CN111718131A

CN111718131A - 覆盖玻璃

Info

Publication number: CN111718131A
Application number: CN202010657252.7A
Authority: CN
Inventors: 藤井健辅; 小船伸司; 玉田稔; 三代均
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2014-07-16
Filing date: 2015-07-13
Publication date: 2020-09-29
Anticipated expiration: 2035-07-13
Also published as: JP2016029474A; DE112015003283T5; TW201609417A; US20170129806A1; TWI615277B; JP5935931B2; TWI656036B; US20210284571A1; CN106536440A; WO2016010009A1; CN106536440B; DE112015003283B4; CN111747659A; TW201811553A; CN111718131B; KR20170035890A; KR101889667B1

Abstract

本发明提供覆盖玻璃，它是玻璃基板的至少一侧的面具有由防眩处理使玻璃的表面本身变粗糙而形成的凹凸形状、且具有所述凹凸形状的面上设置有防反射膜的覆盖玻璃，其中，所述玻璃基板的具有所述凹凸形状的面上具有最大深度低于3μm的微裂纹，从所述覆盖玻璃的设置有所述防反射膜侧的面测定的玻璃面内的任意2点的a^*值之差Δa^*与b^*值之差Δb^*满足下式1。√{(Δa^*)²+(Δb^*)²}≦4 式1。

Description

覆盖玻璃

本申请是国际申请号为PCT/JP2015/070084，国际申请日为2015年7月13日的PCT国际申请进入中国阶段后国家申请号为201580038402.3的标题为“覆盖玻璃”的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及覆盖玻璃。

背景技术

近年来，搭载于车辆等的导航系统和速度仪等各种机器中使用图像显示装置的机会正在增加。作为所述图像显示装置的覆盖玻璃的特性，从提高安全性和外观的观点出发，要求减少外光的反射和防止由外光映入画面导致难以看见图像的情况。

作为防止玻璃等透明基材表面的反射和映入的方法，在玻璃基板表面实施防眩处理(AG处理)，例如已知有在玻璃基板表面实施化学或物理表面处理而形成凹凸后使用氢氟酸等进行蚀刻来调整表面形状的方法(专利文献1)。

作为防止玻璃表面的反射和映入的方法，已知还有减少表面反射的防反射技术。作为防反射技术，提出了通过层叠数层具有适当折射率和光学膜厚的层作为光学干涉层来减少层叠体和空气界面处的光的反射的方案(专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开昭61-36140号公报

专利文献2：日本专利特开2003-215309号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

认为通过实施防眩处理和防反射膜的形成这两者，能够更进一步防止玻璃表面的反射和映入。但是，上述方法中，可能发生玻璃色调不均匀地变化，即产生色调不均的问题。认为该问题是由以下原因产生的。

防眩处理的过程中，有时会在玻璃基板的最表面的面内形成称作探出层(日文：リーチアウト層)的缺乏玻璃阳离子成分的层。探出层的折射率不同于玻璃基板，如果在此处进一步形成防反射膜，则会有类似于低折射率层不均匀地存在于防反射膜和玻璃基板之间的情况。认为其结果是产生上述色调不均。

本发明的目的在于提供即使实施防眩处理和防反射膜形成这两者也不易产生色调变化的覆盖玻璃。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明者发现，如果是不存在探出层的覆盖玻璃，则能够解决上述问题。即，本发明涉及下述覆盖玻璃。

[1]覆盖玻璃，它是玻璃基板的至少一方的面具有由防眩处理形成的凹凸形状、且具有所述凹凸形状的面上具备防反射膜的覆盖玻璃，其中，

具有所述防反射膜的玻璃面内的任意2点的a^*值之差Δa^*与b^*值之差Δb^*满足下式(1)。

√{(Δa^*)²+(Δb^*)²}≦4 (1)

[2]如[1]所述的覆盖玻璃，其中，选择所述玻璃基板中的任意10cm²的正方形部分作为测定范围，将该测定范围11×11等分，从其等分线的全部100个交点处的a^*值和b^*值中分别求出a^*的最大值a^* _最大、a^*的最小值a^* _最小、b^*的最大值b^* _最大、b^*的最小值b^* _最小，将所述a^* _最大与所述a^* _最小之差(a^* _最大-a^* _最小)记为所述Δa^*，将所述b^* _最大与所述b^* _最小之差(b^* _最大-b^* _最小)记为所述Δb^*。

[3]如[1]或[2]所述的覆盖玻璃，其中，所述玻璃基板的具有所述凹凸形状的面上具有最大深度小于3μm的微裂纹。

[4]如[1]～[3]中任一项所述的覆盖玻璃，其中，所述覆盖玻璃的具有所述凹凸形状的表面的离子交换率在1％以上且在25％以下。

[5]如[4]所述的覆盖玻璃，其中，所述离子交换率以铝为指标。

[6]如[1]～[5]中任一项所述的覆盖玻璃，其中，雾度为1～35％。

[7]如[1]～[6]中任一项所述的覆盖玻璃，其中，所述防反射膜是包含1层以上的含铌层和1层以上的含硅层的层叠体。

[8]如[1]～[7]中任一项所述的覆盖玻璃，其中，视觉反射率在2％以下。

[9]如[1]～[8]中任一项所述的覆盖玻璃，其中，所述防反射膜上还具有防污膜，具有所述防污膜的面的水的接触角在90°以上。

发明效果

通过本发明，则能够提供反射和映入少且色调变化小的覆盖玻璃。

附图说明

图1(a)～图1(d)是表示本发明的制造方法的一种实施方式的工序流程图。

图2(a)～图2(f)是表示本发明的制造方法的另一实施方式的工序流程图。

具体实施方式

本发明的覆盖玻璃的玻璃基板的至少一方的面具有由防眩处理形成的凹凸形状，且具有凹凸形状的面上具备防反射膜，具有防反射膜侧的玻璃面内的任意2点的a^*值之差Δa^*与b^*值之差Δb^*满足下式(1)。

√{(Δa^*)²+(Δb^*)²}≦4 (1)

式(1)是玻璃面内的色调分布的指标，表示通过使该指标在4以下，则玻璃面内的色调分布的差别小，即，色调变化小。式(1)优选在3以下，更优选在2以下。

从选择覆盖玻璃的具有防反射膜侧的玻璃面内的任意2点所测定的2处a^*值的差值能够算出式(1)中的Δa^*。也能同样地算出Δb^*。a^*和b^*是通过分光光度计测定基板的实施了防眩处理和防反射处理侧的面的分光反射率、再从该反射率得到的视觉反射率(JIS Z8729(2004年))。

具体而言，较好是选择玻璃基板中的任意10cm²的正方形部分作为测定范围，将该测定范围11×11等分，从其等分线的全部100个交点处的a^*值和b^*值中分别求出a^*的最大值a^* _最大、a^*的最小值a^* _最小、b^*的最大值b^* _最大、b^*的最小值b^* _最小，将a^* _最大与a^* _最小之差(a^* _最大-a^* _最小)记为Δa^*，将b^* _最大与b^* _最小之差(b^* _最大-b^* _最小)记为Δb^*。

另外，测定范围的面积为10cm²即可，其形状不限于正方形。测定范围不是正方形的情况下，以能够确定该测定范围内的视觉反射率a^*和b^*的分布的程度适当选择100处测定位置即可。

通过使本发明的覆盖玻璃的玻璃基板上不具有探出层，能够满足上式(1)。探出(日文：リーチアウト)是指，用强酸等处理玻璃表面时，存在于玻璃表层部的阳离子与酸的H⁺离子发生交换反应，从而玻璃表层部的组成比与本体(日文：バルク)的组成比不同的现象，将由此形成的最表面的组成比不同的层称作探出层。为了使探出层不存在，可例举通过防眩处理将可能形成的探出层除去的方法，或实施不易形成探出层的防眩处理。

本发明的覆盖玻璃的离子交换率优选在25％以下，更优选在23％以下，进一步优选在20％以下，进一步更优选在15％以下，更进一步优选在10％以下。离子交换率优选在1％以上。离子交换率定义为玻璃最表面的任意阳离子和同类阳离子含有率除以玻璃本体部分(日文：バルク部)的所述阳离子而得的值，是玻璃中阳离子的缺乏率的指标。

作为阳离子成分，例如可例举钠、钾、铝等。玻璃最表面是指从玻璃表面起5nm为止的区域，本体区域是指从玻璃表面起深度30nm以上的区域。玻璃是钠钙玻璃的情况下，优选以钠为指标，铝硅酸盐玻璃的情况下，优选以铝和钾中的一种为指标。本申请中，在铝硅酸盐玻璃的情况下，以铝为指标。离子交换率如果是上述范围，则本体部和最表面的折射率差可忽略，其上即使形成有防反射膜，对分光光谱的影响也可忽略。

最表面的玻璃组成例如可通过X射线光电子分光(XPS)进行测定。本体部的玻璃组成例如能通过XPS、荧光X射线分析(XRF)等测定。

另外，除去前的离子交换层、即探出层，从玻璃基板最表面起的厚度优选在10nm以下，更优选在8nm以下，进一步优选在6nm以下。另外，除去前的离子交换层、即探出层优选超过1nm。除去前的探出层的厚度如果在10nm以下，则能够高效除去探出层的同时，最终能够得到合适的防眩效果和均匀的反射特性。除去前的探出层的厚度如果超过1nm，则能够得到最低限度的必要的防眩效果和均匀的反射特性，因此优选。

<玻璃基板>

作为本发明的玻璃基板，可利用具有多种组成的玻璃。

例如，本发明使用的玻璃优选含有钠，优选是能够通过成形、化学强化处理进行强化的组成。具体而言，例如可例举铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸玻璃、铅玻璃、碱钡玻璃(日文：アルカリバリウムガラス)、铝硼硅酸玻璃等。

本发明的玻璃的组成无特别限定，例如可例举以下玻璃的组成。

(i)以摩尔％表示的组成含有50～80％的SiO₂、2～25％的Al₂O₃、0～10％的Li₂O、0～18％的Na₂O、0～10％的K₂O、0～15％的MgO、0～5％的CaO和0～5％的ZrO₂的玻璃。

(ii)以摩尔％表示的组成含有50～74％的SiO₂、1～10％的Al₂O₃、6～14％的Na₂O、3～11％的K₂O、2～15％的MgO、0～6％的CaO以及0～5％的ZrO₂，SiO₂及Al₂O₃的含量的总和在75％以下，Na₂O及K₂O的含量的总和为12～25％，MgO及CaO的含量的总和为7～15％的玻璃。

(iii)以摩尔％表示的组成含有68～80％的SiO₂、4～10％的Al₂O₃、5～15％的Na₂O、0～1％的K₂O、4～15％的MgO以及0～1％的ZrO₂的玻璃。

(iv)以摩尔％表示的组成含有67～75％的SiO₂、0～4％的Al₂O₃、7～15％的Na₂O、1～9％的K₂O、6～14％的MgO以及0～1.5％的ZrO₂，SiO₂及Al₂O₃的含量的总和为71～75％，Na₂O及K₂O的含量的总和为12～20％，含有CaO的情况下其含量低于1％的玻璃。

玻璃的制造方法无特别限定，可通过将所需的玻璃原料投入连续熔融炉、优选地在1500～1600℃下加热熔融玻璃原料并澄清后供给于成形装置将熔融玻璃成形为板状、进而退火来制造。

另外，玻璃的成形可采用多种方法。例如可采用下拉法(例如，溢流下拉法、槽下引法(日文：スロットダウン法)和再曳引法(日文：リドロー法)等)、浮法、辊压法和加压法等各种成形方法。

玻璃的厚度无特别限制，但是在实施化学强化处理的情况下为了更有效地进行化学强化处理，通常优选在5mm以下，更优选在3mm以下。

为了提高覆盖玻璃的强度，优选对玻璃基板实施化学强化。在防眩处理之后、形成防反射膜之前实施化学强化。具体的方法在后续制造方法的部分进行描述。

<防眩处理>

本发明的覆盖玻璃的玻璃基板的至少一方的面实施了防眩处理(也称作“AG处理”)。防眩加工方法无特别限制，可利用对玻璃主面实施表面处理来形成所需的凹凸的方法。

具体可例举对玻璃基板的第1主面实施例如霜面处理(日文：フロスト処理)的化学处理的方法。霜面处理例如可通过在氟化氢和氟化铵混合溶液中浸渍作为被处理体的玻璃基板而对浸渍面进行化学表面处理的方式来实施。

另外，除了借助这种化学处理的方法之外，还可利用例如通过加压空气将结晶质二氧化硅粉、碳化硅粉等吹附于玻璃基板表面的所谓的喷砂处理、使用被水润湿的附着有结晶质二氧化硅粉、碳化硅粉等的刷进行研磨等物理处理的方法。

特别地，使用氟化氢等的药液进行化学表面处理来实施霜面处理的方法中，被处理体表面不易产生微裂纹，机械强度不易降低，因此优选作为对玻璃基板实施表面处理的方法进行利用。另外，通过玻璃基板的防眩处理而形成有凹凸的表面可具有最大深度低于3μm的微裂纹。原因在于，如果是这种程度的微裂纹，则不易引起机械强度的降低。

照此通过化学表面处理(双面处理)或物理表面处理制作了凹凸之后，为了调整表面形状，通常对玻璃表面进行化学蚀刻。藉此，能够通过蚀刻量将雾度调整为所需的值，能够除去由喷砂处理等形成的裂纹或能够抑制闪耀。

作为蚀刻，优选使用在以氟化氢为主成分的溶液中浸渍作为被处理体的玻璃基板的方法。作为氟化氢以外的成分，也可含有盐酸·硝酸·柠檬酸等酸。通过含有酸，玻璃中的阳离子成分与氟化氢反应而能够抑制在局部发生析出反应，能够在面内均匀地进行蚀刻。

作为AG处理后的表面形状，表面粗糙度(RMS)优选为0.01～0.5μm，更优选为0.01～0.3μm，进一步优选为0.01～0.2μm。

RMS可按照JIS B 0601(2001)规定的方法进行测定。具体而言，使用激光显微镜(株式会社基恩士(株式会社キーエンス)制，商品名VK-9700)，对试料的测定面设定300μm×200μm的视野范围，测定基板的高度信息并进行截断值校准(日文：カットオフ補正)，求出所得高度的均方值而算出表面粗糙度。实施该测定时，优选使用0.08mm的截断值。另外，优选试料表面观察到的圆形状的孔的大小在10μm以下。通过落入这种范围内，能够同时实现防闪耀和防眩性。

认为这种蚀刻工序中会形成探出层。认为特别是在酸存在的情况下，玻璃表面的阳离子成分选择性地溶出，容易在玻璃表面形成探出层。因此，在包含使用含酸溶液进行蚀刻的工序的情况下，特别优选如后所述在该工序后除去探出层。

<防反射膜>

本发明的覆盖玻璃通过在防眩处理后的玻璃基板面上实施防反射膜处理(也称作“AR处理”)而具有防反射膜。

防反射膜的材料无特别限定，可利用能够抑制光反射的各种材料。例如，作为防反射膜，可采用将高折射率层和低折射率层层叠而得的结构。此处的高折射率层是指波长550nm时的折射率在1.9以上的层，低折射率层是指波长550nm时的折射率在1.6以下的层。

高折射率层和低折射率层可以是每一种各有1层的形态，也可以是各有2层以上的结构。分别含有两层以上的高折射率层和低折射率层的情况下，优选是交替层叠高折射率层和低折射率层的形式。

特别是为了提高防反射性能，防反射膜优选多层层叠而得的层叠体，例如优选该层叠体整体层叠有2层以上6层以下的层，更优选层叠有2层以上4层以下的层。此处的层叠体优选如上所述将高折射率层和低折射率层进行层叠而得的层叠体，高折射率层和低折射率层各自的层数合计而得的层数优选在上述范围内。

高折射率层和低折射率层的材料无特别限定，可考虑所要求的防反射程度和生产性等进行选择。作为构成高折射率层的材料，可优选利用例如含有选自铌、钛、锆、钽、硅中的一种以上的材料。具体可例举氧化铌(Nb₂O₅)、氧化钛(TiO₂)、氧化锆(ZrO₂)、氧化钽(Ta₂O₅)、氮化硅等。作为构成低折射率层的材料，可优选利用例如含有硅的材料。具体可例举二氧化硅(SiO₂)、包含Si与Sn的混合氧化物的材料、包含Si与Zr的混合氧化物的材料、包含Si与Al的混合氧化物的材料等。

作为高折射率层，从生产性和折射率的程度来看，所述高折射率层是选自含铌层或含钽层中的任一种，更优选所述低折射率层是含硅层，进一步优选所述高折射率层由含铌层构成。即，防反射膜优选是包含1层以上的含铌层和1层以上的含硅层的层叠体。

另外，本发明的覆盖玻璃中，可在玻璃基板的至少一方的主面实施防眩处理以及形成防反射膜，根据需要也可在玻璃基板的两主面实施防眩处理以及形成防反射膜。

防反射膜的形成方法在后续的制造方法部分进行详细描述。

<防污膜>

从保护玻璃表面的观点来看，本发明的覆盖玻璃在上述防反射膜还可具有防污膜(也称作“防指纹(AFP)膜”)。防污膜例如可由含氟有机硅化合物构成。作为含氟有机硅化合物，如果是赋予防污性、斥水性和斥油性的化合物则无特别限定，例如可使用具有选自多氟聚醚基、多氟亚烷基及多氟烷基中的一个以上的基团的含氟有机硅化合物。另外，多氟聚醚基是具有多氟亚烷基和醚性氧原子交替键合而成的结构的2价基团。

作为具有选自该多氟聚醚基、多氟亚烷基及多氟烷基中的1个以上的基团的含氟有机硅化合物的具体例，可例举以下述通式(I)～(V)所示的化合物等。

[化1]

式中，Rf是碳数1～16的直链状的多氟烷基(作为烷基，例如有甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)，X是氢原子或碳数1～5的低级烷基(例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)，R1是可水解基团(例如，氨基、烷氧基等)或卤素原子(例如氟、氯、溴、碘等)，m是1～50的整数，优选为1～30的整数，n是0～2的整数，优选是1～2的整数，p是1～10的整数，优选是1～8的整数。

C_qF_2q+1CH₂CH₂Si(NH₂)₃ (II)

此处，q是1以上的整数，优选是2～20的整数。

作为以通式(II)表示的化合物，可例示例如n-三氟(1,1,2,2-四氢)丙基硅氮烷(n-CF₃CH₂CH₂Si(NH₂)₃)、n-七氟(1,1,2,2-四氢)戊基硅氮烷(n-C₃F₇CH₂CH₂Si(NH₂)₃)等。

C_q’F_2q’+1CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ (III)

此处，q’是1以上的整数，优选是1～20的整数。

作为以通式(III)表示的化合物，可例示2-(全氟辛基)乙基三甲氧基硅烷(n-C₈F₁₇CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)等。

[化2]

式(IV)中、R^f2是以-(OC₃F₆)_s-(OC₂F₄)_t-(OCF₂)_u-(s、t、u分别独立地是0～200的整数)表示的2价直链状多氟聚醚基，R²、R³分别独立地是碳原子数1～8的一价烃基(例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基等)。X²、X³分别独立地是可水解基团(例如氨基、烷氧基、酰氧基、烯氧基、异氰酸酯基等)或卤原子(例如氟、氯、溴、碘等)，d、e独立地是1～2的整数，c、f独立地是1～5(优选为1～2)的整数，a和b独立地为2或3。

化合物(IV)所具有的R^f2中的s+t+u优选为20～300，更优选为25～100。另外，R²、R³更优选为甲基、乙基、丁基。X²、X³所示的水解性基团更优选为碳数1～6的烷氧基，特别优选为甲氧基和乙氧基。另外，a和b分别优选为3。

[化3]

F-(CF₂)_v-(OC₃F₆)_w-(OC₂F₄)_y-(OCF₂)_z(CH₂)_hO(CH₂)_i-Si(X⁴)_3-k(R⁴)_k (V)

式(V)中，v是1～3的整数，w、y、z分别独立地是0～200的整数，h是1或2，i是2～20的整数，X⁴是水解性基团，R⁴是碳数1～22的直链或分支的烃基，k是0～2的整数。w+y+z优选为20～300，更优选为25～100。另外，i更优选为2～10。X⁴优选为碳数1～6的烷氧基，更优选为甲氧基和乙氧基。R⁴更优选为碳数1～10的烷基。

此外，作为市售的具有选自多氟聚醚基、多氟亚烷基及多氟烷基中的1个以上的基团的含氟有机硅化合物，优选使用KP-801(商品名，信越化学工业株式会社(信越化学社)制)、KY178(商品名，信越化学工业株式会社制)、KY-130(商品名，信越化学工业株式会社制)、KY-185(商品名，信越化学工业株式会社制)、OPTOOL(オプツ-ル，注册商标)DSX及OPTOOL AES(均为商品名，大金工业株式会社(ダイキン社)制)等。

防污膜层叠在防反射膜上。玻璃基板的两主面上形成有防反射膜的情况下，可在两方的防反射膜上形成防污膜，也可是仅在任一方的面上层叠防污膜的结构。这是因为，在人的手等可能接触的位置设置防污膜即可，可根据其用途等进行选择。

<接触角>

本发明的覆盖玻璃的水接触角优选在90°以上。藉此，覆盖玻璃表面具有斥水性和斥油性，能形成不易附着污浊的覆盖玻璃。为使接触角在90°以上，例如可例举具有上述防污膜的情况。

<雾度>

本发明的覆盖玻璃的雾度优选为1～35％，更优选为2～35％，进一步优选为2～25％。雾度如果在所述范围内，则能够得到具有所需的防眩性的同时对显示体的分辨率影响小的覆盖玻璃。雾度由JISK7136规定。

雾度能够通过调节AG处理中的蚀刻时间来进行控制。

<反射率>

本发明的覆盖玻璃的视觉反射率优选在2％以下。视觉反射率如果在所述范围内则能够充分防止映入。视觉反射率由JIS Z8701规定。另外，使用D65光源作为光源。

<覆盖玻璃的制造方法>

本发明的覆盖玻璃例如可通过下述工序制造，但不限于此。工序1：防眩处理，工序2：化学强化，工序3：探出层除去，工序4：防反射膜形成，工序5：防污膜形成

工序2的化学强化、工序3的探出层除去、工序5的防污膜形成可分别根据需要来实施。进一步可根据需要实施印刷处理。

工序2的化学强化处理优选在工序1的防眩处理和工序4的防反射膜形成之间实施。工序2的化学强化和工序3的探出层除去的顺序可交替，但是从极力减少防反射膜形成前的附着物的观点来看，优选在即将形成防反射膜之前实施探出层除去。

在覆盖玻璃需要装饰的情况下，印刷处理是框状印刷、标志印刷等以适当选择了基于目的和用途确定的印刷图案的颜色来实施印刷的处理。印刷方法可使用已知的任意方法，例如较好是丝网印刷。

优选在工序1的防眩处理和工序4的防反射膜形成之间且在工序3的探出层除去后实施印刷处理。原因在于，为了使印刷部不受用于除去探出层的蚀刻等处理的影响。

在实施化学强化处理和印刷处理的情况下，优选依次实施化学强化处理、探出层除去、印刷处理。

防污膜是用于保护玻璃表面而形成的膜，因此防污膜优选在最终工序、即防反射膜形成后再形成。

图1(a)～图1(d)是表示本发明的制造方法的实施方式的工序流程图。玻璃基板10的主面10a和10b中，在一方的主面10a上实施防眩处理(图1(a))。防眩处理后是玻璃表面10a上形成有凹凸(未图示)的同时、玻璃中的阳离子与酸的H⁺粒子发生了交换的状态，在表层部分形成探出层10R(图1(b))。通过选自蚀刻及抛光的至少一种方法将该探出层10R除去(图1(c))。此时，由防眩处理形成的凹凸不会因为探出层的除去处理而消失。在探出层除去后的玻璃主面10a上进一步形成防反射膜20(图1(d))。

图2(a)～图2(f)是表示本发明的制造方法的进一步的实施方式的工序流程图。通过对玻璃基板10的主面10a进行防眩处理，在防眩处理后的玻璃表面10a上形成凹凸(未图示)的同时，还形成探出层10R(图2(a)～图2(b))。然后通过对玻璃基板进行化学强化，在玻璃基板的表层形成压缩应力层10E(图2(c))。压缩应力层10E形成的部位比探出层10R更深。之后，除去探出层10R(图2(d))，在经防眩处理的面上形成防反射膜20(图2(e))。在防反射膜20上进一步形成防污膜30(图2(f))。

以下对各工序进行说明。

<工序1：防眩处理>

防眩处理的具体方法正如上述覆盖玻璃的说明中的详细说明。即，通过化学表面处理或物理表面处理在玻璃基板的至少一方的面上制作了凹凸之后，使用氟化氢溶液或含有氟化氢及酸的溶液进行蚀刻来实施防眩处理。

另外，对玻璃基板进行后述的化学强化之前，优选根据用途实施形状加工，例如切割、端面加工以及开孔加工等机械加工。

<工序2：化学强化>

可利用公知的方法进行化学强化。例如，通过将玻璃中含有的离子半径较小的金属离子(例如Na离子)和离子半径较大的金属离子(例如K离子)进行置换，能够在玻璃表面生成压缩应力层来提高玻璃强度，即能够通过离子交换实施化学强化。

具体而言，在熔融盐中浸渍防眩处理后的玻璃基板，在玻璃表面形成压缩应力层。作为熔融盐可例举无机钾盐，无机钾盐优选是在实施化学强化的玻璃应变点(通常为500～600℃)以下为熔融状态的盐，优选含有例如硝酸钾(熔点330℃)。作为熔融盐也可含有硝酸钾以外的其他无机钾盐，例如可例举与选自硫酸钾和氯化钾等碱金属硫酸盐、碱金属氯化盐、碳酸钾等中的一种以上的组合。

玻璃的预热温度取决于实施化学强化处理的温度(盐浴的温度)，通常优选在100℃以上。

玻璃的化学强化处理温度优选在被强化玻璃的应变点(通常为500～600℃)以下，为了得到更高的压缩应力深度(层深度,Depth of Layer,DOL)，优选在350℃以上。

玻璃在熔融盐中的浸渍时间优选为10分钟～12小时，更优选为30分钟～10小时。如果是所述范围，则能够得到强度与压缩应力层的深度的平衡良好的化学强化玻璃。

实施化学强化处理的化学强化槽可利用金属、石英、陶瓷等。其中，从耐久性的角度考虑，优选金属材质，从耐腐蚀性的角度考虑，优选不锈钢(SUS)材质。

<工序3：探出层除去>

利用防眩处理，则玻璃表面形成的探出层被除去。具体而言，可例举使用药液进行蚀刻等的化学方法，使用抛光材进行抛光等的物理方法。

作为蚀刻方法，可例举对玻璃基板实施酸处理的方法和实施碱处理的方法，或在酸处理后实施碱处理的方法。

通过在酸性溶液中浸渍玻璃基板来实施酸处理。

作为酸性溶液，pH低于7即可，所用的酸可为弱酸或强酸。具体而言，优选氢氟酸、盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、乙酸、草酸、碳酸和柠檬酸等。这些酸可以单独使用，或将多种组合使用。实施酸处理的温度因所用酸的种类、浓度和时间而异，优选在100℃以下实施。

实施酸处理的时间因所用酸的种类、浓度和温度而异，但是从生产性的角度考虑，优选为10秒～5小时，更优选为1分钟～2小时。

实施酸处理的溶液的浓度因所用酸的种类、时间和温度而异，但是优选为容器腐蚀的可能性小的浓度，具体优选为1wt％～20wt％。

酸处理过程中也会同时产生所述的探出层，因此与蚀刻速度的关系很重要。具体而言，优选使蚀刻速度为探出层形成速度的1.5倍以上的浓度及温度条件，更优选为2倍以上的条件，进一步优选为2.5倍以上的条件。

通过在碱性溶液中浸渍玻璃基板来实施碱处理。

作为碱溶液，pH超过7即可，可使用弱碱或强碱。具体而言，优选氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钾、碳酸钠等碱。这些碱可以单独使用，或将多种组合使用。

实施碱处理的温度因所用碱的种类、浓度和时间而异，优选为0～100℃，更优选10～80℃，特别优选20～60℃。如果是所述温度范围，则不会腐蚀玻璃，因此优选。

实施碱处理的时间因所用碱的种类、浓度和温度而异，但是从生产性的角度考虑，优选为10秒～20小时，更优选为1分钟～12小时，进一步优选为10分钟～5小时。

实施碱处理的溶液的浓度因所用碱的种类、时间和温度而异，但是从玻璃表面除去性的角度考虑，优选为1wt％～20wt％。

在酸处理后实施碱处理的情况下，对实施了上述酸处理后的玻璃基板继续实施碱处理。酸处理、碱处理的条件与上述相同。

化学除去方法可选择上述任一种，从容易除去探出层的角度考虑，优选在酸处理后实施碱处理的方法。

作为使用抛光材进行抛光的方法，可例举使用含有选自碳酸钙、氧化铈、胶体二氧化硅等的抛光材的抛光液对玻璃基材的表面进行抛光的方法。

关于探出层的除去，如果是化学除去方法则除去3nm以上的玻璃基板表面，优选除去5nm以上，进一步优选除去10nm以上。如果是物理除去方法则除去5nm以上的玻璃基板表面，优选除去10nm以上，进一步优选除去30nm以上。如果是所述去除量则能够充分除去探出层。但是，从不在本质上改变通过防眩处理形成的表面形状的角度出发，优选除去量的上限为2μm。

另外，虽然可选择化学除去方法和物理除去方法中的任一种，但是从玻璃表面不产生裂纹等、抛光剂的残渣污染玻璃表面的可能性无的角度来看，优选化学除去法。另外，也可将化学除去方法和物理除去方法组合。

<工序4：防反射膜形成>

形成防反射膜的方法无特别限制，可利用各种成膜方法。特别优选使用脉冲溅射、AC溅射、电子溅射等方法来进行成膜。如果是这些方法，则能够形成致密的防反射膜，能够确保耐久性。

例如通过脉冲溅射进行成膜时，在惰性气体和氧气的混合气体气氛的腔室内配置玻璃基板，可针对其选择靶进行成膜以实现所希望的组成。

此时，腔室内惰性气体的气体种类无特别限定，可利用氩气和氦气等各种惰性气体。

另外，该惰性气体和氧气的混合气体在腔室内形成的压力无特别限定，但是通过在0.5Pa以下的范围内，则能够容易使防反射膜的表面粗糙度落入优选范围，因此优选。这是因为，如果惰性气体和氧气的混合气体在腔室内形成的压力在0.5Pa以下，则能够确保成膜分子的平均自由程，成膜分子可携带更多的能量到达基板。认为因此成膜分子的重排得到促进，能够形成比较致密且平滑的表面。惰性气体和氧气的混合气体在腔室内形成的压力的下限值无特别限定，例如优选为0.1Pa以上。

另外，防反射膜的表面粗糙度的优选范围与防眩处理后的表面形状的优选范围大致相同。原因在于，防反射膜的膜厚自身很薄，最多不过100nm～300nm，因此防反射膜自身的凹凸尺寸与存在于防反射膜下层的由防眩处理形成的凹凸尺寸相比，是能够忽略程度的尺寸。因此，可认为防眩处理后的基板上的防反射膜的表面粗糙度实质上取决于防眩处理后的基板的表面粗糙度。

<工序5：防污膜形成>

本实施方式的防污膜的成膜方法无特别限定，优选使用上述含氟有机硅化合物材料通过真空蒸镀来成膜。

另外，为了抑制因与空气中的水分反应而引起的劣化等，通常含氟有机硅化合物与氟类溶剂等溶剂混合保存，但如果直接以包含这些溶剂的状态供于成膜工序，则有时会对所得的薄膜的耐久性等产生不良影响。

因此，本实施方式中，优选使用通过加热容器进行加热之前预先实施了溶剂除去处理的含氟有机硅化合物，或使用未被溶剂稀释(未添加溶剂)的含氟有机硅化合物。例如，作为含氟有机硅化合物溶液中所含的溶剂的浓度，优选1摩尔％以下的溶剂浓度，更优选0.2摩尔％以下。特别优选不含溶剂的含氟有机硅化合物。

另外，作为保存上述含氟有机硅化合物时使用的溶剂，可例举例如全氟己烷、六氟代间二甲苯(C₆H₄(CF₃)₂)、氢氟聚醚、HFE7200/7100(商品名，住友3M株式会社(住友スリーエム社)制，HFE7200表示C₄F₉C₂H₅，HFE7100表示C₄F₉OCH₃)等。

从包含氟类溶剂的含氟有机硅化合物溶液除去溶剂的处理可通过例如对装有含氟有机硅化合物溶液的容器抽真空来实施。

对于进行抽真空的时间，由于随排气管线、真空泵等的排气能力、溶液的量等而变化，所以对其无限定，例如可进行约10小时以上的抽真空。

另外，上述溶剂的除去处理也可通过向形成防污膜的成膜装置的加热容器中导入含氟有机硅化合物溶液后、在升温前于室温下对加热容器内部抽真空来实施。另外，在导入加热容器前，也可预先通过蒸发器等将溶剂除去。

但是，如上所述，溶剂含量少或不含溶剂的含氟有机硅化合物与含有溶剂的含氟有机硅化合物相比，更容易与大气接触而劣化。

因此，作为溶剂含量少(或不含)的含氟有机硅化合物的保管容器，优选使用以氮气等惰性气体置换容器内部并密闭的保管容器，使得操作时在大气中的暴露、接触时间变短。

具体而言，优选在保管容器开封后立即将含氟有机硅化合物导入用于形成防污膜的成膜装置的加热容器内。接着，导入后，优选对加热容器内部抽真空或用氮气、稀有气体等惰性气体置换，除去加热容器内所含的大气(空气)。更优选例如储存容器和加热容器通过具有阀的配管连接，这样能够在不与大气接触的情况下从保管容器(储存容器)导入本制造装置的加热容器。

然后，优选在含氟有机硅化合物导入加热容器后将容器内部抽真空或置换为惰性气体之后，立即开始用于成膜的加热。

作为防污膜的成膜方法，本实施方式的说明中对使用了含氟有机硅化合物的溶液或未稀释液的示例进行了描述，但是不限于此。作为其他的方法，例如有使用下述颗粒的方法：预先有一定量的含氟有机硅化合物含浸于多孔金属(例如锡和铜)和纤维状金属(例如不锈钢)的所谓的蒸镀用颗粒，所述颗粒由市售可得(作为一例，有佳能光导发光元件株式会社(キャノンオプトロン社)制的SURFCLEAR(サーフクリア))。这种情况下，将与蒸镀装置的容量和必要膜厚相应的量的颗粒作为蒸镀源，能够简便地形成防污膜。

通过上述制造方法能够制造本发明的覆盖玻璃。

实施例

下面例举实施例对本发明进行具体说明，但本发明并不局限于这些实施例。

<实施例1>

通过以下步骤制造了覆盖玻璃。

作为玻璃基板，使用了旭硝子株式会社(旭硝子社)制的龙迹(Dragontrail，注册商标)。

(1)然后，按照以下步骤对玻璃基板的一面进行霜面处理而实施了防眩处理。

首先，将耐酸性的保护膜(以下也简称为保护膜)贴合于基板的未实施防眩处理一侧的面。然后，在3重量％的氟化氢溶液中将基板浸渍3分钟，通过对基板进行蚀刻而除去了附着于表面的污浊。之后在15重量％的氟化氢、15重量％的氟化钾混合溶液中浸渍3分钟，实施了表面的霜面处理。最后通过将基板在10％氟化氢溶液中浸渍6分钟，将雾度值调整至25％。本申请中，将此处最后的浸渍于氟化氢溶液来调整雾度值的时间称作蚀刻时间。

(2)然后，通过以下步骤实施化学强化处理。

将除去了保护膜的基板在加热·熔解至450℃的硝酸盐中浸渍2小时后，从熔融盐中取出基板，用1小时缓慢冷却至室温，得到了化学强化基板。

(3)此后，将该基板在碱溶液(狮王株式会社(ライオン株式会社)制，サンウォッシュTL-75)中浸渍4小时，除去了表面的探出层。通过探出层除去后处理前后的玻璃重量、玻璃表面积和玻璃密度算出了探出层的除去量。

(4)接着，按照以下步骤，在实施了防眩处理一侧的面形成了防反射膜。

首先，在真空腔室内一边导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体，一边使用氧化铌靶(AGC陶瓷株式会社(AGCセラミックス株式会社)制，商品名：NBO靶(NBOターゲット))，在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反相脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，在玻璃基板的实施了防眩处理一侧的面上，形成了厚度为13nm的由氧化铌(以下也称为氧化铌(niobia))构成的高折射率层。

接着，一边导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体，一边使用硅靶，在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反相脉冲宽度5微秒的条件下以脉冲宽度5微秒的条件进行脉冲溅射，在所述高折射率层上形成了厚度为35nm的由二氧化硅(二氧化硅(silica))构成的低折射率层。

然后，一边导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体，一边使用氧化铌靶(AGC陶瓷株式会社制，商品名：NBO靶(NBOターゲット))，在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反相脉冲宽度5微秒的条件下进行脉冲溅射，在所述低折射率层上形成了厚度为115nm的由氧化铌(氧化铌(niobia))构成的高折射率层。

接着，一边导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体，一边使用硅靶，在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²、反相脉冲宽度5微秒的条件下以脉冲宽度5微秒的条件进行脉冲溅射，形成了厚度为80nm的由二氧化硅(二氧化硅(silica))构成的低折射率层。

藉此，形成了总共层叠有4层的氧化铌(氧化铌(niobia))和二氧化硅(二氧化硅(silica))的防反射膜。

<玻璃的评价>

(视觉反射率)

使用分光光度计(柯尼卡美能达株式会社(コニカミノルタ)制，型号：CM-2600d)在SCI模式下测定玻璃基板的实施了防眩处理和防反射处理侧的面的分光反射率，从该反射率求出了视觉反射率(JIS Z 8729规定的反射的刺激值Y)。此时，为了消除来自未实施防眩处理和防反射处理的反面的反射，将反面涂为黑色进行了测定。另外，使用D65光源作为光源进行了计算。

(离子交换率)

使用X射线光电子分光计(日本电子株式会社(日本電子社)制，型号：JPS-9200)，以铝为指标测定了玻璃表面的离子交换率。本装置能够对深度方向的离子存在比率进行考察。首先，计算距表面足够深的深度处的离子存在比率作为参照。本测定中，将30nm深度处的离子存在比率(A)作为参照。将5nm深度处的铝离子存在比率记为(B)，通过下式求出了离子交换率ρ。

ρ＝B/A

(色调分布)

首先，选择玻璃基板中的任意10cm²的正方形部分作为测定范围，将该测定范围11×11等分，对等分而得的格子的基板内的100个交点按以下方式测定了颜色。

使用分光光度计(柯尼卡美能达株式会社制，型号：CM-2600d)在SCI模式下测定基板的实施了防反射处理侧的面的分光反射率，从该反射率求出了视觉反射率(JIS Z 8729规定的反射的色调指标a^*、b^*)。此时，为了消除来自未实施防眩处理和防反射处理的反面的反射，将反面涂为黑色进行了测定。

然后，由全部100点中a^*、b^*各自的最大值和最小值(a^* _最大、a^* _最小、b^* _最大、b^* _最小)通过以下计算式(1-1)求出了色调分布E。

E＝√{(a^* _最大-a^* _最小)²+(b^* _最大-b^* _最小)²} (1-1)

之后改变测定范围，总共重复3次与上述相同的测定，分别求出了E。

(水的接触角)

在玻璃基板的实施了防眩处理和方反射处理侧的表面滴加约1μL的纯水的水滴，使用接触角计(协和界面科学株式会社制(協和界面科学社)，装置名；DM-51)，测定相对于水的接触角。

<实施例2>

除了将实施例1中的探出层除去工序(3)的碱溶液浸渍时间设置为8小时、实施下述防污膜形成作为工序(5)之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。(5)在防反射膜上按以下步骤形成了防污膜。

首先，将防污膜材料(信越化学工业株式会社制，商品名：KY-185)导入加热容器内。然后，用真空泵对加热容器内脱气10小时以上，除去溶液中的溶剂，制得含氟有机硅化合物被膜形成用的组合物。

之后，将装有含氟有机硅化合物膜形成用的组合物的加热容器加热至270℃。达到270℃后，以该状态保持10分钟直至温度稳定。

然后，从与装有所述含氟有机硅化合物膜形成用的组合物的加热容器连接的喷嘴向设置在真空腔室内的层叠有上述防反射膜的透明基体的防反射膜供给含氟有机硅化合物膜形成用的组合物，实施了成膜。

在成膜的同时通过设置于真空腔室内的水晶振子监控器测定膜厚，直至透明基体上形成的含氟有机硅化合物膜的膜厚为4nm为止。

在含氟有机硅化合物膜达到4nm的时刻停止从喷嘴供给原料，然后从真空腔室取出制得的光学构件。

将取出的光学构件以膜面朝上的方式设置在加热板上，在大气中于150℃下进行了60分钟热处理。

<实施例3>

除了将实施例1中的防眩处理工序(1)的蚀刻处理时间设置为20分钟而将雾度调整为4％、探出层除去工序(3)的碱溶液浸渍时间设置为8小时、按下述方法实施防反射膜形成工序(4)之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

防反射膜形成工序：

按照以下步骤，在实施了防眩处理一侧的面形成了防反射膜。

首先，使用氧化铌靶(AGC陶瓷株式会社制，商品名：NBO靶)，在与实施例1同样的成膜条件下进行脉冲溅射，在玻璃基板的实施了防眩处理一侧的面上形成了厚度为15nm的由氧化铌(niobia)构成的高折射率层。

接着，使用硅靶，在与实施例1相同的条件下进行脉冲溅射，在所述高折射率层上形成了厚度为30nm的由二氧化硅(二氧化硅(silica))构成的低折射率层。

然后，使用氧化铌靶(AGC陶瓷株式会社制，商品名：NBO靶)，在与实施例1同样的成膜条件下进行脉冲溅射，在玻璃基板的实施了防眩处理一侧的面上形成了厚度为110nm的由氧化铌(niobia)构成的高折射率层。

接着，使用硅靶，在与实施例1相同的条件下进行脉冲溅射，在所述高折射率层上形成了厚度为90nm的由二氧化硅(二氧化硅(silica))构成的低折射率层。

<实施例4>

除了将实施例1中的防眩处理工序(1)的蚀刻处理时间设置为10分钟而将雾度调整为10％、通过以下条件的碳酸钙洗净来实施探出层除去工序(3)、按实施例3的方法实施防反射膜形成工序(4)之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

碳酸钙洗净：使用平均粒径1.6um(粒度分布0.1um～50um)的碳酸钙抛光材、浓度20重量％的水溶液(浆料)和尼龙刷以抛光压力30～50KPa、输送速度55mm/秒的条件在基板单面实施了约1nm的抛光。

<实施例5>

除了实施例1中的探出层除去工序(3)通过下述条件的氧化铈洗净来实施、以下述条件实施了防反射膜形成工序(4)之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

氧化铈洗净：使用平均粒径1.2um～1.8um的氧化铈抛光材光材、浓度4Be的水溶液(浆料)和起毛革(スウェード；Suede)垫以抛光压力0.113MPa、输送速度20mm/秒×20次的条件在基板单面实施了约1μm的抛光。

防反射膜形成工序：

首先，在真空腔室内一边导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体，一边使用2块氧化铌靶(AGC陶瓷株式会社制，商品名：NBO靶)，在压力0.3Pa、频率40kHz、功率密度3.8W/cm²的条件下进行AC溅射，在玻璃基板的实施了防眩处理一侧的面上，形成了厚度为11nm的由氧化铌(niobia)构成的高折射率层。

接着，一边导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体，一边使用2块硅靶，在压力0.3Pa、频率40kHz、功率密度3.8W/cm²的条件下进行AC溅射，在所述高折射率层上形成了厚度为40nm的由二氧化硅(silica)构成的低折射率层。

然后，一边导入氩气中混合有10体积％的氧气的混合气体，一边使用2块氧化铌靶(AGC陶瓷株式会社制，商品名：NBO靶)，在压力0.3Pa、频率40kHz、功率密度3.8W/cm²的条件下进行AC溅射，在所述低折射率层上形成了厚度为120nm的由氧化铌(niobia)构成的高折射率层。

接着，一边导入氩气中混合有40体积％的氧气的混合气体，一边使用2块硅靶，在压力0.3Pa、频率20kHz、功率密度3.8W/cm²的条件下进行AC溅射，形成了厚度为95nm的由二氧化硅(silica)构成的低折射率层。

<实施例6>

除了将实施例1中的探出层除去工序(3)的碱溶液浸渍时间设置为10小时之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

<实施例7>

除了未进行实施例1的化学强化工序(2)之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

<实施例8>

除了在10％NaOH水溶液中浸渍、蚀刻12小时来进行实施例1中的探出层除去之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

<实施例9>

除了在2％氢氟酸水溶液中浸渍20秒来进行实施例2中的探出层除去之外，与实施例2同样地制造了覆盖玻璃。

<实施例10>

除了在13.4重量％的盐酸溶液中浸渍3小时、用纯水洗净、然后在10％NaOH水溶液中浸渍4小时来进行实施例2中的探出层除去之外，与实施例2同样地制造了覆盖玻璃。

<实施例11>

除了未进行实施例8的化学强化处理之外，与实施例8同样地制造了覆盖玻璃。

<实施例12>

除了将实施例8中的探出层除去的NaOH溶液浸渍时间设置为4小时之外，与实施例8同样地制造了覆盖玻璃。

<比较例1>

除了将以下条件的纯水洗净作为实施例1中的探出层除去工序(3)之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

纯水洗净：在浸渍槽中加入纯水，在浸渍槽中浸渍基板，施加40kHz的超声波进行了10分钟的洗净。然后，在加热至60℃的纯水中浸渍并缓慢提起，将基板干燥。

<比较例2>

除了将以下条件的等离子体洗净作为实施例3中的探出层除去工序(3)之外，与实施例3同样地制造了覆盖玻璃。

等离子体洗净：用氮气(N₂)流量250lpm、清洁干燥空气(CDA)流量0.5lpm、加速电位10kV、大气压下产生的等离子体对基板进行40秒的照射。

<参考例1>

除了未实施比较例1的防眩处理(霜面处理)之外，与比较例1同样地制造了覆盖玻璃。

<参考例2>

除了未进行实施例1的探出层除去和防反射膜形成之外，与实施例1同样地制造了覆盖玻璃。

将上述分别制造的覆盖玻璃的评价结果示于表1和表2。

[表1]

表1

[表2]

表2

未实施防眩处理的参考例1中，色调分布E的值小，可知不易产生色调发生变化的问题。参考例1的色调分布主要是由成膜工序的各层的膜厚的不均匀性导致的，在10cm²内的色调变化足够小。但是，如果实施防眩处理和防反射膜这两者，则如比较例1和比较例2所示，在未除去探出层的情况下，色调分布E的值大，色调变化大。藉此，可明确地区分由探出层的存在导致的色调变化和由成膜工序的膜厚分布导致的色调不均。

相比之下，由各实施例的覆盖玻璃的色调分布E均为低值可知，色调变化变小，是探出层被除去后的效果。进一步，由各实施例的色调分布的3次测定中E均小于4可知，玻璃面内的均匀性也高。

实施例4的3次测定中有2次是E＝4的勉强良好的范围。这是使用碳酸钙进行了抛光的示例，认为是由于探出层的除去量为1nm，相比其他实施例较小。优选这种除去量大于1nm。进一步，碳酸钙即使在抛光剂中也是切削性不高的磨粒，无法增加除去量，其结果是难以稳定地使色调分布E的值满足E≦4。通过抛光来除去探出层的尝试中，更优选如实施例5的氧化铈的具有足够的切削性的磨粒。

虽然使用特定实施方式对本发明进行了详细说明，但是对本领域技术人员显而易见的是，在不脱离本发明的意图和范围的情况下可进行各种变更和修改。另外，本申请基于2014年7月16日提交的日本专利申请(特愿2014-146264)和2014年7月16日提交的日本专利申请(特愿2014-146265)，将其全部内容引用至本申请中。

符号说明

10 玻璃基板

10R 探出层

20 防反射膜

30 防污膜

Claims

1.覆盖玻璃，它是玻璃基板的至少一侧的面具有由防眩处理使玻璃的表面本身变粗糙而形成的凹凸形状、且具有所述凹凸形状的面上设置有防反射膜的覆盖玻璃，其中，

所述玻璃基板的具有所述凹凸形状的面上具有最大深度低于3μm的微裂纹，

从所述覆盖玻璃的设置有所述防反射膜侧的面测定的玻璃面内的任意2点的a^*值之差Δa^*与b^*值之差Δb^*满足下式1，

√{(Δa^*)²+(Δb^*)²}≦4 式1

其中，选择设置有所述防反射膜侧的面的玻璃基板中的任意10cm²的正方形部分作为测定范围，将该测定范围11×11等分，从其等分线的全部100个交点处的a^*值和b^*值中分别求出a^*的最大值a^* _最大、a^*的最小值a^* _最小、b^*的最大值b^* _最大、b^*的最小值b^* _最小，将所述a^* _最大与所述a^* _最小之差(a^* _最大-a^* _最小)记为所述Δa^*，将所述b^* _最大与所述b^* _最小之差(b^* _最大-b^* _最小)记为所述Δb^*。

2.覆盖玻璃，它是玻璃基板的至少一侧的面具有由防眩处理使玻璃的表面成孔而形成的凹凸形状、且具有所述凹凸形状的面上设置有防反射膜的覆盖玻璃，其中，

√{(Δa^*)²+(Δb^*)²}≦4 式1

3.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的表面粗糙度RMS为0.01～0.2μm。

4.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述防反射膜具有与所述玻璃基板相同的表面粗糙度。

5.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，具有所述凹凸形状的面有孔。

6.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，具有所述凹凸形状的面有在10μm以下的圆形状的孔。

7.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的表面具有压缩应力层。

8.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述覆盖玻璃的具有所述凹凸形状的表面的以铝为指标的离子交换率在1％以上且在25％以下。

9.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，雾度为1～35％。

10.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述防反射膜是包含1层以上的含铌层和1层以上的含硅层的层叠体。

11.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述覆盖玻璃的设置有所述防反射膜侧的面的视觉反射率在2％以下。

12.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述防反射膜上还设置有防污膜，设置有所述防污膜的面的水的接触角在90°以上。

13.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，从所述覆盖玻璃的设置有所述防反射膜侧的面测定的玻璃面内的任意2点的a^*值之差Δa^*与b^*值之差Δb^*满足下式1′，

√{(Δa^*)²+(Δb^*)²}≦3 1′。

14.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述玻璃基板的形成有所述凹凸形状的表面的表面粗糙度RMS为0.01～0.5μm。

15.如权利要求8所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述防污膜包含含氟有机硅化合物。

16.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述玻璃基板是以下的i、ii、iii或iv的玻璃组成，

玻璃组成i：以摩尔％表示的组成含有50～80％的SiO₂、2～25％的Al₂O₃、0～10％的Li₂O、0～18％的Na₂O、0～10％的K₂O、0～15％的MgO、0～5％的CaO和0～5％的ZrO₂的玻璃，

玻璃组成ii：以摩尔％表示的组成含有50～74％的SiO₂、1～10％的Al₂O₃、6～14％的Na₂O、3～11％的K₂O、2～15％的MgO、0～6％的CaO以及0～5％的ZrO₂，SiO₂及Al₂O₃的含量的总和在75％以下，Na₂O及K₂O的含量的总和为12～25％，MgO及CaO的含量的总和为7～15％的玻璃，

玻璃组成iii：以摩尔％表示的组成含有68～80％的SiO₂、4～10％的Al₂O₃、5～15％的Na₂O、0～1％的K₂O、4～15％的MgO以及0～1％的ZrO₂的玻璃，

玻璃组成iv：以摩尔％表示的组成含有67～75％的SiO₂、0～4％的Al₂O₃、7～15％的Na₂O、1～9％的K₂O、6～14％的MgO以及0～1.5％的ZrO₂，SiO₂及Al₂O₃的含量的总和为71～75％，Na₂O及K₂O的含量的总和为12～20％，含有CaO的情况下其含量低于1％的玻璃。

17.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述防眩处理包括化学处理或物理处理。

18.如权利要求1或2所述的覆盖玻璃，其特征在于，所述防眩处理包括霜面处理。

19.覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，依次包括：用含氟化氢的溶液对玻璃基板的至少一侧的表面进行蚀刻的防眩处理工序，

对所述表面实施酸处理或碱处理的探出层除去工序，以及

在所述表面形成防反射膜的防反射膜形成工序；

其中，从所述覆盖玻璃的设置有所述防反射膜侧的面测定的玻璃面内的任意2点的a^*值之差Δa^*与b^*值之差Δb^*满足下式1，

√{(Δa^*)²+(Δb^*)²}≦4 式1。

20.如权利要求19所述的覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，实施在蚀刻后的玻璃基板的所述表面形成压缩应力层的化学强化工序。

21.如权利要求19所述的覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，所述探出层除去工序中，在酸处理后实施碱处理。

22.如权利要求19所述的覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，所述防反射膜形成工序之后，在所述表面形成防污膜。

23.如权利要求19所述的覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，使用氢氟酸、盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、乙酸、草酸、碳酸或柠檬酸的酸性溶液实施所述酸处理。

24.如权利要求19所述的覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，使用含有氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钾或碳酸钠的碱溶液实施所述碱处理。

25.如权利要求20所述的覆盖玻璃的制造方法，其特征在于，在所述化学强化工序之前对玻璃基板进行机械加工。