DE112015003283T5

DE112015003283T5 - Abdeckglas

Info

Publication number: DE112015003283T5
Application number: DE112015003283.5T
Authority: DE
Inventors: Kensuke Fujii; Shinji Kobune; Minoru Tamada; Hitoshi Mishiro
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2014-07-16
Filing date: 2015-07-13
Publication date: 2017-04-06
Anticipated expiration: 2035-07-14
Also published as: JP2016029474A; TW201609417A; US20170129806A1; TWI615277B; JP5935931B2; TWI656036B; US20210284571A1; CN111718131A; CN106536440A; WO2016010009A1; CN106536440B; DE112015003283B4; CN111747659A; TW201811553A; CN111718131B; KR20170035890A; KR101889667B1

Abstract

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Abdeckglases, bei dem Veränderungen des Farbtons selbst dann vermindert sind, wenn das Glas sowohl einer Antiblendbehandlung als auch einer Antireflexionsfilmbildung unterzogen worden ist. Die vorliegende Erfindung stellt ein Abdeckglas bereit, bei dem mindestens eine Oberfläche eines Glassubstrats eine unregelmäßige Form aufgrund einer Antiblendbehandlung aufweist und bei der sich ein Antireflexionsfilm auf der Oberfläche befindet, welche die unregelmäßige Form aufweist, wobei die Differenz Δa* von a* und die Differenz Δb* von b* bei jedweden zwei Punkten auf der Glasoberfläche, die den Antireflexionsfilm aufweist, der nachstehenden Formel (1) genügt.√{(Δa*)2 + (Δb*)2} ≤ 4(1)

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Abdeckglas.
Stand der Technik
In den letzten Jahren werden Bildanzeigevorrichtungen in verschiedenen Geräten, wie z. B. Navigationssystemen und Tachometern, verwendet, die an Fahrzeugen, usw., montiert werden sollen. Die Eigenschaften, die für die Abdeckgläser solcher Bildanzeigevorrichtungen erforderlich sind, umfassen im Hinblick auf die Verbesserung der Sicherheit und des Aussehens das Vermindern der Reflexion von externem Licht und das Verhindern der Reflexion von externem Licht in dem Bildschirm, wodurch die Bilder weniger sichtbar gemacht werden.
Als Mittel zum Verhindern einer Reflexion von Licht oder Bildern durch oder in Oberflächen von transparenten Substraten, wie z. B. Gläsern, wird eine Glassubstratoberfläche einer Antiblendbehandlung (AG-Behandlung) unterzogen. Beispielsweise wird als ein bekanntes Verfahren eine Glassubstratoberfläche einer chemischen oder physikalischen Oberflächenbehandlung zur Bildung von Unregelmäßigkeiten unterzogen und diese Oberfläche wird dann z. B. mit Fluorwasserstoffsäure geätzt, um die Oberflächengestalt einzustellen (Patentdokument 1).
Als Mittel zum Verhindern einer Reflexion von Licht oder Bildern durch oder in eine(r) Glasoberfläche ist auch eine Technik zur Reflexionsverhinderung bekannt, welche die Oberflächenreflexion verhindert. Als Technik zur Reflexionsverhinderung wurde eine Technik vorgeschlagen, bei der mehrere Schichten, die jeweils geeignete Werte des Brechungsindex und der optischen Filmdicke aufweisen, als optische Interferenzschichten laminiert sind, so dass dadurch die Lichtreflexion, die an der Grenzfläche zwischen dem Laminat und Luft auftritt, vermindert wird (Patentdokument 2).
Dokumente des Standes der Technik
Patentdokumente

Patentdokument 1: JP S61-36140 A
Patentdokument 2: JP 2003-215309 A

Zusammenfassung der Erfindung
Durch die Erfindung zu lösende Probleme
Es wird davon ausgegangen, dass in Fällen, bei denen sowohl eine Antiblendbehandlung als auch die Bildung eines Antireflexionsfilms durchgeführt werden, die Reflexion durch die Glasoberfläche oder in der Glasoberfläche effektiver verhindert werden kann. Es besteht jedoch die Möglichkeit, dass die vorstehend beschriebenen Verfahren ein Problem dahingehend aufweisen könnten, dass der Farbton des Glases ungleichmäßig ist und variiert, d. h., dass eine Ungleichmäßigkeit der Farbe resultiert. Es wird davon ausgegangen, dass dieses Problem auf das Folgende zurückzuführen ist.
Im Verlauf der Antiblendbehandlung gibt es Fälle, bei denen eine extrem dünne Schicht, die einen Mangel an kationischen Komponenten des Glases aufweist und die als Auswaschschicht bezeichnet wird, ungleichmäßig in der Oberfläche des Glassubstrats gebildet wird. Die Auswaschschicht unterscheidet sich von dem Glassubstrat in Bezug auf den Brechungsindex. Folglich verhält sich in Fällen, bei denen ferner ein Antireflexionsfilm darauf ausgebildet ist, die Auswaschschicht so, wie wenn diese Schicht eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex ist, die ungleichmäßig zwischen dem Antireflexionsfilm und dem Glassubstrat angeordnet ist. Es wird davon ausgegangen, dass daher die Ungleichmäßigkeit der Farbe resultiert.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Abdeckglases, das selbst dann weniger zu einer Ungleichmäßigkeit des Farbtons neigt, wenn es sowohl durch eine Antiblendbehandlung als auch durch die Bildung eines Antireflexionsfilms hergestellt worden ist.
Mittel zum Lösen der Probleme
Die vorliegenden Erfinder haben gefunden, dass das vorstehend genannte Problem oder die vorstehend genannten Probleme durch ein Abdeckglas gelöst werden kann oder können, das keine Auswaschschicht aufweist. D. h., die vorliegende Erfindung betrifft das folgende Abdeckglas.

[1] Abdeckglas, umfassend: ein Glassubstrat mit einer konvexen und konkaven Form, die auf mindestens einer der Oberflächen davon durch eine Antiblendbehandlung gebildet worden ist, und einen Antireflexionsfilm, der auf der Oberfläche des Glassubstrats ausgebildet ist, wobei die Oberfläche die konvexe und konkave Form aufweist, wobei eine Differenz Δa* des a*-Werts zwischen jedweden zwei Punkten innerhalb einer Oberfläche des Abdeckglases auf der Seite, auf welcher der Antireflexionsfilm vorliegt, und eine Differenz Δb* zwischen jedweden zwei Punkten innerhalb der Oberfläche des Abdeckglases auf der Seite, auf welcher der Antireflexionsfilm vorliegt, dem folgenden Ausdruck (1) genügen. √{(Δa*)² + (Δb*)²} ≤ 4 (1)
[2] Abdeckglas nach [1], bei dem Δa* und Δb* durch Auswählen von jedwedem quadratischen Abschnitt von 10 cm² als Messbereich von dem Glassubstrat, Aufteilen des Messbereichs in 11 × 11 gleiche Abschnitte, Untersuchen von allen 100 Schnittpunkten von gleich aufteilenden Linien für a*-Werte und b*-Werte, Bestimmen eines Maximumwerts a*_max der a*-Werte, eines Minimumwerts a*_min der a*-Werte, eines Maximumwerts b*_max der b* Werte und eines Minimumwerts b*_min der b*-Werte von den a*-Werten und den b*-Werten und Verwenden einer Differenz (a*_max – a*_min) zwischen a*_max und a*_min als Δa* und einer Differenz (b*_max – b*_min) zwischen b*_max und b*_min als Δb*.
[3] Abdeckglas nach [1] oder [2], bei dem das Glassubstrat einen Mikroriss oder Mikrorisse mit einer maximalen Tiefe von weniger als 3 μm auf dessen Oberfläche aufweist, wobei die Oberfläche die konvexe und konkave Form aufweist.
[4] Abdeckglas nach einem von [1] bis [3], wobei die Oberfläche des Abdeckglases, welche die konvexe und konkave Form aufweist, einen Ionenaustauschgrad von 1% oder mehr und 25% oder weniger aufweist.
[5] Abdeckglas nach [4], bei dem der Ionenaustauschgrad ein Ionenaustauschgrad ist, der unter Verwendung von Aluminium als Index bestimmt worden ist.
[6] Abdeckglas nach einem von [1] bis [5], das eine Trübung von 1% bis 35% aufweist.
[7] Abdeckglas nach einem von [1] bis [6], bei dem der Antireflexionsfilm ein Laminat ist, das eine oder mehrere Schicht(en), die Niob enthält oder enthalten, und eine oder mehrere Schicht(en), die Silizium enthält oder enthalten, umfasst.
[8] Abdeckglas nach einem von [1] bis [7], das eine Lichtreflexion von 2% oder weniger aufweist.
[9] Abdeckglas nach einem von [1] bis [8], das ferner einen Antiverschmutzungsfilm umfasst, der auf dem Antireflexionsfilm angeordnet ist, wobei der Kontaktwinkel von Wasser auf einer Oberfläche des Abdeckglases auf der Seite, auf welcher der Antiverschmutzungsfilm vorliegt, 90° oder größer ist.

Wirkungen der Erfindung
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Abdeckglas bereitgestellt, bei dem die Reflexion durch die Glasoberfläche oder in der Glasoberfläche gering ist und das eine verminderte Ungleichmäßigkeit des Farbtons aufweist.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
1(a) bis 1(d) sind ein Flussdiagramm, das Schritte einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens in der vorliegenden Erfindung zeigt.
2(a) bis 2(f) sind ein Flussdiagramm, das Schritte einer weiteren Ausführungsform des Herstellungsverfahrens in der vorliegenden Erfindung zeigt.
Modi zur Ausführung der Erfindung
Das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung umfasst: ein Glassubstrat mit einer konvexen und konkaven Form, die auf mindestens einer der Oberflächen davon durch eine Antiblendbehandlung gebildet worden ist, und einen Antireflexionsfilm, der auf der Oberfläche des Glassubstrats ausgebildet ist, wobei die Oberfläche die konvexe und konkave Form aufweist, und wobei in dem Abdeckglas eine Differenz Δa* des a*-Werts zwischen jedweden zwei Punkten innerhalb einer Oberfläche des Glases auf der Seite, auf welcher der Antireflexionsfilm vorliegt, und eine Differenz Δb* des b*-Werts zwischen jedweden zwei Punkten innerhalb der Oberfläche des Glases auf der Seite, auf welcher der Antireflexionsfilm vorliegt, dem folgenden Ausdruck (1) genügen. √{(Δa*)² + (Δb*)²} ≤ 4 (1)
Der Ausdruck (1) ist ein Index für die Farbverteilung in der Glasoberfläche. In Fällen, bei denen die linke Seite des Ausdrucks 4 oder weniger beträgt, bedeutet dies, dass Differenzen bei der Farbverteilung in der Glasoberfläche gering sind, d. h., dass die Farbtonvariation gering ist. Der Ausdruck (1) beträgt vorzugsweise 3 oder weniger, mehr bevorzugt 2 oder weniger.
Das Δa* im Ausdruck (1) kann durch Auswählen von jedweden zwei Punkten innerhalb der Glasoberfläche des Abdeckglases auf der Seite, auf welcher der Antireflexionsfilm vorliegt, und Berechnen der Differenz zwischen gemessenen zwei a*-Werten für die Punkte bestimmt werden. Das Δb* kann in der gleichen Weise berechnet werden. a* und b* sind Lichtreflexionen, die aus den spektralen Reflexionen erhalten werden, die durch Untersuchen der Oberfläche des Substrats, das einer Antiblendbehandlung und einer Antireflexionsbehandlung unterzogen worden ist, mit einem spektrophotometrischen Kolorimeter erhalten worden sind (JIS Z8729 (2004)).
Insbesondere ist es bevorzugt, dass Δa* und Δb* durch Auswählen von jedwedem quadratischen Abschnitt von 10 cm² als Messbereich von dem Glassubstrat, Aufteilen des Messbereichs in 11 × 11 gleiche Abschnitte, Untersuchen von allen 100 Schnittpunkten von gleich aufteilenden Linien für a*-Werte und b*-Werte, Bestimmen eines Maximumwerts a*_max der a*-Werte, eines Minimumwerts a*_min der a*-Werte, eines Maximumwerts b*_max der b* Werte und eines Minimumwerts b*_min der b*-Werte von den a*-Werten und den b*-Werten und Verwenden der Differenz (a*_max – a*_min) zwischen a*_max und a*_min als Δa* und der Differenz (b*_max – b*_min) zwischen b*_max und b*_min als Δb* bestimmt werden.
Die Form des Messbereichs ist nicht auf eine quadratische Form beschränkt, solange der Messbereich eine Fläche von 10 cm² aufweist. In dem Fall eines Messbereichs, der nicht quadratisch ist, können 100 Messpunkte in einer geeigneten Weise so ausgewählt werden, dass Verteilungen der Lichtreflexionen a* und b* in dem Messbereich erkannt werden können.
Das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung kann dem Ausdruck (1) genügen, da auf dem Glassubstrat keine Auswaschschicht vorliegt. Der Begriff „Auswaschen” bezeichnet ein Phänomen, bei dem, wenn eine Glasoberfläche mit einer starken Säure oder dergleichen behandelt wird, Kationen, die in einem Oberflächenschichtteil des Glases vorliegen, einer Austauschreaktion mit H⁺-Ionen der Säure unterliegen, und sich die Zusammensetzung des Oberflächenschichtteils des Glases folglich von der Zusammensetzung der Masse unterscheidet. Die auf diese Weise in der Oberfläche ausgebildete extrem dünne Schicht, die eine andere Zusammensetzung aufweist, wird als Auswaschschicht bezeichnet. Beispiele für Verfahren zum Vermeiden der Gegenwart einer Auswaschschicht umfassen ein Verfahren des Entfernens der Auswaschschicht, die durch eine Antiblendbehandlung gebildet worden ist, ein Verfahren des Durchführens einer Antiblendbehandlung, das weniger zur Bildung einer Auswaschschicht neigt, und dergleichen.
Das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung weist einen Ionenaustauschgrad von vorzugsweise 25% oder weniger, vorzugsweise 23% oder weniger, mehr bevorzugt 20% oder weniger, noch mehr bevorzugt 15% oder weniger, insbesondere 10% oder weniger auf. Der Ionenaustauschgrad des Abdeckglases beträgt vorzugsweise 1% oder mehr. Der Ionenaustauschgrad ist als ein Wert festgelegt, der durch Dividieren des Gehalts von Kationen von jedweder Art in dem extrem dünnen Oberflächenbereich des Glases durch den Gehalt von Kationen der gleichen Art in dem Masseteil des Glases erhalten wird, und es ist ein Index für den Grad des Mangels von Kationen in dem Glas.
Beispiele für die Kationenkomponente umfassen Natrium, Kalium und Aluminium. Der Ausdruck „extrem dünner Oberflächenbereich des Glases” steht für einen Bereich, der von der Glasoberfläche bis 5 nm reicht. Der Begriff „Masseteil” steht für einen Bereich, der sich von einer Tiefe von 30 nm von der Glasoberfläche einwärts erstreckt. In dem Fall, bei dem das Glas ein Natronkalkglas ist, ist es bevorzugt, Natrium für den Index zu verwenden. In dem Fall eines Aluminosilikatglases ist es bevorzugt, Aluminium oder Kalium für den Index zu verwenden. In dieser Anmeldung wurde Aluminium für den Index in dem Fall eines Aluminosilikatglases verwendet. Solange der Ionenaustauschgrad innerhalb dieses Bereichs liegt, ist die Differenz des Brechungsindex zwischen dem Masseteil und dem extrem dünnen Oberflächenbereich ausreichend vernachlässigbar und die Abscheidung eines Antireflexionsfilms darauf übt einen vernachlässigbaren Einfluss auf das Spektrum aus.
Die Glaszusammensetzung des extrem dünnen Oberflächenbereichs kann z. B. durch eine Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) bestimmt werden. Die Glaszusammensetzung des Masseteils kann z. B. durch XPS, eine Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF), usw., bestimmt werden.
Die Dicke der Ionenaustauschschicht vor der Entfernung, d. h., der Auswaschschicht, die von der äußersten Oberfläche des Glassubstrats gemessen wird, beträgt vorzugsweise 10 nm oder weniger, mehr bevorzugt 8 nm oder weniger, noch mehr bevorzugt 6 nm oder weniger. Es ist auch bevorzugt, dass die Dicke der Ionenaustauschschicht vor der Entfernung, d. h., der Auswaschschicht, größer als 1 nm ist. Solange die Dicke der Auswaschschicht vor der Entfernung 10 nm oder weniger beträgt, kann nicht nur diese Auswaschschicht effizient entfernt werden, sondern es können schließlich auch ein geeigneter Antiblendeffekt und gleichmäßige Reflexionseigenschaften erhalten werden. Solange die Dicke der Auswaschschicht vor der Entfernung größer als 1 nm ist, können der minimal erforderliche Antiblendeffekt und gleichmäßige Reflexionseigenschaften erhalten werden. Solche Dicken der Auswaschschicht sind somit bevorzugt.
<Glassubstrat>
Als Glassubstrat in der vorliegenden Erfindung kann jedwedes von Gläsern mit verschiedenen Zusammensetzungen verwendet werden.
Beispielsweise ist es bevorzugt, dass das Glas, das in der vorliegenden Erfindung verwendet werden soll, Natrium enthält und eine Zusammensetzung aufweist, die das Glas formbar und durch eine chemische Härtungsbehandlung härtbar macht. Spezifische Beispiele dafür umfassen Aluminosilikatglas, Natronkalkglas, Borosilikatglas, Bleiglas, Alkali-Barium-Gläser und Aluminoborosilikatglas.
Die Zusammensetzung des Glases in der vorliegenden Erfindung ist nicht speziell beschränkt, jedoch umfassen Beispiele dafür die folgenden Glaszusammensetzungen.

(i) Ein Glas, das in mol-%, von 50% bis 80% SiO₂, von 2% bis 25% Al₂O₃, von 0% bis 10% Li₂O, von 0% bis 18% bis Na₂O, von 0% bis 10% K₂O, von 0% bis 15% MgO, von 0% bis 5% CaO und von 0% bis 5% ZrO₂ umfasst.
(ii) Ein Glas, das in mol-%, von 50% bis 74% SiO₂, von 1% bis 10% Al₂O₃, von 6% bis 14% Na₂O, von 3% bis 11% K₂O, von 2% bis 15% MgO, von 0% bis 6% CaO und von 0% bis 5% ZrO₂ umfasst, und bei dem der Gesamtgehalt von SiO₂ und Al₂O₃ 75% oder weniger beträgt, der Gesamtgehalt von Na₂O und K₂O 12% bis 25% beträgt und der Gesamtgehalt von MgO und CaO 7% bis 15% beträgt
(iii) Ein Glas, das in mol-%, von 68% bis 80% SiO₂, von 4% bis 10% Al₂O₃, von 5% bis 15% Na₂O, von 0% bis 1% K₂O, von 4% bis 15% MgO und von 0% bis 1% ZrO₂ umfasst
(iv) Ein Glas, das in mol-%, von 67% bis 75% SiO₂, von 0% bis 4% Al₂O₃, von 7% bis 15% Na₂O, von 1% bis 9% K₂O, von 6% bis 14% MgO und von 0% bis 1,5% ZrO₂ umfasst, und bei dem der Gesamtgehalt von SiO₂ und Al₂O₃ 71% bis 75% beträgt, der Gesamtgehalt von Na₂O und K₂O 12% bis 20% beträgt und der Gehalt von CaO, wenn es enthalten ist, weniger als 1% beträgt

Verfahren zur Herstellung des Glases sind nicht speziell beschränkt. Das Glas kann durch Einbringen von gewünschten Ausgangsmaterialien für ein Glas in einen kontinuierlichen Schmelzofen, Erwärmen und Schmelzen der Ausgangsmaterialien für ein Glas vorzugsweise bei 1500°C bis 1600°C, Klären der Schmelze, Zuführen der geklärten Schmelze zu einer Formvorrichtung zum Formen des geschmolzenen Glases zu einer Plattenform und allmählich Abkühlen des geformten Glases hergestellt werden.
Zum Formen des Glases können verschiedene Verfahren eingesetzt werden. Geeignete Beispiele für verschiedene Formverfahren umfassen Abziehverfahren („Downdraw”-Verfahren) (z. B. ein Überfließ-Abziehverfahren („Overflow-Downdraw”-Verfahren), ein „Slot-down”-Verfahren und ein „Redraw”-Verfahren), ein Floatverfahren, ein „Rolling-out”-Verfahren und ein Pressen.
Die Dicke des Glases ist nicht speziell beschränkt. In dem Fall des Durchführens einer chemischen Härtungsbehandlung beträgt die Dicke des Glases im Hinblick auf eine effektive Durchführung der Behandlung jedoch üblicherweise bevorzugt 5 mm oder weniger, mehr bevorzugt 3 mm oder weniger.
Es ist bevorzugt, dass das Glassubstrat im Hinblick auf die Erhöhung der Festigkeit des Abdeckglases chemisch gehärtet worden ist. Das chemische Härten wird nach einer Antiblendbehandlung und vor der Bildung eines Antireflexionsfilms durchgeführt. Ein spezifisches Verfahren dafür wird später in dem Abschnitt des Verfahrens zur Herstellung beschrieben.
<Antiblendbehandlung>
Bei dem Abdeckglas der vorliegenden Erfindung ist mindestens eine der Oberflächen des Glassubstrats einer Antiblendbehandlung (auch als „AG-Behandlung” bezeichnet) unterzogen worden. Verfahren für die Antiblendverarbeitung sind nicht speziell beschränkt und geeignete Beispiele dafür umfassen ein Verfahren, bei dem eine Hauptoberfläche des Glases einer Oberflächenbehandlung zur Bildung von gewünschten Unregelmäßigkeiten unterzogen wird.
Insbesondere umfassen Beispiele für das Verfahren ein Verfahren, bei dem eine erste Hauptoberfläche des Glassubstrats einer chemischen Behandlung, wie z. B. einer Mattierungsbehandlung, unterzogen wird. Die Mattierungsbehandlung kann z. B. durch Eintauchen des Glassubstrats als zu behandelnder Gegenstand in eine Mischlösung aus Fluorwasserstoff und Ammoniumfluorid zum chemischen Behandeln der darin eingetauchten Oberfläche durchgeführt werden.
Geeignete Beispiele neben Verfahren auf der Basis einer solchen chemischen Behandlung umfassen Verfahren auf der Basis einer physikalischen Behandlung, wie z. B. das sogenannte Sandstrahlen, bei dem ein kristallines Siliziumdioxidpulver, Siliziumcarbidpulver oder dergleichen durch Pressluft gegen die Oberfläche des Glassubstrats geblasen wird, oder ein Schleifen mit einer Bürste, die mit Borsten versehen ist, die ein kristallines Siliziumdioxidpulver, Siliziumcarbidpulver oder dergleichen aufweisen, das daran haftet, und die mit Wasser befeuchtet worden sind.
Insbesondere in dem Verfahren, bei dem eine Mattierungsbehandlung zum chemischen Behandeln der Glassubstratoberfläche mit einer flüssigen Chemikalie, wie z. B. Fluorwasserstoffsäure, durchgeführt wird, ist es weniger wahrscheinlich, dass Mikrorisse in der Oberfläche des behandelten Gegenstands gebildet werden, und es ist weniger wahrscheinlich, dass eine Verminderung der mechanischen Festigkeit auftritt. Dieses Verfahren kann somit in einer vorteilhaften Weise als Verfahren zum Behandeln der Glassubstratoberfläche verwendet werden. Die Oberfläche des Glassubstrats, auf dem durch die Antiblendbehandlung Unregelmäßigkeiten gebildet worden sind, kann Mikrorisse mit einer maximalen Tiefe von weniger als 3 μm aufweisen. Dies ist darauf zurückzuführen, dass Mikrorisse mit einer solchen Größe weniger dazu neigen, eine Verminderung der mechanischen Festigkeit zu verursachen.
Nachdem auf diese Weise Unregelmäßigkeiten durch eine chemische Oberflächenbehandlung (Mattierungsbehandlung) oder eine physikalische Oberflächenbehandlung gebildet worden sind, wird die Glasoberfläche im Allgemeinen chemisch geätzt, um die Oberflächenform auszubilden. Durch dieses Ätzen kann die Trübung gemäß dem Ätzausmaß auf einen gewünschten Wert eingestellt werden und die Risse, die durch das Sandstrahlen oder dergleichen gebildet worden sind, können beseitigt werden. Ferner kann ein Glänzen vermindert werden.
Beispiele für bevorzugte Verfahren für das Ätzen umfassen ein Verfahren des Eintauchens des Glassubstrats als zu behandelnden Gegenstand in eine Lösung, die Fluorwasserstoff als eine Hauptkomponente umfasst. Diese Lösung kann eine Säure, wie z. B. Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure oder Zitronensäure als eine Komponente enthalten, die von Fluorwasserstoff verschieden ist. Aufgrund des Einbeziehens der Säure kann verhindert werden, dass kationische Komponenten, die in dem Glas enthalten sind, mit dem Fluorwasserstoff reagieren und dadurch lokal eine Fällungsreaktion verursachen, und das Ätzen kann somit gleichmäßig in der gesamten Oberfläche ablaufen.
Bezüglich der Oberflächenform nach der AG-Behandlung beträgt die Oberflächenrauheit (RMS) vorzugsweise 0,01 μm bis 0,5 μm, mehr bevorzugt 0,01 μm bis 0,3 μm, noch mehr bevorzugt 0,01 μm bis 0,2 μm.
Die RMS kann gemäß dem Verfahren bestimmt werden, das in JIS B 0601 (2001) festgelegt ist. Insbesondere wurde ein Lasermikroskop (Handelsbezeichnung VK-9700, von Keyence Corporation hergestellt) zur Untersuchung einer Messoberfläche eines Prüfkörpers bezüglich eines Sichtfelds mit einer auf 300 μm × 200 μm eingestellten Fläche verwendet, um eine Höheninformation des Substrats zu erhalten, und ein Wert der RMS wurde durch Unterziehen der erhaltenen Daten einer Grenzwertkorrektur und Berechnen des quadratischen Mittelwerts der erhaltenen Höhen bestimmt. Bei der Durchführung dieser Messung ist es bevorzugt, 0,08 mm als Grenzwert zu verwenden. Es ist bevorzugt, dass kreisförmige Löcher mit einer Größe von 10 μm oder weniger in der Prüfkörperoberfläche untersucht werden. Wenn die Größe der kreisförmigen Löcher innerhalb eines solchen Bereichs liegt, können sowohl ein Verhindern eines Glänzens als auch Antiblendeigenschaften erhalten werden.
Es wird davon ausgegangen, dass in diesem Ätzschritt eine Auswaschschicht gebildet wird. Insbesondere wird davon ausgegangen, dass die Gegenwart einer Säure bewirkt, dass kationische Komponenten, die in der Glasoberfläche vorliegen, selektiv gelöst werden und dadurch eine Tendenz dahingehend besteht, dass in der Glasoberfläche eine Auswaschschicht gebildet wird. Es ist daher bevorzugt, dass insbesondere in dem Fall, bei dem das Verfahren einen Schritt umfasst, bei dem das Ätzen unter Verwendung einer Lösung durchgeführt wird, die eine Säure enthält, die Auswaschschicht nach dem Schritt entfernt wird, wie es später beschrieben wird.
<Antireflexionsfilm>
Das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung weist einen Antireflexionsfilm auf, der auf der Antiblend-behandelten Oberfläche des Glassubstrats durch Durchführen einer Antireflexionsfilmbehandlung (auch als „AR-Behandlung” bezeichnet) angeordnet worden ist.
Das Material des Antireflexionsfilms ist nicht speziell beschränkt und jedwedes von verschiedenen Materialien, welche die Reflexion von Licht hemmen können, kann eingesetzt werden. Beispielsweise kann der Antireflexionsfilm einen Aufbau aufweisen, der aus laminierten Schichten zusammengesetzt ist, die eine Schicht mit hohem Brechungsindex und eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex umfassen. Die Schicht mit hohem Brechungsindex ist hier eine Schicht, die einen Brechungsindex von 1,9 oder höher bei einer Wellenlänge von 550 nm aufweist, während die Schicht mit niedrigem Brechungsindex eine Schicht ist, die einen Brechungsindex von 1,6 oder niedriger bei einer Wellenlänge von 550 nm aufweist.
Der Antireflexionsfilm kann eine Schicht mit hohem Brechungsindex und eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex umfassen oder er kann einen Aufbau aufweisen, der zwei oder mehr Schichten mit hohem Brechungsindex und zwei oder mehr Schichten mit niedrigem Brechungsindex umfasst. In dem Fall, bei dem der Antireflexionsfilm zwei oder mehr Schichten mit hohem Brechungsindex und zwei oder mehr Schichten mit niedrigem Brechungsindex umfasst, ist es bevorzugt, dass dieser Antireflexionsfilm ein Antireflexionsfilm ist, in dem die Schichten mit hohem Brechungsindex und die Schichten mit niedrigem Brechungsindex abwechselnd laminiert worden sind.
Insbesondere im Hinblick auf die Verbesserung des Antireflexionsleistungsvermögens ist es bevorzugt, dass der Antireflexionsfilm ein Laminat ist, das durch Laminieren einer Mehrzahl von Schichten gebildet wird. Beispielsweise ist das Laminat vorzugsweise aus insgesamt zwei bis sechs laminierten Schichten zusammengesetzt und es ist mehr bevorzugt aus insgesamt zwei bis vier laminierten Schichten zusammengesetzt. Dieses Laminat ist vorzugsweise ein Laminat, das aus laminierten Schichten zusammengesetzt ist, die eine oder mehrere Schicht(en) mit hohem Brechungsindex und eine oder mehrere Schicht(en) mit niedrigem Brechungsindex umfassen, wie es vorstehend beschrieben ist, und es bevorzugt, dass die Gesamtzahl der Schichten mit hohem Brechungsindex und der Schichten mit niedrigem Brechungsindex innerhalb dieses Bereichs liegt.
Die Materialien jeder Schicht mit hohem Brechungsindex und jeder Schicht mit niedrigem Brechungsindex sind nicht speziell beschränkt und können unter Berücksichtigung des erforderlichen Grads der Reflexionsverhinderung, Herstellungseffizienz, usw., ausgewählt werden. Als Material, das die Schicht mit hohem Brechungsindex bildet, kann z. B. ein Material in vorteilhafter Weise verwendet werden, das ein oder mehrere Element(e) enthält, das oder die aus Niob, Titan, Zirkonium, Tantal und Silizium ausgewählt ist oder sind. Spezielle Beispiele dafür umfassen Nioboxid (Nb₂O₅), Titanoxid (TiO₂), Zirkoniumoxid (ZrO₂), Tantaloxid (Ta₂O₅) und Siliziumnitrid. Als Material, das die Schicht mit niedrigem Brechungsindex bildet, kann z. B. ein Material in vorteilhafter Weise verwendet werden, das Silizium enthält. Spezielle Beispiele dafür umfassen Siliziumoxid (SiO₂), ein Material, das ein Mischoxid aus Si und Sn umfasst, ein Material, das ein Mischoxid aus Si und Zr umfasst, und ein Material, das ein Mischoxid aus Si und Al umfasst.
Im Hinblick auf die Herstellungseffizienz und den Grad des Brechungsindex ist es mehr bevorzugt, dass die Schicht mit hohem Brechungsindex eine Schicht ist, die aus einer Niob-enthaltenden Schicht und einer Tantal-enthaltenden Schicht ausgewählt ist, und die Schicht mit niedrigem Brechungsindex eine Silizium-enthaltende Schicht ist, und es ist noch mehr bevorzugt, dass die Schicht mit hohem Brechungsindex aus einer Niob-enthaltenden Schicht ausgebildet ist. Insbesondere ist es bevorzugt, dass der Antireflexionsfilm ein Laminat ist, das eine oder mehrere Niob-enthaltende Schicht(en) und eine oder mehrere Silizium-enthaltende Schicht(en) umfasst.
Bei dem Abdeckglas der vorliegenden Erfindung reichen die Antiblendbehandlung und die Bildung eines Antireflexionsfilms auf mindestens einer der Hauptoberflächen des Glassubstrats aus. Das Abdeckglas kann jedoch einen Aufbau aufweisen, bei dem Antiblendunregelmäßigkeiten und ein Antireflexionsfilm je nach Erfordernis auf jeder der beiden Hauptoberflächen des Glassubstrats angeordnet sind.
Verfahren zur Bildung des Antireflexionsfilms werden in dem Abschnitt des Verfahrens zur Herstellung detailliert beschrieben.
<Antiverschmutzungsfilm>
Das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung kann im Hinblick auf einen Schutz der Glasoberfläche einen Antiverschmutzungsfilm (auch als „Antifingerabdruckfilm(AFP)-Film” bezeichnet) auf dem Antireflexionsfilm aufweisen. Der Antiverschmutzungsfilm kann z. B. aus einer Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung ausgebildet sein. Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindungen, die Antiverschmutzungseigenschaften, eine Wasserabstoßung und eine Ölabstoßung verleihen, können ohne spezielle Beschränkungen verwendet werden. Beispiele dafür umfassen Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindungen, die eine oder mehrere Gruppe(n) aufweisen, die aus der Gruppe, bestehend aus Polyfluorpolyethergruppen, Polyfluoralkylengruppen und Polyfluoralkylgruppen, ausgewählt sind. Der Begriff „Polyfluorpolyethergruppe” steht für eine zweiwertige Gruppe, die eine Struktur aufweist, in der eine Polyfluoralkylengruppe und ein Ethersauerstoffatom abwechselnd gebunden sind.
Spezifische Beispiele für die Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungen, die eine oder mehrere Gruppe(n) aufweisen, die aus der Gruppe, bestehend aus Polyfluorpolyethergruppen, Polyfluoralkylengruppen und Polyfluoralkylgruppen, ausgewählt sind, umfassen Verbindungen, die durch die folgenden allgemeinen Formeln (I) bis (V) dargestellt sind. [Chem. 1]
In der Formel ist Rf eine lineare Polyfluoralkylgruppe mit 1 bis 16 Kohlenstoffatomen (Beispiele für die Alkylgruppe umfassen Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl und n-Butyl), X ist ein Wasserstoffatom oder eine Niederalkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen (z. B. Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, usw.), R1 ist eine hydrolysierbare Gruppe (z. B. Amino, ein Alkoxy, usw.) oder ein Halogenatom (z. B. Fluor, Chlor, Brom, Iod, usw.), m ist eine ganze Zahl von 1 bis 50, vorzugsweise 1 bis 30, n ist eine ganze Zahl von 0 bis 2, vorzugsweise 1 oder 2, und p ist eine ganze Zahl von 1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 8. C_qF_2q+1CH₂CH₂Si(NH₂)₃ (II)
In der Formel ist q eine ganze Zahl von 1 oder größer, vorzugsweise 2 bis 20.
Beispiele für die Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (II) dargestellt sind, umfassen n-Trifluor(1,1,2,2-tetrahydro)propylsilazan (n-CF₃CH₂CH₂Si(NH₂)₃) und n-Heptafluor(1,1,2,2-tetrahydro)pentylsilazan (n-C₃F₇CH₂CH₂Si(NH₂)₃). C_q'F_2q'+1CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ (III)
In der Formel ist q' eine ganze Zahl von 1 oder größer, vorzugsweise 1 bis 20.
Beispiele für die Verbindungen, die durch die allgemeine Formel (III) dargestellt sind, umfassen 2-(Perfluoroctyl)ethyltrimethoxysilan (n-C₈F₁₇CH₂CH₂Si(OCH₃)₃). [Chem. 2]
In der Formel (IV) ist R^f2 eine zweiwertige lineare Polyfluorpolyethergruppe, die durch -(OC₃F₆)_s-(OC₂F₄)_t-(OCF₂)_u- dargestellt ist (s, t und u sind jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 0 bis 200), und R² und R³ sind jeweils unabhängig eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen (z. B. Methyl, Ethyl, n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, usw.). X₂ und X₃ sind jeweils unabhängig eine hydrolysierbare Gruppe (z. B. eine Amino-, Alkoxy-, Acyloxy-, Alkenyloxy- oder Isocyanatgruppe, usw.) oder ein Halogenatom (z. B. ein Fluor-, Chlor-, Brom- oder Iodatom, usw.), d und e sind jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 1 oder 2, c und f sind jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 1 bis 5 (vorzugsweise 1 oder 2) und a und b sind jeweils unabhängig 2 oder 3.
In R^f2 der Verbindung (IV) beträgt s + t + u vorzugsweise 20 bis 300, mehr bevorzugt 25 bis 100. Es ist mehr bevorzugt, dass R² und R³ Methyl, Ethyl oder Butyl sind. Die hydrolysierbaren Gruppen, die durch X² und X³ dargestellt sind, sind mehr bevorzugt Alkoxygruppen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen und besonders bevorzugt Methoxy oder Ethoxy. Ferner ist es bevorzugt, dass a und b jeweils 3 sind.
[Chem. 3]
F-(CF₂)_v-(OC₃F₆)_w-(OC₂F₄)_y-(OCF₂)_z(CH₂)_hO(CH₂)_i-Si(X⁴)_3-k(R⁴)_k (V)
In der Formel (V) ist v eine ganze Zahl von 1 bis 3, w, y und z sind jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 0 bis 200, h ist 1 oder 2, i ist eine ganze Zahl von 2 bis 20, X⁴ ist eine hydrolysierbare Gruppe, R⁴ ist eine lineare oder verzweigte Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 22 Kohlenstoffatomen und k ist eine ganze Zahl von 0 bis 2. Der Wert von w + y + z beträgt vorzugsweise 20 bis 300, mehr bevorzugt 25 bis 100. Es ist mehr bevorzugt, dass i 2 bis 10 ist. X⁴ ist vorzugsweise eine Alkoxygruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, mehr bevorzugt Methoxy oder Ethoxy. R⁴ ist mehr bevorzugt eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen.
Handelsübliche Produkte der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungen mit einer oder mehreren Gruppe(n), die aus der Gruppe, bestehend aus Polyfluorpolyethergruppen, Polyfluoralkylengruppen und Polyfluoralkylgruppen, ausgewählt ist oder sind, umfassen KP-801 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY178 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-130 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY-185 (Handelsbezeichnung, hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) und Optool (eingetragene Marke) DSX und Optool AES (beides Handelsbezeichnungen, hergestellt von Daikin Industries, Ltd.). Diese handelsüblichen Produkte können vorteilhaft verwendet werden.
Der Antiverschmutzungsfilm ist auf dem Antireflexionsfilm laminiert. In dem Fall, bei dem ein Antireflexionsfilm auf jeder von beiden Hauptoberflächen des Glassubstrats abgeschieden worden ist, kann der Antiverschmutzungsfilm auf jedem von beiden Antireflexionsfilmen ausgebildet sein. Ein Aufbau, bei dem der Antiverschmutzungsfilm auf nur einem der zwei Antireflexionsfilme laminiert ist, kann jedoch verwendet werden. Dies ist darauf zurückzuführen, dass die Bildung eines Antiverschmutzungsfilms mindestens auf dem Abschnitt, bei dem ein Kontakt mit menschlichen Fingern, usw., möglich ist, ausreicht. Die Bildung kann gemäß der vorgesehenen Verwendung, usw., ausgewählt werden.
<Kontaktwinkel>
Es ist bevorzugt, dass das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung einen Kontaktwinkel von Wasser von 90° oder größer aufweist. Folglich weist die Abdeckglasoberfläche eine Wasserabstoßung und eine Ölabstoßung auf und dieses Abdeckglas neigt weniger zu einem Anhaften von Verschmutzungssubstanzen daran. Beispiele für Mittel zum Einstellen von dessen Kontaktwinkel auf 90° oder größer umfassen das Anordnen des Antiverschmutzungsfilms.
<Trübung>
Die Trübung des Abdeckglases der vorliegenden Erfindung beträgt vorzugsweise 1% bis 35%, mehr bevorzugt 2% bis 35%, noch mehr bevorzugt 2% bis 25%. Solange die Trübung innerhalb dieses Bereichs liegt, kann ein Abdeckglas, das die gewünschten Antiblendeigenschaften aufweist und dennoch nur einen geringen Einfluss auf die Auflösung des Anzeigegegenstands ausübt, erhalten werden. Die Trübung ist in JIS K 7136 festgelegt.
Die Trübung kann durch Einstellen des Ätzzeitraums in der AG-Behandlung eingestellt werden.
<Reflexion>
Es ist bevorzugt, dass das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung eine Lichtreflexion von 2% oder weniger aufweist. Solange dessen Lichtreflexion innerhalb dieses Bereichs liegt, kann eine Reflexion in der Abdeckglasoberfläche ausreichend verhindert werden. Die Lichtreflexion ist in JIS Z8701 festgelegt. Als Leuchtmittel wurde das Leuchtmittel D65 verwendet.
<Verfahren zur Herstellung des Abdeckglases>
Das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung kann z. B. durch die folgenden Schritte hergestellt werden, jedoch sind geeignete Herstellungsverfahren nicht darauf beschränkt. Schritt 1, Antiblendbehandlung, Schritt 2, chemisches Härten, Schritt 3, Entfernung der Auswaschschicht, Schritt 4, Bildung des Antireflexionsfilms, Schritt 5, Bildung des Antiverschmutzungsfilms.
Das chemische Härten als Schritt 2, die Entfernung der Auswaschschicht als Schritt 3 und die Bildung des Antiverschmutzungsfilms als Schritt 5 können jeweils je nach Erfordernis durchgeführt werden. Es kann je nach Erfordernis auch eine Druckbehandlung durchgeführt werden.
Es ist bevorzugt, dass die chemische Härtungsbehandlung als Schritt 2 zwischen der Antiblendbehandlung als Schritt 1 und der Bildung des Antireflexionsfilms als Schritt 4 durchgeführt wird. Die chemische Härtung als Schritt 2 und die Entfernung der Auswaschschicht als Schritt 3 können in der umgekehrten Reihenfolge durchgeführt werden. Im Hinblick auf die Minimierung von Substanzen, die an dem Glassubstrat haften, das der Bildung des Antireflexionsfilms unterzogen werden soll, ist es jedoch bevorzugt, die Entfernung der Auswaschschicht unmittelbar vor der Bildung des Antireflexionsfilms durchzuführen.
Die Druckbehandlung ist eine Behandlung, in der, wenn das Abdeckglas dekoriert werden soll, ein Muster gemäß den vorgesehenen Verwendungen oder Anwendungen, wie z. B. bei einem Rahmendrucken oder Logodrucken, in einer geeignet ausgewählten Farbe oder geeignet ausgewählten Farben gedruckt wird. Obwohl jedwedes von bekannten Druckverfahren eingesetzt werden kann, ist ein z. B. ein Siebdrucken geeignet.
Es ist bevorzugt, dass die Druckbehandlung zwischen der Antiblendbehandlung als Schritt 1 und der Bildung des Antireflexionsfilms als Schritt 4 und nach der Entfernung der Auswaschschicht als Schritt 3 durchgeführt wird, um zu verhindern, dass der gedruckte Abschnitt durch das Ätzen oder eine andere Behandlung für die Entfernung der Auswaschschicht beeinflusst wird.
In dem Fall, bei dem sowohl eine chemische Härtungsbehandlung als auch eine Druckbehandlung durchgeführt werden, ist es bevorzugt, die chemische Härtungsbehandlung, die Entfernung der Auswaschschicht und die Druckbehandlung in dieser Reihenfolge durchzuführen.
Es ist bevorzugt, dass die Bildung des Antiverschmutzungsfilms nach dem letzten Schritt durchgeführt wird, d. h., nach der Bildung des Antireflexionsfilms, da der Antiverschmutzungsfilm ein Film ist, der zum Schützen der Glasoberfläche gebildet wird.
Die 1(a) bis 1(d) zeigen ein Flussdiagramm von Schritten, die eine Ausführungsform des Herstellungsverfahrens in der vorliegenden Erfindung zeigen. Von den Hauptoberflächen 10a und 10b eines Glassubstrats 10 wird die Hauptoberfläche 10a einer Antiblendbehandlung unterzogen (1(a)). Die Glasoberfläche 10a, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist, weist nicht nur darin ausgebildete Unregelmäßigkeiten auf (nicht gezeigt), sondern liegt auch in einem Zustand vor, bei dem Kationen, die in dem Glas enthalten sind, durch H⁺-Ionen ersetzt sind, die in der Säure enthalten sind, wodurch eine Auswaschschicht 10R in einem Oberflächenschichtteil ausgebildet wird (1(b)). Diese Auswaschschicht 10R wird durch mindestens ein Verfahren entfernt, das aus Ätzen und Schleifen ausgewählt ist (1(c)). Diese Behandlung zur Entfernung der Auswaschschicht führt nicht zu einer Beseitigung der Unregelmäßigkeiten, die durch die Antiblendbehandlung gebildet worden sind. Ferner wird ein Antireflexionsfilm 20 auf der Glashauptoberfläche 10a gebildet, von der die Auswaschschicht entfernt worden ist (1(d)).
Die 2(a) bis 2(f) zeigen ein Flussdiagramm von Schritten, die eine weitere Ausführungsform des Herstellungsverfahrens in der vorliegenden Erfindung zeigen. Eine Hauptoberfläche 10a eines Glassubstrats 10 wird einer Antiblendbehandlung unterzogen und die Glasoberfläche 10a, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist, weist darin ausgebildete Unregelmäßigkeiten (nicht gezeigt) auf, und sie weist eine darin ausgebildete Auswaschschicht 10R auf (2(a) und 2(b)). Anschließend wird dieses Glassubstrat chemisch gehärtet, wodurch eine Druckspannungsschicht 10E als eine Oberflächenschicht in dem Glassubstrat gebildet wird (2(c)). Die Druckspannungsschicht 10E wird bis zu einem Ausmaß einer größeren Tiefe gebildet als die Auswaschschicht 10R. Danach wird die Auswaschschicht 10R entfernt (2(d)), und ein Antireflexionsfilm 20 wird auf der Oberfläche gebildet, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist (2(e)). Ferner wird auf dem Antireflexionsfilm 20 ein Antiverschmutzungsfilm 30 gebildet (2(f)).
Jeder Schritt wird nachstehend erläutert.
<Schritt 1: Antiblendbehandlung>
Ein spezifisches Verfahren für eine Antiblendbehandlung ist derart, wie es vorstehend bei der Erläuterung des Abdeckglases detailliert beschrieben worden ist. Insbesondere wird mindestens eine der Oberflächen eines Glassubstrats einer chemischen Oberflächenbehandlung oder einer physikalischen Oberflächenbehandlung unterzogen, wodurch Unregelmäßigkeiten gebildet werden, und dann entweder mit einer Fluorwasserstofflösung oder einer Lösung, die sowohl Fluorwasserstoff als auch eine Säure enthält, geätzt, wodurch eine Antiblendbehandlung durchgeführt wird.
Es ist bevorzugt, dass ein Formen gemäß Anwendungen, wie z. B. einem Bearbeiten wie Fräsen, Kantenoberflächenbearbeiten und Bohren, durchgeführt wird, bevor das Glassubstrat dem nachstehend beschriebenen chemischen Härten unterzogen wird.
<Schritt 2: Chemisches Härten>
Für das chemische Härten können herkömmliche Verfahren eingesetzt werden. Beispielsweise ist ein chemisches Härten durch einen sogenannten Ionenaustausch möglich, bei dem Metallionen mit einem kleinen Ionenradius (z. B. Na-Ionen), die in dem Glas enthalten sind, durch Metallionen mit einem größeren Ionenradius (z. B. K-Ionen), ersetzt werden, wodurch eine Druckspannungsschicht in der Glasoberfläche erhalten wird und folglich die Festigkeit des Glases verbessert wird.
Insbesondere wird das Glassubstrat, das der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist, in ein oder mehrere geschmolzene(s) Salz(e) eingetaucht, so dass eine Druckspannungsschicht in den Oberflächen des Glases gebildet wird. Beispiele für die geschmolzenen Salze umfassen anorganische Kaliumsalze. Bei den anorganischen Kaliumsalzen handelt es sich vorzugsweise um Salze, die bei Temperaturen nicht höher als der untere Kühlpunkt (üblicherweise 500°C bis 600°C) des Glases, das chemisch gehärtet werden soll, in einem geschmolzenen Zustand vorliegen. Beispielsweise ist es bevorzugt, dass die geschmolzenen Salze Kaliumnitrat (Schmelzpunkt 330°C) umfassen. Anorganische Kaliumsalze, die von Kaliumnitrat verschieden sind, können als geschmolzene Salze enthalten sein. Beispiele dafür umfassen Kombinationen mit einem oder mehreren Salz(en), das oder die aus Alkalisulfaten und Alkalichloriden, wie z. B. Kaliumsulfat und Kaliumchlorid, sowie Kaliumcarbonat und dergleichen, ausgewählt ist oder sind.
Die Temperatur, bei der das Glas vorgewärmt wird, hängt von der Temperatur ab, bei der die chemische Härtungsbehandlung durchgeführt werden soll (Temperatur des Salzbads). Die Vorwärmtemperatur beträgt jedoch im Allgemeinen vorzugsweise 100°C oder mehr.
Es ist bevorzugt, dass die Temperatur für die chemische Härtungsbehandlung des Glases nicht höher als der untere Kühlpunkt (üblicherweise 500°C bis 600°C) des zu härtenden Glases ist. Im Hinblick auf das Erhalten einer größeren Druckspannungstiefe (Tiefe der Schicht, DOL) ist die Temperatur des chemischen Härtens vorzugsweise 350°C oder höher.
Der Eintauchzeitraum, während dem das Glas in die geschmolzenen Salze eingetaucht wird, beträgt vorzugsweise 10 Minuten bis 12 Stunden, mehr bevorzugt 30 Minuten bis 10 Stunden. Solange der Eintauchzeitraum innerhalb dieses Bereichs liegt, kann ein chemisch gehärtetes Glas mit einer hervorragenden Ausgewogenheit zwischen der Festigkeit und der Tiefe der Druckspannungsschicht erhalten werden.
Als chemischer Härtungstank zum Durchführen der chemischen Härtungsbehandlung darin können Metalle, Quarz, Keramik und dergleichen verwendet werden. Von diesen sind metallische Materialien im Hinblick auf die Dauerbeständigkeit bevorzugt. Im Hinblick auf die Korrosionsbeständigkeit sind Materialien aus rostfreiem Stahl (SUS) bevorzugt.
<Schritt 3: Entfernung der Auswaschschicht>
In dem Fall, bei dem die Antiblendbehandlung zur Bildung einer Auswaschschicht auf der Glasoberfläche geführt hat, wird diese Auswaschschicht entfernt. Insbesondere umfassen Beispiele für Verfahren dafür ein chemisches Verfahren, bei dem die Glasoberfläche z. B. mit einer flüssigen Chemikalie geätzt wird, und ein physikalisches Verfahren, bei dem die Glasoberfläche z. B. mit einem abrasiven Material geschliffen wird.
Beispiele für das Verfahren zum Ätzen umfassen ein Verfahren, bei dem das Glassubstrat einer Säurebehandlung unterzogen wird, ein Verfahren, bei dem das Glassubstrat einer Alkalibehandlung unterzogen wird, oder ein Verfahren, bei dem das Glassubstrat einer Säurebehandlung und dann einer Alkalibehandlung unterzogen wird.
Die Säurebehandlung wird durch Eintauchen des Glassubstrats in eine saure Lösung durchgeführt.
Die saure Lösung ist nicht speziell beschränkt, solange deren pH-Wert weniger als 7 beträgt, und entweder eine schwache Säure oder eine starke Säure kann verwendet werden. Insbesondere sind bevorzugte Säuren Fluorwasserstoffsäure, Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Essigsäure, Oxalsäure, Kohlensäure, Zitronensäure und dergleichen. Diese Säuren können allein oder in einer Kombination von zwei oder mehr davon verwendet werden. Es ist bevorzugt, dass die Säurebehandlung bei einer Temperatur von 100°C oder niedriger durchgeführt wird, wobei die Temperatur jedoch abhängig von der Art und der Konzentration der verwendeten Säure und dem Zeitraum variiert.
Der Zeitraum der Säurebehandlung variiert abhängig von der Art und der Konzentration der verwendeten Säure und von der Temperatur. Deren Zeitraum beträgt im Hinblick auf die Herstellungseffizienz jedoch vorzugsweise 10 Sekunden bis 5 Stunden und beträgt mehr bevorzugt 1 Minute bis 2 Stunden.
Die Konzentration der Lösung, mit der die Säurebehandlung durchgeführt wird, variiert abhängig von der Art der verwendeten Säure, dem Zeitraum und der Temperatur, jedoch ist die Konzentration vorzugsweise derart, dass keine Möglichkeit einer Korrosion des Behälters besteht. Insbesondere sind Konzentrationen von 1 Gew.-% bis 20 Gew.-% bevorzugt.
In dem Säurebehandlungsschritt findet gleichzeitig auch das vorstehend beschriebene Auswaschen statt. Die Beziehung zu der Ätzgeschwindigkeit ist somit wichtig. Insbesondere ist es bevorzugt, Konzentrations- und Temperaturbedingungen zu verwenden, bei denen die Ätzgeschwindigkeit mindestens das 1,5-fache der Geschwindigkeit der Bildung der Auswaschschicht beträgt. Die Ätzgeschwindigkeit beträgt mehr bevorzugt mindestens das 2-fache, noch mehr bevorzugt mindestens das 2,5-fache der Geschwindigkeit der Bildung der Auswaschschicht.
Die Alkalibehandlung wird durch Eintauchen des Glassubstrats in eine alkalische Lösung durchgeführt.
Die alkalische Lösung ist nicht speziell beschränkt, solange deren pH-Wert 7 übersteigt und entweder eine schwache Base oder eine starke Base kann verwendet werden. Insbesondere sind bevorzugte Basen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Kaliumcarbonat, Natriumcarbonat und dergleichen. Diese Basen können allein oder in einer Kombination von zwei oder mehr davon verwendet werden.
Die Temperatur, bei der die Alkalibehandlung durchgeführt wird, variiert abhängig von der Art und der Konzentration der verwendeten Base und von dem Zeitraum, beträgt jedoch vorzugsweise 0°C bis 100°C, mehr bevorzugt 10°C bis 80°C, besonders bevorzugt 20°C bis 60°C. Ein solcher Temperaturbereich ist bevorzugt, da keine Möglichkeit einer Korrosion des Glases besteht.
Der Zeitraum der Alkalibehandlung variiert abhängig von der Art und der Konzentration der verwendeten Base und von der Temperatur. Deren Zeitraum beträgt jedoch im Hinblick auf die Herstellungseffizienz vorzugsweise 10 Sekunden bis 20 Stunden und beträgt mehr bevorzugt 1 Minute bis 12 Stunden, noch mehr bevorzugt 10 Minuten bis 5 Stunden.
Die Konzentration der Lösung, mit der die Alkalibehandlung durchgeführt wird, variiert abhängig von der Art der verwendeten Base, dem Zeitraum und der Temperatur, beträgt jedoch im Hinblick auf die Glasoberflächenentfernung vorzugsweise 1 Gew.-% bis 20 Gew.-%.
In dem Fall, bei dem eine Alkalibehandlung nach einer Säurebehandlung durchgeführt wird, wird das Glassubstrat, das der vorstehend beschriebenen Säurebehandlung unterzogen worden ist, anschließend einer Alkalibehandlung unterzogen. Die Säurebehandlung und die Alkalibehandlung können unter den gleichen Bedingungen durchgeführt werden, wie es vorstehend gezeigt ist.
Obwohl jedwedes der Verfahren, die vorstehend beschrieben sind, als das chemische Entfernungsverfahren ausgewählt werden kann, ist das Verfahren, bei dem eine Alkalibehandlung nach einer Säurebehandlung durchgeführt wird, im Hinblick auf die Einfachheit der Entfernung der Auswaschschicht bevorzugt.
Beispiele für Verfahren zum Schleifen mit einem abrasiven Material umfassen ein Verfahren, bei dem ein Schleiffluid, das ein abrasives Material enthält, das aus Calciumcarbonat, Ceroxid, kolloidalem Siliziumoxid und dergleichen ausgewählt ist, zum Schleifen der Oberfläche des Glassubstrats verwendet wird.
Wenn die Auswaschschicht durch das chemische Entfernungsverfahren entfernt wird, ist es bevorzugt, eine Oberflächenschicht des Glassubstrats bis hinab zu einer Tiefe von 3 nm oder mehr, vorzugsweise 5 nm oder mehr, mehr bevorzugt 10 nm oder mehr zu entfernen. In dem Fall des physikalischen Entfernungsverfahrens ist es bevorzugt, eine Oberflächenschicht des Glassubstrats bis hinab zu einer Tiefe von 5 nm oder mehr, vorzugsweise 10 nm oder mehr, mehr bevorzugt 30 nm oder mehr zu entfernen. Solange eine Oberflächenschicht in einem solchen Ausmaß entfernt wird, kann die Auswaschschicht ausreichend entfernt werden. Im Hinblick darauf, dass die Oberflächenform, die durch die Antiblendbehandlung gebildet wird, im Wesentlichen unverändert beibehalten wird, beträgt die bevorzugte Obergrenze des Entfernungsausmaßes jedoch 2 μm.
Es kann entweder das chemische Entfernungsverfahren oder das physikalische Entfernungsverfahren ausgewählt werden. Das chemische Entfernungsverfahren ist jedoch bevorzugt, da das chemische Entfernungsverfahren keine Risse oder dergleichen in der Glasoberfläche bildet und nicht die Möglichkeit besteht, dass ein Rückstand eines abrasiven Materials die Glasoberfläche verschmutzen kann. Das chemische Entfernungsverfahren und das physikalische Entfernungsverfahren können kombiniert durchgeführt werden.
<Schritt 4: Bildung des Antireflexionsfilms>
Verfahren zum Abscheiden eines Antireflexionsfilms sind nicht speziell beschränkt und jedwedes von verschiedenen Abscheidungsverfahren kann verwendet werden. Es ist besonders bevorzugt, den Film durch ein Verfahren wie z. B. Pulssputtern, Wechselstromsputtern, digitales Sputtern oder dergleichen abzuscheiden. Durch diese Verfahren kann ein dichter Antireflexionsfilm gebildet werden und die Dauerbeständigkeit kann sichergestellt werden.
Wenn die Abscheidung z. B. durch ein Pulssputtern durchgeführt wird, kann ein Antireflexionsfilm auf dem Glassubstrat durch Anordnen des Glassubstrats in einer Kammer, die mit einer Mischgasatmosphäre gefüllt ist, die aus einem Gemisch aus einem Inertgas und Sauerstoffgas zusammengesetzt ist, und durch Verwenden von Targets, die geeignet ausgewählt sind, so dass sie zu den gewünschten Zusammensetzungen führen, abgeschieden werden.
In diesem Schritt ist die Art des Inertgases in der Kammer nicht speziell beschränkt und jedwedes von verschiedenen Inertgasen, einschließlich Argon und Helium, kann verwendet werden.
Der Druck des Inertgas/Sauerstoff-Mischgases in der Kammer ist nicht speziell beschränkt. Es ist jedoch bevorzugt, dessen Druck so einzustellen, dass er 0,5 Pa oder weniger beträgt, da es ein solcher Druck einfach macht, einen Antireflexionsfilm zu erhalten, der eine Oberflächenrauheit innerhalb eines bevorzugten Bereichs aufweist. Es wird davon ausgegangen, dass der Grund dafür wie folgt ist. In Fällen, bei denen der Druck des Inertgas/Sauerstoff-Mischgases in der Kammer 0,5 Pa oder weniger beträgt, ist ein durchschnittlicher freier Weg von filmbildenden Molekülen sichergestellt und die filmbildenden Moleküle, die eine größere Energiemenge aufweisen, erreichen das Substrat. Aufgrund dessen wird eine Umordnung von filmbildenden Molekülen beschleunigt und ein relativ dichter Film mit einer glatten Oberfläche wird gebildet. Es gibt keine bestimmte Untergrenze des Drucks des Inertgas/Sauerstoff-Mischgases innerhalb der Kammer, jedoch beträgt dessen Druck z. B. vorzugsweise 0,1 Pa oder mehr.
Ein bevorzugter Bereich der Oberflächenrauheit des Antireflexionsfilms ist etwa mit dem bevorzugten Bereich für die Oberflächenform identisch, die durch die Antiblendbehandlung erhalten worden ist. Dies ist darauf zurückzuführen, dass die Dicke des Antireflexionsfilms selbst einen geringen Wert von 100 nm bis höchstens 300 nm aufweist, und somit die Größe der Unregelmäßigkeiten des Antireflexionsfilms selbst verglichen mit der Größe der Unregelmäßigkeiten, die durch die Antiblendbehandlung gebildet worden sind und die sich unterhalb der Antireflexionsfilmschicht befinden, sehr gering ist, so dass deren Größe vernachlässigbar ist. Folglich kann davon ausgegangen werden, dass die Oberflächenrauheit des Antireflexionsfilms auf dem Substrat, das der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist, im Wesentlichen durch die Oberflächenrauheit des Substrats bestimmt wird, das der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.
<Schritt 5: Bildung des Antiverschmutzungsfilms>
Verfahren zur Abscheidung eines Antiverschmutzungsfilms in dieser Ausführungsform sind nicht speziell beschränkt. Es ist jedoch bevorzugt, den Film durch eine Vakuumabscheidung unter Verwendung von jedwedem der vorstehend genannten Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsmaterialien abzuscheiden.
Im Allgemeinen werden Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindungen in der Form eines Gemischs mit einem Lösungsmittel, wie z. B. einem fluorchemischen Lösungsmittel, zum Zweck z. B. des Hemmens der Zersetzung aufgrund einer Reaktion mit atmosphärischer Feuchtigkeit gelagert. In Fällen, bei denen eine Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung in dem Zustand, in dem sie das Lösungsmittel enthält, einem Abscheidungsschritt unterzogen wird, kann diese Organosiliziumverbindung die Dauerbeständigkeit und andere Eigenschaften des Dünnfilms, der daraus erhalten wird, nachteilig beeinflussen.
Es ist daher bevorzugt, dass entweder eine Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung, die vor dem Erwärmen in einem Erwärmungsbehälter einer Lösungsmittelentfernungsbehandlung unterzogen worden ist, oder eine Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung, die nicht mit einem Lösungsmittel verdünnt worden ist (d. h., die kein zugesetztes Lösungsmittel enthält), in dieser Ausführungsform verwendet wird. Beispielsweise ist es bevorzugt, eine Lösung einer Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung mit einer Lösungsmittelkonzentration von vorzugsweise 1 mol-% oder weniger, mehr bevorzugt 0,2 mol-% oder weniger zu verwenden. Es ist besonders bevorzugt, eine Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung zu verwenden, die kein Lösungsmittel enthält.
Beispiele für die Lösungsmittel, die zum Lagern der Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung verwendet werden können, umfassen Perfluorhexan, m-Xylolhexafluorid (C₆H₄(CF₃)₂), Hydrofluorpolyether und HFE 7200/7100 (Handelsbezeichnungen, hergestellt von Sumitomo 3M Ltd., HFE 7200 wird durch C₄F₉C₂H₅ dargestellt und HFE 7100 wird durch C₄F₉OCH₃ dargestellt).
Eine Behandlung zur Entfernung des Lösungsmittels aus einer Lösung einer Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung in einem fluorchemischen Lösungsmittel kann z. B. durch Evakuieren eines Behälters, der die Lösung einer Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung enthält, erreicht werden.
Der Zeitraum, während dem die Evakuierung durchgeführt wird, variiert abhängig von dem Evakuierungsvermögen der Evakuierungsleitung, der Vakuumpumpe, usw., der Menge der Lösung, usw., und ist somit nicht beschränkt. Der Zeitraum kann jedoch z. B. etwa 10 Stunden oder länger betragen.
Eine Behandlung zur Entfernung des Lösungsmittels kann auch durchgeführt werden, nachdem die Lösung einer Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung in den Erwärmungsbehälter einer Abscheidungsvorrichtung für die Abscheidung des Antiverschmutzungsfilms eingebracht worden ist, und zwar durch Evakuieren des Erwärmungsbehälters bei Raumtemperatur vor dem Erwärmen des Erwärmungsbehälters. Es ist auch möglich, das Lösungsmittel vor dem Einbringen in den Erwärmungsbehälter im Vorhinein mit einem Verdampfer oder dergleichen zu entfernen.
Es sollte jedoch beachtet werden, dass Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindungen, die einen niedrigen Lösungsmittelgehalt aufweisen oder die kein Lösungsmittel enthalten, verglichen mit solchen, die ein Lösungsmittel enthalten, wie es vorstehend beschrieben worden ist, dazu neigen, durch einen Kontakt mit Luft zersetzt zu werden.
Es ist daher bevorzugt, dass die Atmosphäre innerhalb des Lagerbehälters, in dem die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung mit einem niedrigen Lösungsmittelgehalt (oder die kein Lösungsmittel enthält) gelagert ist, durch ein Inertgas, wie z. B. Stickstoff, ersetzt wird, bevor der Behälter verschlossen wird. Wenn diese Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung verwendet und gehandhabt wird, ist es bevorzugt, den Zeitraum zu minimieren, während dem die Verbindung der Luft ausgesetzt ist oder mit der Luft in Kontakt ist.
Insbesondere ist es bevorzugt, dass nach dem Öffnen des Lagerbehälters die Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung sofort in den Erwärmungsbehälter der Abscheidungsvorrichtung für die Abscheidung des Antiverschmutzungsfilms eingebracht wird. Es ist bevorzugt, dass nach dem Einbringen das Innere des Erwärmungsbehälters unter Vakuum gesetzt wird oder durch ein Inertgas, wie z. B. Stickstoff oder ein Edelgas, ersetzt wird, wodurch die in dem Erwärmungsbehälter enthaltene Atmosphäre (Luft) entfernt wird. Es ist mehr bevorzugt, dass der Lagerbehälter und der Erwärmungsbehälter der Herstellungsvorrichtung durch eine Leitung mit einem Ventil miteinander verbunden sind, so dass die Verbindung von dem Lagerbehälter in den Erwärmungsbehälter eingebracht werden kann, ohne mit der Luft in Kontakt zu kommen.
Es ist bevorzugt, dass nach dem Einbringen der Fluor-enthaltenden Siliziumverbindung in den Erwärmungsbehälter und danach dem Evakuieren des Inneren des Erwärmungsbehälters oder dem Ersetzen des Inneren des Erwärmungsbehälters durch ein Inertgas mit dem Erwärmen zum Abscheiden sofort begonnen wird.
In dem Verfahren zum Abscheiden des Antiverschmutzungsfilms, das vorstehend als Beispiel bei der Erläuterung dieser Ausführungsform beschrieben worden ist, wird eine Fluor-enthaltende Organosiliziumverbindung in einem Lösungszustand oder einem unverdünnten Zustand verwendet. Verfahren zum Abscheiden eines Antiverschmutzungsfilms sind jedoch nicht darauf beschränkt. Beispiele für die anderen Verfahren umfassen z. B. ein Verfahren, bei dem handelsübliche Gasphasenabscheidungspellets verwendet werden, die durch vorhergehendes Imprägnieren eines porösen Metalls (z. B. Zinn oder Kupfer) oder eines faserförmigen Metalls (z. B. rostfreier Stahl) mit einer bestimmten Menge einer Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindung erhalten werden (ein Beispiel für die Pellets ist Surfclear, das von Canon Optron Inc. hergestellt wird). In diesem Fall kann ein Antiverschmutzungsfilm unter Verwendung der Pellets als eine Abscheidungsquelle in einer Menge gemäß dem Innenvolumen der Abscheidungsvorrichtung und der erforderlichen Filmdicke einfach abgeschieden werden.
Durch das vorstehend beschriebene Herstellungsverfahren kann das Abdeckglas der vorliegenden Erfindung hergestellt werden.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf Beispiele detailliert erläutert, jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf die folgenden Beispiele beschränkt.
<Beispiel 1>
Ein Abdeckglas wurde in der folgenden Weise hergestellt.
Als Glassubstrat wurde DRAGONTRAIL (eingetragene Marke) verwendet, das von Asahi Glass Co., Ltd. hergestellt wird.

(1) Eine der Oberflächen des Glassubstrats wurde in der folgenden Weise einer Antiblendbehandlung durch eine Mattierungsbehandlung unterzogen.
Als erstes wurde ein säurebeständiger Schutzfilm (nachstehend auch einfach als „Schutzfilm” bezeichnet) auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht, die nicht der Antiblendbehandlung unterzogen wird. Anschließend wurde dieses Substrat für 3 Minuten in eine 3 Gew.-%ige Lösung von Fluorwasserstoff eingetaucht, so dass das Substrat geätzt wurde und dadurch Verschmutzungssubstanzen entfernt wurden, die an der Oberfläche haften. Das Substrat wurde dann zur Durchführung einer Mattierungsbehandlung der Oberfläche für 3 Minuten in eine Mischlösung von 15 Gew.-% Fluorwasserstoff und 15 Gew.-% Kaliumfluorid eingetaucht. Schließlich wurde das Substrat für 6 Minuten in eine 10%ige Lösung von Fluorwasserstoff eingetaucht, so dass der Trübungswert auf 25% eingestellt wurde. In der vorliegenden Erfindung wird dieser Zeitraum, während dem das Substrat zur Einstellung des Trübungswerts schließlich in die Fluorwasserstofflösung eingetaucht wird, als Ätzzeitraum bezeichnet.
(2) Als nächstes wurde eine chemische Härtungsbehandlung in der folgenden Weise durchgeführt.
Das Substrat, von dem der Schutzfilm entfernt worden ist, wurde für 2 Stunden in Kaliumnitrat eingetaucht, das durch Erwärmen bei 450°C in einem geschmolzenen Zustand gehalten wurde. Danach wurde das Substrat aus dem geschmolzenen Salz entnommen und nach und nach während 1 Stunde auf Raumtemperatur abgekühlt, so dass ein chemisch gehärtetes Substrat erhalten wurde.
(3) Dieses Substrat wurde anschließend zur Entfernung einer Auswaschschicht, die in den Oberflächen vorlag, für 4 Stunden in eine Alkalilösung (SUNWASH TL-75, von Lion Corp. hergestellt) eingetaucht. Die Menge der entfernten Auswaschschicht wurde aus den Glasgewichten, die jeweils vor und nach der Behandlung zur Entfernung der Auswaschschicht gemessen worden sind, und aus der Oberfläche und der Dichte des Glases berechnet.
(4) Als nächstes wurde in der folgenden Weise ein Antireflexionsfilm auf der Oberfläche abgeschieden, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.

Als erstes wurde in einer Vakuumkammer ein Pulssputtern unter Verwendung eines Nioboxidtargets (Handelsbezeichnung NBO Target, hergestellt von AGC Ceramics Co., Ltd.) unter den Bedingungen eines Drucks von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz, einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² und einer Inversionspulsbreite von 5 μs durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 10 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist, wodurch eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt ist und eine Dicke von 13 nm aufweist, auf der Oberfläche des Glassubstrats gebildet wurde, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.
Anschließend wurde ein Pulssputtern unter Verwendung eines Siliziumtargets unter den Bedingungen eines Drucks von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz, einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² und einer Inversionspulsbreite von 5 μs durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 40 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist, wodurch eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (Silica) hergestellt ist und eine Dicke von 35 nm aufweist, auf der Schicht mit hohem Brechungsindex gebildet wurde.
Als nächstes wurde ein Pulssputtern unter Verwendung eines Nioboxidtargets (Handelsbezeichnung NBO Target, hergestellt von AGC Ceramics Co., Ltd.) unter den Bedingungen eines Drucks von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz, einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² und einer Inversionspulsbreite von 5 μs durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 10 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist, wodurch eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt ist und eine Dicke von 115 nm aufweist, auf der Schicht mit niedrigem Brechungsindex gebildet wurde.
Anschließend wurde ein Pulssputtern unter Verwendung eines Siliziumtargets unter den Bedingungen eines Drucks von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz, einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² und einer Inversionspulsbreite von 5 μs durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 40 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist, wodurch eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (Silica) hergestellt ist und eine Dicke von 80 nm aufweist, gebildet wurde.
Auf diese Weise wurde ein Antireflexionsfilm gebildet, der aus insgesamt vier laminierten Schichten aus Nioboxid und Siliziumoxid (Silica) zusammengesetzt war.
<Bewertung des Glases>
(Lichtreflexion)
Die spektrale Reflexion der Oberfläche des Glassubstrats, die sich auf der Seite befand, auf der die Antiblendbehandlung und die Antireflexionsbehandlung durchgeführt worden sind, wurde mit einem spektrophotometrischen Kolorimeter (Typ CM-2600d, hergestellt von Konica Minolta) im SCI-Modus gemessen und die Lichtreflexion (Wert der Reflexionsanregung Y gemäß JIS Z8701) wurde aus dem Wert der spektralen Reflexion bestimmt. Die Rückfläche des Glases, das dieser Messung unterzogen wird, wurde schwarz gestrichen, um eine Reflexion von der Rückfläche zu vermeiden, die weder der Antiblendbehandlung, noch der Antireflexionsbehandlung unterzogen worden ist. Das Leuchtmittel wurde bei der Berechnung der Reflexion als das Leuchtmittel D65 angenommen.
(Grad des Ionenaustauschs)
Ein Röntgenphotoelektronenspektrophotometer (Typ JPS-9200, von JEOL Ltd. hergestellt) wurde zur Bestimmung des Grads des Ionenaustauschs der Glasoberfläche unter Verwendung von Aluminium als Index verwendet. Mit dieser Vorrichtung kann der Anteil von vorliegenden Ionen entlang der Tiefenrichtung untersucht werden. Als erstes wird der Anteil von Ionen, die in einer ausreichend großen Tiefe von der Oberfläche vorliegen, als Bezug berechnet. In dieser Messung wurde der Anteil (A) von Ionen, die in einer Tiefe von 30 nm vorliegen, als Bezug verwendet. Der Anteil von Aluminiumionen, die in einer Tiefe von 5 nm vorliegen, wurde als (B) angegeben und der Grad des Ionenaustauschs ρ wurde mittels der folgenden Gleichung bestimmt. ρ = B/A
(Farbverteilung)
Als erstes wurde irgendein 10 cm²-Quadratabschnitt innerhalb des Glassubstrats als Messbereich ausgewählt und dieser Messbereich wurde in 11 × 11 gleiche Abschnitte aufgeteilt. Die 100 Schnittpunkte in dem resultierenden Gittermuster auf dem Substrat wurden in der folgenden Weise hinsichtlich der Farbe untersucht.
Die spektrale Reflexion dieser Oberfläche des Substrats, bei der es sich um die Seite handelt, bei der die Antireflexionsbehandlung durchgeführt worden ist, wurde mit einem spektrophotometrischen Kolorimeter (Typ CM-2600d, hergestellt von Konica Minolta) im SCI-Modus gemessen und die Lichtreflexion (Farbindizes a* und b* gemäß JIS Z8729) wurde aus dem Wert der spektralen Reflexion bestimmt. Die Rückfläche des Glases, das dieser Messung unterzogen wird, wurde schwarz gestrichen, um eine Reflexion von der Rückfläche auszuschließen, die weder der Antiblendbehandlung, noch der Antireflexionsbehandlung unterzogen worden ist.
Aus den Maximumwerten und den Minimumwerten von a* und b* (a*_max, a*_min, b*_max und b*_min) von den Messwerten für alle 100 Punkte wurde die Farbverteilung E unter Verwendung der folgenden Berechnungsformel bestimmt (1-1). E = √{(a*_max – a*_min)² + (b*_max – b*_min)²} (1-1)
Anschließend wurde der Messbereich verändert und die gleiche Messung, wie sie vorstehend beschrieben worden ist, wurde insgesamt dreimal wiederholt durchgeführt. Bezüglich jeder Messung wurde der Wert von E bestimmt.
(Kontaktwinkel mit Wasser)
Ein etwa 1 μl-Tröpfchen von reinem Wasser wurde auf die Oberfläche des Glassubstrats aufgebracht, wobei es sich um die Seite handelte, auf der die Antiblendbehandlung und die Antireflexionsbehandlung durchgeführt worden sind. Unter Verwendung eines Kontaktwinkelmessgeräts (Gerätebezeichnung DM-51, von Kyowa Interface Science Co., Ltd. hergestellt) wurde der Kontaktwinkel von Wasser gemessen.
<Beispiel 2>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Zeitraum des Eintauchens in die Alkalilösung in dem Schritt zum Entfernen der Auswaschschicht (3) im Beispiel 1 auf 8 Stunden geändert wurde und dass die folgende Bildung eines Antiverschmutzungsfilms im Beispiel 1 als Schritt (5) durchgeführt wurde. (5) Ein Antiverschmutzungsfilm wurde in der folgenden Weise auf dem Antireflexionsfilm abgeschieden.
Als erstes wurde ein Antiverschmutzungsfilmmaterial (Handelsbezeichnung KY-185, von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. hergestellt) in einen Erwärmungsbehälter eingebracht. Danach wurde der Erwärmungsbehälter während 10 Stunden oder länger zur Entfernung des in der Lösung enthaltenen Lösungsmittels mit einer Vakuumpumpe evakuiert, wodurch eine Zusammensetzung zur Bildung eines Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms erhalten wurde.
Anschließend wurde der Erwärmungsbehälter, der die Zusammensetzung zur Bildung eines Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms enthielt, auf 270°C erwärmt. Nachdem die Temperatur des Erwärmungsbehälters 270°C erreicht hatte, wurde der Erwärmungszustand für 10 Minuten aufrechterhalten, bis die Temperatur stabil wurde.
Die Zusammensetzung zur Bildung eines Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms wurde durch eine Düse, die mit dem Erwärmungsbehälter verbunden war, der die Zusammensetzung zur Bildung eines Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms enthielt, dem Antireflexionsfilm zugeführt, der auf das transparente Substrat laminiert war, das in einer Vakuumkammer angeordnet war, wodurch eine Abscheidung durchgeführt wurde.
Die Abscheidung wurde durchgeführt, während die Filmdicke mit einer in der Vakuumkammer angeordneten Quarzoszillatorüberwachungseinrichtung gemessen wurde, bis die Dicke des auf dem transparenten Substrat gebildeten Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms 4 nm erreichte.
Zu dem Zeitpunkt, bei dem die Dicke des Fluor-enthaltenden Organosiliziumverbindungsfilms 4 nm erreicht hatte, wurde das Zuführen des Ausgangsmaterials durch die Düse gestoppt. Danach wurde das erzeugte optische Bauteil aus der Vakuumkammer entnommen.
Das herausgenommene optische Bauteil wurde so auf einer Heizplatte angeordnet, dass die Filmoberfläche nach oben zeigte, und wurde auf diese Weise für 60 Minuten bei 150°C an der Luft wärmebehandelt.
<Beispiel 3>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Ätzbehandlungszeitraum in dem Antiblendbehandlungsschritt (1) im Beispiel 1 auf 20 Minuten geändert wurde, so dass die Trübung auf 4% eingestellt wurde, dass der Zeitraum des Eintauchens in die Alkalilösung in dem Schritt zum Entfernen der Auswaschschicht (3) im Beispiel 1 auf 8 Stunden geändert wurde und dass der Schritt zum Bilden des Antireflexionsfilms (4) im Beispiel 1 mit dem folgenden Verfahren durchgeführt wurde.
Schritt zum Bilden des Antireflexionsfilms:
Ein Antireflexionsfilm wurde in der folgenden Weise auf der Oberfläche abgeschieden, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.
Als erstes wurde ein Pulssputtern unter Verwendung eines Nioboxidtargets (Handelsbezeichnung NBO Target, hergestellt von AGC Ceramics Co., Ltd.) unter den gleichen Abscheidungsbedingungen wie im Beispiel 1 durchgeführt, wodurch eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt ist und eine Dicke von 15 nm aufweist, auf der Oberfläche des Glassubstrats gebildet wurde, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.
Anschließend wurde ein Pulssputtern unter Verwendung eines Siliziumtargets unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 durchgeführt, wodurch eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (Silica) hergestellt ist und eine Dicke von 30 nm aufweist, auf der Schicht mit hohem Brechungsindex gebildet wurde.
Als nächstes wurde ein Pulssputtern unter Verwendung eines Nioboxidtargets (Handelsbezeichnung NBO Target, hergestellt von AGC Ceramics Co., Ltd.) unter den gleichen Abscheidungsbedingungen wie im Beispiel 1 durchgeführt, wodurch eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt ist und eine Dicke von 110 nm aufweist, auf der Seite des Glassubstrats gebildet wurde, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.
Anschließend wurde ein Pulssputtern unter Verwendung eines Siliziumtargets unter den gleichen Bedingungen wie im Beispiel 1 durchgeführt, wodurch eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (Silica) hergestellt ist und eine Dicke von 90 nm aufweist, auf der Schicht mit hohem Brechungsindex gebildet wurde.
Auf diese Weise wurde ein Antireflexionsfilm gebildet, der aus insgesamt vier laminierten Schichten aus Nioboxid und Siliziumoxid (Silica) zusammengesetzt war.
<Beispiel 4>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Ätzbehandlungszeitraum in dem Antiblendbehandlungsschritt (1) im Beispiel 1 auf 10 Minuten geändert wurde, so dass die Trübung auf 10% eingestellt wurde, dass der Schritt zum Entfernen der Auswaschschicht (3) im Beispiel 1 durch ein Calciumcarbonatwaschen unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde und dass der Schritt zum Bilden des Antireflexionsfilms (4) im Beispiel 1 mit dem im Beispiel 3 verwendeten Verfahren durchgeführt wurde.
Calciumcarbonatwaschen: Ein abrasives Calciumcarbonatmaterial mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 1,6 μm (Teilchengrößenverteilung 0,1 μm bis 50 μm) wurde als wässrige Lösung (Aufschlämmung) mit einer Konzentration von 20 Gew.-% zum Schleifen einer Oberfläche des Substrats mit einer Nylonbürste mit einem Schleifdruck von 30 bis 50 kPa und einer Fördergeschwindigkeit von 55 mm/s in einem Ausmaß von etwa 1 nm verwendet.
<Beispiel 5>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Schritt zum Entfernen der Auswaschschicht (3) im Beispiel 1 durch ein Ceroxidwaschen unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde und dass der Schritt zum Bilden des Antireflexionsfilms (4) im Beispiel 1 unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde.
Ceroxidwaschen: Ein abrasives Ceroxidmaterial mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser von 1,2 bis 1,8 μm, eine wässrige Lösung (Aufschlämmung) mit einer Konzentration von 4 Be und ein Velourslederkissen wurden zum 20-maligen Schleifen einer Oberfläche des Substrats mit einem Schleifdruck von 0,113 MPa und einer Fördergeschwindigkeit von 20 mm/s in einem Ausmaß von etwa 1 μm verwendet.
Schritt zum Bilden des Antireflexionsfilms:
Ein Antireflexionsfilm wurde in der folgenden Weise auf der Oberfläche abgeschieden, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.
Als erstes wurde in einer Vakuumkammer ein Wechselstromsputtern unter Verwendung von zwei Nioboxidtargets (Handelsbezeichnung NBO Target, hergestellt von AGC Ceramics Co., Ltd.) bei einem Druck von 0,3 Pa, einer Frequenz von 40 kHz und einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 10 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist. Auf diese Weise wurde eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt ist und eine Dicke von 11 nm aufweist, auf der Oberfläche des Glassubstrats gebildet, die der Antiblendbehandlung unterzogen worden ist.
Anschließend wurde ein Wechselstromsputtern unter Verwendung von zwei Siliziumtargets bei einem Druck von 0,3 Pa, einer Frequenz von 40 kHz und einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 40 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist, wodurch eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (Silica) hergestellt ist und eine Dicke von 40 nm aufweist, auf der Schicht mit hohem Brechungsindex gebildet wurde.
Als nächstes wurde ein Wechselstromsputtern unter Verwendung von zwei Nioboxidtargets (Handelsbezeichnung NBO Target, hergestellt von AGC Ceramics Co., Ltd.) bei einem Druck von 0,3 Pa, einer Frequenz von 40 kHz und einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 10 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist, wodurch eine Schicht mit hohem Brechungsindex, die aus Nioboxid hergestellt ist und eine Dicke von 120 nm aufweist, auf der Schicht mit niedrigem Brechungsindex gebildet wurde.
Anschließend wurde ein Wechselstromsputtern unter Verwendung von zwei Siliziumtargets bei einem Druck von 0,3 Pa, einer Frequenz von 20 kHz und einer Leistungsdichte von 3,8 W/cm² durchgeführt, während ein Mischgas eingebracht wurde, das durch Mischen von Argongas mit 40 Volumen-% Sauerstoffgas erhalten worden ist, wodurch eine Schicht mit niedrigem Brechungsindex, die aus Siliziumoxid (Silica) hergestellt ist und eine Dicke von 95 nm aufweist, gebildet wurde.
Auf diese Weise wurde ein Antireflexionsfilm gebildet, der aus insgesamt vier laminierten Schichten aus Nioboxid und Siliziumoxid (Silica) zusammengesetzt war.
<Beispiel 6>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Zeitraum des Eintauchens in die Alkalilösung in dem Schritt zum Entfernen der Auswaschschicht (3) im Beispiel 1 auf 10 Stunden geändert wurde.
<Beispiel 7>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Schritt des chemischen Härtens (2) im Beispiel 1 weggelassen wurde.
<Beispiel 8>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass das Entfernen der Auswaschschicht im Beispiel 1 durch Ätzen durch Eintauchen des Substrats in eine 10%ige wässrige NaOH-Lösung für 12 Stunden durchgeführt wurde.
<Beispiel 9>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, dass das Entfernen der Auswaschschicht im Beispiel 2 durch Eintauchen des Substrats in eine 2%ige wässrige Fluorwasserstoffsäurelösung für 20 Sekunden durchgeführt wurde.
<Beispiel 10>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, dass das Entfernen der Auswaschschicht im Beispiel 2 durch Eintauchen des Substrats in eine 13,4 Gew.-%ige Lösung von Chlorwasserstoffsäure für 3 Stunden, Spülen dieses Substrats mit reinem Wasser und anschließend Eintauchen des Substrats in eine 10%ige wässrige NaOH-Lösung für 4 Stunden durchgeführt wurde.
<Beispiel 11>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 8 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die chemische Härtungsbehandlung im Beispiel 8 weggelassen wurde.
<Beispiel 12>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 8 hergestellt, mit der Ausnahme, dass beim Entfernen der Auswaschschicht der Zeitraum des Eintauchens in die NaOH-Lösung im Beispiel 8 auf 4 Stunden geändert wurde.
<Vergleichsbeispiel 1>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Schritt des Entfernens der Auswaschschicht (3) im Beispiel 1 durch ein Reinigen mit reinem Wasser ersetzt wurde, das unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde.
Reinigen mit reinem Wasser: Reines Wasser wurde in einen Eintauchtank eingebracht und das Substrat wurde darin eingetaucht. 40 kHz-Ultraschallwellen wurden darin eingebracht, wobei das Substrat für 10 Minuten gereinigt wurde. Danach wurde das Substrat in reines Wasser, das auf 60°C erwärmt war, eingetaucht und dann nach und nach herausgezogen und dadurch getrocknet.
<Vergleichsbeispiel 2>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 3 hergestellt, mit der Ausnahme, dass der Schritt des Entfernens der Auswaschschicht (3) im Beispiel 3 durch ein Plasmareinigen ersetzt wurde, das unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde.
Plasmareinigen: Ein Plasma, das bei Atmosphärendruck erzeugt wurde, wurde für 40 Sekunden unter den Bedingungen einer Stickstoff(N₂)-Strömungsgeschwindigkeit von 250 Liter/min, einer Strömungsgeschwindigkeit von sauberer trockener Luft (CDA) von 0,5 Liter/min und einer Beschleunigungsspannung von 10 kV angewandt.
<Referenzbeispiel 1>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Vergleichsbeispiel 1 hergestellt, jedoch wurde die Antiblendbehandlung (Mattierungsbehandlung) im Beispiel 1 weggelassen.
<Referenzbeispiel 2>
Ein Abdeckglas wurde in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, jedoch wurde die Entfernung der Auswaschschicht im Beispiel 1 weggelassen und die Bildung des Antireflexionsfilms wurde weggelassen.
Die Ergebnisse der Bewertung der so hergestellten Abdeckgläser sind in der Tabelle 1 und der Tabelle 2 gezeigt.
Im Referenzbeispiel 1, in dem eine Antiblendbehandlung nicht durchgeführt worden ist, waren die Werte der Farbverteilung E klein und dieses Abdeckglas neigt somit weniger dazu, das Problem aufzuweisen, dass das Glas Farbtonunterschiede aufweist. Die Farbtonverteilung im Referenzbeispiel 1 ist vorwiegend auf eine Ungleichmäßigkeit der Dicke jeder der Schichten zurückzuführen, die in dem Abscheidungsschritt abgeschieden worden sind, und zeigt, dass die Farbtonunterschiede innerhalb von 10 cm² ausreichend klein sind. Es ist jedoch ersichtlich, dass in dem Fall, bei dem sowohl eine Antiblendbehandlung als auch die Bildung eines Antireflexionsfilms durchgeführt werden, ohne die Auswaschschicht zu entfernen, dies zu großen Werten der Farbverteilung E und großen Unterschieden beim Farbton führt, wie es im Vergleichsbeispiel 1 und im Vergleichsbeispiel 2 gezeigt ist. Folglich sind die Unterschiede beim Farbton aufgrund der Gegenwart einer Auswaschschicht klar von der Farbtonungleichmäßigkeit aufgrund einer Filmdickenverteilung verschieden, die auf den Abscheidungsschritt zurückzuführen ist.
Im Gegensatz dazu zeigten die Abdeckgläser der Beispiele jeweils verminderte Werte der Farbverteilung E, was zeigt, dass die Unterschiede beim Farbton vermindert worden sind. Es ist ersichtlich, dass diese Verbesserung ein Effekt der Entfernung der Auswaschschicht ist. Da ferner jede der drei Messungen der Farbverteilung in jedem Beispiel E ≤ 4 erfüllte, ist ersichtlich, dass das Glas eine sehr gute Gleichmäßigkeit in der Ebene aufweist.
Im Beispiel 4 ergaben zwei der drei Messungen E = 4, was an der Grenze des zufrieden stellenden Bereichs ist. Es wird davon ausgegangen, dass dies darauf zurückzuführen ist, dass in diesem Beispiel das Schleifen mit Calciumcarbonat durchgeführt worden ist und das Ausmaß der entfernten Auswaschschicht 1 nm betrug, was kleiner war als in den anderen Beispielen. Es ist folglich bevorzugt, dass das Entfernungsausmaß größer als 1 nm ist. Da es sich ferner bei Calciumcarbonat um abrasive Körner handelt, die von abrasiven Materialien kein gutes Schleifvermögen aufweisen und die kein großes Entfernungsausmaß erzielen können, ist es schwierig, mit Calciumcarbonat Ergebnisse zu erzielen, bei denen der Wert der Farbverteilung E stabil E ≤ 4 erfüllt. Im Hinblick auf den Versuch, die Auswaschschicht durch Schleifen zu entfernen, sind abrasive Körner mit ausreichenden Schleifeigenschaften, wie z. B. Ceroxid, mehr bevorzugt, wie dies im Beispiel 5 der Fall ist.
Während die vorliegende Erfindung detailliert und unter Bezugnahme auf spezifische Ausführungsformen davon beschrieben worden ist, ist es für einen Fachmann ersichtlich, dass die vorliegende Erfindung verschiedenartig verändert und modifiziert werden kann, ohne von deren Wesen und Umfang abzuweichen. Diese Anmeldung basiert auf einer japanischen Patentanmeldung, die am 16. Juli 2014 eingereicht worden ist (Anmeldung Nr. 2014-146264), und einer japanischen Patentanmeldung, die am 16. Juli 2014 eingereicht worden ist (Anmeldung Nr. 2014-146265), deren gesamte Inhalte unter Bezugnahme hierin einbezogen sind.
Bezugszeichenliste

10: Glassubstrat
10R: Auswaschschicht
20: Antireflexionsfilm
30: Antiverschmutzungsfilm

Claims

Abdeckglas, umfassend: ein Glassubstrat mit einer konvexen und konkaven Form, die auf mindestens einer der Oberflächen davon durch eine Antiblendbehandlung gebildet worden ist, und einen Antireflexionsfilm, der auf der Oberfläche des Glassubstrats ausgebildet ist, wobei die Oberfläche die konvexe und konkave Form aufweist, wobei eine Differenz Δa* des a*-Werts zwischen jedweden zwei Punkten innerhalb einer Oberfläche des Abdeckglases auf der Seite, auf welcher der Antireflexionsfilm vorliegt, und eine Differenz Δb* des b*-Werts zwischen jedweden zwei Punkten innerhalb der Oberfläche des Abdeckglases auf der Seite, auf welcher der Antireflexionsfilm vorliegt, dem folgenden Ausdruck (1) genügen. √{(Δa*)² + (Δb*)²} ≤ 4 (1)
Abdeckglas nach Anspruch 1, bei dem Δa* und Δb* durch Auswählen von jedwedem quadratischen Abschnitt von 10 cm² als Messbereich von dem Glassubstrat, Aufteilen des Messbereichs in 11 × 11 gleiche Abschnitte, Untersuchen von allen 100 Schnittpunkten von gleich aufteilenden Linien für a*-Werte und b*-Werte, Bestimmen eines Maximumwerts a*_max der a*-Werte, eines Minimumwerts a*_min der a*-Werte, eines Maximumwerts b*_max der b* Werte und eines Minimumwerts b*_min der b*-Werte Von den a*-Werten und den b*-Werten und Verwenden einer Differenz (a*_max – a*_min) zwischen a*_max und a*_min als Δa* und einer Differenz (b*_max – b*_min) zwischen b*_max und b*_min als Δb*.
Abdeckglas nach Anspruch 1 oder 2, bei dem das Glassubstrat einen Mikroriss oder Mikrorisse mit einer maximalen Tiefe von weniger als 3 μm auf dessen Oberfläche aufweist, wobei die Oberfläche die konvexe und konkave Form aufweist.
Abdeckglas nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Oberfläche des Abdeckglases, welche die konvexe und konkave Form aufweist, einen Ionenaustauschgrad von 1% oder mehr und 25% oder weniger aufweist.
Abdeckglas nach Anspruch 4, bei dem der Ionenaustauschgrad ein Ionenaustauschgrad ist, der unter Verwendung von Aluminium als Index bestimmt worden ist.
Abdeckglas nach einem der Ansprüche 1 bis 5, das eine Trübung von 1% bis 35% aufweist.
Abdeckglas nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem der Antireflexionsfilm ein Laminat ist, das eine oder mehrere Schicht(en), die Niob enthält oder enthalten, und eine oder mehrere Schicht(en), die Silizium enthält oder enthalten, umfasst.
Abdeckglas nach einem der Ansprüche 1 bis 7, das eine Lichtreflexion von 2% oder weniger aufweist.
Abdeckglas nach einem der Ansprüche 1 bis 8, das ferner einen Antiverschmutzungsfilm umfasst, der auf dem Antireflexionsfilm angeordnet ist, wobei der Kontaktwinkel von Wasser auf einer Oberfläche des Abdeckglases auf der Seite, auf welcher der Antiverschmutzungsfilm vorliegt, 90° oder größer ist.