KR20200067235A

KR20200067235A - 처리 장치

Info

Publication number: KR20200067235A
Application number: KR1020180008671A
Authority: KR
Inventors: 다이사쿠 다나카
Original assignee: 이와사키 덴끼 가부시키가이샤
Priority date: 2017-01-31
Filing date: 2018-01-24
Publication date: 2020-06-12
Also published as: JP2018124356A; JP6885081B2

Abstract

장치를 대형화하지 않고 처리 대상 표면의 전체에 고균제도로 광을 조사할 수 있는 처리 장치를 제공한다.
광원(10)의 자외선을 처리 대상 표면(2A)에 조사하여 처리하는 자외선 처리 장치(1)에 있어서, 광원(10)은 이동 속도를 변화시키면서 슬라이드 이동하여 처리 대상 표면(2A)의 전체에 자외선을 조사한다.

Description

처리 장치{TREATMENT APPARATUS}

본 발명은, 처리 대상 표면에 광원의 광을 조사하여 처리하는 처리 장치에 관한 것이다.

종래, 액정 적하 공법에 의한 액정 패널의 제조 공정이나 유기 발광 다이오드 패널의 밀봉 공정에서 사용되어, 시일재에 자외선을 조사하여 시일재를 경화시키는 자외선 처리 장치가 알려져 있다(예를 들어 특허문헌 1 참조). 이들 자외선 처리 장치에서는, 처리 대상의 패널이 대형화되더라도 장치를 대형화하지 않고 패널 전체에 자외선을 조사하기 위하여, 광원을 수광면에 대하여 상대 이동시키면서 수광면에 자외선을 조사하고 있다.

일본 특허 공개 제2013-206858호 공보

그런데 광원을 수광면에 대하여 상대 이동시키면서 수광면에 자외선을 조사하는 방법에서는, 처리 대상측의 상태가 일정하지 않으면 처리 대상 표면에 균일하게 광을 조사할 수 없다. 그러나 처리 대상의 패널의 대형화가 진행된 것에 의하여, 다양한 이유에서 광원과 처리 대상 표면 사이의 피조사측의 상태를 일정하게 할 수 없어, 처리 대상 표면의 전체에 고 균제도로 광을 조사하는 것이 곤란해져 있다.

본 발명은 상술한 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 장치를 대형화하지 않고 처리 대상 표면의 전체에 고균제도로 광을 조사할 수 있는 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

이 명세서에는 2017년 1월 31일에 출원된 일본 특허 출원·특허 제2017-015018호의 모든 내용이 포함된다.

상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 광원의 광을 처리 대상 표면에 조사하여 처리하는 처리 장치에 있어서, 상기 광원은 이동 속도를 변화시키면서 슬라이드 이동하여 상기 처리 대상 표면의 전체에 상기 광원의 광을 조사하도록 구성되어 있다.

상술한 구성의 처리 장치에 있어서, 상기 광원은 직관형의 램프를 구비하고, 상기 램프의 긴 쪽 방향에 직교하는 방향으로 슬라이드 이동해도 된다.

상술한 구성의 처리 장치에 있어서, 상기 램프의 긴 쪽 방향에 직교하는 방향으로 연장되고, 상기 광원을 슬라이드 이동 가능하게 보유 지지하는 레일을 구비해도 된다.

상술한 구성의 처리 장치에 있어서, 상기 광원은, 슬라이드 이동의 개시 부분 및 종료 부분에 있어서 이동 속도가 느리게 설정되어 상기 처리 대상 표면에 있어서의 적산 광량을 증가시키도록 구성되어도 된다.

상술한 구성의 처리 장치에 있어서, 워크가 배치되는 처리실을 구성하는 케이스체를 구비하고, 상기 케이스체에 마련된 입사 개구를 덮는 석영판은 상기 광원의 슬라이드 이동 방향으로 복수로 분할되어 있고, 인접하는 상기 석영판 사이의 이음매를 막는 가로대를 구비하고, 상기 가로대의 영향을 받는 부분에서는 상기 광원의 이동 속도가 느려지도록 설정되어도 된다.

상술한 구성의 처리 장치에 있어서, 상기 광원에 공랭 덕트가 접속되어도 된다.

상술한 구성의 처리 장치에 있어서, 상기 레일은 상기 광원과 상기 공랭 덕트를 일체로 슬라이드 이동 가능하게 유지하도록 구성되어도 된다.

상술한 구성의 처리 장치에 있어서, 상기 광원을 상기 램프의 긴 쪽 방향으로 일렬로 복수 나열해도 된다.

본 발명에 의하면, 광원은 이동 속도를 변화시키면서 슬라이드 이동하기 때문에, 피조사측의 상태에 따라 이동 속도를 변화시켜 처리 대상 표면의 각 부에서의 적산 광량을 가변으로 할 수 있어, 처리 대상 표면의 전체에 고 균제도로 광을 조사할 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시 형태의 자외선 처리 장치를 모식적으로 도시하는 사시도이다.
도 2는 자외선 처리 장치를 측면측에서 본 단면도이다.
도 3은 자외선 처리 장치를 정면측에서 본 단면도이다.
도 4는 광원을 이동시키고 있는 상태를 도시하는 부분 투시도이며, 도 4의 (A)는 광원이 위치 A에 있는 상태를 도시하고, 도 4의 (B)는 광원이 위치 B에 있는 상태를 도시하는 도면이다.
도 5는 광원의 이동 속도와, 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량의 예를 나타내는 도면이며, 도 5의 (A)는 광원의 이동 속도를 나타내고, 도 5의 (B)는 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다.
도 6은 광원의 이동 속도와, 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량의 예를 나타내는 도면이며, 도 6의 (A)는 광원의 이동 속도를 나타내고, 도 6의 (B)는 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다.
도 7은 광원의 이동 속도와, 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량의 예를 나타내는 도면이며, 도 7의 (A)는 광원의 이동 속도를 나타내고, 도 7의 (B)는 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다.
도 8은 광원의 이동 속도와, 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량의 예를 나타내는 도면이며, 도 8의 (A)는 광원의 이동 속도를 나타내고, 도 8의 (B)는 처리 대상 표면의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다.
도 9는 변형예의 자외선 처리 장치를 모식적으로 도시하는 사시도이다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다.

도 1은 본 실시 형태의 자외선 처리 장치(1)를 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 2는 자외선 처리 장치(1)를 측면측에서 본 단면도, 도 3은 자외선 처리 장치(1)를 정면측에서 본 단면도이다.

도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이 자외선 처리 장치(1)는 광원(10)과 처리실(50)을 구비하고 있다. 자외선 처리 장치(1)는, 광원(10)으로부터 조사되는 자외선을, 처리실(50) 내에 배치되는 워크(2)의 표면인 처리 대상 표면(2A)에 조사하여 처리하는 장치이다. 예를 들어 자외선 처리 장치(1)는, 액정 패널 등의 기판을 워크(2)로 하고 워크(2)에 광을 조사함으로써, 워크(2)의 부착이나 액정 밀봉에 사용하는 광경화성 수지를 경화시키는 광경화 장치로서 사용할 수 있다.

광원(10)은, 상면에 출사 개구(12)를 갖는 램프 하우징(11) 내에 직관형의 고출력의 자외선 램프(13)를 구비하고 있다. 자외선 램프(13)는, 관 길이가 워크(2)의 짧은 변 L 이상의 길이로 설정되어 있다. 또한 관 길이가 긴 롱 아크의 램프를 자외선 램프(13)로 사용함으로써 대형의 워크(2)에 자외선을 조사 가능하게 할 수 있다. 또한 광원(10)은 램프 하우징(11) 내에 반사판(14)을 구비하고 있다. 반사판(14)은 자외선 램프(13)의 방사광을 제어하여 효율적으로 출사 개구(12)로부터 자외선 램프(13)의 자외선을 출사시킨다. 출사 개구(12)는 광 투과성의 박판(19)으로 폐쇄 밀봉되어 있다. 자외선 램프(13)의 자외선은 박판(19)을 투과하여 처리실(50) 내에 배치된 워크(2)에 조사된다. 당해 실시예에서는, 자외선은 아래로부터 위를 향하여 조사된다. 또한 박판(19)은 투명판이어도 되고, 파장 선택 필터인 구성이어도 된다.

처리실(50)은 하면에, 평면에서 보아 대략 직사각형의 입사 개구(52)를 갖는 케이스체(51)를 구비하며, 케이스체(51) 내에 워크(2)를 삽입 발출 가능하게 수용하고 있다. 케이스체(51)는 지주(57)에 의하여 광원(10)의 상방에 설치되어 있다. 케이스체(51) 내에 수용된 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에는 하방으로부터 자외선 램프(13)의 자외선이 조사되도록 구성되어 있다.

케이스체(51) 내에는, 워크(2)를 지지하는 석영 바(55)가 복수 마련되어 있다. 복수의 석영 바(55)(본 실시 형태에서는 6개)는, 자외선 램프(13)의 축선 방향에 직교하는 램프 폭 방향으로 서로 소정의 간격으로 병렬로 나열되어 있다. 또한 케이스체(51)의 입사 개구(52)는 석영판(53)으로 덮여 있다. 석영판(53)의 상방에는, 입사 개구(52)와 워크(2) 사이에, 자외선 램프(13)의 자외선을 제어하여 효율적으로 워크(2)에 조사시키는 보조 반사판(54)이 배치되어 있다.

입사 개구(52)를 덮는 석영판(53)은 복수로 분할되어 있다. 이와 같이 석영판(53)을 복수로 분할함으로써, 워크(2)의 대형화에 의하여 커진 케이스체(51)의 입사 개구를 석영판(53)으로 덮을 수 있다. 본 실시 형태에서는, 석영판(53)은 케이스체(51)의 긴 쪽 방향{자외선 램프(10)의 축선 방향에 직교하는 램프 폭 방향}으로 복수로 분할되어 있다. 케이스체(51)에는, 복수로 분할된 석영판(53) 사이의 이음매를 막는 가로대(56)가 마련되어 있다. 가로대(56)는 복수로 분할된 석영판(53)의 이음매를 덮어서 막도록, 입사 개구(52)를 사이에 놓고 케이스체(51)에 걸쳐져 있다. 또한 석영판(53)의 이음매를 막는 가로대(56)는 자외선 램프(13)의 축선 방향에 평행하게 마련되어 있다.

광원(10)에는, 램프 하우징(11)의 하면을 관통하는 흡기 덕트(15)와 배기 덕트(16)가 접속되어 있다. 흡기 덕트(15)와 배기 덕트(16)는 광원(10)을 공랭하기 위한 공랭 덕트이다. 램프 하우징(11)의 내부에는, 흡기 덕트(15)를 통하여 자외선 램프(13) 및 반사판(14)을 공랭하는 냉각 공기가 도입된다. 또한 램프 하우징(11)의 내부에서 자외선 램프(13) 및 반사판(14)을 공랭한 냉각 공기는 배기 덕트(16)를 통하여 램프 하우징(11)으로부터 배기된다. 흡기 덕트(15) 및 배기 덕트(16)에는, 자외선 처리 장치(1)의 외부에 연통하는, 예를 들어 플렉시블 덕트로부터 구성되는 도시되지 않은 흡기 및 배기 배관이 접속되어 있다. 또한 도시는 생략하지만, 흡기 덕트(15) 또는 배기 덕트(16)에는 송풍 팬이나 에어 펌프 등의, 램프 하우징(11) 내에 공기의 흐름을 형성하는 송풍 장치가 접속되어 있다.

광원(10)은 흡기 덕트(15) 및 배기 덕트(16)와 일체로 지지 받침대(17)에 지지되어 유닛 케이스(20) 내에 수용되어 있다. 유닛 케이스(20)는, 케이스체(51)보다 폭 및 길이가 큰 직사각형의 상자체이며, 케이스체(51)의 입사 개구(52)에 대응하는 위치에 개구(21)를 갖고 있다.

지지 받침대(17)는, 1쌍의 기둥부(17A)와, 1쌍의 기둥부(17A)를 연결하는 다이부(17B)가 일체로 형성되어 구성되어 있다. 1쌍의 기둥부(17A)는, 램프 하우징(11)의 긴 쪽을 사이에 두는 양 단부에 고정되어, 램프 하우징(11)을 들어올리도록 지지하고 있다. 기둥부(17A)는 램프 하우징(11)의 하면으로부터 유닛 케이스(20)의 저면(20A) 근방까지 연장되어 있다. 다이부(17B)는 유닛 케이스(20)의 저면(20A)의 근방에서 자외선 램프(13)의 축선 방향을 따라 1쌍의 기둥부(17A) 사이에 걸쳐 연장되어 있다.

흡기 덕트(15) 및 배기 덕트(16)는 램프 하우징(11)과 지지 받침대(17) 사이의 공간을 통하여 램프 하우징(11)에 접속되어 있다.

도 4에 도시한 바와 같이 지지 받침대(17)는, 유닛 케이스(20)의 저면(20A)에 마련된 레일(18) 상에 슬라이드 이동 가능하게 지지되어 있다. 레일(18)은, 램프 하우징(11)의 긴 쪽을 사이에 놓는 양 단부에 각각, 유닛 케이스(20)의 긴 쪽에 걸쳐 연장되도록 마련되어 있다. 광원(10)은 지지 받침대(17)에 의하여 지지되며, 지지 받침대(17)가 1쌍의 레일(18) 상을 슬라이드 이동함으로써, 유닛 케이스(20) 내를 자외선 램프(13)의 축선 방향으로 직행하는 방향으로 슬라이드 이동 가능하게 구성되어 있다. 지지 받침대(17)는 방진 구조로 되어 있어, 지지 받침대(17)가 레일(18) 상을 슬라이드 이동할 때의 진동이 광원(10)에 전달되지 않는 구성으로 되어 있다.

또한 광원(10)은, 램프 하우징(11)의 내부에 냉각 공기를 순환시키는 흡기 덕트(15) 및 배기 덕트(16)와 일체로, 지지 받침대(17)에 의하여 레일(18)을 따라 슬라이드 이동 가능하게 구성되어 있다. 또한 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)은 대략 평평한 면이며, 광원(10)은, 자외선 램프(13)와 처리 대상 표면(2A)의 거리가 대략 일정한 채로 슬라이드 이동된다. 이와 같이 광원(10)은, 자외선 램프(13)와 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)이 평행인 상태를 유지한 채로 자외선 램프(13)의 자외선을 처리 대상 표면(2A)에 조사하면서 슬라이드 이동할 수 있도록 구성되어 있다. 따라서 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)의 전체에 자외선 램프(13)의 자외선을 조사할 수 있다.

예를 들어 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)의 전체에 자외선을 일괄 조사하기 위하여 복수의 자외선 램프로부터의 광을 처리 대상 표면(2A)에 조사한 경우에는, 개개의 자외선 램프의 변동에 의하여 워크(2)의 전체에 균일하게 자외선을 조사하는 것은 어렵다. 이에 대하여, 1개의 자외선 램프(13)의 자외선을, 자외선 램프(13)를 슬라이드 이동시키면서 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 조사한 경우에는, 자외선 램프 간의 변동에 의한 문제는 없다. 그러나 1개의 자외선 램프(13)의 자외선을 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 조사하더라도 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의 적산 광량에 변동이 발생하는 것이 판명되었다.

도 5의 (A)는, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의, 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 이동 속도의 일례를 나타내는 도면이며, 광원(10)을 일정 속도로 이동시킨 경우를 나타내고 있다. 도 5의 (B)는, 도 5의 (A)에 나타낸 일정 속도로 광원(10)을 슬라이드 이동시키면서 자외선 램프(13)의 자외선을 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 조사한 때의, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다.

워크(2)의 외측으로부터 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 장치 구성으로 할 수 있으면, 광원(10)의 슬라이드 이동의 개시 부분과 종료 부분에서 적산 광량이 낮아지는 일은 없다. 그러나 워크(2)가 대형인 경우에는, 워크(2)의 외측으로부터 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 장치 구성으로 하기 위해서는 장치를 더 대형화할 필요가 있다. 본 실시 형태의 자외선 처리 장치(1)에서는, 장치의 대형화를 방지하기 위하여, 워크(2)의 일 단부로부터 광원(10)의 슬라이드 이동을 개시시키고 워크(2)의 타 단부에서 광원(10)의 슬라이드 이동을 종료시키고 있다. 즉, 자외선 램프(13)의 축선이 이미 워크(2)의 일 단부로부터 내측에 치우친 상태에서 처리 대상 표면(2A)에의 조사가 시작된다. 또한 자외선 램프(13)의 축선이 워크(2)의 타 단부로부터 내측에 치우친 상태에서 처리 대상 표면(2A)에의 조사가 종료된다. 그 때문에, 도 5의 (A), 도 5의 (B)에 나타낸 바와 같이, 광원(10)을 일정한 속도로 슬라이드 이동시킨 때는, 광원(10)의 슬라이드 이동의 개시 부분과 종료 부분에서 적산 광량이 낮아져 버린다.

도 6의 (A)는, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의, 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 이동 속도의 일례를 나타내는 도면이며, 적산 광량이 낮아지는, 광원(10)의 슬라이드 이동의 개시 부분과 종료 부분에서, 광원(10)의 이동 속도가 느려지도록 설정한 경우를 나타내고 있다. 도 6의 (B)는, 도 6의 (A)에 나타낸 이동 속도로 광원(10)을 슬라이드 이동시키면서 자외선 램프(13)의 자외선을 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 조사한 때의, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다. 도 6의 (A), 도 6의 (B)에 나타낸 바와 같이, 광원(10)의 슬라이드 이동의 개시 부분과 종료 부분에서 광원(10)의 이동 속도를 느리게 함으로써 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)의 단부(램프의 짧은 쪽 방향의 -1100 내지 -900, 900 내지 1100의 범위)의 적산 광량이 많아져, 광원(10)의 슬라이드 이동의 개시 부분과 종료 부분에서 적산 광량이 낮아져 버린다는 문제는 해결되었다. 그러나 광원(10)의 슬라이드 이동의 개시 부분과 종료 부분에 인접하는 범위(램프의 짧은 쪽 방향의 -900 내지 -600, 600 내지 900의 범위)에서는 적산 광량이 지나치게 많아졌다.

도 7의 (A)는, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의, 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 이동 속도의 일례를 나타내는 도면이며, 적산 광량이 지나치게 많아지는 부분에서는 광원(10)의 이동 속도가 빨라지도록 설정한 경우를 나타내고 있다. 도 7의 (B)는, 도 7의 (A)에 나타낸 이동 속도로 광원(10)을 슬라이드 이동시키면서 자외선 램프(13)의 자외선을 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 조사한 때의, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다. 도 7의 (A), 도 7의 (B)에 나타낸 바와 같이, 이동 속도를 느리게 설정한 광원(10)의 슬라이드 이동의 개시 부분과 종료 부분에 인접하는 범위이며, 적산 광량이 지나치게 많아지는 범위에 있어서는, 광원(10)의 이동 속도를 빠르게 설정하여 적산 광량을 낮추도록 하고 있다. 이와 같이, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에서의 적산 광량에 따라 광원(10)의 슬라이드 이동의 이동 속도를 가변으로 함으로써 처리 대상 표면(2A)에서의 적산 광량의 편중을 저감할 수 있다. 따라서 처리 대상 표면(2A) 전체에서의 균제도를 향상시킬 수 있다.

그런데 자외선 처리 장치(1)에서는, 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)과 광원(10) 사이에 가로대(56)가 설치되어 있는 부분이 있다. 이 가로대(56)가 설치되어 있는 부분에서는, 가로대(56)가 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에의 자외선의 조사의 방해로 되어 버린다. 이것에 의하여, 도 5의 (B), 도 6의 (B), 도 7의 (B)에 나타낸 바와 같이, 처리 대상 표면(2A)에서의 적산 광량이 가로대(56)의 근방에서 낮아져 버린다. 이와 같이, 광원(10)을 슬라이드 이동시킨 때는, 광원(10)과 워크(2)의 처리 대상 표면(2A) 사이의 상태(피조사측의 상태)에 따라 처리 대상 표면(2A) 전체에서의 균제도가 저하되는 것을 알 수 있었다.

도 8의 (A)는, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의, 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 이동 속도의 일례를 나타내는 도면이며, 각 부에 있어서의 적산 광량에 따라 광원(10)의 이동 속도를 가변으로 한 경우를 나타내고 있다. 도 8의 (B)는, 도 8의 (A)에 나타낸 이동 속도로 광원(10)을 슬라이드 이동시키면서 자외선 램프(13)의 자외선을 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 조사한 때의, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에 있어서의 적산 광량을 나타내는 도면이다.

도 8의 (A), 도 8의 (B)에 나타낸 바와 같이, 광원(10)의 슬라이드 이동의 이동 속도를, 자외선 램프(13)가 가로대(56) 바로 아래를 통과하기 전후에서 가변으로 함으로써, 가로대(56)에 의한 처리 대상 표면(2A)에서의 적산 광량의 저하를 억제함과 함께, 처리 대상 표면(2A) 중심 부근의 적산 광량을 억제하여, 처리 대상 표면(2A) 전체에서의 균제도를 더욱 향상시킬 수 있다.

또한 도 8의 (B)와 도 7의 (B)의 대비에 있어서, 도 8의 (B)에서는, 횡축 중앙(램프의 짧은 쪽=「0」)의 편평한 영역이 도 7의 (B)보다도 짧고, 또한 도 8의 (B)의 적산 광량의 균제도는 도 7의 (B)에 비하여 1% 정도 개선되어 있다.

이와 같이, 자외선 처리 장치(1)에서는, 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 이동 속도를 일정/가변으로 하고, 처리 대상 표면(2A)에서의 적산 광량을 실험에 의하여 계측하고 있다. 그리고 피조사측의 상태, 및 광원(10)의 이동 속도와 처리 대상 표면(2A)에서의 적산 광량과의 관계에 기초하여, 광원(10)을 슬라이드 이동시키는 이동 속도를 가변으로 설정하고 있다. 이것에 의하여, 처리 대상 표면(2A)의 각 부에서의 적산 광량의 변동을 억제하여 처리 대상 표면(2A) 전체에서의 균제도를 향상시키고 있다.

도 9는, 상술한 자외선 처리 장치(1)의 변형예인 자외선 처리 장치(101)를 도시하는 도면이다. 도 9에 도시하는 바와 같이 자외선 처리 장치(101)는, 광원(10)이 자외선 램프(13)의 축선 방향으로 일렬로 복수 나열되어 있다. 이와 같이, 광원(10)을 자외선 램프(13)의 축선 방향으로 일렬로 복수 나열함으로써, 광원(10)의, 자외선 램프(13)의 축선 방향의 조사 범위를 넓게 할 수 있고, 또한 대형의 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 자외선을 조사하여 처리할 수 있는 자외선 처리 장치(101)를 제공할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이 본 실시 형태에 의하면, 광원(10)의 자외선을 처리 대상 표면(2A)에 조사하여 처리하는 자외선 처리 장치(1)에 있어서, 광원(10)은 이동 속도를 변화시키면서 슬라이드 이동하여 처리 대상 표면(2A)의 전체에 자외선을 조사하도록 구성되어 있다.

이 구성에 의하면, 예를 들어 광원(10)을 일정한 속도로 슬라이드 이동시킨 경우의 처리 대상 표면(2A)에서의 적산 광량에 따라, 처리 대상 표면(2A) 전체에 고균제도로 자외선을 조사하기 위하여 광원(10)의 슬라이드 이동의 이동 속도를 변화시킨다. 이것에 의하여, 광원(10)과 처리 대상 표면(2A) 사이에, 처리 대상 표면(2A)에의 자외선 조사의 방해로 되는 부재가 배치되어 있는 경우 등이며, 처리 대상 표면(2A)에의 자외선의 조사 환경이 일정하지 않은 경우에도, 고균제도로 처리 대상 표면(2A)의 전체에 자외선을 조사할 수 있다.

또한 본 실시 형태에 의하면, 광원(10)은 직관형의 자외선 램프(13)를 구비하고, 자외선 램프(13)의 긴 쪽 방향에 직교하는 방향으로 슬라이드 이동한다. 이 구성에 의하면, 관 길이가 워크(2)의 짧은 변 L 이상의 길이인 자외선 램프(13)를 사용함으로써, 광원(10)을 슬라이드 이동시킴으로써 대형의 워크(2)의 전체에 자외선을 조사 가능하게 할 수 있다.

또한 본 실시 형태에 의하면, 자외선 램프(13)의 긴 쪽 방향에 직교하는 방향으로 연장되고, 광원(10)을 슬라이드 이동 가능하게 보유 지지하는 레일(18)을 구비하였다. 이 구성에 의하면, 레일(18)을 따라 광원(10)을 슬라이드 이동시킨다는 간단한 구성으로 자외선 램프(13)의 자외선을 워크(2)의 전체에 조사 가능하게 할 수 있다.

또한 본 실시 형태에 의하면, 광원(10)은, 슬라이드 이동의 개시 부분 및 종료 부분에 있어서 이동 속도가 느리게 설정되어 처리 대상 표면(2A)에 있어서의 적산 광량을 증가시키도록 구성되어 있다. 이 구성에 의하면, 광원(10)의 슬라이드 이동을 처리 대상 표면(2A)의 외측으로부터 시작하지 않아, 적산 광량이 낮아지는 슬라이드 이동의 개시 부분 및 종료 부분에 있어서도 충분한 적산 광량을 얻을 수 있다. 따라서 장치를 대형화시키지 않고 고균제도로 처리 대상 표면(2A)의 전체에 자외선을 조사 가능하게 할 수 있다.

또한 본 실시 형태에 의하면, 워크(2)가 배치되는 처리실(50)을 구성하는 케이스체(51)를 구비하고, 케이스체(51)에 마련된 입사 개구(52)를 덮는 석영판(53)은 광원의 슬라이드 이동 방향으로 복수로 분할되어 있고, 인접하는 석영판(53) 사이의 이음매를 막는 가로대(56)를 구비하고, 가로대의 영향을 받는 부분에서는 광원의 이동 속도가 느려지도록 설정되어 있다. 이 구성에 의하면, 워크(2)가 대형화됨으로써, 워크(2)가 내부에 배치되는 케이스체(51)가 대형화되고, 이 케이스체(51)의 입사 개구(52)를 덮는 석영판(53)이 복수로 분할된 경우에도, 고균제도로 처리 대상 표면(2A)의 전체에 자외선을 조사 가능하게 할 수 있다.

또한 본 실시 형태에 의하면, 광원(10)에는 공랭 덕트(15, 16)가 접속되어 있기 때문에 광원(10)의 자외선 램프(13)나 반사판(14)의 열 영향을 저감할 수 있어, 고출력의 자외선 램프(13)를 사용하여 효율적으로 처리 대상 표면(2A)에 자외선을 조사할 수 있다.

또한 본 실시 형태에 의하면, 레일(18)은 광원(10)과 공랭 덕트(15, 16)를 일체로 슬라이드 이동 가능하게 보유 지지한다. 이 구성에 의하면, 광원(10)을 레일(18)을 따라 슬라이드 이동시키는 구성이더라도, 광원(10)을 슬라이드 이동시키면서 광원(10)의 자외선 램프(13)나 반사판(14)의 공랭을 계속할 수 있다.

또한 광원(10)을 자외선 램프(13)의 긴 쪽 방향으로 일렬로 복수 나열한 구성으로 함으로써, 워크(2)가 더 대형화된 경우에도, 광원(10)을 슬라이드 이동시킨다는 간단한 구성으로 자외선 램프(13)의 자외선을 워크(2)의 전체에 조사 가능하게 할 수 있다.

또한 상술한 실시 형태는 본 발명의 일 형태이며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에 있어서 적절히 변경 가능한 것은 물론이다.

예를 들어 상술한 실시 형태에서는, 워크(2)의 하방에 광원(10)을 배치하여 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 하방으로부터 자외선을 조사하는 구성으로 했지만 이에 한정되지 않으며, 워크(2)의 처리 대상 표면(2A)에 상방으로부터 광원(10)의 자외선을 조사하는 구성이어도 된다.

또한 상술한 실시 형태에서는, 광원에 직관형의 자외선 램프(13)를 사용한 구성에 대하여 설명했지만 이에 한정되지 않으며, 자외선 램프(13) 대신 자외선 LED 등의 발광 소자를 직선상으로 배열한 선상 광원을 사용해도 된다. 또한 선상 광원이 조사하는 광은 자외선에 한정되는 것은 아니다.

또한 상술한 실시 형태에서는, 자외선 처리 장치(1)를 광경화 장치로서 설명했지만, 본 발명은 다양한 자외선 처리 장치에 적용 가능하다.

1: 자외선 처리 장치(처리 장치)
2: 워크
2A: 처리 대상 표면
10: 광원
13: 자외선 램프
14: 반사판
15: 흡기 덕트(공랭 덕트)
16: 배기 덕트(공랭 덕트)
18: 레일
51: 케이스체
53: 석영판
56: 가로대

Claims

광원의 광을 처리 대상 표면에 조사하여 처리하는 처리 장치에 있어서,
상기 광원은 이동 속도를 변화시키면서 슬라이드 이동하여, 상기 처리 대상 표면의 전체에 상기 광원의 광을 조사하도록 구성되어 있는
것을 특징으로 하는, 처리 장치.
제1항에 있어서,
상기 광원은 직관형의 램프를 구비하고, 상기 램프의 긴 쪽 방향에 직교하는 방향으로 슬라이드 이동하는 것을 특징으로 하는, 처리 장치.
제2항에 있어서,
상기 램프의 긴 쪽 방향에 직교하는 방향으로 연장되고, 상기 광원을 슬라이드 이동 가능하게 보유 지지하는 레일을 구비한 것을 특징으로 하는, 처리 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원은, 슬라이드 이동의 개시 부분 및 종료 부분에 있어서 이동 속도가 느리게 설정되어 상기 처리 대상 표면에 있어서의 적산 광량을 증가시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 처리 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
워크가 배치되는 처리실을 구성하는 케이스체를 구비하고, 상기 케이스체에 마련된 입사 개구를 덮는 석영판은 상기 광원의 슬라이드 이동 방향으로 복수로 분할되어 있고, 인접하는 상기 석영판 사이의 이음매를 막는 가로대를 구비하고, 상기 가로대의 영향을 받는 부분에서는 상기 광원의 이동 속도가 느려지도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는, 처리 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원에는 공랭 덕트가 접속되어 있는 것을 특징으로 하는, 처리 장치.
제6항에 있어서,
상기 레일은 상기 광원과 상기 공랭 덕트를 일체로 슬라이드 이동 가능하게 보유 지지하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 처리 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광원을 상기 램프의 긴 쪽 방향으로 일렬로 복수 나열한 것을 특징으로 하는, 처리 장치.