TW201625999A - 有機el顯示裝置用圓偏光板及有機el顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種具有優異之抗反射功能,且具有優異之有機EL面板保護功能之有機EL顯示裝置用圓偏光板。本發明之圓偏光板可用於有機EL顯示裝置。該圓偏光板依序具備偏光元件、作為λ/4板而發揮功能之相位差層、障壁層、及具有障壁功能之黏著劑層。偏光元件之吸收軸與相位差層之遲相軸所成之角度為35°~55°。
Description
本發明係關於一種有機EL(Electroluminescence,電致發光)顯示裝置用圓偏光板及有機EL顯示裝置。
近年來,隨著薄型顯示器之普及,業界提出有搭載有機EL面板之顯示器(有機EL顯示裝置)。由於有機EL面板具有反射性較高之金屬層,故而容易產生外部光反射或背景之映入等問題。因此,已知藉由在視認側設置圓偏光板而防止該等問題(例如,專利文獻1~3)。由於有機EL面板對於大氣中之水分、氧氣非常不耐受,因此,通常於有機EL面板表面設置障壁層(障壁膜),由此業界強烈要求對圓偏光板賦予障壁功能。另一方面,業界亦持續期待圓偏光板之進一步薄型化。
專利文獻1:日本專利特開2003-311239號公報
專利文獻2:日本專利特開2002-372622號公報
專利文獻3:日本專利第3325560號公報
本發明係用以解決上述先前之課題而完成者,其主要目的在於提供一種具有優異之抗反射功能,且具有優異之有機EL面板保護功能之有機EL顯示裝置用圓偏光板。
本發明之圓偏光板可用於有機EL顯示裝置。該圓偏光板依序具備偏光元件、作為λ/4板而發揮功能之相位差層、障壁層、及具有障壁功能之黏著劑層,該偏光元件之吸收軸與該相位差層之遲相軸所成之角度為35°~55°。
於一實施形態中,上述圓偏光板於上述偏光元件與上述相位差層之間進一步具備作為λ/2板而發揮功能之另一相位差層,該偏光元件之吸收軸與該相位差層之遲相軸所成之角度為65°~85°,該偏光元件之吸收軸與該另一相位差層之遲相軸所成之角度為10°~20°。
於一實施形態中,上述圓偏光板於上述偏光元件與上述相位差層之間進一步具備保護膜。
於一實施形態中,上述圓偏光板於上述偏光元件與上述另一相位差層之間進一步具備保護膜。
於一實施形態中,上述圓偏光板於上述偏光元件之與上述相位差層相反之側進一步具備保護膜。
於一實施形態中,上述偏光元件為長條狀,且於長條方向上具有上述吸收軸,上述相位差層為長條狀,且於相對於長條方向為35°~55°之方向上具有上述遲相軸。
於一實施形態中,上述偏光元件為長條狀,且於長條方向上具有上述吸收軸,上述相位差層及上述另一相位差層為長條狀,且該相位差層於相對於長條方向為65°~85°之方向上具有上述遲相軸,該另一相位差層於相對於長條方向為10°~20°之方向上具有上述遲相軸。
於一實施形態中,上述偏光元件中之鉀含量(重量%)相對於碘含量(重量%)之比K/I為0.180~0.235。
根據本發明之另一態樣,提供一種有機EL顯示裝置。該有機顯示裝置具備上述圓偏光板。
根據本發明,於有機EL顯示裝置用圓偏光板中,藉由在相位差層表面形成障壁層,可賦予有機EL面板保護功能。進而,根據本發明,可一面將相位差膜(相位差層)之光學特性及機械特性維持為所需範圍一面形成障壁層,因此可獲得兼顧優異之抗反射功能與優異之有機EL面板保護功能之圓偏光板。除此以外,根據本發明之一實施形態,作為相位差層而僅使用1片λ/4板,且該λ/4板兼為偏光元件之內側保護膜,因此可實現顯著之薄型化。
10‧‧‧偏光元件
20‧‧‧相位差層
30‧‧‧障壁層
40‧‧‧黏著劑層
50‧‧‧保護膜
60‧‧‧另一相位差層
100‧‧‧圓偏光板
101‧‧‧圓偏光板
圖1係本發明之一實施形態之圓偏光板之概略剖視圖。
圖2係本發明之另一實施形態之圓偏光板之概略剖視圖。
以下,對本發明之較佳之實施形態進行說明,但本發明並不限定於該等實施形態。
(用語及符號之定義)
本說明書中之用語及符號之定義如下所述。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」係面內之折射率成為最大之方向(即遲相軸方向)之折射率,「ny」係面內與遲相軸正交之方向(即進相軸方向)之折射率,「nz」係厚度方向之折射率。
(2)面內相位差(Re)
「Re(λ)」係藉由23℃下之波長λ nm之光測定而獲得之面內相位差。例如,「Re(550)」係藉由23℃下之波長550nm之光測定而獲得之面內相位差。Re(λ)於將層(膜)之厚度設為d(nm)時,藉由式:Re=(nx-ny)×d而求出。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(λ)」係藉由23℃下之波長λ nm之光測定而獲得之厚度方向之相位差。例如,「Rth(550)」係藉由23℃下之波長550nm之光測定而獲得之厚度方向之相位差。Rth(λ)於將層(膜)之厚度設為d(nm)時,藉由式:Rth=(nx-nz)×d而求出。
(4)Nz係數
Nz係數係藉由Nz=Rth/Re而求出。
本發明之實施形態之圓偏光板可用於有機EL顯示裝置。本發明之一實施形態之圓偏光板依序具備偏光元件、作為λ/4板而發揮功能之相位差層、障壁層、及具有障壁功能之黏著劑層。本發明之另一實施形態之圓偏光板於偏光元件與相位差層之間進一步具備作為λ/2板而發揮功能之另一相位差層。以下,關於該等代表性之實施形態,對圓偏光板之整體構成進行具體說明,其後,對構成圓偏光板之各層及光學膜進行詳細說明。
圖1係本發明之一實施形態之圓偏光板之概略剖視圖。本實施形態之圓偏光板100依序具備偏光元件10、相位差層20、障壁層30及黏著劑層40。如上所述,相位差層20作為λ/4板而發揮功能,黏著劑層40具有障壁功能。圖示例之圓偏光板100於偏光元件之與相位差層20相反之側具備保護膜50。又,圓偏光板亦可於偏光元件與相位差層之間具備另一保護膜(亦稱為內側保護膜,未圖示)。於圖示例中,係將內側保護膜省略。於該情形時,相位差層20亦可作為內側保護膜而發揮功能。若為此種構成,則可實現圓偏光板之進一步薄型化。
於本實施形態中,偏光元件10之吸收軸與相位差層20之遲相軸所成之角度為35°~55°,較佳為38°~52°,更佳為40°~50°,進而較佳為42°~48°,尤佳為44°~46°。若該角度為此種範圍,則可實現所
需之圓偏光功能。再者,於本說明書中提及角度時,只要未特別明確說明,則該角度包含順時針方向及逆時針方向之兩個方向之角度。
圖2係本發明之另一實施形態之圓偏光板之概略剖視圖。本實施形態之圓偏光板101於偏光元件10與相位差層20之間進一步具備另一相位差層60。另一相位差層60作為λ/2板而發揮功能。再者,於本實施形態中,為方便起見,存在將相位差層20稱為第一相位差層,而將另一相位差層60稱為第二相位差層之情形。圖示例之圓偏光板101於偏光元件之與相位差層相反之側具備保護膜50。又,圓偏光板亦可於偏光元件與相位差層之間具備另一保護膜(亦稱為內側保護膜,未圖示)。於圖示例中,係將內側保護膜省略。於該情形時,第二相位差層60亦可作為內側保護膜而發揮功能。
於本實施形態中,偏光元件10之吸收軸與第一相位差層20之遲相軸所成之角度較佳為65°~85°,更佳為72°~78°,進而較佳為約75°。進而,偏光元件10之吸收軸與第二相位差層60之遲相軸所成之角度較佳為10°~20°,更佳為13°~17°,進而較佳為約15°。藉由以如上所述之軸角度配置兩層相位差層,可獲得於寬頻帶具有非常優異之圓偏光特性(作為結果,為非常優異之抗反射特性)之圓偏光板。
作為偏光元件10,可採用任意合適之偏光元件。作為具體例,可列舉:對聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施藉由碘或二色性染料等二色性物質所進行之染色處理及延伸處理而獲得者;聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言,較佳為使用利用碘將聚乙烯醇系膜染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。
關於上述利用碘所進行之染色,例如可藉由將聚乙烯醇系膜浸
漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3~7倍。延伸可於染色處理後進行,亦可一面染色一面進行。又,亦可於延伸後進行染色。視需要對聚乙烯醇系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如,藉由在染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗,不僅可洗淨聚乙烯醇系膜表面之污垢或抗黏連劑,而且可使聚乙烯醇系膜膨潤而防止染色不均等。再者,聚乙烯醇系膜可為單層之膜(藉由通常之膜成形所獲得之膜),亦可為於樹脂基材上塗佈形成之聚乙烯醇系樹脂層。由單層之聚乙烯醇系膜製作偏光元件之技術為業界所周知。由在樹脂基材上塗佈形成之聚乙烯醇系樹脂層製作偏光元件之技術例如記載於日本專利特開2009-098653號公報中。
偏光元件之厚度代表性而言為1μm~80μm左右。
於一實施形態中,偏光元件中之鉀含量(重量%)相對於碘含量(重量%)之比K/I較佳為0.180~0.235,更佳為0.200~0.230。若K/I為此種範圍,則可獲得具有非常優異之耐熱性之偏光元件。其結果為,藉由與障壁層及黏著劑層之障壁性之協同效應,可獲得可實現具有非常優異之耐久性之有機EL顯示裝置之圓偏光板。更詳細而言,包含具有此種K/I之偏光元件之圓偏光板代表性而言因加熱引起之色相變化較小。例如,於95℃下將圓偏光板加熱500小時後之a值(漢特(Hunter)表色系統)之變化量例如為7以下,較佳為5以下,更佳為3以下。
偏光元件較佳為含有鋅成分。作為鋅成分,例如,可列舉氯化鋅、硫酸鋅。藉由含有鋅成分,可獲得具有更優異之耐久性之偏光元件。
相位差層20如上所述,可作為λ/4板而發揮功能。此種相位差層之面內相位差Re(550)為100nm~180nm,較佳為110nm~170nm,進而較佳為120nm~160nm,尤佳為135nm~155nm。相位差層20代
表性而言具有nx>ny=nz或nx>ny>nz之折射率橢圓體。再者,於本說明書中,例如「ny=nz」不僅包括嚴格相等者,亦包括實質上相等者。因此,相位差層之Nz係數例如為0.9~2,較佳為1~1.5,更佳為1~1.3。
上述相位差層之厚度可以可作為λ/4板最適當地發揮功能之方式進行設定。換言之,厚度可以獲得所需之面內相位差之方式進行設定。具體而言,厚度較佳為10μm~80μm,進而較佳為10μm~60μm,最佳為30μm~50μm。
相位差層可表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆分散波長特性,亦可表現出相位差值根據測定光之波長而變小之正波長分散特性,亦可表現出相位差值幾乎不隨測定光之波長發生變化之平穩之波長分散特性。較佳為表現出平穩之波長分散特性。藉由採用具有平穩之波長分散特性之λ/4板(相位差層),可實現優異之抗反射特性及傾斜方向之反射色相。相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.99~1.03,Re(650)/Re(550)較佳為0.98~1.02。
相位差層可包含可滿足如上所述之光學特性及機械特性之任意合適之樹脂膜。作為此種樹脂之代表例,可列舉:纖維素系樹脂;聚酯系、聚乙烯醇系、聚乙烯醇縮乙醛系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚醚系、聚碸系、聚苯乙烯系、環狀烯烴系(聚降烯系)、聚烯烴系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、乙酸酯系等之透明樹脂等樹脂。於單獨使用相位差層20之實施形態中,相位差層20較佳為可由聚碳酸酯樹脂形成。本實施形態可使用之聚碳酸酯樹脂至少含有源自具有下述結構式(1)所表示之鍵結構之二羥基化合物之結構單元,可藉由在聚合觸媒之存在下使至少含有分子內至少具有一個鍵結構-CH2-O-之二羥基化合物的二羥基化合物與碳酸二酯進行反應而製造。
作為具有上述結構式(1)所表示之鍵結構之二羥基化合物,只要為含有具有兩個醇性羥基、分子內具有連結基-CH2-O-之結構,且於聚合觸媒之存在下可與碳酸二酯進行反應而產生聚碳酸酯之化合物,則可使用任何結構之化合物,亦可併用複數種。又,作為上述聚碳酸酯樹脂所使用之二羥基化合物,亦可併用不具有結構式(1)所表示之鍵結構之二羥基化合物。以下,有將具有結構式(1)所表示之鍵結構之二羥基化合物簡稱為二羥基化合物(A)、將不具有結構式(1)所表示之鍵結構之二羥基化合物簡稱為二羥基化合物(B)之情況。
二羥基化合物(A)中之所謂「連結基-CH2-O-」意指與氫原子以外之原子互相鍵結而構成分子之結構。於該連結基中,作為至少氧原子可鍵結之原子或碳原子與氧原子可同時鍵結之原子,最佳為碳原子。二羥基化合物(A)中之「連結基-CH2-O-」之數量為1以上,較佳為2~4。
進一步具體而言,作為二羥基化合物(A),例如可列舉:如9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-異丙基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-異丁基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-第三丁基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-環己基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3-苯基苯基)茀、9,9-雙(4-(2-羥基乙氧基)-3,5-二甲基苯基)茀、9,9-雙
(4-(2-羥基乙氧基)-3-第三丁基-6-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-(3-羥基-2,2-二甲基丙氧基)苯基)茀等所例示般,側鏈具有芳香族基、主鏈具有鍵結於芳香族基上之醚基之化合物;如雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]甲烷、雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]二苯基甲烷、1,1-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]乙烷、1,1-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-1-苯基乙烷、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)-3-甲基苯基]丙烷、2,2-雙[3,5-二甲基-4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷、1,1-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]環己烷、1,4-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]環己烷、1,3-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]環己烷、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)-3-苯基苯基]丙烷、2,2-雙[(2-羥基乙氧基)-3-異丙基苯基]丙烷、2,2-雙[3-第三丁基-4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丁烷、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-4-甲基戊烷、2,2-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]辛烷、1,1-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]癸烷、2,2-雙[3-溴-4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[3-環己基-4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷等所例示般之雙(羥基烷氧基芳基)烷烴類;如1,1-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]環己烷、1,1-雙[3-環己基-4-(2-羥基乙氧基)苯基]環己烷、1,1-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]環戊烷等所例示般之雙(羥基烷氧基芳基)環烷烴類;如4,4'-雙(2-羥基乙氧基)二苯基醚、4,4'-雙(2-羥基乙氧基)-3,3'-二甲基二苯基醚等所例示般之二羥基烷氧基二芳基醚類;如4,4'-雙(2-羥基乙氧基苯基)硫醚、4,4'-雙[4-(2-二羥基乙氧基)-3-甲基苯基]硫醚等所例示般之雙羥基烷氧基芳基硫醚類;如4,4'-雙(2-羥基乙氧基苯基)亞碸、4,4'-雙[4-(2-二羥基乙氧基)-3-甲基苯基]亞碸等所例示般之雙羥基烷氧基芳基亞碸類;如4,4'-雙(2-羥基乙氧基苯基)碸、4,4'-雙[4-(2-二羥基乙氧基)-3-甲基苯基]碸等所例示般之雙羥基烷氧基芳基碸類;1,4-雙羥基乙氧基苯、1,3-雙羥基乙氧基苯、1,2-雙羥基乙氧基苯、1,3-雙[2-
[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙基]苯、1,4-雙[2-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙基]苯、4,4'-雙(2-羥基乙氧基)聯苯、1,3-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-5,7-二甲基金剛烷、以下述式(4)所表示之二羥基化合物為代表之無水糖醇、及下述通式(6)所表示之螺二醇等具有環狀醚結構之化合物,該等可單獨使用,亦可組合兩種以上而使用。
該等二羥基化合物(A)可單獨使用,亦可組合兩種以上而使用。作為上述式(4)所表示之二羥基化合物,可列舉為立體異構物之關係之異山梨糖醇、異甘露糖醇、異艾杜糖醇,該等可單獨使用一種,亦可組合兩種以上而使用。
再者,式(4)所表示之二羥基化合物與其他二羥基化合物之使用比率作為源自構成上述聚碳酸酯樹脂之各二羥基化合物之結構單元之比率而如下文所述。該等二羥基化合物(A)中,就獲得及製造之容易性、光學特性、成形性之方面而言,最佳為將由作為資源而豐富存在且可容易地獲得之各種澱粉所製造之山梨糖醇進行脫水縮合而獲得之異山梨糖醇。
由於異山梨糖醇容易被氧緩慢氧化,因此為了防止於保管、或
製造時之操作時由氧引起之分解,重要的是使用脫氧劑、或設為氮氣環境下。又,亦必須避免混入水分。若異山梨糖醇被氧化,則產生以甲酸為代表之分解物。例如,若使用含有該等分解物之異山梨糖醇製造聚碳酸酯,則成為所獲得之聚碳酸酯產生著色、或使物性顯著劣化之原因。又,亦存在對聚合反應產生影響、無法獲得高分子量之聚合物之情況。
進而,於如添加有防止產生甲酸之穩定劑之情形時,因穩定劑之種類不同而存在所獲得之聚碳酸酯產生著色、或使物性顯著劣化之情形。作為穩定劑,使用還原劑或制酸劑,其中,作為還原劑,可列舉硼氫化鈉、硼氫化鋰等,作為制酸劑,可列舉氫氧化鈉等,但由於添加此種鹼金屬鹽時鹼金屬亦成為聚合觸媒,因此若過度添加,則亦存在變得無法控制聚合反應之情況。
為了獲得不含氧化分解物之異山梨糖醇,可視需要對異山梨糖醇進行蒸餾。又,於為了防止異山梨糖醇之氧化、或分解而調配穩定劑之情形時,為了將該等去除,亦可視需要對異山梨糖醇進行蒸餾。於該情形時,異山梨糖醇之蒸餾可為簡單蒸餾,亦可為連續蒸餾,並無特別限定。將環境設為氬氣或氮氣等惰性氣體環境後,於減壓下實施蒸餾。
例如,對於異山梨糖醇藉由進行此種蒸餾,可製成如甲酸含量未達20ppm、較佳為10ppm以下、更佳為5ppm以下、進而較佳為3ppm以下、尤佳為完全不含甲酸般之高純度。同時,可製成如鹼金屬及/或鹼土金屬化合物之含量相對於異山梨糖醇1莫耳以金屬換算量計為10μmol以下、較佳為5μmol以下、更佳為3μmol以下、進而較佳為1μmol以下、尤佳為完全不含鹼金屬及/或鹼土金屬化合物般之高純度。
於本發明所使用之聚碳酸酯樹脂中,較佳為使用甲酸含量未達
20ppm之二羥基化合物(A)、例如通式(1)所表示之二羥基化合物。進而,甲酸含量較佳為10ppm以下,更佳為5ppm以下,進而較佳為3ppm以下,尤佳為完全不含由二羥基化合物(A)之分解等產生之甲酸。藉由使用該高純度之二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物作為原料,可解決下文所述之聚合反應中之問題點,而穩定且有效率地製造著色等更少之高品質之聚碳酸酯。
作為用以將如上述般甲酸或鹼金屬及/或鹼土金屬化合物之含量較少之二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物供於與碳酸二酯之反應之具體之手段,並無特別限定,例如,可採用如下所述之方法。
在直到即將與碳酸二酯進行反應前,較佳為將高純度之二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物保管於惰性氣體環境或者減壓或真空環境等不存在氧之環境下。自該保管狀態取出後,於為40℃、80%RH之環境下之保管之情形時,較佳為通常於2週以內、更佳為1週以內供給至與碳酸二酯之反應系。若為40℃、80%RH之環境下之保管,則通常於2週以內、較佳為1週以內期間,即便將上述式(4)所表示之二羥基化合物放置於大氣中,亦不存在阻礙聚合之情況。於溫度低於40℃、濕度低於80%RH之情形時,可進一步延長保管時間。
此處,所謂惰性氣體環境下,可列舉氮氣、氬氣等一種或兩種以上之氧含量為1000ppm以下、尤其是完全不含氧之環境下,又,所謂減壓環境下,可列舉13.3kPa以下且氧含量100ppm以下之環境下。於該保管系統內,可視需要而共存以鐵粉為主成分之脫氧劑,例如AGELESS(三菱瓦斯化學股份有限公司製造)、OKISHITA(上野製藥股份有限公司製造)等脫氧劑,或矽膠、分子篩、氧化鋁等乾燥劑。
又,若二羥基化合物(A)、例如異山梨糖醇被氧化,則會產生以
甲酸為代表之分解物,因此亦有效的是於低溫下保管以避免產生。
若保管溫度為40℃以下,使脫氧劑共存,於惰性氣體環境下保持氧濃度1000ppm以下之環境,則1個月內可供於聚合。保管溫度為40℃以下,較佳為25℃以下,進而較佳為10℃以下,尤佳為5℃以下。
粉體、或碎片狀之異山梨糖醇即便於濕度為80%RH之類之高濕度下亦可保管,但會因吸濕而引起質量變化,因此為避免吸收水分,較佳為於鋁製防濕袋等中密封保管,或於惰性氣體環境下保管。
進而,該等條件可適當組合使用。
再者,於將二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物供於與下文所述之碳酸二酯之反應之情形時,其形態並無特別限定,可為粉末狀、碎片狀,亦可為熔融狀態或水溶液等液狀。
於上述聚碳酸酯樹脂中,作為二羥基化合物,亦可使用作為二羥基化合物(A)以外之二羥基化合物之二羥基化合物(B)。可將作為二羥基化合物(B)之例如脂環式二羥基化合物、脂肪族二羥基化合物、氧伸烷基二醇類、芳香族二羥基化合物、具有環狀醚結構之二醇類等與作為成為聚碳酸酯之結構單元之二羥基化合物之二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物一併使用。
作為可用於上述聚碳酸酯樹脂之脂環式二羥基化合物,並無特別限定,較佳為使用通常含有5員環結構或6員環結構之化合物。又,6員環結構可藉由共價鍵而固定為椅子形或舟形。藉由脂環式二羥基化合物為5員環或6員環結構,可提高所獲得之聚碳酸酯之耐熱性。脂環式二羥基化合物所含之碳原子數通常為70以下,較佳為50以下,進而較佳為30以下。該值越大,耐熱性越高,但越難以合成,或越難以精製,或成本越高。碳原子數越小,越容易精製,且越容易獲得。
作為含有5員環結構或6員環結構之脂環式二羥基化合物,具體而言,可列舉下述通式(II)或(III)所表示之脂環式二羥基化合物。
HOCH2-R1-CH2OH (II)
HO-R2-OH (III)
(式(II)、(III)中,R1、R2分別表示碳數4~20之伸環烷基)
作為上述通式(II)所表示之作為脂環式二羥基化合物之環己烷二甲醇,包含通式(II)中R1為下述通式(IIa)(式中,R3表示碳數1~12之烷基或氫原子)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可列舉1,2-環己烷二甲醇、1,3-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇等。
作為上述通式(II)所表示之作為脂環式二羥基化合物之三環癸烷二甲醇、五環十五烷二甲醇,包含通式(II)中R1為下述通式(IIb)(式中,n表示0或1)所表示之各種異構物。
作為上述通式(II)所表示之作為脂環式二羥基化合物之十氫萘二甲醇、或三環十四烷二甲醇,包含通式(II)中R1為下述通式(IIc)(式中,m表示0、或1)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可列舉2,6-十氫萘二甲醇、1,5-十氫萘二甲醇、2,3-十氫萘二甲醇等。
又,作為上述通式(II)所表示之作為脂環式二羥基化合物之降烷二甲醇,包含通式(II)中R1為下述通式(IId)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可列舉2,3-降烷二甲醇、2,5-降烷二甲醇等。
作為通式(II)所表示之作為脂環式二羥基化合物之金剛烷二甲醇,包含通式(II)中R1為下述通式(IIe)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可列舉1,3-金剛烷二甲醇等。
[化7]
又,上述通式(III)所表示之作為脂環式二羥基化合物之環己二醇包含通式(III)中R2為下述通式(IIIa)(式中,R3表示碳數1~12之烷基或氫原子)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可列舉1,2-環己二醇、1,3-環己二醇、1,4-環己二醇、2-甲基-1,4-環己二醇等。
作為上述通式(III)所表示之作為脂環式二羥基化合物之三環癸二醇、五環十五烷二醇,包含通式(III)中R2為下述通式(IIIb)(式中,n表示0或1)所表示之各種異構物。
作為上述通式(III)所表示之作為脂環式二羥基化合物之十氫萘二醇或三環十四烷二醇,包含通式(III)中R2為下述通式(IIIc)(式中,m表示0、或1)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可使用
2,6-十氫萘二醇、1,5-十氫萘二醇、2,3-十氫萘二醇等。
作為上述通式(III)所表示之作為脂環式二羥基化合物之降烷二醇,包含通式(III)中R2為下述通式(IIId)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可使用2,3-降烷二醇、2,5-降烷二醇等。
作為上述通式(III)所表示之作為脂環式二羥基化合物之金剛烷二醇,包含通式(III)中R2為下述通式(IIIe)所表示之各種異構物。作為此種物質,具體而言,可使用1,3-金剛烷二醇等。
上述之脂環式二羥基化合物之具體例中,尤佳為環己烷二甲醇類、三環癸烷二甲醇類、金剛烷二醇類、五環十五烷二甲醇類,就獲得容易性、操作容易性之觀點而言,較佳為1,4-環己烷二甲醇、1,3-環己烷二甲醇、1,2-環己烷二甲醇、三環癸烷二甲醇。
作為可使用之脂肪族二羥基化合物,例如可列舉:乙二醇、1,3-丙二醇、1,2-丙二醇、1,4-丁二醇、1,3-丁二醇、1,2-丁二醇、1,5-庚二醇、1,6-己二醇等。
作為可使用之氧伸烷基二醇類,例如可列舉:二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇等。
作為可使用之芳香族二羥基化合物,例如可列舉:2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷[=雙酚A]、2,2-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二乙基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-(3,5-二苯基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基-3,5-二溴苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)戊烷、2,4'-二羥基-二苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-5-硝基苯基)甲烷、1,1-雙(4-羥基苯基)乙烷、3,3-雙(4-羥基苯基)戊烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、雙(4-羥基苯基)碸、2,4'-二羥基二苯基碸、雙(4-羥基苯基)硫醚、4,4'-二羥基二苯基醚、4,4'-二羥基-3,3'-二氯二苯基醚、4,4'-二羥基-2,5-二乙氧基二苯基醚、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基)苯基]茀、9,9-雙[4-(2-羥基乙氧基-2-甲基)苯基]茀、9,9-雙(4-羥基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-2-甲基苯基)茀等。
作為可使用之具有環狀醚結構之二醇類,例如,可列舉螺二醇類、二烷二醇類。
再者,上述例示化合物係可用於本發明之脂環式二羥基化合物、脂肪族二羥基化合物、氧伸烷基二醇類、芳香族二羥基化合物、具有環狀醚結構之二醇類之一例,並不受該等任何限定。可將一種或兩種以上之該等化合物與式(4)所表示之二羥基化合物一併使用。
藉由使用該等二羥基化合物(B),可獲得適應於用途之柔軟性之改善、耐熱性之提高、成形性之改善等效果。二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物相對於構成聚碳酸酯樹脂之全部二羥基化合物之比率並無特別限定,較佳為10莫耳%以上,更佳為40莫耳%以上,進而較佳為60莫耳%以上,且較佳為90莫耳%以下,更佳為80莫耳%以下,進而較佳為70莫耳%以下。若源自其他二羥基化合物之結構單元之含有比率過多,則存在降低光學特性等性能等情況。
上述其他二羥基化合物中,於使用脂環式二羥基化合物之情形時,二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物與脂環式二羥基化合物之合計相對於構成聚碳酸酯之全部二羥基化合物之比率並無特別限定,較佳為80莫耳%以上,更佳為90莫耳%以上,尤佳為95莫耳%以上。
又,關於聚碳酸酯樹脂中源自二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元與源自脂環式二羥基化合物之結構單元之含有比率,可選擇任意比率,較佳為源自式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元:源自脂環式二羥基化合物之結構單元=1:99~99:1(莫耳%),尤佳為源自式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元:源自脂環式二羥基化合物之結構單元=10:90~90:10(莫耳%)。若源自式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元多於上述範圍而源自脂環式二羥基化合物之結構單元少於上述範圍,則變得容易著色,相反地,若源自式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元少於上述範圍而源自脂環式二羥基化合物之結構單元多於上述範圍,則有分子量變得難以增大之傾向。
進而,於使用脂肪族二羥基化合物、氧伸烷基二醇類、芳香族二羥基化合物、具有環狀醚結構之二醇類之情形時,二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物與該等各二羥基化合物之合計
相對於構成聚碳酸酯之全部二羥基化合物之比率並無特別限定,可選擇任意比率。又,源自二羥基化合物(A)、例如式(4)所表示之二羥基化合物之結構單元與源自該等各二羥基化合物之結構單元之含有比率亦無特別限定,可選擇任意比率。
此處,具有源自上述二羥基化合物之結構單元之聚碳酸酯樹脂(以下有時將其稱為「聚碳酸酯共聚物」)之聚合度較佳為使用苯酚與1,1,2,2-四氯乙烷之質量比1:1之混合溶液作為溶劑,將聚碳酸酯濃度精確製備為1.00g/dl,作為於溫度30.0℃±0.1℃下所測得之還原黏度(以下,簡稱為「聚碳酸酯之還原黏度」)較佳為0.40dl/g以上,更佳為0.43dl/g以上,又,通常為2.00dl/g以下,較佳為1.60dl/g以下之聚合度。若該聚碳酸酯還原黏度極低,則多數情況下成形時之機械強度較弱。又,若聚碳酸酯之還原黏度變大,則有如下傾向:成形時之流動性降低,而降低循環特性,成形週期變長,又,所獲得之成形品之雙折射易變大。
又,聚碳酸酯樹脂之阿貝數較佳為20以上,更佳為50以上,尤佳為55以上。該值越大,折射率之波長分散越小,像差越小,作為光學用膜越佳。阿貝數越小,折射率之波長分散越大,色像差越大。因此,阿貝數之值越大越佳,其上限並無特別限定。
又,聚碳酸酯樹脂之5%熱減量溫度較佳為340℃以上,更佳為345℃以上。5%熱減量溫度越高,熱穩定性越高,越可耐受於更高溫度下之使用。又,亦可提高製造溫度,製造時之控制範圍可進一步變廣,因此變得越容易製造。5%熱減量溫度越低,熱穩定性越低,於高溫下越難以使用。又,製造時之控制容許範圍越小,而越難以製造。因此,5%熱減量溫度之上限並無特別限定,越高越佳,共聚物之分解溫度成為上限。
又,聚碳酸酯樹脂之艾氏衝擊強度較佳為30J/m2以上。艾氏衝
擊強度越大,成形體之強度越高,而越不易損壞,因此上限並無特別限定。
又,聚碳酸酯樹脂於110℃下之每單位面積之酚成分以外之產生氣體量(以下有時簡稱為「產生氣體量」)較佳為5ng/cm2以下,又,源自式(4)所表示之二羥基化合物以外之二羥基化合物之產生氣體量更佳為0.5ng/cm2以下。
聚碳酸酯樹脂於進行示差掃描熱量測定(differential scanning calorimetry,DSC)時,提供單一之玻璃轉移溫度,藉由調整式(4)所表示之二羥基化合物與脂環式二羥基化合物之種類或調配比,可根據用途而以具有例如45℃左右至155℃左右之任意之玻璃轉移溫度之聚合物之形式獲得該玻璃轉移溫度。
於膜用途方面,通常必需柔軟性,因此較佳為將聚碳酸酯樹脂之玻璃轉移溫度調整為45℃以上、例如45~130℃。
於聚碳酸酯樹脂中,較佳為至少同時具有上述物性中之兩種,更佳為進而兼具其他物性。
聚碳酸酯樹脂可藉由在聚合觸媒之存在下使含有上述二羥基化合物(A)之二羥基化合物與碳酸二酯進行反應之熔融聚合法而製造。
作為聚碳酸酯樹脂之製造方法所使用之碳酸二酯,例如,可例示以碳酸二苯酯、碳酸二甲苯酯為代表之取代碳酸二苯酯、碳酸二甲酯、碳酸二乙酯及碳酸二第三丁酯等,尤佳可列舉碳酸二苯酯及經取代之碳酸二苯酯。該等碳酸二酯可單獨使用一種,亦可混合兩種以上而使用。
碳酸二酯相對於用於反應之全部二羥基化合物,較佳為以0.90~1.10之莫耳比率使用,進而較佳為0.96~1.04之莫耳比率。若該莫耳比小於0.90,則存在如下情形:所製造之聚碳酸酯之末端OH基增
加,聚合物之熱穩定性惡化,或無法獲得所需之高分子量體。又,若該莫耳比大於1.10,則於相同條件下,不僅酯交換反應之速度降低,或難以製造所需之分子量之聚碳酸酯,而且亦存在如下情況:所製造之聚碳酸酯共聚物中之殘存碳酸二酯量增加,該殘存碳酸二酯成為成形時、或成形品之臭氣之原因。
於組合使用第一相位差層20與下文所述之第二相位差層60之實施形態中,相位差層20較佳為可由環狀烯烴系樹脂所形成。環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元聚合之樹脂之總稱,例如,可列舉日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等所記載之樹脂。作為具體例,可列舉:環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(代表性而言為無規共聚物)、及藉由不飽和羧酸或其衍生物將該等改性而成之接枝改性體、以及該等之氫化物。作為環狀烯烴之具體例,可列舉降烯系單體。作為降烯系單體,例如可列舉:降烯、及其烷基及/或亞烷基取代體,例如5-甲基-2-降烯、5-二甲基-2-降烯、5-乙基-2-降烯、5-丁基-2-降烯、5-亞乙基-2-降烯等,該等之鹵素等極性基取代體;二環戊二烯、2,3-二氫二環戊二烯等;二亞甲基八氫萘、其烷基及/或亞烷基取代體、及鹵素等極性基取代體,例如6-甲基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-乙基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-亞乙基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-氯-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-氰基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-吡啶基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘、6-甲氧基羰基-1,4:5,8-二亞甲基-1,4,4a,5,6,7,8,8a-八氫萘等;環戊二烯之三聚物~四聚物,例如4,9:5,8-二亞甲基-3a,4,4a,5,8,8a,9,9a-八氫-1H-苯并茚、4,11:5,10:6,9-
三亞甲基-3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a-十二氫-1H-環戊并蒽等。
於本發明中,於無損本發明之目的之範圍內,可併用可開環聚合之其他環烯烴類。作為此種環烯烴之具體例,例如,可列舉環戊烯、環辛烯、5,6-二氫二環戊二烯等具有1個反應性之雙鍵之化合物。
上述環狀烯烴系樹脂之藉由利用甲苯溶劑之凝膠滲透層析(GPC)法測定而獲得之數量平均分子量(Mn)較佳為25,000~200,000,進而較佳為30,000~100,000,最佳為40,000~80,000。若數量平均分子量為上述範圍,則可製成機械強度優異、溶解性、成形性、流鑄之操作性良好者。
相位差層20例如可藉由將由上述樹脂所形成之膜延伸而獲得。作為由上述樹脂形成膜之方法,可採用任意合適之成形加工法。作為具體例,可列舉壓縮成形法、轉移成形法、射出成形法、擠出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP(Fiber Reinforced Plastic,纖維強化塑膠)成形法、塗鑄法(例如,流鑄法)、壓延成形法、熱壓法等。較佳為擠出成形法或塗鑄法。其原因在於,可提高所獲得之膜之平滑性,獲得良好之光學均一性。成形條件可根據所使用之樹脂之組成或種類、相位差層所需之特性等而適當設定。再者,關於上述樹脂,由於大量膜製品於市面上銷售,因此亦可將該市售膜直接供於延伸處理。
上述膜之延伸倍率可根據相位差層所需之面內相位差值及厚度、所使用之樹脂之種類、所使用之膜之厚度、延伸溫度等而變化。具體而言,延伸倍率較佳為1.75倍~3.00倍,進而較佳為1.80倍~2.80倍,最佳為1.85倍~2.60倍。藉由以此種倍率進行延伸,可獲得具有可適當發揮本發明之效果之面內相位差之相位差層。
上述膜之延伸溫度可根據相位差層所需之面內相位差值及厚
度、所使用之樹脂之種類、所使用之膜之厚度、延伸倍率等而變化。具體而言,延伸溫度較佳為125℃~150℃,進而較佳為130℃~140℃,最佳為130℃~135℃。藉由在此種溫度下進行延伸,可獲得具有可適當發揮本發明之效果之面內相位差之相位差層。
作為上述膜之延伸方法,可採用任意合適之延伸方法。具體而言,可單獨使用如下延伸方法,亦可同時或逐次使用如下延伸方法:自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法。關於延伸方向,可沿水平方向、垂直方向、厚度方向、對角方向等各種方向或維度進行。
於一實施形態中,相位差層係藉由將樹脂膜進行自由端單軸延伸或固定端單軸延伸而形成。作為自由端單軸延伸之具體例,可列舉一面使樹脂膜沿長度方向移行,一面於周速不同之輥間延伸之方法。作為固定端單軸延伸之具體例,可列舉一面使樹脂膜沿長度方向移行,一面沿寬度方向(橫向)延伸之方法。
於另一實施形態中,相位差層係藉由將長條狀之樹脂膜沿相對於長度方向為特定角度之方向連續斜向延伸而製作。藉由採用斜向延伸,可獲得具有相對於膜之長度方向為特定角度之配向角(沿特定角度之方向具有遲相軸)之長條狀之延伸膜,例如,在與偏光元件積層時可實現卷對卷,而可簡化製造步驟。再者,所謂卷對卷係指一面以輥搬送膜一面使長條方向對齊而積層之方式。
作為斜向延伸所使用之延伸機,例如,可列舉可對橫向及/或縱向施加速度左右不同之進給力、或者拉伸力或承接力之拉輻式延伸機。拉輻式延伸機包括橫單軸延伸機、同時雙軸延伸機等,只要可使長條狀之樹脂膜連續斜向延伸,則可使用任意合適之延伸機。
如上所述,另一相位差層(第二相位差層)60可作為λ/2板而發揮
功能。此種相位差層之面內相位差Re(550)為180nm~320nm,更佳為200nm~290nm,進而較佳為230nm~280nm。另一相位差層60代表性而言具有nx>ny=nz或nx>ny>nz之折射率橢圓體。另一相位差層之Nz係數例如為0.9~2,較佳為1~1.5,更佳為1~1.3。
另一相位差層之厚度可設定為可作為λ/2板最適當地發揮功能。換言之,厚度可以獲得所需之面內相位差之方式而設定。具體而言,厚度較佳為10μm~60μm,更佳為30μm~50μm。
另一相位差層含有光彈性係數之絕對值較佳為2.0×10-11m2/N以下、更佳為2.0×10-13m2/N~1.5×10-11m2/N、進而較佳為1.0×10-12m2/N~1.2×10-11m2/N之樹脂。若光彈性係數為此種範圍,則於加熱時產生收縮應力之情形時不易產生相位差變化。因此,藉由使用具有此種光彈性係數之樹脂形成相位差層,可良好地防止所獲得之有機EL顯示裝置之熱斑。
另一相位差層可表現出相位差值根據測定光之波長而變大之逆分散波長特性,亦可表現出相位差值根據測定光之波長而變小之正波長分散特性,亦可表現出相位差值幾乎不隨測定光之波長發生變化之平穩之波長分散特性。較佳為表現出平穩之波長分散特性。藉由採用具有平穩之波長分散特性之λ/4板(相位差層),可實現優異之抗反射特性及傾斜方向之反射色相。相位差層之Re(450)/Re(550)較佳為0.99~1.03,Re(650)/Re(550)較佳為0.98~1.02。另一相位差層(第二相位差層)較佳為可由環狀烯烴系樹脂形成。關於環狀烯烴系樹脂及第二相位差層之形成方法,如關於第一相位差層而於上述A-3項所說明般。
障壁層30具有針對水分及氣體(例如氧氣)之障壁性。障壁層之於40℃、90%RH條件下之水蒸氣透過率(透濕度)較佳為0.2g/m2/24hr以下,更佳為0.1g/m2/24hr以下,進而較佳為0.05g/m2/24hr以下。另
一方面,透濕度之下限例如為0.001g/m2/24hr,較佳為0.005g/m2/24hr。障壁層之於60℃、90%RH條件下之阻氣性較佳為1.0×10-7g/m2/24hr~0.5g/m2/24hr,更佳為1.0×10-7g/m2/24hr~0.1g/m2/24hr。若透濕度及阻氣性為此種範圍,則於將圓偏光板貼合於有機EL面板之情形時,可良好地保護有機EL面板不受空氣中之水分及氧氣影響。又,就光學特性之方面而言,阻氣層之全光線透過率較佳為70%以上,更佳為75%以上,進而較佳為80%以上。
作為障壁層30,只要具有上述所需之特性,則可採用任意合適之構成。於一實施形態中,障壁層30包含無機薄膜與增黏塗層之積層結構。於該情形時,障壁層30可以無機薄膜成為有機EL面板側(距偏光元件較遠之側)之方式形成於相位差層上。於另一實施形態中,無機薄膜可直接形成於相位差層上。
上述無機薄膜係由任意合適之無機化合物形成。無機薄膜較佳為含有選自由氧化物、氮化物、氫化物及其複合化合物所組成之群中之至少一種無機化合物。具體而言,無機化合物不僅為氧化物、氮化物或氫化物單一成分,而且可為氧化物、氮化物及/或氫化物之複合化合物。藉由使用此種化合物,透明性可進一步優異。形成無機薄膜之無機化合物可具有任意合適之結構。具體而言,可具有完全之晶體結構,亦可具有非晶結構。
作為構成上述無機化合物之元素,可列舉:碳(C)、矽(Si)、鋁(Al)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鉀(K)、鋅(Zn)、錫(Sn)、鎳(Ni)、鈉(Na)、硼(B)、鈦(Ti)、鉛(Pb)、鋯(Zr)、釔(Y)、烴、以及該等之氧化物、碳化物、氮化物及該等之混合物。該等可單獨使用,或可組合兩種以上而使用。該等中,較佳為使用碳、矽、鋁。作為無機化合物之具體例,可列舉類鑽碳(DLC)、矽氮化物(SiNx)、矽氧化物(SiOy)、鋁氧化物(AlOz)、鋁氮化物等。作為SiNx之x之值,較佳為0.3~2。作為SiOy之
y之值,較佳為1.3~2.5。作為AlOz之z之值,較佳為0.7~2.3。尤佳為矽氧化物、鋁氧化物。其原因在於可穩定維持較高之阻氣性。
無機薄膜可採用任意合適之構成。具體而言,無機薄膜可由單一層形成,亦可為複數層之積層體。作為無機薄膜為積層體之情形時之具體例,可列舉無機氧化物層/無機氮化物層/無機氧化物層(例如,SiOy層/SiNx層/SiOy層)之3層構成等。
作為無機薄膜之形成方法,可採用任意合適之方法。作為具體例,可列舉蒸鍍法、塗佈法。就獲得障壁性較高之均勻之薄膜之方面而言,較佳為蒸鍍法。蒸鍍法包含真空蒸鍍、離子電鍍、濺鍍等PVD(Physical Vapor Deposition,物理氣相蒸鍍法)、CVD(chemical vapor deposition,化學氣相蒸鍍法)。
無機薄膜之厚度較佳為0.1nm~5000nm,更佳為0.5nm~1000nm,進而較佳為10nm~1000nm,尤佳為30nm~500nm,特別較佳為50nm~200nm。若為此種範圍,則可獲得具有充分之障壁性、不產生龜裂或剝離、透明性優異之無機薄膜。
作為增黏塗層之形成材,可採用任意合適之材料。作為該材料,可列舉樹脂、烴、金屬、金屬氧化物及金屬氮化物。
增黏塗層例如係由樹脂組合物形成。樹脂組合物所使用之樹脂可為溶劑系,亦可為水系。又,樹脂可為熱塑性樹脂,亦可為熱硬化性樹脂,亦可為光硬化性樹脂。作為樹脂之具體例,可列舉:聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、硝基纖維素系樹脂、矽系樹脂、含醇性羥基之樹脂(乙烯醇系樹脂、乙烯-乙烯醇系樹脂等)、乙烯系改性樹脂、含異氰酸酯基之樹脂、碳二醯亞胺系樹脂、含烷氧基之樹脂、環氧系樹脂、含唑啉基之樹脂、改性苯乙烯系樹脂、改性矽系樹脂、鈦酸烷基酯。
於一實施形態中,樹脂組合物含有熱硬化性樹脂或光硬化性樹
脂。熱硬化性樹脂可列舉可藉由施加熱能而硬化、硬化後可形成透明且平坦之面之樹脂。作為代表例,可列舉:聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸酯、鄰苯二甲酸甲酯均聚物或共聚物、聚對苯二甲酸乙二酯、聚苯乙烯、二乙二醇雙(烯丙基碳酸酯)、丙烯腈/苯乙烯共聚物、聚(-4-甲基戊烯-1)、酚系樹脂、環氧樹脂、氰酸酯系樹脂、順丁烯二醯亞胺樹脂、聚醯亞胺樹脂等,又,可列舉藉由聚乙烯丁醛、丙烯腈-丁二烯橡膠、多官能性丙烯酸酯化合物等將該等改性而成者,或藉由交聯聚乙烯樹脂、交聯聚乙烯/環氧樹脂、交聯聚乙烯/氰酸酯系樹脂、聚苯醚/環氧樹脂、聚苯醚/氰酸酯系樹脂等熱塑性樹脂將該等改性而成之熱硬化性樹脂等。該等可單獨使用,或可組合兩種以上而使用。作為光硬化性樹脂,可列舉:含有具有自由基反應性不飽和化合物之丙烯酸酯化合物之樹脂組合物;或含有丙烯酸酯化合物與具有硫醇基之巰基化合物之樹脂組合物;使環氧丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯等低聚物溶解於多官能丙烯酸酯單體中而成之樹脂組合物等。該等可單獨使用,或可組合兩種以上而使用。
於另一實施形態中,就阻氣性之觀點而言,樹脂組合物含有選自由聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、含異氰酸酯基之樹脂、含唑啉基之樹脂、碳二醯亞胺系樹脂、含醇性羥基之樹脂及該等樹脂之共聚物所組成之群中之至少一種樹脂。較佳為聚酯系樹脂。
聚酯系樹脂可藉由使多元羧酸成分與多元醇成分反應而獲得。作為多元羧酸成分,可例示:對苯二甲酸、間苯二甲酸、己二酸、癸二酸、壬二酸、鄰苯二甲酸、二苯基羧酸、鄰苯二甲酸二甲酯等,作為多元醇成分,可例示:乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、二乙二醇、新戊二醇、二丙二醇、1,6-己二醇、雙酚A等。
關於構成增黏塗層之樹脂之分子量,就阻氣性、密接性之觀點而言,數量平均分子量較佳為3,000~30,000,更佳為4,000~28,000,進而較佳為5,000~25,000。
就提高層間之密接性之觀點而言,較佳為於形成增黏塗層之樹脂組合物中添加矽烷偶合劑。作為矽烷偶合劑,例如可列舉:β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑;γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β(胺基乙基)γ-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷、N-β(胺基乙基)γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-β(胺基乙基)γ-胺基丙基三乙氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑等、及該等之混合物。就層間之密接性之觀點而言,作為較佳之矽烷偶合劑,可列舉γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、及γ-胺基丙基三甲氧基矽烷。該等矽烷偶合劑可單獨使用一種,亦可組合兩種以上而使用。就密接性之觀點而言,矽烷偶合劑相對於形成增黏塗層之樹脂,係以較佳為0.1~80質量%、進而較佳為1~50質量%之比率添加。
形成增黏塗層之樹脂組合物較佳為含有硬化劑,作為硬化劑,較佳為使用聚異氰酸酯。具體而言,例如可列舉:六亞甲基二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯等脂肪族聚異氰酸酯;或二甲苯二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯、萘二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯等。就提高障壁性之觀點而言,尤佳為2官能以上之聚異氰酸酯。
可視需要而於形成增黏塗層之樹脂組合物中調配任意合適之添加劑。作為此種添加劑,可列舉:甘油、乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇等多元醇;水性環氧樹脂;甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇等低級醇;乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚、丙二醇二乙基醚、二乙二醇單乙醚、丙二醇單乙醚等醚類;丙二醇單乙酸酯、乙二醇單乙酸酯等酯
類;抗氧化劑、耐候穩定劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、顏料、染料、抗菌劑、潤滑劑、無機填充劑、抗黏連劑、接著劑、塑化劑等。又,亦可以提高成膜性及防止針孔等為目的而添加合適之樹脂或添加劑。
作為形成增黏塗層之金屬,就障壁性、密接性之觀點而言,較佳可列舉鉻、鋁、矽、鎳、鈦、錫、鐵、鉬等或該等兩種以上之合金。又,作為金屬氧化物或金屬氮化物,就障壁性、密接性之觀點而言,較佳可列舉上述金屬之氧化物、氮化物。較佳為鉻、矽氧化物、鋁氧化物、鈦氧化物、矽氮化物、鋁氮化物、鈦氮化物,更佳為氧化矽、氮化矽。
作為形成增黏塗層之烴,例如可列舉類鑽碳。
增黏塗層之厚度較佳為0.1nm~5000nm,更佳為10nm~2000nm,進而較佳為100nm~1000nm,尤佳為300nm~600nm。
作為增黏塗層之形成方法,可採用任意合適之方法。於使用樹脂組合物之情形時,作為形成方法,例如可列舉塗佈及浸漬。作為塗佈方法之具體例,可列舉:逆輥塗佈機、凹版塗佈機、桿式塗佈機、氣刀塗佈機、噴霧及刷塗。塗佈或浸漬後,藉由對塗佈層或由浸漬形成之層進行任意合適之乾燥處理使溶劑蒸發,而可形成均勻之增黏塗層。作為乾燥處理,例如,可列舉熱風乾燥或熱輥乾燥等加熱乾燥、紅外線乾燥。加熱溫度例如為80℃~200℃左右。為了提高耐水性、耐久性,可對所形成之增黏塗層進行利用能量線照射之交聯處理。
於使用金屬、金屬氧化物或金屬氮化物之情形時,作為形成方法,可列舉蒸鍍法、塗佈法。就獲得密接性較高之均勻之薄膜之方面而言,較佳為蒸鍍法。作為蒸鍍法之代表例,可列舉真空蒸鍍、離子電鍍、濺鍍等PVD(物理氣相蒸鍍法)、及CVD(化學氣相蒸鍍法)。
為了改良增黏塗層形成材對增黏塗層形成面(於本發明中為相位
差層表面)之塗佈性、接著性,可於塗佈前對該面實施任意合適之表面處理(例如,化學處理、放電處理)。又,可於形成障壁層前對增黏塗層實施此種表面處理。
可於障壁層之表面側(無機薄膜側、黏著劑層側)形成保護層。代表性而言,保護層由樹脂形成。形成保護層之樹脂可為溶劑性,亦可為水性。作為具體例,可列舉:聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂系、丙烯酸系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、乙烯-不飽和羧酸共聚物、乙烯-乙烯醇系樹脂、乙烯改性樹脂、硝基纖維素系樹脂、矽系樹脂、異氰酸酯系樹脂、環氧系樹脂、含唑啉基之樹脂、改性苯乙烯系樹脂、改性矽系樹脂、鈦酸烷基酯。該等可單獨使用,亦可組合使用。為了提高障壁性、耐磨性、滑動性,可於保護層中添加無機粒子。作為無機粒子,例如,可列舉矽溶膠、氧化鋁溶膠、粒子狀無機填料及層狀無機填料。該等可單獨使用,亦可組合使用。無機粒子可藉由混合而添加,亦可藉由在無機粒子存在下使上述樹脂之單體聚合而添加。
作為形成保護層之樹脂,就提高無機薄膜之阻氣性之方面而言,較佳為水性樹脂,進而較佳為乙烯醇樹脂或乙烯-乙烯醇樹脂。亦較佳為聚乙烯醇與乙烯-不飽和羧酸共聚物之摻合物。
保護層之形成方法與上述之使用樹脂組合物形成增黏塗層之方法相同。保護層之厚度較佳為0.05μm~10μm,進而較佳為0.1μm~3μm。
障壁層30可為單一層,亦可包含複數層。此處,提及「1層障壁層」時意指包含增黏塗層、無機薄膜及視需要之保護層之結構單元層為1層。於障壁層包含複數層之情形時,結構單元層之層數較佳為1層~10層,更佳為1層~5層。於該情形時,各結構單元層可相同,亦可不同。
黏著劑層40如上所述,具有障壁功能。藉由對圓偏光板之黏著劑層賦予障壁功能,利用與障壁層之協同效應,可獲得具有優異之有機EL面板保護功能之圓偏光板。進而,與在有機EL面板中形成障壁層之情形相比,可以優異之製造效率製作有機EL顯示裝置。作為具有障壁功能之黏著劑,例如,可列舉以橡膠系聚合物作為基礎聚合物之橡膠系黏著劑組合物。
作為橡膠系聚合物,例如可列舉:藉由使一種共軛二烯化合物聚合而獲得之共軛二烯系聚合物、藉由使兩種以上之共軛二烯化合物聚合而獲得之共軛二烯系共聚物、藉由使共軛二烯化合物與芳香族乙烯系化合物共聚合而獲得之共軛二烯系共聚物、及該等之氫化物。
作為共軛二烯化合物,只要為具有可聚合之共軛二烯之單體,則無特別限定。作為共軛二烯化合物之具體例,可列舉:1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、3-甲基-1,3-戊二烯、1,3-庚二烯、1,3-己二烯。該等中,就工業上獲得之容易性之觀點而言,較佳為1,3-丁二烯、異戊二烯。共軛二烯化合物可單獨使用,亦可組合使用。
作為芳香族乙烯系化合物,只要為具有可與共軛二烯化合物共聚合之芳香族乙烯基結構之單體,則無特別限定。作為芳香族乙烯系化合物之具體例,可列舉:苯乙烯、對甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基乙基苯、乙烯基二甲苯、乙烯基萘、二苯乙烯等。該等中,就工業上獲得之容易性之觀點而言,較佳為苯乙烯。芳香族乙烯系化合物可單獨使用,亦可組合使用。
二烯系共聚物可為無規共聚物,亦可為嵌段共聚物。又,亦可使共軛二烯化合物、芳香族乙烯系化合物以外之化合物共聚合而獲得二烯系共聚物。
藉由使共軛二烯化合物與芳香族乙烯系化合物共聚合而獲得之
共軛二烯系共聚物較佳為共軛二烯化合物與芳香族乙烯系化合物之莫耳比為共軛二烯化合物/芳香族乙烯基化合物=10/90~90/10(莫耳%)。
作為此種共軛二烯系(共)聚合物之具體例,可列舉:丁二烯橡膠(BR)、異戊二烯橡膠(IR)、苯乙烯-丁二烯共聚物(SBR)、丁二烯-異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、苯乙烯-異戊二烯嵌段共聚物(SIS)、丁二烯-苯乙烯共聚物、苯乙烯-乙烯-丁二烯嵌段共聚物(SEBS)、丙烯腈-丁二烯橡膠(NBR)。該等可單獨使用,亦可組合使用。該等中,較佳為異戊二烯-苯乙烯共聚物。又,亦可較佳地使用該等之氫化物。
作為橡膠系聚合物,除了共軛二烯系(共)聚合物以外,亦可使用異丁烯(IB)、苯乙烯-異丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIBS)、苯乙烯-乙烯丙烯共聚物-苯乙烯嵌段共聚物等。橡膠系聚合物可單獨使用,亦可組合使用。
本發明可使用之橡膠系聚合物於橡膠系聚合物整體中含有較佳為50重量%以上、更佳為70重量%以上、進而較佳為80重量%以上、尤佳為90重量%以上之上述共軛二烯系(共)聚合物。共軛二烯系(共)聚合物之含量之上限並無特別限定,可為100重量%(即僅由共軛二烯系(共)聚合物構成之橡膠系聚合物)。
如上所述,黏著劑組合物含有橡膠系聚合物作為基礎聚合物。黏著劑組合物中之橡膠系聚合物之含量較佳為40重量%以上,更佳為50重量%以上,進而較佳為60重量%以上。橡膠系聚合物之含量之上限並無特別限定,例如為90重量%以下。
黏著劑組合物除了含有橡膠系聚合物以外,亦可進而含有任意合適之添加劑。作為添加劑之具體例,可列舉:交聯劑(例如,聚異氰酸酯、環氧化合物、烷基醚化三聚氰胺化合物等)、黏著賦予劑(例
如,松香衍生物樹脂、聚萜烯樹脂、石油樹脂、油溶性酚系樹脂、乙烯基甲苯樹脂等)、塑化劑、填充劑(例如,層狀矽酸鹽、黏土材料等)、抗老化劑。於黏著劑組合物中添加之添加劑之種類、組合、添加量等可根據目的而適當設定。黏著劑組合物中之添加劑之含量(總量)較佳為60重量%以下,更佳為50重量%以下,進而較佳為40重量%以下。
黏著劑層40之厚度例如為1μm~300μm左右,較佳為1μm~200μm,更佳為2μm~100μm,進而較佳為25μm~100μm。
如上所述,黏著劑層40具有障壁性,代表性而言,具有針對水分及氣體(例如氧氣)之障壁性。黏著劑層於厚度為100μm時之40℃、90%RH條件下之水蒸氣透過率(透濕度)較佳為200g/m2/24hr以下,更佳為150g/m2/24hr以下,進而較佳為100g/m2/24hr以下,尤佳為70g/m2/24hr以下。透濕度之下限例如為5g/m2/24hr,較佳為15g/m2/24hr。若黏著劑層之透濕度為此種範圍,則藉由與上述障壁層之障壁性之協同效應,於將圓偏光板貼合於有機EL面板上之情形時,可良好地保護有機EL面板不受空氣中之水分及氧氣影響。
於供於使用前,較佳為於黏著劑層之表面貼合有剝離膜。
保護膜50係由可用作偏光元件之保護層之任意合適之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例,可列舉:三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂;或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等之透明樹脂等。又,亦可列舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外,例如,亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又,亦可使用日本
專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物膜。作為該膜之材料,例如,可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、與側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物,例如,可列舉含有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂,Tg(玻璃轉移溫度)較佳為115℃以上,更佳為120℃以上,進而較佳為125℃以上,尤佳為130℃以上。其原因在於耐久性可優異。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定,就成形性等觀點而言,較佳為170℃以下。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂,可於無損本發明之效果之範圍內採用任意合適之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可列舉:聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如,甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較佳可列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。更佳可列舉以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50~100重量%,較佳為70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例,例如,可列舉Mitsubishi Rayon公司製造之Acrypet VH或Acrypet VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報所記載之分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為上述(甲基)丙烯酸系樹脂,就具有較高之耐熱性、較高之透
明性、較高之機械強度之方面而言,尤佳為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
作為上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂,可列舉日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等所記載之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。
上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)較佳為1000~2000000,更佳為5000~1000000,進而較佳為10000~500000,尤佳為50000~500000。
上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg(玻璃轉移溫度)較佳為115℃以上,更佳為125℃以上,進而較佳為130℃以上,尤佳為135℃,最佳為140℃以上。其原因在於耐久性可優異。上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定,就成形性等觀點而言,較佳為170℃以下。
再者,本說明書中所謂「(甲基)丙烯酸系」係指丙烯酸系及/或甲基丙烯酸系。
亦可視需要而對保護膜40實施硬塗處理、抗反射處理、抗黏黏處理、防眩處理等表面處理。保護膜之厚度代表性而言為5mm以下,較佳為1mm以下,更佳為1μm~500μm,進而較佳為5μm~150μm。
於採用內側保護膜之情形時,較佳為該內側保護膜為光學各向同性。本說明書中所謂「為光學各向同性」係指面內相位差Re(550)為0nm~10nm,厚度方向之相位差Rth(550)為-10nm~+10nm。內側保護膜之Re(550)較佳為0nm~8nm,更佳為0nm~6nm,進而較佳為0nm~3nm。內側保護膜之Rth(550)較佳為-8nm~+8nm,更佳
為-6nm~+6nm,進而較佳為-3nm~+3nm。若內側保護膜為光學各向同性,則可進一步擴大顯示裝置之視角,進一步減少色移。
以下,基於本發明之圓偏光板之製造方法的代表性之實施形態進行說明。本實施形態係藉由卷對卷連續積層偏光元件與相位差層之方式,可以非常優異之製造效率製造圓偏光板。
首先,準備構成相位差層20之相位差膜。該相位差膜為長條狀,且於相對於長條方向為特定角度之方向上具有遲相軸。此種相位差膜之材料、特性及製造方法等如上述A-3項所說明般。
其次,經由黏著劑,藉由卷對卷於相位差膜之其中一面貼合補強膜,而獲得相位差膜/補強膜之積層體。代表性而言,藉由卷對卷將賦予有黏著劑之補強膜與相位差膜貼合。
作為補強膜之材料,可採用任意合適之材料。例如,可列舉塑膠、紙、金屬膜、不織布等。較佳為塑膠。補強膜可包含一種材料,亦可包含兩種以上材料。例如,可包含兩種以上塑膠。
作為上述塑膠,例如,可列舉聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚烯烴系樹脂等。作為聚酯系樹脂,例如,可列舉聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等。作為聚烯烴系樹脂,例如,可列舉烯烴單體之均聚物、烯烴單體之共聚物等。作為聚烯烴系樹脂,具體而言,例如可列舉:均聚丙烯;以乙烯成分作為共聚合成分之嵌段系、無規系、接枝系等丙烯系共聚物;反應器TPO(thermoplastic polyolefin,熱塑性聚烯烴);低密度、高密度、線性低密度、超低密度等乙烯系聚合物;乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物等乙烯系共聚物等。較佳為聚酯系樹脂,更佳為聚對苯二
甲酸乙二酯。此種樹脂具有較高之尺寸穩定性、強韌性、耐熱性,且就可成為副料之觀點而言,亦具有通用性優異之優勢。
補強膜可視需要含有任意合適之添加劑。作為添加劑,例如可列舉:抗氧化劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、抗靜電劑、填充劑、顏料等。添加劑之種類、數量、量可根據目的而適當設定。尤其是於補強膜之材料為塑膠之情形時,為了防止劣化等,較佳為含有複數種上述添加劑。
作為抗氧化劑,可採用任意合適之抗氧化劑。作為此種抗氧化劑,例如可列舉:酚系抗氧化劑、磷系加工熱穩定劑、內酯系加工熱穩定劑、硫系耐熱穩定劑、酚-磷系抗氧化劑等。抗氧化劑之含有比率相對於補強膜之基礎樹脂(於補強膜為摻合物之情形時,該摻合物為基礎樹脂)100重量份,較佳為1重量份以下,更佳為0.5重量份以下,進而較佳為0.01~0.2重量份。
作為紫外線吸收劑,可採用任意合適之紫外線吸收劑。作為此種紫外線吸收劑,例如,可列舉苯并三唑系紫外線吸收劑、三系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外線吸收劑等。紫外線吸收劑之含有比率相對於補強膜之基礎樹脂100重量份,較佳為2重量份以下,更佳為1重量份以下,進而較佳為0.01~0.5重量份。
作為光穩定劑,可採用任意合適之光穩定劑。作為此種光穩定劑,例如,可列舉受阻胺系光穩定劑、苯甲酸酯系光穩定劑等。光穩定劑之含有比率相對於補強膜之基礎樹脂100重量份,較佳為2重量份以下,更佳為1重量份以下,進而較佳為0.01~0.5重量份。
作為填充劑,可採用任意合適之填充劑。作為此種填充劑,例如,可列舉無機系填充劑等。作為無機系填充劑,具體而言,例如,可列舉碳黑、氧化鈦、氧化鋅等。填充劑之含有比率相對於形成補強膜之基礎樹脂(於補強膜為摻合物之情形時,該摻合物為基礎樹
脂)100重量份,較佳為20重量份以下,更佳為10重量份以下,進而較佳為0.01~10重量份。
進而,作為添加劑,為了賦予抗靜電性,亦可較佳地列舉界面活性劑、無機鹽、多元醇、金屬化合物、碳等無機系、低分子量系及高分子量系抗靜電劑。尤其是就污染、維持黏著性之觀點而言,較佳為高分子量系抗靜電劑或碳。
作為補強膜之厚度,可採用任意合適之厚度。補強膜之厚度較佳為5~300μm,更佳為10~250μm,進而較佳為15~200μm,尤佳為20~150μm。進而,補強膜及下文所述之黏著劑之總厚度較佳為相位差膜之厚度之1倍~4倍。
補強膜可為單層,亦可為兩層以上之積層體。
補強膜於23℃下之拉伸彈性模數(GPa)與厚度(μm)之積(GPa‧μm)較佳為20~500,更佳為30~300。該值可藉由調整補強膜之形成材料、添加劑之種類及量、以及補強膜為積層體之情形時之各層之厚度之比而進行控制。於上述積未達20(GPa‧μm)之情形時,補強膜之韌性不足,與相位差膜積層時存在產生皺褶而損及外觀之情形。於上述積超過500(GPa‧μm)之情形時,補強膜之韌性過強,而存在自相位差膜剝離時之處理性變得不充分之情形。
較佳為補強膜之線膨脹係數儘量較小。線膨脹係數較佳為5ppm/℃~50ppm/℃,更佳為10ppm/℃~30ppm/℃。又,較佳為補強膜之因加熱引起之尺寸變化率亦儘量較小。例如,於180℃下加熱5分鐘後之尺寸變化率較佳為0.1%~5.0%,更佳為0.5%~3.0%。藉由使用線膨脹係數及/或因加熱引起之尺寸變化率較小之補強膜,即便於障壁層形成過程之高溫環境下,亦可抑制相位差膜之尺寸變化,而可減少分子之配向變化。其結果為,可良好地維持相位差膜之光學特性(遲相軸方向、相位差值等)。
於一實施形態中係將補強膜延伸。延伸條件可根據目的、所需之線膨脹係數等而變化。延伸倍率較佳為1.5倍~10倍,更佳為3.0倍~5.0倍。延伸溫度較佳為補強膜之玻璃轉移溫度(Tg)~(Tg+50℃)。延伸較佳為雙軸延伸。其原因在於可降低熱性質及機械性質於面內之各向異性。作為雙軸延伸方法,可為拉輻機同時雙軸延伸法、藉由輥與拉輻機之逐次雙軸延伸法中之任一種。又,亦可使用管式法。
藉由使用如A-3項所記載之相位差膜及如上所述之補強膜,於為了形成障壁層而將相位差膜/補強膜之積層體供於蒸鍍法(例如濺鍍)之情形時,可獲得以下優勢:即,藉由斜向延伸而獲得之相位差膜原本有配向(遲相軸方向)之不均較大之傾向,又,存在因熱刺激及/或機械刺激導致產生配向(遲相軸方向)之不均進一步變大之問題之情形。進而,若於蒸鍍法中置於高溫環境下,則存在膜受損或變形之情形。藉由組合如上所述之相位差膜與補強膜而使用,即便於供於如蒸鍍法之高溫環境下之情形時,亦可將相位差膜之光學特性及機械特性維持於容許範圍內。因此,可一面維持藉由斜向延伸而獲得之相位差膜之特性,一面於其表面形成障壁層。結果可將形成有障壁層之相位差膜供於卷對卷。
作為補強膜用黏著劑,可使用任意合適之黏著劑。作為黏著劑之基礎聚合物之具體例,可列舉(甲基)丙烯酸系聚合物、橡膠系聚合物、矽酮系聚合物、聚胺基甲酸酯系聚合物、聚酯系聚合物。黏著劑較佳為含有具有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分(單體單元)之(甲基)丙烯酸系聚合物,該(甲基)丙烯酸烷基酯具有碳數1~20之烷基。再者,所謂「主成分」意指構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體單元(成分)內構成比率最高之單體。此種黏著劑之詳細內容記載於例如日本專利特開2014-141649號公報中,可將符合之記載作為參考引用至本說明書中。
繼而,於相位差膜/補強膜之積層體之相位差膜表面形成障壁層。更詳細而言,於相位差膜表面形成增黏塗層,於該增黏塗層表面形成無機薄膜,並視需要而於無機薄膜表面形成保護層。增黏塗層、無機薄膜及保護層之材料、形成方法等如上述A-5項所說明般。
於形成增黏塗層後、形成無機薄膜後、及/或形成保護層後,可實施加熱處理。藉由實施加熱處理,可使所獲得之障壁層之障壁性及膜質穩定,及可於所獲得之障壁層中使氣泡微細地分散,而可防止由該氣泡引起之不良影響。作為加熱處理中之加熱方法,可採用任意合適之方法。作為具體例,可列舉:於設定為特定溫度之烘箱或恆溫室中保管之方法、吹送熱風之方法、藉由紅外線加熱器加熱之方法、藉由燈照射光之方法、使其與熱輥或熱版接觸而直接賦予熱之方法、照射微波之方法。亦可於塗佈機、切條機等製膜裝置之局部並入加熱裝置,而於製造過程中進行加熱處理。
加熱處理之條件可根據障壁層之結構、形成材料及厚度等採用任意合適之條件。加熱處理之溫度代表性而言為相位差膜之熔點以下之溫度,較佳為不會對相位差膜之光學特性及機械特性造成不良影響之溫度。具體而言,由於可適度地設定表現出加熱處理之效果所需之處理時間,因此加熱處理之溫度較佳為60℃以上,更佳為70℃以上。另一方面,就防止障壁性降低之觀點而言,加熱處理溫度之上限例如為200℃,較佳為160℃。加熱處理時間可取決於加熱處理溫度。例如於加熱處理溫度為150℃之情形時,加熱處理時間可為3~60分鐘左右。
由此,製成具有障壁層/相位差膜/補強膜之構成之光學積層體(圓偏光板用中間物)。根據目前之記載可明確,本實施形態中之光學積層體為長條狀(於記載例中為輥狀)。如上所述,藉由組合特定之相位差膜與特定之補強膜而使用,可一面維持藉由斜向延伸而獲得之相位
差膜之光學特性及機械特性,一面於其表面形成障壁層。因此,可將形成有障壁層之相位差膜供於卷對卷。即,如此獲得之光學積層體係本發明中實際獲得之成果之一,且係實現本發明之圓偏光板及其優異之效果之方法之一。
繼而,將補強膜自上述光學積層體剝離,藉由卷對卷於剝離面貼合偏光元件。於一實施形態中,以偏光元件鄰接於相位差膜之方式,藉由卷對卷將剝離補強膜而獲得之障壁層/相位差膜之積層體與偏光板(偏光元件/保護膜之積層體)貼合。於另一實施形態中,藉由卷對卷將障壁層/相位差膜之積層體、偏光元件及保護膜一次性貼合。於進而另一實施形態中,藉由卷對卷將障壁層/相位差膜之積層體與偏光元件貼合,繼而藉由卷對卷貼合保護膜。偏光板或偏光元件為長條狀(於記載例中為輥狀),且於長條方向上具有吸收軸。於本發明之實施形態中,如上所述,由於可於在傾斜方向(相對於長條方向為特定角度之方向)上具有遲相軸之相位差膜上形成障壁層,因此使用藉由通常之縱向單軸延伸而獲得之偏光元件,可進行利用卷對卷之積層。
最後,於障壁層表面形成黏著劑層。構成黏著劑層之黏著劑如上述A-6項所說明般。
以上述方式而獲得本發明之圓偏光板。
作為利用卷對卷之圓偏光板之製造方法之代表例,已對單獨使用相位差層20之情形進行了說明,但業者明瞭,組合使用第一相位差層20與第二相位差層60之情形亦可應用同樣之順序。具體而言,使用構成第一相位差層20之相位差膜與構成第二相位差層60之相位差膜之積層體代替構成相位差層20之相位差膜即可。
本發明之圓偏光板亦可藉由所謂之批次式製造。即,可將形成有障壁層之相位差膜及偏光板(偏光元件/保護膜之積層體)切斷為特定
尺寸而貼合。或者,可將形成有障壁層之相位差膜、偏光元件及保護膜分別切斷為特定尺寸而貼合。若為批次式,則於輥狀態下必須控制偏光元件之吸收軸與相位差膜之遲相軸之角度,因此可使用藉由縱向延伸或橫向延伸而獲得之相位差膜。
本發明之有機EL顯示裝置於其視認側具備上述A項所記載之圓偏光板。圓偏光板係以黏著劑層成為有機EL面板側之方式(偏光元件成為視認側之方式)進行積層。
以下,藉由實施例對本發明進行具體說明,但本發明並不受該等實施例所限定。再者,各特性之測定方法如以下所述。
(1)耐熱性
將實施例及比較例中獲得之圓偏光板切斷為50mm×50mm尺寸,製成測定試樣。將該測定試樣貼合於石英玻璃上,於95℃之烘箱中保管500小時,計測保管前後之色相值之變化量。色相值係藉由村上色彩技術研究所製造之「DOT-3」所測定。
(2)透濕度
將實施例及比較例中獲得之圓偏光板切成10cm Φ之圓狀,作為測定試樣。針對該測定試樣,使用Technolox公司製造之「DELTAPERM」,於40℃、90%RH之試驗條件下測定透濕度。再者,由於比較例2之圓偏光板超過測定上限值,故而使用MOCON公司製造之「PERMTRAN」,於40℃、90%RH之試驗條件下測定透濕度。
將市售之聚乙烯醇(PVA)膜(Kuraray公司製造之「VF-PS」)於含碘之水溶液中染色後,於含有硼酸之水溶液中在速度比不同之輥間單軸延伸約6倍而獲得長條之偏光元件(厚度30μm)。偏光元件中之碘濃
度(重量%)與鉀濃度(重量%)之比K/I為0.402。使用PVA系接著劑,於該偏光元件之單面貼合市售之TAC膜(Fuji Photo Film公司製造之「TD80UL」,厚度80μm)作為保護膜,而獲得具有偏光元件/保護膜之構成之偏光板。將該偏光板沖裁為縱20cm×橫30cm。此時,偏光元件之吸收軸成為縱向。
另一方面,將市售之長條狀之降烯系樹脂膜(日本ZEON公司製造之「Zeonor」,厚度50μm)延伸為1.52倍,藉此獲得Re(550)=140nm之相位差膜(厚度35μm)。於該相位差膜上形成障壁層(厚度150nm),而獲得障壁層/相位差層之積層體。再者,作為障壁層,藉由使用SiO靶之濺鍍法形成SiOx膜。障壁層之透濕度為0.05g/m2/24hr。
以偏光元件與相位差層鄰接之方式,經由丙烯酸系黏著劑將上述所獲得之偏光板與障壁層/相位差層之積層體貼合。此時,相位差層之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸而成為逆時針方向45°。
最後,於障壁層表面形成具有障壁功能之黏著劑層(厚度50μm),而獲得具有保護膜/偏光元件/相位差層(λ/4板)/障壁層/黏著劑層之構成之圓偏光板。再者,作為構成黏著劑層之黏著劑,使用相對於苯乙烯-乙烯丙烯共聚物-苯乙烯之嵌段共聚物(Kuraray公司製造,商品名「Septon 2063」,苯乙烯含量:13重量%)100重量份調配聚丁烯(JX日礦日石能量公司製造,商品名「日石聚丁烯HV-300」)10重量份、萜酚黏著賦予劑(Yasuhara Chemical公司製造,商品名「YS Polyster TH130」)40重量份、及芳香族黏著賦予劑(Eastman Chemical公司製造,商品名「Piccolastic A5」)而製作之黏著劑。黏著劑層之透濕度為10g/m2/24hr(50μm換算)。將所獲得之圓偏光板供於上述(1)及(2)之評估。將結果示於表1。
將市售之長條狀之降烯系樹脂膜(日本ZEON公司製造之
「Zeonor」,厚度75μm)延伸為2.55倍,藉此獲得Re(550)=270nm之相位差膜(厚度45μm)。將該相位差膜(第二相位差層)與實施例1中獲得之相位差膜(第一相位差層)積層,繼而,以與實施例1同樣之方式於第一相位差層表面形成障壁層,而獲得障壁層/第一相位差層/第二相位差層之積層體。除了使用該積層體以外,以與實施例1同樣之方式而獲得具有保護膜/偏光元件/第二相位差層(λ/2板)/第一相位差層(λ/4板)/障壁層/黏著劑層之構成之圓偏光板。將所獲得之圓偏光板供於上述(1)及(2)之評估。將結果示於表1。
使用K/I為0.210之偏光元件,除此以外,以與實施例2同樣之方式,獲得具有保護膜/偏光元件/第二相位差層(λ/2板)/第一相位差層(λ/4板)/障壁層/黏著劑層之構成之圓偏光板。將所獲得之圓偏光板供於上述(1)及(2)之評估。將結果示於表1。
除了不形成障壁層、及形成有通常之丙烯酸系黏著劑層以外,以與實施例2同樣之方式,獲得具有保護膜/偏光元件/第二相位差層(λ/2板)/第一相位差層(λ/4板)/黏著劑層之構成之圓偏光板。將所獲得之圓偏光板供於上述(1)及(2)之評估。將結果示於表1。
除了不形成障壁層以外,以與實施例2同樣之方式,獲得具有保護膜/偏光元件/第二相位差層(λ/2板)/第一相位差層(λ/4板)/黏著劑層之構成之圓偏光板。將所獲得之圓偏光板供於上述(1)及(2)之評估。將結果示於表1。
根據表1明確可知,本發明之實施例之圓偏光板之障壁性(透濕性)非常優異。進而,比較實施例2與實施例3可明確,藉由調整K/I提高偏光元件之耐熱性,可獲得同時滿足優異之透濕度與耐熱性之偏光板。
[產業上之可利用性]
本發明之圓偏光板可用於有機EL顯示裝置。
10‧‧‧偏光元件
20‧‧‧相位差層
30‧‧‧障壁層
40‧‧‧黏著劑層
50‧‧‧保護膜
100‧‧‧圓偏光板
Claims (9)
- 一種有機EL顯示裝置用圓偏光板,其依序具備偏光元件、作為λ/4板而發揮功能之相位差層、障壁層、及具有障壁功能之黏著劑層,且該偏光元件之吸收軸與該相位差層之遲相軸所成之角度為35°~55°。
- 如請求項1之有機EL顯示裝置用圓偏光板,其於上述偏光元件與上述相位差層之間進而具備作為λ/2板而發揮功能之另一相位差層,且該偏光元件之吸收軸與該相位差層之遲相軸所成之角度為65°~85°,該偏光元件之吸收軸與該另一相位差層之遲相軸所成之角度為10°~20°。
- 如請求項1之有機EL顯示裝置用圓偏光板,其於上述偏光元件與上述相位差層之間進而具備保護膜。
- 如請求項2之有機EL顯示裝置用圓偏光板,其於上述偏光元件與上述另一相位差層之間進而具備保護膜。
- 如請求項1至4中任一項之有機EL顯示裝置用圓偏光板,其於上述偏光元件之與上述相位差層相反之側進而具備保護膜。
- 如請求項1、3或5之有機EL顯示裝置用圓偏光板,其中上述偏光元件為長條狀,且於長條方向上具有上述吸收軸,上述相位差層為長條狀,且於相對於長條方向為35°~55°之方向上具有上述遲相軸。
- 如請求項2、4或5之有機EL顯示裝置用圓偏光板,其中上述偏光元件為長條狀,且於長條方向上具有上述吸收軸,上述相位差層及上述另一相位差層為長條狀,且該相位差層 於相對於長條方向為65°~85°之方向上具有上述遲相軸,該另一相位差層於相對於長條方向為10°~20°之方向上具有上述遲相軸。
- 如請求項1至7中任一項之有機EL顯示裝置用圓偏光板,其中上述偏光元件中之鉀含量(重量%)相對於碘含量(重量%)之比K/I為0.180~0.235。
- 一種有機EL顯示裝置,其具備如請求項1至8中任一項之有機EL顯示裝置用圓偏光板。
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