JP2018124356A

JP2018124356A - 処理装置

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Publication number: JP2018124356A
Application number: JP2017015018A
Authority: JP
Inventors: 田中　大作; Daisaku Tanaka; 大作田中
Original assignee: Iwasaki Denki KK
Current assignee: Iwasaki Denki KK
Priority date: 2017-01-31
Filing date: 2017-01-31
Publication date: 2018-08-09
Anticipated expiration: 2037-01-31
Also published as: KR20200067235A; JP6885081B2

Abstract

【課題】装置を大型化することなく、処理対象表面の全体に均斉度良く光を照射することができる紫外線処理装置を提供する。【解決手段】光源１０の紫外線を処理対象表面２Ａに照射して処理する紫外線処理装置１において、光源１０は、移動速度を変化させながらスライド移動し、処理対象表面２Ａの全体に紫外線を照射する。【選択図】図３

Description

本発明は、処理対象表面に紫外線を照射して処理する紫外線処理装置に関する。

従来、液晶滴下工法による液晶パネルの製造工程や有機発光ダイオードパネルの封止工程で用いられ、シール材に紫外線を照射してシール材を硬化させる紫外線処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。これらの紫外線処理装置では、処理対象のパネルが大型化しても、装置を大型化することなくパネル全体に紫外線を照射するために、光源を受光面に対して相対移動させながら受光面に紫外線を照射している。

特開２０１３−２０６８５８号公報

ところで、光源を受光面に対して相対移動させながら受光面に紫外線を照射する方法では、処理対象側の状態が一定でなければ、処理対象表面に均一に光を照射することができない。しかしながら、処理対象のパネルの大型化が進んだことによって、様々な理由から光源と処理対象表面との間の被照射側の状態を一定にすることができず、処理対象表面の全体に均斉度良く光を照射することが困難になっている。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、装置を大型化することなく、処理対象表面の全体に均斉度良く光を照射することができる紫外線処理装置を提供することを目的とする。

上述した目的を達成するために、本発明は、光源の紫外線を処理対象表面に照射して処理する紫外線処理装置において、前記光源は、移動速度を変化させながらスライド移動し、前記処理対象表面の全体に紫外線を照射するように構成されている。

上述の構成の紫外線処理装置において、前記光源は、直管型のランプを備え、前記ランプの長手方向に直交する方向にスライド移動しても良い。

上述の構成の紫外線処理装置において、前記ランプの長手方向に直交する方向に延び、前記光源をスライド移動可能に保持するレールを備えても良い。

上述の構成の紫外線処理装置において、前記光源は、スライド移動の開始部分及び終了部分において移動速度が遅く設定され、前記処理対象表面における積算光量を増やすように構成されても良い。

上述の構成の紫外線処理装置において、ワークが配置される処理室を構成するケース体を備え、前記ケース体に設けられた入射開口を覆う石英板は、前記光源のスライド移動方向に複数に分割されており、隣合う前記石英板の間の繋ぎ目を塞ぐ桟を備え、前記桟の影響を受ける部分では、前記光源の移動速度が遅くなるよう設定されても良い。

上述の構成の紫外線処理装置において、前記光源には、空冷ダクトが接続されても良い。

上述の構成の紫外線処理装置において、前記レールは、前記光源と前記空冷ダクトとを一体にスライド移動可能に保持するように構成されても良い。

上述の構成の紫外線処理装置において、前記光源を、前記ランプの長手方向に一列に複数並べても良い。

本発明によれば、光源は、移動速度を変化させながらスライド移動するため、被照射側の状態に応じて移動速度を変化させ、処理対象表面の各部での積算光量を可変にすることができ、処理対象表面の全体に均斉度良く光を照射することができる。

本発明の実施形態の紫外線処理装置を模式的に示す斜視図である。紫外線処理装置を側面側から視た断面図である。紫外線処理装置を正面側から視た断面図である。光源を移動させている状態を示す部分透視図であり、（Ａ）は光源が位置Ａにある状態を示し、（Ｂ）は光源が位置Ｂにある状態を示す図である。光源の移動速度と、処理対象表面の各部における積算光量の例を示す図であり、図５（Ａ）は光源の移動速度を示し、図５（Ｂ）処理対象表面の各部における積算光量を示す図である。光源の移動速度と、処理対象表面の各部における積算光量の例を示す図であり、図６（Ａ）は光源の移動速度を示し、図６（Ｂ）処理対象表面の各部における積算光量を示す図である。光源の移動速度と、処理対象表面の各部における積算光量の例を示す図であり、図７（Ａ）は光源の移動速度を示し、図７（Ｂ）処理対象表面の各部における積算光量を示す図である。光源の移動速度と、処理対象表面の各部における積算光量の例を示す図であり、図８（Ａ）は光源の移動速度を示し、図８（Ｂ）処理対象表面の各部における積算光量を示す図である。変形例の紫外線処理装置を模式的に示す斜視図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図１は、本実施形態の紫外線処理装置１を模式的に示す図である。図２は、紫外線処理装置１を側面側から視た断面図、図３は紫外線処理装置１を正面側から視た断面図である。
図１〜図３に示すように、紫外線処理装置１は、光源１０と、処理室５０とを備えている。紫外線処理装置１は、光源１０から照射される紫外線を処理室５０内に配置されるワーク２の表面である処理対象表面２Ａに照射して処理する装置である。例えば紫外線処理装置１は、液晶パネル等の基板をワーク２とし、ワーク２に光を照射することで、ワーク２の貼り付けや液晶封止に用いる光硬化性樹脂を硬化する光硬化装置として使用することができる。

光源１０は、上面に出射開口１２を有するランプ筐体１１内に直管型の高出力な紫外線ランプ１３を備えている。紫外線ランプ１３は、管長がワーク２の短辺Ｌ以上の長さに設定されている。また、管長が長いロングアークのランプを紫外線ランプ１３に用いることで大型のワーク２に紫外線を照射可能にすることができる。また、光源１０は、ランプ筐体１１内に反射板１４を備えている。反射板１４は、紫外線ランプ１３の放射光を制御して、効率よく出射開口１２から紫外線ランプ１３の紫外線を出射させる。出射開口１２は、光透過性の薄板１９で閉封されている。紫外線ランプ１３の紫外線は、薄板１９を透過して処理室５０内に配置されたワーク２に照射される。当該実施例では、紫外線は下から上へ向けて照射される。なお、薄板１９は、透明板であっても良いし、波長選択フィルターである構成でも良い。

処理室５０は、下面に平面視略矩形の入射開口５２を有するケース体５１を備え、ケース体５１内にワーク２を挿抜可能に収めている。ケース体５１は、支柱５７によって光源１０の上方に設置されている。ケース体５１内に収められたワーク２の処理対象表面２Ａには、下方から紫外線ランプ１３の紫外線が照射されるように構成されている。
ケース体５１内には、ワーク２を支持する石英バー５５が複数設けられている。複数の石英バー５５（本実施形態では６本）は、紫外線ランプ１３の軸線方向に直交するランプ幅方向に互いに所定の間隔で並列に並べられている。また、ケース体５１の入射開口５２は、石英板５３で覆われている。石英板５３の上方には、入射開口５２と、ワーク２との間に、紫外線ランプ１３の紫外線を制御して、効率よくワーク２に照射させる補助反射板５４が配置されている。

入射開口５２を覆う石英板５３は、複数に分割されている。このように石英板５３を複数に分割することで、ワーク２の大型化によって大きくなったケース体５１の入射開口を石英板５３で覆うことができる。本実施形態では、石英板５３は、ケース体５１の長手方向（紫外線ランプ１０の軸線方向に直交するランプ幅方向）に複数に分割されている。ケース体５１には、複数に分割された石英板５３の間の繋目を塞ぐ桟５６が設けられている。桟５６は、複数に分割された石英板５３の繋目を覆って塞ぐように、入射開口５２を挟んで、ケース体５１に架け渡されている。また、石英板５３の繋目を塞ぐ桟５６は、紫外線ランプ１３の軸線方向に平行に設けられている。

光源１０には、ランプ筐体１１の下面を貫通する吸気ダクト１５と、排気ダクト１６とが接続されている。吸気ダクト１５と、排気ダクト１６とは、光源１０を空冷するための空冷ダクトである。ランプ筐体１１の内部には、吸気ダクト１５を介して紫外線ランプ１３及び反射板１４を空冷する冷却空気が導入される。また、ランプ筐体１１の内部で紫外線ランプ１３及び反射板１４を空冷した冷却空気は、排気ダクト１６を介してランプ筐体１１から排気される。吸気ダクト１５及び排気ダクト１６には、紫外線処理装置１の外部に連通する例えばフレキシブルダクトから構成される不図示の吸排気配管が接続されている。また、図示は省略するが、吸気ダクト１５、或いは、排気ダクト１６には、送風ファンやエアーポンプなどのランプ筐体１１内に空気の流れを形成する送風装置が接続されている。

光源１０は、吸気ダクト１５及び排気ダクト１６と一体に支持台座１７に支持されて、ユニットケース２０内に収められている。ユニットケース２０は、ケース体５１より幅及び長さが大きい矩形の箱体であり、ケース体５１の入射開口５２に対応する位置に開口２１を有している。

支持台座１７は、一対の柱部１７Ａと、一対の柱部１７Ａを連結する台部１７Ｂとが一体に形成されて構成されている。一対の柱部１７Ａは、ランプ筐体１１の長手を挟む両端部に固定されて、ランプ筐体１１を持ち上げるように支持している。柱部１７Ａは、ランプ筐体１１の下面から、ユニットケース２０の底面２０Ａ近傍まで延びている。台部１７Ｂは、ユニットケース２０の底面２０Ａの近傍で紫外線ランプ１３の軸線方向に沿って、一対の柱部１７Ａ間に亘って延びている。

吸気ダクト１５及び排気ダクト１６は、ランプ筐体１１と、支持台座１７との間の空間を通して、ランプ筐体１１に接続されている。
図４に示すように、支持台座１７は、ユニットケース２０の底面２０Ａに設けられたレール１８の上にスライド移動可能に支持されている。レール１８は、ランプ筐体１１の長手を挟む両端に夫々、ユニットケース２０の長手に亘って延びるように設けられている。光源１０は、支持台座１７によって支持されて、支持台座１７が一対のレール１８の上をスライド移動することで、ユニットケース２０内を紫外線ランプ１３の軸線方向に直行する方向にスライド移動可能に構成されている。支持台座１７は、防振構造となっており、支持台座１７がレール１８の上をスライド移動する際の振動が、光源１０に伝わらない構成となっている。

また、光源１０は、ランプ筐体１１の内部に冷却空気を循環させる吸気ダクト１５及び排気ダクト１６と一体に、支持台座１７によって、レール１８に沿ってスライド移動可能に構成されている。なお、ワーク２の処理対象表面２Ａは略平らな面であり、光源１０は、紫外線ランプ１３と、処理対象表面２Ａと距離が略一定のままでスライド移動される。このように、光源１０は、紫外線ランプ１３とワーク２の処理対象表面２Ａとが平行な状態を保ったままで、紫外線ランプ１３の紫外線を処理対象表面２Ａに照射しながらスライド移動することができるように構成されている。よって、ワーク２の処理対象表面２Ａの全体に紫外線ランプ１３の紫外線を照射することができる。

例えば、ワーク２の処理対象表面２Ａの全体に紫外線を一括照射するために、複数の紫外線ランプからの光を処理対象表面２Ａに照射した場合には、個々の紫外線ランプのばらつきによって、ワーク２の全体に均一に紫外線を照射するのは難しい。これに対して、一灯の紫外線ランプ１３の紫外線を、紫外線ランプ１３をスライド移動させながらワーク２の処理対象表面２Ａに照射した場合には、紫外線ランプ間のばらつきによる問題はない。しかしながら、一灯の紫外線ランプ１３の紫外線をワーク２の処理対象表面２Ａに照射しても処理対象表面２Ａの各部における積算光量にばらつきが生じることが判明した。

図５（Ａ）は、処理対象表面２Ａの各部における、光源１０をスライド移動させる移動速度の一例を示す図であり、光源１０を一定速度で移動させた場合を示している。図５（Ｂ）は、図５（Ａ）に示した一定速度で光源１０をスライド移動させながら紫外線ランプ１３の紫外線をワーク２の処理対象表面２Ａに照射した際の、処理対象表面２Ａの各部における積算光量を示す図である。
ワーク２の外側から光源１０をスライド移動させるような装置構成とすることができれば、光源１０のスライド移動の開始部分と、終了部分とで積算光量が低くなることはない。しかしながら、ワーク２が大型である場合には、ワーク２の外側から光源１０をスライド移動させるような装置構成とするためには、装置をさらに大型化する必要がある。本実施形態の紫外線処理装置１では、装置の大型化を防ぐために、ワーク２の一端部から光源１０のスライド移動を開始させ、ワーク２の他端部で光源１０のスライド移動を終了させている。つまり、紫外線ランプ１３の軸線が、すでにワーク２の一端から内側に寄った状態から処理対象表面２Ａへの照射が始まる。また、紫外線ランプ１３の軸線が、ワーク２の他端から内側に寄った状態で処理対象表面２Ａへの照射が終了する。そのため、図５（Ａ）、図５（Ｂ）に示したように、光源１０を一定の速度でスライド移動させた際には、光源１０のスライド移動の開始部分と、終了部分とで積算光量が低くなってしまう。

図６（Ａ）は、処理対象表面２Ａの各部における、光源１０をスライド移動させる移動速度の一例を示す図であり、積算光量が低くなる、光源１０のスライド移動の開始部分と、終了部分とで、光源１０の移動速度が遅くなるように設定した場合を示している。図６（Ｂ）は、図６（Ａ）に示した移動速度で光源１０をスライド移動させながら紫外線ランプ１３の紫外線をワーク２の処理対象表面２Ａに照射した際の、処理対象表面２Ａの各部における積算光量を示す図である。図６（Ａ）、図６（Ｂ）に示すように、光源１０のスライド移動の開始部分と、終了部分とで光源１０の移動速度を遅くすることで、ワーク２の処理対象表面２Ａの端（ランプ短手方向の−１１００〜−９００、９００〜１１００の範囲）の積算光量が多くなり、光源１０のスライド移動の開始部分と、終了部分とで積算光量が低くなってしまうという問題は解決された。しかし、光源１０のスライド移動の開始部分と、終了部分とに隣接する範囲（ランプ短手方向の−９００〜−６００、６００〜９００の範囲）では積算光量が多くなりすぎであった。

図７（Ａ）は、処理対象表面２Ａの各部における、光源１０をスライド移動させる移動速度の一例を示す図であり、積算光量が多くなりすぎる部分では、光源１０の移動速度が速くなるように設定した場合を示している。図７（Ｂ）は、図７（Ａ）に示した移動速度で光源１０をスライド移動させながら紫外線ランプ１３の紫外線をワーク２の処理対象表面２Ａに照射した際の、処理対象表面２Ａの各部における積算光量を示す図である。図７（Ａ）、図７（Ｂ）に示すように、移動速度を遅く設定した光源１０のスライド移動の開始部分と、終了部分とに隣接する範囲であって、積算光量が多くなりすぎる範囲においては光源１０の移動速度を速く設定し、積算光量を下げるようにしている。このように、処理対象表面２Ａの各部での積算光量に応じて光源１０のスライド移動の移動速度を可変にすることで、処理対象表面２Ａでの積算光量の偏りを低減することができる。よって、処理対象表面２Ａ全体での均斉度を向上することができる。

ところで、紫外線処理装置１では、ワーク２の処理対象表面２Ａと、光源１０との間に、桟５６が設置されている部分がある。この桟５６が設置されている部分では、桟５６が、ワーク２の処理対象表面２Ａへの紫外線の照射の妨げとなってしまう。これにより、図５（Ｂ）、図６（Ｂ）、図７（Ｂ）に示すように、処理対象表面２Ａでの積算光量が桟５６の近傍で低くなってしまう。このように、光源１０をスライド移動させた際には、光源１０とワーク２の処理対象表面２Ａとの間の状態（被照射側の状態）によって、処理対象表面２Ａ全体での均斉度が低下することが分かった。

図８（Ａ）は、処理対象表面２Ａの各部における、光源１０をスライド移動させる移動速度の一例を示す図であり、各部における積算光量に応じて、光源１０の移動速度を可変にした場合を示している。図８（Ｂ）は、図８（Ａ）に示した移動速度で光源１０をスライド移動させながら紫外線ランプ１３の紫外線をワーク２の処理対象表面２Ａに照射した際の、処理対象表面２Ａの各部における積算光量を示す図である。
図８（Ａ）、図８（Ｂ）に示すように、光源１０のスライド移動の移動速度を、紫外線ランプ１３が桟５６の真下を通過する前後で可変にすることで、桟５６による処理対象表面２Ａでの積算光量の低下を抑えると共に、処理対象表面２Ａ中心付近の積算光量を抑え、処理対象表面２Ａ全体での均斉度を更に向上することができる。
なお、図８（Ｂ）と図７（Ｂ）との対比において、図８（Ｂ）では、横軸中央（ランプ短手＝「０」）のフラットな領域が図７（Ｂ）よりも短く、また、図８（Ｂ）の積算光量の均斉度は、図７（Ｂ）に比べ１％程改善されている。

このように、紫外線処理装置１では、光源１０をスライド移動させる移動速度を、一定／可変にして、処理対象表面２Ａでの積算光量を実験により計っている。そして、被照射側の状態、及び、光源１０の移動速度と処理対象表面２Ａでの積算光量との関係に基づいて、光源１０をスライド移動させる移動速度を可変に設定している。これにより、処理対象表面２Ａの各部での積算光量のばらつきを抑え、処理対象表面２Ａ全体での均斉度を向上している。

図９は、上述した紫外線処理装置１の変形例である紫外線処理装置１０１を示す図である。図９に示すように紫外線処理装置１０１は、光源１０が、紫外線ランプ１３の軸線方向に一列に複数並べられている。このように、光源１０を、紫外線ランプ１３の軸線方向に一列に複数並べることで、光源１０の、紫外線ランプ１３の軸線方向の照射範囲を広くすることができ、更に大型のワーク２の処理対象表面２Ａに紫外線を照射して処理することができる紫外線処理装置１０１を提供することができる。

以上説明したように、本実施形態によれば、光源１０の紫外線を処理対象表面２Ａに照射して処理する紫外線処理装置１において、光源１０は、移動速度を変化させながらスライド移動し、処理対象表面２Ａの全体に紫外線を照射するように構成されている。
この構成によれば、例えば、光源１０を一定の速度でスライド移動させた場合の処理対象表面２Ａでの積算光量に応じて、処理対象表面２Ａ全体に均斉度良く紫外線を照射するべく、光源１０のスライド移動の移動速度を変化させる。これにより、光源１０と処理対象表面２Ａとの間に処理対象表面２Ａへの紫外線照射の妨げとなる部材が配置されている場合等で、処理対象表面２Ａへの紫外線の照射環境が一定でない場合でも、均斉度良く処理対象表面２Ａの全体に紫外線を照射することができる。

また、本実施形態によれば、光源１０は、直管型の紫外線ランプ１３を備え、紫外線ランプ１３の長手方向に直交する方向にスライド移動する。この構成によれば、管長がワーク２の短辺Ｌ以上の長さの紫外線ランプ１３を用いることで、光源１０をスライド移動させることで、大型のワーク２の全体に紫外線を照射可能にすることができる。

また、本実施形態によれば、紫外線ランプ１３の長手方向に直交する方向に延び、光源１０をスライド移動可能に保持するレール１８を備えた。この構成によれば、レール１８に沿って光源１０をスライド移動させるという簡単な構成で、紫外線ランプ１３の紫外線をワーク２の全体に照射可能にすることができる。

また、本実施形態によれば、光源１０は、スライド移動の開始部分及び終了部分において移動速度が遅く設定され、処理対象表面２Ａにおける積算光量を増やすように構成されている。この構成によれば、光源１０のスライド移動を処理対象表面２Ａの外から始めることなく、積算光量が低くなるスライド移動の開始部分及び終了部分においても十分な積算光量を得ることができる。よって、装置を大型化させることなく、均斉度良く処理対象表面２Ａの全体に紫外線を照射可能にすることができる。

また、本実施形態によれば、ワーク２が配置される処理室５０を構成するケース体５１を備え、ケース体５１に設けられた入射開口５２を覆う石英板５３は、光源のスライド移動方向に複数に分割されており、隣合う石英板５３の間の繋ぎ目を塞ぐ桟５６を備え、桟の影響を受ける部分では、光源の移動速度が遅くなるよう設定されている。この構成によれば、ワーク２が大型化したことで、ワーク２が内部に配置されるケース体５１が大型化し、このケース体５１の入射開口５２を覆う石英板５３が複数に分割された場合であっても、均斉度良く処理対象表面２Ａの全体に紫外線を照射可能にすることができる。

また、本実施形態によれば、光源１０には、空冷ダクト１５，１６が接続されているため、光源１０の紫外線ランプ１３や反射板１４の熱影響を低減することができ、高出力の紫外線ランプ１３を用いて、効率よく処理対象表面２Ａに紫外線を照射することができる。

また、本実施形態によれば、レール１８は、光源１０と空冷ダクト１５，１６とを一体にスライド移動可能に保持する。この構成によれば、光源１０をレール１８に沿ってスライド移動させる構成であっても、光源１０をスライド移動させながら、光源１０の紫外線ランプ１３や反射板１４の空冷を継続することができる。

また、光源１０を、紫外線ランプ１３の長手方向に一列に複数並べた構成とすることで、さらにワーク２が大型化した場合でも、光源１０をスライド移動させるという簡単な構成で、紫外線ランプ１３の紫外線をワーク２の全体に照射可能にすることができる。

なお、上述の実施形態は本発明の一態様であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば、上述した実施形態では、ワーク２の下方に光源１０を配置して、ワーク２の処理対象表面２Ａに下方から紫外線を照射する構成としたが、これに限らず、ワーク２の処理対象表面２Ａに上方から光源１０の紫外線を照射する構成であっても良い。

また、上述した実施形態では、光源に直管型の紫外線ランプ１３を用いた構成について説明したが、これに限らず、紫外線ランプ１３に代えて、紫外線ＬＥＤ等の発光素子を直線状に配列した線状光源を用いてもよい。また、線状光源が照射する光は紫外線に限定されるものではない。

また、上述した実施形態では、紫外線処理装置１を光硬化装置として説明したが、本発明は、種々の紫外線処理装置に適用可能である。

１紫外線処理装置
２ワーク
２Ａ処理対象表面
１０光源
１３紫外線ランプ
１４反射板
１５吸気ダクト（空冷ダクト）
１６排気ダクト（空冷ダクト）
１８レール
５１ケース体
５３石英板
５６桟

本発明は、処理対象表面に光を照射して処理する処理装置に関する。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、装置を大型化することなく、処理対象表面の全体に均斉度良く光を照射することができる処理装置を提供することを目的とする。

上述した目的を達成するために、本発明は、光源の光を処理対象表面に照射して処理する処理装置において、前記光源は、移動速度を変化させながらスライド移動し、前記処理対象表面の全体に前記光源の光を照射するように構成されていることを特徴とする。

上述の構成の処理装置において、前記光源は、直管型のランプを備え、前記ランプの長手方向に直交する方向にスライド移動しても良い。

上述の構成の処理装置において、前記ランプの長手方向に直交する方向に延び、前記光源をスライド移動可能に保持するレールを備えても良い。

上述の構成の処理装置において、前記光源は、スライド移動の開始部分及び終了部分において移動速度が遅く設定され、前記処理対象表面における積算光量を増やすよう
に構成されても良い。

上述の構成の処理装置において、ワークが配置される処理室を構成するケース体を備え、前記ケース体に設けられた入射開口を覆う石英板は、前記光源のスライド移動方向に複数に分割されており、隣合う前記石英板の間の繋ぎ目を塞ぐ桟を備え、前記桟の影響を受ける部分では、前記光源の移動速度が遅くなるよう設定されても良い。

上述の構成の処理装置において、前記光源には、空冷ダクトが接続されても良い。

上述の構成の処理装置において、前記レールは、前記光源と前記空冷ダクトとを一体にスライド移動可能に保持するように構成されても良い。

上述の構成の処理装置において、前記光源を、前記ランプの長手方向に一列に複数並べても良い。

Claims

光源の紫外線を処理対象表面に照射して処理する紫外線処理装置において、
前記光源は、移動速度を変化させながらスライド移動し、前記処理対象表面の全体に紫外線を照射するように構成されている
ことを特徴とする紫外線処理装置。
前記光源は、直管型のランプを備え、前記ランプの長手方向に直交する方向にスライド移動することを特徴とする請求項１に記載の紫外線処理装置。
前記ランプの長手方向に直交する方向に延び、前記光源をスライド移動可能に保持するレールを備えたことを特徴とする請求項１に記載の紫外線処理装置。
前記光源は、スライド移動の開始部分及び終了部分において移動速度が遅く設定され、前記処理対象表面における積算光量を増やすように構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の紫外線処理装置。
ワークが配置される処理室を構成するケース体を備え、前記ケース体に設けられた入射開口を覆う石英板は、前記光源のスライド移動方向に複数に分割されており、隣合う前記石英板の間の繋ぎ目を塞ぐ桟を備え、前記桟の影響を受ける部分では、前記光源の移動速度が遅くなるよう設定されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の紫外線処理装置。
前記光源には、空冷ダクトが接続されていることを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の紫外線処理装置。
前記レールは、前記光源と前記空冷ダクトとを一体にスライド移動可能に保持するように構成されていることを特徴とする請求項６に記載の紫外線処理装置。
前記光源を、前記ランプの長手方向に一列に複数並べたことを特徴とする請求項１乃至７の何れかに記載の紫外線処理装置。