TW201816309A - 密封體、密封配接器及密封構件 - Google Patents

Abstract

本發明申請案係揭示一種防止流體在裝置之外側之外部空間與裝置之內側之內部空間之間流通的密封體。密封體具備：密封構件，其具有壓接於裝置之表面之密封部；及防止部，其防止在內部空間產生之異物侵入密封部與裝置之表面之間。

Description

密封體、密封配接器及密封構件

本發明係關於一種用於防止收容於裝置內之流體之流出或流體朝裝置內之流入的密封技術。

密封構件被利用於各種技術領域。例如，為了防止被封入裝置之內部之油之漏出而使用密封構件。或者，為了防止液體朝裝置之內部之流入而使用密封構件(日本實開昭62-100374號公報)。 日本實開昭62-100374號公報之密封構件具有抵接於旋轉軸之外周面之2個部位。2個部位中之一個係主唇。2個部位中另一個係防塵唇。由於防塵唇較主唇更靠外側，且抵接於旋轉軸之外周面，故在裝置之外側懸浮之異物(例如，塵埃)不易到達至主唇。 在使用裝置之期間，有自配置於裝置之內部之零件產生細微之異物之情形。例如，自配置於裝置之內部之齒輪之齒面產生鐵粉。日本實開昭62-100374號公報之防塵唇對在裝置之內部產生之異物到達至主唇起不到防止作用。因此，有在裝置之內部產生之異物侵入主唇與旋轉軸之間之邊界之情形。該情形下，異物有損傷主唇及/或旋轉軸之外周面之情形。主唇及/或旋轉軸之外周面之擦過使密封構件之密封性能顯著降低。

本發明之目的在於提供一種不易產生因在裝置之內部產生之異物而導致密封性能降低的技術。 本發明之一態樣之密封體防止流體在裝置之外側之外部空間與前述裝置之內側之內部空間之間的流通。密封體具備：密封構件，其具有壓接於前述裝置之表面之密封部；及防止部，其防止在前述內部空間產生之異物侵入前述密封部與前述裝置之前述表面之間。 本發明之又一態樣之密封配接器配置於前述裝置之殼體與插入形成於前述殼體之貫通孔之軸之間。該密封配接器具備：上述之密封體、及安裝於前述殼體之安裝部。前述安裝部包含包圍前述軸之內周面。前述軸具有作為前述裝置之前述表面之外周面。前述環狀空間形成於前述軸之前述外周面與前述安裝部之前述內周面之間。 本發明之另一態樣之密封構件配置在形成於裝置內之環狀空間內，防止流體在前述裝置之外側之外部空間與前述裝置之內側之內部空間之間的流通。密封構件具備：環狀之主唇，其具有壓接於前述裝置之表面之密封部；按壓部，其將前述主唇按壓於前述裝置之前述表面；及防塵唇，其在較前述主唇更靠外側被按壓於前述裝置之前述表面。前述防塵唇在內徑上小於前述密封部。 上述之密封技術可不易產生因在裝置之內部產生之異物而導致之密封性能之降低。

＜第1實施方式＞ 本發明者等開發了不易產生因在裝置之內部產生之異物而導致密封性能降低之技術。在第1實施方式中，說明可在長期間內維持良好之密封性能的例示性密封體。 圖1係第1實施方式之密封體100之概略剖視圖。參照圖1說明密封體100。 圖1所示之密封體100係組入裝置APT。裝置APT包含軸SFT與殼體HSG。在以下之說明中，將由殼體HSG與軸SFT包圍之空間稱為「內部空間」。將殼體HSG之外側之空間稱為「外部空間」。 若殼體HSG被固定，則軸SFT繞旋轉軸RAX旋轉。若軸SFT被固定，則殼體HSG繞旋轉軸RAX旋轉。裝置APT可為減速機，亦可為其他裝置。本實施方式之原理並不限定於作為裝置APT而使用之特定之機構。 密封體100整體上為環狀。軸SFT整體上為圓柱狀。軸SFT包含密封體100所抵接之外周面OSF。殼體HSG整體上為圓筒形狀。殼體HSG包含：第1內周面FIS、第2內周面SIS、及肩面SSF。第1內周面FIS在外部空間與內部空間之間包圍軸SFT，而形成環狀空間。密封體100嵌入於在外周面OSF與第1內周面FIS之間形成之環狀空間。第2內周面SIS較第1內周面FIS在軸SFT之軸向上位於更內側，且包圍軸SFT。內部空間之至少一部分在第2內周面SIS與外周面OSF之間而形成。第2內周面SIS在直徑上小於第1內周面FIS。因此，肩面SSF在第1內周面FIS與第2內周面SIS之間而形成。肩面SSF係沿著與旋轉軸RAX正交之假想平面之環狀面。 潤滑油收容於內部空間。潤滑油可為了潤滑配置於內部空間之裝置APT之零件(未圖示：例如齒輪)而使用。本實施方式之原理並不限定於由潤滑油潤滑之特定之零件。 密封體100嵌入環狀空間，而將內部空間自外部空間隔開。其結果為，由密封體100防止潤滑油自內部空間流出。若在裝置APT之周圍散佈有液體(例如洗淨液)，則密封體100防止存在於外部空間之液體朝內部空間流入。 密封體100包含環狀之密封構件200及環狀之防止環300。密封構件200及防止環300配置於在殼體HSG之第1內周面FIS與軸SFT之外周面OSF之間形成的環狀空間。防止環300在軸SFT之軸向上配置於較密封構件200更靠內側。亦即，防止環300面向內部空間。另一方面，密封構件200面向外部空間。 密封構件200包含：主環部210、環狀之主唇220、環狀之防塵唇230、及彈簧環240。主環部210在包含旋轉軸RAX之假想平面上，具有大致L字狀之剖面。主環部210包含：金屬環211及被覆層212。金屬環211在包含旋轉軸RAX之假想平面上，具有大致L字狀之剖面。被覆層212整體地覆蓋金屬環211。被覆層212可由橡膠材料形成，亦可由具有彈性之樹脂形成。 被覆層212形成：第1抵接面213、第2抵接面214、外表面215、內面216、及內周面217。第1抵接面213與第2抵接面214之軸向之一端相連，且以與防止環300對向之方式自該一端在徑向上延伸。第1抵接面213抵接於防止環300之外周區域，而將防止環300之外周區域按壓於殼體HSG之肩面SSF。因此，防止環300被固定在密封構件200與肩面SSF之間。 第2抵接面214係朝向殼體HSG之第1內周面FIS側之面，且沿著該第1內周面FIS在軸向上延伸。第2抵接面214抵接於殼體HSG之第1內周面FIS。第2抵接面214與第1內周面FIS接觸之區域之面積大於主唇220及防塵唇230與軸SFT之外周面OSF接觸之區域之面積。因此，第2抵接面214被相對於第1內周面FIS而固定，而另一方面，主唇220及防塵唇230在外周面OSF上滑動。 外表面215係朝向與第1抵接面213相反側之面，且露出於外部空間。外表面215與第2抵接面214之軸向之另一端(與連接有第1抵接面213之一端為相反側之端)相連，且自該另一端在徑向上延伸。 內面216包含：第1區域218，其自第1抵接面213之徑向之內端朝向外表面215擴展，且與軸SFT之外周面OSF對向；及第2區域219，其自第1區域218朝向軸SFT之外周面OSF擴展，且與防止環300對向。 內周面217與外表面215之徑向之內端相連，且自該內端朝軸向內側延伸。內周面217在徑向上與外周面OSF對向。 防塵唇230在內周面217與外周面OSF之間形成。防塵唇230自被覆層212之內周面217朝朝向軸SFT之外周面OSF之方向、且朝朝向外部空間之方向突出。防塵唇230壓接於軸SFT之外周面OSF，防止在外部空間懸浮之異物到達主唇220。防塵唇230可由與被覆層212相同之材料形成。 主唇220可由與被覆層212相同之材料形成。主唇220位於較防塵唇230更靠軸向內側，包含壓接部221及連結部222。壓接部221藉由連結部222與防塵唇230相連，且在防塵唇230與防止環300之間被壓接於軸SFT之外周面OSF。主唇220防止液體通過防塵唇230朝向內部空間流入。除此以外，主唇220還防止潤滑油通過防止環300朝向外部空間流出。在本實施方式中，主唇220之表面區域係壓接於裝置APT之表面之密封部之一例。裝置之表面係由軸SFT之外周面OSF例示。 連結部222自主環部210之內面216朝向軸向內側(亦即朝向防止環300)突出，且與壓接部221連結。如上述般，由於防塵唇230防止在外部空間懸浮之異物之侵入，故異物幾乎不會進入由防塵唇230、連結部222、壓接部221及軸SFT之外周面OSF包圍之空間。 彈簧環240嵌入形成於主唇220之壓接部221之外周面(亦即，相對於主環部210之內面216之第1區域218在徑向上對向之面)之環狀槽。若軸SFT嵌入密封構件200，則彈簧環240彈性地伸長。其結果為，朝向旋轉軸RAX之力作用於壓接部221，壓接部221彈性地壓縮變形。因此，在壓接部221與軸SFT之外周面OSF之間之邊界形成良好之密封構造。在本實施方式中，按壓部係由彈簧環240例示。亦可替代地將按壓部由相應於軸SFT之嵌入而彈性地伸長之其他構件形成。本實施方式之原理並不限定於用於按壓部之特定之零件。 防止環300包含環壁310及唇部320。環壁310包含內抵接面311、外抵接面312、外周面313、及內周面314。 外周面313在軸向上延伸，且抵接於殼體HSG之第1內周面FIS。內抵接面311與外周面313之軸向之一端相連，且自該一端朝向徑向內側延伸。內抵接面311在外周面313之附近，包含：外周區域，其與殼體HSG之肩面SSF抵接；及內周區域，其面向內部空間。 外抵接面312係在軸向上朝向與內抵接面311為相反側之面。外抵接面312與外周面313之軸向之另一端(與連接有內抵接面311之一端為相反側之端)相連，且自該另一端朝向徑向內側延伸。外抵接面312包含：外周區域，其與密封構件200之第1抵接面213抵接；及內周區域，其相對於密封構件200之內面216之第2區域219在軸向上對向。 內周面314係在徑向上朝向與外周面313為相反側之面。內周面314在直徑上大於軸SFT。內周面314相對於軸SFT之外周面OSF在徑向上對向。唇部320位於內周面314與外周面OSF之間。 環壁310包含環狀之彈性壁315、及剛性環316。彈性壁315形成：外周面313、內周面314及內抵接面311。除此以外，彈性壁315還形成外抵接面312之一部分。 剛性環316在剛性上大於彈性壁315。可行的是，彈性壁315由橡膠材料或具有彈性之樹脂材料形成，而另一方面，剛性環316由金屬或硬質樹脂形成。由於剛性環316維持環壁310之形狀，故作業者可容易地將防止環300配置在裝置APT內。本實施方式之原理並不限定於用於彈性壁315及剛性環316之特定之材料。 剛性環316嵌入於在與內周面314為相反側之彈性壁315之區域內凹設之槽部。其結果為，剛性環316以包圍內周面314之方式固定於彈性壁315。 唇部320係與彈性壁315一體地形成。唇部320可由與彈性壁315相同之材料形成。唇部320自環壁310之內周面314(彈性壁315之內周緣)朝向軸SFT突出。唇部320在軸SFT之外周面OSF之附近朝向內部空間稍許屈曲，而壓接於外周面OSF。其結果為，壓接部221被防止環300自內部空間隔開。在本實施方式中，內周緣係藉由環壁310之內周面314而例示。 圖1顯示在內部空間內產生之鐵粉IPD。例如，鐵粉IPD自配置於裝置APT內之齒輪之齒面產生。本實施方式之原理並不限定於產生鐵粉IPD之特定之產生源。 鐵粉IPD有作為異物而企圖進入壓接部221與軸SFT之外周面OSF之間之邊界的情形。然而，如圖1所示般，由於唇部320阻擋鐵粉IPD，故鐵粉IPD幾乎不會進入於在防止環300與密封構件200之間形成之空間。因此，鐵粉IPD引起在壓接部221與軸SFT之外周面OSF之間之邊界擦過之風險非常小。其結果為，密封體100可在長期間內發揮良好之密封性能。在本實施方式中，防止部係藉由防止環300而例示。 唇部320亦可以較壓接部221弱之力被壓抵於軸SFT之外周面OSF。其結果為，在軸SFT與密封體100之間產生之摩擦力不會不必要地變高。在本實施方式中，第1壓接力係藉由作用於壓接部221之壓縮力(亦即，彈簧環240所產生之按壓力)而例示。第2壓接力係藉由將唇部320按壓於軸SFT之外周面OSF之力而例示。 ＜第2實施方式＞ 與第1實施方式相關聯而說明之防止環具有包含彈性材料與剛性材料之複合構造。然而，防止環亦可由單一之材料形成。在第2實施方式中，說明具有由單一之材料形成之防止環的例示性密封體。 圖2係第2實施方式之密封體100A之概略剖視圖。參照圖2說明密封體100A。將上述實施方式之說明援用於被賦予與上述實施方式相同符號之要素。 與第1實施方式相同地，密封體100A具備密封構件200。將第1實施方式之說明援用於密封構件200。 密封體100A進一步具備防止環300A。防止環300A整體由毛氈形成。 防止環300A包含：內抵接面311A、外抵接面312A、外周面313A、及內周面314A。外周面313A在軸向上延伸，且抵接於殼體HSG之第1內周面FIS。內抵接面311A與外周面313A之軸向之一端相連，且自該一端朝向徑向內側延伸。內抵接面311A在外周面313A之附近，且包含：外周區域，其抵接於殼體HSG之肩面SSF；及內周區域，其面向內部空間。 外抵接面312A係在軸向上朝向與內抵接面311A為相反側之面。外抵接面312A與外周面313A之軸向之另一端(與連接有內抵接面311A之一端為相反側之端)相連，且自該另一端朝向徑向內側延伸。外抵接面312A包含：外周區域，其與密封構件200之第1抵接面213抵接；及內周區域，其相對於密封構件200之內面216之第2區域219在軸向上對向。 內周面314A係在徑向上朝向與外周面313A為相反側之面。內周面314A沿軸向延伸，且抵接於軸SFT之外周面OSF。因此，密封構件200被防止環300A自內部空間隔開。 如圖2所示般，在內部空間懸浮之鐵粉IPD被防止環300A之內抵接面311A捕捉。因此，鐵粉IPD幾乎不會進入防止環300A與密封構件200之間之空隙。由於鐵粉IPD引起在壓接部221與軸SFT之外周面OSF之間之邊界擦過之風險非常小，故密封體100A可在長期間內發揮良好之密封性能。 ＜第3實施方式＞ 關於上述之實施方式，阻擋在裝置之內部產生之異物之防止部係以與密封構件為不同之構件而形成。替代地，防止部可與密封構件一體地形成。該情形下，作業者可容易地將密封體安裝於裝置。在第3實施方式中，說明具有與密封構件一體化之防止部的例示性密封體。 圖3係第3實施方式之密封體100B之概略剖視圖。參照圖1及圖3說明密封體100B。將上述實施方式之說明援用於被賦予與上述實施方式相同符號之要素。 密封體100B具備環狀之密封構件200B及唇部320B。唇部320B與參照圖1參照所說明之唇部320相同地，為了阻擋鐵粉IPD而使用。與上述之實施方式不同的是，唇部320B與密封構件200B為一體。在本實施方式中，防止部係藉由唇部320B而例示。 與第1實施方式相同地，密封構件200B包含：主環部210、防塵唇230、及彈簧環240。將第1實施方式之說明援用於該等之要素。 密封構件200B進一步包含環狀之主唇220B。與第1實施方式相同地，主唇220B包含連結部222。將第1實施方式之說明援用於連結部222。 主唇220B進一步包含壓接部221B。壓接部221B被彈簧環240在防塵唇230與唇部320B之間壓接於軸SFT之外周面OSF。主唇220B防止液體通過防塵唇230朝向內部空間之流入。除此以外，主唇220B還防止潤滑油通過唇部320B朝向外部空間之流出。在本實施方式中，主唇220B之表面區域係壓接於裝置APT之表面之密封部之一例。 唇部320B係與壓接部221B一體地形成。唇部320B自壓接部221B朝向內部空間及軸SFT之外周面OSF而突出，且被按壓於軸SFT之外周面OSF。 壓接部221B被彈簧環240包圍，而另一方面，唇部320B未被彈簧環240包圍。因此，因彈簧環240之彈性變形而產生之按壓力較強地作用於壓接部221B，而另一方面，較弱地作用於唇部320B。其結果為，密封體100B與軸SFT之外周面OSF之間之摩擦力不會不必要地變高。 壓接於軸SFT之外周面OSF之壓接部221B之表面區域被唇部320B與防塵唇230自內部空間及外部空間隔開。因此，在內部區域懸浮之鐵粉IPD或在外部空間懸浮之異物不易在壓接部221與軸SFT之間之邊界引起擦過。 ＜第4實施方式＞ 由於防塵唇係露出於外部空間，故作業者可辨識被組入裝置之防塵唇是否彎折。然而，由於用於阻擋在內部空間產生之異物之唇部係露出於內部空間，故作業者無法辨識密封體、唇部是否彎折。若唇部在裝置內彎折，則有在內部空間懸浮之異物到達至主唇，而引起在軸與主唇之間之邊界擦過之情形。在第4實施方式中，說明用於降低唇部在裝置內彎折之風險的例示性技術。 圖4係第4實施方式之密封配接器400之概略剖視圖。參照圖1、圖3及圖4說明密封配接器400。將上述實施方式之說明援用於被賦予與上述實施方式相同符號之要素。 密封配接器400具備：密封體100C、軸承410、擋環420、及配接器筒430。密封體100C亦可為參照圖1而說明之密封體100。替代地，密封體100C亦可為參照圖3而說明之密封體100B。將關於密封體100、100B之說明援用於密封體100C。 配接器筒430包含：環狀之凸緣431及保持筒432。凸緣431包含：內面441、朝向與內面441相反側之外表面442、連接內面441之內端與外表面442之內端的內周面443、朝向與內面443相反側之外周面444、及自內周面443朝向徑向內側延伸之肩面445。內面441抵接於殼體(未圖示)之表面。內面441與相反側之外表面442露出於外部空間。自外表面442朝內面441延伸之複數個插通孔446形成於凸緣431。複數個螺釘分別插入複數個插通孔446，與形成於殼體之螺釘孔螺合。於是將凸緣431固定於殼體。在本實施方式中，安裝部係由凸緣431例示。 外周面444包圍內周面443。外周面444之軸長與形成於殼體之圓形凹部(未圖示)之深度大致一致。外周面444之直徑與形成於殼體之圓形凹部之直徑大致一致。 外周面444之相反側之內周面443形成供軸(未圖示)插入之空間。內周面443之直徑大於軸之直徑。因此，內周面443包圍軸，在內周面443與軸之外周面(未圖示)之間形成環狀空間。密封體100C嵌入環狀空間。 內周面443之直徑大於保持筒432之內徑。因此，在內周面443與保持筒432之間形成肩面445。肩面445係沿著與旋轉軸RAX正交之假想平面而形成之環狀面。作業者可將密封體100C壓入由內周面443形成之空間，且按壓於肩面445。 保持筒432自肩面445朝內部空間伸出。保持筒432包含主部451及前端部452。前端部452在內徑上小於主部451。因此，前端部452自主部451朝向旋轉軸RAX突出。作業者將軸承410朝保持筒432內壓入而使其抵接於前端部452。 主部451包含抵接於軸承410之外座圈之內周面453。包圍旋轉軸RAX之環狀槽係形成於內周面453。作業者在將軸承410嵌入保持筒432之後，將擋環420嵌入形成於內周面453之環狀槽。由於擋環420及前端部452夾著軸承410，故軸承410在旋轉軸RAX之延設方向上不變位。作業者在將擋環420安裝於保持筒432之後，將密封體100C嵌入凸緣431。於是完成密封配接器400之製造。 圖5係將軸SFT安裝於密封配接器400之安裝步驟之概略圖。參照圖1、圖3及圖5而說明安裝步驟。 軸SFT以自外部空間朝向內部空間之方向(亦即，自凸緣431之外表面442朝向內面441之方向)，插入於密封配接器400。軸SFT之外周面OSF抵接於軸承410之內周面，而被軸承410保持。因此，軸SFT可繞旋轉軸RAX旋轉。 如與圖1及圖3相關聯所說明般，由於唇部320、320B朝向內部空間突出，故唇部320、320B之突出方向與軸SFT之插入方向為一致。由於在軸SFT之插入之期間，唇部320、320B可維持朝向軸承410而突出之姿勢，故唇部320、320B不易彎折。 軸SFT包含齒輪軸GSF、及軸筒STT。齒輪軸GSF之基端部嵌入於軸筒STT。在齒輪軸GSF之前端部形成有齒輪部GPT。齒輪部GPT與配置於裝置(未圖示)內之其他齒輪嚙合。參照圖1及圖3所說明之鐵粉IPD可因齒輪部GPT與其他齒輪之間之嚙合而產生。 軸筒STT包含第1筒部FTB、及第2筒部STB。第2筒部STB自第1筒部FTB朝向內部空間延伸。第1筒部FTB在外徑上大於第2筒部STB。因此，肩面SLD在第1筒部FTB與第2筒部STB之間之邊界而形成。作業者將軸SFT插入於密封配接器400，直至肩面SLD抵接於軸承410為止。其結果為，密封體100C被納入在第1筒部FTB之外周面OSF與凸緣431之內周面443之間形成之環狀空間。參照圖1及圖3所說明之唇部320、320B之前端被壓接於第1筒部FTB之外周面OSF。此時，軸承410被納入在保持筒432之內周面453與第2筒部STB之外周面OSF之間形成之環狀空間。在本實施方式中，裝置之表面係藉由軸筒STT之外周面OSF而例示。 如圖5之左圖所示般，在第2筒部STB之外周面OSF形成有環狀槽AGV。若肩面SLD抵接於軸承410，則環狀槽AGV出現在由保持筒432之前端部452包圍之圓形空間內。如圖5之右圖所示般，作業者將擋環SPR嵌入環狀槽AGV。其結果為，軸承410之內座圈夾在肩面SLD與擋環SPR之間。另一方面，軸承410之外座圈夾在保持筒432之前端部452與擋環420之間。因此，軸承410在旋轉軸RAX之延設方向上，被固定在保持筒432內。 圖6係將包含軸SFT及密封配接器400之組裝體安裝於殼體HSH之安裝步驟之概略圖。參照圖1、圖3至圖6而說明安裝步驟。 殼體HSH包含：外端面OES、相對於外端面OES形成階差之凹面RCS、及自凹面RCS之內端沿軸向延伸之保持壁面SWS。外端面OES露出於外部空間。凹面RCS繞著旋轉軸RAX自外端面OES凹設。凸緣431收容在由凹面RCS包圍之凹空間內。複數個螺釘SCW分別插通複數個插通孔446(參照圖4)，而與形成於凹面RCS之螺釘孔螺合。其結果為，凸緣431被固定於殼體HSH。 保持壁面SWS形成貫通孔，該貫通孔形成內部空間之一部分。軸SFT貫通貫通孔。保持筒432插入於由保持壁面SWS形成之貫通孔。保持筒432由保持壁面SWS支持。 根據本實施方式之原理，作業者在將包含軸SFT及密封配接器400之組裝體製作完成之後，將組裝體組入於殼體HSH。如參照圖5所說明般，在組裝體之製作時，唇部320、320B(參照圖1及圖3)不易彎折。在將組裝體朝殼體HSH組入時，由於配接器筒430存在於密封體100C與殼體HSH之間，故密封體100C與殼體HSH不干擾。因此，唇部320、320B可在不彎折下維持壓接於軸SFT之外周面OSF之狀態。由於唇部320、320B可有效地阻擋自齒輪部GPT或其他滑接部位產生之鐵粉IPD(參照圖1及圖3)，故大幅度地降低鐵粉IPD損傷密封體100C之密封功能之風險。 ＜第5實施方式＞ 為了降低防塵唇與軸之間之摩擦力而塗佈有潤滑脂。如與第1實施方式相關聯所說明般，由於防塵唇配置在主唇之附近，故有在主唇與軸之間之邊界亦形成潤滑脂層之情形。該情形下，為了降低齒輪間之摩擦力而收容在殼體內之潤滑油，可與主唇與軸之間之邊界之潤滑脂層接觸。雖然依存於潤滑油及潤滑脂之成分之組合，但潤滑油對潤滑脂層之接觸有導致在主唇與軸之間之邊界產生油污之情形。油污作為異物而起作用，可引起主唇之擦過。在第5實施方式中，說明降低油污之產生之風險的例示性技術。 圖7係第5實施方式之密封構件200D之概略剖視圖。參照圖7說明密封構件200D。將上述實施方式之說明援用於被賦予與上述實施方式相同符號之要素。 與第1實施方式相同地，密封構件200D包含：主環部210、主唇220、及彈簧環240。將第1實施方式之說明援用於該等之要素。 圖7顯示裝置APU。與第1實施方式相同地，裝置APU包含殼體HSG。將第1實施方式之說明援用於殼體HSG。 裝置APU進一步包含軸SFU。軸SFU被殼體HSG包圍。密封構件200D被嵌入於在殼體HSG與軸SFU之間形成之環狀空間，而防止流體在外部空間與內部空間之間流通。 軸SFU包含：第1外周面FOS；第2外周面SOS，其較第1外周面FOS位於軸向外側；及錐形周面TPC，其連接第1外周面FOS與第2外周面SOS，且朝向軸向外側以使軸SFU縮徑之方式傾斜。內部空間之至少一部分在殼體HSG與第1外周面FOS之間而形成。主唇220被彈簧環240按壓於第1外周面FOS。在本實施方式中，按壓部係藉由彈簧環240而例示。 第2外周面SOS係部分地露出於外部空間。第2外周面SOS在直徑上小於第1外周面FOS。錐形周面TPC形成自第1外周面FOS朝向第2外周面SOS變窄之圓錐台之周面。 密封構件200D進一步具備自主環部210之內周面217朝向第2外周面SOS延伸之防塵唇230D。防塵唇230D包含抵接於第2外周面SOS之前端部231。亦即，前端部231在較主唇220更靠外側被壓接於軸SFU之表面。 由前端部231決定之防塵唇230D之內徑小於主唇220之內徑。如上述般，由於第2外周面SOS具有較第1外周面FOS小之直徑，故前端部231不會被過度強力地壓抵於第2外周面SOS。在本實施方式中，裝置之表面係藉由第1外周面FOS及第2外周面SOS而例示。 作業者將潤滑脂塗佈在第2外周面SOS，而可降低前端部231與第2外周面SOS之間之摩擦。第1外周面FOS與第2外周面SOS之間之錐形周面TPC，防止塗佈在第2外周面SOS之潤滑脂朝第1外周面FOS移遷。因此，潤滑脂不易與收容於內部空間之潤滑油接觸。此情形意味著降低在主唇220與第1外周面FOS之間產生油污之風險。其結果為，亦降低主唇220及第1外周面FOS之擦過之風險。 與上述之各個實施方式相關聯而說明之設計原理能夠應用於各種密封構造。與上述之各個實施方式中之1個相關聯而說明之特徵中之一部分，亦可應用於與其他另一個實施方式相關聯而說明之密封技術。 又，上述之實施方式之概要係如以下所述般。 上述之實施方式之密封體防止流體在裝置之外側之外部空間與前述裝置之內側之內部空間之間流通。密封體具備：密封構件，其具有壓接於前述裝置之表面之密封部；及防止部，其防止在前述內部空間產生之異物侵入前述密封部與前述裝置之前述表面之間。 根據上述之構成，由於密封體具備防止在內部空間產生之異物朝前述密封部侵入之防止部，故不易產生因在裝置之內部產生之異物而導致之密封性能之降低。 針對上述之構成，前述防止部可包含被壓接在前述裝置之前述表面之唇部。前述唇部將前述密封部自前述內部空間隔離。 根據上述之構成，由於被壓接於裝置之表面之唇部將密封部自內部空間隔離，故在裝置之內部空間產生之異物不易到達至密封部。因此，不易產生因在裝置之內部產生之異物而導致之密封性能之降低。 針對上述之構成，前述密封部可以第1壓接力被按壓於前述裝置之前述表面。前述唇部可以較前述第1壓接力小之第2壓接力被按壓。 根據上述之構成，由於唇部被較第1壓接力小之第2壓接力按壓，故在密封體與裝置之表面之間的摩擦力，不會過度變大。因此，密封體不會產生抗著裝置之動作之過度大的抗力。 針對上述之構成，前述防止部亦可係配置於形成在前述裝置內之環狀空間內的防止環。前述防止環可包含：環狀之彈性壁，其具有供前述唇部突出之內周緣；及剛性環，其以包圍前述內周緣之方式固定於前述彈性壁、且具有較前述彈性壁為高之剛性。 根據上述之構成，由於具有較彈性壁為高之剛性的剛性環以包圍彈性壁之內周緣之方式固定於彈性壁，故作業者在將防止環配置於在裝置內形成之環狀空間內時，彈性壁不易變形。因此，作業者可容易地將密封體安裝於裝置。由於與彈性壁一體地形成之唇部自彈性壁之內周緣突出，故在作業者將防止環配置於在裝置內形成之環狀空間內時，唇部壓接於裝置之表面。其結果為，在裝置之內部空間產生之異物不易到達至密封部。因此，不易產生因在裝置之內部產生之異物而導致之密封性能之降低。 針對上述之構成，前述防止部與前述密封構件可為一體。 根據上述之構成，由於防止部與密封構件為一體，故作業者可將密封體容易地安裝於裝置。 針對上述之構成，可行的是，前述密封構件具有前述密封部，且包含配置於在前述裝置內形成之環狀空間內的環狀之壓接部、及將前述壓接部按壓於前述裝置之前述表面之按壓部。前述唇部可與前述壓接部為一體，且可自前述壓接部朝前述內部空間突出。 根據上述之構成，由於配置於在裝置內形成之環狀空間內的環狀之壓接部被按壓部按壓於裝置之表面，故密封體可具有良好之密封功能。由於唇部與壓接部為一體，故作業者可容易地將密封體安裝於裝置。由於唇部自壓接部朝內部空間突出而抵接於裝置之表面，故唇部可防止在裝置內產生之異物到達至壓接部。因此，不易產生因在裝置之內部產生之異物而導致之密封性能之降低。 上述之實施方式之密封配接器係配置於前述裝置之殼體與插入於在前述殼體形成之貫通孔之軸之間者，且具備上述之密封體、及安裝於前述殼體之安裝部。前述安裝部包含包圍前述軸之內周面。前述軸具有作為前述裝置之前述表面之外周面。前述環狀空間係在前述軸之前述外周面與前述安裝部之前述內周面之間而形成。 根據上述之構成，由於供配置密封體之環狀空間係在軸之外周面與安裝部之內周面之間而形成，故在作業者將安裝部安裝於裝置之殼體，且將軸配置於殼體內時，由殼體與軸之外周面形成之內部空間被密封體自裝置之外側之外部空間隔開。由於密封體具有防止部，故內部空間產生之異物不會到達至密封構件之密封部。因此，可在長期間內維持密封部之密封性能。 針對上述之構成，密封配接器可進一步具備：自前述安裝部朝前述內部空間延伸之保持筒、及嵌入於前述保持筒與前述軸之前述外周面之間的軸承。前述唇部可自前述彈性壁或前述壓接部朝向前述軸承突出、而被壓接於前述軸之前述外周面。 根據上述之構成，由於軸承嵌入軸之外周面與自安裝部朝內部空間延伸之保持筒之間，故軸可在殼體內旋轉。或者，殼體可繞軸旋轉。由於唇部自彈性壁或壓接部朝向軸承突出，且壓接於軸之外周面，故若作業者將軸經由密封體嵌入於軸承，則軸之插入方向與唇部之突出方向為一致。因此，唇部不易在軸之外周面上彎折。 上述之實施方式之密封構件配置於在裝置內形成之環狀空間內，而防止流體在前述裝置之外側之外部空間與前述裝置之內側之內部空間之間流通。密封構件具備：環狀之主唇，其具有壓接於前述裝置之表面之密封部；按壓部，其將前述主唇按壓於前述裝置之前述表面；及防塵唇，其在較前述主唇更靠外側且被按壓於前述裝置之前述表面。前述防塵唇在內徑上小於前述密封部。 針對上述之構成，由於防塵唇在內徑上小於密封部，故設計者可以在防塵唇所抵接之部位與主唇所抵接之部位之間形成有階差之方式而設計裝置之表面。因此，由於塗佈在防塵唇與裝置之表面之間之邊界的潤滑脂被階差自主唇所抵接之部位隔開，故大幅度降低因與收容在潤滑脂與裝置之內部空間之潤滑油之接觸而產生之油污之風險。由於油污不易介在於密封部與裝置之表面之間之邊界，故不易產生因在裝置之內部產生之油污而導致之密封性能之降低。

100‧‧‧密封體

100A‧‧‧密封體

100B‧‧‧密封體

100C‧‧‧密封體

200‧‧‧密封構件

200B‧‧‧密封構件

200D‧‧‧密封構件

210‧‧‧主環部

211‧‧‧金屬環

212‧‧‧被覆層

213‧‧‧第1抵接面

214‧‧‧第2抵接面

215‧‧‧外表面

216‧‧‧內面

217‧‧‧內周面

218‧‧‧第1區域

219‧‧‧第2區域

220‧‧‧主唇

220B‧‧‧主唇

221‧‧‧壓接部

221B‧‧‧壓接部

222‧‧‧連結部

230‧‧‧防塵唇

230D‧‧‧防塵唇

231‧‧‧前端部

240‧‧‧彈簧環

300‧‧‧防止環

300A‧‧‧防止環

310‧‧‧環壁

311‧‧‧內抵接面

311A‧‧‧內抵接面

312‧‧‧外抵接面

312A‧‧‧外抵接面

313‧‧‧外周面

313A‧‧‧外周面

314‧‧‧內周面

314A‧‧‧內周面

315‧‧‧彈性壁

316‧‧‧剛性環

320‧‧‧唇部

320B‧‧‧唇部

400‧‧‧密封配接器

410‧‧‧軸承

420‧‧‧擋環

430‧‧‧配接器筒

431‧‧‧凸緣

432‧‧‧保持筒

441‧‧‧內面

442‧‧‧外表面

443‧‧‧內周面

444‧‧‧外周面

445‧‧‧肩面

446‧‧‧插通孔

451‧‧‧主部

452‧‧‧前端部

453‧‧‧內周面

AGV‧‧‧環狀槽

APT‧‧‧裝置

APU‧‧‧裝置

FIS‧‧‧第1內周面

FTB‧‧‧第1筒部

FOS‧‧‧第1外周面

GPT‧‧‧齒輪部

GSF‧‧‧齒輪軸

HSG‧‧‧殼體

HSH‧‧‧殼體

IPD‧‧‧鐵粉

OES‧‧‧外端面

OSF‧‧‧外周面

RAX‧‧‧旋轉軸

RCS‧‧‧凹面

SCW‧‧‧螺釘

SFT‧‧‧軸

SFU‧‧‧軸

SIS‧‧‧第2內周面

SLD‧‧‧肩面

SOS‧‧‧第2外周面

SPR‧‧‧擋環

SSF‧‧‧肩面

STB‧‧‧第2筒部

STT‧‧‧軸筒

SWS‧‧‧保持壁面

TPC‧‧‧錐形周面

圖1係第1實施方式之密封體之概略剖視圖。 圖2係第2實施方式之密封體之概略剖視圖。 圖3係第3實施方式之密封體之概略剖視圖。 圖4係第4實施方式之密封配接器之概略剖視圖。 圖5係將軸安裝於密封配接器之安裝步驟之概略圖。 圖6係將包含軸及密封配接器之組裝體安裝於殼體之安裝步驟之概略圖。 圖7係第5實施方式之密封構件之概略剖視圖。

Claims (11)

1. 一種密封體，其係防止流體在裝置之外側之外部空間與前述裝置之內側之內部空間之間流通者，且具備： 密封構件，其具有壓接於前述裝置之表面之密封部，及 防止部，其防止在前述內部空間產生之異物侵入前述密封部與前述裝置之前述表面之間。
2. 如請求項1之密封體，其中前述防止部包含壓接於前述裝置之前述表面之唇部，且 前述唇部將前述密封部自前述內部空間隔離。
3. 如請求項2之密封體，其中前述密封部以第1壓接力被按壓於前述裝置之前述表面，且 前述唇部以較前述第1壓接力為小之第2壓接力被按壓。
4. 如請求項2或3之密封體，其中前述防止部係配置於在前述裝置內形成之環狀空間內的防止環，且 前述防止環包含：環狀之彈性壁，其具有前述唇部突出之內周緣；及剛性環，其以包圍前述內周緣之方式固定於前述彈性壁、且具有較前述彈性壁為高之剛性。
5. 如請求項1至3中任一項之密封體，其中前述防止部與前述密封構件為一體。
6. 如請求項2或3之密封體，其中前述密封構件具有前述密封部，且包含配置於前述裝置內所形成之環狀空間內的環狀之壓接部、及將前述壓接部按壓於前述裝置之前述表面的按壓部， 前述唇部與前述壓接部為一體，且自前述壓接部朝前述內部空間突出。
7. 一種密封配接器，其係配置於前述裝置之殼體與插入形成於前述殼體之貫通孔之軸之間者，且具備： 如請求項4之密封體，及 安裝於前述殼體之安裝部，且 前述安裝部包含包圍前述軸之內周面， 前述軸具有作為前述裝置之前述表面之外周面， 前述環狀空間係形成於前述軸之前述外周面與前述安裝部之前述內周面之間。
8. 一種密封配接器，其係配置於前述裝置之殼體與插入形成於前述殼體之貫通孔之軸之間者，且具備： 如請求項6之密封體，及 安裝於前述殼體之安裝部，且 前述安裝部包含包圍前述軸之內周面， 前述軸具有作為前述裝置之前述表面之外周面， 前述環狀空間係形成於前述軸之前述外周面與前述安裝部之前述內周面之間。
9. 如請求項7之密封配接器，其進一步具備：自前述安裝部朝前述內部空間延伸之保持筒，及 嵌入前述保持筒與前述軸之前述外周面之間的軸承，且 前述唇部自前述彈性壁朝向前述軸承突出，且被壓接於前述軸之前述外周面。
10. 如請求項8之密封配接器，其進一步具備：自前述安裝部朝前述內部空間延伸之保持筒，及 嵌入前述保持筒與前述軸之前述外周面之間的軸承，且 前述唇部自前述壓接部朝向前述軸承突出，且被壓接於前述軸之前述外周面。
11. 一種密封構件，其係配置裝置內所形成之環狀空間內，防止流體在前述裝置之外側之外部空間與前述裝置之內側之內部空間之間流通者，且具備： 環狀之主唇，其具有壓接於前述裝置之表面之密封部； 按壓部，其將前述主唇按壓於前述裝置之前述表面；及 防塵唇，其在較前述主唇更靠外側被按壓於前述裝置之前述表面；且 前述防塵唇在內徑上小於前述密封部。