TWI739982B - 紫外線照射裝置及紫外線照射方法 - Google Patents

Abstract

本發明的課題是在於提供一種可效率佳地照射紫外線之紫外線照射裝置及紫外線照射方法。 　　其解決手段是有關紫外線照射裝置，具備： 　　基板收容部，其係可在密閉空間收容基板； 　　照射部，其係將預定的波長域的紫外線照射至基板； 　　透光性構件，其係被設在基板收容部，使從照射部照射的紫外線透過； 　　保持構件，其係將透光性構件保持於基板收容部；及 　　驅動裝置，其係使基板收容部與照射部相對移動， 　　保持構件與透光性構件所平面性重疊的比例為透光性基板的面積的10%以下。

Description

紫外線照射裝置及紫外線照射方法

[0001] 本發明是有關紫外線照射裝置及紫外線照射方法。

[0002] 在構成液晶顯示器等的顯示面板的玻璃基板上是形成有配線圖案及電極圖案等的微細的圖案。例如，如此的圖案是藉由光學蝕刻法(photolithography)等的方法來形成。光學蝕刻法是包含：將抗蝕膜塗佈於玻璃基板的工程、將抗蝕膜曝光的工程、將曝光後的抗蝕膜顯像的工程及對於顯像後的抗蝕膜照射紫外線等的光的工程(加工處理工程)。 　　[0003] 上述的加工處理工程是藉由對於基板照射紫外線的紫外線照射裝置來進行。例如，在專利文獻1中揭示有經由照射窗來照射紫外線的紫外線照射裝置。 [先前技術文獻] [專利文獻] 　　[0004] 　　[專利文獻1] 日本特許第4859660號公報

(發明所欲解決的課題) 　　[0005] 可是，在上述以往構成中擴大照射窗時，產生須以框構件來保持照射窗。一旦使用如此的框構件，則恐有因框構件遮蔽紫外線而無法對基板效率佳地照射紫外線之虞。 　　[0006] 本發明是有鑑於如此的課題而研發者，以提供一種可效率佳地照射紫外線之紫外線照射裝置及紫外線照射方法為目的。 (用以解決課題的手段) 　　[0007] 若按照本發明的第1形態，則可提供一種紫外線照射裝置，其係具備： 　　基板收容部，其係可在密閉空間收容基板； 　　照射部，其係將預定的波長域的紫外線照射至前述基板； 　　透光性構件，其係被設在前述基板收容部，使從前述照射部照射的前述紫外線透過； 　　保持構件，其係將前述透光性構件保持於前述基板收容部；及 　　驅動裝置，其係使前述基板收容部與前述照射部相對移動， 　　前述保持構件與前述透光性構件所平面性重疊的比例為前述透光性基板的面積的10%以下。 　　[0008] 若根據第1形態的紫外線照射裝置，則在防止透光性構件的彎曲之狀態下保持，且可抑制從照射部照射的紫外線的遮蔽量。因此，可在基板上效率佳地照射紫外線。 　　[0009] 在上述第1形態中，前述透光性構件的材料亦可為石英。而且，前述照射部，係照射200nm~450nm的波長域的光，作為前述紫外線為理想。 　　若形成如此般，則可在基板上效率佳地照射200nm~450nm的波長域的光。 　　[0010] 在上述第1形態中，前述透光性構件亦可設為由複數的透光性基板所構成之構成。 　　若根據此構成，則相較於使用1片的大型透光性基板作為透光性構件時，可減低透光性構件的成本。 　　[0011] 在上述第1形態中，前述保持構件亦可包含：延伸於前述基板收容部及前述照射部所相對移動的第1方向之第1部位，及延伸於與前述第1方向交叉的第2方向之第2部位。 　　若根據此構成，則可在藉由包含第1部位及第2部位的保持構件來減低彎曲的狀態下保持透光性構件。 　　[0012] 在上述第1形態中，前述第1部位的前述第2方向的寬度為15mm以下，前述第2部位的前述第1方向的寬度亦可為15mm以下。 　　若根據此構成，則可減低保持構件之紫外線的遮蔽量。 　　[0013] 在上述第1形態中，前述第1部位的寬度係於前述第1方向變化，前述第2部位的寬度亦可於前述第2方向變化。 　　若根據此構成，則可藉由使第1部位及第2部位的寬度變化，在基板上效率佳地照射紫外線。 　　[0014] 在上述第1形態中，前述第1部位的寬度亦可設為至少在一方的端部相對性變窄之構成。 　　若根據此構成，則可藉由減少第1部位之紫外線的遮蔽量來確保基板的第1方向的端部的紫外線照射量。因此，可使基板上的第1方向的紫外線的照度分布更均一化。 　　[0015] 在上述第1形態中，前述第2部位的寬度亦可設為至少在一方的端部相對性變窄之構成。 　　若根據此構成，則可確保從照射部照射的紫外線量相對性少的基板的第2方向端部的紫外線照射量。因此，可使基板上的第2方向的紫外線的照度分布更均一化。 　　[0016] 在上述第1形態中，前述第1部位及前述第2部位係被設成為互相交叉，前述第1部位及前述第2部位的至少的交叉部及與前述交叉部鄰接的部分的寬度亦可設為相對性變窄之構成。 　　若根據此構成，則可藉由減少第1部位及第2部位的交叉部之紫外線的遮蔽量來使基板上的紫外線的照度分布更均一化。 　　[0017] 在上述第1形態中，在前述第1部位及前述第2部位中，亦可設為寬度連續性地變化之構成。 　　若根據此構成，則藉由使寬度連續性變化，可使保持構件的機械性的強度提升。因此，可不使透光性構件產生彎曲，確實地保持。 　　[0018] 在上述第1形態中， 　　前述保持構件，係包含：沿著一方向延伸，保持前述透光性基板的表面之線狀構件，及框狀地保持前述複數的透光性基板的側端部之支撐構件， 　　前述支撐構件，亦可以使前述透光性基板的端面彼此間抵接之方式，對前述複數的透光性基板賦予彈壓力。 　　若根據此構成，則因為利用線狀構件來保持透光性基板的表面，所以可抑制從照射部照射的紫外線的遮蔽量。因此，可在基板上效率佳地照射紫外線。並且，可在藉由拉伸線狀構件來減低彎曲的狀態下保持透光性構件。而且，可藉由解除支撐構件的彈壓力來容易卸下各透光性基板，因此透光性構件的清掃容易。 　　[0019] 若根據本發明的第2形態，則可提供一種紫外線照射方法，其係包含：一邊使照射預定的波長域的紫外線之照射部與基板相對移動，一邊將前述紫外線照射至基板的照射步驟， 　　在述照射步驟中，經由藉由保持構件所保持的透光性構件來將前述紫外線照射至前述基板， 　　前述保持構件與前述透光性構件所平面性重疊的比例為前述透光性基板的一方面的面積的10%以下。 　　[0020] 若根據第2形態的紫外線照射方法，則在防止透光性構件的彎曲之狀態下保持，且可抑制從照射部照射的紫外線的遮蔽量。因此，可在基板上效率佳地照射紫外線。 　　[0021] 在上述第2形態中，在前述照射步驟中，照射200nm~450nm的波長域的光，作為前述紫外線為理想。 　　若形成如此般，則200nm~450nm的波長域的光會被效率佳地照射於基板上。 [發明的效果] 　　[0022] 若根據本發明，則可效率佳地照射紫外線。

[0024] 以下，參照圖面來說明本發明的實施形態。在以下的說明中，設定XYZ正交座標系，一面參照此XYZ正交座標系，一面說明有關各構件的位置關係。將水平面內的預定方向設為X方向，將在水平面內與X方向正交的方向設為Y方向，將與X方向及Y方向的各者正交的方向(亦即鉛直方向)設為Z方向。 　　[0025] (紫外線照射裝置) 　　圖1是實施形態的紫外線照射裝置1的立體圖。圖2是實施形態的紫外線照射裝置1的俯視圖。圖3是包含圖2的III-III剖面圖之實施形態的紫外線照射裝置的側面圖。 　　如圖1~圖3所示般，紫外線照射裝置1是對於基板10進行紫外線的照射之裝置。紫外線照射裝置1是具備：腔室2(基板收容部)、平台3、照射單元(照射部)4、搬送機構(驅動裝置)5、排氣部6、氣體供給部7及控制部8。控制部8是統括控制紫外線照射裝置1的構成要素。 　　[0026] (照射單元) 　　照射單元4是被設在腔室2的外部。照射單元4是具備照射部40及集光構件41。 　　照射部40是對基板10照射預定的波長域的紫外線。在本實施形態中，所謂「預定的波長域的紫外線」是意思例如200nm~450nm的光。 　　[0027] 例如，照射部40是使用金屬鹵化物水銀燈。 　　另外，照射部40是不限於此，亦可使用高壓水銀燈、LED燈及低壓水銀燈。 　　又，照射部40是亦可將該等的燈組合複數個。 　　[0028] 例如，在照射部40的下面是亦可設有去掉波長為比300nm更低的成分之濾波器。藉此，經由濾波器來射出的紫外線的波長是成為300nm以上，因此可抑制藉由紫外線的照射而基板10的過度的溫度上昇。 　　[0029] 集光構件41是將從照射部40射出的紫外線予以集光於基板10上。藉由使紫外線集光於基板10上，可抑制從照射部40射出的紫外線擴散至基板10的外部，因此可提升照度。 　　[0030] (腔室) 　　腔室2是收容被進行紫外線的照射處理的基板10。腔室2是被形成俯視形成矩形的箱狀。具體而言，腔室2是藉由：覆蓋基板10的上方之矩形板狀的頂板20，及以包圍基板10的側方之方式覆蓋的矩形框狀的周壁21，及覆蓋基板10的下方之底板22所形成。在周壁21的-Y方向側是設有用以對於腔室2進行基板10的搬入及搬出之基板搬出入口21a。 　　[0031] 例如，頂板20、周壁21及底板22是藉由遮住紫外線的遮光構件所形成。藉此，在對於腔室2的內部的基板10照射紫外線時，可迴避紫外線漏出至腔室2的外部。 　　[0032] 腔室2是構成可在密閉空間收容基板10。例如，以焊接等來無間隙結合頂板20、周壁21及底板22的各連接部，藉此可提升腔室2內的氣密性。例如，在腔室2設有泵機構等的減壓機構(未圖示)。藉此，可在使腔室2內減壓的狀態下收容基板10。 　　[0033] 如圖3所示般，在腔室2內是設有加熱基板10的加熱機構11。加熱機構11是具有與基板10大致相同的平面視大小的矩形板狀，被配置成為由下方支撐基板10。加熱機構11是被安裝於平台3。加熱機構11是包含加熱器等(未圖示)。 　　[0034] 如圖2所示般，在腔室2的頂板20是設有可通過紫外線的透光性構件23。透光性構件23是構成頂板20的一部分。透光性構件23是被形成俯視比頂板20更小的矩形板狀。透光性構件23是被安裝於將頂板20開口於厚度方向的矩形的開口部20h。在本實施形態中，透光性構件23是由使預定的波長域的紫外線透過的材料所構成。透光性構件23的材料是例如可使用石英、耐熱玻璃、樹脂薄板、樹脂薄膜等。在本實施形態中，使用由石英所成的透光性構件23。 　　[0035] 透光性構件23的大小是被設定成比基板10更大的大小。藉此，對於基板10照射紫外線時，可迴避紫外線藉由頂板20的遮光部(透光性構件23以外的部分)而被遮光，可在基板10的上面全體均一地照射紫外線。 　　[0036] 另外，開口部20h的大小是亦可被設定成基板10可出入的大小。並且，透光性構件23是亦可裝卸自如地嵌入開口部20h。藉此，將透光性構件23嵌入至開口部20h時是可將腔室2內設為密閉空間，將透光性構件23從開口部20h脫離時是可將基板10出入於腔室2內。 　　[0037] 近年來，隨著基板10的大小的大型化，透光性構件23的大小也大型化。若使用大型者作為透光性構件23，則在該透光性構件23產生的彎曲量會變大，恐亦有透光性構件23破損之虞。 　　[0038] 本實施形態的透光性構件23是由複數(4片)的透光性基板23a所構成。藉此，相較於使用1片的大型透光性基板作為透光性構件23的情況，可降低透光性構件23的成本。 　　[0039] 在本實施形態中，經由保持構件26來將透光性構件23安裝於頂板20的開口部20h。保持構件26是以保持腔室2內的密閉空間之方式一體地保持複數的透光性基板23a。 　　[0040] 圖4是表示保持構件26的要部構成的剖面圖，圖5是表示保持構件26的平面構成的圖。如圖4所示般，保持構件26是包含：保持透光性基板23a的本體部26a，及被安裝於該本體部26a的一對的密封構件26b。密封構件26b是將在本體部26a與透光性基板23a之間產生的間隙消除者。藉此，保持構件26不會有使間隙產生於透光性基板23a彼此間的接合部的情形，一體地保持該等透光性基板23a。因此，由藉由保持構件26來一體地保持的複數的透光性基板23a所成的透光性構件23是作為隔開腔室2內的內部空間與外部空間之頂板20的一部分機能。 　　[0041] 可是，保持構件26是被配置於照射單元4與基板10之間。因此，保持構件26是遮住從照射單元4照射的紫外線的一部分。以下，將光藉由保持構件26而被遮住的情形稱為遮蔽。 　　[0042] 本發明者深入研究的結果，得到的見解是只要將保持構件26與透光性構件23所平面性重疊的比例形成透光性構件23的面積的10%以下，便可減低從照射單元4照射的紫外線之保持構件26的遮蔽量。在此，所謂保持構件26與透光性構件23所平面性重疊是意思從上方(+Z方向)平面視頂板20時的透光性構件23與保持構件26的重疊程度。 　　[0043] 亦即，所謂保持構件26及透光性構件23的平面性重疊的比例是意思從上方(+Z方向)平面視頂板20時的透光性構件23的表面積與從上方(+Z方向)平面視頂板20時的保持構件26的表面積的比例。 　　[0044] 本實施形態的保持構件26是由將對於透光性構件23的平面性的重疊量形成透光性構件23的面積的10%以下之形狀所成。本實施形態的保持構件26是在防止透光性構件23的彎曲之狀態下保持，且可抑制從照射單元4照射的紫外線的遮蔽量。 　　[0045] 以下，說明有關本實施形態的保持構件26的具體的形狀。 　　[0046] 如圖5所示般，保持構件26是包含，延伸於照射單元4的掃描方向的X方向(第1方向)之第1部位27，及延伸於與X方向交叉(正交)的Y方向(第2方向)之第2部位28。第1部位27及第2部位28是被設成為互相交叉。另外，在本實施形態中，保持構件26是保持1760mm×1560mm的透光性構件23者。 　　[0047] 第1部位27及第2部位28的寬度是分別可為相同或亦可為相異。所謂第1部位27的寬度H1是與該第1部位27的延伸方向(X方向)正交的Y方向的寬度。又，所謂第2部位28的寬度H2是與該第2部位28的延伸方向(Y方向)正交的X方向的寬度。 　　[0048] 在此，為了儘可能縮小保持構件26之紫外線的遮蔽量，只要縮小第1部位27及第2部位28的各寬度H1，H2即可。 　　[0049] 以下，說明有關保持構件26(第1部位27及第2部位28)的寬度H1，H2與紫外線的遮蔽量的關係。本發明者是藉由後述的實驗來找出紫外線的遮蔽量與保持構件26的寬度之間成立的關係。 　　[0050] 在本實驗中，將具有遮光性的膠帶看作是保持構件，算出經由貼了該膠帶的透光性基板(玻璃板)來照射紫外線後的基板上的預定位置的累計光量。藉由此實驗，求取保持透光性基板的保持構件之對紫外線照射量的影響，求取保持構件的寬度與紫外線的遮蔽量之關係。 　　[0051] 圖6是表示使用在本實驗的透光性基板24的平面圖。如圖6所示般，在本實驗中，使用將具有遮光性的膠帶29貼附成十字狀的透光性基板24。然後，經由透光性基板24從照射單元(未圖示)照射紫外線，求取基板上的紫外線的累計光量。如圖6所示般，求取：位於膠帶29的十字部分的正下面之地點M的累計光量，及位於膠帶29的十字部分附近的正下面之地點A，B，C，D的累計光量。 　　[0052] 下記的表1是表示在使照射單元與基板相對移動的狀態下的各地點的累計光量與膠帶寬度的關係。另外，在表1中，顯示將位於無膠帶的部分(從照射部照射的光被直接照射於基板上的部分)之地點S的累計光量設為100時的各地點A，B，C，D，M的累計光量的值(相對值)。 　　[0053]

[0054] 如表1所示般，可知位於膠帶29的十字部分的正下面之地點M的累計光量是與膠帶寬度成比例降低。這可思考因為遮蔽量會按照膠帶29的寬度而增加。 　　[0055] 同樣，可知位於膠帶29的十字部分的附近之地點A~D的累計光量是與膠帶寬度成比例而降低。地點A~D是紫外線的一部分會依據照射單元與膠帶29的位置關係而被遮光。因此，地點A~D的累計光量是相較於地點S變低。 　　[0056] 又，如圖7所示般，準備複數種類貼附了具有遮光性的膠帶30之透光性基板24A。各透光性基板24A是膠帶30的延伸方向與照射單元(未圖示)的掃描方向會一致。各透光性基板24A是具有5mm~40mm的膠帶寬度，各透光性基板24A的膠帶寬度是分別各5mm不同。 　　[0057] 經由透光性基板24A從照射單元(未圖示)照射紫外線，求取基板上的紫外線的累計光量。如圖7所示般，求取：位於膠帶30的兩端部分的正下面之各地點E的累計光量的平均值，及位於膠帶30的附近的正下面之地點B的累計光量，及位於不受膠帶30的影響的位置的正下面之地點S的累計光量。並且，判定有關對應於各膠帶寬度之基板上的照度不均(照度均一性)。另外，基板上的照度不均是例如藉由目視判斷塗佈於基板上的抗蝕膜的效果狀態來進行。 　　[0058] 下記的表2是表示在使照射單元與基板相對移動的狀態下的各地點的累計光量與膠帶寬度(與照射單元的掃描方向交叉的方向的膠帶寬度)的關係。另外，在表2中，顯示將地點S的累計光量設為100時的各地點B，D的累計光量的值(相對值)。在表2中，以○來表示照度不均的影響小的狀態，以△來表示照度不均的影響大的狀態。 　　[0059]

[0060] 如表2所示般，可知位於膠帶30的兩端部的正下面之地點E的累計光量是與膠帶寬度成比例降低。這是因為遮蔽量會按照膠帶寬度而增加所致。 　　[0061] 同樣，可知位於膠帶30的附近之地點B的累計光量也與膠帶寬度成比例而降低。地點B是射入的紫外線的一部分會按照照射單元與膠帶30的位置關係而被遮光。因此，地點B的累計光量是相較於地點S變低。 　　[0062] 又，如表2所示般，藉由將膠帶寬度形成15mm以下，可減低照度不均。亦即，作為保持透光性構件的保持構件(膠帶)，若採用15mm以下的寬度，則可一面抑制保持構件之紫外線的遮光，一面在均一性高的狀態下照射紫外線至基板上。 　　[0063] 又，如圖8所示般，準備複數種類貼附了具有遮光性的膠帶32之透光性基板24B。各透光性基板24B是膠帶32的延伸方向與照射單元(未圖示)的掃描方向會正交(交叉)。各透光性基板24B是具有5mm~20mm的膠帶寬度，各透光性基板24B的膠帶寬度是分別各5mm不同。 　　[0064] 經由透光性基板24B從照射單元(未圖示)照射紫外線，求取基板上的紫外線的累計光量。如圖8所示般，求取：位於膠帶32的兩端部分的正下面之各地點F的累計光量的平均值，及位於膠帶32的附近的正下面之地點B的累計光量，及位於不受膠帶32的影響的位置的正下面之地點S的累計光量。並且，判定有關對應於各膠帶寬度之基板上的照度不均(照度均一性)。另外，基板上的照度不均是例如藉由目視判斷塗佈於基板上的抗蝕膜的效果狀態來進行。 　　[0065] 下記的表3是表示在使照射單元與基板相對移動的狀態下的各地點的累計光量與膠帶寬度(照射單元的掃描方向的膠帶寬度)之關係。另外，在表3中，顯示將地點S的累計光量設為100時的各地點B，F的累計光量的值(相對值)。在表3中，以○來表示照度不均的影響小的狀態，以△來表示照度不均的影響大的狀態。 　　[0066]

[0067] 如表3所示般，可知位於膠帶32的兩端部的正下面之地點F的累計光量是與膠帶寬度成比例而降低。這是因為遮蔽量會按照膠帶寬度而增加所致。 　　[0068] 同樣，可知位於膠帶32的附近之地點B的累計光量也與膠帶寬度成比例而降低。地點B是射入的紫外線的一部分會按照照射單元與膠帶32的位置關係而被遮光。因此，地點B的累計光量是相較於地點S而變低。 　　[0069] 又，如表3所示般，藉由將膠帶寬度形成15mm以下，可減低照度不均。亦即，作為保持透光性構件的保持構件(膠帶)，若採用15mm以下的寬度，則可一面抑制保持構件之紫外線的遮光，一面在均一性高的狀態下照射紫外線至基板上。 　　[0070] 根據以上的實驗結果，本發明者取得的見解是藉由將保持構件的寬度壓在15mm以下，可在均一性高的狀態下照射紫外線至基板上。然後，根據此見解，構成本實施形態的保持構件26。亦即，在本實施形態的保持構件26中，第1部位27的寬度H1及第2部位28的寬度H2會被設定成15mm以下。具體而言，第1部位27的寬度H1會被設定成15mm，第2部位28的寬度H2會被設定成10mm。 　　另外，本實驗結果是使照射單元與基板相對移動時的結果，固定照射單元時是若有寬度5mm以上的保持構件則會產生照射不均。 　　由此情形可知使照射單元與基板相對移動時具有效果。 　　[0071] 若根據如此的構成，利用本實施形態的保持構件26，則在防止透光性構件23的彎曲之狀態下保持，且可將從照射單元4照射的紫外線效率佳地引導至基板10上。 　　[0072] (平台) 　　平台3是以上面支撐腔室2及搬送機構5。平台3是形成在Z方向具有厚度的板狀。 　　平台3是藉由架台31來從下方支撐。 　　架台31是將複數的鋼材等的角柱組合成格子狀來形成。 　　另外，在架台31的下端部，複數的車輪31a會旋轉自如地被安裝。藉此，可使架台31在XY平面內移動自如。 　　[0073] (昇降機構) 　　如圖3所示般，在腔室2的下方是設有可將基板10移動於Z方向的昇降機構25。在昇降機構25是設有複數的昇降銷25a。複數的昇降銷25a的前端(+Z側的端)是被配置於與XY平面平行的同一面內。 　　[0074] 複數的昇降銷25a的前端是可插通平台3、底板22及加熱機構11。 　　具體而言，在平台3是形成有將平台3開口於厚度方向的複數的插通孔3a。在底板22是在平面視重疊於各插通孔3a的位置將底板22開口於厚度方向的複數的插通孔22a。在加熱機構11是在平面視重疊於各插通孔22a的位置將加熱機構11開口於厚度方向的複數的插通孔11a。複數的昇降銷25a的前端是可經由各插通孔3a，22a，11a來抵接及疏離於基板10的下面。因此，基板10會藉由複數的昇降銷25a的前端來平行於XY平面而被支撐。 　　[0075] 昇降機構25會一面支撐被收容於腔室2內的基板10，一面移動於腔室2內的Z方向。在圖3中，顯示複數的昇降銷25a的前端會經由各插通孔3a，22a，11a來抵接於基板10的下面，且上昇，藉此使基板10從加熱機構11疏離的狀態。 　　[0076] 另外，在昇降機構25中，使複數的昇降銷25a昇降的驅動源25b是被配置於腔室2的外部。因此，即使假設隨著驅動源25b的驅動而產生粒子，也可藉由將腔室2設為密閉空間，迴避粒子侵入至腔室2內。 　　[0077] (搬送機構) 　　如圖1及圖2所示般，搬送機構5是被設於腔室2的外部。搬送機構5是使照射單元4移動於腔室2的外部，而使紫外線能夠從腔室2的外部照射至被收容於腔室2的內部的基板10。搬送機構5是具備引導部50、台基53及門型框架54。搬送機構5是構成可使照射部40與排氣部6的配管60同步移動。 　　[0078] 引導部50是具備一對的軌道51及滑塊52。例如，引導部50是使用線性馬達致動器。引導部50是可使照射部40與排氣部6的配管60同步移動的共通的驅動源。引導部50是相當為請求項記載的「驅動源」。 　　[0079] 一對的軌道51是以從-Y方向側及+Y方向側夾著腔室2的方式，延伸於照射單元4的移動方向(照射部40的移動方向)之X方向。 　　滑塊52是構成可沿著一對的軌道51來滑動。 　　台基53是在平台3的四個角落複數(例如本實施形態是在四個角落各一個合計四個)設置。各台基53是支撐一對的軌道51的X方向兩端部。 　　[0080] 門型框架54是以在Y方向跨越腔室2的方式被形成門型，且可沿著一對的軌道51來移動。門型框架54是具備：延伸於Z方向的一對的門柱部54a，及以連結一對的門柱部54a之間的方式延伸於Y方向的連結部54b。在門型框架54的各門柱部54a的下端部是安裝有滑塊52。 　　[0081] 如圖3所示般，在門型框架54的連結部54b的內部是設有保持照射單元4的保持部54c。保持部54c是形成從門型框架54的Y方向中間部的下面凹陷至上方的凹部。照射單元4之中除了照射面4a(下面)之外的部分是被保持部54c的凹部所包圍，藉由門型框架54的壁部來覆蓋。例如，門型框架54是藉由遮住紫外線的遮光構件所形成。藉此，從照射單元4照射紫外線時，可迴避紫外線擴散至門型框架54的側方，可將紫外線朝向下方(腔室2內的基板10)照射。 　　[0082] 如圖2所示般，在X方向，各軌道51的長度L1是比腔室2的長度L2更長(L1＞L2)。在本實施形態中，在X方向，各軌道51的長度L1是比腔室2的長度L2加上門型框架54二個部分的長度(2×L3)之長度(L2+2×L3)更長。藉此，俯視，從超過腔室2的-X方向端的領域到超過腔室2的+X方向端的領域，可使照射單元4移動。 　　[0083] (氣體供給部) 　　在腔室2是設有可調整腔室2的內部環境的狀態之氣體供給部7。氣體供給部7是供給空氣或氮(N₂ )、氦(He)、氬(Ar)、氧(O₂ )等的惰性氣體，作為乾燥氣體。 　　[0084] 藉由氣體供給部7，可調整腔室2的內部環境的露點，可調整腔室2內的水分濃度。 　　例如，氣體供給部7是以將腔室2的內部環境的露點設為-80℃(水分濃度0.54ppm質量基準)以上且-5℃(水分濃度4000ppm質量基準)以下的方式調整乾燥氣體的供給。 　　例如，在使抗蝕膜的曝光後的預圖案(pre-pattern)硬化時的環境中，藉由如此將露點設為理想的上限以下，可容易進展圖案的硬化。另一方面，藉由設為理想的下限以上，可提升在運用裝置上的作業性等。 　　[0085] 又，亦可藉由氣體供給部7來調整腔室2的內部環境的氧濃度。腔室2的內部環境的氧濃度(質量基準)是越低越理想。具體而言，將腔室2的內部環境的氧濃度設為1000ppm以下為理想，設為500ppm以下更為理想。 　　例如，在硬化抗蝕膜的曝光後的預圖案時的環境中，藉由如此將氧濃度設為理想的上限以下，可容易進展圖案的硬化。 　　[0086] (排氣部) 　　圖9是實施形態的排氣部6的立體圖。圖10是實施形態的排氣部6的俯視圖。圖11是包含圖10的VI-VI剖面之實施形態的排氣部6的側面圖。圖12是圖10的VII-VII剖面圖。圖13是圖11的VIII-VIII剖面圖。另外，在圖10及圖13中，基於方便起見，省略薄板70的圖示。 　　[0087] 如圖1所示般，排氣部6是被設在腔室2的外部。排氣部6是被配置於平台3的+Y方向側。排氣部6是具備：可將照射單元4(照射部40)的熱排出的配管60，及將配管60可移動地連接的排氣箱61。 　　[0088] 雖未圖示，但在腔室2的外部是設有可冷卻照射單元4的冷卻部。例如，冷卻部是被安裝於門型框架54的側壁部(門柱部54a)。例如，冷卻部是使用鼓風機。藉此，可經由排氣部6(具體而言，配管60及排氣箱61)來將藉由照射單元4所產生的熱氣排氣至外部。 　　[0089] (配管) 　　如圖1及圖4所示般，配管60是以架設於門型框架54的+Y方向側的側壁部(門柱部54a)與後述的可動部65之間的方式延伸的筒狀的構件。配管60是彎曲成L字狀。配管60的一端部60a(-Y方向側的端部)是被固定於門型框架54的+Y方向側的側壁部(門柱部54a)。配管60的另一端部60b (-Z方向側的端部)是被固定於後述的可動部65。藉此，配管60是形成可與照射部40一起在腔室2的外部移動於X方向。 　　[0090] 另外，配管60的一端部60a是可裝卸地被連接至門型框架54的+Y方向側的側壁部。藉此，可提升配管60的一端部60a的維修性。 　　[0091] (排氣箱) 　　如圖2及圖4所示般，排氣箱61是延伸於照射單元4的移動方向(照射部40的移動方向)的X方向。排氣箱61是具有可將來自配管60的熱排出至外部的排氣口63h。在X方向，排氣箱61的長度L4是與各軌道51的長度L1實質上相同的長度(L4≒L1)。 　　[0092] 如圖10~圖12所示般，排氣箱61是具備：第一底壁61a、第二底壁61b、一對的側壁61c、一對的引導壁61d、第一隔壁61e及第二隔壁61f。 　　[0093] 第一底壁61a是在Z方向具有厚度且延伸於X方向。 　　第二底壁61b是被配置於比第一底壁61a更靠-Z方向側，且具有與第一底壁61a實質上相同的形狀。 　　一對的側壁61c是在Y方向具有厚度且延伸於X方向，且從第二底壁61b的Y方向兩端部立起於+Z方向，在連接第一底壁61a與第二底壁61b的Y方向端部間之後更延伸於+Z方向。 　　一對的引導壁61d是在Z方向具有厚度且延伸於X方向，且突出至一對的側壁61c的上端部的Y方向間的內側。 　　[0094] 第一隔壁61e是在X方向具有厚度，且被配置成為遍及第一底壁61a及一對的側壁61c的+X方向側的端部間。亦即，第一隔壁61e是從+X方向側閉塞排氣箱61的內部空間61s。 　　第二隔壁61f是在X方向取排氣箱61的長度L4(參照圖2)程度的間隔來與第一隔壁61e對向。第二隔壁61f是具有與第一隔壁61e實質上同樣的形狀，且被配置成為遍及第一底壁61a及一對的側壁61c的-X方向側的端部間。亦即，第二隔壁61f是從-X方向側閉塞排氣箱61的內部空間61s。 　　[0095] 另外，排氣箱61的內部空間61s是藉由第一底壁61a、一對的側壁61c、第一隔壁61e、第二隔壁61f及後述的引導板64來包圍的空間。 　　[0096] 如圖11及圖12所示般，在第一底壁61a與第二底壁61b之間是形成有薄板70可移動於X方向的底壁側空間61t。底壁側空間61t的Z方向的間隔是比薄板70的厚度更大。亦即，底壁側空間61t的Z方向的間隔是被設定成薄板70可順暢地移動於第一底壁61a與第二底壁61b之間的大小。 　　[0097] 如圖10及圖11所示般，一對的引導壁61d是可滑動地支撐可動部65，該可動部65是支撐配管60。一對的引導壁61d的Y方向間的間隔是比被形成於後述的引導板64的通過孔64h的形成領域的Y方向的長度更大。 　　一對的側壁61c之中在+Y方向側的壁部是被固定有形成排氣口63h的圓筒狀的排氣管63。排氣管63是被連通至排氣箱61的內部空間61s。 　　[0098] 如圖9所示般，在排氣箱61的下部是設有電纜支撐構件62。例如，電纜支撐構件62為cableveyor(R)(註冊商標)。在電纜支撐構件62是捲繞有未圖示的電源線等的電纜。藉此，可在彎曲電纜的狀態下使排氣部6驅動。 　　[0099] (薄板) 　　如圖9及圖11所示般，排氣部6是更具備覆蓋排氣箱61的內部空間61s的薄板70。薄板70是延伸成為沿著照射單元4的移動方向(照射部40的移動方向)之X方向。薄板70是構成可按照配管60的移動來移動。 　　[0100] 具體而言，薄板70是以沿著照射單元4的移動方向(照射部40的移動方向)的X方向之方式，從配管60與排氣箱61的連接部之可動部65延伸至一方側(-X方向側)及另一方側(+X方向側)，且以連接成環狀的方式藉由相同的構件來一體地形成。薄板70是以圍繞內部空間61s的方式被配置成為沿著排氣箱61的外周。例如，薄板70為樹脂薄板。 　　[0101] 如圖10及圖11所示般，排氣部6是具備：捲掛薄板70的複數(例如在本實施形態是六個)的滾輪(具體而言，第一滾輪71、第二滾輪72、第三滾輪73、第四滾輪74、第五滾輪75及第六滾輪76)。薄板70是在排氣箱61的+X方向側被捲掛於二個的滾輪(具體而言，第一滾輪71及第二滾輪72)。薄板70是在排氣箱61的-X方向側被捲掛於四個的滾輪(具體而言，第三滾輪73、第四滾輪74、第五滾輪75及第六滾輪76)。 　　[0102] 排氣部6是更具備第一罩77及第二罩78。 　　第一罩77是覆蓋第一滾輪71及第二滾輪72，且將第一滾輪71及第二滾輪72轉動自如地支撐。第一罩77是形成開口於-X方向側的箱狀，且可裝卸地安裝於排氣箱61的各壁(具體而言，第二底壁61b、一對的側壁61c及一對的引導壁61d)的+X方向側的端部。藉此，可提升第一罩77的內部(例如，第一滾輪71及第二滾輪72)的維修性。 　　[0103] 第二罩78是覆蓋第三滾輪73、第四滾輪74、第五滾輪75及第六滾輪76，且將第三滾輪73、第四滾輪74、第五滾輪75及第六滾輪76轉動自如地支撐。第二罩78是形成開口於+X方向側的箱狀，且可裝卸地安裝於排氣箱61的各壁(具體而言，第二底壁61b、一對的側壁61c及一對的引導壁61d)的-X方向側的端部。藉此，可提升第二罩78的內部(例如，第三滾輪73、第四滾輪74、第五滾輪75及第六滾輪76)的維修性。 　　[0104] (拉緊器) 　　排氣部6是更具備可調整薄板70的張力之拉緊器79。拉緊器79是被配置於第二罩78的Y方向兩側部。拉緊器79是對於在X方向取間隔而排列的第四滾輪74及第六滾輪76，可將位於第四滾輪74與第六滾輪76之間的第五滾輪75設為接近及疏離。例如，在使第五滾輪75對於第四滾輪74及第六滾輪76接近時，可減弱薄板70的張力。另一方面，在使第五滾輪75對於第四滾輪74及第六滾輪76疏離時，可加強薄板70的張力。 　　[0105] (可動部) 　　如圖10及圖11所示般，可動部65是具備：基底部65a、本體部65b、連接部65c及一對的引導片65d。 　　[0106] 如圖11所示般，基底部65a是被配置在後述的引導板64與引導壁61d之間。基底部65a是在Z方向具有厚度，且俯視形成矩形框狀。亦即，在基底部65a中，來自配管60的熱可通過的貫通孔65h會在Z方向開口形成。貫通孔65h是經由引導板64的通過孔64h來連通至排氣箱61的內部空間61s。 　　[0107] 本體部65b是被連接至基底部65a的貫通孔65h的周邊部。本體部65b是圖11的剖面視，以越+Z方向側，開口面積越小的方式，形成延伸於Z方向的筒狀。 　　[0108] 連接部65c是形成從本體部65b延伸於+Z方向的圓筒狀。在連接部65c是配管60的另一端部60b(參照圖9)會可裝卸地被連接。藉此，可提升配管60的另一端部60b及連接部65c的維修性。 　　[0109] 一對的引導片65d是從本體部65b延伸於Y方向兩側，且以沿著引導壁61d的方式延伸於X方向。一對的引導片65d是在與基底部65a的Y方向兩端部之間，以夾著引導壁61d的方式被配置。 　　[0110] 在基底部65a的+X方向側的端部是設有可裝卸地卡止薄板70的一端部70a之第一卡止部66。在基底部65a的-X方向側的端部是設有可裝卸地卡止薄板70的另一端部70b之第二卡止部67。 　　[0111] 以下，說明薄板70的配置方法之一例。首先，將薄板70的一端部70a經由第一卡止部66來卡止於基底部65a的+X方向側的端部。然後，將薄板70捲掛於第一滾輪71及第二滾輪72。然後，將薄板70從另一端部70b的側通至底壁側空間61t之後，捲掛於第三滾輪73、第四滾輪74、第五滾輪75及第六滾輪76。然後，將薄板70的另一端部70b經由第二卡止部67來卡止於基底部65a的-X方向的端部。然後，藉由拉緊器79來調整薄板70的張力。如此，薄板70是經由可動部65來環狀地連接，且被配置成為圍繞內部空間61s。 　　[0112] (引導板) 　　如圖11所示般，排氣部6是更具備引導薄板70的引導板64。引導板64是在Z方向具有厚度，且延伸於照射單元4的移動方向(照射部40的移動方向)之X方向。在引導板64是形成有來自配管60的熱可通過的通過孔64h。 　　[0113] 如圖10所示般，在俯視，通過孔64h是形成圓形。通過孔64h是在照射單元4的移動方向(照射部40的移動方向)之X方向及Y方向，被規則性複數配置於引導板64。例如，引導板64是穿孔金屬板。 　　[0114] 如圖11及圖13所示般，引導板64之中，配管60與排氣箱61的連接部(亦即可動部65)的通過孔64h的開口面積S2是排氣口63h的面積S1以上。在此，所謂通過孔64h的開口面積S2是意思被形成於引導板64全體的通過孔64h之中，僅俯視從貫通孔65h露出的通過孔64h的開口面積。所謂排氣口63h的面積S1是意思排氣管63的開口面積。 　　另外，在圖13中，基於方便起見，省略一對的引導片65d等的圖示。 　　[0115] (流量調整部) 　　如圖9所示般，排氣部6是更具備：可根據照射部40(參照圖1)的溫度來調整通過配管60的至少一部分的氣體的流量之流量調整部68。流量調整部68是被設在配管60。例如，流量調整部68為流量調整閥。 　　[0116] (紫外線照射方法) 　　其次，說明本實施形態的紫外線照射方法。本實施形態是利用上述的紫外線照射裝置1來對基板10照射紫外線。在紫外線照射裝置1的各部進行的動作是藉由控制部8來控制。 　　[0117] 本實施形態的紫外線照射方法是包含收容步驟、照射步驟。 　　在收容步驟中，腔室2是以密閉空間來收容基板10。例如，經由基板搬出入口21a來將基板10搬送至腔室2內之後，將基板搬出入口21a閉塞而密閉腔室2。 　　[0118] 在照射步驟中，照射單元4是對基板10照射紫外線。 　　在照射步驟中，搬送機構5是使照射單元4在腔室2的外部移動，而使紫外線會被照射至從腔室2的外部來被收容於腔室2的內部的基板10。以下，在照射步驟內，將使照射單元4與基板10相對移動的步驟稱為移動步驟。 　　[0119] 在移動步驟中，使照射單元4及配管60同步移動。在移動步驟中，使照射單元4在腔室2的外部移動，而使紫外線會經由透光性構件23來照射至腔室2的內部的基板10。如上述般，透光性構件23是藉由保持構件26來被保持於腔室2。在本實施形態的紫外線照射裝置1中，保持構件26與透光性構件23所平面性重疊的比例是成為透光性構件23的面積的10%以下。因此，保持構件26是在防止透光性構件23的彎曲之狀態下保持，且可抑制從照射單元4照射的紫外線的遮蔽量。 　　[0120] 又，如上述般，由於在門型框架54的+Y方向側的側壁部是安裝有配管60，因此在移動步驟中，與照射單元4一起使配管60移動於腔室2的外部。 　　[0121] 在移動步驟中，使照射單元4往復移動於一對的軌道51的-X方向端(一端)與+X方向端(另一端)之間。例如，在圖3的俯視，從超過腔室2的-X方向端的領域到超過腔室2的+X方向端的領域為止，使照射單元4往復移動。 　　[0122] 本實施形態的紫外線照射方法是更包含流量調整步驟。 　　在流量調整步驟中，流量調整部68是根據照射部40的溫度來調整通過配管60的至少一部分的氣體的流量。 　　[0123] 另外，本實施形態的紫外線照射方法是更包含氣體供給步驟。 　　在氣體供給步驟中，氣體供給部7是調整腔室2的內部環境的露點。並且，在氣體供給步驟中，氣體供給部7是調整腔室2的內部環境的氧濃度。 　　[0124] 如以上般，若根據本實施形態的紫外線照射方法，則可防止被配置於腔室2的上方之透光性構件23的彎曲，且對於腔室2內的基板10可良好地照射紫外線。 　　[0125] 又，若根據本實施形態，則由於可使照射部及配管60同步移動，因此無以配管60追隨照射部40的移動之方式拉伸的情形。亦即，即使是使照射部40移動的情況，也可抑制過度的負荷施加於配管60。因此，可提升配管60的壽命。 　　[0126] 又，藉由排氣部6更包含：以將配管60可移動地連接且沿著照射部40的移動方向之方式延伸，且具有可排出來自配管60的熱的排氣口63h之排氣箱61，可一面沿著以沿著照射部40的移動方向之方式延伸的排氣箱61的長邊方向來使配管60移動，一面從排氣口63h排出來自配管60的熱。因此，可安定地進行配管60的移動，且可確保從配管60到排氣口63h的熱的排氣路徑。 　　[0127] 又，藉由排氣部6更包含：以沿著照射部40的移動方向之方式延伸且覆蓋排氣箱61的內部空間61s，且可按照配管60的移動來移動的薄板70，由於排氣箱61的內部空間61s會藉由按照配管60的移動而移動的薄板70所覆蓋，因此可抑制來自配管60的熱洩漏至外部。所以，以利用薄板70的簡單的構成，可維持來自配管60的熱的排出效率。 　　[0128] 又，藉由薄板70以沿著照射部40的移動方向之方式，從配管60與排氣箱61的連接部之可動部65延伸至一方側及另一方側，且以連接至環狀的方式藉由相同的構件來一體地形成，可使被形成環狀的薄板70轉動於其周方向。因此，與薄板70被形成為從可動部65直線狀地延伸至一方側及另一方側的情況作比較，可縮小按照配管60的移動來移動的薄板70的移動軌跡。因此，可使裝置小型化。 　　[0129] 又，藉由以薄板70圍繞內部空間61s的方式配置成為沿著排氣箱61的外周，可儘可能地縮小按照配管60的移動來移動的薄板70的移動軌跡，因此可使裝置有效地小型化。 　　[0130] 又，藉由薄板70為樹脂製，可取得以下的效果。與薄板70為金屬製的情況作比較，可輕量化，因此可按照配管60的移動來使薄板70順暢地移動。又，由於可發揮耐氧化性，因此可抑制零件劣化，可提升薄板70的壽命。 　　[0131] 又，藉由排氣部6更包含可調整薄板70的張力之拉緊器79，在薄板70按照配管60的移動來移動時，可抑制薄板70過度地拉伸或過度地彎曲。因此，可更進一步安定進行配管60的移動。 　　[0132] 又，藉由排氣部6更包含：以沿著照射部40的移動方向之方式延伸且引導薄板70，且形成有來自配管60的熱可通過的通過孔64h之引導板64，可在薄板70按照配管60的移動來移動時一面引導薄板70，一面經由引導板64的通過孔64h將來自配管60的熱從排氣口63h排出。因此，可更進一步安定地進行配管60的移動，且可確保從配管60到排氣口63h的熱的排氣路徑。 　　[0133] 又，藉由引導板64之中，配管60與排氣箱61的連接部之可動部65的通過孔64h的開口面積S2為排氣口63h的面積S1以上，可在來自配管60的熱(排氣)通過通過孔64h的前後將排氣的流量維持於一定，因此，可將照射部40的溫度維持於一定。因此，可使從照射部40照射的紫外線的照度分布均一化。 　　[0134] 又，藉由通過孔64h以沿著照射部40的移動方向之方式規則性地複數配置於引導板64，在使照射部40及配管60同步移動的期間，可將配管60與排氣箱61的連接部之可動部65的通過孔64h的開口面積S2經常維持於一定。藉此，在使照射部40及配管60同步移動的期間，可將排氣的流量維持於一定，因此可將照射部40的溫度維持於一定。所以，可使從照射部40照射的紫外線的照度分布經常均一化。 　　[0135] 又，藉由排氣部6更包含可根據照射部40的溫度來調整通過配管60的至少一部分的氣體的流量之流量調整部68，可將排氣的流量調整成為適合於照射部40的溫度，因此可使從照射部40照射的紫外線的照度分布更進一步均一化。 　　[0136] 又，藉由搬送機構5包含可使照射部40及配管60同步移動之共通的驅動源的引導部50，可令照射部40及配管60彙整一次移動，因此與使照射部40及配管60個別獨立地移動的情況作比較，可謀求裝置構成的簡素化。 　　[0137] 又，藉由紫外線照射裝置1更具備可以密閉空間收容基板10的腔室2，照射部40、排氣部6及搬送機構5被設在腔室2的外部，搬送機構5使照射部40及配管60同步來移動於腔室2的外部，可取得以下的效果。 　　[0138] 由於在具有密閉空間的腔室2的內部使基板10靜止的狀態下，一面使照射部40及配管60移動於腔室2的外部，一面可對腔室2的內部的基板10照射紫外線，因此不須考慮伴隨基板10的移動之粒子的發生。又，由於照射部40及配管60的移動是在腔室2的外部進行，因此即使假設隨著照射部40及配管60的移動而產生粒子，也可藉由將腔室2設為密閉空間，迴避粒子侵入至腔室2內。因此，可抑制腔室2內的粒子的發生，可將基板10保持於清淨。 　　[0139] 又，藉由在使基板10靜止的狀態下使照射部40及配管60移動，即使使用平面視大小比照射部40及配管60更大的基板10，也與在使照射部40及配管60靜止的狀態下使基板10移動的情況作比較，可節省在對基板10照射紫外線時所必要的空間，可縮小佔用的空間(footprint)。 　　[0140] 又，由於只要藉由設為在腔室2內使基板10靜止的狀態，腔室2內確保基板10的收容空間即可，因此與在腔室2內使基板10移動的情況作比較，可縮小腔室2的容積，容易管理腔室2內的氧濃度及露點。又，可削減在調整腔室2內的氧濃度時使用的氮的消費量。 　　[0141] 又，藉由搬送機構5包含： 　　以夾著腔室2的方式延伸於照射單元4的移動方向之一對的軌道51(引導部50)；及 　　以跨越腔室2的方式形成門型，且可沿著一對的軌道51來移動之門型框架54， 　　在門型框架54設有保持照射單元4的保持部54c， 　　與沿著一般性的軌道來使照射單元4移動的情況作比較，由於可藉由具有高剛性的門型框架54來使照射單元4沿著一對的軌道51移動，因此可安定地進行照射單元4的移動。 　　[0142] 又，藉由在腔室2的外部設有可冷卻照射單元4的冷卻部(未圖示)，可冷卻照射單元4，因此即使在將紫外線連續照射至基板10時等連續驅動照射單元4時，也可抑制照射單元4過熱。 　　[0143] 又，藉由在腔室2設有可調整腔室2的內部環境的氧濃度及露點之氣體供給部7，可將腔室2的內部環境的氧濃度調整成預定的濃度，因此可在預定的氧濃度的條件下將紫外線照射至基板10。又，由於可將腔室2的內部環境的露點調整成預定的露點，因此可在預定的露點的條件下將紫外線照射至基板10。 　　[0144] 又，藉由在移動步驟中，使照射單元4往復移動於一對的軌道51的-X方向端(一端)與+X方向端(另一端)之間，與在一對的軌道51的一端與另一端之間只使照射單元4移動於一方向的情況作比較，即使將紫外線重複照射於基板10時，也可順暢地效率佳地照射。又，由於只要設置一個的照射單元4即夠，因此可謀求裝置構成的簡素化。 　　[0145] (第1變形例) 　　接著，一邊參照圖面，一邊說明有關上述實施形態的第1變形例。另外，有關與上述實施形態共通的構成是附上同樣的符號，有關構成的詳細的說明是省略。 　　圖14是表示第1變形例的保持構件的平面圖。如圖14所示般，本變形例的保持構件126是包含：延伸於照射單元4的掃描方向的X方向(第1方向)之第1部位127，及延伸於與X方向交叉(正交)的Y方向(第2方向)之第2部位128，第1部位127及第2部位128是彼此交叉。另外，本變形例的保持構件126是保持1760mm×1560mm的透光性構件23者。 　　[0146] 在本變形例中，第1部位127的寬度是在X方向變化，第2部位128的寬度是在Y方向變化。 　　例如，在第1部位127中，兩端部的寬度H1a，H1b是分別被設定成5mm，與第2部位128的交叉部126A及與該交叉部126A鄰接的部分的寬度H1c是被設定成5mm，除此以外的部分的寬度是被設定成為15mm。 　　亦即，第1部位127的寬度是在兩端部相對性地變窄。並且，第1部位127之與交叉部126A鄰接的部分的寬度H1c是相對性地變窄。 　　[0147] 如圖1所示般，透光性構件23是未被設於腔室2的頂板20的全域。因此，藉由照射單元4移動於-X方向來移動腔室2的上方時，從照射單元4照射的紫外線的一部分會藉由位於透光性構件23的+X方向的頂板20而被遮光。並且，同樣，藉由照射單元4移動於-X方向來從腔室2的上方退避時，從照射單元4照射的紫外線的一部分會藉由位於透光性構件23的-X方向的頂板20而被遮光。因此，基板10的X方向的兩端部的紫外線照射量相較於基板中央部的紫外線照射量恐有變少之虞。 　　[0148] 相對於此，若根據本變形例的構成，則相對性地縮小第1部位127的兩端部的寬度H1a，H1b。藉此，可藉由減少第1部位127之紫外線的遮蔽量來確保基板10的X方向兩端部的紫外線照射量。因此，可使基板10上的X方向的紫外線的照度分布更均一化。 　　[0149] 而且，基板10的紫外線照射量是在最容易受保持構件126的影響的第1部位127及第2部位128的交叉部分的正下面形成最小。相對於此，若根據本變形例的構成，則相對性縮小第1部位127及第2部位128的交叉部126A及與該交叉部126A鄰接的部分的寬度H1c。藉此，可藉由減少第1部位127及第2部位128的交叉部126A之紫外線的遮蔽量來使基板10上的紫外線的照度分布更均一化。 　　[0150] 並且，在第2部位128中，兩端部的寬度H2a，H2b是分別被設定成5mm，與第1部位127的交叉部126A及與該交叉部126A鄰接的部分的寬度H2c是被設定成5mm，除此以外的部分的寬度是被設定成10mm。亦即，第2部位128的寬度是在兩端部相對性地變窄。又，與第2部位128的交叉部126A鄰接的部分的寬度H2c是相對性地變窄。 　　[0151] 在此，照射單元4是在Y方向具有長尺狀的形狀。由如此的長尺形狀所成的照射單元4是在其構造上，兩端部的紫外線照度會相對性變低。因此，基板10的Y方向的兩端部的紫外線照射量是相較於基板中央部的紫外線照射量恐有變少之虞。 　　[0152] 相對於此，若根據本變形例的構成，則相對性地縮小第2部位128的兩端部的寬度H2a，H2b。藉此，可藉由減少保持構件126的紫外線的遮蔽量來確保從照射單元4照射的紫外線量相對性少的基板10的Y方向兩端部的紫外線照射量。因此，可使基板10上的Y方向的紫外線的照度分布更均一化。 　　[0153] 另外，在本變形例中，設為相對性地縮小第1部位127的兩端部的寬度H1a，H1b之構成，但亦可設為只縮小一方的端部的寬度之構成。又，設為相對性地縮小第2部位128的兩端部的寬度H2a，H2b之構成，但亦可設為只縮小一方的端部的寬度之構成。並且，在與第1部位127及第2部位128的交叉部鄰接的部分，設為相對性地縮小第1部位127及第2部位128的兩方的寬度之構成，但亦可設為只縮小與第1部位127及第2部位128的任一方的交叉部鄰接的部分之構成。 　　[0154] (第2變形例) 　　接著，一邊參照圖面，一邊說明有關上述實施形態的第2變形例。 　　圖15是表示第2變形例的保持構件的平面圖。如圖15所示般，本變形例的保持構件226是包含：延伸於照射單元4的掃描方向的X方向(第1方向)之第1部位227，及延伸於與X方向交叉(正交)的Y方向(第2方向)之第2部位228，第1部位227及第2部位228是彼此交叉。 　　[0155] 在本變形例中，第1部位227的寬度是在X方向變化，第2部位228的寬度是在Y方向變化。在第1部位227及第2部位228中，寬度連續性地變化。 　　[0156] 例如，第1部位227是寬度的最大值為15mm，寬度的最小值為5mm。具體而言，第1部位227是兩端部的寬度H1a，H1b的最小值會分別被設定成5mm，與第2部位228的交叉部226A的寬度H1c的最小值會被設定成5mm。第1部位227是交叉部226A與兩端部之間分別具有成為寬度的最大值(15mm)的一定寬度部分227a。第1部位227是在一定寬度部分227a與交叉部226A之間寬度會連續性地變化。 　　[0157] 若根據本變形例的構成，則除了與上述第1變形例同樣的效果之外，還可藉由使寬度連續性地變化來使保持構件226的機械性的強度提升。因此，若根據本變形例的保持構件226，則無使彎曲產生於透光性構件23的情形，可確實地保持。 　　[0158] (第3變形例) 　　接著，一邊參照圖面，一邊說明有關上述實施形態的第3變形例。圖16是表示第3變形例的保持構件326的平面圖，圖17是表示依據圖16的A-A線箭號所視的保持構件326的要部剖面構成的圖。 　　[0159] 如圖16所示般，本變形例的保持構件326是包含：延伸於照射單元4的掃描方向的X方向(第1方向)之第1部位327，延伸於與X方向交叉(正交)的Y方向(第2方向)之第2部位328，第1部位327及第2部位328是彼此交叉。 　　[0160] 另外，在本變形例中也將保持構件326與透光性構件23所平面性重疊的比例形成透光性構件23的面積的10%以下。藉此，可減低從照射單元4照射的紫外線之保持構件326的遮蔽量。 　　[0161] 如圖17所示般，第1部位327是具有複數的支撐部329。各支撐部329的剖面形狀是大致L字狀，包含第一支撐部329a及第二支撐部329b。在本變形例中，第1部位327是以和第2部位328的交叉部326A作為基準，以符合點對稱的關係之方式形成有複數的支撐部329。 　　[0162] 第一支撐部329a是與XY平面平行地配置，藉此支撐透光性構件23的下面。在第一支撐部329a與透光性基板23a之間是設有密封構件330。密封構件330是消除在第一支撐部329a與透光性基板23a之間產生的間隙者。第二支撐部329b是用以規制透光性基板23a的端面的位置者，亦可接觸於透光性基板23a，或亦可不接觸。 　　[0163] 複數的支撐部329是沿著X方向來配置。相鄰的支撐部329彼此間是以第二支撐部329b來連接，從Z方向為平面時，第一支撐部329a相對於第二支撐部329b的Y方向的位置成為逆向。 　　[0164] 第2部位328是由與第1部位327相同的構成所成，具有複數的支撐部331。各支撐部331的剖面形狀是大致L字狀，包含第一支撐部331a及第二支撐部331b。在本變形例中，第2部位328是以和第1部位327的交叉部326A作為基準，以符合點對稱的關係之方式形成有複數的支撐部331。 　　[0165] 第一支撐部331a是藉由與XY平面平行配置來支撐透光性構件23的下面。在第一支撐部331a與透光性基板23a之間是設有密封構件(未圖示)。 　　[0166] 複數的支撐部331是沿著Y方向來配置。相鄰的支撐部331彼此間是以第二支撐部331b來連接，從Z方向為平面時，第一支撐部331a相對於第二支撐部331b的X方向的位置成為逆向。 　　[0167] 在本變形例中，第1部位327及第2部位328是交叉。具體而言，第1部位327及第2部位328是在第二支撐部329b及第二支撐部331b交叉。藉此，減低來自照射單元4之紫外線的遮蔽量。又，由於第1部位327及第2部位328是以交叉部326A作為基準，以符合點對稱的關係之方式形成，因此可將交叉部326A的附近的紫外線的遮蔽量設為同程度。 　　[0168] 若根據本變形例的保持構件326，則在防止透光性構件23的彎曲之狀態下保持，且可抑制從照射單元4照射的紫外線的遮蔽量。 　　[0169] (第4變形例) 　　接著，一邊參照圖面，一邊說明有關上述實施形態的第4變形例。 　　圖18是表示藉由第4變形例的保持構件426來保持的透光性構件23的周邊構成的平面圖，圖19是依據圖18的B-B線箭號所視的要部剖面構成的圖。 　　[0170] 如圖18所示般，本變形例的保持構件426是具有：4條的金屬線(線狀構件)427，及框狀的支撐構件428。金屬線427是由例如SUS等的金屬製所成，具有1φ~10φ，較理想是1φ~5φ的粗度。金屬線427是以預定的張力來拉伸，藉此支撐透光性基板23a的下面。 　　[0171] 亦可在金屬線427的表面施以例如特氟龍(Teflon)(註冊商標)塗層等的表面塗層。若形成如此般，則如後述般即使金屬線427接觸於透光性基板23a的情況，也不會有對透光性基板23a的表面造成創傷等的損傷的情形。 　　[0172] 在本變形例中，金屬線427是包含：延伸於Y方向(預定方向)的第1金屬線427a及第2金屬線427b，和延伸於X方向的第3金屬線427c及第4金屬線427d。金屬線427a、427b是保持構成透光性構件23的4片的透光性基板23a之中，在Y方向相鄰的一對(2片)的透光性基板23a的下面。金屬線427a是相對於金屬線427b被配置於+X側。 　　[0173] 金屬線427a是保持靠透光性基板23a的-X側的下面，金屬線427b是保持靠透光性基板23a的+X側的下面。亦即，金屬線427a，427b是保持由4個的透光性基板23a所成的透光性構件23的中央部的附近。 　　[0174] 並且，金屬線427c、427d是保持構成透光性構件23的4片的透光性基板23a之中，在X方向相鄰的一對(2片)的透光性基板23a的下面側。金屬線427c是相對於金屬線427d被配置於+Y側。 　　在變形例中，金屬線427c，427d是相對於金屬線427a，427b被配置於下方(-Z側)。亦即，金屬線427c，427d是經由金屬線427a，427b來保持透光性基板23a的下面。 　　[0175] 金屬線427c是保持靠透光性基板23a的-Y側的下面，金屬線427d是保持靠透光性基板23a的+Y側的下面。亦即，金屬線427c，427d是保持由4個的透光性基板23a所成的透光性構件23的中央部的附近。 　　[0176] 支撐構件428是框狀地支撐4個的透光性基板23a的側端部。如圖19所示般，支撐構件428是包含框架部428a及彈壓構件428b。框架部428a是由與透光性基板23a的側端部23a1對向的板狀的構件所成，支撐彈壓構件428b。彈壓構件428b是由對於透光性基板23a的側端部23a1賦予彈壓力的構件所成。在本變形例中，彈壓構件428b是由例如板彈簧所構成。另外，彈壓構件428b是無須遍及透光性基板23a的側端部23a1的全周而設，只要被設成為至少從不同的2方向來彈壓各透光性基板23a的側端部23a1即可。 　　[0177] 藉此，對向的透光性基板23a的端面23a2彼此間是成為抵接的狀態。另外，若調整彈壓構件428b的彈壓力，則可調整透光性基板23a的端面23a2間的緊貼度。藉此，藉由控制透光性基板23a的端面23a2間的間隙量，可控制藉由透光性構件23之腔室2(參照圖1)的密閉度。亦即，可將腔室2內維持於所望的露點。並且，在本變形例的構成中，為了提高腔室2的密閉度，只要在透光性基板23a的端面配置橡膠等的密封構件即可。 　　[0178] 可是，透光性構件23會藉由紫外線的熱而產生熱伸展。若根據本變形例，則由於使用作為彈壓構件428b的板彈簧，因此即使產生熱伸展時，也可以板彈簧來吸收熱伸展所造成的變位，藉此可安定保持透光性基板23a。 　　[0179] 又，由於採用以彈壓構件428b(板彈簧)來壓住透光性基板23a的構造，因此可容易進行透光性基板23a的卸下或清掃的維修作業。 　　[0180] 在此，透光性構件23是在各透光性基板23a的抵接部分，亦即中央部容易產生彎曲。對於此，若根據本變形例的保持構件426，則藉由拉伸金屬線427，可良好地保持透光性構件23。具體而言，藉由以4條的金屬線427a~427d來保持透光性構件23的中央部的附近，可減低透光性構件23的彎曲。 　　[0181] 又，若根據本變形例的保持構件426，則由於以金屬線427來保持透光性基板23a，因此可抑制從照射單元4照射的紫外線的遮蔽量。又，由於金屬線427是一定的粗度，因此不易在紫外線的遮蔽量產生偏差，所以可在基板上以均一性高的狀態來照射紫外線。特別是在本變形例中，金屬線427會沿著與照射單元4的掃描方向的X方向交叉的Y方向來延伸，所以相較於金屬線427延伸於X方向的情況，金屬線427不會經常位於照射單元4的正下面。因此，如上述般，可減低紫外線的遮蔽量。 　　另外，在本變形例中，保持構件426是舉具有4條的金屬線427的情況為例，但金屬線427的數量是不限於此，例如，亦可為2條、6條、8條。 　　[0182] (第5變形例) 　　其次，利用圖20來說明有關實施形態的第5變形例。 　　圖20是表示實施形態的排氣部的第5變形例的側面圖。另外，在圖20中是省略排氣箱61的各壁、引導板64等的圖示。 　　如圖20所示般，在本變形例中，相對於實施形態，薄板170為具備第一薄板170A及第二薄板170B的點尤其不同。在圖20中，對於和實施形態同樣的構成是附上同樣的符號，其詳細的說明是省略。 　　[0183] 如圖20所示般，第一薄板170A是以沿著照射部40的移動方向之方式，從配管60與排氣箱61的連接部之可動部65延伸至一方側(+X方向側)。第一薄板170A的一端部的側是被捲繞於第一驅動滾輪171。第一薄板170A的另一端部是經由第一卡止部66來卡止於基底部65a的+X方向側的端部。 　　[0184] 第二薄板170B是以沿著照射部40的移動方向之方式，從可動部65延伸至另一方側(-X方向側)。第二薄板170B是被構成可與第一薄板170A同步移動。第二薄板170B的一端部的側是被捲繞於第二驅動滾輪172。第二薄板170B的另一端部是經由第二卡止部67來卡止於基底部65a的-X方向側的端部。 　　[0185] 第一驅動滾輪171是被構成可繞著延伸於Y方向的第一驅動軸171a轉動。第二驅動滾輪172是被構成可繞著延伸於Y方向的第二驅動軸172a轉動。在圖20中顯示，第一驅動滾輪171會轉動於箭號J1的方向，且第二驅動滾輪172會轉動於箭號J2的方向，藉此第一薄板170A及第二薄板170B會在-X方向(箭號K的方向)同步移動的狀態。 　　[0186] 若根據本變形例，則可使第二薄板170B與第一薄板170A同步移動，因此可更進一步安定進行配管60(參照圖1)的移動。 　　[0187] (第6變形例) 　　圖21是表示第6變形例的排氣部的側面圖。另外，在圖21中是省略排氣箱61的各壁等的圖示。 　　如圖21所示般，在本變形例中，相對於實施形態，薄板70為掛在一對的搬送滾輪180的狀態下，構成可移動成為沿著照射部40的移動方向的點尤其不同。在圖21中，對於和實施形態同樣的構成是附上同樣的符號，其詳細的說明是省略。 　　[0188] 一對的搬送滾輪180是在X方向取間隔的狀態下，被構成可移動於X方向。在藉由一對的搬送滾輪180、薄板70及引導板64所包圍的部分是形成有來自配管60的熱可通過的空間之通過部180h。通過部180h是經由引導板64的通過孔64h來連通至排氣箱61的內部空間61s(參照圖11)。 　　[0189] 例如，藉由一對的搬送滾輪180經常取一定的間隔，可將通過通過部180h的氣體的流量維持於一定。另一方面，藉由增減一對的搬送滾輪180的間隔，可調整通過通過部180h的氣體的流量。 　　[0190] 另外，在上述的例子中所示的各構成構件的諸形狀或組合等為一例，可根據設計要求等實施各種變更。 　　例如，在上述實施形態中，舉透光性構件23是由複數的透光性基板23a所構成的情況為例，但透光性構件23是亦可使用1片大型的透光性基板來構成。此情況，也藉由使用保持構件26來保持於腔室2，可抑制在由大型基板所成的透光性構件23產生彎曲。 　　[0191] 又，在上述實施形態中，將腔室2設為一個，但不限於此，即使將腔室2設置二個以上的複數個也無妨。 　　[0192] 又，在上述實施形態中，舉引導板64的通過孔64h的俯視形狀為圓形的例子進行說明，但不限於此。例如，引導板64的通過孔64h的俯視形狀是亦可為橢圓形，或三角形、四角形等的多角形。又，舉引導板64為穿孔金屬板的例子進行說明，但不限於此，亦可為俯視形成梯子狀的構件。亦即，引導板64的形狀是可按照設計規格來採用各種的形狀。 　　[0193] 又，在上述實施形態中，舉流量調整部68為被構成可調整通過配管60的至少一部分的氣體的流量之例進行說明，但不限於此。例如，流量調整部68是亦可被構成可調整通過排氣箱61的至少一部分的氣體的流量。亦即，流量調整部68是只要被構成可調整配管60及排氣箱61的至少一部分的氣體的流量即可。 　　[0194] 另外，在上述中作為實施形態或其變形例記載的各構成要素是可在不脫離本發明的主旨的範圍適當組合，且亦可適當不用被組合的複數的構成要素之中一部分的構成要素。

[0195]1‧‧‧紫外線照射裝置10‧‧‧基板2‧‧‧腔室(收容部)5‧‧‧搬送機構(移動部)6‧‧‧排氣部40‧‧‧照射部50‧‧‧引導部(驅動源)60‧‧‧配管61‧‧‧排氣箱61s‧‧‧內部空間63h‧‧‧排氣口64‧‧‧引導板64h‧‧‧通過孔65‧‧‧可動部(連接部)68‧‧‧流量調整部70‧‧‧薄板79‧‧‧拉緊器170A‧‧‧第一薄板170B‧‧‧第二薄板S1‧‧‧排氣口的面積S2‧‧‧通過孔的開口面積

[0023] 　　圖1是實施形態的紫外線照射裝置的立體圖。 　　圖2是實施形態的紫外線照射裝置的俯視圖。 　　圖3是包含圖2的III-III剖面圖之實施形態的紫外線照射裝置的側面圖。 　　圖4是表示保持構件的要部構成的剖面圖。 　　圖5是表示保持構件的平面構成的圖。 　　圖6是表示使用於實驗的透光性基板的平面圖。 　　圖7是表示使用於實驗的透光性基板的平面圖。 　　圖8是表示使用於實驗的透光性基板的平面圖。 　　圖9是實施形態的排氣部的立體圖。 　　圖10是實施形態的排氣部的俯視圖。 　　圖11是包含圖10的VI-VI剖面之實施形態的排氣部的側面圖。 　　圖12是圖10的VII-VII剖面圖。 　　圖13是圖11的VIII-VIII剖面圖。 　　圖14是第1變形例的保持構件的要部剖面圖。 　　圖15是第2變形例的保持構件的要部剖面圖。 　　圖16是第3變形例的保持構件的平面圖。 　　圖17是依據圖16的A-A線箭號所視的保持構件的要部剖面圖。 　　圖18是表示被保持於第4變形例的保持構件之透光性構件的周邊構成的平面圖。 　　圖19是依據圖18的B-B線箭號所視的要部剖面圖。 　　圖20是表示第5變形例的排氣部的側面圖。 　　圖21是表示第6變形例的排氣部的側面圖。

1‧‧‧紫外線照射裝置

2‧‧‧腔室(收容部)

3‧‧‧平台

4‧‧‧照射單元(照射部)

4a‧‧‧照射面

5‧‧‧搬送機構(移動部)

6‧‧‧排氣部

7‧‧‧氣體供給部

8‧‧‧控制部

10‧‧‧基板

20‧‧‧頂板

20h‧‧‧開口部

21‧‧‧周壁

21a‧‧‧基板搬出入口

22‧‧‧底板

23‧‧‧透光性構件

25‧‧‧昇降機構

25a‧‧‧昇降銷

25b‧‧‧驅動源

26‧‧‧保持構件

31‧‧‧架台

31a‧‧‧車輪

40‧‧‧照射部

41‧‧‧集光構件

50‧‧‧引導部(驅動源)

51‧‧‧軌道

52‧‧‧滑塊

53‧‧‧台基

54‧‧‧門型框架

54a‧‧‧門柱部

54b‧‧‧連結部

54c‧‧‧保持部

60‧‧‧配管

61‧‧‧排氣箱

Claims (12)

1. 一種紫外線照射裝置，其特徵係具備：基板收容部，其係可在密閉空間收容基板；照射部，其係將預定的波長域的紫外線照射至前述基板；透光性構件，其係被設在前述基板收容部，使從前述照射部照射的前述紫外線透過；保持構件，其係將前述透光性構件保持於前述基板收容部；及驅動裝置，其係使前述基板收容部與前述照射部相對移動，前述保持構件與前述透光性構件所平面性重疊的比例為前述透光性構件的面積的10%以下，前述透光性構件係由複數的透光性基板所構成，前述保持構件，係包含：沿著一方向延伸，保持前述透光性基板的表面之線狀構件，及框狀地保持前述複數的透光性基板的側端部之支撐構件，前述支撐構件，係以使對向的前述透光性基板的端面彼此間抵接之方式，對前述複數的透光性基板賦予彈壓力。
2. 如申請專利範圍第1項之紫外線照射裝置，其中，前述透光性構件的材料為石英。
3. 如申請專利範圍第1或2項之紫外線照射裝置，其中，前述照射部，係照射200nm~450nm的波長域的光，作為前述紫外線。
4. 如申請專利範圍第1或2項之紫外線照射裝置，其中，前述保持構件，係包含：延伸於前述基板收容部及前述照射部所相對移動的第1方向之第1部位，及延伸於與前述第1方向交叉的第2方向之第2部位。
5. 如申請專利範圍第4項之紫外線照射裝置，其中，前述第1部位的前述第2方向的寬度為15mm以下，前述第2部位的前述第1方向的寬度為15mm以下。
6. 如申請專利範圍第4項之紫外線照射裝置，其中，前述第1部位的寬度，係於前述第1方向變化，前述第2部位的寬度，係於前述第2方向變化。
7. 如申請專利範圍第6項之紫外線照射裝置，其中，前述第1部位的寬度，係至少在一方的端部相對性變窄。
8. 如申請專利範圍第6項之紫外線照射裝置，其中，前述第2部位的寬度，係至少在一方的端部相對性變窄。
9. 如申請專利範圍第6項之紫外線照射裝置，其中，前述第1部位及前述第2部位係被設成為互相交叉，前述第1部位及前述第2部位的至少在交叉部及與前述交叉部鄰接的部分的寬度，係相對性變窄。
10. 如申請專利範圍第6項之紫外線照射裝置，其中，在前述第1部位及前述第2部位中，寬度連續性地變化。
11. 一種紫外線照射方法，其特徵為包含：一邊使照射預定的波長域的紫外線之照射部與基板相對移動，一邊將前述紫外線照射至基板的照射步驟，在前述照射步驟中，經由藉由保持構件所保持的透光性構件來將前述紫外線照射至前述基板，前述保持構件與前述透光性構件所平面性重疊的比例為前述透光性基板的一方面的面積的10%以下，前述透光性構件係由複數的透光性基板所構成，前述保持構件，係包含：沿著一方向延伸，保持前述透光性基板的表面之線狀構件，及框狀地保持前述複數的透光性基板的側端部之支撐構件，前述支撐構件，係以使對向的前述透光性基板的端面彼此間抵接之方式，對前述複數的透光性基板賦予彈壓力。
12. 如申請專利範圍第11項之紫外線照射方法，其中，在 前述照射步驟中，照射200nm~450nm的波長域的光，作為前述紫外線。

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