TW201725407A - 光照射裝置 - Google Patents

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Kazushige Hashimoto
Toshinari Arai
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Abstract

本發明對於可用低曝光量來曝光的對象物，可用適當的曝光量來進行曝光。對從光源11照射的光進行導光的導光構件12將光從光入射部11b導光至光出射部11e，所述光入射部11b被供給光源11的光，所述光出射部11e是呈大致帶狀地設於載台的上方，且朝向載台照射光。由於來自光源11的光呈大致帶狀地展開，因此從光出射部11e照射至載台21的光變弱。

Description

光照射裝置
本發明是有關於一種光照射裝置。
在專利文獻1中揭示有一種偏振光照射裝置，其針對連續或間歇地呈直線狀搬送的光配向膜，沿著光配向膜的搬送方向而呈多級地配置有光照射部，從呈多級配置的各光照射部對光配向膜照射偏振光以進行光配向，該偏振光照射裝置中，從各光照射部對光配向膜照射的紫外線（Ultraviolet，UV）能量（energy）為數百mJ/cm2 。
在專利文獻2中，揭示有一種光配向材料，能以低曝光量（1 μm厚度的配向膜為約1 mJ/cm2 ～500 mJ/cm2 ）來對配向膜賦予液晶配向能。
現有技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2011-215639號公報 專利文獻2：日本專利特開2015-031823號公報
[發明所欲解決之課題] 然而，當使用專利文獻1所記載的發明來對專利文獻2所記載的光配向材料進行曝光時，存在曝光量過高的問題。
本發明是有鑒於此種情況而成，其目的在於提供一種光照射裝置，對於可用低曝光量來曝光的對象物，可用適當的曝光量進行曝光。
[解決課題之手段] 為了解決所述課題，例如，本發明的光照射裝置包括：載台（stage），載置對象物；以及光照射部，具有光源及導光構件，所述導光構件對從所述光源照射的光進行導光且具有光入射部及光出射部，所述光入射部被供給所述光源的光，所述光出射部是呈大致帶狀地設於所述載台的上方，且將光照射向所述載台。
根據本發明的光照射裝置，對從光源照射的光進行導光的導光構件將光從光入射部導光至光出射部，所述光入射部被供給光源的光，所述光出射部是呈大致帶狀地設於載台的上方，且將光照射向載台。由於來自光源的光呈大致帶狀地展開，因此從光出射部照射向載台的光變弱。藉此，對於可用低曝光量來曝光的對象物，可用適當的曝光量進行曝光。
此處，亦可為，所述導光構件是將多個光纖捆束而成的光纜（optical fiber cable），所述光纜中的第1端為所述光入射部，所述光纜中的所述第1端以外的第2端未對所述多個光纖進行捆束，而是以長邊方向沿著與所述對象物的掃描方向大致正交的方向的方式將所述多個光纖排列成大致帶狀，藉此來構成所述光出射部。如此，藉由使用光纖來進行導光，從而無須將光源設於載台的上方，而可將光出射部設於載台的上方。因此，可減輕設於載台上方的部分。
此處，亦可為，所述光纜具有第1光纜與第2光纜，所述光出射部具有作為所述第1光纜的一端的第1光出射部與作為所述第2光纜的一端的第2光出射部，所述第1光出射部與所述第2光出射部是沿著所述掃描方向而隔開間隙地排列，對於從所述第1光出射部照射至所述對象物的光與從所述第2光出射部照射至所述對象物的光，光的強度、偏振方向及有無偏振中至少一個不同。如此，藉由使用光纖來進行導光，從而可將多個多個光出射部配置於各種位置，以使從各光出射部照射的光的強度、偏振方向及有無偏振中的至少一個不同。因此，可一次進行各種曝光處理。
此處，亦可包括加熱部，該加熱部對所述對象物進行加熱，且設於所述第1光出射部與所述第2光出射部之間，從所述第1光出射部照射至所述對象物的光為偏振光，從所述第2光出射部照射至所述對象物的光為未經偏振的光。如此，藉由在照射偏振光後進行加熱，隨後照射無偏振光，從而可在短時間進行配向處理。
此處，亦可包括移動部，該移動部使所述光出射部沿著所述掃描方向移動。藉由使用光纖來進行導光，並將光源設置於載台上方以外的位置，從而可減輕設於載台上方的部分。因此，可使光出射部容易地移動。
此處，亦可為，所述導光構件是以作為所述光出射部的背面與所述載台相向的方式而設的大致帶狀的導光板，所述光源是以朝向作為所述光入射部的所述導光板的第1側面來照射光的方式，鄰接於所述第1側面而設，所述導光板是沿著長邊方向與所述對象物的掃描方向大致正交的方向而設，所述導光板的表面及所述第1側面以外的側面由遮光構件或反光構件所覆蓋。藉此，能以簡單的結構來使一個光源的光展開成廣範圍地照射。
此處，亦可為，在所述背面，設有隨著距所述光源的距離變遠而面積變小的遮光構件。藉此，能以簡單的結構來使一個光源的光均勻地展開成廣範圍地照射。
此處，亦可為，所述光源是分別鄰接於所述第1側面及與所述第1側面相向的第2側面而設。藉此，可使一個光源的光更均勻地展開成廣範圍地照射。
此處，亦可包括移動部，該移動部使所述光照射部沿著所述掃描方向移動。藉由使用導光板來使光展開，從而光源變小，因此可使光照射部容易地移動。
[發明的效果] 根據本發明，對於可用低曝光量來曝光的對象物，可用適當的曝光量進行曝光。
以下，參照圖式來詳細說明本發明的光照射裝置。另外，以下的實施形態中，作為光照射裝置，以照射偏振光的偏振光照射裝置為例來進行說明。
＜第1實施形態＞ 圖1是表示第1實施形態的偏振光照射裝置1的概略的平面圖。圖2是表示偏振光照射裝置1的概略的正面圖。偏振光照射裝置1例如是如下裝置：將通過偏振元件而偏振的光（以下稱作偏振光）照射至玻璃基板等對象物W的被曝光面來進行光配向處理，以生成液晶面板等的配向膜。此處，所謂光配向處理，是指如下所述的處理：將直線偏振紫外線照射至高分子膜上，以引起膜內的分子的再排列或各向異性的化學反應，藉此來使膜具備各向異性。
以下，將對象物W的搬送方向（即掃描方向）設為x方向，將與搬送方向正交的方向設為y方向，將鉛垂方向設為z方向。另外，在圖2中，為了進行說明，對於裝置跟前側（+y側）的一部分省略了圖示。而且，在圖1中，為了進行說明，對於裝置框的頂面（+z側的面）省略了圖示。
偏振光照射裝置1主要具備光照射部10、驅動部20及機器人（robot）30。
光照射部10向對象物W照射光。對於光照射部10，將在後文詳述。
驅動部20主要具有載台21以及載台導軌（stage guide rail）22。 載台21是藉由未圖示的驅動部件而可沿載台導軌22移動地設置（參照圖1、圖2的粗箭頭）。而且，載台21是藉由未圖示的驅動部件及旋轉機構而可沿xy平面旋轉地設置（參照圖1點線）。在載台21的上表面載置對象物W。
當載台21沿著載台導軌22而朝x方向移動時，藉由未圖示的位置檢測部來對載台掃描軸23上的載台21的位置進行檢測。藉此，可調整載台21的x方向的位置。另外，載台21的移動及定位是已公知的技術，因此省略說明。
機器人30將對象物W搬入或搬出載台21。
接下來，對光照射部10進行詳細說明。光照射部10主要具有光源11、導光構件12及光學構件13。
光源11主要具有燈（lamp）11a與光學濾光片（filter）11b。光源11例如設於偏振光照射裝置1的框的外側。但是，設置光源11的位置並不限於圖1、圖2所示的位置。
燈11a出射未偏振的光（例如紫外光）。燈11a例如是作為電極間距離短至1 mm～10 mm左右的高亮度的點光源的短弧型（short arc type）的燈。另外，燈11a並不限於短弧型的燈，可使用發光二極體（Light Emitting Diode，LED）等各種發光裝置。而且，亦可在燈11a的背面設置使燈11a的光反射向前方的反射鏡。而且，燈11a的數量並不限定於一個。
光學濾光片11b僅使從燈11a照射的光中的規定波長的光通過。在光學濾光片11b的背面設有燈11a，在光學濾光片11b的前表面設有導光構件12的入射部12b（後文詳述）。
另外，本實施形態中，對於光源11使用了燈11a，但光源11只要出射紫外線即可，例如亦可將放大光的雷射振盪器用於光源11。
圖3是表示導光構件12的概略的立體圖。導光構件12是將從光源11照射的光導向遠離光源的場所的構件。本實施形態中，導光構件12是將多個光纖芯線12a捆束而形成為束狀的光纖束。光纖芯線12a將從入射部12b供給的光導光至出射部12c。
導光構件12是局部地捆束光纖芯線12a。將該捆束的部分設為本體12d。本體12d是藉由將多個光纖芯線12a捆束成束狀，並藉由熔接處理等使其成為一體而形成。
光纖芯線12a中的光纖芯線12a被捆束的一側的端面為入射部12b。在入射部12b中，多個光纖芯線12a的端面均勻地分佈並固定。
光纖芯線12a中的光纖芯線12a未被捆束的一側的端面為出射部12c。在出射部12c附近，可使光纖芯線12a展開。本實施形態中，使光纖芯線12a展開排列，以使出射部12c成為大致帶狀。以下，將排列成大致帶狀的出射部12c整體定義為向對象物W照射光的照射面12e。
圖4是示意性地表示照射面12e上的出射部12c（光纖芯線12a的端面）的分佈狀態的一例。圖4中，局部地顯示了光纖芯線12a。
出射部12c是呈錯列狀（staggered）配置。即，以第一列（列I）中的出射部12c的中心位於與第一列鄰接的列（列II）中的出射部12c的中心之間的方式，來配置光纖芯線12a。藉此，從照射面12e照射的光的不均不再成為問題。
但是，只要照射面12e為大致帶狀，則出射部12c的配置並不限於圖4所示的形態。例如，圖4中，配置於同列的光纖芯線12a相抵接，但配置於同列的光纖芯線12a亦可不抵接。而且，圖4中，光纖芯線12a是配置成二列（列I、列II），但列數並不限於此。
返回至圖1、圖2的說明。照射面12e及光學構件13被設於載台21的上方（+z方向）。
光學構件13是具備與照射面12e大致相同的長度的長邊的長方形構件。光學構件13是以其長邊方向與照射面12e的長邊方向大致一致的方式，設於光源11的下側（-z側）。光學構件13例如是使從光源11出射的無偏振的光產生偏振的偏振元件，但並不限定於此。而且，光學構件13既可包含一個構件，亦可將多個平行四邊形（包含正方形、長方形）的小片排列而構成。
如此般構成的偏振光照射裝置1一邊使對象物W（載台21）沿作為掃描方向的x方向移動，一邊將從光照射部10照射的偏振光照射至對象物W的被曝光面，從而生成液晶面板用的配向膜等。
根據本實施形態，由於使一個光源的光展開成廣範圍地照射，因此可減弱從照射面照射的光。因此，對於可用低曝光量來曝光的對象物W，可用適當的曝光量（低曝光量）進行曝光。
例如，在如圖13所示的偏振光照射裝置100般，使用長弧型（long arc type）的燈101來作為光照射部的以往的裝置中，亦可考慮如下方法：藉由減少燈101的使用根數（例如，對於通常使用三根之處僅使用一根），並在燈101與光學濾光片103及偏振元件104之間放置減光板102，從而減少照射至對象物W的光。然而，由於光會從減光板102返回燈101，或者需要採取減光板102自身的熱對策或壽命對策等，因此在實際的裝置中難以應用設置減光板102的方法。而且，即使設置減光板102，或者提高對象物W的搬送速度（例如，將通常100 mm/秒左右速度加快至1000 mm/秒左右），亦難以將曝光量由通常的曝光量即數百mJ/cm2 減少至約1 mJ/cm2 ～500 mJ/cm2 。
與此相對，本實施形態中，由於使光源11的光分散為廣範圍，因此可減弱所照射的 光自身。因此，無須使用減光板等，便可將對象物W的曝光量減少至例如約1 mJ/cm2 ～500 mJ/cm2 左右的低曝光量。
而且，根據本實施形態，由於使用作為光纖束的導光構件12，因此可在載台21的上方僅設置照射面12e及光學構件13，而將光源11設於其他位置。因此，可減輕設於載台21上方的部分。
＜第1實施形態的變形例1＞ 第1實施形態中，藉由在載台21的上方僅設置照射面12e及光學構件13，而將光源11設於其他位置，從而設於載台21上方的部分變輕。因此，容易使照射面12e及光學構件13移動。
該變形例的偏振光照射裝置1A是使偏振光照射裝置1的照射面12e及光學構件13可沿著x方向移動的形態。圖5是表示偏振光照射裝置1A的概略的平面圖。另外，對於與第1實施形態的偏振光照射裝置1相同的部分，標準相同的符號並省略說明。
偏振光照射裝置1A主要具備光照射部10、載台21、機器人30、支持照射面12e及光學構件13的支持部31、使支持部31沿掃描方向（x方向）移動的支持台移動部32及光學測定機33。
支持台移動部32具有驅動部（未圖示）以及藉由驅動部的驅動力來使支持部31往返移動的移動機構部（未圖示）。驅動部及移動機構部可使用公知的各種技術。支持台移動部32是由未圖示的控制部來進行控制。
光學測定機33對從光照射部10照射的光的照度、累計曝光量或偏振軸的方向等進行測定。
如此般構成的偏振光照射裝置1A使設於支持部31的照射面12e及光學構件13沿+x方向移動，以通過光學測定機33的上方。並且，未圖示的控制部決定光照射部10的移動速度等。
接下來，控制部使光照射部10朝-x方向移動，將光照射部10配置於-x側的端部。隨後，一邊使光照射部10以由未圖示的控制部所求出的移動速度來朝+x方向移動，一邊將從光照射部10照射的光照射至對象物W的被曝光面，以生成液晶面板用的配向膜等。
根據本實施形態，由於不使光源移動，因此可減輕所移動的部分（照射面12e、光學構件13及支持部31）。因此，可使支持部31或支持台移動部32小型化。
＜第1實施形態的變形例2＞ 第1實施形態中，由於使用光纖來作為導光構件12，因此可將光源11設於載台21上方以外的位置。因此，亦可將多個照射面12e及光學構件13設於各種位置。
該變形例的偏振光照射裝置1B是設有二組偏振光照射裝置1的照射面12e及光學構件13的形態。圖6是表示偏振光照射裝置1B的概略的平面圖。另外，對於與第1實施形態的偏振光照射裝置1相同的部分，標註相同的符號並省略說明。
偏振光照射裝置1B主要具備光照射部10A、光照射部10B、驅動部20、機器人30及加熱部34。
光照射部10主要具有二個光源11A、11B、二個導光構件12A、12B以及一個光學構件13。導光構件12A、導光構件12B的結構與導光構件12相同。
光源11A、光源11B為與光源11同樣的結構，但光源11A所照射的光的強度與光源11B所照射的光的強度不同。本實施形態中，光源11B所照射的光比光源11A所照射的光強。
導光構件12A的照射面12e與導光構件12B的照射面12e是在x方向上隔開間隙地排列設置。
光學構件13被設於導光構件12A的下方。因此，從導光構件12A的照射面12e照射的光作為偏振光而照射至對象物W，從導光構件12B的照射面12e照射的光作為未經偏振的光而照射至對象物W。
加熱部34例如為紅外線加熱器（heater），加熱對象物W。加熱部34被設於導光構件12A的照射面12e與導光構件12A的照射面12e之間。
當對象物W（載台21）從-x方向朝向+x方向移動時，對象物W受到曝光。首先，對象物W藉由從導光構件12A的照射面12e照射的光來進行曝光。
藉由對象物W的導光構件12A的照射面12e來曝光的部分是經加熱部34加熱，隨後，藉由從導光構件12B的照射面12e照射的光來進行曝光。
根據本實施形態，對於藉由偏振光來配向的部分進行加熱，隨後照射強的無偏振光，藉此可在短時間進行配向處理。
另外，本實施形態中，對於從導光構件12A照射至對象物W的光與從導光構件12B照射至對象物W的光而言，光的強度及有無偏振不同，但從導光構件12A照射至對象物W的光與從導光構件12B照射至對象物W的光的不同之處並不限於光的強度及有無偏振。對於從導光構件12A照射至對象物W的光與從導光構件12B照射至對象物W的光而言，只要光的強度、偏振方向及有無偏振中的至少一個不同即可。
例如，使用通過後的光的偏振方向不同的二個光學構件，將它們分別設於導光構件12A的照射面12e的下方與導光構件12B的照射面12e的下方，藉此，可將偏振方向不同的光分別照射至對象物W。如此，可一次進行各種曝光處理。
＜第2實施形態＞ 第1實施形態中，使用光纖束來作為導光構件，但導光構件並不限於此。
第2實施形態是使用導光板來作為導光構件的形態。以下，對第2實施形態的偏振光照射裝置2進行說明。對於與第1實施形態的偏振光照射裝置1相同的部分，標註相同的符號並省略說明。
圖7是表示第2實施形態的偏振光照射裝置2的概略的平面圖。圖8是表示偏振光照射裝置2的概略的正面圖。偏振光照射裝置1主要具備光照射部40、驅動部20及機器人30。
光照射部40向對象物W照射偏振光。光照射部40主要具有光源11、導光構件41及光學構件13。
光源11是鄰接於導光構件41的側面而設。圖7中，光源11是鄰接於導光構件41的+y側（短邊方向）的側面41a（參照圖9）而設。光學構件13被設於導光構件41的下方。
圖9是表示光照射部40的詳細的圖，是圖8的A-A剖面圖。導光構件41被設於光學濾光片11b的前面。因此，從燈11a照射的光通過光學濾光片11b並從側面41a被導向導光構件41。
導光構件41是由石英等透明材料所形成的板材，且形成為大致帶狀。在導光構件41的表面41b（+z側的面），設有金屬製的反射擴散板42。藉此，從導光構件41的側面41a入射的光經反射擴散板42散射而由整個導光構件41導光，從而導光構件41的背面41c（-z側的面）進行面發光。
在導光構件41的未鄰接地設有光源11的側面（此處為側面41a以外的側面），設有金屬製的遮光板43。藉此，防止從導光構件41的端面（側面）入射的光從側面漏出。
如此，導光構件41的側面41a是被供給光源11的光的光入射部，導光構件41的背面41c是光出射部。
在作為光出射部的導光構件41的背面41c，設有局部地覆蓋背面41c的遮光板44。圖10是從背面觀察光照射部40的圖，是表示遮光板44的概略的圖。另外，圖10中省略了光學構件13。而且，圖10中，為了進行說明，用影線顯示設有遮光板44的位置。
遮光板44是以隨著距光源11的距離變遠而面積變小的方式形成。藉此，確保面發光的光的均勻性。另外，遮光板44只要隨著距光源11的距離變遠而面積變小，則形狀並不限定於圖10所示的形態。
如此般構成的偏振光照射裝置2一邊使對象物W（載台21）沿作為掃描方向的x方向移動，一邊將從光照射部40照射的偏振光照射至對象物W的被曝光面，從而生成液晶面板用的配向膜等。
根據本實施形態，由於用簡單的結構來使一個光源的光展開成廣範圍地照射，因此可減弱從照射面照射的光。因此，可用適當的曝光量（低曝光量）來將對象物W曝光。
另外，第2實施形態中，將光源11鄰接於導光構件41的側面41a而設，但光源11的位置及數量並不限於此。亦可如圖11所示的光照射部40A般，將多個光源11鄰接於導光構件41的-x側（長邊方向）的側面41d而設。圖11中，省略了光學構件13、反射擴散板42及遮光板43的圖示。
遮光板44a僅形狀與遮光板44不同，與遮光板44同樣地，以隨著距光源11的距離變遠而面積變小的方式形成。
另外，圖11中，使多個光源11沿著導光構件41的側面41d而設，但亦可使僅一個與側面41d的長度為大致相同長度的光源沿著導光構件41的側面41d而設。而且，圖11中，鄰接的光源11相抵接，但亦可在鄰接的光源11間設置間隙。
而且，亦可如圖12所示的光照射部40B般，分別鄰接於相向的二個側面41a、41e來設置多個光源11。圖12中，省略了光學構件13、反射擴散板42及遮光板43的圖示。遮光板44b僅形狀與遮光板44不同，與遮光板44同樣地，以隨著距光源11的距離變遠而面積變小的方式形成。另外，相向的二個側面並不限於側面41a、側面41e，亦可為側面41d、側面41f。在鄰接於側面41d、側面41f來設置光源11的情況下，亦可使鄰接於側面41d而設的光源11與鄰接於側面41d而設的光源11的y方向的位置交替地（呈錯列狀地）配置。
而且，在第2實施形態中，亦可與第1實施形態同樣地，使偏振光照射裝置2的光照射部40可沿著x方向移動。由於光照射部40的光源11比以往的偏振光照射裝置100（參照圖13）中所用的燈101小，因此光照射部40的移動亦容易。
另外，所述實施形態中，作為光照射裝置，以照射偏振光的偏振光照射裝置1、偏振光照射裝置2等為例進行了說明，但光照射裝置可使用遮罩（mask）而代替偏振光照射裝置1、偏振光照射裝置2等的偏振元件（光學構件13），從而亦可用作曝光裝置。本發明的光照射裝置為包含偏振光照射裝置或曝光裝置的概念。以下，對該曝光裝置進行說明。
該曝光裝置的結構除了偏振元件（光學構件13）的有無以外，與偏振光照射裝置1、偏振光照射裝置2等的結構同樣。該曝光裝置例如可進行液晶顯示裝置的彩色濾光片（color filter）的畫素圖案（pattern）、成為彩色濾光片的各畫素的框的不透明的黑矩陣（black matrix）、電路圖案等的曝光處理。
作為一例，對使用該曝光裝置的彩色濾光片的畫素圖案的曝光處理進行說明。首先，對在透明基板上形成有成為畫素的框的不透明的黑矩陣的部分塗佈R畫素的抗蝕劑（resist）。然後，將形成有使光僅透過畫素部分的圖案的遮罩設置於曝光裝置，並從光源11照射光，藉此，在基板上形成R畫素。對於G畫素、B畫素亦進行同樣的曝光處理，藉此，可使用該曝光裝置來形成彩色濾光片的畫素圖案。
以上，參照圖式來詳述本發明的實施形態，但具體結構並不限於該實施形態，亦包含不脫離本發明主旨的範圍的設計變更等。而且，亦可將所述的各實施形態加以組合。
而且，在本發明中，所謂「大致」，其概念不僅包含嚴格相同的情況，亦包含不失同一性的程度的誤差或變形。例如，所謂大致中央，並不限於嚴格為中央的情況。而且，例如在僅表達為平行、正交等的情況下，不僅包含嚴格平行、正交等的情況，亦包含大致平行、大致正交等的情況。而且，在本發明中，所謂「附近」，例如在A的附近時，是指表示靠近A且既可包含A亦可不包含A的概念。
1、1A、1B、2、100‧‧‧偏振光照射裝置
10、40、40A、40B‧‧‧偏振照射部
11、11A、11B‧‧‧光源
11a‧‧‧燈
11b‧‧‧光學濾光片
12、12A、12B‧‧‧導光構件
12a‧‧‧光纖芯線
12b‧‧‧入射部
12c‧‧‧出射部
12d‧‧‧本體
12e‧‧‧照射面
13‧‧‧光學構件
20‧‧‧驅動部
21‧‧‧載台
22‧‧‧載台導軌
23‧‧‧載台掃描軸
30‧‧‧機器人
31‧‧‧支持部
32‧‧‧支持台移動部
33‧‧‧光學測定機
34‧‧‧加熱部
41‧‧‧導光構件
41a、41d、41e、41f‧‧‧側面
41b‧‧‧表面
41c‧‧‧背面
42‧‧‧反射擴散板
43、44、44a、44b‧‧‧遮光板
圖1是表示第1實施形態的偏振光照射裝置1的概略的平面圖。 圖2是表示偏振光照射裝置1的概略的正面圖。 圖3是表示導光構件12的概略的立體圖。 圖4是示意性地表示照射面12e上的出射部12c（光纖芯線12a的端面）的分佈狀態的一例。 圖5是表示偏振光照射裝置1A的概略的平面圖。 圖6是表示偏振光照射裝置1B的概略的平面圖。 圖7是表示第2實施形態的偏振光照射裝置2的概略的平面圖。 圖8是表示偏振光照射裝置2的概略的正面圖。 圖9是表示光照射部40的詳細的圖，是圖8的A-A剖面圖。 圖10是從背面觀察光照射部40的圖，是表示遮光板44的概略的圖。 圖11是表示光照射部40A的概略的圖。 圖12是表示光照射部40B的概略的圖。 圖13是表示以往的偏振光照射裝置100的概略的圖。
1‧‧‧偏振光照射裝置
10‧‧‧偏振照射部
11‧‧‧光源
11a‧‧‧燈
11b‧‧‧光學濾光片
12‧‧‧導光構件
12b‧‧‧入射部
12d‧‧‧本體
12e‧‧‧照射面
13‧‧‧光學構件
20‧‧‧驅動部
21‧‧‧載台
22‧‧‧載台導軌
23‧‧‧載台掃描軸
30‧‧‧機器人
W‧‧‧對象物

Claims (10)

  1. 一種光照射裝置，其特徵在於包括： 載台，載置對象物；以及 光照射部，具有光源及導光構件，所述導光構件對從所述光源照射的光進行導光且具有光入射部及光出射部，所述光入射部被供給所述光源的光，所述光出射部是呈大致帶狀地設於所述載台的上方，且將光照射向所述載台。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的光照射裝置，其中 所述導光構件是將多個光纖捆束而成的光纜， 所述光纜中的第1端為所述光入射部， 所述光纜中的所述第1端以外的第2端未對所述多個光纖進行捆束，而是以長邊方向沿著與所述對象物的掃描方向大致正交的方向的方式將所述多個光纖排列成大致帶狀，藉此來構成所述光出射部。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的光照射裝置，其中 所述光纜具有第1光纜與第2光纜， 所述光出射部具有作為所述第1光纜的一端的第1光出射部與作為所述第2光纜的一端的第2光出射部， 所述第1光出射部與所述第2光出射部是沿著所述掃描方向而隔開間隙地排列， 對於從所述第1光出射部照射至所述對象物的光與從所述第2光出射部照射至所述對象物的光，光的強度、偏振方向及有無偏振中至少一個不同。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的光照射裝置，包括： 加熱部，對所述對象物進行加熱，且設於所述第1光出射部與所述第2光出射部之間， 從所述第1光出射部照射至所述對象物的光為偏振光，從所述第2光出射部照射至所述對象物的光為未經偏振的光。
  5. 如申請專利範圍第2項至第4項中任一項所述的光照射裝置，包括： 移動部，使所述光出射部沿著所述掃描方向移動。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的光照射裝置，其中 所述導光構件是以作為所述光出射部的背面與所述載台相向的方式而設的大致帶狀的導光板， 所述光源是以朝向作為所述光入射部的所述導光板的第1側面來照射光的方式，鄰接於所述第1側面而設， 所述導光板是沿著長邊方向與所述對象物的掃描方向大致正交的方向而設， 所述導光板的表面及所述第1側面以外的側面由遮光構件或反光構件所覆蓋。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的光照射裝置，其中 在所述背面，設有隨著距所述光源的距離變遠而面積變小的遮光構件。
  8. 如申請專利範圍第6項或第7項所述的光照射裝置，其中 所述光源是分別鄰接於所述第1側面及與所述第1側面相向的第2側面而設。
  9. 如申請專利範圍第6項或第7項所述的光照射裝置，包括： 移動部，使所述光照射部沿著所述掃描方向移動。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的光照射裝置，包括： 移動部，使所述光照射部沿著所述掃描方向移動。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI781189B (zh) * 2017-08-28 2022-10-21 日商牛尾電機股份有限公司 偏振光照射裝置及偏振光照射方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102634391B1 (ko) 2018-06-26 2024-02-06 현대자동차주식회사 슬라이딩 도어의 일체형 도어 래치 어셈블리
CN111552124B (zh) * 2020-05-26 2022-09-23 武汉京东方光电科技有限公司 光配向设备及方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0369129U (zh) * 1989-11-13 1991-07-09
JPH06295002A (ja) * 1993-04-09 1994-10-21 Canon Inc 線状光源
JP3927878B2 (ja) * 2002-04-16 2007-06-13 シーシーエス株式会社 検査等に用いる照明装置
JP2004302168A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置の製造方法
JP2005249887A (ja) * 2004-03-01 2005-09-15 Hitachi Displays Ltd 光配向処理装置とその方法、及び液晶表示装置
JP2006085099A (ja) * 2004-09-17 2006-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 配向膜の配向処理方法、配向膜の形成方法および光学補償板の製造方法
KR100646981B1 (ko) * 2004-12-27 2006-11-23 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치의 배향막 형성 방법
JP2007101607A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Fujifilm Corp 表示装置用部材及びその製造方法、並びに表示装置
KR100891290B1 (ko) * 2007-06-22 2009-04-06 주식회사 에이디피엔지니어링 액정표시장치용 배향막 형성장치 및 이를 이용한 배향막형성방법
JP2012018256A (ja) * 2010-07-07 2012-01-26 Hitachi High-Technologies Corp 液晶用配向膜露光方法及びその装置
JP5688730B2 (ja) * 2010-09-17 2015-03-25 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置
JP2012174551A (ja) * 2011-02-22 2012-09-10 Harison Toshiba Lighting Corp 発光装置
JP5077465B2 (ja) * 2011-07-14 2012-11-21 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置
WO2013081066A1 (ja) * 2011-11-29 2013-06-06 日産化学工業株式会社 液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子
JP5267705B1 (ja) * 2012-06-08 2013-08-21 ウシオ電機株式会社 貼り合わせ方法
CN202676941U (zh) * 2012-07-25 2013-01-16 京东方科技集团股份有限公司 导光板、侧入式背光模组和双面显示装置
WO2015016121A1 (ja) * 2013-07-30 2015-02-05 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
KR20150077530A (ko) * 2013-12-27 2015-07-08 세메스 주식회사 광 배향막 형성 장치
CN103728783A (zh) * 2013-12-31 2014-04-16 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板的配向方法及相应的液晶显示装置
CN106164758A (zh) * 2014-03-28 2016-11-23 捷恩智株式会社 液晶显示元件
CN104820316B (zh) * 2015-05-13 2018-09-18 合肥京东方光电科技有限公司 光配向装置、光配向方法和配向膜制备系统

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI781189B (zh) * 2017-08-28 2022-10-21 日商牛尾電機股份有限公司 偏振光照射裝置及偏振光照射方法

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