胺;芳醯胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚二氯亞乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯丁醛、伸乙基醋酸乙烯基共聚物、聚縮醛、聚乙二醇酸、聚苯乙烯、苯乙烯共聚合聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯;聚對苯二甲酸丙二醇、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚2,6-萘二甲酸乙二酯等之聚酯;聚醚碸、聚醚醚酮、改質聚伸苯基醚、聚苯硫、聚醚醯亞胺、聚醯亞胺、聚芳酯;四氟化乙烯樹脂、三氟化乙烯樹脂、三氟化氯化乙烯樹脂、四氟化乙烯-六氟化丙烯共聚合體、聚二氟亞乙烯等。此等之中,由強度、耐熱性、透明性的觀點而言,特佳為使用聚酯,作為聚酯較佳為使用芳香族二羧酸或脂肪族二羧酸與二醇或此等之衍生物而得的聚酯。於此,作為芳香族二羧酸,可舉例如對酞酸、異酞酸、酞酸、1,4-萘二羧酸、1,5-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、4,4’-二苯基二羧酸、4,4’-二苯基醚二羧酸、4,4’-二苯基碸二羧酸等。作為脂肪族二羧酸,可舉例如己二酸、辛二酸、癸二酸、二聚物、十二烷二酮酸、環己烷二羧酸與其等之酯衍生物等。其中較佳可舉例如對酞酸與2,6-萘二羧酸。此等酸成分可僅使用1種,亦可併用2種以上, 進而亦可將羥基苯甲酸等之含氧酸等部分共聚合。
又,作為二醇成分,可舉例如乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,2-環己烷二甲醇、1,3-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇、二乙二醇、三乙二醇、聚烷二醇、2,2-雙(4-羥基乙氧基苯基)丙烷、異山梨酸酸、螺二醇等。其中適合使用乙二醇。此等二醇成分可僅使用1種,亦可併用2種以上。
上述聚酯中,較佳係使用由聚對苯二甲酸乙二酯及其共聚合體、聚萘二甲酸乙二酯及其共聚合體、聚對苯二甲酸丁二酯及其共聚合體、聚萘二甲酸丁二酯及其共聚合體、進而聚對苯二甲酸六亞甲酯及其共聚合體以及聚萘二甲酸六亞甲酯及其共聚合體中選擇的聚酯。
尤其上述中,高折射率側之樹脂較佳係使用聚對苯二甲酸乙二酯系之樹脂。如此,由於容易造成與低折射樹脂間之折射率差,故可同時達成反射頻帶之增加與薄膜厚度之減少。
又,上述熱可塑性樹脂中亦可依不使其特性惡化之程度添加各種添加劑,例如抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐候穩定劑、紫外線吸收劑、有機系易滑劑、顏料、染料、有機或無機之微粒子、填充劑、抗靜電劑、核劑、良流動化劑等。
本發明之薄膜之該熱可塑性樹脂A及熱可塑性樹脂C之於未配向狀態下的折射率較佳為1.55~1.7,該熱可塑性樹脂B及熱可塑性樹脂D之於未配向狀態下的折射率較佳為1.5~1.65。所謂未配向狀態下之折射率,係指將積層薄膜之各個樹脂削取後,使其融解之樹脂的折射率。若熱可塑性樹脂A與熱可塑性樹脂C之於 未配向狀態下的折射率為1.55~1.7,則即使延伸後折射率仍容易變高。另一方面,若該熱可塑性樹脂B及熱可塑性樹脂D之於未配向狀態下的折射率為1.5~1.65、更佳1.55~1.6,則容易造成延伸後之熱可塑性樹脂A及熱可塑性樹脂C的折射率差。作為上述測定方法,係藉由在削取經延伸之薄膜後,暫時以高溫融解後,依各種測定方法測定折射率而可測定。
又,為了在使樹脂配向後造成相鄰接之層(亦即A層與B層、C層與D層)之折射率差,較佳係A層與C層所使用之樹脂為結晶性,且B層與D層所使用之樹脂為藉融點以上之熱處理而配向緩和、折射率變小的樹脂,或非晶性或非晶性熱可塑性樹脂與結晶性熱可塑性樹脂的混合物。此時,在薄膜之製造中的延伸、熱處理步驟中可進一步拓寬折射率差,容易具有反射率為30%以上的反射頻帶。
又,本發明之薄膜中,亦較佳係作成硬塗層接近薄膜之至少一面,ISO9050所規定之可見光線穿透率為70%以上、日光輻射熱取得率為50%以下的積層體。本發明之硬塗層,係指根據JIS K5600-5-4的鉛筆硬度為HB以上的層。藉由設置此種層,可作成在應用為遮熱構件時之耐切損性或可靠性優越的薄膜。又,硬塗層較佳係含有熱射線吸收劑。作為熱射線吸收劑,可例示鎢化合物、鑭化合物、銻化合物、銦化合物、錫化合物等,其中適合使用氧化鎢化合物。氧化鎢化合物不僅是於較波長1500nm更長波長頻帶、在波長700~1500nm之波長頻帶亦具有高熱射線吸收性能。另一方面,鑭化合物、銻化合物、銦化合物、錫化合物雖於較波長1500nm更長波長頻帶中具備高吸收性能,但另一方面,在波長700~1500nm 範圍內有其吸收性能不足的情形。尤其本發明之薄膜係具有波長900~1800nm之反射頻帶,但在波長1200nm以後由於藉積層單元2所構成,故反射率並不充分。因此,在本發明之薄膜中使用鑭化合物或銻化合物、銦化合物的情況,並無法充分遮蔽700~850nm及1200~1500nm之波長頻帶之光。另一方面,相較於鑭化合物或銻化合物、銦化合物、錫化合物,氧化鎢化合物於700~1500nm顯示較高遮熱性能,尤其是在本發明之薄膜中使用了氧化鎢化合物的情況,可將波長700nm以上之波長頻帶之光幾乎阻斷,可達成高遮熱性。因此,本發明之積層體之硬塗層中,鑭化合物、銻化合物、銦化合物、錫化合物之含量的和較佳為1質量%以下。更佳為0.1質量%以下、更佳0.01質量%以下。於此所謂氧化鎢化合物,係除了單純之鎢氧化物以外,亦包括含有鎢以外之金屬的氧化鎢。於此所謂鎢以外之金屬並無特別限定,適合使用例如銫氧化鎢、鉈氧化鎢、銦氧化鎢、鎂氧化鎢等。尤其本發明中,由紅外線之阻斷率高(熱射線吸收效率高);可見光線之吸收少或其光學特性之穩定性的觀點而言,較佳為銫氧化鎢。硬塗層中之氧化鎢化合物的含量,若後述波長400~800nm或波長900~1200nm之平均穿透率為較佳範圍則無特別限定,例如較佳係相對於硬塗層全體為1質量%以上且80質量%以下。若未滿1質量%,由於波長900~1200nm之穿透率降低,故必須使硬塗層過度加厚,由操作性或成本之觀點而言並不佳。另一方面,在含有多於80%質量的情況,難以藉由薄膜厚度控制而進行光穿透率之控制,有容易發生氧化鎢化合物(熱射線吸收劑)之脫落等的情形。較佳為10質量%以上且75質量%以下,更佳為20質量%以上且70質量%以下。
作為形成上述硬塗層之樹脂,係選自丙烯酸樹脂或胺基甲酸乙酯樹脂、聚酯樹脂或矽烷醇等,其種類並無特別限定,可依單體或組合使用此等。作為丙烯酸樹脂,較佳可例示甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸羥丙酯、丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸正己酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-乙基己基環氧丙基丙烯酸酯、甲基丙烯酸環氧丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯環氧丙基醚、甲基丙烯酸4-羥基丁酯環氧丙基醚、丙烯酸苯基環氧丙酯、環氧基丙烯酸酯、環氧基甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等。
又,若含有起始劑或硬化劑或觸媒則更加促進硬化,故較佳。作為起始劑,較佳係可使由陰離子、陽離子、自由基反應等所進行之聚合、縮合或交聯反應起始或促進者。起始劑、硬化劑及觸媒可使用各種。又,起始劑、硬化劑及觸媒可分別單獨使用,亦可將複數之起始劑、硬化劑及觸媒同時使用。再者,亦可併用酸性觸媒、熱聚合起始劑或光聚合起始劑,其中較佳為光聚合起始劑。作為酸性觸媒之例子,可舉例如鹽酸水溶液、甲酸、醋酸等。作為熱聚合起始劑之例子,可舉例如過氧化物、偶氮化合物。又,作為光聚合起始劑之例子,可舉例如烷基苯酮系化合物、含硫化系化合物、醯基氧化膦系化合物、胺系化合物等。作為光聚合起始劑,由硬化性的觀點而言,較佳為烷基苯酮系化合物。作為烷基苯酮系化合物之具體例,1-羥基-環己基-苯基-酮、2,2-二甲基基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲基硫基苯基)-2-二嗎啉基丙烷-1-酮、2- 苄基-2-二甲基胺基-1-(4-苯基)-1-丁烷、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-(4-苯基)-1-丁烷、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁烷、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁烷、1-羥基-苯基酮、2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-[4-(2-乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮等。
本發明之硬塗層的厚度並無特別限制,較佳為0.1μm以上且50μm以下。更佳30μm以下、再更佳10μm以下。在硬塗層之厚度未滿0.1μm的情況,有難以高精度地控制硬塗層之厚度的傾向,亦有遮熱性能發生偏差的情形。另一方面,在硬塗層之厚度大於50μm的情況,由於硬塗層相對於基材薄膜的厚度變大,故硬塗層對本發明薄膜之機械物性造成影響,而有不佳之情況。在硬塗層之厚度為0.1μm以上且50μm以下的情況,由於即使設置硬塗層仍容易高度控制層厚,故可抑制遮熱性能之偏差,且由於硬塗層相對於基材薄膜厚度為充分薄,故可抑制本發明積層體之物性發生變化等情形。
本發明之積層體較佳係僅於基材薄膜之一面設置硬塗層。本發明之積層體所使用之氧化鎢,雖然在850~1200nm之波長頻帶顯示高吸收性能,但通過硬塗層射入至基材薄膜的光,由於被硬塗層幾乎阻斷故未期待反射所造成之遮熱效果。於此,藉反射而被阻斷之光不致流入至遮熱構件之入射面之相反側,但藉吸收所阻斷之光係成為熱而部分流入,故相較於反射,有作為遮熱構件之性能降低的情形。因此,在使用為遮熱構件時,係構成為藉由在光所射入之面設置基材薄膜而提升反射所伴隨之遮熱效率,另一方面於光射出之面設置硬塗層而阻斷由基板薄膜所未能阻斷之光。若為 此種構成,可更有效率地抑制光、熱之流入,可作成具備高遮熱性能的遮熱構件。
又,本發明之積層體中,較佳係接近於基板薄膜之一面而具有硬塗層,於另一面積層黏著層而成。作為黏著層,適合使用丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、橡膠系黏著劑等。又,由於以貼黏於窗玻璃、曝露於太陽光下為前提,故黏著層中較佳係添加於波長200~400nm具有吸收頻帶之UV吸收劑,以抑制本發明薄膜因UV而造成的劣化。尚且,於此所謂黏著層,係指在常溫常濕下於玻璃上重疊放置具有該層之面後,予以剝離時之剝離力為0.1N/mm以上的層。
接著,針對本發明薄膜之較佳製造方法,以熱可塑性樹脂A與熱可塑性樹脂C為相同樹脂、熱可塑性樹脂B與熱可塑性樹脂D為相同樹脂的情況為例,以下說明使用了二種聚酯樹脂的例子。當然,本發明並不限定解釋於此例。又,本發明之薄膜之積層構造之形成本身,係參考日本專利特開2007-307893號公報之[0053]~[0063]段之記載則可實現。
聚酯樹脂係依顆粒等形態準備。顆粒係視需要於熱風中或真空中經乾燥後,供給至各別的擠出機。於擠出機內,依融點以上經加熱熔融之樹脂係藉由齒輪泵等使樹脂之擠出量均勻化,經由過濾器等去除異物或改質之樹脂等。此等樹脂係藉由模具成形為目標形狀後被吐出。然後,由模具所吐出之積層為多層的片材,係擠出至流延鼓等冷卻體上、冷卻固化,獲得流延薄膜。此時,較佳係使用線狀、帶狀、針狀或刀狀等之電極,藉由靜電力使其密黏至流延鼓等之冷卻體而予以急冷固化。又,由狹縫狀、點狀、面狀之 裝置吹出氣體使其密黏於流延鼓等冷卻體而予以急冷固化,或藉由咬送輥使其密黏於冷卻體而予以急冷固化的方法亦為較佳。
又,在製作由複數之聚酯樹脂所構成之積層薄膜的情況,係使用2台以上之擠出機將複數樹脂由相異流徑送出,送入至積層裝置。作為積層裝置,可使用多岐管模具或進料套管(feed block)或靜態混合器等,尤其是為了效率佳地獲得本發明構成,較佳係使用個別地含有至少2個以上具多數細微狹縫之構件的進料套管。若使用此種進料套管,由於裝置不致極端地大型化,故因熱劣化所造成之異物少,即使在積層數極端多的情況,仍可成為高精度之積層。又,相較於習知技術,寬度方向之積層精度亦格外提升。又,亦可形成任意厚度之構成。此裝置中,由於可藉由狹縫之形狀(長、寬)調整各層厚度,故可達成任意層厚。
將如此形成為所需層構成之熔融多層積層體導向模具,如同上述獲得流延薄膜。
如此所得之流延薄膜較佳係進行雙軸延伸。於此所謂雙軸延伸,係指於長度方向及寬度方向進行延伸。延伸可逐次於二方向進行延伸,亦可同時於二方向進行延伸。又,亦可於長度方向及/或寬度方向進行再延伸。
首先針對逐次二軸延伸之情況進行說明。於此,將長度方向之延伸稱為用於對薄膜賦予長度方向之分子配向的延伸,通常藉由輥之轉速差所施行,此延伸可依一階段進行,亦可使用複數根輥依多階段進行。作為延伸倍率係視樹脂種類而異,通常較佳為使用2~15倍、特佳2~7倍。又,作為延伸溫度,較佳係構成本發明積層薄膜之樹脂中玻璃轉移點最高之樹脂之玻璃轉移溫度~玻璃 轉移溫度+100℃的範圍。
對如此所得之經單軸延伸之薄膜,視需要施行電暈處理或火焰處理、電漿處理等表面處理後,亦可藉由線上塗佈賦予易滑性、易接黏性、抗靜電性等機能。
又,所謂寬度方向之延伸,係指用於對薄膜賦予寬度方向之分子配向的延伸,通常使用拉幅機,以夾具把持薄膜兩端並進行搬送,朝寬度方向延伸。作為延伸倍率係視樹脂種類而異,通常較佳為使用2~15倍、特佳2~7倍。又,作為延伸溫度,較佳係構成本發明積層薄膜之樹脂中玻璃轉移點最高之樹脂之玻璃轉移溫度~玻璃轉移溫度+120℃的範圍。
如此經雙軸延伸之薄膜,係為了賦予平面性、尺寸穩定性,較佳於拉幅機內依延伸溫度以上、融點Tm以下之溫度進行熱處理。藉由進行熱處理,提升薄膜之尺寸穩定性。如此熱處理後,予以均勻徐冷後,冷卻至室溫並捲取。又,視需要亦可於熱處理至徐冷時併用弛緩處理等。
接著說明同時雙軸延伸之情況。同時雙軸延伸之情況,係對所得流延薄膜,視需要施行電暈處理或火焰處理、電漿處理等之表面處理後,藉由線上塗佈賦予易滑性、易接黏性、抗靜電性等機能即可。
接著,將流延薄膜導入至同時雙軸拉幅機,以夾具把持薄膜兩端並搬送,於長度方向與寬度方向同時及/或階段性地進行延伸。作為同時雙軸延伸,有如集電器方式、螺桿方式、驅動馬達方式、線性馬達方式,較佳係可任意變更延伸倍率、可於任意場所進行弛緩處理的驅動馬達方式或線性馬達方式。作為延伸之倍率係 視樹脂種類而異,通常面積倍率較佳為6~50倍、特佳8~30倍。尤其在同時雙軸延伸的情況,為了抑制面內之配向差,較佳係將長度方向與寬度方向之延伸倍率設為相同,並使延伸速度幾乎相等。又,作為延伸溫度,較佳係構成本發明積層薄膜之樹脂之玻璃轉移溫度~玻璃轉移溫度+120℃的範圍。
如此經雙軸延伸之薄膜,係為了賦予平面性、尺寸穩定性,較佳係接著於拉幅機內進行延伸溫度以上、融點以下的熱處理。於此熱處理時,為了抑制寬度方向上之主配向軸的分佈,較佳係在即將進入熱處理區前及或剛進入後立即於長度方向上進行弛緩處理。如此熱處理後,均勻徐冷後,冷卻至室溫並捲取。
在熱可塑性樹脂A與熱可塑性樹脂C相異、熱可塑性樹脂B與熱可塑性樹脂D相異的情況,可藉由例如將依上述方法作成了熱可塑性樹脂A與熱可塑性樹脂B之積層薄膜與依上述方法作成了熱可塑性樹脂C與熱可塑性樹脂D之積層薄膜貼合而達成。又,可在使用2個積層裝置分別將2個樹脂作成積層熔融體後,使用多岐管模具等將2個積層熔融體重疊而達成。例如,亦可為於積層裝置1具有僅由積層單元1所構成之狹縫板,於積層裝置2具有僅由積層單元2所構成之狹縫板。此時,較佳係設計為由熱可塑性樹脂A與熱可塑性樹脂C重疊合。
較佳係於如此所得之基材薄膜之至少一面,設置硬塗層。
在基板薄膜之單面、或雙面形成硬塗層時,可舉例如將含有用於形成硬塗層之組成物、與視需要之溶媒的塗液,塗佈於基材薄膜之單面或雙面的手法。又,作為塗佈方法,可應用凹版塗 佈法、微凹版塗佈法、模塗法、反向塗佈法、刀塗法、棒塗法等公知之塗佈方法。
在將用於形成硬塗層之組成物塗佈至基材薄膜後,藉加熱使溶媒揮發。加熱方法係由加熱效率的觀點而言較佳為藉熱風進行,可應用公知之熱風乾燥機、或可進行輥搬送或浮動法等連續搬送的熱風爐等。於此之乾燥溫度,較佳為120℃以下、更佳100℃以下、再更佳80℃以下。
又,視情況亦可於加熱後進行光硬化、電子硬化。藉由併用光硬化性樹脂或電子硬化性樹脂,可依更短時間固定硬塗層,故提升生產性或膜之穩定性等性能。在進行光硬化、電子硬化的情況,由通用性的觀點而言,較佳為電子束(EB線)或紫外線(UV射線)。又,作為照射紫外線時所使用之紫外線燈的種類,可舉例如放電燈方式、閃光方式、雷射方式、無電極燈方法等。其中較佳係使用屬於放電燈方式之高壓水銀燈進行紫外線硬化。
本發明之積層體較佳係接近於基材薄膜之至少一面而具有硬塗層。所謂接近基材薄膜之至少一面而具有硬塗層,係指基材薄膜之至少一面與硬塗層之界面的距離為1μm以下。亦即,所謂接近基材薄膜之至少一面而具有硬塗層,係包含:於基材薄膜之至少一面直接設置硬塗層而成的態樣;或於基材薄膜之至少一面經由厚1μm以下之其他層設置硬塗層而成的態樣。本發明中,可舉例如為了於基材薄膜與硬塗層之間提升接黏性而設置接黏層的較佳態樣。
本發明之薄膜及積層體尤其可反射900~1800nm之熱射線,容易經由黏著劑等而貼附於玻璃,故可適合使用於建材用、 汽車用之熱射線反射薄膜、或戶外用之大型顯示器的保護薄膜等。
薄膜之層構成係針對使用薄片機切出剖面的樣本,藉由穿透型電子顯微鏡(TEM)觀察而求得。亦即,使用穿透型電子顯微鏡H-7100FA型(日立製作所(股)製),依加速電壓75Kv之條件對薄膜剖面放大10000~40000倍進行觀察,拍攝剖面照片,測定層構成及各層厚度。又,視情況為了獲得高對比,採用使用了公知之RuO4或OsO4等的染色技術。又,在1張影像中所拍攝到之所有層中包括厚度最薄之層(薄膜層)之厚度、薄膜層厚度未滿50nm的情況,係依10萬倍之放大倍率實施觀察;在薄膜層厚度為50nm以上且未滿500nm的情況,係依4萬倍之放大倍率實施觀察;在500nm以上的情況,係依1萬倍之放大倍率實施觀察。
對(1)項所得之TEM照片影像使用影像處理軟體Image-Pro Plus ver.4(販賣者Pranetron(股)),開啟其檔案進行影像解析。影像解析處理係依垂直厚度分析模式,將厚度方向位置與由寬度方向之2條線間所挾持之區域之平均亮度間的關係,讀取為數值數據。使用表計算軟體(Excel 2000),對位置(nm)與亮度之數據依採樣步驟2(Sampling step 2)(疏化2)進行數據採用後,施行5點移動平均之數值處理。進而對此所得之周期性亮度變化之數據進行微分,藉由VBA(Visual Basic for Applications)程式,讀取其微分曲線之極大值與極小值,以相鄰之亮度為極大之區域與極小之區域的間隔作為1 層之層厚而算出層厚度。對每張照片進行此操作,算出所有層之層厚度。
將切出為5cm×5cm之樣本依使用了日立製作所(股)製分光光譜儀(U-4100 Spectrophotomater)附屬之積分球的基本構成進行反射率測定。於反射率測定中,係以裝置附屬之氧化鋁之副白板為基準進行測定後,以樣本之長度方向為上下方向進行測定。測定條件:狹縫設為2nm(可見)/自動控制(紅外),放大設定為2,掃描速度設為600nm/分鐘而進行測定,得到方位角0度之反射率、穿透率。根據所得光譜,於1200~1800nm將每1nm之反射率平均化。又,針對連續地超過反射率30%、50%、70%之反射頻帶之寬,將最長者記載於表4、8。
又,使用反射率測定及穿透率測定之結果,使用ISO9050記載之計算方法,計算日光輻射熱取得率、可見光線反射率。又,ISO9050中係於太陽光能使用重價係數而計算,故嚴格而言可見光線區域內之反射率與可見光線反射率並不相同。
依JIS K7142(1966)A法進行測定。又,本發明薄膜之未配向狀態之折射率係在削取各層後,暫時加熱至融點以上後,依上述方法測定折射率。
切出所測定之薄膜,使用示差熱量分析(DSC)依照JIS K-7122(1987)年,使用精工電子工業(股)製示差掃描熱量測定裝置「Robot DSC-RDC220」,並於數據解析時使用DiscSession「SSC/5200」,由25℃至300℃依20℃/min進行升溫(第一升溫)並於此狀態保持5分鐘,接著急冷至成為25℃以下。接著,再者由室溫依20℃/min之升溫速度進行升溫至300℃(第二升溫)而進行測定。使用所得之示差操作熱量測定圖表(第二升溫曲線),求得融點Tm。又,在複數存在的情況,分別以溫度最高之值作為各個的值。
構成多層積層薄膜之材料的構造解析方法,手法並無特別限定,可例示以下方法。例如,首先藉由氣體層析質量分析(GC-MS)確認重量波峰。接著,藉由傅利葉轉換型紅外分光(FT-IR),確認有無來自所推定之構造所具有之各原子間之鍵結的波長。再者,藉由質子核磁共振分光(1H-NMR),確認來自構造式上之氫原子之位置的化學位移的位置與來自氫原子數個的質子吸收線面積。較佳係綜合此等結果總合性地進行判斷。
對長度方向之某地點,依A4尺寸進行採樣,依下述要領評分。
◎:完全未見到紋路
○:隨機採取之10片中,1~2片見到紋路
△:隨機採取之10片中,3片以上見到紋路
╳:於所有薄膜見到紋路
於寬度方向上涵括1m依100mm間隔測定分光時,由ISO9050所規定之日光輻射熱取得率、可見光線反射率之值,依相對誤差=(最大值-最小值)/平均值×100求得。
◎:日光輻射熱取得率、可見光線反射率之任一者均相對誤差為2%以內
○:日光輻射熱取得率、可見光線反射率之相對誤差中,較大之相對誤差為2%以上且未滿5%
△:日光輻射熱取得率、可見光線反射率之相對誤差中,較大之相對誤差為5%以上且未滿10%
╳:日光輻射熱取得率、可見光線反射率之相對誤差中,較大之相對誤差為10%以上
於薄膜面內,對折射率高之方向、及與其垂直正交之方向,分別作成寬1cm×10cm之短片各3片,使用BALDWIN(股)製TENSILON萬能試驗機(RTG-1210),測定薄膜之楊氏率。將此楊氏率平均,設為平均楊氏率×剖面積(厚度μm×1cm)÷長度(10cm),算出軸剛性。
於A4尺寸之薄膜之一面,層合巴川製紙所(股)製感壓黏著劑(PSA)片材後,一邊對曲面玻璃(R1000mm,210mm×247mm×3mm) 以熱風機吹抵溫風,進行對玻璃之貼合。將此玻璃靜置24小時後,進行觀察,將無氣泡、於玻璃邊緣附近無剝離者視為○,其以外者視為╳。
依照JIS K5600(1999年製定)進行測定。測定面設為硬塗面。在無硬塗面的情況係測定雙面,採用硬度較高者。
以下列舉實施例說明本發明,但本發明並不限定解釋於相關例。
使用固有黏度0.60、Tm=268℃之聚萘二甲酸乙二酯(PEN)作為熱可塑性樹脂A,使用使共聚合了環己烷二甲醇30mol%之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)樹脂與PET(東麗(股)製,IV0.65,Tg79℃、Tm255℃)依82:18之質量比混合者(表中表示為PETG系樹脂)作為熱可塑性樹脂B。又,未配向狀態下之折射率係PEN為1.65,PETG系樹脂為1.58。
所準備之熱可塑性樹脂A、B係分別藉由具通氣口之雙軸擠出機依300℃作成熔融狀態後,經由齒輪泵及過濾器,一邊依薄膜之去除了厚膜層之光學厚度之比成為A層/B層=0.9之方式進行計量,一邊使其於積層裝置1合流,作成具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了111層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜 層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了111層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數225層的積層薄膜。又,由於有將A層彼此重疊合而形成之層、及兩表層之厚膜層份,故2片之狹縫板之間隙數分別成為113個(參照圖4)。又,中間厚膜層用之層係依於作為最終薄膜中藉各狹縫板成為3.5、1.5μm之分配的方式插入中間厚膜層用之間隙,進而於兩表層依分別為7、3μm之厚膜層的方式插入間隙。又,積層裝置1係僅由積層單元1所構成,為了使於波長1800nm以下之反射頻帶、且波長900nm~1800nm以下之平均反射率成為70%以上,而使積層薄膜之層厚分佈形成為如圖5般。於積層裝置1合流後,導向T字模成形為片材狀後,藉由靜電施加於保持為表面溫度25℃之流延鼓上進行急冷固化,得到流延薄膜。
將所得流延薄膜以設定為135℃之輥群加熱後,於延伸區間長100mm之間,一邊由薄膜雙面藉由輻射加熱器進行急速加熱,一邊於縱方向延伸4.2倍,其後暫時冷卻。延伸時之薄膜溫度為135℃。接著,對此單軸延伸薄膜之雙面於空氣中施行電暈放電處理,將基板薄膜之濕潤強力設為55mN/m,對此處理面塗佈由(玻璃轉移溫度為18℃之聚酯樹脂)/(玻璃轉移溫度為82℃之聚酯樹脂)/平均粒徑100nm之二氧化矽粒子所構成的塗液,形成透明‧易滑‧易接黏層。
將此單軸延伸薄膜導向拉幅機,以135℃熱風預熱後,依140℃溫度於橫方向上依均勻延伸速度進行延伸4.0倍。經延伸之薄膜直接於拉幅機內以240℃熱風進行熱處理,接著依相同溫度於寬度方向施行3%之弛緩處理,其後,除冷至室溫後,予以 捲取。所得積層薄膜之厚度為約60μm。
所得積層薄膜係涵蓋430~600nm為反射率較高之區域,得到帶藍綠色之薄膜。另一方面,波長1200~1800nm之平均反射率、波長900~1800nm之平均反射率分別為78%、75%之非常高的結果。結果示於表1~4。
除了使用固有黏度0.60、Tm=268℃之PEN作為熱可塑性樹脂C,使用使共聚合了環己烷二甲醇30mol%之PET樹脂與聚對苯二甲酸乙二酯(東麗(股)製,IV0.65,Tg79℃、Tm255℃)依82:18之質量比混合者(表中表示為PETG系樹脂)作為熱可塑性樹脂D,將積層裝置變更為積層裝置2以外,其餘與比較例1同樣進行。積層裝置2係於兩表層分別具有7、3μm之厚膜層與中間厚膜層,進而積層單元2為僅由654層所構成之積層裝置,獲得具有(由熱可塑性樹脂C所構成之表層厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了327層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂C所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了327層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂C所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數657層的積層薄膜。又,於各狹縫板有327層之積層單元2之間隙(711構成之層厚度比為1:7:1),進而形成中間厚膜之層為於2片狹縫板分別有3μm、2μm,總合中間厚膜層成為5μm。總合層厚度為約60μm。積層裝置2之層厚度分佈示於圖5。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈,雖然透明性高,但波長 1200~1800nm之平均反射率、波長900~1800nm之平均反射率分別為67%、65%,較比較例1低。結果示於表1~4。
除了將使用實施例1之積層裝置2所得的熔融體,於面內分割為2個,於厚度方向上重疊,將由1313層(由於在厚膜層發生C層合流,故外觀上減少1層)所構成之熔融體導向T字模並作成片材狀以外,其餘與實施例1同樣進行。層厚度分佈係如圖6。
所得之積層薄膜係厚度為120μm。可知光學特性係相較於實施例1,於可見光反射率維持為較低狀態的狀態下,波長900~1800nm之平均反射率變高。然而,由於軸剛性為46N/m,故對曲率玻璃之貼合惡化。結果示於表1~4。
除了變更為積層裝置3以外其餘與實施例1同樣進行。積層裝置3之層厚度之構成,係以5μm之層作為表層厚膜層,積層單元1為149層,其後,形成中間厚膜層5μm後,積層單元2為297層,進而以5μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了149層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了297層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數449層的積層薄膜(總厚度60μm)。積層單元1之總厚度(d1)為23μm,積層單元2之總厚度(d2)為21μm,d1/(d1+d2)為0.52。此等 係依積層單元1與積層單元2設為狹縫板各1片。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為2μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為3μm,總計為5μm。又,積層裝置3中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為255~360nm,相鄰接之2層之厚度比為0.84~1.18,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為330~540nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.17或6.0~8.3。積層裝置之層厚度分佈示於圖7。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。又,波長1200~1800nm之平均反射率雖較實施例1低,但可提高波長900~1200nm之平均反射率,故波長900~1800nm之平均反射率較實施例1高,若為相同程度之厚度,則可獲得較實施例1更優越的遮熱性能(≒日光輻射熱取得率)。結果示於表1~4。
除了變更為積層裝置4以外其餘與實施例2同樣進行。積層裝置4之層厚度之構成,係以6μm之層作為表層厚膜層,積層單元1為149層,其後,形成中間厚膜層5μm後,積層單元2為357層,進而以4μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了149層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了357層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數 599層的積層薄膜(總厚度63μm)。積層單元1之總厚度(d1)為23μm,積層單元2之總厚度(d2)為25μm,d1/(d1+d2)為0.47。此等係依積層單元1與積層單元2設為狹縫板各1片。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為3μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為2μm,總計為5μm。又,積層裝置3中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~360nm,相鄰接之2層之厚度比為0.84~1.18,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為340~540nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.17或6.6~8.2。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。又,波長900~1800nm之平均反射率較實施例2高,波長1200~1800nm之平均反射率亦提升。結果示於表1~4。
除了變更為積層裝置5以外其餘與實施例2同樣進行。積層裝置5係追加一片與積層裝置2之狹縫板2相同構成之狹縫板,作成為共3片構成,總厚度之構成,係以6μm之層作為表層厚膜層,積層單元1為149層,其後,形成中間厚膜層5μm後,積層單元2為297層,以5μm之層作為中間厚膜層,進而積層單元2為297層,其後以5μm之層作為表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了149層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層 1)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了297層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂C所構成之中間厚膜層2)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了297層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂C所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數747層的積層薄膜(總厚度86μm)。積層單元1之總厚度(d1)為23μm,積層單元2之總厚度(d2)為43μm,d1/(d1+d2)為0.35。此等係依積層單元1設為狹縫板1片,積層單元2設為狹縫板2片,藉由各中間厚膜層予以分割。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,藉由中間厚膜層進行部份調整(例如,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為1.5μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為3.5μm,總計為5μm)。又,積層裝置5中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~360nm,相鄰接之2層之厚度比為0.84~1.18,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為340~540nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.17或6.6~8.2。積層裝置之層厚度分佈示於圖8。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。又,波長1200~1800nm之平均反射率較實施例3高,藉由提高積層單元2之比例,可獲得較實施例2高之反射率。又,於波長900~1800nm,亦得到較實施例3高之反射率,結果可獲得高遮熱性能。結果示於表1~4。
除了變更為積層裝置6以外其餘與實施例2同樣進行。積層裝置6係除了將實施例4之加入至狹縫板2及3的積層單元2層數分 別設為357層以外,其餘均相同。亦即,以7μm之層作為表層厚膜層,積層單元1為149層,其後,形成5μm之中間厚膜層1後,積層單元2為357層,形成5μm之中間厚膜層2,進而積層單元2為357層,其後以5μm之層作為表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了149層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層1)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了357層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂C所構成之中間厚膜層2)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了357層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂C所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數867層的積層薄膜(總厚度99μm)。積層單元1之總厚度(d1)為23μm,積層單元2之總厚度(d2)為55μm,d1/(d1+d2)為0.29。此等係積層單元1設為狹縫板1片,積層單元2設為狹縫板2片,藉由各中間厚膜層予以分割。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,藉由中間厚膜層進行調整(例如,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為3μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為2μm,總計為5μm)。又,積層裝置5中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~360nm,相鄰接之2層之厚度比為0.84~1.18,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為340~540nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.17或6.6~8.2。積層裝置之層厚度分佈示於圖9。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。又,波長900~1800nm之平均反射率較實施例1高,顯示優越的光學特性。結果示於表1~4。
除了變更為積層裝置7以外其餘與實施例2同樣進行。積層裝置7係除了設計為將實施例5之狹縫板之層配置由圖9構成變更為圖10般,於狹縫板2側反射波長1050~1400nm、於狹縫板3側反射波長1350~1800nm以外,其餘均相同。得到總積層數867層之積層薄膜(總厚度95μm)。積層單元1之總厚度(d1)為23μm,積層單元2之總厚度(d2)為52μm,d1/(d1+d2)為0.30。此等係積層單元1設為狹縫板1片,積層單元2設為狹縫板2片,藉由各中間厚膜層予以分割。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,藉由中間厚膜部分進行調整(例如,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為3μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為2μm,總計為5μm)。又,積層裝置5中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~360nm,相鄰接之2層之厚度比為0.84~1.18,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為340~540nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.17或6.6~8.2。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。又,1200~1800nm之反射率較實施例5高。結果示於表1~4。
除了變更為積層裝置8以外其餘與實施例2同樣進行。積層裝置8之層厚度之構成,係以2μm之層作為表層厚膜層,積層單元1 為149層,其後,形成5μm之中間厚膜層後,積層單元2為183層,進而以8μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了149層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了183層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數339層的積層薄膜(總厚度48μm)。積層單元1之總厚度(d1)為23μm,積層單元2之總厚度(d2)為10μm,d1/(d1+d2)為0.63。此等係依積層單元1與積層單元2設為狹縫板各1片。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為1μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為4μm,總計為5μm。又,積層裝置8中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~360nm,相鄰接之2層之厚度比為0.84~1.18,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為340~540nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.17或6.6~8.2。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。然而,可能由於711構成較少,雖然於1200~1800nm中存在成為反射頻帶30%以上之頻帶,但其反射率低,結果波長900~1800nm之平均反射率較實施例2低。結果示於表1~4。
除了變更為積層裝置9以外,其餘與實施例2同樣進行。積層 裝置9係僅使用積層裝置8之狹縫板1,使用作為新穎之積層裝置(僅積層單元1)。
所得積層薄膜係實施例7所存在之1200~1800nm之反射消失,結果900~1800nm之平均反射率變低。其結果,日光輻射熱取得率變高至72%。由以上結果,經由比較比較例3與實施例7,可得知藉由僅含有711構成,則日光輻射熱取得率提升。結果示於表1~4。
又,由於軸剛性低,薄膜本身變脆,操作性惡化,在貼合至曲面玻璃時,無法拉張、無法貼合。
除了變更為積層裝置10以外其餘與實施例2同樣進行。積層裝置9之層厚度之構成,係除了設為在積層裝置2之狹縫板1之表層厚膜層5μm後,僅加入積層單元1之46層的層構成以外,其餘均相同。又,積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為263~347nm,相鄰接之2層之厚度比為0.84~1.18,設計為反射波長900~1050nm,又,積層單元1係成為如實施例1之層厚度分佈,設計為反射波長900~1800nm。
所得積層薄膜係於可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。又,相較於實施例1,可知由於積層單元1融合至實施例1,波長900~1200nm之反射率變高,其結果波長900~1800nm之反射率增加,而日光輻射熱取得率變低。結果示於表1~4。
除了使用固有黏度0.60、Tm=247℃之共聚合了新戊二醇10莫耳%的PEN(以下稱為PEN/NPG(10))作為熱可塑性樹脂A及C,使用共聚合了環己烷二甲醇30mol%之PET樹脂(表中表示為PETG)作為熱可塑性樹脂B、D以外,其餘與實施例6同樣進行。尚且,未配向狀態之折射率係PEN為1.64,PETG系樹脂為1.56。
所得積層薄膜係因折射率差變大,而波長900~1200nm之反射率增大,日光輻射熱取得率亦增加。又,軸剛性亦為26N/m,故對玻璃之貼合性亦良好。結果示於表1~4。
除了使用於PEN/NPG添加了作為黏度調整劑之聚對苯二甲酸丁二酯系樹脂約5%的樹脂(表中表示為PEN/NPG+PBT系樹脂)作為熱可塑性樹脂A及C,使用使共聚合了螺二醇21mol%、環己烷二羧酸15mol%之PET與聚對苯二甲酸乙二酯(東麗(股)製,IV0.65,Tg79℃,Tm255℃)依85:15之比率混合的樹脂(表中表示為SPG系樹脂)作為熱可塑性樹脂B及D以外,其餘與實施例9同樣進行。PEN/NPG+PBT系樹脂於未配向狀態之折射率係為1.64,SPG系樹脂之折射率為1.55。
所得積層薄膜係因折射率差變大,而波長900~1200nm之反射率增大,日光輻射熱取得率亦增加。又,軸剛性亦為26N/m,故對玻璃之貼合性亦良好。結果示於表1~4。
除了使用IV=0.65之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)作為熱可塑性樹脂A及C,依PET之延伸條件進行製膜以外,其餘同樣進行。所謂PET條件之製膜,係依縱延伸溫度90℃、倍率3.3倍,橫延伸溫度110℃、橫倍率4.0倍,熱處理溫度240℃之條件進行。又,未配向狀態下之折射率係PET為1.60,SPG系樹脂為1.55。
所得積層薄膜由於折射率差較小,故反射率較實施例9、10劣化,但涵蓋900~1800nm均勻反射,對玻璃之貼合性亦良好。結果示於表1~4。
實施例12之後係除了設計成反射頻帶為900~1400nm,變更為積層裝置11以外其餘與實施例1同樣進行。使用積層裝置11所作成之薄膜係於兩表層為5μm之層,積層單元1為73層,其後,形成5μm之中間厚膜層後,積層單元2為219層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了73層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了219層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數295層的積層薄膜(總厚度40μm)。積層單元1之總厚度(d1)為11μm,積層單元2之總厚度(d2)為14μm,d1/(d1+d2)為0.44。此等係依積層單元1與積層單元2設為狹縫板各1片。又,依由各狹縫板所造成之厚度相配合的方式,設計成於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為4μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為1μm,總計為5μm。又,積層裝置11之層厚度分佈示於圖11。積 層裝置11中厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~350nm,相鄰接之2層之厚度比為0.89~1.11,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或6.2~7.9。
所得積層薄膜係具有900~1400nm之反射頻帶,幾乎無流痕,可見光區域之波長400~800nm的穿透率亦高、具透明性。由於反射頻帶窄、反射率亦低,故日光輻射熱取得率低,但由於薄膜本身較薄,對玻璃之貼合並無問題。結果示於表5~8。
除了變更為積層裝置12以外其餘與實施例12同樣進行。使用積層裝置12所作成之薄膜的層厚度的構成,係與使用積層裝置11者幾乎相同,但表層厚膜層為8μm之層,積層單元1為53層,其後,形成5μm之中間厚膜層後,積層單元2為255層,進而以2μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了53層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了255層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數311層的積層薄膜(總厚度40μm)。積層單元1之總厚度(d1)為8μm,積層單元2之總厚度(d2)為17μm,d1/(d1+d2)為0.32。又,依由各狹縫板所造成之厚度相配合的方式,設計成於積層單元1側成為A層之層為4μm,將於積層單元2側為1μm,總計為5μm。又,積層裝置12中厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為 260~350nm,相鄰接之2層之厚度比為0.89~1.11,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或6.2~7.8。
所得積層薄膜雖然發生若干流痕,但相較於實施例12,由於900~1200nm之反射率較低,故日光輻射熱取得率較低。結果示於表5~8。
除了變更為積層裝置13以外其餘與實施例12同樣進行。使用積層裝置13所作成之薄膜的層厚度的構成,係與使用積層裝置11者幾乎相同,但以8μm之層作為表層厚膜層,積層單元1為35層,其後,形成5μm之中間厚膜層後,積層單元2為297層,進而以2μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了35層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了297層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數335層的積層薄膜(總厚度40μm)。積層單元1之總厚度(d1)為5μm,積層單元2之總厚度(d2)為20μm,d1/(d1+d2)為0.20。此等係依積層單元1與積層單元2設為狹縫板各1片。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為4μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為1μm,總計為5μm。又,積層裝置5中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~350nm,相鄰接之2層之厚度比為0.89~1.11,積層單元2 之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或6.1~7.8。
所得積層薄膜雖然發生若干流痕,但由於在可見光區域之波長400~800nm的穿透率高,故為高透明性的薄膜。另一方面,由於波長900~1200nm之光之反射率變得相當低,故波長900~1400nm之平均反射率亦較比較例2惡化,日光輻射熱取得率惡化。結果示於表5~8。
除了變更為積層裝置14以外其餘與實施例12同樣進行。使用積層裝置14所作成之薄膜的層厚度的構成,係與使用積層裝置11者幾乎相同,但以2μm之層作為表層厚膜層,積層單元1為149層,其後,形成5μm之中間厚膜層後,積層單元2為45層,進而以8μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了149層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了45層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數197層的積層薄膜(總厚度40μm)。積層單元1之總厚度(d1)為22μm,積層單元2之總厚度(d2)為5μm,d1/(d1+d2)為0.88。此等係依積層單元1與積層單元2設為狹縫板各1片。又,依由各狹縫板所造成之厚度儘可能接近的方式,將於積層單元1側成為A層之中間厚膜設為4μm,將於積層單元2側成為A層之中間厚膜設為1μm,總計為5μm。又,積層裝置5中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接 之2層的厚度和為260~350nm,相鄰接之2層之厚度比為0.89~1.11,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或6.1~7.8。
所得積層薄膜雖然發生若干流痕,但在可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈。另一方面,由於波長900~1200nm之光之反射率變得相當大,故日光輻射熱取得率較實施例12良好。另一方面,由於波長1200~1400nm之反射率變得相當低,故波長1200~1800nm之平均反射率較低。結果示於表5~8。
除了變更為積層裝置15以外其餘與實施例12同樣進行。使用積層裝置15所作成之薄膜的層厚度的構成,係與使用積層裝置11者幾乎相同,但以6μm之層作為表層,積層單元1為99層,其後,形成5μm之中間厚膜層後,積層單元2為297層,進而以4μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了99層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了297層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數399層的積層薄膜(總厚度50μm)。積層單元1之總厚度(d1)為15μm,積層單元2之總厚度(d2)為20μm,d1/(d1+d2)為0.43。此等係依積層單元1與積層單元2設為狹縫板各1片。又,使用了積層裝置15時薄膜中 之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~350nm,相鄰接之2層之厚度比為0.89~1.11,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或6.1~8.0。
所得積層薄膜係與實施例12同樣地幾乎無流痕,在可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈,波長900~1800nm之反射率較實施例12高,日光輻射熱取得率亦較實施例12良好。結果示於表5~8。
除了變更為積層裝置16以外其餘與實施例12同樣進行。使用積層裝置16所作成之薄膜的層厚度的構成,係與使用積層裝置3者幾乎相同,但以8μm之層作為表層,積層單元1為149層,其後,形成5μm之中間厚膜層後,積層單元2為447層,進而以4μm之層作為積層單元2側之表層厚膜層,獲得具有(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)/(使A層與B層於厚度方向上交替積層了149層的積層單元1)/(由熱可塑性樹脂A所構成之中間厚膜層)/(使C層與D層於厚度方向上交替積層了447層的積層單元2)/(由熱可塑性樹脂A所構成之表層厚膜層)的層構成、總積層數599層的積層薄膜(總厚度68μm)。積層單元1之總厚度(d1)為22μm,積層單元2之總厚度(d2)為29μm,d1/(d1+d2)為0.43。又,積層裝置8中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~350nm,相鄰接之2層之厚度比為0.89~1.11,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm,在將鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設 為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或6.1~8.0。
所得積層薄膜係與實施例12同樣地幾乎無流痕,在可見光區域之波長400~800nm為幾乎無反射之平坦之反射率分佈,波長900~1800nm之反射率較實施例12高,日光輻射熱取得率亦較實施例13良好。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置15所作成之薄膜之積層單元2的層厚度比率變更為1:5:1,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或4.5~6以外,其餘與實施例16同樣進行(積層裝置17)。
所得積層薄膜係與實施例16同樣地無流痕,但在可見光區域之波長400~450nm中反射率提升。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置15所作成之薄膜之積層單元2的層厚度比率變更為1:6:1,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~1.2或5.3~7以外,其餘與實施例16同樣進行(積層裝置18)。
所得積層薄膜係與實施例16同樣地無流痕,但可見光區域之波長400~450nm中僅稍微變高,可確保充分之透明性。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置15所作成之薄膜之積層單元2的層厚度比率變更為1:8:1,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~2或7.0~9.3以外,其餘與實施例16同樣進行(積層裝置19)。
所得積層薄膜係與實施例16同樣地無流痕,但可見光區域之波長400~450nm中僅稍微變高,可確保充分之透明性。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置15所作成之薄膜之積層單元2的層厚度比率變更為1:9:1,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~2或7.9~10.5以外,其餘與實施例16同樣進行(積層裝置20)。
所得積層薄膜係與實施例16同樣地無流痕,但在可見光區域之波長400~450nm中反射率提升。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置15所作成之薄膜之積層單元2的層厚度比率變更為1:7:1.3,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~5或6.1~8.0以外,其餘與實施例16同樣進行(積層裝置21)。
所得積層薄膜係與實施例12同樣地無流痕,但可見光區域之波長400~450nm中僅稍微變高,可確保充分之透明性。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置15所作成之薄膜之積層單元2的層厚度比率變更為1:7:1.4,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度設為1~6或6.1~8.0以外,其餘與實施例16同樣進行(積層裝置22)。
所得積層薄膜係與實施例16同樣地無流痕,但在可見光區域之波長400~450nm中反射率提升。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置15所作成之薄膜之積層單元1的積層比(A/B)變更為0.65,積層單元1之鄰接之層之厚度設為0.65~1.55以外,其餘與實施例16同樣進行(積層裝置23)。
所得積層薄膜係與實施例12同樣地無流痕,但在可見光區域之波長400~450nm中變高,薄膜本身帶藍色。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之兩表層的厚度變更為0.5μm,將中間厚膜層於狹縫板1側設為8μm、於狹縫板2側設為1μm,而將中間厚膜層變更為9μm以外,其餘依與實施例17相同之條件進行(積層裝置24)。薄膜整體之厚度成為61μm。
所得積層薄膜係與實施例12同樣稍微發生流痕,並於寬度方向(薄膜之相對於長度方向的直角方向)的分光不均較大,推測積層精度惡化。薄膜中央之光學特性係與實施例3相同程度。 結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之中間厚膜層於各狹縫板設為0.5μm,而使中間厚膜層成為1μm,並依使由狹縫板1與狹縫板2所得厚度成為相同之方式,將積層單元1側之表層厚膜層變更為12μm、將積層單元2側之表層厚膜層變更為5μm以外,其餘依與實施例17相同之條件進行(積層裝置25)。薄膜整體之厚度成為69μm。
所得積層薄膜係與實施例17相異,顯著發生流痕。無法順利測定樣本物性。
因此,將樹脂之擠出溫度於PEN側調整為320℃,PETG系樹脂側調整為300℃,改變樹脂黏度,藉此調整為不易出現流痕。然而,由於合流部之樹脂間之熱移動變大,故積層精度變差,成為積層單元1之相鄰接之2層之厚度比為0.73~1.3,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度為1~1.5或5.0~10.5的積層薄膜。所得積層薄膜係呈可見光區域之反射率高的狀態。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之層厚度分佈的配置變更如圖12記載般之配置(使積層單元1由表層附近起、積層單元2由另一表層附近起彼此朝中央增厚)以外,其餘與實施例15同樣進行(積層裝置26)。積層單元1之相鄰接之2層之厚度比為 0.89~1.11,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度為1~1.2或6.1~8.0。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之層厚度分佈的配置變更如圖13記載般之配置(使實施例17之僅積層單元1隨著朝向中央而減少)以外,其餘與實施例15同樣進行(積層裝置27)。積層單元1之相鄰接之2層之厚度比為0.89~1.11,在將積層單元2之鄰接之3層中厚度最薄之層之厚度設為1時,剩餘2層之厚度為1~1.2或6.1~8.0。其結果,得到實施例16與實施例22與實施例23之光學性能幾乎不變的結果。可得知在積層單元1及積層單元2各自之層厚度分佈無凹凸的情況,其光學特性幾乎不變。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之層厚度分佈的配置變更如圖14記載般之配置(於實施例17之配置中使積層單元1成為朝下凸出般的配置)以外,其餘與實施例17同樣進行(積層裝置28)。積層裝置29中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~350nm,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之層厚度分佈的配置變更如圖15記載般之配置(於實施例24之配置中使積層單元1成為 朝上凸出)以外,其餘與實施例5同樣進行(積層裝置29)。積層裝置30中之厚膜層除外之、積層單元1之相鄰接之2層的厚度和為260~350nm,積層單元2之相鄰接之6層的厚度和為345~430nm。
其結果,相較於實施例22、23,實施例24、25係反射率稍微劣化,但波長400~450nm之反射率降低,成為更不易著色的薄膜。又,由於積層單元1成為2段構成,故成為於長度方向上亦反射缺漏較少的薄膜。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之層厚度分佈的配置變更如圖16記載般之配置(於實施例24之配置中進一步使積層單元2亦成為朝下凸出般的配置)以外,其餘與實施例17同樣進行(積層裝置30)。
相較於實施例23,其反射率稍微降低,但在紅外區域及可見光區域均充分滿足熱射線阻斷性能。又,對於寬度方向,分光特性亦成為不均最少者。結果示於表5~8。
除了將使用積層裝置16所作成之薄膜之層厚度分佈的配置變更如圖17記載般之配置以外,其餘與實施例17同樣進行(積層裝置31)。其中,由於狹縫板1與狹縫板2為左右對稱,故表層厚膜層(5μm)與中間厚膜層(於各狹縫板為2.5μm)設為相同厚度。
其結果,成為幾乎無流痕、亦幾乎無寬度方向之分光不均者。在熱射線阻斷性能方面,較實施例17稍微劣化,但由於 可使狹縫板間之厚度相同,故可使薄膜總合厚度成為最薄。結果示於表5~8。
於實施例12所作成之薄膜塗佈硬塗層。作為用於形成硬塗層之塗材,製得將DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯)與光起始劑(BASF JAPAN製IRGACURE(註冊商標)184)依重量比99:1混合者藉MEK(甲基乙基酮)調整為固形份濃度40%的塗劑A。將此塗劑A、與銫氧化鎢粒子Cs0.33WO3之固形份濃度18.5質量%的漿料依重量比2:7混合而作成硬塗層形成用之塗劑B。將此塗劑藉線棒塗佈器於基材薄膜之單面進行塗佈後,藉熱風爐以80℃乾燥2分鐘,以UV照射裝置照射紫外線300mJ/cm2使塗膜硬化而形成硬塗層,得到積層薄膜。所得硬塗層之厚度為3.3μm。
所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例13所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例14所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率 低。結果示於表9。
除了使用實施例15所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例16所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例18所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例19所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例22所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣 進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了將硬塗層之厚度設為2.5μm以外,其餘與實施例35同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了將硬塗層之厚度設為1.7μm以外,其餘與實施例35同樣進行。所得積層體係波長900~1400nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例4所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1800nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用實施例10所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長900~1800nm之光之反射率高,且穿透率低。結果示於表9。
除了使用比較例5所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長400~900nm之光之反射率高,若依可見光線穿透率成為70%之方式設置硬塗層,則日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了使用比較例6所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長400~900nm之光之反射率高,若依可見光線穿透率成為70%之方式設置硬塗層,則日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了使用比較例7所作成之薄膜以外,其餘與實施例28同樣進行。所得積層體係波長400~900nm之光之反射率高,若依可見光線穿透率成為70%之方式設置硬塗層,則日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了將硬塗層之厚度減薄以外,其餘與實施例36同樣進行。所得積層體係波長900~1200nm之光之穿透率低,日光輻射熱取得率變低。又,由於鉛筆硬度低故容易損傷,品質惡化。結果示於表10。
除了將設置硬塗層之塗劑A之固形份濃度設為1/3(塗劑A’)以外,其餘與實施例36同樣進行。所得積層體係波長900~1200nm之光之穿透率低,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了取代銫氧化鎢粒子而使用錫摻雜氧化銦(ITO)(塗劑B),依可見光線穿透率成為75%之方式設置硬塗層以外,其餘與實施例36同樣進行。所得積層體係波長900~1200nm之光之穿透率低,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了依可見光線穿透率成為70%之方式設置硬塗層以外,其餘與比較例14同樣進行。所得積層體係波長900~1200nm之光之穿透率低,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了取代銫氧化鎢粒子而使用銻摻雜氧化錫(ATO)(塗劑C),依可見光線穿透率成為75%之方式設置硬塗層以外,其餘與實施例36同樣進行。所得積層體係波長900~1200nm之光之穿透率低,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了依可見光線穿透率成為70%之方式設置硬塗層以外,其餘與比較例9同樣進行。所得積層體係波長900~1200nm之光之穿透 率低,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了使用聚對苯二甲酸乙二酯(東麗(股)製,IV0.65,Tg79℃,Tm255℃)作為熱可塑性樹脂A、B而製得單膜之基材薄膜以外,其餘與實施例36同樣進行。所得積層體係不反射波長900~1200nm之光,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了依可見光線穿透率成為75%之方式設置硬塗層以外,其餘與比較例18同樣進行。所得積層體係不反射波長900~1200nm之光,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
除了依可見光線穿透率成為80%之方式設置硬塗層以外,其餘與比較例18同樣進行。所得積層體係不反射波長900~1200nm之光,日光輻射熱取得率變低。結果示於表10。
本發明之積層薄膜係尤其透明性優越,且可涵蓋廣寬頻帶反射熱射線,故可使用於建材、汽車、液晶顯示器等各種用途,尤其可利用作為使特定波長之光反射的光學薄膜。又,亦可貼合至曲率高之玻璃。
Claims (20)
- 一種薄膜,係在由至少一面射入光時,在波長1200~1800nm之範圍中,具有至少1個反射率連續地依100nm以上之範圍成為30%以上之反射頻帶,且波長430~600nm之範圍的平均穿透率為70%以上,薄膜之主配向軸方向及與其正交之方向的軸剛性的平均值為10N/m以上且45N/m以下。
- 如請求項1之薄膜,其中,在由至少一面射入光時,波長400~800nm之範圍之平均穿透率為80%以上。
- 如請求項1或2之薄膜,其中,具有:使以熱可塑性樹脂A為主成分之層(A層)與以熱可塑性樹脂B為主成分之層(B層)交替積層,並滿足以下(i)的積層單元1;與使以熱可塑性樹脂C為主成分之層(C層)與以熱可塑性樹脂D為主成分之層(D層)交替積層,並滿足以下(ii)的積層單元2;(i)相鄰接之A層與B層之厚度比(A層厚度/B層厚度)為0.7以上且1.4以下;(ii)相鄰接之3層中,在將3層中厚度最薄之層的厚度設為1時,其餘2層中一者之厚度為1.0以上且1.4以下,另一者之厚度為5以上且9以下。
- 如請求項3之薄膜,其中,上述積層單元1之總層厚度d1為5μm以上。
- 如請求項3或4之薄膜,其中,上述積層單元2之總層厚度d2為20μm以上。
- 如請求項3至5中任一項之薄膜,其中,上述熱可塑性樹脂A 及C為結晶性樹脂,上述熱可塑性樹脂B及D為非晶性樹脂。
- 如請求項3至6中任一項之薄膜,其中,該積層單元1、該積層單元2、該積層單元1與該積層單元2之兩者,係連續6層之層厚度之和相對於薄膜厚度方向具有層厚度分佈。
- 如請求項3至7中任一項之薄膜,其中,包含:該積層單元1之相鄰接之6層之層厚度的和為由一表面朝中央部緩緩變薄的區域。
- 如請求項3至8中任一項之薄膜,其中,包含:該積層單元2之相鄰接之6層之層厚度的和為由一表面朝中央部緩緩變薄的區域。
- 如請求項3至9中任一項之薄膜,其中,包含:該積層單元1之相鄰接之6層之層厚度的和為由一表面朝中央部緩緩變薄的區域;且包含:該積層單元2之相鄰接之6層之層厚度的和為由另一表面朝中央部緩緩變薄的區域。
- 如請求項3至10中任一項之薄膜,其中,具有1層之厚度為1μm以上的層。
- 如請求項3至11中任一項之薄膜,其中,上述積層單元1之總層厚度d1(μm)與上述積層單元2之總層厚度d2(μm)滿足下式(1)或式(2);0.4≦d1/(d1+d2)<1 式(1) 0.01≦d1/(d1+d2)<0.4 式(2)。
- 如請求項1至12中任一項之薄膜,其中,薄膜厚度為100μm以下。
- 如請求項1至13中任一項之薄膜,其中,在由至少一面射入光時,在波長900~1400nm之範圍的平均反射率為70%以上。
- 如請求項1至14中任一項之薄膜,其中,在由至少一面射入光時,在波長900~1800nm之範圍的平均反射率為70%以上。
- 一種積層體,係接近請求項1至15中任一項之薄膜之至少一面而具有硬塗層者,其中,上述積層體之ISO9050所規定的可見光線穿透率為70%以上,日光輻射熱取得率為50%以下。
- 如請求項16之積層體,其中,上述硬塗層係含有熱射線吸收劑。
- 如請求項17之積層體,其中,上述熱射線吸收劑係含有氧化鎢成分。
- 一種積層體,係接近請求項1至15中任一項之薄膜之至少一面而具有硬塗層,並於另一面積層黏著層而成者。
- 如請求項16至19中任一項之積層體,其中,上述硬塗層之厚度為0.1μm以上且50μm以下。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016-139956 | 2016-07-15 | ||
JP2016139956 | 2016-07-15 | ||
JP2016237298 | 2016-12-07 | ||
JP2016-237298 | 2016-12-07 | ||
JP2017019243 | 2017-02-06 | ||
JP2017-019243 | 2017-02-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201823008A true TW201823008A (zh) | 2018-07-01 |
TWI733848B TWI733848B (zh) | 2021-07-21 |
Family
ID=60951737
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW106122533A TWI733848B (zh) | 2016-07-15 | 2017-07-05 | 薄膜及積層體 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11360251B2 (zh) |
EP (1) | EP3486697B1 (zh) |
JP (1) | JP7006270B2 (zh) |
KR (1) | KR102301855B1 (zh) |
CN (1) | CN109416422B (zh) |
TW (1) | TWI733848B (zh) |
WO (1) | WO2018012252A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US12117641B2 (en) * | 2019-03-26 | 2024-10-15 | Toray Industries, Inc. | Laminated body and manufacturing method thereof, light guide plate unit, light source unit, display device, projection image display member, projection image display device, and display screen filter |
JP7516426B2 (ja) | 2019-05-23 | 2024-07-16 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多層光学フィルム |
CN110456348B (zh) * | 2019-08-19 | 2020-08-25 | 中国石油大学(华东) | 多视向sar海浪谱数据融合的海浪截断波长补偿方法 |
CN115574485A (zh) * | 2019-10-31 | 2023-01-06 | 高丽大学校产学协力团 | 辐射冷却元件及其制作方法 |
WO2024014417A1 (ja) * | 2022-07-13 | 2024-01-18 | Agc株式会社 | 熱線反射基板及びその製造方法、並びに窓ガラス |
WO2024079723A1 (en) * | 2022-10-14 | 2024-04-18 | Red Sea Farms Ltd | A structure for facilitating spectrally selective transformation of light waves |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5360659A (en) * | 1993-05-24 | 1994-11-01 | The Dow Chemical Company | Two component infrared reflecting film |
JP3901911B2 (ja) | 2000-04-28 | 2007-04-04 | 帝人株式会社 | 透明積層フィルム |
WO2002074532A1 (fr) * | 2001-03-15 | 2002-09-26 | Mitsui Chemicals Inc. | Corps lamine et dispositif d'affichage utilisant ce corps lamine |
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US7494702B2 (en) | 2003-10-27 | 2009-02-24 | Teijin Dupont Films Japan Limited | Near-infrared ray shielding film |
JP4730301B2 (ja) | 2004-03-31 | 2011-07-20 | 東レ株式会社 | 積層フィルム |
KR101185613B1 (ko) * | 2004-04-27 | 2012-09-24 | 더 보오드 오브 트러스티스 오브 더 유니버시티 오브 일리노이즈 | 소프트 리소그래피용 복합 패터닝 장치 |
JP5242883B2 (ja) * | 2005-01-20 | 2013-07-24 | リンテック株式会社 | 反射防止フィルム |
JP2007307893A (ja) | 2006-04-20 | 2007-11-29 | Toray Ind Inc | マット調フィルムおよび成形品 |
JP2009042578A (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-26 | Andes Denki Kk | 光制御多層膜構造体および調光構造体 |
CN101896339B (zh) * | 2007-10-25 | 2013-05-15 | 大科能树脂有限公司 | 红外反射性层合体 |
JP5264331B2 (ja) | 2008-07-08 | 2013-08-14 | 株式会社ブリヂストン | 機能性フィルム |
JP2012013822A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 光反射性フィルムの製造方法、及び光反射性フィルム |
US9405048B2 (en) * | 2011-06-17 | 2016-08-02 | Teijin Limited | Reflective polarizing film, and optical member for liquid crystal display device, and liquid crystal display device formed from same |
CN104066580B (zh) * | 2011-11-29 | 2016-01-13 | 帝人杜邦薄膜日本有限公司 | 双轴拉伸层叠聚酯膜、包含其的夹层玻璃用红外线屏蔽结构体以及包含它们的夹层玻璃 |
WO2014010532A1 (ja) * | 2012-07-10 | 2014-01-16 | コニカミノルタ株式会社 | 誘電多層膜構造を有する赤外遮蔽フィルム |
US20150177433A1 (en) * | 2012-07-13 | 2015-06-25 | Konica Minolta, Inc. | Infrared shielding film |
WO2014021406A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 積水化学工業株式会社 | 合わせガラス及び合わせガラスの取り付け方法 |
JPWO2014024873A1 (ja) * | 2012-08-06 | 2016-07-25 | コニカミノルタ株式会社 | 光反射フィルムおよびこれを用いた光反射体 |
JP6139266B2 (ja) | 2013-05-27 | 2017-05-31 | 帝人フィルムソリューション株式会社 | 二軸延伸積層ポリエステルフィルム |
JP2014231467A (ja) * | 2013-05-30 | 2014-12-11 | 日本化薬株式会社 | 赤外線反射フィルムおよびこれを用いた合わせガラス |
CN106470837B (zh) * | 2014-07-08 | 2019-09-20 | 柯尼卡美能达株式会社 | 光学膜 |
-
2017
- 2017-06-23 CN CN201780042145.XA patent/CN109416422B/zh active Active
- 2017-06-23 KR KR1020187032421A patent/KR102301855B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-23 EP EP17827382.7A patent/EP3486697B1/en active Active
- 2017-06-23 JP JP2017534747A patent/JP7006270B2/ja active Active
- 2017-06-23 US US16/316,106 patent/US11360251B2/en active Active
- 2017-06-23 WO PCT/JP2017/023202 patent/WO2018012252A1/ja unknown
- 2017-07-05 TW TW106122533A patent/TWI733848B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102301855B1 (ko) | 2021-09-14 |
KR20190027776A (ko) | 2019-03-15 |
EP3486697B1 (en) | 2021-04-07 |
US11360251B2 (en) | 2022-06-14 |
CN109416422B (zh) | 2021-08-13 |
EP3486697A1 (en) | 2019-05-22 |
WO2018012252A1 (ja) | 2018-01-18 |
EP3486697A4 (en) | 2020-04-08 |
CN109416422A (zh) | 2019-03-01 |
TWI733848B (zh) | 2021-07-21 |
US20210278578A1 (en) | 2021-09-09 |
JP7006270B2 (ja) | 2022-02-10 |
JPWO2018012252A1 (ja) | 2019-04-25 |
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