JP6600566B2 - 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 100
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 18
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 32
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 20
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 11
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 7
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000013036 cure process Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
- G03F7/0022—Devices or apparatus
- G03F7/0032—Devices or apparatus characterised by heat providing or glossing means
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70458—Mix-and-match, i.e. multiple exposures of the same area using a similar type of exposure apparatus, e.g. multiple exposures using a UV apparatus
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02296—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
- H01L21/02299—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment
- H01L21/0231—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment treatment by exposure to electromagnetic radiation, e.g. UV light
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
特許文献2には、基板を保持する基板保持具と、基板に対して紫外線を照射させる紫外線発生源と、紫外線発生源からの紫外線の照射方向を変える反射板とを備えた構成が開示されている。
この構成によれば、照射部及び配管を同期させて移動させることができるため、配管が照射部の移動に追従するように引っ張られることはない。すなわち、照射部を移動させた場合であっても、配管に過度の負荷がかかることを抑制することができる。したがって、配管の寿命を向上することができる。
この構成によれば、照射部の移動方向に沿うように延びる排気ボックスの長手方向に沿って配管を移動させつつ、配管からの熱を排気口から排出することができる。したがって、配管の移動を安定して行うとともに、配管から排気口までの熱の排気経路を確保することができる。
この構成によれば、排気ボックスの内部空間が配管の移動に従って移動するシートによって覆われるため、配管からの熱が外部に漏れることを抑制することができる。したがって、シートを用いた簡単な構成で、配管からの熱の排出効率を維持することができる。
この構成によれば、環状に形成されたシートをその周方向に回動させることができる。そのため、シートが接続部から一方側と他方側とに直線状に延びるように形成された場合と比較して、配管の移動に従って移動するシートの移動軌跡を小さくすることができる。したがって、装置を小型化することができる。
この構成によれば、第一シートに同期して第二シートを移動させることができるため、配管の移動をより一層安定して行うことができる。
この構成によれば、配管の移動に従って移動するシートの移動軌跡を可及的に小さくすることができるため、装置を効果的に小型化することができる。
この構成によれば、シートが金属シートである場合と比較して、軽量化することができるため、配管の移動に従ってシートをスムーズに移動させることができる。また、耐酸化性を発揮することができるため、部品劣化を抑制することができ、シートの寿命を向上することができる。
この構成によれば、シートが配管の移動に従って移動する際に、シートが過度に引っ張られたり過度に撓んだりすることを抑制することができる。したがって、配管の移動をより一層安定して行うことができる。
この構成によれば、シートが配管の移動に従って移動する際にシートを案内しつつ、案内板の通過孔を介して配管からの熱を排気口から排出することができる。したがって、配管の移動をより一層安定して行うとともに、配管から排気口までの熱の排気経路を確保することができる。
この構成によれば、配管からの熱(排気)が通過孔を通る前後で排気の流量を一定に維持することができるため、照射部の温度を一定に維持することができる。したがって、照射部から照射される紫外線の照度分布を均一化することができる。
この構成によれば、照射部及び配管を同期させて移動させている間、配管と排気ボックスとの接続部における通過孔の開口面積を常時一定に維持することができる。これにより、照射部及び配管を同期させて移動させている間、排気の流量を一定に維持することができるため、照射部の温度を一定に維持することができる。したがって、照射部から照射される紫外線の照度分布を常時均一化することができる。
この構成によれば、照射部の温度に適合するように排気の流量を調整することができるため、照射部から照射される紫外線の照度分布をより一層均一化することができる。
この構成によれば、照射部及び配管をまとめて一括して移動させることができるため、照射部及び配管を別個独立に移動させる場合と比較して、装置構成の簡素化を図ることができる。
この構成によれば、密閉空間を有する収容部の内部で基板を静止させた状態で、収容部の外部で照射部及び配管を移動させつつ収容部の内部の基板に紫外線を照射することができるため、基板の移動に伴うパーティクルの発生を考慮する必要がない。また、照射部及び配管の移動は収容部の外部で行われるため、仮に照射部及び配管の移動に伴いパーティクルが発生したとしても、収容部を密閉空間とすることによって、収容部内へのパーティクルの侵入を回避することができる。従って、収容部内のパーティクルの発生を抑制することができ、基板を清浄に保つことができる。
また、基板を静止させた状態で照射部及び配管を移動させることによって、照射部及び配管よりも平面視サイズの大きい基板を用いても、照射部及び配管を静止させた状態で基板を移動させる場合と比較して、基板に紫外線を照射する際に必要なスペースを節約することができ、フットプリントを小さくすることができる。
また、収容部内で基板を静止させた状態とすることによって、収容部内は基板の収容スペースを確保するだけで済むため、収容部内で基板を移動させる場合と比較して、収容部の容積を小さくすることができ、収容部内の酸素濃度及び露点の管理をしやすくなる。また、収容部内の酸素濃度を調整する際に使用する窒素の消費量を削減することができる。
この方法によれば、照射部及び配管を同期させて移動させることができるため、配管が照射部の移動に追従するように引っ張られることはない。すなわち、照射部を移動させた場合であっても、配管に過度の負荷がかかることを抑制することができる。したがって、配管の寿命を向上することができる。
この方法によれば、照射部の温度に適合するように排気の流量を調整することができるため、照射部から照射される紫外線の照度分布をより一層均一化することができる。
この方法によれば、密閉空間を有する収容部の内部で基板を静止させた状態で、収容部の外部で照射部及び配管を移動させつつ収容部の内部の基板に紫外線を照射することができるため、基板の移動に伴うパーティクルの発生を考慮する必要がない。また、照射部及び配管の移動は収容部の外部で行われるため、仮に照射部及び配管の移動に伴いパーティクルが発生したとしても、収容部を密閉空間とすることによって、収容部内へのパーティクルの侵入を回避することができる。従って、収容部内のパーティクルの発生を抑制することができ、基板を清浄に保つことができる。
また、基板を静止させた状態で照射部及び配管を移動させることによって、照射部及び配管よりも平面視サイズの大きい基板を用いても、照射部及び配管を静止させた状態で基板を移動させる場合と比較して、基板に紫外線を照射する際に必要なスペースを節約することができ、フットプリントを小さくすることができる。
また、収容部内で基板を静止させた状態とすることによって、収容部内は基板の収容スペースを確保するだけで済むため、収容部内で基板を移動させる場合と比較して、収容部の容積を小さくすることができ、収容部内の酸素濃度及び露点の管理をしやすくなる。また、収容部内の酸素濃度を調整する際に使用する窒素の消費量を削減することができる。
図1は、実施形態に係る紫外線照射装置1の斜視図である。図2は、実施形態に係る紫外線照射装置1の上面図である。図3は、図2のIII−III断面図を含む、実施形態に係る紫外線照射装置の側面図である。
図1〜図3に示すように、紫外線照射装置1は、基板10に対して紫外線の照射を行う装置である。紫外線照射装置1は、チャンバ2(収容部)、ステージ3、照射ユニット4、搬送機構5(移動部)、排気部6、ガス供給部7及び制御部8を備える。制御部8は、紫外線照射装置1の構成要素を統括制御する。
チャンバ2は、紫外線の照射処理が行われる基板10を収容する。チャンバ2は、上面視で矩形をなす箱状に形成される。具体的に、チャンバ2は、基板10の上方を覆う矩形板状の天板20と、基板10の側方を囲むように覆う矩形枠状の周壁21と、基板10の下方を覆う底板22とによって形成される。周壁21の−Y方向側には、チャンバ2に対して基板10の搬入及び搬出をするための基板搬出入口21aが設けられる。
ステージ3は、チャンバ2及び搬送機構5を上面で支持する。ステージ3は、Z方向に厚みを有する板状をなす。
ステージ3は、架台31によって下方から支持される。
架台31は、複数の鋼材等の角柱を格子状に組み合わせて形成される。
なお、架台31の下端部には、複数の車輪31aが回転自在に取り付けられる。これにより、架台31をXY平面内で自在に移動させることができる。
図3に示すように、チャンバ2の下方には、基板10をZ方向に移動可能とする昇降機構25が設けられる。昇降機構25には、複数のリフトピン25aが設けられる。複数のリフトピン25aの先端(+Z側の端)は、XY平面に平行な同一面内に配置される。
具体的に、ステージ3には、ステージ3を厚み方向に開口する複数の挿通孔3aが形成される。底板22には、各挿通孔3aに平面視で重なる位置で底板22を厚み方向に開口する複数の挿通孔22aが形成される。加熱機構11には、各挿通孔22aに平面視で重なる位置で加熱機構11を厚み方向に開口する複数の挿通孔11aが形成される。複数のリフトピン25aの先端は、各挿通孔3a,22a,11aを介して基板10の下面に当接及び離反可能とされる。そのため、複数のリフトピン25aの先端によって、基板10がXY平面に平行に支持されるようになっている。
照射ユニット4は、チャンバ2の外部に設けられる。照射ユニット4は、照射部40及び集光部材41を備える。
照射部40は、基板10にi線等の紫外線を照射可能に構成される。
ここで、「紫外線」とは、波長範囲の下限が1nm程度、上限が可視光線の短波長端の光を意味する。
なお、照射部40は、これに限らず、高圧水銀ランプ、LEDランプを用いてもよい。また、照射部40は、これらのランプを複数組み合わせてもよい。
図1及び図2に示すように、搬送機構5は、チャンバ2の外部に設けられる。搬送機構5は、チャンバ2の外部からチャンバ2の内部に収容されている基板10に紫外線が照射されるように照射ユニット4をチャンバ2の外部で移動させる。搬送機構5は、ガイド部50、土台53及び門型フレーム54を備える。搬送機構5は、照射部40と、排気部6の配管60とを同期させて移動可能に構成されている。
スライダ52は、一対のレール51に沿って摺動可能に構成される。
土台53は、ステージ3の四隅に複数(例えば本実施形態では四隅に一つずつ計四つ)設けられる。各土台53は、一対のレール51におけるX方向両端部を支持する。
チャンバ2には、チャンバ2の内部雰囲気の状態を調整可能なガス供給部7が設けられる。ガス供給部7は、乾燥ガスとして窒素(N2)、ヘリウム(He)、アルゴン(Ar)等の不活性ガスを供給する。
例えば、ガス供給部7は、チャンバ2の内部雰囲気の露点を−80℃(水分濃度0.54ppm質量基準)以上且つ−5℃(水分濃度4000ppm質量基準)以下とするように乾燥ガスの供給を調整する。
例えば、レジスト膜の露光後のプレパターンを硬化するときの雰囲気において、このように露点を好ましい上限以下とすることにより、パターンの硬化を進行しやすくすることができる。一方、好ましい下限以上とすることにより、装置を運用する上での作業性等を向上することができる。
例えば、レジスト膜の露光後のプレパターンを硬化するときの雰囲気において、このように酸素濃度を好ましい上限以下とすることにより、パターンの硬化を進行しやすくすることができる。
図4は、実施形態に係る排気部6の斜視図である。図5は、実施形態に係る排気部6の上面図である。図6は、図5のVI−VI断面を含む、実施形態に係る排気部6の側面図である。図7は、図5のVII−VII断面図である。図8は、図6のVIII−VIII断面図である。なお、図5及び図8においては、便宜上、シート70の図示を省略している。
図1及び図4に示すように、配管60は、門型フレーム54の+Y方向側の側壁部(門柱部54a)と後述する可動部65との間をわたすように延びる筒状の部材である。配管60は、L字状に屈曲している。配管60の一端部60a(−Y方向側の端部)は、門型フレーム54の+Y方向側の側壁部(門柱部54a)に固定されている。配管60の他端部60b(−Z方向側の端部)は、後述する可動部65に固定されている。これにより、配管60は、照射部40と共にチャンバ2の外部でX方向に移動可能になっている。
図2及び図4に示すように、排気ボックス61は、照射ユニット4の移動方向(照射部40の移動方向)であるX方向に延びている。排気ボックス61は、配管60からの熱を外部に排出可能な排気口63hを有する。X方向において、排気ボックス61の長さL4は、各レール51の長さL1と実質的に同じ長さである(L4≒L1)。
第二底壁61bは、第一底壁61aよりも−Z方向側に配置されるとともに、第一底壁61aと実質的に同一の形状を有する。
一対の側壁61cは、Y方向に厚みを有するとともにX方向に延び、かつ、第二底壁61bのY方向両端部から+Z方向に起立して第一底壁61aと第二底壁61bとのY方向端部間を繋いだ後に更に+Z方向に延びる。
一対のガイド壁61dは、Z方向に厚みを有するとともにX方向に延び、かつ、一対の側壁61cの上端部のY方向間の内側に突出する。
第二隔壁61fは、X方向において排気ボックス61の長さL4(図2参照)程度の間隔を空けて第一隔壁61eと対向する。第二隔壁61fは、第一隔壁61eと実質的に同一の形状を有し、かつ、第一底壁61a及び一対の側壁61cの−X方向側の端部間をわたすように配置される。すなわち、第二隔壁61fは、排気ボックス61の内部空間61sを−X方向側から閉塞する。
一対の側壁61cのうち+Y方向側の壁部には、排気口63hを形成する円筒状の排気管63が固定されている。排気管63は、排気ボックス61の内部空間61sに連通している。
図4及び図6に示すように、排気部6は、排気ボックス61の内部空間61sを覆うシート70を更に備える。シート70は、照射ユニット4の移動方向(照射部40の移動方向)であるX方向に沿うように延びている。シート70は、配管60の移動に従って移動可能に構成されている。
第一カバー77は、第一ローラ71及び第二ローラ72を覆うとともに、第一ローラ71及び第二ローラ72を回動自在に支持する。第一カバー77は、−X方向側に開口する箱状をなすとともに、排気ボックス61の各壁(具体的には、第二底壁61b、一対の側壁61c及び一対のガイド壁61d)の+X方向側の端部に着脱可能に取り付けられている。これにより、第一カバー77の内部(例えば、第一ローラ71及び第二ローラ72)のメンテナンス性を向上することができる。
排気部6は、シート70の張りを調整可能なテンショナー79を更に備える。テンショナー79は、第二カバー78のY方向両側部に配置されている。テンショナー79は、X方向に間隔を空けて並ぶ第四ローラ74及び第六ローラ76に対して、第四ローラ74と第六ローラ76との間に位置する第五ローラ75を近接及び離反可能とする。例えば、第四ローラ74及び第六ローラ76に対して第五ローラ75を近接させた場合には、シート70の張りを弱めることができる。一方、第四ローラ74及び第六ローラ76に対して第五ローラ75を離反させた場合には、シート70の張りを強めることができる。
図5及び図6に示すように、可動部65は、ベース部65a、本体部65b、接続部65c及び一対のガイド片65dを備える。
図6に示すように、排気部6は、シート70を案内する案内板64を更に備える。案内板64は、Z方向に厚みを有するとともに、照射ユニット4の移動方向(照射部40の移動方向)であるX方向に延びる。案内板64には、配管60からの熱が通過可能な通過孔64hが形成されている。
なお、図8においては、便宜上、一対のガイド片65d等の図示を省略している。
図4に示すように、排気部6は、照射部40(図1参照)の温度に基づいて、配管60の少なくとも一部を通過する気体の流量を調整可能な流量調整部68を更に備える。流量調整部68は、配管60に設けられている。例えば、流量調整部68は、流量調整弁である。
次に、本実施形態に係る紫外線照射方法を説明する。本実施形態では、上記の紫外線照射装置1を用いて基板10に紫外線を照射する。紫外線照射装置1の各部で行われる動作は、制御部8によって制御される。
収容ステップにおいて、チャンバ2は、基板10を密閉空間で収容する。例えば、基板搬出入口21aを介してチャンバ2内に基板10を搬送した後、基板搬出入口21aを閉塞してチャンバ2を密閉する。
移動ステップにおいて、搬送機構5は、チャンバ2の外部からチャンバ2の内部に収容されている基板10に紫外線が照射されるように照射ユニット4をチャンバ2の外部で移動させる。
流量調整ステップにおいて、流量調整部68は、照射部40の温度に基づいて、配管60の少なくとも一部を通過する気体の流量を調整する。
ガス供給ステップにおいて、ガス供給部7は、チャンバ2の内部雰囲気の露点を調整する。また、ガス供給ステップにおいて、ガス供給部7は、チャンバ2の内部雰囲気の酸素濃度を調整する。
密閉空間を有するチャンバ2の内部で基板10を静止させた状態で、チャンバ2の外部で照射部40及び配管60を移動させつつチャンバ2の内部の基板10に紫外線を照射することができるため、基板10の移動に伴うパーティクルの発生を考慮する必要がない。また、照射部40及び配管60の移動はチャンバ2の外部で行われるため、仮に照射部40及び配管60の移動に伴いパーティクルが発生したとしても、チャンバ2を密閉空間とすることによって、チャンバ2内へのパーティクルの侵入を回避することができる。従って、チャンバ2内のパーティクルの発生を抑制することができ、基板10を清浄に保つことができる。
また、基板10を静止させた状態で照射部40及び配管60を移動させることによって、照射部40及び配管60よりも平面視サイズの大きい基板10を用いても、照射部40及び配管60を静止させた状態で基板10を移動させる場合と比較して、基板10に紫外線を照射する際に必要なスペースを節約することができ、フットプリントを小さくすることができる。
また、チャンバ2内で基板10を静止させた状態とすることによって、チャンバ2内は基板10の収容スペースを確保するだけで済むため、チャンバ2内で基板10を移動させる場合と比較して、チャンバ2の容積を小さくすることができ、チャンバ2内の酸素濃度及び露点の管理をしやすくなる。また、チャンバ2内の酸素濃度を調整する際に使用する窒素の消費量を削減することができる。
次に、実施形態の変形例について、図9及び図10を用いて説明する。
図9は、実施形態に係る排気部の変形例を示す側面図である。なお、図9においては、排気ボックス61の各壁、案内板64等の図示を省略している。
図9に示すように、本変形例では、実施形態に対して、シート170が第一シート170A及び第二シート170Bを備える点で特に異なる。図9において、実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図10に示すように、本変形例では、実施形態に対して、シート70が、一対の搬送ローラ180に掛け回された状態で、照射部40の移動方向に沿うように移動可能に構成されている点で特に異なる。図10において、実施形態と同様の構成には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
例えば、上記実施形態においては、チャンバ2を一つ設けたが、これに限らず、チャンバ2を二つ以上の複数設けても構わない。
Claims (15)
- 基板に紫外線を照射可能な照射部と、
前記照射部の熱を排出可能な配管を有する排気部と、
前記照射部及び前記配管を同期させて移動可能な移動部と、
を含み、
前記排気部は、前記配管を移動可能に接続するともに前記照射部の移動方向に沿うように延び、かつ、前記配管からの熱を排出可能な排気口を有する排気ボックスを更に含む紫外線照射装置。 - 基板に紫外線を照射可能な照射部と、
前記照射部の熱を排出可能な配管を有する排気部と、
前記照射部及び前記配管を同期させて移動可能な移動部と、
を含み、
前記基板を密閉空間で収容可能な収容部を更に備え、
前記照射部、前記排気部及び前記移動部は、前記収容部の外部に設けられ、
前記移動部は、前記照射部及び前記配管を同期させて前記収容部の外部で移動させる紫外線照射装置。 - 前記排気部は、前記配管を移動可能に接続するともに前記照射部の移動方向に沿うように延び、かつ、前記配管からの熱を排出可能な排気口を有する排気ボックスと、
前記照射部の移動方向に沿うように延びるとともに前記排気ボックスの内部空間を覆い、かつ、前記配管の移動に従って移動可能なシートと、を更に含む
請求項1または2に記載の紫外線照射装置。 - 前記シートは、前記照射部の移動方向に沿うように、前記配管と前記排気ボックスとの接続部から一方側と他方側とに延びるとともに、環状に繋がるように同一の部材により一体に形成されている
請求項3に記載の紫外線照射装置。 - 前記シートは、前記照射部の移動方向に沿うように、前記配管と前記排気ボックスとの接続部から一方側に延びる第一シートと、前記接続部から他方側に延びるとともに前記第一シートに同期して移動可能な第二シートとを含む
請求項3に記載の紫外線照射装置。 - 前記シートは、前記内部空間を囲むように前記排気ボックスの外周に沿うように配置されている
請求項4又は5に記載の紫外線照射装置。 - 前記シートは、樹脂シートである
請求項3〜6の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記排気部は、前記シートの張りを調整可能なテンショナーを更に含む
請求項3〜7の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記排気部は、前記照射部の移動方向に沿うように延びるとともに前記シートを案内し、かつ、前記配管からの熱が通過可能な通過孔が形成された案内板を更に含む
請求項3〜8の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記案内板のうち前記配管と前記排気ボックスとの接続部における前記通過孔の開口面積は、前記排気口の面積以上である
請求項9に記載の紫外線照射装置。 - 前記通過孔は、前記照射部の移動方向に沿うように前記案内板に規則的に複数配置されている
請求項9又は10に記載の紫外線照射装置。 - 前記排気部は、前記配管を移動可能に接続するともに前記照射部の移動方向に沿うように延び、かつ、前記配管からの熱を排出可能な排気口を有する排気ボックスと、
前記照射部の温度に基づいて、前記配管及び前記排気ボックスの少なくとも一部を通過する気体の流量を調整可能な流量調整部と、を更に含む
請求項1〜11の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 - 前記移動部は、前記照射部及び前記配管を同期させて移動可能とする共通の駆動源を含む
請求項1〜12の何れか一項に記載の紫外線照射装置。 - 基板に紫外線を照射可能な照射部と、
前記照射部の熱を排出可能な配管を有する排気部と、を含む紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、
前記照射部及び前記配管を同期させて移動させる移動ステップを含み、
前記照射部の温度に基づいて、前記配管、及び前記配管を移動可能に接続するともに前記照射部の移動方向に沿うように延び、かつ、前記配管からの熱を排出可能な排気口を有する排気ボックスの少なくとも一部を通過する気体の流量を調整する流量調整ステップを更に含む紫外線照射方法。 - 基板に紫外線を照射可能な照射部と、
前記照射部の熱を排出可能な配管を有する排気部と、を含む紫外線照射装置を用いた紫外線照射方法であって、
前記照射部及び前記配管を同期させて移動させる移動ステップを含み、
前記基板を密閉空間で収容可能な収容部を更に備え、
前記照射部及び前記排気部は、前記収容部の外部に設けられ、
前記移動ステップは、前記照射部及び前記配管を同期させて前記収容部の外部で移動させる紫外線照射方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016007724A JP6600566B2 (ja) | 2016-01-19 | 2016-01-19 | 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 |
TW105139930A TWI713094B (zh) | 2016-01-19 | 2016-12-02 | 紫外線照射裝置及紫外線照射方法 |
KR1020160165607A KR102703514B1 (ko) | 2016-01-19 | 2016-12-07 | 자외선 조사 장치 및 자외선 조사 방법 |
CN201710035291.1A CN106980237B (zh) | 2016-01-19 | 2017-01-17 | 紫外线照射装置及紫外线照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016007724A JP6600566B2 (ja) | 2016-01-19 | 2016-01-19 | 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017130511A JP2017130511A (ja) | 2017-07-27 |
JP6600566B2 true JP6600566B2 (ja) | 2019-10-30 |
Family
ID=59340847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016007724A Active JP6600566B2 (ja) | 2016-01-19 | 2016-01-19 | 紫外線照射装置及び紫外線照射方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6600566B2 (ja) |
KR (1) | KR102703514B1 (ja) |
CN (1) | CN106980237B (ja) |
TW (1) | TWI713094B (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021131984A (ja) | 2020-02-20 | 2021-09-09 | 東芝ライテック株式会社 | 光照射モジュール、および光照射装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0497515A (ja) | 1990-08-15 | 1992-03-30 | Nec Corp | レジスト除去装置 |
JPH0934126A (ja) * | 1995-07-25 | 1997-02-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 焼付装置 |
JP2006114848A (ja) | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Apex Corp | 紫外線照射処理装置、紫外線照射処理方法及び半導体製造装置 |
JP2007015438A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Nissan Motor Co Ltd | スライド移動体のダクト構造 |
JP2008268633A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Seiko Epson Corp | 基板収容ボックス、露光装置並びに液晶装置の製造方法 |
WO2011080852A1 (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-07 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネルの製造方法及び製造装置 |
TW201300177A (zh) * | 2011-06-27 | 2013-01-01 | Gs Yuasa Int Ltd | 紫外線照射裝置 |
JP5891013B2 (ja) * | 2011-11-18 | 2016-03-22 | 東京応化工業株式会社 | 紫外線照射装置及び基板処理装置 |
JP2013229454A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 膜厚モニタを有するvuv処理装置および処理方法 |
-
2016
- 2016-01-19 JP JP2016007724A patent/JP6600566B2/ja active Active
- 2016-12-02 TW TW105139930A patent/TWI713094B/zh active
- 2016-12-07 KR KR1020160165607A patent/KR102703514B1/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-01-17 CN CN201710035291.1A patent/CN106980237B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170087014A (ko) | 2017-07-27 |
JP2017130511A (ja) | 2017-07-27 |
CN106980237B (zh) | 2020-08-11 |
TWI713094B (zh) | 2020-12-11 |
CN106980237A (zh) | 2017-07-25 |
TW201735123A (zh) | 2017-10-01 |
KR102703514B1 (ko) | 2024-09-06 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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R250 | Receipt of annual fees |
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