TW201543067A - 透明樹脂層、附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置 - Google Patents

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Hirofumi Katami
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Abstract

一種透明樹脂層，係較影像顯示裝置中被設為最靠近觀視側之偏光薄膜還更靠近觀視側作配置，其特徵在於：前述透明樹脂層之表面阻抗值為1.0×1013Ω/□以下。該透明樹脂層可藉由透明黏著劑或透明液狀樹脂來形成。該透明樹脂層不會損及影像顯示裝置中被設為最靠近觀視側之偏光薄膜的可靠性，且可以不引起觸控面板感度降低之水準來賦予其抗靜電機能。

Description

透明樹脂層、附黏著劑層之偏光薄膜及影像顯示裝置
本發明關於一種透明樹脂層，其較影像顯示裝置中被設為最靠近觀視側之偏光薄膜還更靠近觀視側作配置。此外，本發明關於一種將前述透明樹脂層形成在偏光薄膜上來作為透明黏著劑層之附黏著劑層之偏光薄膜。又，本發明關於一種影像顯示裝置，其中前述透明樹脂層(或附黏著劑層之偏光薄膜的透明黏著劑層)配置在較影像顯示裝置中被設為最靠近觀視側之偏光薄膜還更靠近觀視側。影像顯示裝置可列舉如液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示面板)及電子紙等。
本發明之透明樹脂層可藉透明黏著劑及透明液狀樹脂等來形成，舉例來說，可合宜地應用在觸控面板等之輸入裝置(應用在影像顯示裝置之觀視側)以及蓋玻璃、塑膠蓋等透明基體等構件與偏光薄膜之間。就觸控面板而言，可合宜地使用於光學式、超音波式、電容式、阻抗膜式等之觸控面板。尤其適用於電容式觸控面板。上述觸控面板並未特別受限，但舉例來說可用於行動電話、平板電腦、可攜式資料終端等。
背景技術
近年來，諸如行動電話及可攜式音樂播放器 等，將液晶顯示裝置等之影像顯示裝置與觸控面板組合使用之輸入裝置已趨普及。其中，電容式觸控面板因其機能性而已迅速普及。
現在，就供用於觸控面板之透明導電性薄膜而 言，已知有許多是在透明塑膠薄膜基材或玻璃上積層有透明導電性薄膜(ITO膜)者。透明導電性薄膜係經由黏著劑層而積層到其他構件上。作為前述黏著劑層，目前已有各種物質被提出(參照專利文獻1~5)。
前述透明導電性薄膜用於電容式觸控面板之電極基板時，前述透明導電性薄膜係使用業經圖案化之物。具有此種經圖案化之透明導電性薄膜的透明導電性薄膜可與其他透明導電性薄膜等一起經由黏著劑層積層使用。該等透明導電性薄膜適於使用在可以2根以上手指同時操作之多點觸控式輸入裝置。亦即，電容式觸控面板具有以下述機制：以手指等觸碰觸控面板時，該位置之輸出信號發生變化，在該信號之變化量超過特定閾值時則進行感測。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本特開2003-238915號公報
專利文獻2：日本特開2003-342542號公報
專利文獻3：日本特開2004-231723號公報
專利文獻4：日本特開2002-363530號公報
專利文獻5：日本特開2012-246477號公報
發明概要
在影像顯示裝置製造時等會發生靜電。此種情況下，舉例來說，以液晶顯示裝置而言，會影響裝置內部之液晶定向而引起不良狀況。此外，液晶顯示裝置使用時有時會發生靜電所引起之顯示不均。為了抑制發生在液晶顯示裝置之靜電發生，舉例來說，目前是對設在觀視側之偏光薄膜與液晶晶胞之間的黏著劑層賦予其抗靜電機能，或是設置抗靜電層。然而，為了賦予黏著劑層抗靜電機能而添加界面活性劑或離子性化合物時，偏光薄膜在加熱試驗或加熱加濕試驗時之可靠性降低等問題令人憂慮。
此外，在影像顯示裝置中，有時會有將觸控面板設置在較觀視側之偏光薄膜更靠近觀視側處的情況。前述觸控面板為了抑制靜電發生，需求在不引起觸控面板感度降低之水準下具有抗靜電機能。例如，在影像顯示裝置(液晶顯示裝置)中，液晶面板觀視側之表面具有抗靜電層(ITO層等)時，某種程度可抑制靜電不均。但設在液晶面板觀視側表面之抗靜電層因所添加之抗靜電劑而發生光學特性降低(諸如消偏光或者因雜質而導致亮點發生等)等問題之可能性甚高，觀視側之偏光薄膜的可靠性難謂充分。又，在稱為in-cell型之觸控感應器內嵌式液晶顯示裝置中，液晶面板觀視側之表面並未形成用以抑制靜電不均之抗靜電層，而在稱為on-cell型之觸控感應器內嵌式液晶顯示裝置 中，液晶面板觀視側之表面雖形成有抗靜電層，但為了進行接地，抗靜電層受到圖案化，會有部分不具抗靜電層之部位存在，因此，尤以此等觸控感應器內嵌式液晶顯示裝置為甚，實難稱已具有充分之抗靜電機能。
爰此，本發明之目的即在於提供一種透明樹脂層，其不會損及影像顯示裝置中設在最靠近觀視側之偏光薄膜的可靠性，且可在不引起觸控面板感度降低之水準下賦予抗靜電機能。
此外，本發明之目的也在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，其係將前述透明樹脂層形成在偏光薄膜上作為透明黏著劑層。進一步來說，本發明之目的在於提供一種影像顯示裝置，其具有前述透明樹脂層或附黏著劑層之偏光薄膜。
本案發明人為解決前述課題而精心反覆探究，結果發現了下述透明樹脂層，終至於完成本發明。
亦即，本發明關於一種透明樹脂層，係較偏光薄膜配置在更靠觀視側處，且該偏光薄膜於影像顯示裝置中被設在最靠觀視側處，該透明樹脂層之特徵在於：
前述透明樹脂層之表面阻抗值為1.0×1013Ω/□以下。
前述透明樹脂層中，前述透明樹脂層之厚度宜為5μm~1mm。又，前述透明樹脂層之表面阻抗值(Ω/□)乘厚度(cm)之值(體積阻抗值)宜為1.0×1012Ω‧cm以下。
前述透明樹脂層之形成材料宜含有丙烯酸系聚 合物作為基底聚合物。
前述透明樹脂層之形成材料可含有離子性化合物。
前述透明樹脂層之形成材料可使用透明黏著劑。又，前述透明樹脂層之形成材料可使用透明液狀樹脂。
前述透明樹脂層可適宜地應用於觸控面板。尤其，可適宜用於稱為in-cell型或on-cell型之觸控感測器內嵌式液晶顯示裝置。
此外，本發明關於一種該附黏著劑層之偏光薄膜，其具有：於影像顯示裝置中被設在最靠觀視側處之偏光薄膜；及，配置在較該偏光薄膜更靠觀視側處之黏著劑層；該附黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於：前述黏著劑層係一以前述透明黏著劑層作為形成材料的透明樹脂層。
又，本發明關於一種影像顯示裝置，係具有至少1片偏光薄膜，其特徵在於：在較偏光薄膜更靠近觀視側處具有至少1層前述透明樹脂層，且該偏光薄膜係於影像顯示裝置中被設在最靠觀視側處。於前述影像顯示裝置中，前述透明樹脂層可作為前述附黏著劑層之偏光薄膜中的黏著劑層來設置。
本發明之透明樹脂層之表面阻抗值為1.0×1013Ω/□以下而具有抗靜電機能。此外，該透明樹脂層在配置有觸控面板之影像顯示裝置(例如液晶顯示裝置)中，被配置 在較設在最靠近觀視側之偏光薄膜還更靠近觀視側處。因此，可大幅減少在觀視側之偏光薄膜與液晶面板之間設置抗靜電層(低表面阻抗層)時可能發生之光學特性降低(消偏光或因雜質所導致之亮點發生等)等問題，而不會損及被設在最靠近觀視側之偏光薄膜的可靠性。如此，本發明之透明樹脂層不會損及影像顯示裝置之性能，且可在適當水準下賦予觸控面板抗靜電機能。
特別是應用在稱為in-cell型或on-cell型之觸控 感測器內嵌式液晶顯示裝置時，本發明之透明樹脂層甚是有效。例如，將本發明之透明樹脂層作為黏著劑層等而設置於被設在最靠近觀視側處之偏光薄膜上，藉此，可使稱為in-cell型或on-cell型之觸控感測器內嵌式液晶顯示裝置高品質化。
又，將前述透明樹脂層用作黏著劑層時，預先製作附黏著劑層之偏光薄膜再將其應用於影像顯示裝置時，耐久性良好。從被設在最靠近觀視側處之偏光薄膜的可靠性之觀點來看，以附黏著劑層之偏光薄膜為佳。
A‧‧‧透明樹脂層
B‧‧‧影像顯示裝置
C‧‧‧構件(觸控面板或透明基體)
1‧‧‧偏光薄膜
2‧‧‧黏著劑層
3‧‧‧透明導電層(抗靜電層)
4‧‧‧玻璃基板
5‧‧‧液晶層
6‧‧‧驅動電極
7‧‧‧抗靜電層兼感測器層
8‧‧‧驅動電極兼感測器層
9‧‧‧感測器層
11‧‧‧透明基材
12‧‧‧透明導電性薄膜
圖1為本發明之透明樹脂層在影像顯示裝置中可應用之配置部位的概念圖。
圖2為概念圖，其示意性地顯示影像顯示裝置與構件經由本發明之透明樹脂層而貼合之狀態。
圖3a為截面圖，其示意性地顯示影像顯示裝置之一實施形態。
圖3b為截面圖，其示意性地顯示影像顯示裝置之一實施形態。
圖3c為截面圖，其示意性地顯示影像顯示裝置之一實施形態。
圖4a為截面圖，其示意性地顯示觸控面板之一實施形態。
圖4b為截面圖，其示意性地顯示觸控面板之一實施形態。
用以實施發明之形態
以下使用圖式，就本發明之透明樹脂層之實施形態予以詳細說明。但本發明並不侷限於圖式之實施形態。
如圖1所示，於具有至少1片偏光薄膜1之影像顯示裝置B中，相較於設在最靠近觀視側處之偏光薄膜1，本發明之透明樹脂層A被應用在更靠近觀視側處。
圖2為概念圖，其示意性地顯示：經由透明樹脂層A，被設在影像顯示裝置B之最靠近觀視側處之偏光薄膜1與構件C呈現貼合之狀態。於圖2中，透明樹脂層A可用作透明黏著劑層或透明液狀樹脂層。此外，透明樹脂層A為透明黏著劑層時，可作為已預先設在偏光薄膜1之附黏著劑層之偏光薄膜來使用。構件C可列舉如：被應用在影像顯示裝置觀視側之觸控面板等輸入裝置、蓋玻璃、塑膠蓋等之透明基體等。
影像顯示裝置B具有至少1片偏光薄膜1，影像 顯示裝置可列舉如液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、PDP(電漿顯示面板)及電子紙等。以影像顯示裝置B而言，可合適地使用在液晶層5兩側具有偏光薄膜1之液晶顯示裝置。茲將示意性地顯示影像顯示裝置(液晶顯示裝置)之代表性實施形態的截面圖顯示於圖3a至圖3c。圖3a至圖3c之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)中，上方之偏光薄膜1位在最靠近觀視側處。
顯示於圖3a之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)具 有下述結構：偏光薄膜1(觀視側)/黏著劑層2/抗靜電層3/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光薄膜1。抗靜電層3、驅動電極6可由透明導電層形成。 另，抗靜電層3可任意地形成。
顯示於圖3b之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)是 將透明導電層作為觸控面板(in-cell型觸控面板)之電極用途來使用的情形，其具有下述結構：偏光薄膜1(觀視側)/黏著劑層2/抗靜電層兼感測器層7/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極兼感測器層8/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光薄膜1。 抗靜電層兼感測器層7、驅動電極兼感測器層8、驅動電極6可由透明導電層形成。
顯示於圖3c之影像顯示裝置(液晶顯示裝置)是 將透明導電層作為觸控面板(on-cell型觸控面板)之電極用途來使用的情形，其具有下述結構：偏光薄膜1/黏著劑層2/抗靜電層兼感測器層7/感測器層9/玻璃基板4/液晶層5/驅動電極6/玻璃基板4/黏著劑層2/偏光薄膜1。抗靜電層 兼感測器層7、感測器層9、驅動電極6可由透明導電層形成。
偏光薄膜一般可使用在偏光件之單面或兩面上 具有透明保護薄膜之物。亦可在偏光薄膜之透明保護薄膜上設置硬塗層等之機能層。除此之外，用於形成液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等影像顯示裝置之光學薄膜也適於使用。再者，光學薄膜可列舉如：可用於形成諸如反射板或反透射板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、光學補償薄膜、視覺補償薄膜及亮度提升薄膜等之液晶顯示裝置等且可成為光學層之物。其等除了可單獨用作光學薄膜之外，實際使用時可於前述偏光薄膜上積層1層或2層以上來使用。
為了與液晶晶胞(玻璃基板)等之其他構件接 著，前述偏光薄膜或光學薄膜上可形成黏著劑層(相當於圖3a至圖3c之黏著劑層2等)。舉例來說，黏著劑層可將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等之聚合物用作基底聚合物，並適當地選擇各種黏著劑來使用。尤以如同丙烯酸系黏著劑般地顯示出優異光學透明性以及適度濡濕性、凝集性與接著性等之黏著特性並且具有優異耐候性及耐熱性等之物為宜。
對偏光薄膜或光學薄膜之單面或兩面附設黏著 劑層可以適當方式進行。其例可列舉如下：使基底聚合物或其組成物溶解或分散在諸如由甲苯或乙酸乙酯等適當溶 劑之單一或混合物所構成的溶劑中，調製10~40重量%程度之黏著劑溶液，再將其以澆鑄方式或塗佈方式等之適當展開方式直接附設在偏光薄膜上或光學薄膜上的方式；或者，按前述方式在隔件上形成黏著劑層後，使其移附到偏光薄膜上或光學薄膜上。
黏著劑層也可製成由組成或種類等相異之物構成的重疊層而設在偏光薄膜或光學薄膜之單面或雙面上。又，設在兩面上時，也可在偏光薄膜或光學薄膜之表面及內面上製成組成、種類或厚度相異之黏著劑層。黏著劑層之厚度可因應使用目的及接著力等來適當決定，一般而言為1~500μm，且以5~200μm為宜，以10~100μm尤佳。
一般而言，液晶顯示裝置係以下述方式形成：將液晶晶胞(玻璃基板/液晶層/玻璃基板之結構)、已配置在其兩側之偏光薄膜以及視需要而定之照明系統等之構成配件予以適當組裝，再組入驅動回路等。液晶晶胞可使用諸如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型之物。此外，可形成照明系統使用了背光或反射板之物等的適當液晶顯示裝置。進一步來說，形成液晶顯示裝置之際，舉例來說，可在適當位置上配置1層或2層以上之擴散板、抗眩光層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板及背光等之適當配件。
茲將示意性顯示觸控面板C之代表實施形態的截面圖顯示於圖4a至圖4b。圖4a之觸控面板C為電容式觸控面板，其依序積層有透明基體11、透明樹脂層A及透 明導電性薄膜12。此外，透明導電性薄膜12可積層2層以上。於圖4b中，電容式觸控面板C是積層有2層透明導電性薄膜12的情況，其依序積層了透明基體11、透明樹脂層A、透明導電性薄膜12、透明樹脂層A及透明導電性薄膜12。如此，本發明之透明樹脂層A可作為觸控面板之內部構件來應用。又，透明基體11可具有感測器層。另，透明基體11可作為蓋玻璃或塑膠蓋等而將其單獨應用到影像顯示裝置(液晶顯示裝置)。除此之外，以圖4a至圖4b為代表之觸控面板C中，與透明基體11位在相反側之透明導電性薄膜12上也可設置硬塗薄膜(未圖示)。
另外，透明基體可列舉如玻璃板或透明壓克力 板(PMMA板)。透明基體即是所謂的蓋玻璃，可用作裝飾面板。就透明導電性薄膜而言，以玻璃板或透明塑膠薄膜(特別是PET薄膜)上設有透明導電膜者為佳。透明導電膜可列舉如由金屬、金屬氧化物及其等之混合物構成的薄膜，可舉例如ITO(氧化銦錫)、ZnO、SnO、CTO(氧化鎘錫)之薄膜。透明導電膜之厚度雖未特別受限，但為10~200nm程度。上述透明導電性薄膜以在PET薄膜上設有ITO膜之ITO薄膜為代表例。透明導電膜可隔著底塗層來設置。另，底塗層可設置多數層。透明塑膠薄膜基材與黏著劑層之間可設置寡聚物遷移防止層。硬塗薄膜以在PET薄膜等之透明塑膠薄膜上施行硬塗處理者為佳。
茲將已在影像顯示裝置中應用本發明之透明樹 脂層A之例的結構顯示如下。就結構而言，可列舉如下： 透明基體11/透明樹脂層(黏著劑層)A/透明導電性薄膜12/黏著劑層(或黏著片)/透明導電性薄膜/透明樹脂層(黏著劑層)A/液晶顯示裝置(LCD)B；透明基體11(附ITO等之透明導電性薄膜：附感測器)/透明樹脂層(黏著劑層)A/透明導電性薄膜12/透明樹脂層(黏著劑層)A/液晶顯示裝置(LCD)B；透明基體11(附ITO等之透明導電性薄膜：附感測器)/透明樹脂層(黏著劑層)A/液晶顯示裝置(LCD)B；透明基體11/透明樹脂層(黏著劑層)A/圓偏光薄膜/透明樹脂層(黏著劑層)A/觸控感測器/有機EL顯示裝置(OLED)B；透明基體11/透明樹脂層(黏著劑層)A/觸控感測器/透明樹脂層(黏著劑層)A/觸控感測器/液晶顯示裝置(LCD)B；透明基體11/透明樹脂層(黏著劑層)A/觸控感測器/液晶顯示裝置(LCD)B：透明基體11/透明樹脂層(黏著劑層)A/觸控感測器/透明樹脂層(黏著劑層)A/液晶顯示裝置(LCD)B；透明基體11/透明樹脂層(黏著劑層)A/in-cell型液晶顯示裝置(稱為in-cell型之觸控感測器內嵌式液晶顯示裝置：LCD)B/偏光薄膜1；以及透明基體11/透明樹脂層(黏著劑層)A/on-cell型液晶顯示裝置(稱為on-cell型之觸控感測器內嵌式液晶顯示裝置：LCD)B等。
上述者為較佳層結構之一例，而不侷限於此等結構。 於前述結構中，至少1層之透明樹脂層A可使用本發明之透明樹脂層A。另，上述結構雖是將黏著劑層作為透明樹脂層A之情況予以例示，但透明樹脂層A也可由透明液狀樹脂形成。
以下就本發明之透明樹脂層予以說明。本發明 之透明樹脂層之表面阻抗值滿足1.0×1013Ω/□以下。前述表面阻抗值以1.0×108Ω/□~1.0×1013Ω/□為宜，且較宜為1.0×109Ω/□~1.0×1012Ω/□，5.0×109Ω/□~5.0×1011Ω/□更佳。藉由將滿足前述表面阻抗值之透明樹脂層配置在影像顯示裝置中(較最靠近觀視側之偏光薄膜更靠觀視側處)，可不令影像顯示裝置之性能降低而賦予觸控面板等適度之抗靜電機能。
另，本發明之透明樹脂層呈「透明」，此意指在 厚度25μm下測定之霧度(haze)值為2%以下即可滿足。前述霧度值以0~1.5%為宜，0~1%更佳。
再者，本發明之透明樹脂層厚度宜為5μm~ 1mm。可依透明樹脂層之厚度、透明樹脂層所應用之部位來適當地設計。透明樹脂層之厚度以10μm~500μm為宜，20μm~300μm更佳。
又，本發明之透明樹脂層之表面阻抗值(Ω/□) 乘厚度(cm)之值(體積阻抗值)宜為1.0×1012Ω‧cm以下，較宜為1.0×107Ω‧cm以下，更宜為1.0×106Ω‧cm以下。
前述透明樹脂層之形成材料可使用含有各種基 底聚合物之物。基底聚合物之種類並無特別限制，但可舉 例如橡膠系聚合物、(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、乙烯基烷基醚系聚合物、聚乙烯醇系聚合物、聚乙烯吡咯烷酮系聚合物、聚丙烯醯胺系聚合物及纖維素系聚合物等各種聚合物。
該等基底聚合物之中，以顯示出優異光學透明 性及適度濡濕性、凝集性與接著性等黏著特性並且具優異耐候性及耐熱性等之物較適於使用。顯示此種特徵之物以(甲基)丙烯酸系聚合物適於使用。以下，以透明樹脂層之代表例而言，就使用透明樹脂層作為黏著劑層之情況予以說明。
就前述(甲基)丙烯酸系聚合物而言，可使包含烷 基(甲基)丙烯酸酯(其在酯基末端具有碳數4~24烷基)的單體成分聚合來製得。另，烷基(甲基)丙烯酸酯稱為烷基丙烯酸酯及/或烷基丙烯酸甲酯，與本發明之『(甲基)』同義。
烷基(甲基)丙烯酸酯可例示如具有直鏈狀或分 枝狀碳數4~24之烷基之物。烷基(甲基)丙烯酸酯可單獨使用1種或將2種以上組合使用。
舉例來說，前述烷基(甲基)丙烯酸酯可例示如前 述碳數4~9且具有分枝之烷基(甲基)丙烯酸酯。該烷基(甲基)丙烯酸酯在容易取得黏著特性平衡的觀點上甚是理想。其等可舉例如正丁基(甲基)丙烯酸酯、第二丁基(甲基)丙烯酸酯、第三丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、正戊基(甲基)丙烯酸酯、異戊基(甲基)丙烯酸酯、異己基(甲基)丙烯酸酯、異庚基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲 基)丙烯酸酯、異辛基(甲基)丙烯酸酯及異壬基(甲基)丙烯酸酯等。前述碳數6~9且具有分枝之烷基(甲基)丙烯酸酯中之丙烯醯基之碳數更宜為7~9，且以8~9更佳。
於本發明中，前述於酯末端具有碳數4~24烷基 之烷基(甲基)丙烯酸酯相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分之全量為40重量%以上，且以50重量%以上為佳，更宜為60重量%以上。使用40重量%以上在易取得黏著特性平衡之觀點上甚理想。
形成本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成 分中，可含有前述烷基(甲基)丙烯酸酯以外之共聚合單體作為單官能性單體成分。共聚合單體可用作單體成分中前述烷基(甲基)丙烯酸酯之殘餘部分。
舉例來說，共聚合單體可含有環狀含氮單體。 就上述環狀含氮單體而言，可無限制地的使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有環狀氮結構之物。環狀氮結構以在環狀結構內具有氮原子者為佳。環狀含氮單體可舉例如：N-乙烯吡咯烷酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺及甲基乙烯吡咯烷酮等之內醯胺系乙烯基單體；以及，乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基唑及乙烯基啉等具有含氮雜環之乙烯基系單體等。 此外，可列舉如啉環、哌啶環、吡咯啶環、哌環等含有雜環之(甲基)丙烯酸系單體。具體來說，可列舉如N-丙烯醯基啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶及N- 丙烯醯基吡咯啶等。前述環狀含氮單體之中，從介電率與凝集性之觀點來看，以內醯胺系乙烯基單體為佳。
於本發明中，環狀含氮單體相對於形成(甲基) 丙烯酸系聚合物之全單體成分宜為0.5~50重量%，且以0.5~40重量%為佳，更宜為0.5~30重量%。於前述範圍內使用環狀含氮單體係在表面阻抗值之控制上，特別是在使用離子性化合物時與離子性化合物之相溶性以及抗靜電機能之耐久性的層面上，甚是理想。
本發明中形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成 分可含有含羥基單體來作為單官能性單體成分。含羥基單體可無特別限制地使用：具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和性雙鍵之聚合性官能基且具有羥基之物。含羥基單體可舉例如：2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥丁基(甲基)丙烯酸酯、3-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羥己基(甲基)丙烯酸酯、8-羥辛基(甲基)丙烯酸酯、10-羥基癸基(甲基)丙烯酸酯及12-羥基月桂基(甲基)丙烯酸酯等之羥基烷基(甲基)丙烯酸酯；(4-羥甲基環己基)甲基(甲基)丙烯酸酯等之羥基烷基環烷烴(甲基)丙烯酸酯。此外，還可列舉如羥乙基(甲基)丙烯醯胺、烯丙醇、2-羥乙基乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚及二乙二醇單乙烯基醚等。該等可單獨或組合使用。該等之中，以羥基烷基(甲基)丙烯酸酯尤為合宜。
於本發明中，從提高接著力及凝集力之觀點來 看，前述含羥基單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單 官能性單體成分全量宜為1重量%以上，且較宜為2重量%以上，更宜為3重量%以上。另一方面，一旦前述含羥基單體過多，則會有黏著劑層變硬、接著力降低之情況，或是有黏著劑黏度過高、發生凝膠化之情況，因此，前述含羥基單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分全量宜為30重量%以下，且較宜為27重量%以下，更宜為25重量%以下。
此外，本發明之形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單 體成分中，可含有其他含官能基單體來作為單官能性單體，可舉例如含羧基單體及具有環狀醚基之單體。
就含羧基單體而言，可無特別限制地使用：具 有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合性官能基並且具有羧基之物。含羧基單體可舉例如(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸及異巴豆酸等，該等可單獨或組合使用。伊康酸、順丁烯二酸可使用其等之酸酐。 於此等當中，以丙烯酸、甲基丙烯酸為宜，尤以丙烯酸為佳。另，本發明之用於製造(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，可任意使用含羧基單體，但另一方面，也可不使用含羧基單體。含有從不含有含羧基單體之單體成分製得之(甲基)丙烯酸系聚合物的黏著劑可形成一種使起因於羧基之金屬腐蝕等獲得降低的黏著劑層。
就具有環狀醚基之單體而言，可無特別限制地 使用：具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合 性官能基且具有環氧基或氧呾基等環狀醚基之物。含環氧基單體可舉例如縮水甘油(甲基)丙烯酸酯、3,4-環氧基環己基甲基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯縮水甘油醚等。含氧呾基單體可舉例如3-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-甲基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-乙基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-丁基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯、3-己基-氧呾基甲基(甲基)丙烯酸酯等。該等可單獨或組合使用。
於本發明中，前述含羧基單體、具有環狀醚基 之單體相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分全量宜為30重量%以下，更宜為27重量%以下，且以25重量%以下更佳。
本發明之形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成 分中，就共聚合單體而言，可舉例如CH2=C(R1)COOR2(前述R1表示氫或甲基，R2表示碳數1~3之無取代烷基或經取代之烷基及環狀之環烷基)所示之烷基(甲基)丙烯酸酯。
於此，作為R2之碳數1~3之無取代烷基或經取 代之烷基表示直鏈或分枝鏈狀烷基。為經取代之烷基時，取代基宜為碳數3~8個之芳基或碳數3~8個之芳氧基。芳基雖未特別受限，但以苯基為宜。
此種以CH2=C(R1)COOR2表示之單體之例可列 舉如甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、3,3,5-三甲基環己基(甲基)丙烯酸酯、異莰基(甲 基)丙烯酸酯等。該等可單獨或組合使用。
於本發明中，前述以CH2=C(R1)COOR2表示之 (甲基)丙烯酸酯相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分全量可使用50重量%以下，且以45重量%以下為佳。且40重量%以下更佳，35重量%以下尤佳。
其他共聚合單體也可使用：乙酸乙酯、丙酸乙 烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯；(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇等之二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯及2-甲氧基乙基丙烯酸酯等之丙烯酸酯系單體；含醯胺基單體、含胺基單體、含醯亞胺基單體、N-丙烯醯基啉、乙烯基醚單體等。此外，共聚合單體可使用萜(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基(甲基)丙烯酸酯等具有環狀結構之單體。
可更進一步列舉含矽原子之矽烷系單體等。矽 烷系單體可舉例如3-丙烯醯氧基炳基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷及10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。
本發明之形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成 分中，除了前述例示之單官能性單體之外，為了調整黏著 劑之凝集力，可視需要而含有多官能性單體。
多官能性單體為至少具有2個(甲基)丙烯醯基或 乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合性官能基的單體，可舉例如(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯等之多元醇與(甲基)丙烯酸之酯類化合物；烯丙基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯、環氧基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、丁基二(甲基)丙烯酸酯、己基二(甲基)丙烯酸酯等。其中，尤以三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯可適於使用。多官能性單體可單吳使用1種或組合2種以上使用。
多官能性單體之使用量雖依其分子量及官能基 數等而異，但相對於單官能性單體合計100重量份，宜使用3重量份以下，且較宜使用2重量份以下，1重量份以下更佳。又，下限值雖未特別受限，但宜為0重量份以上，更宜為0.001重量份以上。藉由使多官能性單體之使用量在前述範圍內，可提高接著力。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇 溶液聚合、紫外線聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚 合等各種自由基聚合等習知製造方法。此外，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一者。
可用於自由基聚合之聚合引發劑、鏈轉移劑及 乳化劑等並未特別受限，可適當地選擇使用。另，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑之使用量及反應條件來控制，可因應其等之種類來適當地調整其使用量。
舉例來說，在溶液聚合等過程中，聚合溶劑可 使用諸如乙酸乙酯、甲苯等。就具體之溶液聚合例而言，反應是在氮等惰性氣體之氣流下添加聚合引發劑，並且一般是在50~70℃程度、5~30小時程度之反應條件下進行。
可用於溶液聚合等之熱聚合引發劑可舉例如： 2,2’-偶氮二異丁腈、2,2’-偶氮二-2-甲基丁腈、2,2’-偶氮二(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4’-偶氮二-4-氰基吉草酸、偶氮二異戊腈、2,2’-偶氮二(2-甲脒基丙烷)二氫氯化物、2,2’-偶氮二[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二氫氯化物、2,2’-偶氮二(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮二(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮二[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純薬社製，VA-057)等之偶氮系引發劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯、二第二丁基過氧二碳酸酯、第三丁基過氧新癸酸酯、第三己基過氧三甲基乙酸酯、第三丁基過氧三甲基乙酸酯、過氧化二月桂醯基、過氧化 二正辛醯基、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯基)、過氧化二苯甲醯基、第三丁基過氧基異丁酸酯、1,1-二(第三己基過氧基)環己烷、第三丁基氫過氧化物、過氧化氫等之過氧化物系引發劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸酸鈉之組合等組合過氧化物與還原劑而成之氧化還原系開始劑等，但並不受此等所侷限。
前述聚合引發劑可單獨使用，混合2種以上使 用亦可，但全體含有量相對於單體100重量份宜為0.005~1重量份程度，更宜為0.02~0.5重量份程度。
另舉例來說，使用諸如2,2’-偶氮二異丁腈作為 聚合引發劑來製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物時，聚合引發劑之使用量相對於單體成分之全量100重量份宜為0.06~0.2重量份程度，更宜0.08~0.175重量份程度。
鏈轉移劑可舉例如月桂基硫醇、環氧丙基硫 醇、巰基酢酸、2-巰基乙醇、巰乙醇酸、巰乙醇酸2-乙基己酯及2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用亦可混合2種以上使用，但全體含量相對於單體成分之全量100重量份在0.1重量份程度以下。
此外，乳化聚合時使用之乳化劑可舉例如：月 桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨及聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等陰離子系乳化劑；聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、 聚氧伸乙基脂肪酸酯及聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可併用2種以上。
進一步就反應性乳化劑而言，導入有丙烯基、 烯丙基醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑可具體舉例如Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上皆為第一工業製藥社製)、Adeka Reasoap SE10N(ADEKA公司製)等。由於反應性乳化劑會在聚合後被納入聚合物鏈中，耐水性變佳而甚是理想。乳化劑之使用量相對於單體成分之全量100重量份為0.3~5重量份，從聚合安定性及機械安定性之觀點來看，0.5~1重量份更佳。
此外，(甲基)丙烯酸系聚合物以放射線聚合來製 造時，可藉由照射電子線、紫外線等放射線使前述單體成分聚合進而製得該聚合物。以電子線進行前述放射線聚合時，雖然無須特別使前述單體成分含有光聚合引發劑，但以紫外線聚合來進行前述放射線聚合時，特別是從可縮短聚合時間之優點等觀點出發，可使單體成分含有光聚合引發劑。光聚合引發劑可單獨使用1種，或組合2種以上使用。
光聚合引發劑雖未特別受限，但只要是可引發 光聚合之物質即不特別受限，可使用一般使用之光聚合引發劑。舉例來說，可使用安息香醚系光聚合引發劑、苯乙酮系光聚合引發劑、α-酮醇系光聚合引發劑、芳香族磺醯氯系光聚合引發劑、光活性肟系光聚合引發劑、安息香系 光聚合引發劑、二苯乙二酮系光聚合引發劑、二苯甲酮系光聚合引發劑、縮酮系光聚合引發劑、9-氧硫系光聚合引發劑及醯基膦氧化物系光聚合引發劑等。
具體就安息香醚系光聚合引發劑而言，可舉例 如安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮[商品名：IRGACURE 651，BASF公司製]及大茴香醚甲醚等。 苯乙酮系光聚合引發劑可舉例如1-羥基環己基苯基酮[商品名：IRGACURE 184，BASF公司製]、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-第三丁基-二氯苯乙酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮[商品名：IRGACURE 2959，BASF公司製]、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮[商品名：DAROCUR 1173，BASF公司製]、甲氧機苯乙酮等。α-酮醇系光聚合引發劑可舉例如2-甲基-2-羥基丙醯苯、1-[4-(2-羥乙基)-苯基]-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮等。芳香族磺醯氯系光聚合引發劑可舉例如2-萘磺醯氯等。光活性肟系光聚合引發劑可舉例如1-苯基-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧羰基)-肟等。
此外，安息香系光聚合引發劑包含諸如安息香等。二苯乙二酮系光聚合引發劑包含諸如二苯乙二酮等。二苯甲酮系光聚合引發劑包含諸如二苯甲酮、苯甲醯基安息香酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羥基環己基苯基酮等。縮酮系光聚合引發劑包含諸如苄基二甲基縮酮等。9-氧硫系光聚合引發劑包含諸如9-氧硫、2-氯-9-氧硫、2-甲基-9-氧硫、2,4- 二甲基-9-氧硫、異丙基-9-氧硫、2,4-二氯-9-氧硫、2,4-二乙基-9-氧硫、異丙基-9-氧硫、2,4-二異丙基-9-氧硫、十二烷基-9-氧硫等。
醯基膦系光聚合引發劑可舉例如：雙(2,6-二甲 氧基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)(2,4,4-三甲基戊基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-正丁基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-(1-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-第三丁基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)環己基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)辛基膦氧化物、雙(2-甲氧基苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2-甲氧基苯甲醯基)(1-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二乙氧基苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二乙氧基苯甲醯基)(1-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二丁氧基苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,4-二甲氧基苯甲醯基)(2-甲基丙烷-1-基)膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)(2,4-二戊氧基苯基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)苄基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基丙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基乙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)苄基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基丙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基乙基膦氧化物、2,6-二甲氧基苯甲醯基苄基丁基膦氧化物、2,6-二甲氧基苯甲醯基苄基辛基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲 基苯甲醯基)-2,5-二異丙基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2-甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-4-甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,5-二乙基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,3,5,6-四甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二正丁氧基苯基膦氧化物、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)異丁基膦氧化物、2,6-二甲氧基苯甲醯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基-正丁基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二丁氧基苯基膦氧化物、1,10-雙[雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)膦氧化物]癸烷、三(2-甲基苯甲醯基)膦氧化物等。
光聚合引發劑之使用量並未特別受限，舉例來 說，相對於前述單體成分100重量份為0.01~5重量份，且以0.05~3重量份為宜，更宜為0.05~1.5重量份，尤宜為0.1~1重量份。
若光聚合引發劑之使用量少於0.01重量份，會 有聚合反應不充分的情況。若光聚合引發劑之使用量超過5重量份，因光聚合引發劑會吸收紫外線，會有紫外線無法到達黏著劑層內部的情況。此時，聚合率會降低或是所生成聚合物之分子量縮小。然後因此而使得所形成之黏著劑層之凝集力降低，從薄膜剝離黏著劑層時，會有黏著劑層一部分殘留在薄膜上而無法將薄膜再次利用的情況。另， 光聚合性開始劑可單獨使用1種或是組合2種以上使用。
本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分 子量宜為40萬~250萬，更宜為60萬~220萬。藉由使重量平均分子量大於40萬，可使黏著劑層之耐久性獲得滿足，且可抑制黏著劑層之凝集力變小而發生殘膠的情況。另一方面，若重量平均分子量大於250萬，則貼合性、黏著力會有降低之傾向。再者，黏著劑在溶液系統中之黏度會變得過高，而有難以塗佈之情況。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法)測定且利用聚苯乙烯換算所算出之值。又，難以就放射線聚合所得之(甲基)丙烯酸系聚合物測定分子量。
<重量平均分子量之測定>
以GPC(凝膠滲透層析法)測定所得之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量。樣本使用將試料溶解於四氫呋喃製成0.1重量%溶液並將其靜置一晚後經0.45μm之薄膜過濾器過濾所得的濾液。
‧分析裝置：東曹股份有限公司製，HLC-8120GPC
‧管柱：東曹股份有限公司製，(甲基)丙烯酸系聚合物：GM7000HXL+GMHXL+GMHXL
芳香族系聚合物：G3000HXL+2000HXL+G1000HXL
‧管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm計90cm
‧溶離液：四氫呋喃(濃度0.1重量%)
‧流量：0.8ml/min
‧入口壓力：1.6MPa
‧檢測器：示差折射計(RI)
‧管柱溫度：40℃
注入量：100μl
溶離液：四氫呋喃
檢測器：示差折射計
標準試料：聚苯乙烯
本發明之透明樹脂層(黏著劑層)之形成材料(透明黏著劑)可含有交聯劑。交聯劑包含異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、聚矽氧系交聯劑、唑啉系交聯劑、吖環丙烷系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、過氧化物等之交聯劑。交聯劑可單獨1種或組合2種以上。就前述交聯劑而言，以異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑適於使用。
上述交聯劑可單獨使用1種，亦可混合2種以上使用，但以全體含量而言，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，宜在0.01~5重量份之範圍內含有前述交聯劑。交聯劑之含量宜含有0.01~4重量份，且更宜含有0.02~3重量份。
異氰酸酯系交聯劑係指在1分子中具有2個以上異氰酸酯基(包含已將異氰酸酯基以封端劑或低聚化予以暫時保護之異氰酸酯再生型官能基)之化合物。
異氰酸酯系交聯劑可列舉如：甲伸苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯；異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯；以及，六亞甲基二異氰酸酯 等脂肪族異氰酸酯等。
可更具體舉例如：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲 基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類；環伸戊基二異氰酸酯、環伸己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類；2,4-甲伸苯基二異氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類；三羥甲基丙烷/甲伸苯基二異氰酸酯三聚物加成物(日本聚胺甲酸酯工業社製，商品名Coronate L)、三羥甲基丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(日本聚胺甲酸酯工業社製，商品名Coronate HL)、六亞甲基二異氰酸酯之三聚異氰酸酯體(日本聚胺甲酸酯工業社製，商品名Coronate HX)等之異氰酸酯加成物、伸茬基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學社製，商品名D110N)、六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物(三井化學社製，商品名D160N)；聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯以及其等與各種多元醇之加成物、利用三聚異氰酸酯鍵結、縮二脲鍵結、脲甲酸酯(allophanate)鍵結等而多官能化之聚異氰酸酯等。此等之中，使用脂肪族異氰酸酯之反應速度較快而較為理想。
上述異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種亦可混 合2種以上使用，但以全體含量而言，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，宜含有0.01~5重量份之前述異氰酸酯系交聯劑，且較宜含有0.01~4重量份，更宜含有0.02~3重量份。可考慮凝集力及阻止耐久性試驗時之剝離 現象等而適當地含有該交聯劑。
此外，利用乳化聚合製作之改質(甲基)丙烯酸系 聚合物之水分散液可不使用異氰酸酯系交聯劑，但也可在必要時為了易與水發生反應而使用經封端化之異氰酸酯系交聯劑。
上述環氧系交聯劑係指在1分子中具有2個以 上環氧基之多官能環氧化合物。環氧系交聯劑除了可舉例如雙酚A、環氧氯丙烷型之環氧系樹脂、伸乙基環氧丙基醚、N,N,N',N'-四環氧丙基間二甲苯二胺、二環氧丙基苯胺、二胺環氧丙基胺、1,3-雙(N,N-二環氧丙基胺基甲基)環己烷、1,6-己二醇二環氧丙基醚、新戊基二醇二環氧丙基醚、乙二醇二環氧丙基醚、丙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、聚丙二醇二環氧丙基醚、山梨糖醇聚環氧丙基醚、丙三醇聚環氧丙基醚、新戊四醇聚環氧丙基醚、甘油二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、聚丙三醇聚環氧丙基醚、去水山梨糖醇聚環氧丙基醚、三羥甲基丙烷聚環氧丙基醚、己二酸二環氧丙酯、鄰酞酸二環氧丙酯、三環氧丙基-參(2-羥乙基)三聚異氰酸酯、間苯二酚二環氧丙酯及雙酚-S-二環氧丙基醚之外，還可列舉如分子內具有2個以上環氧基之環氧系樹脂等。上述環氧系交聯劑也可舉例如三菱氣體化學社製之商品名「TETRAD-C」、「TETRAD-X」等之市售品。
上述環氧系交聯劑可單獨使用1種，也可混合2 種以上來使用，但以全體含量而言，相對於前述(甲基)丙烯 酸系聚合物100重量份，宜含有0.01~5重量份之前述環氧系交聯劑，且較宜含有0.01~4重量份，更宜含有0.02~3重量份。可慮及凝集力與阻止耐久性試驗時之剝離而適當地含有該交聯劑。
就過氧化物之交聯劑而言，只要是可藉由加熱 來發生自由基活性種而使黏著劑之基底聚合物進行交聯者即可適於使用，但慮及作業性及安定性，宜使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃之過氧化物，更宜使用90℃~140℃之過氧化物。
就可使用之過氧化物而言，可舉例如：二(2-乙 基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二第二丁基過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、第三丁基過氧新癸酸酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、第三己基過氧三甲基乙酸酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、第三丁基過氧三甲基乙酸酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、過氧化二月桂醯基(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二正辛醯基(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、過氧化二(4-甲基苯甲醯基)(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、過氧化二苯甲醯基(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、第三丁基過氧異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，從交聯反應效率優異之觀點來看，尤以二(4-第三丁基環己基) 過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯基(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二苯甲醯基(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。
此外，過氧化物之半衰期係表示過氧化物之分 解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半為止的時間。關於用以在任意時間內獲得半衰期之分解溫度以及在任意溫度下之半衰期時間等，則記載於製造廠商之型錄等，例如記載於日本油脂股份有限公司「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
前述過氧化物可單獨使用1種，亦可混合2種 以上使用，但以全體含量而言，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，前述過氧化物為0.02~2重量份，且以含有0.05~1重量份為宜。為了調整加工性、再製性、交聯安定性、剝離性等，可在此範圍內適當選擇。
另，就反應處理後殘存之過氧化物分解量之測 定方法而言，舉例來說可以HPLC(高速液體層析法)來進行測定。
更具體舉例而言，將反應處理後之黏著劑逐次 取出約0.2g，浸漬於乙酸乙酯10ml後於25℃下用振盪機、以120rpm振盪萃取3小時，之後於室溫下靜置3天。接著，添加乙腈10ml，於25℃下以120rpm振盪30分鐘，再將經膜過濾器(0.45μm)過濾所得之萃取液約10μl注入HPLC並予以分析，即可令其為反應處理後之過氧化物量。
又，就交聯劑而言，也可併用有機系交聯劑及 多官能性金屬螯合物。多官能性金屬螯合物即是多價金屬與有機化合物呈共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可列舉如Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中進行共價鍵結或配位鍵結之原子可列舉如氧原子等，有機化合物則可列舉如烷酯類、醇類化合物、羧酸化合物、醚類化合物、酮類化合物等。
本發明之透明樹脂層(黏著劑層)之形成材料(黏 著劑)中，可為了提高接著力而含有(甲基)丙烯酸系寡聚物。(甲基)丙烯酸系寡聚物宜使用與本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物相較下Tg更高且重量平均分子量更小之聚合物。此種(甲基)丙烯酸系寡聚物可作為賦予黏著性之樹脂而發揮機能，且具有可不使介電率上昇而增加接著力之好處。
前述(甲基)丙烯酸系寡聚物之Tg宜在約0℃以 上且300℃以下，較宜在約20℃以上且300℃以下，更宜在約40℃以上且300℃以下。若Tg小於約0℃，則黏著劑層在室溫以上之凝集力降低，會有保持特性及高溫下之接著性降低的情況。另，(甲基)丙烯酸系寡聚物之Tg與(甲基)丙烯酸系聚合物之Tg相同，皆是基於Fox之算式計算所得之理論值。
(甲基)丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量宜在 1000以上且小於30000，較宜在1500以上且小於20000，更宜在2000以上且小於10000。若重量平均分子量為30000以上，會有無法充分獲得接著力提升效果之情況。又，若 小於1000，由於變為低分子量，會有引起接著力與保持特性降低之情況。於本發明中，(甲基)丙烯酸系寡聚物之重量平均分子量之測定可藉GPC法並以聚苯乙烯換算來求得。 具體來說，則是對東曹股份有限公司製之HPLC8020使用TSKgel GMH-H(20)×2(根)作為管柱，以四氫呋喃溶劑在流速約0.5ml/分之條件下進行測定。
構成前述(甲基)丙烯酸系寡聚物之單體可舉例 如：諸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯之(甲基)丙烯酸烷酯；諸如(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸二環戊烷酯之(甲基)丙烯酸與脂環族醇之酯；以及，諸如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯之(甲基)丙烯酸芳酯；得自萜化合物衍生物醇類之(甲基)丙烯酸酯等。此等(甲基)丙烯酸酯可單獨使用亦可組合2種以上使用。
就(甲基)丙烯酸系寡聚物而言，以含有相對下具 有龐大結構的丙烯酸系單體來作為單體單元為宜，此種丙烯酸系單體係以下述者作為代表：諸如(甲基)丙烯酸異丁酯 及(甲基)丙烯酸第三丁酯之烷基具分枝結構的(甲基)丙烯酸烷酯；諸如(甲基)丙烯酸環己酯及(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯之(甲基)丙烯酸與脂環式醇類之酯；諸如(甲基)丙烯酸苯酯及(甲基)丙烯酸苄酯之(甲基)丙烯酸芳酯等，具環狀結構之(甲基)丙烯酸酯。藉由使(甲基)丙烯酸系寡聚物具有此種龐大結構，可使黏著劑層之接著性進一步提升。在結構龐大之觀點下尤其是以具有環狀結構者效果較佳，含有多數環者效果更佳。又，於合成(甲基)丙烯酸系寡聚物及製作黏著劑層之際採用紫外線時，在不易引起聚合抑制之觀點下，以具有飽和鍵結者為宜，可將烷基具有分枝結構之(甲基)丙烯酸烷酯或是與脂環式醇類之酯作為構成(甲基)丙烯酸系寡聚物之單體來適宜運用。
從此種觀點出發，較佳之(甲基)丙烯酸系寡聚物 可舉例如：甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與甲基丙烯酸異丁酯(IBMA)之共聚物、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與甲基丙烯酸異莰酯(IBXMA)之共聚物、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與丙烯醯基啉(ACMO)之共聚物、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)與二乙基丙烯醯胺(DEAA)之共聚物、1-金剛烷基丙烯酸酯(ADA)與甲基丙烯酸甲酯(MMA)之共聚物、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)與甲基丙烯酸異莰酯(IBXMA)之共聚物、甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)、甲基丙烯酸環己酯(CHMA)、甲基丙烯酸異莰酯(IBXMA)、丙烯酸異莰酯(IBXA)、甲基丙烯酸環戊酯(DCPMA)與甲基丙烯酸甲酯(MMA)之共聚物、丙烯酸二環戊酯(DCPA)、1-金剛烷基甲 基丙烯酸酯(ADMA)及1-金剛烷基丙烯酸酯(ADA)等之各單聚物等。尤以含有CHMA作為主成分之寡聚物為佳。
在本發明之透明樹脂層(黏著劑層)之形成材料 (黏著劑)中，使用前述(甲基)丙烯酸系寡聚物時其含量並未特別受限，但相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份宜在70重量份以下，且較宜為1~70重量份，更宜為2~50重量份，尤宜為3~40重量份。(甲基)丙烯酸系寡聚物之添加量若超過70重量份，會有彈性率提高且低溫下之接著性變差的不理想情況。又，從接著力提升效果之觀點來看，摻合(甲基)丙烯酸系寡聚物達1重量份以上即有效。
進一步來說，在黏著劑層應用於玻璃等之親水 性被黏著物時，為了提高界面之耐水性，本發明之透明樹脂層(黏著劑層)之形成材料(黏著劑)中可含有矽烷偶合劑。矽烷偶合劑之摻合量相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份宜為1重量份以下，且較宜為0.01~1重量份，更宜為0.02~0.6重量份。若矽烷偶合劑摻合過多，對於玻璃之接著力增大，再剝離性不佳，但若過少則耐久性降低而不理想。
可適於使用之矽烷偶合劑可列舉如：3-環氧丙氧 基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺及N- 苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑；以及，3-異氰酸基丙基三乙氧基矽烷等含有異氰酸基之矽烷偶合劑劑等。
為了將透明樹脂層之表面阻抗值控制在本發明 之範圍內，本發明之透明樹脂層(黏著劑層)之形成材料(黏著劑)除了基底聚合物之外，還可含有離子性化合物。離子性化合物可適於使用鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽。鹼金屬鹽可使用鹼金屬之有機鹽及無機鹽。另，本發明中所謂的「有機陽離子-陰離子鹽」係指：為有機鹽且其陽離子部分係由有機物所構成之物，陰離子部分可為有機物亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」亦稱為離子性液體、離子性固體。
<鹼金屬鹽>
構成鹼金屬鹽之陽離子部分的鹼金屬離子可列舉如鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子之中以鋰離子為佳。
鹼金屬鹽之陰離子部分可以有機物構成，亦可以無機物構成。構成有機鹽之陰離子部分可使用諸如CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、(CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -、PF6 -、CO3 2-及下述通式(1)至(4)所示之物：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(但n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(但m為1~10之整數)、 (3)：-O3S(CF2)lSO3 -(但1為1~10之整數)、 (4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(但p、q為1~10之整數)。
其中，尤以含氟原子之陰離子部分可獲得離子解離性良好之離子化合物而適於使用。構成無機鹽之陰離子部分可使用Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-等。陰離子部分以(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-等以前述通式(1)表示之(全氟烷基磺醯基)亞胺基為宜，尤其是以(CF3SO2)2N-表示之(三氟甲磺醯基)亞胺基為佳
鹼金屬有機鹽可具體列舉如乙酸鈉、海藻酸鈉、木質素磺酸鈉、甲苯磺酸鈉、LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C、KO3S(CF2)3SO3K、LiO3S(CF2)3SO3K等，其等之中以LiCF3SO3、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等為宜，Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(C4F9SO2)2N等之含氟鋰醯亞胺鹽更佳，且以(全氟烷基磺醯基)醯亞胺鋰鹽尤佳。
此外，鹼金屬無機鹽可列舉如過氯酸鋰、碘化鋰。
<有機陽離子-陰離子鹽>
本發明中使用之有機陽離子-陰離子鹽係由陽離子成分與陰離子成分構成，且前述陽離子成分為有機物所構成之物。陽離子成分可具體列舉如吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽 離子、吡咯啶鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
陰離子成分可使用諸如Cl-、Br-、I-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、NO3 -、CH3COO-、CF3COO-、CH3SO3 -、CF3SO3 -、(CF3SO2)3C-、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、(CN)2N-、C4F9SO3 -、C3F7COO-、((CF3SO2)(CF3CO)N-、-O3S(CF2)3SO3 -及下述通式(1)至(4)所示之物：(1)：(CnF2n+1SO2)2N-(但n為1~10之整數)、(2)：CF2(CmF2mSO2)2N-(但m為1~10之整數)、(3)：-O3S(CF2)lSO3 -(但l為1~10之整數)、(4)：(CpF2p+1SO2)N-(CqF2q+1SO2)(但p、q為1~10之整數)。
其中，尤以含氟原子之陰離子成分可獲得離子解離性良好之離子化合物而適於使用。
就有機陽離子-陰離子鹽之具體例而言，可適當選擇使用由上述陽離子成分與陰離子成分組合而成之化合物。
舉例來說，可列舉如：1-丁基吡啶鎓四氟硼酸鹽、1-丁基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓四氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-己基吡啶鎓四氟硼酸鹽、2-甲基-1- 吡咯啉四氟硼酸鹽、1-乙基-2-苯基吲哚四氟硼酸鹽、1,2-二甲基吲哚四氟硼酸鹽、1-乙基咔唑四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-乙基-3-甲基咪唑鎓二氰胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓參(三氟甲磺醯基)甲基化物、1-丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟乙酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓七氟丁酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓全氟丁磺酸鹽、1-丁基-3-甲基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-己基-3-甲基咪唑鎓溴化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓氯化物、1-己基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-3-甲基咪唑鎓三氟甲磺酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1-辛基-3-甲基咪唑鎓六氟磷酸鹽、1-己基-2,3-二甲基咪唑鎓四氟硼酸鹽、1,2-二甲基-3-丙基咪唑鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、3-甲基吡唑鎓四氟硼酸鹽、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨四氟硼酸鹽、二烯丙基二甲基銨三氟磺酸鹽、二烯丙基二甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、二烯丙基二甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨四氟硼酸鹽、N,N-二乙基 -N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨三氟磺酸鹽、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨三氟甲磺酸鹽、環氧丙基三甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、環氧丙基三甲基銨雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丁基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-(2-甲氧基乙基)銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、二烯丙基二甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、環氧丙基三甲基銨(三氟甲磺醯基)三氟乙醯胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-乙基-N-壬基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丙基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-丁基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N-戊基-N-己基銨 雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二甲基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-甲基-N-庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基丙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三乙基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N-丁基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丙基-N,N-二己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N,N-二丁基-N-甲基-N-己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三辛基甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、N-甲基-N-乙基-N-丙基-N-戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶-1-鎓三氟甲磺酸鹽等。就其等之市售品而言，例如可使用「CIL-314」(Japan Carlit Co.,Ltd.製)、「ILA2-1」(廣榮化學社製)等。
此外，還可舉例如四甲基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基乙基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基戊基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基庚基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、三甲基辛基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四乙基銨雙(三氟甲磺醯基) 醯亞胺、三乙基丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四丁基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、四己基銨雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺等。
再者，可舉例如1-二甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞 胺、1-乙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-戊基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基吡咯啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二甲基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-乙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1- 甲基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-甲基-1庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺，1-乙基-1-戊基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-己基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-乙基-1-庚基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1-丙基-1-丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丙基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺、1,1-二丁基哌啶鎓雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺等。
此外，可列舉如使用三甲基鋶陽離子、三乙基鋶陽離子、三丁基鋶陽離子、三己基鋶陽離子、二乙基甲基鋶陽離子、二丁基乙基鋶陽離子、二甲基癸基鋶陽離子、四甲基鏻陽離子、四乙基鏻陽離子、四丁基鏻陽離子及四己基鏻陽離子來取代上述化合物之陽離子成分而成的化合物等。
再者，還可列舉如使用雙(五氟磺醯基)醯亞胺、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、三氟甲磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、七氟丙磺醯基三氟甲磺醯基醯亞胺、五氟乙磺醯基九氟丁磺醯基醯亞胺、環式-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子等來取代上述雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺而成之化合物等。
此外，離子性化合物除了前述鹼金屬鹽、有機 陽離子-陰離子鹽之外，尚可列舉如氯化銨、氯化鋁、氯化銅、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸銨等之無機鹽。該等離子性 化合物可單獨或併用多種。
本發明之透明樹脂層(黏著劑層)之形成材料(黏 著劑)中離子性化合物之比例相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份宜為0.0001~5重量份。前述離子性化合物小於0.0001重量份時會有抗靜電性能提升效果不足的情況。前述離子性化合物以0.01重量份以上為宜，更宜為0.1重量份以上。另一方面，前述離子性化合物若多於5重量份，會有耐久性變得不足的情況。前述離子性化合物以3重量份以下為宜，1重量份以下更佳。前述離子性化合物之比例可採用前述上限值或下限值來設定較佳範圍。
此外，本發明之透明樹脂層(黏著劑層)之形成材 料(黏著劑)中也可含有其他習知添加劑，舉例來說，可因應所使用之用途來適當地添加聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等之粉體、染料、界面活性劑、可塑劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、老化防止劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機充填劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。 此外，在可控制之範圍內，也可採用添加還原劑之氧化還原系統。
舉例來說，可將前述形成材料(黏著劑)塗布在透 明基體等之構件及/或偏光薄膜上再乾燥去除聚合溶劑等，藉此形成前述透明樹脂層(黏著劑層)。在塗布前述形成材料時，也可適當地重新添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。
前述形成材料之塗布方法可使用各種方法。可 具體舉例如輥塗法、滾壓塗布(kiss-roll coating)法、凹版印刷塗佈法、逆轉輥塗布(reverse coating)法、輥刷法、噴霧塗佈法、浸漬輥塗法、棒塗法、刀塗法、氣刀塗佈法、淋幕塗佈法、唇塗法、利用壓模塗佈機之擠壓塗佈法等方法。
前述加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50 ℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。藉由令加熱溫度為上述範圍，可獲得具有黏著特性之透明樹脂層。乾燥時間可適當採用適切之時間。上述乾燥時間以5秒~20分鐘為宜，更宜為5秒~10分鐘，尤宜為10秒~5分鐘。
又，前述透明樹脂層之形成可藉由對前述形成 材料(黏著劑)照射紫外線等之活性能量使其聚合來進行。紫外線照射可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵化物燈等。另，前述形成材料為透明黏著劑時，可在從單體成分製造(甲基)丙烯酸系聚合物之同時，形成透明樹脂層(黏著劑層)。可對單體成分適當地摻和交聯劑等。前述單體成分可在紫外線照射時使用已在事前使一部分聚合而形成漿狀之物。
又，前述形成材料為透明黏著劑時，前述透明 樹脂層(黏著劑層)可在形成支持體之後立刻轉印到偏光薄膜等上。前述支持體可使用諸如經剝離處理之片材。經剝離處理之片材可適於使用聚矽氧剝離襯裡。
已在經剝離處理之片材上形成透明樹脂層(黏著 劑層)之黏著片在前述透明樹脂層(黏著劑層)露出時，也可 在供實際使用之前，以業已剝離處理之片材(分隔件)來保護透明樹脂層(黏著劑層)。在實際使用時，前述經剝離處理之片材會被剝離。
分隔件之構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、 聚對酞酸乙二酯及聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網、發泡片、金屬箔及其等之積層體等之適當薄片體等，但從表面平滑性優異之觀點來看，以塑膠薄膜適於使用。
該塑膠薄膜只需為可保護前述透明樹脂層(黏著 劑層)之薄膜即可，並未特別受限，可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚戊二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對酞酸乙二酯薄膜、聚對酞酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。
前述分隔件之厚度通常為5~200μm，且宜為 5~100μm程度。前述分隔件亦可依需要而以聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑及二氧化矽粉等施行脫模及防汚處理，或施行塗布型、揉合型、蒸鍍型等抗靜電處理。特別是可對前述分隔件表面適當地施行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等之剝離處理，藉此進一步提高源自前述透明樹脂層(黏著劑層)之剝離性。
此外，透明樹脂層可藉透明液狀樹脂來形成。 透明液狀樹脂可舉例如：含有下述通式(A)所示具有2個(甲基)丙烯醯基之二官能(甲基)丙烯酸酯化合物(A成分)的活 性能量線硬化型樹脂組成物。
通式(A)：R1-O(X1-O)m-Y-(X2-O)n-R2
通式(A)中，R1、R2各自為丙烯醯基或甲基丙烯醯基，可互為相同亦可相異。X1及X2為碳數2~4之伸烷基，可互為相同亦可相異。m、n為正整數，m+n=3~40。Y為單鍵、-Ph-C(CH3)2-Ph-O-、-Ph-CH2-Ph-O-或-C(CH3)2-O-，-Ph-表示對伸苯基。
於上述通式(A)中，特別是R1及R2為甲基丙烯 醯基可使活性能量線硬化性變得良好而較為理想。又，上述通式(A)中，X1及X2為碳數3~4之伸烷基可使光透過性變得良好而較為理想。進一步來說，上述通式(A)中，m+n=10~20可使光透射性變得良好而較為理想。
此外，上述通式(A)中，X1及X2為-CH(CH3)-CH2- 且Y為單鍵可使光透射性變得良好而較理想。
上述特定之(甲基)丙烯酸酯化合物(A成分)之摻 合量宜設定在活性能量線硬化型樹脂組成物全體之0.1~50重量%之範圍內，更宜在1~40重量%之範圍內。這是因為，若上述特定(甲基)丙烯酸酯化合物之摻合量過少，將可見活性能量線硬化性有劣化之傾向，反之一旦過多，則可預見低硬化收縮性有劣化之傾向。
含有上述特定(甲基)丙烯酸酯化合物(A成分) 之活性能量線硬化型樹脂組成物可藉由照射電子線、紫外線等放射線而硬化。前述放射線照射以電子線進行時，未必需要使前述組成物含有光聚合引發劑，但以紫外線進行 前述放射線照射時，則可使其含有光聚合引發劑(B成分)。 光聚合引發劑(B成分)係作為紫外線硬化劑發揮作用，可使用光自由基聚合引發劑等各種光聚合引發劑。本發明中，液晶顯示裝置使用形成有ITO(氧化銦錫)等透明電極之觸控面板時，從避免源自光聚合引發劑之離子(特別是陰離子對)引起ITO腐蝕的目的來考量，更宜使用光自由基聚合引發劑。
就上述光自由基聚合引發劑而言，可使用與利 用紫外線聚合方式製造形成上述透明樹脂層(黏著劑層)之丙烯酸系聚合物時所採用的光自由基聚合引發劑相同之物。上述光聚合引發劑之摻合量宜設定在紫外線硬化型樹脂組成物全體之0.1~20重量%之範圍內，更宜在0.2~20重量%之範圍內。這是因為，若光聚合引發劑之摻合量過少，紫外線硬化性將劣化，反之一旦過多，將可見光透射性有劣化之傾向。
雖然本發明之活性能量線硬化型樹脂組成物含 有前述特定之(甲基)丙烯酸酯化合物(A成分)，但視需要而含有每1分子平均具有1個以上(甲基)丙烯醯基之共軛二烯系聚合物(C成分)將可使光透射性變得良好，從此觀點來看甚是理想。前述C成分之摻合量宜設定在相對於活性能量線硬化型樹脂組成物全體之0.1~50重量%的範圍內。
接著從光透射性良好之觀點來看，上述共軛二 烯系聚合物(C成分)宜為下述聚合物：由選自於由聚丁二烯、聚異戊二烯及丁二烯與異戊二烯之共聚物所構成群組 中之至少一者所構成，且每1分子平均具有1個以上(甲基)丙烯醯基。
進一步來說，本發明之活性能量線硬化型樹脂 組成物可含有上述各成分以外之單官能性單體。單官能性單體係指具有1個(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之官能基的單體。單官能性單體以具有(甲基)丙烯醯基之(甲基)丙烯酸酯單體為佳。
上述(甲基)丙烯酸酯單體可例示如(甲基)丙烯酸 2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸烷酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、辛戊基二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、降崁烯(甲基)丙烯酸酯。可列舉如該等之(甲基)丙烯酸酯苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯(PO)、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯(CH)、壬基酚EO加成物(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯及四氫糠基(甲基)丙烯酸酯等。此等可單獨使用亦可併用2種以上。
上述單官能性單體之摻合量宜設定在本發明之 活性能量線硬化型樹脂組成物全體之0~50重量%範圍內。 這是因為，若上述單官能性單體之摻合量過多，可預見低硬化收縮性有劣化之傾向。
此外，形成透明樹脂層之透明液狀樹脂與前述 透明黏著劑同樣地可含有交聯劑、(甲基)丙烯酸系寡聚物、矽烷偶合劑、離子性化合物以及更進一步之其他習知添加劑等摻合物。另，就前述透明黏著劑而言，雖已記載了相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份之前述摻合物的比例，但就透明液狀樹脂而言，以透明液狀樹脂(活性能量線硬化型樹脂組成物)全體100重量份為準，宜以與前述透明黏著劑同樣之比例含有前述摻合物。
再者，本發明之活性能量線硬化型樹脂組成物 中除了上述各成分以外，還可因應其用途等而依需要地適當摻合消泡劑、界面活性劑、著色劑、有機質充填劑、各種隔件、黏著/接著性賦予劑等。此等可單獨使用，亦可併用2種以上。
舉例而言，可摻合特定之(甲基)丙烯酸酯化合物 (A成分)及其他摻合成分，藉由自公轉型遊星攪拌混合機或玻璃攪拌容器進行攪拌，再以混合、揉合方式製造本發明之活性能量線硬化型樹脂組成物。
如此獲得之本發明活性能量線硬化型樹脂組成 物舉例來說可使用UV燈等進行紫外線照射而以硬化物之型態供應。又，進行上述紫外線照射等之光照射後，亦可視需要而以預定溫度進行後硬化(post cure)。
本發明之活性能量線硬化型樹脂組成物係如前 述般可適用於：被應用在影像顯示裝置觀視側之觸控面板等之輸入裝置、蓋玻璃、塑膠蓋等透明基體等之構件與偏光薄膜(影像顯示面板)之間，而用於填補前述構件與偏光薄膜(影像顯示面板)之縫隙。具體舉例來說，則是於前述構件側塗佈必要量之本發明活性能量線硬化型樹脂組成物，於常壓或真空下與偏光薄膜(影像顯示面板)對位並貼合。此時，藉由控制貼合壓力及高度，一邊保持前述構件與偏光薄膜(影像顯示面板)間之距離，一邊部分地進行活性能量線照射以進行暫時固著。之後視需要實施外觀檢測後，再次進行活性能量線照射，使上述活性能量線硬化型樹脂組成物硬化，藉此製造目的之影像顯示裝置。
如上述，以本發明之活性能量線硬化型樹脂組 成物填補偏光薄膜(影像顯示面板)與配置於上述影像顯示面板上之前述構件之間後，照射活性能量線使上述活性能量線硬化型樹脂組成物硬化，可藉此製得目的之影像顯示裝置。另，對上述影像顯示裝置裝設觸控感測器時，於上述影像顯示面板與保護蓋平板(蓋玻璃、塑膠蓋等透明基體等)之間配置觸控感測器，並以本發明之活性能量線硬化型樹脂組成物填補上述影像顯示面板與觸控感測器之間、以及上述保護蓋平板與觸控感測器之間的至少任一者，之後藉活性能量線照射使上述活性能量線硬化型樹脂組成物硬化，即可製得目的之影像顯示裝置。
實施例
以下藉由實施例以具體說明本發明，但本發明 並不受此等實施例所限定。另，各例中之份及%均為重量基準。實施例等之評估項目係如下述般測定。
實施例1 <調製用於紫外線聚合之單體成分>
於設有攪拌葉輪、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，將丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)70重量份、N-乙烯吡咯烷酮(NVP)15重量份、丙烯酸4-羥丁酯(4HBA)15重量份及2種光聚合引發劑(商品名：IRGACURE 184，BASF公司製)0.05重量份及光聚合引發劑(商品名：IRGACURE 651，BASF公司製)0.05重量份投入4口燒瓶而調製出單體混合物。接著，於氮氣環境下使前述單體混合物暴露在紫外線中使其進行部分光聚合，而獲得聚合率約10重量%之部分聚合物(丙烯酸系聚合物漿)。
於上述丙烯酸系聚合物漿100重量份中添加三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)0.01重量份後，將其等均勻混合而調製出單體成分。
<透明樹脂層形成材料之調製>
進一步對上述丙烯酸系聚合物漿100重量份添加雙三氟甲磺醯基醯胺鋰(LiTFSA)1重量份作為離子性化合物，調製出透明樹脂層形成材料。
<利用紫外線聚合製作透明樹脂層>
接著，將上述調製出之透明樹脂層形成材料塗佈於單面經聚矽氧系剝離劑處理之聚對酞酸乙二酯薄膜(分隔件 薄膜)之剝離處理面上，使最終厚度為20μm而形成塗布層。接著，於已塗布之單體成分表面披覆單面經聚矽氧系剝離劑處理之聚對酞酸乙二酯薄膜(分隔件薄膜)，以使該薄膜之剝離處理面成為塗佈層側。藉此，使單體成分之塗佈層阻斷氧氣。使用化學發光燈(東芝股份有限公司製)對如此製得之具塗佈層之片材照射照度為5mW/cm2(以對約350nm具最大感度之TOPCON UVR-T1測定)之紫外線360秒，使塗布層硬化而製作出透明樹脂層。
≪偏光薄膜之製作≫
使厚度80μm之聚乙烯醇薄膜在速度比相異之輥子間一邊於30℃且0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘，一邊延伸至3倍。之後，一邊於60℃且含有4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，一邊延伸至總延伸倍率達6倍為止。接著，於30℃且含有1.5%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬10秒，藉此洗淨後，於50℃下進行4分鐘乾燥，獲得厚度20μm之偏光件。於該偏光件兩面上藉聚乙烯醇系接著劑貼合經皂化處理且厚度40μm之三乙醯基纖維素薄膜，製作出偏光薄膜(以下稱為偏光薄膜P1)。
<製作附黏著劑層(觀視側)之偏光薄膜P1>
將所得透明樹脂層用作黏著劑層。從所得透明樹脂層剝除單側之分隔件薄膜後，使形成於另一側之分隔件薄膜上的透明樹脂層(黏著劑層)轉印到上述製出之偏光薄膜P1，而製作出附黏著劑層(觀視側)之偏光薄膜P1。
實施例2~15、比較例1~5
除了將實施例1中用於調製單體成分之單官能性單體之種類與其組成比、離子性化合物之種類與添加量、所形成之透明樹脂層厚度變更如表1所示之外，與實施例1進行相同之操作而製出透明樹脂層。此外，與實施例1同樣地製作出附黏著劑層(觀視側)之偏光薄膜P1。
就上述實施例及比較例所得透明樹脂層(黏著劑 層)或附黏著劑層(觀視側)之偏光薄膜P1進行以下評估。茲將評估結果示於表1。
<表面阻抗值>
從上述各例製得之透明樹脂層剝除單側之分隔件薄膜後，使用三菱化學ANALYTECH公司製之MCP-HT450測得露出之透明樹脂層表面的表面阻抗值(Ω/□)。
<耐久性>
剝除上述各例所得附黏著劑層(觀視側)之偏光薄膜P1的分隔件薄膜，並使用積層器貼著於厚度0.7mm之無鹼玻璃(康寧公司製，1737)。接著，於50℃且0.5MPa下，進行15分鐘之加熱釜處理，使上述附黏著劑層之偏光薄膜與無鹼玻璃完全密著。接著，使用LANTECH公司製之真空貼合裝置，於0.2MPa壓力及真空度30Pa之條件下進行真空貼合。在80℃加熱爐(加熱)及60℃/90%RH之恒溫恒濕機(加濕)之條件下將其分別投入，並以下述基準評估500小時後有無偏光薄膜剝離。
◎：完全未發現剝離。
○：發現目視無法確認程度之剝離。
△：發現可以目視確認之小幅剝離。
×：發現明顯之剝離。
<霧度測定>
於全光透射率93.3%、霧度0.1%之無鹼玻璃單面上貼附上述各例所得之透明樹脂層，並以霧度計(村上色彩技術研究所製，MR-100)測定霧度。以霧度計進行測定時，透明樹脂層係配置在光源側。霧度值因無鹼玻璃之霧度值為0.1%，而令從測定值扣除0.1%所得之值為霧度值。全光透射率(%)採用測定值。
<ESD槍測試/靜電偏差之評估> 製作附黏著劑層(晶胞側)之偏光薄膜P1
於設有冷卻管、氮導管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中饋入含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份之單體混合物。進一步對於前述單體混合物(固體含量)100份，將2,2'-偶氮二異丁腈0.1份作為聚合引發劑而與乙酸乙酯共同饋入，一邊緩慢攪拌一邊導入氮氣進行氮置換後，使燒瓶內之液溫保持在60℃附近，進行7小時聚合反應。之後，對所得反應液添加乙酸乙酯，製作出已調整成固體成分濃度30%且重量平均分子量160萬之丙烯酸系聚合物(A)之溶液。對所得丙烯酸系聚合物(A)溶液之固體成分100份摻合用作交聯劑之三羥甲基丙烷伸茬基二異氰酸酯(三井化學社製：TAKENATE D110N)0.1份、過氧二苯甲醯基0.3份及γ-環氧丙氧丙基甲氧基矽烷(信越化學工業社製：KBM-403)0.2份，獲得黏著劑組成物之溶液。
接著將上述調製之黏著劑組成物均勻塗佈在單面經聚矽氧系剝離劑處理之聚對酞酸乙二酯薄膜(分隔件薄膜)之剝離處理面，使最終厚度為20μm後，以150℃之空氣循環式恒溫爐乾燥60秒，形成前述厚度20μm之黏著劑層X。
接著，使已形成在上述分隔件薄膜之黏著劑層X移附到上述偏光薄膜P1，而製得附黏著劑層(晶胞側)之偏光薄膜P1。
實施例1~15、比較例1~5
從液晶面板(Apple製iPod touch之in-cell型觸控感測器內嵌式液晶顯示裝置)剝離蓋玻璃C及觀視側之偏光薄膜P2(偏光薄膜P2係與液晶晶胞側之黏著劑層一起剝離)，令其為樣本1。於樣本1之前述剝離面上貼合上述製作之附黏著劑層(晶胞側)之偏光薄膜P1。另一方面，前述蓋薄膜C在從偏光薄膜P2分離後予以清淨化再使用。於經清淨化之蓋薄膜C上轉印實施例1~15、比較例1~5調製之透明樹脂層(黏著劑層)。之後，將形成於蓋薄膜C之透明樹脂層(黏著劑層)貼合在設於前述樣本1之偏光薄膜P1，製作出評估樣本2。
實施例16、17
於上述製作之附黏著劑層(晶胞側)之偏光薄膜P1的黏著劑層(晶胞側)相反側(觀視側)上，貼合實施例2、5製出之透明樹脂層(黏著劑層)，而製出兩面附黏著劑層之偏光薄膜P1。於上述樣本1之前述剝離面上貼合前述兩面附黏著劑層之偏光薄膜P1的黏著劑層(晶胞側)側。另一方面，使 前述蓋薄膜C從偏光薄膜P1分離後，將其清淨化後使用。 將經清淨化之蓋薄膜C貼合到設於前述樣本1之偏光薄膜P1之黏著劑層(觀視側)，製出評估樣本2。
≪比較例6≫
對上述樣本1之前述剝離面貼合實施例5製出之附黏著劑層(觀視側)之偏光薄膜P1。另一方面，使前述蓋薄膜C從偏光薄膜P1分離後予以清淨化再使用。使上述製作之黏著劑層X轉印到經清淨化之蓋薄膜C。之後，將已形成於蓋薄膜C之黏著劑層X貼合到設於前述樣本1之偏光薄膜P1上，製出評估樣本2。
另外，上述附黏著劑層之偏光薄膜等係截斷為 100mm×100mm大小後使用。
將上述評估樣本2(液晶面板)置於具10000cd亮度之背光上，使用靜電發生裝置之ESD(SANKI公司製，ESD-8012A)使5kv之靜電發生而引起液晶之定向紊亂。使用瞬間多工光度檢測器(大塚電子公司製，MCPD-3000)測定該定向不良所致顯示不良的回復時間(秒)，並以下述基準評估。
◎：顯示不良在小於1秒內消失。
○：顯示不良在1秒以上且小於10秒內消失。
×：顯示不良在10秒以上才消失。
於表1中，2EHA表示丙烯酸2-乙基己酯；NVP表示N-乙烯吡咯烷酮；4HBA表示丙烯酸4-羥丁酯；MEA表示丙烯酸甲氧基乙酯；TMPTA表示三羥甲基丙烷三丙烯酸酯；LiTFSA表示雙三氟甲磺醯基醯胺鋰；KTFSA表示雙三氟甲磺醯基醯胺鉀；液體鹽表示甲基丙基吡咯啶鎓-雙三氟甲磺醯基醯胺鹽(熔點12℃)；固體鹽表示乙基甲基吡咯啶鎓-雙三氟甲磺醯基醯胺鹽(融點90℃)。
1‧‧‧偏光薄膜
A‧‧‧透明樹脂層
B‧‧‧影像顯示裝置

Claims (12)

  1. 一種透明樹脂層，係較偏光薄膜配置在更靠觀視側處，且該偏光薄膜係於影像顯示裝置中被設在最靠觀視側處，該透明樹脂層之特徵在於：前述透明樹脂層之表面阻抗值為1.0×1013Ω/□以下。
  2. 如請求項1之透明樹脂層，其中前述透明樹脂層之厚度為5μm~1mm。
  3. 如請求項1或2之透明樹脂層，其中前述透明樹脂層之表面阻抗值(Ω/□)乘厚度(cm)之值(體積阻抗值)為1.0×1012Ω‧cm以下。
  4. 如請求項1至3中任一項之透明樹脂層，其中前述透明樹脂層之形成材料含有丙烯酸系聚合物作為基底聚合物。
  5. 如請求項1至4中任一項之透明樹脂層，其中前述透明樹脂層之形成材料含有離子性化合物。
  6. 如請求項1至5中任一項之透明樹脂層，其中前述透明樹脂層之形成材料為透明黏著劑。
  7. 如請求項1至5中任一項之透明樹脂層，其中前述透明樹脂層之形成材料為透明液狀樹脂。
  8. 如請求項1至7中任一項之透明樹脂層，其係應用於觸控面板。
  9. 如請求項1至8中任一項之透明樹脂層，其係應用於 in-cell型或on-cell型之觸控感測器內嵌式液晶顯示裝置。
  10. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，具有：於影像顯示裝置中被設在最靠觀視側處之偏光薄膜；及配置在較該偏光薄膜更靠觀視側處之黏著劑層；該附黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於：前述黏著劑層係一由如請求項6、8或9之透明黏著劑所形成的透明樹脂層。
  11. 一種影像顯示裝置，係具有至少1片偏光薄膜，其特徵在於：在較偏光薄膜更靠近觀視側處，具有至少1層如請求項1至9中任一項之透明樹脂層，且該偏光薄膜係於影像顯示裝置中被設為最靠觀視側。
  12. 如請求項11之影像顯示裝置，其中前述透明樹脂層係作為如請求項10之附黏著劑層之偏光薄膜中的黏著劑層來設置。
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