JP6866193B2 - 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 - Google Patents
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Description
このようにすれば、200nm〜450nmの波長域の光を基板上に効率良く照射することができる。
この構成によれば、透光性部材として1枚の大型透光性基板を用いる場合に比べて、透光性部材のコストを低減できる。
この構成によれば、第1の部位及び第2の部位を含む保持部材によって透光性部材を撓みを低減した状態で保持できる。
この構成によれば、保持部材による紫外線の遮蔽量を低減できる。
この構成によれば、第1の部位及び第2の部位の幅を変化させることで基板上に紫外線を効率良く照射できる。
この構成によれば、第1の部位による紫外線の遮蔽量を減らすことで基板の第1方向の端部の紫外線照射量を確保できる。よって、基板上の第1方向における紫外線の照度分布をより均一化できる。
この構成によれば、照射部から照射される紫外線量が相対的に少ない基板の第2方向端部の紫外線照射量を確保できる。よって、基板上の第2方向における紫外線の照度分布をより均一化できる。
この構成によれば、第1の部位及び第2の部位の交差部による紫外線の遮蔽量を減らすことで基板上における紫外線の照度分布をより均一化できる。
この構成によれば、幅を連続的に変化させることで保持部材の機械的な強度を向上させることができる。よって、透光性部材に撓みを生じさせること無く確実に保持することができる。
この構成によれば、線状部材を用いて透光性基板の表面を保持するため、照射部から照射された紫外線の遮蔽量を抑えることができる。よって、基板上に紫外線を効率良く照射できる。また、線状部材を引っ張る事により撓みを低減した状態で透光性部材を保持できる。また、支持部材の付勢力を解除することで各透光性基板を容易に取り外しできるため、透光性部材の清掃が容易となる。
このようにすれば、200nm〜450nmの波長域の光が基板上に効率良く照射されるようになる。
図1は、実施形態に係る紫外線照射装置1の斜視図である。図2は、実施形態に係る紫外線照射装置1の上面図である。図3は、図2のIII−III断面図を含む、実施形態に係る紫外線照射装置の側面図である。
図1〜図3に示すように、紫外線照射装置1は、基板10に対して紫外線の照射を行う装置である。紫外線照射装置1は、チャンバ2(基板収容部)、ステージ3、照射ユニット(照射部)4、搬送機構(駆動装置)5、排気部6、ガス供給部7及び制御部8を備える。制御部8は、紫外線照射装置1の構成要素を統括制御する。
照射ユニット4は、チャンバ2の外部に設けられる。照射ユニット4は、照射部40及び集光部材41を備える。
照射部40は、基板10に所定の波長域の紫外線を照射する。本実施形態において、「所定の波長域の紫外線」とは、例えば、200nmから450nmの光を意味する。
なお、照射部40は、これに限らず、高圧水銀ランプ、LEDランプ及び低圧水銀ランプを用いてもよい。
また、照射部40は、これらのランプを複数組み合わせてもよい。
チャンバ2は、紫外線の照射処理が行われる基板10を収容する。チャンバ2は、上面視で矩形をなす箱状に形成される。具体的に、チャンバ2は、基板10の上方を覆う矩形板状の天板20と、基板10の側方を囲むように覆う矩形枠状の周壁21と、基板10の下方を覆う底板22とによって形成される。周壁21の−Y方向側には、チャンバ2に対して基板10の搬入及び搬出をするための基板搬出入口21aが設けられる。
なお、本実験結果は照射ユニットと基板を相対移動させた場合の結果であり、照射ユニットを固定した場合は、幅5mm以上の保持部材があると照射ムラが発生する。
このことから、照射ユニットと基板を相対移動させた場合に効果があることがわかる。
ステージ3は、チャンバ2及び搬送機構5を上面で支持する。ステージ3は、Z方向に厚みを有する板状をなす。
ステージ3は、架台31によって下方から支持される。
架台31は、複数の鋼材等の角柱を格子状に組み合わせて形成される。
なお、架台31の下端部には、複数の車輪31aが回転自在に取り付けられる。これにより、架台31をXY平面内で自在に移動させることができる。
図3に示したように、チャンバ2の下方には、基板10をZ方向に移動可能とする昇降機構25が設けられる。昇降機構25には、複数のリフトピン25aが設けられる。複数のリフトピン25aの先端(+Z側の端)は、XY平面に平行な同一面内に配置される。
具体的に、ステージ3には、ステージ3を厚み方向に開口する複数の挿通孔3aが形成される。底板22には、各挿通孔3aに平面視で重なる位置で底板22を厚み方向に開口する複数の挿通孔22aが形成される。加熱機構11には、各挿通孔22aに平面視で重なる位置で加熱機構11を厚み方向に開口する複数の挿通孔11aが形成される。複数のリフトピン25aの先端は、各挿通孔3a,22a,11aを介して基板10の下面に当接及び離反可能とされる。そのため、複数のリフトピン25aの先端によって、基板10がXY平面に平行に支持されるようになっている。
図1及び図2に示したように、搬送機構5は、チャンバ2の外部に設けられる。搬送機構5は、チャンバ2の外部からチャンバ2の内部に収容されている基板10に紫外線が照射されるように照射ユニット4をチャンバ2の外部で移動させる。搬送機構5は、ガイド部50、土台53及び門型フレーム54を備える。搬送機構5は、照射部40と、排気部6の配管60とを同期させて移動可能に構成されている。
スライダ52は、一対のレール51に沿って摺動可能に構成される。
土台53は、ステージ3の四隅に複数(例えば本実施形態では四隅に一つずつ計四つ)設けられる。各土台53は、一対のレール51におけるX方向両端部を支持する。
チャンバ2には、チャンバ2の内部雰囲気の状態を調整可能なガス供給部7が設けられる。ガス供給部7は、乾燥ガスとして、空気又は窒素(N2)、ヘリウム(He)、アルゴン(Ar)、酸素(O2)等の不活性ガスを供給する。
例えば、ガス供給部7は、チャンバ2の内部雰囲気の露点を−80℃(水分濃度0.54ppm質量基準)以上且つ−5℃(水分濃度4000ppm質量基準)以下とするように乾燥ガスの供給を調整する。
例えば、レジスト膜の露光後のプレパターンを硬化するときの雰囲気において、このように露点を好ましい上限以下とすることにより、パターンの硬化を進行しやすくすることができる。一方、好ましい下限以上とすることにより、装置を運用する上での作業性等を向上することができる。
例えば、レジスト膜の露光後のプレパターンを硬化するときの雰囲気において、このように酸素濃度を好ましい上限以下とすることにより、パターンの硬化を進行しやすくすることができる。
図9は、実施形態に係る排気部6の斜視図である。図10は、実施形態に係る排気部6の上面図である。図11は、図10のVI−VI断面を含む、実施形態に係る排気部6の側面図である。図12は、図10のVII−VII断面図である。図13は、図11のVIII−VIII断面図である。なお、図10及び図13においては、便宜上、シート70の図示を省略している。
図1及び図4に示すように、配管60は、門型フレーム54の+Y方向側の側壁部(門柱部54a)と後述する可動部65との間をわたすように延びる筒状の部材である。配管60は、L字状に屈曲している。配管60の一端部60a(−Y方向側の端部)は、門型フレーム54の+Y方向側の側壁部(門柱部54a)に固定されている。配管60の他端部60b(−Z方向側の端部)は、後述する可動部65に固定されている。これにより、配管60は、照射部40と共にチャンバ2の外部でX方向に移動可能になっている。
図2及び図4に示すように、排気ボックス61は、照射ユニット4の移動方向(照射部40の移動方向)であるX方向に延びている。排気ボックス61は、配管60からの熱を外部に排出可能な排気口63hを有する。X方向において、排気ボックス61の長さL4は、各レール51の長さL1と実質的に同じ長さである(L4≒L1)。
第二底壁61bは、第一底壁61aよりも−Z方向側に配置されるとともに、第一底壁61aと実質的に同一の形状を有する。
一対の側壁61cは、Y方向に厚みを有するとともにX方向に延び、かつ、第二底壁61bのY方向両端部から+Z方向に起立して第一底壁61aと第二底壁61bとのY方向端部間を繋いだ後に更に+Z方向に延びる。
一対のガイド壁61dは、Z方向に厚みを有するとともにX方向に延び、かつ、一対の側壁61cの上端部のY方向間の内側に突出する。
第二隔壁61fは、X方向において排気ボックス61の長さL4(図2参照)程度の間隔を空けて第一隔壁61eと対向する。第二隔壁61fは、第一隔壁61eと実質的に同一の形状を有し、かつ、第一底壁61a及び一対の側壁61cの−X方向側の端部間をわたすように配置される。すなわち、第二隔壁61fは、排気ボックス61の内部空間61sを−X方向側から閉塞する。
一対の側壁61cのうち+Y方向側の壁部には、排気口63hを形成する円筒状の排気管63が固定されている。排気管63は、排気ボックス61の内部空間61sに連通している。
図9及び図11に示すように、排気部6は、排気ボックス61の内部空間61sを覆うシート70を更に備える。シート70は、照射ユニット4の移動方向(照射部40の移動方向)であるX方向に沿うように延びている。シート70は、配管60の移動に従って移動可能に構成されている。
第一カバー77は、第一ローラ71及び第二ローラ72を覆うとともに、第一ローラ71及び第二ローラ72を回動自在に支持する。第一カバー77は、−X方向側に開口する箱状をなすとともに、排気ボックス61の各壁(具体的には、第二底壁61b、一対の側壁61c及び一対のガイド壁61d)の+X方向側の端部に着脱可能に取り付けられている。これにより、第一カバー77の内部(例えば、第一ローラ71及び第二ローラ72)のメンテナンス性を向上することができる。
排気部6は、シート70の張りを調整可能なテンショナー79を更に備える。テンショナー79は、第二カバー78のY方向両側部に配置されている。テンショナー79は、X方向に間隔を空けて並ぶ第四ローラ74及び第六ローラ76に対して、第四ローラ74と第六ローラ76との間に位置する第五ローラ75を近接及び離反可能とする。例えば、第四ローラ74及び第六ローラ76に対して第五ローラ75を近接させた場合には、シート70の張りを弱めることができる。一方、第四ローラ74及び第六ローラ76に対して第五ローラ75を離反させた場合には、シート70の張りを強めることができる。
図10及び図11に示すように、可動部65は、ベース部65a、本体部65b、接続部65c及び一対のガイド片65dを備える。
図11に示すように、排気部6は、シート70を案内する案内板64を更に備える。案内板64は、Z方向に厚みを有するとともに、照射ユニット4の移動方向(照射部40の移動方向)であるX方向に延びる。案内板64には、配管60からの熱が通過可能な通過孔64hが形成されている。
なお、図13においては、便宜上、一対のガイド片65d等の図示を省略している。
図9に示すように、排気部6は、照射部40(図1参照)の温度に基づいて、配管60の少なくとも一部を通過する気体の流量を調整可能な流量調整部68を更に備える。流量調整部68は、配管60に設けられている。例えば、流量調整部68は、流量調整弁である。
次に、本実施形態に係る紫外線照射方法を説明する。本実施形態では、上記の紫外線照射装置1を用いて基板10に紫外線を照射する。紫外線照射装置1の各部で行われる動作は、制御部8によって制御される。
収容ステップにおいて、チャンバ2は、基板10を密閉空間で収容する。例えば、基板搬出入口21aを介してチャンバ2内に基板10を搬送した後、基板搬出入口21aを閉塞してチャンバ2を密閉する。
照射ステップにおいて、搬送機構5は、チャンバ2の外部からチャンバ2の内部に収容されている基板10に紫外線が照射されるように照射ユニット4をチャンバ2の外部で移動させる。以下、照射ステップ内において、照射ユニット4と基板10とを相対移動させるステップを移動ステップと呼ぶことにする。
流量調整ステップにおいて、流量調整部68は、照射部40の温度に基づいて、配管60の少なくとも一部を通過する気体の流量を調整する。
ガス供給ステップにおいて、ガス供給部7は、チャンバ2の内部雰囲気の露点を調整する。また、ガス供給ステップにおいて、ガス供給部7は、チャンバ2の内部雰囲気の酸素濃度を調整する。
すなわち、照射部40を移動させた場合であっても、配管60に過度の負荷がかかることを抑制することができる。したがって、配管60の寿命を向上することができる。
また、照射部40及び配管60の移動はチャンバ2の外部で行われるため、仮に照射部40及び配管60の移動に伴いパーティクルが発生したとしても、チャンバ2を密閉空間とすることによって、チャンバ2内へのパーティクルの侵入を回避することができる。従って、チャンバ2内のパーティクルの発生を抑制することができ、基板10を清浄に保つことができる。
続いて、上記実施形態の第1変形例について、図面を参照しながら説明する。なお、上記実施形態と共通の構成については同じ符号を付し、構成に関する詳細な説明は省略する。
図14は、第1変形例に係る保持部材を示す平面図である。図14に示すように、本変形例の保持部材126は、照射ユニット4の走査方向であるX方向(第1方向)に延びる第1の部位127と、X方向に交差する(直交する)Y方向(第2方向)に延びる第2の部位128とを含み、第1の部位127及び第2の部位128は互いに交差している。なお、本変形例の保持部材126は、1760mm×1560mmの透光性部材23を保持するものである。
例えば、第1の部位127において、両端部の幅H1a,H1bはそれぞれ5mmに設定され、第2の部位128との交差部126A及び該交差部126Aに隣接する部分の幅H1cは5mmに設定され、それ以外の部分の幅は15mmに設定されている。
すなわち、第1の部位127の幅は両端部において相対的に狭くなっている。また、第1の部位127の交差部126Aに隣接する部分の幅H1cは相対的に狭くなっている。
すなわち、第2の部位128の幅は両端部において相対的に狭くなっている。また、第2の部位128の交差部126Aに隣接する部分の幅H2cは相対的に狭くなっている。
続いて、上記実施形態の第2変形例について、図面を参照しながら説明する。
図15は、第2変形例に係る保持部材を示す平面図である。図15に示すように、本変形例の保持部材226は、照射ユニット4の走査方向であるX方向(第1方向)に延びる第1の部位227と、X方向に交差する(直交する)Y方向(第2方向)に延びる第2の部位228とを含み、第1の部位227及び第2の部位228は互いに交差している。
続いて、上記実施形態の第3変形例について、図面を参照しながら説明する。
図16は、第3変形例に係る保持部材326を示す平面図であり、図17は図16のA−A線矢視による保持部材326の要部断面構成を示す図である。
続いて、上記実施形態の第4変形例について、図面を参照しながら説明する。
図18は、第4変形例に係る保持部材426により保持される透光性部材23の周辺構成を示す平面図であり、図19は図18のB−B線矢視による要部断面構成を示す図である。
本変形例において、ワイヤー427c,427dは、ワイヤー427a,427bに対して下方(−Z側)に配置されている。すなわち、ワイヤー427c,427dは、ワイヤー427a,427bを介して透光性基板23aの下面を保持する。
なお、本変形例において、保持部材426は、4本のワイヤー427を有する場合を例に挙げたが、ワイヤー427の数はこれに限定されず、例えば、2本、6本、8本としても良い。
次に、実施形態の第5変形例について、図20を用いて説明する。
図20は、実施形態に係る排気部の第5変形例を示す側面図である。なお、図20においては、排気ボックス61の各壁、案内板64等の図示を省略している。
図20に示すように、本変形例では、実施形態に対して、シート170が第一シート170A及び第二シート170Bを備える点で特に異なる。図20において、実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図21は、第6変形例に係る排気部を示す側面図である。なお、図21においては、排気ボックス61の各壁などの図示を省略している。
図21に示すように、本変形例では、実施形態に対して、シート70が、一対の搬送ローラ180に掛け回された状態で、照射部40の移動方向に沿うように移動可能に構成されている点で特に異なる。図21において、実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
例えば、上記実施形態において、透光性部材23は複数の透光性基板23aから構成される場合を例に挙げたが、透光性部材23は大型の透光性基板を1枚用いて構成しても良い。この場合においても、保持部材26を用いてチャンバ2に保持することで大型基板からなる透光性部材23に生じる撓みを抑えることができる。
Claims (16)
- 基板を密閉空間で収容可能な基板収容部と、
所定の波長域の紫外線を前記基板に照射する照射部と、
前記基板収容部に設けられ、前記照射部から照射された前記紫外線を透過させる透光性部材と、
前記透光性部材を前記基板収容部に保持する保持部材と、
前記基板収容部と前記照射部とを相対移動させる駆動装置と、を備え、
前記保持部材と前記透光性部材とが平面的に重なる割合は、前記透光性部材における面積の10%以下であり、
前記透光性部材は複数の透光性基板から構成されている
紫外線照射装置。 - 基板を密閉空間で収容可能な基板収容部と、
所定の波長域の紫外線を前記基板に照射する照射部と、
前記基板収容部に設けられ、前記照射部から照射された前記紫外線を透過させる透光性部材と、
前記透光性部材を前記基板収容部に保持する保持部材と、
前記基板収容部と前記照射部とを相対移動させる駆動装置と、を備え、
前記保持部材と前記透光性部材とが平面的に重なる割合は、前記透光性部材における面積の10%以下であり、
前記保持部材は、前記基板収容部及び前記照射部が相対移動する第1方向に延びる第1の部位と、前記第1方向と交差する第2方向に延びる第2の部位と、を含み、
前記保持部材は、一方向に沿って延び、前記透光性部材の表面を保持する線状部材を含む
紫外線照射装置。 - 前記透光性部材の材料は石英である
請求項1または2に記載の紫外線照射装置。 - 前記照射部は、前記紫外線として200nm〜450nmの波長域の光を照射する
請求項1乃至3のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記透光性部材は複数の透光性基板から構成されている
請求項1乃至4のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記保持部材は、前記基板収容部及び前記照射部が相対移動する第1方向に延びる第1の部位と、前記第1方向と交差する第2方向に延びる第2の部位と、を含む
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記第1の部位の前記第2方向における幅は15mm以下であり、
前記第2の部位の前記第1方向における幅は15mm以下である
請求項6に記載の紫外線照射装置。 - 前記第1の部位の幅は、前記第1方向において変化しており、
前記第2の部位の幅は、前記第2方向において変化している
請求項6又は7に記載の紫外線照射装置。 - 前記第1の部位の幅は、少なくとも一方の端部において相対的に狭くなっている
請求項8に記載の紫外線照射装置。 - 前記第2の部位の幅は、少なくとも一方の端部において相対的に狭くなっている
請求項8又は9に記載の紫外線照射装置。 - 前記第1の部位及び前記第2の部位は互いに交差するように設けられており、
前記第1の部位及び前記第2の部位の少なくともの交差部及び前記交差部に隣接する部分の幅は、相対的に狭くなっている
請求項8乃至10のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記第1の部位及び前記第2の部位において、連続的に幅が変化している
請求項8乃至11のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記保持部材は、一方向に沿って延び、前記透光性基板の表面を保持する線状部材と、前記複数の透光性基板の側端部を枠状に保持する支持部材とを含み、
前記支持部材は、対向する前記透光性基板の端面同士を当接させるように、前記複数の透光性基板に付勢力を付与する
請求項1又は5に記載の紫外線照射装置。 - 所定の波長域の紫外線を照射する照射部と基板とを相対移動させながら、前記紫外線を基板に照射する照射ステップを含み、
前記照射ステップでは、保持部材により保持された透光性部材を介して前記紫外線を前記基板に照射しており、
前記保持部材と前記透光性部材とが平面的に重なる割合は、前記透光性部材における面積の10%以下であり、
前記透光性部材は複数の透光性基板から構成されている
紫外線照射方法。 - 所定の波長域の紫外線を照射する照射部と基板とを相対移動させながら、前記紫外線を基板に照射する照射ステップを含み、
前記照射ステップでは、前記基板を密閉空間で収容可能な基板収容部に設けられるとともに保持部材により保持された透光性部材を介して前記紫外線を前記基板に照射しており、
前記保持部材と前記透光性部材とが平面的に重なる割合は、前記透光性部材における面積の10%以下であり、
前記保持部材は、前記基板収容部と前記照射部とが相対移動する第1方向に延びる第1の部位と、前記第1方向と交差する第2方向に延びる第2の部位と、を含み、
前記保持部材は、一方向に沿って延び、前記透光性部材の表面を保持する線状部材を含む
紫外線照射方法。 - 前記照射ステップにおいて、前記紫外線として200nm〜450nmの波長域の光を照射する
請求項14又は15に記載の紫外線照射方法。
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