JP5935931B2 - カバーガラス - Google Patents
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Description
[1]
ガラス基板の少なくとも一方の面が防眩処理による凹凸形状を有し、前記凹凸形状を有する面上に反射防止膜を有するカバーガラスであって、
前記反射防止膜を有するガラス面内の任意の2点におけるa*値の差Δa*と、b*値の差Δb*が、下記式(1)を満たす、カバーガラス。
√{(Δa*)2+(Δb*)2}≦4 (1)
[2]
前記ガラス基板の中の、任意の10cm2の正方形の部分を測定範囲として選択し、該測定範囲を11×11等分し、その等分線の全交点100点におけるa*値及びb*値から、a*の最大値a* max、a*の最小値a* min、b*の最大値b* max、b*の最小値b* minをそれぞれ求め、前記a* maxと前記a* minの差(a* max−a* min)を前記Δa*とし、前記b* maxと前記b* minの差(b* max−b* min)を前記Δb*とする、上記[1]に記載のカバーガラス。
[3]
前記ガラス基板の前記凹凸形状を有する面上に最大深さが3μm未満のマイクロクラックを有する、上記[1]または[2]に記載のカバーガラス。
[4]
前記カバーガラスの前記凹凸形状を有する表面のイオン交換率が1%以上、かつ25%以下である、上記[1]〜[3]のいずれか1に記載のカバーガラス。
[5]
前記イオン交換率はアルミニウムを指標としたものである、上記[4]に記載のカバーガラス。
[6]
ヘイズが1〜35%である、上記[1]〜[5]のいずれか1に記載のカバーガラス。
[7]
前記反射防止膜が、ニオブを含む層とケイ素を含む層とをそれぞれ1層以上含む積層体である、上記[1]〜[6]のいずれか1に記載のカバーガラス。
[8]
視感反射率が2%以下である、上記[1]〜[7]のいずれか1に記載のカバーガラス。
[9]
前記反射防止膜上に防汚膜をさらに有し、前記防汚膜を有する面の水の接触角が90°以上である、上記[1]〜[8]のいずれか1に記載のカバーガラス。
√{(Δa*)2+(Δb*)2}≦4 (1)
式(1)はガラス面内の色分布の指標であり、4以下であることで、ガラス面内の色分布の差が小さい、すなわち色調変化が小さいことを意味する。式(1)は好ましくは3以下、より好ましくは2以下である。
また、除去前のイオン交換層すなわちリーチアウト層は、ガラス基板最表面からの厚みが、10nm以下であることが好ましく、8nm以下であることがより好ましく、6nm以下であることがさらに好ましい。また、除去前のイオン交換層すなわちリーチアウト層は、1nm超であることが好ましい。除去前のリーチアウト層の厚みが10nm以下であれば、リーチアウト層を効率よく除去できるとともに、最終的に適切な防眩効果および均一な反射特性を得ることができる。除去前のリーチアウト層の厚みが1nm超であれば、最低限必要な防眩効果および均一な反射特性を得ることができるので、好ましい。
本発明におけるガラス基板としては、種々の組成を有するガラスを利用可能である。
たとえば、本発明で使用されるガラスはナトリウムを含んでいることが好ましく、成形、化学強化処理による強化が可能な組成であることが好ましい。具体的には、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、鉛ガラス、アルカリバリウムガラス、アルミノホウ珪酸ガラス等が挙げられる。
(i)モル%で表示した組成で、SiO2を50〜80%、Al2O3を2〜25%、Li2Oを0〜10%、Na2Oを0〜18%、K2Oを0〜10%、MgOを0〜15%、CaOを0〜5%およびZrO2を0〜5%を含むガラス
(ii)モル%で表示した組成が、SiO2を50〜74%、Al2O3を1〜10%、Na2Oを6〜14%、K2Oを3〜11%、MgOを2〜15%、CaOを0〜6%およびZrO2を0〜5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が75%以下、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12〜25%、MgOおよびCaOの含有量の合計が7〜15%であるガラス
(iii)モル%で表示した組成が、SiO2を68〜80%、Al2O3を4〜10%、Na2Oを5〜15%、K2Oを0〜1%、MgOを4〜15%およびZrO2を0〜1%含有するガラス
(iv)モル%で表示した組成が、SiO2を67〜75%、Al2O3を0〜4%、Na2Oを7〜15%、K2Oを1〜9%、MgOを6〜14%およびZrO2を0〜1.5%含有し、SiO2およびAl2O3の含有量の合計が71〜75%、Na2OおよびK2Oの含有量の合計が12〜20%であり、CaOを含有する場合その含有量が1%未満であるガラス
本発明のカバーガラスでは、ガラス基板の少なくとも一方の面が防眩処理(「アンチグレア処理」、「AG処理」とも称する。)されている。防眩加工方法は特に限定されるものではなく、ガラス主面について表面処理を施し、所望の凹凸を形成する方法を利用できる。
RMSはJIS B 0601(2001)で規定される方法に準拠して測定できる。具体的には、レーザー顕微鏡(キーエンス社製 商品名:VK−9700)により、試料の測定面に対して、300μm×200μmの視野範囲を設定し、基板の高さ情報を測定し、カットオフ補正を行ない、得られた高さの二乗平均を求めることで算出した。この測定を行う際にはカットオフ値としては0.08mmを使用することが好ましい。また試料表面に観察される円形状の孔の大きさが10μm以下であることが好ましい。このような範囲にあることにより、ギラツキ防止と防眩性とが両立可能となる。
本発明のカバーガラスは、防眩処理されたガラス基板面上に反射防止膜処理(「AR処理」とも称する。)を行うことにより反射防止膜を有する。
反射防止膜の材料は特に限定されるものではなく、光の反射を抑制できる材料であれば各種材料を利用できる。例えば反射防止膜としては、高屈折率層と低屈折率層とを積層した構成としてもよい。ここでいう高屈折率層とは、波長550nmでの屈折率が1.9以上の層であり、低屈折率層とは、波長550nmでの屈折率が1.6以下の層である。
反射防止膜の形成方法については製造方法の項で詳述する。
本発明のカバーガラスは、ガラス表面を保護する観点から、上記反射防止膜上に、さらに防汚膜(「Anti Finger Print(AFP)膜」とも称する。)を有してもよい。防汚膜は例えば、フッ素含有有機ケイ素化合物により構成できる。フッ素含有有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性、撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用でき、例えば、ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる1つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物が挙げられる。なお、ポリフルオロポリエーテル基とは、ポリフルオロアルキレン基とエーテル性酸素原子とが交互に結合した構造を有する2価の基のことである。
ここで、qは1以上、好ましくは2〜20の整数である。
ここで、q’は1以上、好ましくは1〜20の整数である。
本発明のカバーガラスは水の接触角が90°以上であることが好ましい。これによりカバーガラス表面が撥水性及び撥油性を有し、汚れが付着しにくいカバーガラスとすることができる。接触角を90°以上とするためには例えば上記防汚膜を有することが挙げられる。
本発明のカバーガラスは、ヘイズが1〜35%であることが好ましく、2〜35%であることがより好ましく、2〜25%であることがさらに好ましい。ヘイズがかかる範囲であれば、所望の防眩性を有しながら、表示体の解像度への影響が少ないカバーガラスを得ることができる。ヘイズはJISK7136に基づいて規定される。
ヘイズはAG処理でのエッチング時間を調節することにより制御可能である。
本発明のカバーガラスは視感反射率が2%以下であることが好ましい。視感反射率がかかる範囲であれば十分に映り込みを防止できる。視感反射率はJIS Z8701に基づいて規定される。なお、光源としてはD65光源を用いた。
本発明のカバーガラスは、例えば下記工程により製造可能であるがこれに限定されない。工程1:防眩処理、工程2:化学強化、工程3:リーチアウト層除去、工程4:反射防止膜形成、工程5:防汚膜形成
工程2の化学強化、工程3のリーチアウト層除去、工程5の防汚膜形成は、それぞれ必要に応じて実施可能である。さらに必要に応じて印刷処理も実施可能である。
印刷処理は工程1の防眩処理と工程4の反射防止膜形成との間で、かつ、工程3のリーチアウト層除去の後に行うのが好ましい。印刷部がリーチアウト層除去のためのエッチング等の処理によって影響を受けないようにするためである。
防汚膜形成は、防汚膜はガラス表面保護のために形成するものであることから、最終工程、すなわち反射防止膜形成の後に形成することが好ましい。
以下、各工程について説明する。
防眩処理の具体的な方法は、上記カバーガラスの説明において詳述したとおりである。すなわち、ガラス基板の少なくとも一方の面を、化学的表面処理または物理的表面処理により凹凸を作成した後に、フッ化水素溶液又はフッ化水素と酸を含む溶液でエッチングすることにより行なう。
なお、ガラス基板に後述する化学強化をする前に、用途に応じた形状加工、例えば、切断、端面加工および穴あけ加工などの機械的加工を行うことが好ましい。
化学強化は、公知の方法が利用可能である。例えばガラス中に含まれるイオン半径の小さな金属イオン(例えば、Naイオン)とイオン半径のより大きな金属イオン(例えば、Kイオン)とを置換することにより、ガラス表面に圧縮応力層を生じさせてガラスの強度を向上させる、いわゆるイオン交換による化学強化が可能である。
ガラスの化学強化処理温度は、被強化ガラスの歪点(通常500〜600℃)以下が好ましく、より高い圧縮応力深さ(Depth of Layer:DOL)を得るためには350℃以上が好ましい。
防眩処理によりガラス表面にリーチアウト層が形成された場合は除去する。具体的には、薬液を用いてエッチングする等の化学的方法、研磨材を用いて研磨する等の物理的方法、が挙げられる。
酸性溶液としてはpH7未満であればよく、用いられる酸が弱酸であっても強酸であってもよい。具体的にはフッ酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、酢酸、シュウ酸、炭酸及びクエン酸等の酸が好ましい。これらの酸は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。酸処理を行う温度は、用いる酸の種類や濃度、時間によっても異なるが、100℃以下で行うことが好ましい。
酸処理を行う溶液の濃度は、用いる酸の種類や時間、温度によって異なるものの、容器腐食の懸念が少ない濃度が好ましく、具体的には1wt%〜20wt%が好ましい。
酸処理工程では前述のリーチアウトも同時に起こるため、エッチング速度との関係が重要である。具体的にはエッチング速度がリーチアウト層の形成される速度の1.5倍以上となる濃度、温度条件であることが好ましく、より好ましくは2倍以上、さらに好ましくは2.5倍以上となる条件が好ましい。
アルカリ溶液としてはpH7超過であればよく、弱塩基を用いても強塩基を用いてもよい。具体的には水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の塩基が好ましい。これらの塩基は単独で用いても、複数を組み合わせて用いてもよい。
アルカリ処理を行う温度は、用いる塩基の種類や濃度、時間によっても異なるが、0〜100℃が好ましく、10〜80℃がより好ましく、20〜60℃が特に好ましい。かかる温度範囲であればガラスが腐食するおそれがなく好ましい。
アルカリ処理を行う溶液の濃度は、用いる塩基の種類や時間、温度によって異なるものの、ガラス表面除去性の観点から1wt%〜20wt%が好ましい。
本実施形態の防汚膜の成膜方法は特に限定されるものではないが、上記したフッ素含有有機ケイ素化合物材料を用いて真空蒸着により成膜することが好ましい。
以下の手順により、カバーガラスを製造した。
ガラス基板として旭硝子社製、ドラゴントレイル(登録商標)を用いた。
まず、耐酸性の保護フィルム(以下、単に保護フィルムともいう)を、基板の防眩処理を施さない側の面に貼合した。ついで、3重量%のフッ化水素溶液に3分間基板を浸漬し、基板をエッチングすることで表面に付着した汚れを除去した。次いで基板を15重量%フッ化水素、15重量%フッ化カリウム混合溶液に3分間浸漬し、表面のフロスト処理を行った。最後に基板を10%フッ化水素溶液に6分間浸漬することで、ヘイズ値を25%に調整した。本願では、この最後のフッ化水素溶液に浸漬してヘイズ値を調整する時間を、エッチング時間と呼ぶことにする。
450℃に加熱・溶解させた硝酸カリウム塩に保護フィルムを除去した基板を2時間浸漬した後、基板を溶融塩より引き上げ、室温まで1時間で徐冷することで化学強化基板を得た。
まず、真空チャンバー内で、アルゴンガスに10体積%の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化ニオブターゲット(AGCセラミックス社製、商品名:NBOターゲット)を用いて、圧力0.3Pa、周波数20kHz、電力密度3.8W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件でパルススパッタリングを行い、ガラス基板の防眩処理を施した側の面上に、厚さ13nmの酸化ニオブ(ニオビア)からなる高屈折率層を形成した。
次いで、アルゴンガスに40体積%の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力0.3Pa、周波数20kHz、電力密度3.8W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件でパルス幅5μsecの条件でパルススパッタリングを行い、前記高屈折率層上に厚さ35nmの酸化ケイ素(シリカ)からなる低屈折率層を形成した。
次いで、アルゴンガスに40体積%の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力0.3Pa、周波数20kHz、電力密度3.8W/cm2、反転パルス幅5μsecの条件でパルス幅5μsecの条件でパルススパッタリングを行い、厚さ80nmの酸化ケイ素(シリカ)からなる低屈折率層を形成した。
このようにして、酸化ニオブ(ニオビア)と酸化ケイ素(シリカ)とが合計4層積層された反射防止膜を形成した。
(視感反射率)
分光測色計(コニカミノルタ製、形式:CM−2600d)により、ガラス基板の防眩処理と反射防止処理を施された側の面の分光反射率をSCIモードで測定し、その反射率から、視感反射率(JIS Z8701において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。その際、防眩処理と反射防止処理を施されていない裏面からの反射を打ち消すために、裏面を黒色に塗って測定した。なお、光源はD65光源として計算した。
X線光電子分光計(日本電子社製、型番:JPS―9200)を用い、アルミニウムを指標としてガラス表面のイオン交換率を測定した。本装置では、深さ方向に対してのイオンの存在比率を調べることができる。まず、表面から十分に深い深さのイオン存在比率をリファレンスとして算出する。本測定では30nmの深さでのイオン存在比率(A)をリファレンスとした。5nmの深さのアルミニウムイオンの存在比率を(B)とし、以下の式によりイオン交換率ρを求めた。
ρ=B/A
まず、ガラス基板の任意の10cm2の正方形の部分を測定範囲として選択し、該測定範囲を11×11等分した格子の、基板内の交点、100点について、以下のようにして色を測定した。
分光測色計(コニカミノルタ製、形式:CM−2600d)により、基板の反射防止処理を施された側の面の分光反射率をSCIモードで測定し、その反射率から、視感反射率(JIS Z 8729において規定されている色指標a*、b*)を求めた。その際、防眩処理と反射防止処理を施されていない裏面からの反射を打ち消すために、裏面を黒色に塗って測定した。
そして、全100点のうちa*、b*それぞれの最大値と最小値(a* max、a* min、b* max、b* min)によって、色分布Eを下記計算式(1−1)によって求めた。
E=√{(a* max−a* min)2+(b* max−b* min)2} (1−1)
続いて測定範囲を変更して、上記と同様の測定を合計3回繰り返し、それぞれEを求めた。
ガラス基板の防眩処理と反射防止処理を施された側の表面に約1μLの純水の水滴を着滴させ、接触角計(協和界面科学社製、装置名;DM−51)を用いて、水に対する接触角を測定した。
実施例1において、リーチアウト層除去工程(3)におけるアルカリ溶液浸漬時間を8時間としたこと、工程(5)として下記防汚膜形成を行なったこと以外は、実施例1と同様に製造した。(5)反射防止膜上に防汚膜を以下の手順により成膜した。
まず、防汚膜材料(信越化学社製、商品名:KY−185)を加熱容器内に導入した。その後、加熱容器内を真空ポンプで10時間以上脱気して溶液中の溶媒除去を行って、フッ素含有有機ケイ素化合物被膜形成用の組成物とした。
次いで、上記フッ素含有有機ケイ素化合物膜形成用の組成物が入った加熱容器を270℃まで加熱した。270℃に到達した後、温度が安定するまで10分間その状態を保持した。
成膜の際には、真空チャンバ内に設置した水晶振動子モニタにより膜厚を測定しながら行い、透明基体上に形成したフッ素含有有機ケイ素化合物膜の膜厚が4nmになるまで成膜を行った。
フッ素含有有機ケイ素化合物膜が4nmになった時点でノズルから原料の供給を停止し、その後真空チャンバから製造された光学部品を取り出した。
取り出された光学部品は、ホットプレートに膜面を上向きにして設置し、大気中で150℃、60分間熱処理を行った。
実施例1において、防眩処理工程(1)においてエッチング処理時間を20分間とすることでヘイズを4%に調整したこと、リーチアウト層除去工程(3)におけるアルカリ溶液浸漬時間を8時間としたこと、反射防止膜形成工程(4)を下記方法で行なったこと以外は、実施例1と同様に製造した。
以下の手順により、防眩処理を施した側の面に、反射防止膜を成膜した。
まず、実施例1と同じ成膜条件で酸化ニオブターゲット(AGCセラミックス社製、商品名:NBOターゲット)を用いて、パルススパッタリングを行い、ガラス基板の防眩処理を施した側の面上に、厚さ15nmの酸化ニオブ(ニオビア)からなる高屈折率層を形成した。
次いで、シリコンターゲットを用いて、実施例1と同じ条件でパルススパッタリングを行い、前記高屈折率層上に厚さ30nmの酸化ケイ素(シリカ)からなる低屈折率層を形成した。
次いで、実施例1と同じ成膜条件で酸化ニオブターゲット(AGCセラミックス社製、商品名:NBOターゲット)を用いて、パルススパッタリングを行い、ガラス基板の防眩処理を施した側の面上に、厚さ110nmの酸化ニオブ(ニオビア)からなる高屈折率層を形成した。
次いで、シリコンターゲットを用いて、実施例1と同じ条件でパルススパッタリングを行い、前記高屈折率層上に厚さ90nmの酸化ケイ素(シリカ)からなる低屈折率層を形成した。
このようにして、酸化ニオブ(ニオビア)と酸化ケイ素(シリカ)とが合計4層積層された反射防止膜を形成した。
実施例1において、防眩処理工程(1)においてエッチング処理時間を10分間とすることでヘイズを10%に調整したこと、リーチアウト層除去工程(3)を下記条件の炭酸カルシウム洗浄により行なったこと、反射防止膜形成工程(4)を実施例3の方法で行なったこと以外は、実施例1と同様に製造した。
炭酸カルシウム洗浄:平均粒径1.6um(粒度分布0.1um〜50um)の炭酸カルシウム研磨材を、濃度20重量%の水溶液(スラリー)と、ナイロンブラシを使用し、研磨圧30〜50KPa、搬送速度55mm/secで、基板片面約1nmの研磨を実施した。
実施例1において、リーチアウト層除去工程(3)を下記条件の酸化セリウム洗浄により行なったこと、反射防止膜形成工程(4)を下記条件で行なったこと以外は、実施例1と同様に製造した。
酸化セリウム洗浄:平均粒径1.2〜1.8umの酸化セリウム研磨材と、濃度4Beの水溶液(スラリー)と、スウェードパッドを使用し、研磨圧0.113MPa、搬送速度20mm/sec×20回で、基板片面約1umの研磨を実施した。
以下の手順により、防眩処理を施した側の面に、反射防止膜を成膜した。
まず、真空チャンバー内で、アルゴンガスに10体積%の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、酸化ニオブターゲット(AGCセラミックス社製、商品名:NBOターゲット)を2つ用いて、圧力0.3Pa、周波数40kHz、電力密度3.8W/cm2でACスパッタリングを行い、ガラス基板の防眩処理を施した側の面上に、厚さ11nmの酸化ニオブ(ニオビア)からなる高屈折率層を形成した。
次いで、アルゴンガスに40体積%の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを2つ用いて、圧力0.3Pa、周波数40kHz、電力密度3.8W/cm2、でACスパッタリングを行い、前記高屈折率層上に厚さ40nmの酸化ケイ素(シリカ)からなる低屈折率層を形成した。
次いで、アルゴンガスに40体積%の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを2つ用いて、圧力0.3Pa、周波数20kHz、電力密度3.8W/cm2、でACスパッタリングを行い、厚さ95nmの酸化ケイ素(シリカ)からなる低屈折率層を形成した。
このようにして、酸化ニオブ(ニオビア)と酸化ケイ素(シリカ)とが合計4層積層された反射防止膜を形成した。
実施例1において、リーチアウト層除去工程(3)におけるアルカリ溶液浸漬時間を10時間としたこと以外は、実施例1と同様に製造した。
実施例1において、化学強化工程(2)を行なわなかったこと以外は、実施例1と同様に製造した。
実施例1において、リーチアウト層除去を、10%NaOH水溶液に12時間浸漬し、エッチングしたこと以外は、実施例1と同様に製造した。
実施例2において、リーチアウト層除去を、2%フッ酸水溶液に20秒浸漬したこと以外は、実施例2と同様に製造した。
実施例2において、リーチアウト層除去を、13.4重量%塩酸溶液に3時間浸漬し、純水で洗浄し、続いて10%NaOH水溶液に4時間浸漬したこと以外は、実施例2と同様に製造した。
実施例8において、化学強化処理を行なわなかったこと以外は、実施例8と同様に製造した。
実施例8において、リーチアウト層除去を、NaOH溶液への浸漬時間を4時間としたこと以外は、実施例8と同様に製造した。
実施例1において、リーチアウト層除去工程(3)を下記条件の純水洗浄としたこと以外は、実施例1と同様に製造した。
純水洗浄:浸漬槽に純水をいれ、その中に基板を浸漬し、40kHzの超音波を印加して、10分間洗浄した。その後、60℃に加温した純水に浸漬し徐々に引き上げることで基板を乾燥させた。
実施例3において、リーチアウト層除去工程(3)を下記条件のプラズマ洗浄としたこと以外は、実施例3と同様に製造した。
プラズマ洗浄:窒素(N2)流量250lpm,クリーンドライエアー(CDA)流量0.5lpm,加速電位10kV、大気圧下で発生させたプラズマを、基板に40秒間照射した。
比較例1において、防眩処理(フロスト処理)を行なわなかったこと以外は、比較例1と同様に製造した。
実施例1において、リーチアウト層除去を行わなかったこと、反射防止膜形成を行わなかったこと以外は、実施例1と同様に製造した。
10R リーチアウト層
20 反射防止膜
30 防汚膜
Claims (11)
- ガラス基板の少なくとも一方の面が凹凸形状を有し、前記凹凸形状を有する面上に反射防止膜が設けられたカバーガラスであって、
前記カバーガラスの前記反射防止膜が設けられた側の面から測定された、面内の任意の2点におけるa*値の差Δa*と、b*値の差Δb*が、下記式(1)を満たし、
前記ガラス基板の前記凹凸形状が形成された面上におけるマイクロクラックの最大深さが3μm未満である、カバーガラス。
√{(Δa*)2+(Δb*)2}≦4 (1) - 前記反射防止膜が設けられた側の面の、任意の10cm2の正方形の部分を測定範囲として選択し、該測定範囲を11×11等分し、その等分線の全交点100点におけるa*値及びb*値から、a*の最大値a* max、a*の最小値a* min、b*の最大値b* max、b*の最小値b* minをそれぞれ求め、前記a* maxと前記a* minの差(a* max−a* min)を前記Δa*とし、前記b* maxと前記b* minの差(b* max−b* min)を前記Δb*とする、請求項1に記載のカバーガラス。
- 前記ガラス基板の前記凹凸形状が形成された表面の表面粗さ(RMS)が0.01〜0.5μmである、請求項1または2に記載のカバーガラス。
- 前記カバーガラスの前記凹凸形状を有する表面の、アルミニウムを指標としたイオン交換率が1%以上、かつ25%以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカバーガラス。
- ヘイズが1〜35%である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のカバーガラス。
- 前記反射防止膜が、ニオブを含む層とケイ素を含む層とをそれぞれ1層以上含む積層体である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のカバーガラス。
- 前記カバーガラスの前記反射防止膜が設けられた側の面の視感反射率が2%以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のカバーガラス。
- 前記反射防止膜上に防汚膜がさらに設けられ、前記防汚膜が設けられた面の水の接触角が90°以上である、請求項1〜7のいずれか1項に記載のカバーガラス。
- フッ化水素を含む溶液によりガラス基板の少なくとも一方の表面をエッチングする防眩処理工程と、
エッチングされたガラス基板の前記表面に圧縮応力層を生じさせる化学強化工程と、
前記表面に対して酸処理またはアルカリ処理を行うリーチアウト層除去工程と、
前記表面に反射防止膜を形成する反射防止膜形成工程を順に有する、カバーガラスの製造方法。 - 前記リーチアウト層除去工程において、酸処理後にアルカリ処理を行う、請求項9に記載のカバーガラスの製造方法。
- 前記反射防止膜形成工程の後に、前記表面に防汚膜を形成する、請求項9または10に記載のカバーガラスの製造方法。
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