JP2009042578A - 光制御多層膜構造体および調光構造体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光制御多層膜構造体10は、一対の透明基板1、1の対向面の一方に紫外線吸収層3と透明電極層2とが積層配置し、もう一方の対向面に透明電極層2のみを配置した構造を有し、これらの間にエレクトロクロミック層6が設けられている。エレクトロクロミック層6は、可逆的に発色または消色することができる発色層4と、電解質層5との積層構造とする。
【選択図】 図1
Description
(2) 前記紫外線吸収層が無機酸化物からなることを特徴とする、(1)に記載の光制御多層膜構造体。
(3) 前記無機酸化物が、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、または酸化鉄のいずれかであることを特徴とする、(2)に記載の光制御多層膜構造体。
(4) 前記エレクトロクロミック層は、可逆的に発色または消色することができる発色層と電解質層とが積層構造をなすものであることを特徴とする、(1)ないし(3)のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
(6) 前記発色層が、無機酸化物か、または該無機酸化物の多孔質体に有機エレクトロクロミック色素を吸着させた構造体からなることを特徴とする、(4)または(5)に記載の光制御多層膜構造体。
(7) 前記発色層に係る無機酸化物が、酸化タングステン、プルシアンブルー、酸化ニッケル、または酸化イリジウムのいずれかであることを特徴とする、(6)に記載の光制御多層膜構造体。
(8) 前記電解質層が電解質溶液、ゲル状電解質、または固体電解質のいずれかであることを特徴とする、(1)ないし(7)のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
(10) 前記透明電極層、紫外線吸収層、発色層または電解質層はいずれも、化学的成膜手法もしくは物理的成膜手法のいずれか一つの手法、または各手法を組み合わせることにより形成されることを特徴とする、(1)ないし(9)のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
(11) 前記透明基板がガラス、樹脂フィルム、または樹脂シートであることを特徴とする、(1)ないし(10)のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
(12) (1)ないし(11)のいずれか1項に記載の光制御多層膜構造体を用いた、調光構造体。
(13) 一対の透明基板の対向面の一方に紫外線吸収層と透明電極層とが積層配置され、もう一方の対向面には透明電極層が配置された構造を有し、これらの間にエレクトロクロミック層が設けられている光制御多層膜構造体を製造する方法であって、該方法は、一の透明基板の一面上に透明電極層と、および少なくともエレクトロクロミック層を構成するための発色層とが形成されてなる第一構造部と、他の透明基板の一面上に紫外線吸収層および透明電極層が形成されてなる第二構造部とを、双方の層形成面を対向させて接着することによって貼り合わせる工程を備えることを特徴とする、光制御多層膜構造体製造方法。
(14) 一方の透明基板上に透明電極層を形成し、その上に発色層および電解質層からなるエレクトロクロミック層を形成して第一構造部とし、他の透明基板上に紫外線吸収層を形成し、その上に透明電極層を形成して第二構造部とし、該第一構造部と該第二構造部を、該エレクトロクロミック層および該紫外線吸収層を対向させて接着することによって貼り合わせて光制御多層膜構造体とすることを特徴とする、(13)に記載の光制御多層膜構造体製造方法。
(15) 一方の透明基板上に透明電極層を形成し、その上に発色層を形成して第一構造部とし、他の透明基板上に紫外線吸収層を形成し、その上に透明電極層を形成して第二構造部とし、該第一構造部と該第二構造部を貼り合わせ、該第一構造部の発色層と該第二構造部との間に電解液を注入することによってエレクトロクロミック層を形成することを特徴とする、(13)に記載の光制御多層膜構造体製造方法。
図1は、本発明の光制御多層膜構造体の断面構成を示す概念図である。また、
図2は、本発明の光制御多層膜構造体の断面構成および作用を示す概念図である。これらに図示するように本光制御多層膜構造体10は、一対の透明基板1、1の対向面の一方に紫外線吸収層3(以下、「紫外光吸収層」ともいう。)と透明電極層2とが積層配置し、もう一方の対向面に透明電極層2のみを配置した構造を有し、これらの間に、可視〜赤外光の反射・透過を制御して可逆的な発色または消色の可能なエレクトロクロミック層6が設けられていることを、主たる構成とする。
図3は、本発明光制御多層膜構造体の作製方法の一例を示すフロー図である。図にしたがい、光制御多層膜構造体の作製方法例を説明する。
<1 エレクトロクロミック層(基板A)>
1−1 透明電極層の形成(工程P1)
厚さ0.7mmのガラス基板(A)1上にスパッタリング法により厚さ1μm以下のITO薄膜を形成し、透明電極層2とする。なお透明電極層2は、スパッタリング法のみならず、ゾルゲル法、CVD法等の化学的成膜法を用いて形成することもできる。
前工程P1で形成した透明電極層2上に、発色層4となる酸化タングステン薄膜を形成する。酸化タングステン薄膜の形成方法は次の通りである。まず、金属タングステン粉末0.2gと過酸化水素水2gを混合し、その後、加熱攪拌、濃縮する。濃縮した溶液をIPAと混合し、原料溶液とする。この原料溶液を透明電極層(以下、「透明導電膜」ともいう。)2上にスピンコーターにて塗布し、250℃で5分間乾燥し、成膜する。なお、発色層4は、スパッタリング等の物理的成膜法を用いて作製することもできる。
前工程P2で形成した発色層4上に、電解液としてLiClO4溶液を滴下し、塗布して、電解質層5とする。これにより、エレクトロクロミック層6が形成される。なお電解質層は、ゲル状からなる半固体電解質や固体電解質でも代替可能である。
2−1 紫外線吸収層(工程P4)
厚さ0.7mmのガラス基板(B)1上に、紫外線吸収層となる酸化チタン薄膜を形成する。まず酸化チタンスラリー溶液の調製は、95〜100℃の温水500gに、チタンテトライソプロポキシド100gを滴下し、30min加熱攪拌することにより行う。調製した酸化チタンスラリーをガラス基板(B)1上に塗布し、150℃で30分間乾燥し、成膜して、紫外線吸収層3とする。なお紫外線吸収層は、スパッタリング等の物理的成膜法を用いて作製することもできる。また紫外線吸収層の材料は、酸化亜鉛、酸化鉄等で代替可能である。
前工程P4で形成した紫外線吸収層3上に、スパッタリング法により厚さ1μm以下のITO薄膜を形成して、透明電極層2とする。透明電極層は、スパッタリング法のみならず、ゾルゲル法、CVD法等の化学的成膜法を用いても作製することができる。
上記方法により作製したエレクトロクロミック層6の形成されたエレクトロクロミック層部、および紫外線吸収層3の形成された紫外線吸収層部とを、エレクトロクロミック層6と紫外線吸収層3を対向させて接着することによって互いに貼り合わせ、多層膜構造体10とする。
2…透明電極層
3…紫外線吸収層
4…発色層
5…電解質層
6…エレクトロクロミック層
10…光制御多層膜構造体
P1…透明電極層形成工程
P2…発色層形成工程
P3…電解質層形成工程
P4…紫外線吸収層形成工程
P5…透明電極層形成工程
P6…貼り合せ工程
Claims (15)
- 一対の透明基板の対向面の一方に紫外線吸収層と透明電極層とが積層配置され、もう一方の対向面には透明電極層が配置された構造を有し、これらの間にエレクトロクロミック層が設けられていることを特徴とする、光制御多層膜構造体。
- 前記紫外線吸収層が無機酸化物からなることを特徴とする、請求項1に記載の光制御多層膜構造体。
- 前記無機酸化物が、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、または酸化鉄のいずれかであることを特徴とする、請求項2に記載の光制御多層膜構造体。
- 前記エレクトロクロミック層は、可逆的に発色または消色することができる発色層と電解質層とが積層構造をなすものであることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
- 前記エレクトロクロミック層は、前記発色層と前記電解質層とが混合された構造をなすことを特徴とする、請求項1ないし3のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
- 前記発色層が、無機酸化物か、または該無機酸化物の多孔質体に有機エレクトロクロミック色素を吸着させた構造体からなることを特徴とする、請求項4または5に記載の光制御多層膜構造体。
- 前記発色層に係る無機酸化物が、酸化タングステン、プルシアンブルー、酸化ニッケル、または酸化イリジウムのいずれかであることを特徴とする、請求項6に記載の光制御多層膜構造体。
- 前記電解質層が電解質溶液、ゲル状電解質、または固体電解質のいずれかであることを特徴とする、請求項1ないし7のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
- 前記透明電極層が酸化インジウムスズ、酸化スズ、酸化亜鉛、または導電性高分子材料のいずれかであることを特徴とする、請求項1ないし8のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
- 前記透明電極層、紫外線吸収層、発色層または電解質層はいずれも、化学的成膜手法もしくは物理的成膜手法のいずれか一つの手法、または各手法を組み合わせることにより形成されることを特徴とする、請求項1ないし9のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
- 前記透明基板がガラス、樹脂フィルム、または樹脂シートであることを特徴とする、請求項1ないし10のいずれかに記載の光制御多層膜構造体。
- 請求項1ないし11のいずれか1項に記載の光制御多層膜構造体を用いた、調光構造体。
- 一対の透明基板の対向面の一方に紫外線吸収層と透明電極層とが積層配置され、もう一方の対向面には透明電極層が配置された構造を有し、これらの間にエレクトロクロミック層が設けられている光制御多層膜構造体を製造する方法であって、該方法は、一の透明基板の一面上に透明電極層と、および少なくともエレクトロクロミック層を構成するための発色層とが形成されてなる第一構造部と、他の透明基板の一面上に紫外線吸収層および透明電極層が形成されてなる第二構造部とを、双方の層形成面を対向させて接着することによって貼り合わせる工程を備えることを特徴とする、光制御多層膜構造体製造方法。
- 一方の透明基板上に透明電極層を形成し、その上に発色層および電解質層からなるエレクトロクロミック層を形成して第一構造部とし、他の透明基板上に紫外線吸収層を形成し、その上に透明電極層を形成して第二構造部とし、該第一構造部と該第二構造部を、該エレクトロクロミック層および該紫外線吸収層を対向させて接着することによって貼り合わせて光制御多層膜構造体とすることを特徴とする、請求項13に記載の光制御多層膜構造体製造方法。
- 一方の透明基板上に透明電極層を形成し、その上に発色層を形成して第一構造部とし、他の透明基板上に紫外線吸収層を形成し、その上に透明電極層を形成して第二構造部とし、該第一構造部と該第二構造部を貼り合わせ、該第一構造部の発色層と該第二構造部との間に電解液を注入することによってエレクトロクロミック層を形成することを特徴とする、請求項13に記載の光制御多層膜構造体製造方法。
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