TW201811553A

TW201811553A - 蓋玻璃

Info

Publication number: TW201811553A
Application number: TW106146291A
Authority: TW
Inventors: 藤井健輔; 小船伸司; 玉田稔; 三代均
Original assignee: 日商旭硝子股份有限公司
Priority date: 2014-07-16
Filing date: 2015-07-15
Publication date: 2018-04-01
Also published as: JP2016029474A; DE112015003283T5; TW201609417A; US20170129806A1; TWI615277B; JP5935931B2; TWI656036B; US20210284571A1; CN111718131A; CN106536440A; WO2016010009A1; CN106536440B; DE112015003283B4; CN111747659A; CN111718131B; KR20170035890A; KR101889667B1

Abstract

本發明之目的在於提供一種即便進行防眩處理與形成抗反射膜兩步驟，其色調之變化亦不會遭到減低之蓋玻璃。本發明提供一種蓋玻璃，其玻璃基板之至少其中一面具有利用防眆處理而形成之凹凸形狀，且於具有前述凹凸形狀之面上具有抗反射膜；並且，具有前述抗反射膜之玻璃面內任2點中之a^*值的差△a^*與b^*值的差△b^*滿足下述式(1)：

Description

蓋玻璃

發明領域

本發明係有關於一種蓋玻璃。

發明背景

近年來，影像顯示裝置被用於搭載於車輛等之汽車導航系統及計速表等各種機器上的機會與日俱增。而作為這樣的影像顯示裝置之蓋玻璃的特性，基於安全性及提升外觀之觀點，所求的是減低戶外光線之反射及防止因戶外光線映射到畫面而導致影像變得難看見。

作為防止玻璃等之透明基材表面之反射及映射之手段，而有施行將玻璃基板表面作防眩處理(AG處理)的情形，舉例來說為人所知的有下述方法：於玻璃基板表面施行化學性或物理性的表面處理且於形成凹凸之後，使用氫氟酸等進行蝕刻來調整表面形狀(專利文獻1)。

作為防止玻璃表面之反射及映射之手段，為人所知的還有使表面反射減少之抗反射技術。作為抗反射技術則提案有如下者：積層幾層折射率與光學膜厚具有適當數值的層作為光學干涉層，藉此使積層體與空氣界面中之光的反射減少(專利文獻2)。

先行技術文獻專利文獻

專利文獻1：日本特開昭61-36140號公報

專利文獻2：日本特開2003-215309號公報

發明概要

一般認為藉由進行防眩處理與形成抗反射膜兩者可更防止玻璃表面之反射及映射。然而，以前述之方法來說，令人擔憂的是玻璃之色調會不均勻地變化，即發生所謂色彩不均的問題。而此問題推測是由如以下所述之理由所產生的。

於防眩處理之過程中，於玻璃基板之最表面會有於面內不均勻地形成玻璃之缺乏陽離子成分的層的情形，即被稱為瀝析層(leach out layer)的層。瀝析層因與玻璃基板折射率不同，故一旦於此處更形成抗反射膜的話，即會宛如在抗反射膜與玻璃基板之間不均勻地存在有低折射率層般。結果推測即會發生前述色彩不均的情形。

本發明之目的在於提供一種蓋玻璃，其即便進行防眩處理及形成抗反射膜兩步驟，色調之變化亦難發生。

本案發明者等發現只要為不存在有瀝析層之蓋玻璃，則可解決前述課題。即本發明係關於下述蓋玻璃。

[1]

一種蓋玻璃，其玻璃基板之至少其中一面具有利用防眆處理而形成之凹凸形狀，且於具有前述凹凸形狀之面上具有抗反射膜；並且，具有前述抗反射膜之玻璃面內任2點中之a^*值的差△a^*與b^*值的差△b^*滿足下述式(1)：

[2]

如前述第[1]項之蓋玻璃，其係以前述玻璃基板中之任意10cm²之正方形部分作為測定範圍，將該測定範圍作11×11等分後，從其等分線之全部100個交點的a^*值及b^*值分別求出a^*之最大值a^* _max、a^*之最小值a^* _min、b^*之最大值b^* _max及b^*之最小值b^* _min，並令前述a^* _max與前述a^* _min的差(a^* _max-a^* _min)為前述△a^*，前述b^* _max與前述b^* _min的差(b^* _max-b^* _min)為前述△b^*。

[3]

如前述第[1]或[2]項之蓋玻璃，其於前述玻璃基板之具有前述凹凸形狀之面上具有最大深度小於3μm之微裂縫。

[4]

如前述第[1]至[3]項中任一項之蓋玻璃，其中前述蓋玻璃之具有前述凹凸形狀之表面的離子交換率在1%以上且25%以下。

[5]

如前述第[4]項之蓋玻璃，其中前述離子交換率係以鋁為指標。

[6]

如前述第[1]至[5]項中任一項之蓋玻璃，其霧度在1~35%。

[7]

如前述第[1]至[6]項中任一項之蓋玻璃，其中前述抗反射膜為積層體，其包含有含鈮之層與含矽之層各1層以上。

[8]

如前述第[1]至[7]項中任一項之蓋玻璃，其視感反射率在2%以下。

[9]

如前述第[1]至[8]項中任一項之蓋玻璃，其更於前述抗反射膜上具有防污膜，且具有前述防污膜之面之水的接觸角在90°以上。

依據本發明可提供反射及映射少且色調變化小之蓋玻璃。

10‧‧‧玻璃基板

10a‧‧‧玻璃基板之主面

10b‧‧‧玻璃基板之主面

10E‧‧‧壓縮應力層

10R‧‧‧瀝析層

20‧‧‧抗反射膜

30‧‧‧防污膜

圖1(a)~圖1(d)係顯示本發明製造方法之一實施態樣之步驟流程圖。

圖2(a)~圖2(f)係顯示本發明製造方法之另一實施態樣之步驟流程圖。

用以實施發明之形態

本發明之蓋玻璃，其玻璃基板之至少其中一面具有利用防眆處理而形成之凹凸形狀，且於具有凹凸形狀之面上具有抗反射膜；並且，具有抗反射膜側之玻璃面內任2點中之a^*值的差△a^*與b^*值的差△b^*滿足下述式(1)：

式(1)為玻璃面內色彩分布之指標，藉由在4以下，從而玻璃面內色彩分布的差小，即意味其色調變化小。式(1)宜在3以下，更佳在2以下。

式(1)中之△a^*可從選擇蓋玻璃之具有抗反射膜之側的玻璃面內任2點且經測定出之2種a^*值的差算出。△b^*亦可以同樣方式算出。a^*及b^*係利用分光光度計測定基板之施有防眩處理及抗反射處理之側的面之分光反射率後，自該反射率而得之視感反射率(JIS Z 8729(2004年))。

具體來說，宜為：以玻璃基板中之任意10cm²之正方形部分作為測定範圍，將該測定範圍作11×11等分後，從其等分線之全部100個交點的a^*值及b^*值分別求出a^*之最大值a^* _max、a^*之最小值a^* _min、b^*之最大值b^* _max及b^*之最小值b^* _min，並令a^* _max與a^* _min的差(a^* _max-a^* _min)為△a^*，b^* _max與b^* _min的差(b^* _max-b^* _min)為△b^*。

另外，測定範圍只要為面積10cm²即可，且其形狀並不侷限於正方形。當測定範圍為非正方形時，只要於可明瞭該測定範圍內之視感反射率a^*及b^*之分布的程度來適當選擇100個測定處所即可。

本發明之蓋玻璃由於玻璃基板上不存在有瀝析層而可滿足前述式(1)。「瀝析」係指將玻璃表面經以強酸等處理後，存在於玻璃表層部之陽離子與酸的H⁺離子會進行交換反應，致使玻璃之表層部的組成比與主體的組成比不同之現象，並且將依所述方式形成之最表面之組成比不同的層稱「瀝析層」。為了使瀝析層不存在，可舉可利用防眩處理形成之瀝析層被除去之情況，或進行難形成有瀝析層之防眩處理為例。

本發明之蓋玻璃其離子交換率宜在25%以下，較佳在23%以下，更佳在20%以下，且15%以下更佳，10%以下更加理想。離子交換率宜在1%以上。「離子交換率」係以玻璃之主體部中任意之陽離子含有率，除以玻璃最表面之與前述陽離子同種之陽離子含有率所得的值來定義，即為玻璃中陽離子不足率之指標。

作為陽離子成分，可舉例如鈉、鉀及鋁等。「玻璃最表面」係指從玻璃表面起算至5nm為止之區域，而「主體部」係指從玻璃表面起算深度30nm以上之區域。玻璃為鈉鈣玻璃時宜採用鈉為指標，而為鋁矽酸鹽玻璃時則宜採用鋁及鉀之其中一者為指標。於本申請案中，為鋁矽酸鹽玻璃的情況時係採用鋁為指標。只要離子交換率在前述範圍，則主體部與最表面之折射率差可完全忽視，且即便於其上成膜抗反射膜亦可忽視其對分光光譜之影響。

最表面之玻璃組成，舉例來說可利用X射線光電子光譜法(XPS)作測定。而主體部之玻璃組成，舉例來說，則可以XPS及X射線螢光分析(XRF)等作測定。

又，除去前之離子交換層即瀝析層，自玻璃基板最表面起算之厚度宜在10nm以下，較佳在8nm以下，更佳則在6nm以下。除去前之離子交換層即瀝析層，宜超過1nm。只要除去前之瀝析層的厚度在10nm以下，則不但可有效率地除去瀝析層，最後亦可獲得適切之防眩效果及均勻之反射特性。只要除去前之瀝析層的厚度超過1nm，因可獲得最低限度必要之防眩效果及均勻之反射特性故而理想。

<玻璃基板>

作為本發明中之玻璃基板，可利用具有各種組成之玻璃。

舉例來說，於本發明所使用之玻璃宜含有鈉，且宜為可成形並可利用化學強化處理強化之組成。具體來說，可舉例如鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸鹽玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃及鋁硼矽酸鹽玻璃等。

作為本發明之玻璃的組成雖然並無特別限定，然可舉例如以下之玻璃組成：

(i)以莫耳%表示之組成，含有下述成分之玻璃：50~80%之SiO₂、2~25%之Al₂O₃、0~10%之Li₂O、0~18%之Na₂O、0~10%之K₂O、0~15%之MgO、0~5%之CaO及0~5%之ZrO₂。

(ii)以莫耳%表示之組成，含有下述成分之玻璃： 50~74%之SiO₂、1~10%之Al₂O₃、6~14%之Na₂O、3~11%之K₂O、2~15%之MgO、0~6%之CaO及0~5%之ZrO₂，並且SiO₂及Al₂O₃之含量合計在75%以下，Na₂O及K₂O之含量合計在12~25%，MgO及CaO之含量合計在7~15%。

(iii)以莫耳%表示之組成，含有下述成分之玻璃：68~80%之SiO₂、4~10%之Al₂O₃、5~15%之Na₂O、0~1%之K₂O、4~15%之MgO及0~1%之ZrO₂。

(iv)以莫耳%表示之組成，含有下述成分之玻璃：67~75%之SiO₂、0~4%之Al₂O₃、7~15%之Na₂O、1~9%之K₂O、6~14%之MgO及0~1.5%之ZrO₂，且SiO₂及Al₂O₃之含量合計在71~75%，Na₂O及K₂O之含量合計在12~20%，並且含有CaO時其含量低於1%。

玻璃之製造方法並無特別限定，可藉由如下之方式製造：將所欲之玻璃原料投入連續熔融爐中，且宜以1500~1600℃將玻璃原料加熱熔融，並澄清後，供給至成形裝置將熔融玻璃成形成板狀並進行徐冷。

另外，對於玻璃之成形係可採用各種方法。舉例來說，可採用下拉法(例如溢流下拉法、流孔下引法及再曳引法等)、浮製玻板法、軋出法及壓製法等之各式各樣的成形方法。

玻璃之厚度雖然並無特別限制，然而進行化學強化處理時為了有效地進行，通常宜在5mm以下，更佳在3mm以下。

玻璃基板，為了提高蓋玻璃之強度宜施有化學強化。化學強化係於防眩處理之後且於形成抗反射膜之前進行。具體之方法會於製造方法項中作敘述。

<防眩處理>

本發明之蓋玻璃，其玻璃基板之至少其中一面施有防眩處理(亦稱「抗眩處理」、「AG處理」)。防眩加工方法非受到特別限定，可利用針對玻璃主面施行表面處理而形成所欲之凹凸之方法。

具體來說，係針對玻璃基板之第1主面進行化學處理之方法，可舉例如施行毛玻璃化處理之方法。毛玻璃化處理，舉例來說可藉由將被處理體即玻璃基板浸漬於氟化氫與氟化銨之混合溶液中，將浸漬面作化學性表面處理來實施。

又，除所述之利用化學性處理之方法以外，亦可利用例如所謂噴砂處理，即利用加壓空氣將晶質二氧化矽粉末及碳化矽粉末等噴吹於玻璃基板表面；或以經水沾濕之附著有晶質二氧化矽粉末及碳化矽粉末等之刷子進行磨刷等之利用物理性處理之方法。

特別是，以使用氟化氫等之藥液(化學品)來實施化學性表面處理即毛玻璃化處理之方法來說，因被處理體表面不易產生微裂縫，而不易致使機械強度降低，故可適宜作為施行玻璃基板之表面處理的方法來利用。另外，於玻璃基板之利用防眩處理而形成有凹凸之表面上，亦可具有最大深度小於3μm之微裂縫。因為只要在此程度的話，則不易引發機械強度降低。

依所述方式利用化學性表面處理(毛玻璃化處理)或物理性表面處理來製出凹凸之後，為了調整表面形狀，一般是進行將玻璃表面作化學蝕刻。藉此，可藉由蝕刻量將霧度調整成所欲的值，並可除去在噴砂處理等中所生成之裂痕，又可抑制眩光。

蝕刻可適宜使用將被處理體即玻璃基板浸漬於以氟化氫為主成分之溶液中之方法。而氟化氫以外之成分則亦可含有鹽酸．硝酸．檸檬酸等之酸。藉由含有酸可抑制玻璃中之陽離子成分與氟化氫發生反應而局部產生析出反應之現象，而可使蝕刻在面內均勻地進行。

AG處理後之表面形狀，其表面粗度(RMS)宜為0.01~0.5μm，較佳為0.01~0.3μm，更佳為0.01~0.2μm。

RMS可依據JIS B 0601(2001)所規定之方法作測定。具體來說，係利用雷射顯微鏡(KEYENCE CORPORATION製，商品名：VK-9700)對試料之測定面設定300μm×200μm之視野範圍，測定基板之高度資料並進行擷取修正後，求出所得高度之均方來算出。於進行該測定時宜使用0.08mm作為擷取值。又於試料表面上所觀察之圓形孔之大小宜在10μm以下。藉由在所述範圍內可兼具防眩光與防眩性。

一般認為於此蝕刻步驟中會形成瀝析層。特別是認為由於酸的存在，故會使玻璃表面之陽離子成分選擇性溶出，從而玻璃表面會變得容易形成瀝析層。因此，含有使用含酸的溶液進行蝕刻之步驟的情況時，特別是如後述宜於其步驟後除去瀝析層。

<抗反射膜>

本發明之蓋玻璃係藉由於經防眩處理過之玻璃基板面上進行抗反射膜處理(亦稱「AR處理」)而具有抗反射膜。

抗反射膜之材料並無特別限定，只要為可抑制光反射之材料則可利用各種材料。舉例來說，作為抗反射膜可製成為積層有高折射率層與低折射率層之構造。於此處稱「高折射率層」係於波長550nm下之折射率在1.9以上的層，「低折射率層」則係於波長550nm下之折射率在1.6以下的層。

雖然高折射率層與低折射率層可為分別各含有1層之形態，但亦可為各含有2層以上之構造。於高折射率層與低折射率層各含有2層以上時，宜為交互積層高折射率層與低折射率層之形態。

特別是為了提高抗反射性能，抗反射膜宜為積層有多層而成之積層體，舉例來說，該積層體宜為以整體來說積層有2層以上且6層以下的層，更佳為積層有2層以上且4層以下的層。於此處之積層體，宜如前文所述般為積層有高折射率層與低折射率層之積層體，且高折射率層及低折射率層個別層數之合計宜在前述範圍。

高折射率層及低折射率層之材料並無特別限定，可考慮所要求之抗反射程度及生產性等來選擇。作為構成高折射率層之材料，可適宜利用例如含有選自鈮、鈦、鋯、鉭及矽中之1種以上之材料。具體來說，可舉氧化鈮(Nb₂O₅)、氧化鈦(TiO₂)、氧化鋯(ZrO₂)、氧化鉭(Ta₂O₅)及氮化矽等。作為構成低折射率層之材料，可適宜利用例如含有矽之材料。具體來說，可舉氧化矽(SiO₂)、含Si與Sn之混合氧化物之材料、含Si與Zr之混合氧化物之材料、及含Si與Al之混合氧化物之材料等。

作為高折射率層基於生產性及折射率之程度，較佳為前述高折射率層為選自含鈮的層或含鉭的層中任一者，且前述低折射率層為含矽的層；更佳為前述高折射率層為由含鈮的層所構成。即，抗反射膜宜為包含有含鈮的層與含矽的層各1層以上之積層體。

另外，於本發明之蓋玻璃，防眩處理及抗反射膜雖然只要有設於玻璃基板之至少其中一主面即可，但亦可依所需而將之製成為設於玻璃基板之兩主面之構造。

關於抗反射膜之形成方法將於製造方法之項目中作詳細敘述。

<防污膜>

本發明之蓋玻璃，基於保護玻璃表面之觀點，於前述抗反射膜上亦可更具有防污膜(亦稱「Anti Finger Print(AFP)膜」)。防污膜舉例來說可由含氟有機矽化合物構成。作為含氟有機矽化合物，只要為賦予防污性、撥水性及撥油性者則可無特別限定地使用，舉例來說可舉具有選自於由多氟聚醚基、多氟伸烷基及多氟烷基所構成群組中之1種以上之基的含氟有機矽化合物。另外，「多氟聚醚基」係指具有多氟伸烷基與醚性氧原子交錯鍵結而成之結構的2價基。

作為該含有選自於由多氟聚醚基、多氟伸烷基及多氟烷基所構成群組中之1種以上之基的含氟有機矽化合物之具體例，可舉下述通式(I)~(V)所示之化合物等。

式中，Rf為碳數1~16之直鏈狀多氟烷基(作為烷基，譬如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等)，X為氫原子或碳數1~5之低級烷基(譬如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等)，R1為可水解基(譬如胺基、烷氧基等)或鹵素原子(譬如氟、氯、溴、碘等)，m為1~50且宜為1~30之整數，n為0~2且宜為1~2之整數，p為1~10且宜為1~8之整數。

C_qF_2q+1CH₂CH₂Si(NH₂)₃ (II)

於此處，q為1以上且宜為2~20之整數。

作為通式(II)所示之化合物，可舉例如正三氟(1,1,2,2-四氫)丙基矽氮烷(n-CF₃CH₂CH₂Si(NH₂)₃)、正七氟(1,1,2,2-四氫)戊基矽氮烷(n-C₃F₇CH₂CH₂Si(NH₂)₃)等。

C_q’F_2q’+1CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ (III)

於此處，q’為1以上且宜為1~20之整數。

作為通式(III)所示之化合物，可舉例如2-(全氟辛基)乙基三甲氧矽烷(n-C₈F₁₇CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)等。

式(IV)中，R^f2為-(OC₃F₆)_s-(OC₂F₄)_t-(OCF₂)_u-(s、t、u係各自獨立為0~200之整數)所示之2價直鏈狀多氟聚醚基，R²、R³係各自獨立為碳原子數1~8之一價烴基(譬如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基等)。X²、X³係獨立為可水解基(譬如胺基、烷氧基、醯氧基、烯氧基、異氰酸酯基等)或鹵素原子(譬如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)，d、e係獨立為1~2之整數，c、f係獨立為1~5(宜為1~2)之整數，a及b係獨立為2或3。

化合物(IV)所具有之R^f2中，s+t+u以20~300為佳，更佳為25~100。又，作為R²、R³，以甲基、乙基、丁基較佳。X²、X³所示之水解性基，以碳數1~6之烷氧基較佳，且甲氧基及乙氧基特別理想。又，a及b分別以3為佳。

[化3]F-(CF₂)_v-(OC₃F₆)_w-(OC₂F₄)_y-(OCF₂)_z(CH₂)_hO(CH₂)_l-Si(X⁴)₃-_k(R⁴)_k (V)

式(V)中，v為1~3之整數，w、y、z各自獨立為0~200之整數，h為1或2，i為2~20之整數，X⁴為水解性基，R⁴為碳數1~22之直鏈或支鏈之烴基，k為0~2之整數。w+y+z以20~300為佳，更佳為25~100。又，i以2~10 較佳。X⁴宜為碳數1~6之烷氧基，且為甲氧基、乙氧基更佳。作為R⁴，以碳數1~10之烷基較佳。

又，市售之具有選自於由多氟聚醚基、多氟伸烷基及多氟烷基所構成群組中之1種以上之基的含氟有機矽化合物，可適宜使用KP-801(商品名，信越化學公司製)、KY178(商品名，信越化學公司製)、KY-130(商品名，信越化學公司製)、KY-185(商品名，信越化學公司製)、OPTOOL(註冊商標)DSX及OPTOOL AES(均為商品名，DAIKIN INDUSTRIES,LTD.製)等。

防污膜會被積層於抗反射膜上。而於已將抗反射膜成膜於玻璃基板之兩主面上時，可將防污膜成膜於兩面之抗反射膜上，但亦可製成為僅針對其中任一面來積層防污膜之構造。此乃是因為防污膜只要針對有人的手等接觸之可能性的場所來設置即可，故可按照其用途等來選擇。

<接觸角>

本發明之蓋玻璃其水的接觸角宜在90°以上。藉此蓋玻璃表面會具有撥水性及撥油性，而可將其製成髒污難附著之蓋玻璃。為了使接觸角在90°以上，可舉譬如具有前述防污膜。

<霧度>

本發明之蓋玻璃，其霧度宜為1~35%，較佳為2~35%，更佳為2~25%。只要霧度在所述範圍，則可製得不僅具有所欲之防眩性，且對顯示體之解析度的影響少的蓋玻璃。霧度係根據JISK 7136而規定。

霧度可藉由調節AG處理中之蝕刻時間來控制。

<反射率>

本發明之蓋玻璃其視感反射率宜在2%以下。只要視感反射率在所述範圍則可充分防止映射。視感反射率係根據JIS Z8701而規定。另外，作為光源係使用了D65光源。

<蓋玻璃之製造方法>

本發明之蓋玻璃，舉例來說，可藉由下述步驟來製造，但並不侷限於此。步驟1：防眩處理；步驟2：化學強化；步驟3：除去瀝析層；步驟4：形成抗反射膜；步驟5：形成防污膜。

步驟2之化學強化、步驟3之除去瀝析層及步驟5之形成防污膜可分別依所需來實施。並且依所需亦可實施印刷處理。

步驟2之化學強化處理，宜在步驟1之防眩處理與步驟4之形成抗反射膜之間進行。步驟2之化學強化與步驟3之除去瀝析層雖亦可將順序調換，然而從盡可能減少抗反射膜形成前之附著物的觀點來看，則以將除去瀝析層於即將形成抗反射膜前進行為佳。

印刷處理係於蓋玻璃需要裝飾時，以業經適當選擇因應框狀印刷、LOGO印刷等目的及用途之印刷圖案的顏色作印刷之處理。印刷方法可適用任一種既知方法，而舉例來說網版印刷是適宜的。

印刷處理宜於步驟1之防眩處理與步驟4之形成抗反射膜之間且於步驟3之除去瀝析層之後進行。此乃為了使印刷部不受用以除去瀝析層之蝕刻等之處理的影響的緣故。

於將化學強化處理與印刷處理一同進行的情況時，宜以化學強化處理、除去瀝析層、印刷處理之順序進行。

由於防污膜是用以保護玻璃表面而形成者，故形成防污膜宜於最後步驟，即於形成抗反射膜之後再形成。

於圖1(a)~圖1(d)顯示有顯示本發明製造方法之實施態樣之步驟流程圖。於玻璃基板10之主面10a及10b中，於其中一主面10a上進行防眩處理(圖1(a))。且於防眩處理後之玻璃表面10a上形成有凹凸之同時(無圖示)，會變為玻璃中之陽離子已與酸的H⁺離子交換之狀態，而於表層部分形成有瀝析層10R(圖1(b))。並利用選自蝕刻及研磨中至少一種方法來去除該瀝析層10R(圖1(c))。此時，經利用防眩處理而形成之凹凸，並不會因瀝析層之除去處理而消失。並於瀝析層已被除去之玻璃主面10a上，更形成抗反射膜20(圖1(d))。

於圖2(a)~圖2(f)顯示有顯示本發明製造方法之另一實施態樣之步驟流程圖。藉由對玻璃基板10之主面10a進行防眩處理，於防眩處理後之玻璃表面10a形成有凹凸之同時(無圖示)，亦形成有瀝析層10R(圖2(a)~圖2(b))。繼而藉由將玻璃基板予以化學強化，於玻璃基板表層會形成有壓縮應力層10E(圖2(c))。壓縮應力層10E係形成至較瀝析層10R更深的部分。其後，去除瀝析層10R(圖2(d))，並於業經防眩處理之面上形成抗反射膜20(圖2(e))。並於抗反射膜20上更形成防污膜30(圖2(f))。

以下，就各步驟進行說明。

<步驟1：防眩處理>

防眩處理之具體方法係如於前述蓋玻璃之說明中所作之詳細敘述。即，係藉由如下之方式進行：將玻璃基板之至少其中一面於利用化學性表面處理或物理性表面處理而作成凹凸之後，以氟化氫溶液或含氟化氫與酸之溶液進行蝕刻。

另外，宜於對玻璃基板進行後述化學強化之前，進行依照用途之形狀加工，例如進行切割、端面加工及穿孔加工等之機械加工。

<步驟2：化學強化>

化學強化可利用眾所周知之方法。例如藉由將玻璃中所含之離子半徑小的金屬離子(例如Na離子)與離子半徑較大之金屬離子(例如K離子)作置換，使玻璃表面產生壓縮應力層而使玻璃之強度提升，即可利用所謂利用離子交換所行之化學強化。

具體來說，是將已施有防眩處理之玻璃基板浸漬於熔融鹽中，以於玻璃表面形成壓縮應力層。作為熔融鹽可舉無機鉀鹽，且無機鉀鹽以於要進行化學強化之玻璃的應變點(通常為500~600℃)以下可成為熔融狀態者為佳，舉例來說宜含有硝酸鉀(熔點330℃)。作為熔融鹽除硝酸鉀以外，亦可含有其他之無機鉀鹽，可舉例如與選自硫酸鉀及氯化鉀等之鹼硫酸鹽、鹼氯化鹽及碳酸鉀等中之一種以上之組合。

玻璃之預熱溫度雖然是依進行化學強化處理之溫度(鹽浴之溫度)而定，但一般宜為100℃以上。

玻璃之化學強化處理溫度宜在被強化玻璃之應變點(通常為500~600℃)以下，而為了獲得更高之壓縮應力深度(Depth of Layer：DOL)則宜在350℃以上。

玻璃在熔融鹽之浸漬時間宜為10分鐘~12小時，更佳為30分鐘~10小時。只要在所述範圍，即可製得在強度與壓縮應力層之深度的平衡上優異之化學強化玻璃。

進行化學強化處理之化學強化槽，可利用金屬、石英及陶瓷等。而其中基於耐久性之觀點以金屬材質為佳，基於耐蝕性之觀點則以不鏽鋼(SUS)材質為佳。

<步驟3：除去瀝析層>

由於防眩處理而使玻璃表面形成有瀝析層的情況時會將之去除。具體來說，可舉使用藥液進行蝕刻等之化學方法，及使用研磨材料進行研磨等之物理方法。

作為蝕刻方法，可舉將玻璃基板作酸處理之方法、作鹼處理之方法，或是於酸處理後作鹼處理之方法。

「酸處理」係藉由將玻璃基板浸漬於酸性溶液中來進行。

作為酸性溶液只要小於pH7即可，且所用之酸可為弱酸亦可為強酸。具體來說，以氫氟酸、鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、醋酸、草酸、碳酸及檸檬酸等的酸為佳。該等酸可單獨使用亦可搭配數種使用。進行酸處理之溫度雖然亦會因使用之酸的種類、濃度及時間而異，然以於100℃以下進行為佳。

進行酸處理之時間雖然亦會因使用之酸的種類、濃度及時間而異，然從生產性之觀點來看宜為10秒~5小時，更佳為1分~2小時。

進行酸處理之溶液的濃度，雖然亦會因使用之酸的種類、時間及溫度而異，但以容器腐蝕之憂慮少的濃度為佳，具體來說宜為1wt%~20wt%。

於酸處理步驟中，因前文所述之瀝析亦會同時發生，故與蝕刻速度之關係是重要的。具體來說是以蝕刻速度可在瀝析層形成速度之1.5倍以上之濃度及溫度條件為佳，較佳為可在2倍以上，更佳為可在2.5倍以上之條件。

「鹼處理」係藉由將玻璃基板浸漬於鹼性溶液中來進行。

作為鹼溶液只要超過pH7即可，且可使用弱鹼基亦可使用強鹼基。具體來說，以氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鉀及碳酸鈉等之鹼基為佳。該等鹼基可單獨使用亦可搭配數種使用。

進行鹼處理之溫度雖然亦會因使用之鹼基的種類、濃度及時間而異，然以0~100℃為佳，10~80℃更佳，且20~60℃特別理想。只要在所述之溫度範圍則無玻璃腐蝕之虞因而理想。

進行鹼處理之時間雖然亦會因使用之鹼基的種類、濃度及時間而異，然從生產性之觀點來看宜為10秒~20小時，較佳為1分鐘~12小時，更佳為10分鐘~5小時。

進行鹼處理之溶液的濃度，雖然亦會因使用之鹼基的種類、時間及溫度而異，然從玻璃表面除去性之觀點來看宜為1wt%~20wt%。

於酸處理後進行鹼處理時，係將已進行過前述酸處理之玻璃基板接著供於鹼處理。酸處理及鹼處理之條件係與前述相同。

化學除去方法雖可選擇前述中之任一者，然以容易除去瀝析層之觀點來說則以於酸處理後進行鹼處理之方法為佳。

使用研磨材料來研磨之方法，可舉使用含有選自碳酸鈣、氧化鈰及膠質二氧化矽等之研磨材料之研磨液來研磨玻璃基板表面的方法。

除去瀝析層的時候，為化學性除去方法的話宜為：將玻璃基板表面除去3nm以上，且宜除去5nm以上，更佳為除去10nm以上。為物理性除去方法的話則宜為：將玻璃基板表面除去5nm以上，且宜除去10nm以上，更佳為除去30nm以上。只要為所述除去量則可充分除去瀝析層。但是，從不使利用防眩處理形成之表面形狀在本質上發生變化之觀點來看，則除去量之上限宜為2μm。

另外化學性除去方法與物理性除去方法雖可選擇其中任一者，然而以玻璃表面不生成裂痕等及無玻璃表面因研磨劑之殘渣而遭受污染之憂慮的觀點來說則以化學性除去法為佳。又亦可將化學性除去方法與物理性除去方法搭配來進行。

<步驟4：形成抗反射膜>

成膜抗反射膜之方法並無特別限制，可利用各種成膜方法。尤其以利用脈衝濺鍍、AC濺鍍及數位濺鍍等之方法來進行成膜為佳。依據該等之方法，可製出緻密之抗反射膜，而可確保耐久性。

例如利用脈衝濺鍍進行成膜時，係將玻璃基板配置於惰性氣體與氧氣之混合氣體環境之腔室內，並對此以使可成為所欲組成之方式來選擇靶材即可成膜。

此時，腔室內之惰性氣體之氣體種類並無特別限制，可利用譬如氬及氦等各種惰性氣體。

而，由該惰性氣體與氧氣之混合氣體所成之腔室內之壓力雖然並無特別限定，然藉由設在0.5Pa以下之範圍，因可容易使抗反射膜之表面粗度在理想範圍而是理想的。此係由於由惰性氣體與氧氣之混合氣體所成之腔室內之壓力在0.5Pa以下的話，則可確保成膜分子之平均自由徑，從而成膜分子可帶更多之能量到達基板。推測因此會促進成膜分子之再配置，而可製出較緻密且平滑之表面的膜。由惰性氣體與氧氣之混合氣體所成之腔室內之壓力的下限值雖然並無特別限定，但宜在例如0.1Pa以上。

另外，抗反射膜之表面粗度之理想範圍與防眩處理後之表面形狀之理想範圍大致相同。原因是因為抗反射膜之膜厚本身充其量為100nm~300nm而十分地薄，故抗反射膜本身之凹凸尺寸相較於存在於抗反射膜層下層之利用防眩處理而形成之凹凸尺寸是小至可忽視之程度。因此，業經防眩處理之基板上的抗反射膜之表面粗度，可視為實質上是以業經防眩處理之基板的表面粗度來決定。

<步驟5：形成防污膜>

本實施形態之防污膜之成膜方法雖然並無特別限定，但以使用前述含氟有機矽化合物材料並利用真空蒸鍍來成膜為佳。

另外，含氟有機矽化合物為了抑制其與大氣中之水分發生反應所致之劣化等，一般是將其與氟系溶媒等之溶媒混合來作保存的，然一旦於含有該等溶媒之狀態下直接供於成膜步驟的話，會有給予所製得之薄膜之耐久性等帶來不良影響的情形。

因此，於本實施形態中，宜使用以加熱容器進行加熱前已預先進行過溶媒除去處理之含氟有機矽化合物，或是未經以溶媒稀釋(未添加有溶媒)之含氟有機矽化合物。舉例來說，以含氟有機矽化合物溶液中所含溶媒之濃度在1mol%以下者為佳，更佳為在0.2mol%以下者。且以使用不含溶媒之含氟有機矽化合物尤佳。

另外，作為保存前述含氟有機矽化合物時所用之溶媒，可舉例如全氟己烷、間二甲苯六氟化物(C₆H₄(CF₃)₂)、氫氟聚醚、HFE7200/7100(商品名， Sumitomo 3M Limited製，HFE7200以C₄F₉C₂H₅表示，HFE7100以C₄F₉OCH₃表示)等。

自含有氟系溶媒之含氟有機矽化合物溶液除去溶媒(溶劑)的處理，舉例來說可藉由將已放入有含氟有機矽化合物溶液之容器進行真空排氣來實施。

關於進行真空排氣之時間，因會依排氣管線及真空泵等之排氣能力及溶液的量等而變化故雖未受到限定，但可在例如10小時左右以上。

又，前述溶媒之除去處理亦可藉由將含氟有機矽化合物溶液導入至用來成膜防污膜之成膜裝置的加熱容器後，於升溫前在室溫下將加熱容器內予以真空排氣來實施。又，亦可於導入至加熱容器前預先利用蒸發器等來除去溶媒。

惟，如前述，相較於含有溶媒者，溶媒含量少或不含溶媒之含氟有機矽化合物較容易因與大氣接觸而劣化。

因此，溶媒含量少(或是不含)之含氟有機矽化合物之保管容器宜使用容器中業經以氮等之惰性氣體取代並加以密閉者，且於處理時宜使縮短對大氣之曝露及接觸時間。

具體來說，於將保管容器開封後宜立即將含氟有機矽化合物導入至用來成膜防污膜之成膜裝置的加熱容器中。而且，導入後宜使加熱容器內成為真空，不然則宜以氮氣及稀有氣體等之惰性氣體作取代，藉此除去加熱容器內所含之大氣(空氣)。更佳為可在不與大氣接觸下自保管容器(貯藏容器)導入至本製造裝置之加熱容器中，譬如貯藏容器與加熱容器為由附閥門之配管所連接著。

而且，於將含氟有機矽化合物導入至加熱容器後，且在已將容器內以真空或惰性氣體取代之後，宜立即開始用以成膜之加熱。

作為防污膜之成膜方法，於本實施形態之說明中雖敘述了使用溶液或原液之含氟有機矽化合物之例子，但並不侷限於此。作為其他方法，舉例來說有使用市售之所謂蒸鍍用顆粒(CANON OPTRON INC.製之SURFCLEAR即為一例)之方法，該蒸鍍用顆粒係預先使固定量之含氟有機矽化合物浸潤多孔性金屬(例如錫或銅)或纖維狀金屬(例如不鏽鋼)而成。此時，可將按照蒸鍍裝置之容量及所需膜厚之量的顆粒作為蒸鍍源而簡易地成膜防污膜。

依據前述製造方法可製造本發明之蓋玻璃。

實施例

以下將舉實施例來具體說明本發明，惟本發明不受限於該等例。

<實施例1>

依據以下程序製出蓋玻璃。

玻璃基板係使用旭硝子公司製Dragontrail(註冊商標)。

(1)然後，依以下程序於玻璃基板之其中一面施行利用毛玻璃化處理之防眩處理。

首先，將耐酸性之保護薄膜(以下亦僅稱「保護薄膜」)貼合於基板之未施有防眩處理之側的面上。繼而，將基板浸漬於3重量%之氟化氫溶液中3分鐘，並藉由蝕刻基板除去附著於表面之髒污。接著將基板浸漬於15重量%之氟化氫及15重量%之氟化鉀混合溶液中3分鐘，進行表面之毛玻璃化處理。最後，藉由將基板浸漬於10%之氟化氫溶液中6分鐘，將霧度值調整成25%。於本申請案中，將該最後之浸漬於氟化氫溶液中來調整霧度值之時間稱為「蝕刻時間」。

(2)其次，依據以下程序，進行化學強化處理。

將已除去保護薄膜之基板浸漬於已使加熱至450℃並熔融之硝酸鉀鹽2小時後，將基板自熔融鹽中吊起，並藉由徐冷1小時至室溫為止而製得化學強化基板。

(3)繼而，將該基板浸漬於鹼溶液(Lion Corporation製，SUNWASH TL-75)中4小時，除去表面之瀝析層。瀝析層之除去量係從除去瀝析層之處理前後之玻璃的重量與玻璃之表面積及玻璃之密度算出。

(4)接著，依據以下程序，將抗反射膜成膜於已施有防眩處理之側的面上。

首先，於真空腔室內，一邊導入氬氣中混合了10體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用氧化鈮靶材(AGC Ceramics Co.,Ltd製，商品名：NBO靶材)，於壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm²且反轉脈波寬5μsec之條件下進行脈衝濺鍍，而於玻璃基板之已施有防眩處理的面上形成厚度13nm之由氧化鈮(鈮氧(Niobia))構成之高折射率層。

其次，一邊導入氬氣中混合了40體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用氧化矽靶材，於壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm²且反轉脈波寬5μsec之條件下，在脈波寬5μsec之條件下進行脈衝濺鍍，而於前述高折射率層上形成厚度35nm之由氧化矽(二氧化矽)構成之低折射率層。

接著，一邊導入氬氣中混合了10體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用氧化鈮靶材(AGC Ceramics Co.,Ltd製，商品名：NBO靶材)，於壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm²且反轉脈波寬5μsec之條件下進行脈衝濺鍍，而於前述低折射率層上形成厚度115nm之由氧化鈮(鈮氧)構成之高折射率層。

接下來，一邊導入氬氣中混合了40體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用氧化矽靶材，於壓力0.3Pa、頻率20kHz、功率密度3.8W/cm²且反轉脈波寬5μsec之條件下，在脈波寬5μsec之條件下進行脈衝濺鍍而形成厚度80nm之由氧化矽(二氧化矽)構成之低折射率層。

如此一來，即形成了氧化鈮(鈮氧)與氧化矽(二氧化矽)合計積層有4層之抗反射膜。

<玻璃之評價>

(視感反射率)

利用分光色差儀(KONICA MINOLTA,INC.製，類型：CM-2600d)以SCI模式測定玻璃基板之已施有防眩處理及抗反射處理之側的面之分光反射率，並自其反射率求出視感反射率(於JIS Z8701中所規定之反射的刺激值Y)。此時，為了消除來自未施有防眩處理及抗反射處理之背面的反射，而將背面塗黑來作測定。另外，光源係以D65光源來作計算。

(離子交換率)

使用X射線光電子光譜儀(JEOL Ltd.製，型號：JPS-9200)，並以鋁為指標測定出玻璃表面之離子交換率。使用本裝置可調查相對於深度方向之離子的豐度比。首先，算出距離表面夠深之深度的離子豐度比作為基準。於本測定中是以於30nm之深度的離子豐度比(A)為基準。並且以5nm之深度的鋁離子豐度比為(B)，並藉由以下之式子求出離子交換率ρ。

ρ=B/A

(色彩分布)

首先，選擇玻璃基板之任意10cm²之正方形部分作為測定範圍，並就將該測定範圍作成11×11等分之格子之基板內100個交點，依以下之方式測定顏色。

利用分光色差儀(KONICA MINOLTA,INC.製，類型：CM-2600d)以SCI模式測定基板之已施有抗反射處理之側的面之分光反射率，並自其反射率求出視感反射率(於JIS Z 8729中所規定之色彩指標a^*、b^*)。此時，為了消除來自未施有防眩處理及抗反射處理之背面的反射，而將背面塗黑作測定。

然後，依據全部100點中之a^*、b^*個別之最大值與最小值(a^* _max、a^* _min、b^* _max及b^* _min)，利用下述計算式(1-1)求出色彩分布E。

接著變更測定範圍，並反覆進行與前述相同之測定合計3次，求出個別之E。

(水之接觸角)

使約1μL之純水的水滴滴於玻璃基板之已施有防眩處理及抗反射處理之側的表面，並使用接觸角計(Kyowa Interface Science Co.,Ltd.製，裝置名：DM-51)測定對水之接觸角。

<實施例2>

除了將實施例1中除去瀝析層步驟(3)中之鹼溶液浸漬時間設為8小時及進行下述形成防污膜作為步驟(5)以外，係依與實施例1同樣方式來製造。(5)依以下程序於抗反射膜上成膜防污膜。

首先，將防污膜材料(信越化學公司製，商品名：KY-185)導入於加熱容器內。其後，以真空泵將加熱容器內除氣10小時以上除去溶液中之溶媒，而製成含氟有機矽化合物被膜形成用之組成物。

其次，將已裝入有前述含氟有機矽化合物膜形成用之組成物的加熱容器加熱至270℃。並於達到270℃之後，保持其狀態10分鐘至溫度穩定為止。

然後，對於已設置於真空腔室內之積層有前述抗反射膜之透明基體的抗反射膜，自與已裝入有前述含氟有機矽化合物膜形成用組成物之加熱容器連接的噴嘴，供給含氟有機矽化合物膜形成用之組成物而進行成膜。

成膜時，係一邊以設置於真空腔室內之石英晶體監測器測定膜厚一邊進行，並進行成膜至形成於透明基體上之含氟有機矽化合物膜之膜厚成為4nm為止。

於含氟有機矽化合物膜成為4nm之時間點停止自噴嘴供給原料，之後自真空腔室取出所製出之光學零件。

所取出之光學零件係將膜面朝上設置於加熱板上，並於大氣中進行150℃熱處理60分鐘。

<實施3>

除了藉由將實施例1中防眩處理步驟(1)之蝕刻處理時間設為20分鐘而將霧度調整成4%，且將除去瀝析層步驟(3)中之鹼溶液浸漬時間設為8小時，並且以下述方法進行形成抗反射膜步驟(4)以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

形成抗反射膜步驟：

依據以下程序，將抗反射膜成膜於已施有防眩處理之側的面上。

首先，在與實施例1相同成膜條件下使用氧化鈮靶材(AGC Ceramics Co.,Ltd製，商品名：NBO靶材)進行脈衝濺鍍，而於玻璃基板之已施有防眩處理之側的面上，形成了厚度15nm之由氧化鈮(鈮氧)構成之高折射率層。

其次，使用矽靶材，在與實施例1相同條件下進行脈衝濺鍍，而於前述高折射率層上形成了厚度30nm之由氧化矽(二氧化矽)構成之低折射率層。

接著，在與實施例1相同成膜條件下使用氧化鈮靶材(AGC Ceramics Co.,Ltd製，商品名：NBO靶材)進行脈衝濺鍍，而於玻璃基板之已施有防眩處理之側的面上，形成了厚度110nm之由氧化鈮(鈮氧)構成之高折射率層。

接下來，使用矽靶材，在與實施例1相同條件下進行脈衝濺鍍，而於前述高折射率層上形成了厚度90nm之由氧化矽(二氧化矽)構成之低折射率層。

<實施4>

除了藉由將實施例1中防眩處理步驟(1)之蝕刻處理時間設為10分鐘而將霧度調整成10%，且利用下述條件之碳酸鈣洗淨來進行除去瀝析層步驟(3)，並且以實施例3之方法進行形成抗反射膜步驟(4)以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

碳酸鈣洗淨：使用濃度20重量%之水溶液(漿液)及尼龍刷，使平均粒徑1.6μm(粒度分布0.1μm~50μm)之碳酸鈣研磨材於研磨壓30~50KPa且運送速度55mm/sec下實施基板單面約1nm之研磨。

<實施5>

除了將實施例1中利用下述條件之氧化鈰洗淨來進行除去瀝析層步驟(3)，且以下述條件進行形成抗反射膜步驟(4)以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

氧化鈰洗淨：使用平均粒徑1.2~1.8μm之氧化鈰研磨材、濃度4Be之水溶液(漿液)及麂皮襯墊，於研磨壓0.113MPa且運送速度20mm/sec×20次下，實施基板單面約1μm之研磨。

形成抗反射膜步驟：

首先，於真空腔室內，一邊導入氬氣中混合了10體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用2個氧化鈮靶材(AGC Ceramics Co.,Ltd製，商品名：NBO靶材)，於壓力0.3Pa、頻率40kHz且功率密度3.8W/cm²下進行AC濺鍍，而於玻璃基板之已施有防眩處理的面上形成厚度11nm之由氧化鈮(鈮氧)構成之高折射率層。

其次，一邊導入氬氣中混合了40體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用2個氧化矽靶材，於壓力0.3Pa、頻率40kHz且功率密度3.8W/cm²下進行AC濺鍍，而於前述高折射率層上形成厚度40nm之由氧化矽(二氧化矽)構成之低折射率層。

接著，一邊導入氬氣中混合了10體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用2個氧化鈮靶材(AGC Ceramics Co.,Ltd製，商品名：NBO靶材)，於壓力0.3Pa、頻率40kHz且功率密度3.8W/cm²下進行AC濺鍍，而於前述低折射率層上形成厚度120nm之由氧化鈮(鈮氧)構成之高折射率層。

繼而，一邊導入氬氣中混合了40體積%之氧氣的混合氣體，一邊使用2個氧化矽靶材，於壓力0.3Pa、頻率20kHz且功率密度3.8W/cm²下進行AC濺鍍，而形成厚度95nm之由氧化矽(二氧化矽)構成之低折射率層。

<實施例6>

除了將實施例1中除去瀝析層步驟(3)之鹼溶液浸漬時間設為10小時以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

<實施例7>

除了未進行實施例1中化學強化步驟(2)以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

<實施例8>

除了將實施例1中除去瀝析層以浸漬於10%NaOH水溶液中12小時來蝕刻以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

<實施例9>

除了將實施例2中除去瀝析層係以浸漬於2%氫氟酸水溶液中20秒以外，係依與實施例2同樣方式來製造。

<實施例10>

除了將實施例2中除去瀝析層以浸漬於13.4重量%鹽酸溶液中3小時且以純水洗淨，接著浸漬於10%NaOH水溶液中4小時以外，係依與實施例2同樣方式來製造。

<實施例11>

除了未進行實施例8中化學強化處理以外，係依與實施例8同樣方式來製造。

<實施例12>

除了將實施例8中除去瀝析層係將浸漬至NaOH溶液之時間設為4小時以外，係依與實施例8同樣方式來製造。

<比較例1>

除了將實施例1中除去瀝析層步驟(3)設成為下述條件之純水洗淨以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

純水洗淨：將純水放入浸漬槽，並將基板浸漬於其中，施加40kHz之超音波並且洗淨10分鐘。之後，將其浸漬於已加溫至60℃之純水中並且緩緩地吊起使基板乾燥。

<比較例2>

除了將實施例3中除去瀝析層步驟(3)設成為下述條件之電漿洗淨以外，係依與實施例3同樣方式來製造。

電漿洗淨：係使於氮(N₂)流量250lpm、潔淨乾空氣(CDA)流量0.5lpm、加速電位10kV且大氣壓下產生之電漿照射於基板40秒鐘。

<參考例1>

除了未進行比較例1中防眩處理(毛玻璃化處理)以外，係依與比較例1同樣方式來製造。

<參考例2>

除了未進行實施例1中瀝析層除去及抗反射膜形成以外，係依與實施例1同樣方式來製造。

將前述個別製出之蓋玻璃之評價結果示於1及表2。

未作防眩處理之參考例1，由於色彩分布E之值小，故不易發生產生色調變化之問題。參考例1中之色彩分布主要為由成膜步驟中各層之膜厚之不均勻性所致，故顯示在10cm²內色調變化很小。然而，一旦進行防眩處理及抗反射膜兩者的話，會如比較例1及比較例2所示，可明白瀝析層未被除去時，色彩分布E的值大，而色調變化大。如此，因瀝析層之存在所致之色調變化，可與因成膜步驟之膜厚分布所致之色調不均明確地作區別。

相對於此，各實施例之蓋玻璃皆由於色彩分布E的值降低，而顯示著色調變化變小，而可明白為瀝析層被除去之效果。並且，由於於各實施例之色彩分布之3次測定中均滿足E≦4，而可知玻璃面內之均勻性亦高。

實施例4於3次中有2次剛好在E=4之良好範圍的限度內。推測此乃是因為其為經進行過以碳酸鈣研磨之例子，而其瀝析層除去量為1nm，相較於其他實施例較小的緣故。如所述般除去量宜大於1nm。進而言之，因碳酸鈣為一種於研磨劑中切削性不高之研磨粒，而無法增加除去量，故以結果來說，要穩定色彩分布E之值以使滿足E≦4是困難的。而要嘗試利用研磨來除去瀝析層，則如實施例5以如氧化鈰般之具充分切削性之研磨粒較佳。

雖使用特定之態樣詳細地說明了本發明，然而在不脫離本發明之意圖及範圍下可作各種變更及變形一事，對於在本技術領域中具有通常知識者來說是明白清楚的。另外，本申請案係根據已於2014年7月16日提出申請之日本專利申請案(日本特願2014-146264)及已於2014年7月16日提出申請之日本專利申請案(日本特願2014-146265)，並藉由引用而援用其全體。

Claims

一種蓋玻璃，係於玻璃基板之至少其中一面具有抗反射膜者；並且，自前述蓋玻璃之具有前述抗反射膜該側之面測得之面內任2點之a ^*值的差△a ^*與b ^*值的差△b ^*滿足下述式(1)：√{(△a ^*) ²+(△b ^*) ²}≦4 (1)，存在於前述玻璃基板主面上之微裂縫的最大深度小於3 μm。
如請求項1之蓋玻璃，其係以前述設有抗反射膜該側之面之任意10cm ²之正方形部分作為測定範圍，將該測定範圍作11×11等分後，從其等分線之全部100個交點的a ^*值及b ^*值分別求出a ^*之最大值a ^* _max、a ^*之最小值a ^* _min、b ^*之最大值b ^* _max及b ^*之最小值b ^* _min，並令前述a ^* _max與前述a ^* _min的差(a ^* _max-a ^* _min)為前述△a ^*，前述b ^* _max與前述b ^* _min的差(b ^* _max-b ^* _min)為前述△b ^*。
如請求項1或2之蓋玻璃，其中前述玻璃基板表面以鋁為指標的離子交換率在1%以上且25%以下。
如請求項1至3中任一項之蓋玻璃，其中前述抗反射膜為積層體，其包含有高折射率層與低折射率層各1層以上。
如請求項4之蓋玻璃，其中前述抗反射膜為積層體，其包含有含鈮之層與含矽之層各1層以上。
如請求項1至5中任一項之蓋玻璃，其中前述蓋玻璃之設有前述抗反射膜該側之面的視感反射率在2%以下。
如請求項1至6中任一項之蓋玻璃，其更於前述抗反射膜上設有防污膜，且設有前述防污膜該面之水的接觸角在90°以上。
如請求項1至7中任一項之蓋玻璃，其中前述玻璃基板為鋁矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼矽酸鹽玻璃、鉛玻璃、鹼鋇玻璃或鋁硼矽酸鹽玻璃。
一種蓋玻璃之製造方法，依序包含下述步驟：在玻璃基板之至少其中一表面，存在於玻璃表層部之陽離子與酸的H ⁺離子引發交換反應而形成瀝析層之步驟；藉由對前述表面進行酸處理或鹼處理以除去瀝析層之步驟；及於前述表面形成抗反射膜之成膜抗反射膜步驟。
如請求項9之蓋玻璃之製造方法，其在前述除去瀝析層之步驟中，係在酸處理後進行鹼處理。
如請求項9或10之蓋玻璃之製造方法，其在前述成膜抗反射膜步驟之後，於前述表面形成防污膜。
如請求項9至11中任一項之蓋玻璃之製造方法，其在前述除去瀝析層之步驟前，進行離子交換處理。