TW201507877A - 轉印薄膜及使用其之轉印成形品 - Google Patents

轉印薄膜及使用其之轉印成形品 Download PDF

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Abstract

本發明係提供一種轉印薄膜及使用其之轉印成形品，該轉印薄膜係具有消光層之適印刷性及低溫加工性，可以對於被轉印體賦予消光外觀，且環境負荷少。更進一步，提供一種轉印薄膜及使用其之轉印成形品，該轉印薄膜可以藉由脫模層之膜厚調整而控制射出成形品之表面光澤度。轉印薄膜(11)係在基材薄膜(1)之一側面上，至少依序地具有消光層(2)、脫模層(3A)、硬塗層(4)及接著層(7)，以2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂形成消光層(2)，且使其成為包含第1消光劑之層，使脫模層(3A)成為以丙烯胺甲酸乙酯樹脂為主成分之層，丙烯胺甲酸乙酯樹脂係至少由丙烯多元醇樹脂、與含有羥基及碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯樹脂、與異氰酸酯化合物之交聯反應所生成者。

Description

轉印薄膜及使用其之轉印成形品
本發明係關於一種在成形品之表面賦予消光外觀之轉印薄膜及使用其之轉印成形品，特別是關於一種具有不由基材薄膜剝離之消光層以及形成於該消光層之面上之脫模層的轉印薄膜及使用其之轉印成形品。
向來，主要在施行裝飾至塑膠成形物之際，會藉由使用轉印薄膜之熱轉印法而施行裝飾，來取代塗裝等之直接的裝飾方法。該轉印薄膜的大半被要求以塑膠成形物之表面保護為目的的硬塗布機能。這是由於許多時候使用例如聚碳酸酯樹脂所代表之柔軟樹脂來作為塑膠成形物等之被轉印體。像這樣，在用以裝飾被轉印體表面之轉印薄膜，許多時候會設置硬塗層等之表面保護層。
該轉印薄膜一般而言，係依序地積層脫模薄膜和轉印層之構造，該脫模薄膜係在基材薄膜之一側面上，形成有脫模層，該轉印層係在脫模層之面上依序地形成有硬塗層/裝飾層/接著層。又，該轉印薄膜係例如以下般地進行而製作。首先，在基材薄膜之一側面上，形成脫模層而製作脫模薄膜。接著，藉由在其脫模層之面上，依序地積層硬塗層、裝飾層、接著層等轉印層，而製作 可以進行所要求裝飾的轉印薄膜。
在此，於脫模層，在對塑膠成形物等之被轉印體的熱轉印時，係被要求具有用以將轉印層(特別是硬塗層)由脫模薄膜剝離而對被轉印體轉印之良好的剝離性。又，於硬塗層，係被要求具有耐傷痕性和耐藥品性等之表面性能。又，於裝飾層，則被要求賦予滿足所需之創意性。又，於接著層，係被要求具有對被轉印體之牢固的接著性。
更者，相對於基材薄膜而形成於第1層之脫模層，係除了具有來自轉印層(特別是硬塗層)之良好的剝離性以外，還被要求：不發生在形成硬塗層之際的塗布液塗布時之硬塗層用塗布液之彈迸(面塗性)、或具有可以忍受轉印時之熱度的耐熱性、基材薄膜或基底之間的強密合、甚至可追隨被轉印體之立體形狀(延伸性)等性能。
作為使用具備前述各層之轉印薄膜而將轉印層熱轉印在被轉印體之方法，可列舉例如在射出成形之同時轉印的方法(內模鑄成形法)、或藉由熱輥壓之熱壓而轉印的方法、或者是利用真空或是壓空或加熱機而對被轉印體轉印的方法(真空壓空成形法)等。
又，該脫模薄膜在發揮作為轉印層之支持構件的功能之同時，也發揮作為控制被轉印體表面之外觀之構件的功能。這個係起因於在轉印後，接著在轉印層之脫模薄膜之面成為被轉印體之最表面。因此，例如在未賦予消光外觀於被轉印體之表面的情形，會為了在脫模薄膜之脫模層表面賦予微細之凹凸，而在脫模層添加有機粒 子或無機粒子作為消光劑。藉由如此進行，而在轉印時，添加了消光劑之脫模層本身係維持與脫模薄膜一體化的狀態，僅轉印層被轉印，而在轉印層之最表面，脫模層表面之微細之凹凸圖案係被轉印。其結果，可以賦予被轉印體消光外觀。
專利文獻1中，作為可以在被轉印體(轉印成形品)之表面賦予消光外觀之轉印薄膜，係係記載著具有消光脫模薄膜和轉印層之轉印薄膜。記載於專利文獻1之消光脫模薄膜係具有基材薄膜、與形成於該基材薄膜之面上而不由基材薄膜剝離的消光層。又，轉印層係具有形成於消光脫模薄膜之消光層之面上的硬塗層、與接著層。藉由成為此種構造之轉印薄膜，而將消光外觀賦予在被轉印體之表面。又，在此，「消光脫模薄膜」係意味具備添加有消光劑之脫模層的脫模薄膜。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2000-108594號公報
但是，形成於該基材薄膜之面上之消光層，係以例如所謂胺基醇酸系樹脂、尿素三聚氰胺系樹脂、或此等樹脂之混合物的熱硬化性樹脂來作為主成分。因此，在轉印薄膜之製造步驟，係需要所謂的燒結步驟。具體而言，在此燒結步驟，係需要例如在180~200℃的 烘箱之30秒鐘~1分鐘程度的加熱。因此，基材薄膜有需要可以忍受該加熱條件，薄的基材、或不耐熱的基材大多不適合。
又，熱硬化性樹脂係具有將在印刷步驟所產生之熱能吸收等而進行硬化反應的性質。因此，例如在使用包含熱硬化性樹脂之塗布液(油墨)而進行凹版印刷的情形，油墨會容易殘留在版之凸部(非畫線部)，因此，會發生版走光等印刷不良，而有所謂變得難以均勻塗布的問題。
再者，上述三聚氰胺樹脂會在製造步驟產生有害之甲醛，而有所謂該甲醛大量地殘留於三聚氰胺硬化物及油墨乾燥裝置內的問題。又，如根據國際癌症研究機關之報告，則在被認定為對於人體具有致癌性之群組1中列舉有該甲醛，再者，其為病屋症候群(sick house syndrome)的原因物質之事也成為問題。
本發明係企圖解決此種問題點者，其目的係提供一種轉印薄膜及使用其之轉印成形品，該轉印薄膜係具有消光層之適印刷性及低溫加工性，可以對於被轉印體(主要是塑膠成形品)賦予消光外觀，環境負荷(人負荷)少。
再者，其目的係提供一種轉印薄膜及使用其之轉印成形品，該轉印薄膜係藉由在該消光層之面上形成脫模層，而能夠以調整該脫模層之膜厚，來控制被轉印體之表面光澤度。
本發明關聯之某一形態係一種轉印薄膜，係在基材薄膜之一側面上至少依序地具有消光層、脫模層、硬塗層和接著層的轉印薄膜，其特徵為：以2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂而形成該消光層，且使其成為包含第1消光劑之層，使該脫模層成為以丙烯胺甲酸乙酯樹脂為主成分之層，該丙烯胺甲酸乙酯樹脂係至少由丙烯多元醇樹脂、與含有羥基及碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯樹脂、與異氰酸酯化合物之交聯反應所生成。
又，於該轉印薄膜中，還可以在該消光層和該脫模層之至少任何一層，進一步包含含有羥基之纖維素衍生物。
又，於該轉印薄膜中，還可以在該脫模層，進一步包含含有羥基之丙烯聚矽氧樹脂。
又，於該轉印薄膜中，還可以在該脫模層，進一步包含第2消光劑。
又，於該轉印薄膜中，還可以使該第1消光劑和該第2消光劑成為相同之消光劑。
又，本發明關聯之其他形態係一種轉印成形品，其特徵為使用該轉印薄膜而製造。
由於如利用本發明之某一形態之轉印薄膜，則消光層係藉由2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂所形成，因此，可以提高凹版印刷時之適印刷性，同時，硬化反應會在室溫~50℃程度之低溫結束，而可以製作對於基材薄膜之熱負荷少的消光層。又，由於消光層係包含第1消光 劑，因此，也可以在被轉印體之表面賦予消光外觀。
又，由於脫模層係藉由含有碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯胺甲酸乙酯樹脂而形成，因此，可以提高凹版印刷時之適印刷性，同時，脫模層係於熱轉印時呈現優良之脫模性，且抑制塗布於脫模層上之硬塗層用塗布液之彈迸現象，而可形成均勻之硬塗層。又，也還可獲得消光層和脫模層之間的密合性。
又，由於脫模層係形成於消光層之面上，因此，可以藉由調整其脫模層之膜厚而容易地控制被轉印體之表面光澤度。
又，由於本發明之某一形態之轉印薄膜並未包含三聚氰胺樹脂，因此，也可以減少環境負荷(人負荷)。
又，由於可以藉由於該轉印薄膜中，在消光層和脫模層之至少任何一層，進一步包含含有羥基之纖維素衍生物，而使耐熱性提升，因此，即使是在使用同時進行射出成形與轉印之方法(內模鑄)之情形，也可以抑制熱皺紋和結塊現象等之缺陷。
又，藉由於前述轉印薄膜中，在脫模層，進一步包含含有羥基之丙烯聚矽氧樹脂，而可賦予能夠充分地對應熱轉印之高速化的優良之脫模性。
又，藉由於前述轉印薄膜中，在脫模層，進一步包含第2消光劑，而可在被轉印體之表面進一步賦予消光外觀。又，由於該脫模層係形成於消光層之面上，因此，可以藉由調整其脫模層之消光劑含有量及膜厚而容易地控制被轉印體之表面光澤度。更進一步，由於可 以抑制脫模層之膜厚變動所造成之對於被轉印體的表面光澤度之影響，因此，可以生產光澤度偏差小之轉印薄膜。
又，藉由於前述轉印薄膜中，使第1消光劑和第2消光劑成為相同之消光劑，而可抑制轉印薄膜之製造成本之高漲。
1‧‧‧基材薄膜
2‧‧‧消光層
3A‧‧‧脫模層
3B‧‧‧(消光)脫模層
4‧‧‧硬塗層
5‧‧‧底漆層
6‧‧‧裝飾(印刷)層
7‧‧‧接著層
8‧‧‧成形樹脂
9‧‧‧(消光)脫模薄膜
10‧‧‧轉印層
11A‧‧‧轉印薄膜
11B‧‧‧轉印薄膜
第1圖係本發明之第1實施形態所關聯的轉印薄膜之剖面概略圖。
第2圖係使用第1實施形態所關聯的轉印薄膜而製造之轉印成形品之剖面概略圖。
第3圖係本發明之第2實施形態所關聯的轉印薄膜之剖面概略圖。
第4圖係使用第2實施形態所關聯的轉印薄膜而製造之轉印成形品之剖面概略圖。
[實施發明之形態]
在以下，關於本發明之第1實施形態及第2實施形態，一面參考圖式而詳細地說明。又，在各圖，對於發揮相同或類似之機能的構成要素加以相同之參考符號，省略重複之說明。又，在本發明之實施形態，添加之各粒子之平均粒徑係藉由雷射繞射法而測定者。
(第1實施形態)
第1圖係本發明之第1實施形態所關聯的轉印薄膜之 剖面概略圖。又，第2圖係使用第1實施形態所關聯的轉印薄膜而製造之轉印成形品之剖面概略圖。
正如第1圖所示，本實施形態所關聯的轉印薄膜11A係依序地具備基材薄膜1、消光層2、脫模層3A、硬塗層4、底漆層5、裝飾(印刷)層6及接著層7之積層體。在此，通常裝飾(印刷)層6(在以下，也僅記載為「裝飾層6」)為複數層之情形多，也可以加入壓紋加工或珍珠顏料等之具有光學效果之裝飾材料。在以下，就本實施形態所關聯的轉印薄膜11A具備之前述各層進行說明。
(基材薄膜1)
作為基材薄膜1，可以使用例如聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚2,6萘二甲酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜、三乙醯基纖維素薄膜、聚碳酸酯薄膜、耐綸薄膜、賽洛凡薄膜、丙烯薄膜、氯乙烯薄膜等之基材。可使用之薄膜厚度較佳為25μm以上250μm以下之範圍內，特別是38μm以上150μm以下之範圍內的話，則於成本和薄膜成形性之平衡方面亦為有利，因而更佳。
(消光層2)
消光層2係在表面形成有微細的凹凸之層，係添加有消光劑(第1消光劑)之層。添加於消光層2之消光劑，可以使用各種之無機粒子和有機粒子，關於其材料等，並無特別限制。
使用於消光劑之粒子的平均粒徑較佳為0.01μm以上50μm以下之範圍內，更佳是1μm以上30μm以下之範圍內。使用於消光劑之粒子之平均粒徑若未滿0.01μm，則轉 印成形品表面之消光外觀之賦予可能變得不充分，若超過50μm，則可能成為在各印刷步驟之針孔發生的要因。又，消光層2之平均厚度係考慮使用之消光劑的平均粒徑，如果是2μm以上15μm以下之範圍內，就可以期待顯示消光效果，而較佳。
消光劑較佳是在用以形成消光層2之塗布液(在以下，也僅記載為「消光層用塗布液」)之中，以相對於成為構成消光層2之塗膜主成分之樹脂材料為0.5重量%以上20重量%以下之範圍內包含消光劑，更佳是包含1重量%以上10重量%以下之範圍內。在消光劑量超過20重量%之情形，消光劑於消光層用塗布液中，變得容易沉降‧凝集，會有於適印刷性造成不良影響的可能性。又，在消光劑量未滿0.5重量%之情形，消光外觀之賦予可能會變得不充分。
由於成為構成消光層2之塗膜的主成分之樹脂材料，係需要與基材薄膜1之密合性、耐熱性及與後述之脫模層3A之密合性，因此，希望是含有2液硬化型丙烯胺甲酸乙酯樹脂、2液硬化型聚酯胺甲酸乙酯樹脂、或此等之混合物(以下，此等之樹脂也僅記載為「2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂」)。如果是此種2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂的話，則在室溫~50℃程度之低溫硬化反應就會結束，因此，可以減少在形成消光層2之際之對於基材薄膜1的熱負荷。
又，消光層2為了使耐熱性提升，亦可以包含含有羥基之纖維素衍生物。如此地使耐熱性提升之理由 ，係因為在將轉印體轉印於被轉印體之際，會有極度地施加熱能之情形。作為含有羥基之纖維素衍生物，可列舉例如硝基纖維素、乙酸酪酸纖維素、酪酸丙酸纖維素等。作為纖維素衍生物之摻混量，較佳是相對於成為構成消光層2之塗膜的主成分之樹脂材料(例如丙烯多元醇樹脂)為20重量%以上100重量%以下之範圍內。如果是該範圍內的話，則可以對於消光層2賦予充分之耐熱性。
又，消光層2可含有：含有碳數10以上30以下之長鏈烷基及羥基的丙烯樹脂、或含有羥基的丙烯聚矽氧樹脂，作為脫模劑。
(脫模層3A)
脫模層3A係以含有碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯胺甲酸乙酯樹脂來作為主成分之層，該丙烯胺甲酸乙酯樹脂係至少由丙烯多元醇樹脂、與含有羥基及碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯樹脂、與異氰酸酯化合物之交聯反應所生成之樹脂。可以藉由使用具有於此種碳數範圍之長鏈烷基的丙烯胺甲酸乙酯樹脂，而在熱轉印時，呈現優良之脫模性，並且，塗布於該脫模層3A上之硬塗層用塗布液不會發生彈迸現象，而形成均勻之硬塗層4。又，在碳數未滿10之情形，熱轉印時之脫模性不充分，因而在被轉印體之表面發生轉印之不均，可能會成為品質缺陷。又，若碳數超過30，則在硬塗層用塗布液之塗布時會發生彈迸，而可能無法形成均勻之硬塗層4。
形成脫模層3A之丙烯胺甲酸乙酯樹脂，可由 例如：包含丙烯多元醇樹脂和含有長鏈烷基之烷基異氰酸酯的油墨組成物(脫模層用塗布液)；或是包含含有長鏈烷基及羥基之丙烯樹脂、和異氰酸酯化合物的油墨組成物而獲得。
又，脫模層3A係如前所述，被要求具有脫模性、延伸性、耐熱性等性能，而因被轉印體之形狀和轉印時之加工條件，會有需要前述性能之微調整的情形。例如在前述之包含含有長鏈烷基及羥基之丙烯樹脂、和異氰酸酯化合物的油墨組成物，可以摻混丙烯多元醇樹脂或丙烯胺甲酸乙酯樹脂，以謀求油墨組成物之調整，形成脫模層3A。可以藉由如此地進行油墨組成物之調整，而調整脫模層3A之脫模性和延伸性、耐熱性等性能。又，含有長鏈烷基及羥基之丙烯樹脂的摻混量係較佳是相對於丙烯多元醇樹脂為2重量%以上30重量%以下之範圍內，但是並無特別限制。
本實施形態之脫模層3A係至少以包含丙烯多元醇樹脂、與含有羥基及碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯樹脂、與異氰酸酯化合物的油墨組成物之硬化物，亦即丙烯胺甲酸乙酯樹脂來作為主成分。要使此油墨組成物硬化並不需要像三聚氰胺樹脂經過在高溫之燒結步驟(180~200℃)，藉由在室溫~50℃程度之低溫進行老化而硬化反應結束。如此地，根據本實施形態，係可藉由低溫硬化而形成脫模層3A。因此，也可以使用由於以三聚氰胺樹脂來形成脫模層之情形的硬化條件則會發生皺紋或熱收縮、結晶化等缺陷，而以往無法使用之 無延伸PET薄膜、氯乙烯薄膜或PET-G薄膜等不耐熱但延伸率高且成形物追隨性優良之基材薄膜等。
又，上述丙烯多元醇樹脂係含有複數個羥基之丙烯樹脂，藉由(共)聚合具有羥基之(甲基)丙烯單體而得到。亦可以共聚合不含羥基之(甲基)丙烯酸酯單體、苯乙烯單體、乙酸乙烯單體等。
作為具有羥基之(甲基)丙烯單體，有例如2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯、3-羥丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羥己基(甲基)丙烯酸酯等。又，作為含有長鏈烷基之丙烯單體，可列舉例如癸基(甲基)丙烯酸酯、十一基(甲基)丙烯酸酯、十二基(甲基)丙烯酸酯、十三基(甲基)丙烯酸酯、十四基(甲基)丙烯酸酯、十五基(甲基)丙烯酸酯、十六基(甲基)丙烯酸酯、十七基(甲基)丙烯酸酯、十八基(甲基)丙烯酸酯、十九基(甲基)丙烯酸酯、二十基(甲基)丙烯酸酯、二十一基(甲基)丙烯酸酯、三十基(甲基)丙烯酸酯等。含有長鏈烷基及羥基之丙烯樹脂係可以藉由含有長鏈烷基之丙烯單體和含有羥基之(甲基)丙烯單體的共聚合而獲得。
又，所謂異氰酸酯化合物，係表示甲苯二異氰酸酯(TDI)、二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、苯二甲基二異氰酸酯(XDI)、六亞甲基二異氰酸酯(HDI)、異佛酮二異氰酸酯(IPDI)、及此等之預聚合物等。
脫模層3A以提升將轉印薄膜11A用於內模鑄成形之情形的耐熱性為目的，而可以與消光層2相同地摻混含有羥基之纖維素衍生物。作為該含有羥基之纖維素 衍生物，可列舉例如硝基纖維素、乙酸酪酸纖維素、酪酸丙酸纖維素等。作為該纖維素衍生物之摻混量係較佳是相對於成為構成脫模層3A之塗膜主成分的樹脂材料(例如丙烯多元醇樹脂)為20重量%以上100重量%以下之範圍內。如果是此範圍內，則可以對於脫模層3A賦予充分之耐熱性。
又，在積層於分子中含有胺甲酸乙酯鍵等的高極性官能基之硬塗層4的情形、或進行剝離時之高速度化的情形，係要求脫模層3A之剝離更加地輕微。在此時，可以藉由摻混含有羥基之丙烯聚矽氧樹脂，而不降低面塗性並減輕剝離。作為此情形下之含有羥基之丙烯聚矽氧樹脂的摻混量，只要是相對於成為構成脫模層3A之塗膜主成分之樹脂材料(例如丙烯多元醇樹脂)為0.5重量%以上15重量%以下之範圍內則為適當，可以藉此而提升脫模層3A之脫模性。
脫模層3A之厚度係並無特別限制，最適合為0.1μm以上5μm以下之範圍內。可以藉由改變此脫模層3A之厚度，而調整被覆於轉印成形品(被轉印體)之最表面的轉印層10之光澤度。可增加脫模層3A之厚度，來提高轉印成形品表面之光澤度，並且，可減少脫模層3A之厚度，來降低其光澤度。
(硬塗層4)
硬塗層4係較佳是以在用於轉印前之轉印薄膜中為無黏著(tack-free)狀態(僅藉由蒸發溶劑部分而成為黏性之狀態)，而在轉印於被轉印體之後，能夠利用照射紫外 線或電子束等之活性能量射線而進行交聯之樹脂所形成。作為在轉印後照射活性能量射線而交聯之理由，係因為若是使用了具備已預先為交聯狀態之硬塗層4的轉印薄膜來進行轉印加工，則在轉印薄膜欲追隨被轉印體的表面而延伸之際，容易在硬塗層4發生破裂，成為外觀不良之原因。作為用以在用於轉印前之轉印薄膜中，使硬塗層4成為無黏著(tack-free)狀態之方法，係主要有以下之3種方法。第1種方法是作為構成硬塗層4之樹脂係使用高分子型之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的方法。第2種方法是作為構成硬塗層4之樹脂，使其在液體狀或半液體狀之活性能量射線硬化型樹脂之外，還含有異氰酸酯/多元醇樹脂或環氧樹脂/胺類等之交聯反應物而適度地硬化的方法。第3種方法是作為構成硬塗層4之樹脂係使用活性能量射線硬化型樹脂，在不損害對於被轉印體之形狀追隨性之範圍內，照射適量之活性能量射線而使活性能量射線硬化型樹脂成為半硬化狀態的方法。在本實施形態，可以使用任何一種方法。
又，第1種方法的情形，在高分子型之丙烯酸酯(丙烯樹脂)之外，還可因補充表面硬度之目的而在該丙烯樹脂添加奈米二氧化矽粒子。奈米二氧化矽粒子之添加量係最適合為相對於前述之丙烯樹脂為10重量%以上未滿40重量%之範圍內。如其添加量未滿10重量%，則提升表面硬度之效果可能會不足。另一方面，如其添加量為40重量%以上，則硬化之塗膜會過度變脆，而耐磨耗性可能惡化。
添加於硬塗層4之奈米二氧化矽粒子，為了要維持硬塗層4之透明性，較佳是使用粒徑為10nm以上100nm未滿之範圍內者。又，希望上述奈米二氧化矽粒子是藉由含有丙烯醯基/甲基丙烯醯基之矽烷偶合劑等而經表面處理之奈米二氧化矽粒子，但是也可以僅是未處理之奈米二氧化矽粒子。
又，一般而言，活性能量射線硬化型樹脂係有缺乏耐磨耗性之傾向。因此，為了補充耐磨耗性，可以在活性能量射線硬化型樹脂，添加少量之聚四氟乙烯粉末或聚乙烯蠟、金屬肥皂等作為滑劑。
又，該硬塗層4之厚度並無特別限制，但是若考慮表面硬度之表現和硬化收縮或成本等之平衡，則較佳是2μm以上10μm以下之範圍內。
(底漆層5)
底漆層5係用以保持硬塗層4和裝飾層6之密合之層，可以使用聚酯多元醇樹脂或丙烯多元醇樹脂等多元醇樹脂、及/或由含羥基之氯乙酸乙烯樹脂等含羥基之樹脂和異氰酸酯化合物所構成的樹脂。又，底漆層5之厚度係並無特別限制，最適合為0.5μm以上10μm以下之範圍內。
(裝飾層6)
裝飾層6係用以賦予被轉印體創意性之層。在作為裝飾層6而形成印刷層之情形，可以使用含有適當顏色之顏料或染料來作為著色劑之著色油墨，而藉由偏差印刷法、凹版印刷法、網版印刷法、噴墨法等之習知的印刷法 來形成。又，作為其他之可採用之裝飾技術，可以適用珍珠或螢光、鏡、復歸反射、磁性印刷等之特殊印刷、藉由熱或紫外線而形成凹凸構造(各種透鏡效果或全像圖)之壓紋加工、將鋁或銀、鉻、氧化鈦、硫化鋅等藉由真空蒸鍍或濺鍍而形成之薄膜形成技術等。
(接著層7)
作為接著層7，係可以使用習知之熱密封性接著劑或黏著劑。作為接著層7，可列舉例如乙酸乙烯樹脂、乙烯乙酸乙烯酯(ethylene vinyl acetate)共聚合樹脂、氯乙酸乙烯酯(vinyl acetate chloride)樹脂、丙烯樹脂、丁醛樹脂、環氧樹脂、聚酯樹脂、聚胺甲酸乙酯樹脂、丙烯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑等。接著層7之厚度係並無特別限制，但最適合為0.5μm以上10μm以下之範圍內。
(效果)
由於本實施形態關聯之轉印薄膜11A，其消光層2係藉由2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂而形成，因此，可以提高在凹版印刷時之適印刷性，同時，硬化反應會在室溫~50℃程度之低溫結束，而可以製作對於基材薄膜1之熱負荷小的消光層2。又，由於消光層2係包含第1消光劑，因此，也可以賦予轉印成形品之表面消光外觀。
又，由於脫模層3A係藉由含有碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯胺甲酸乙酯樹脂而形成，因此，可以提高在凹版印刷時之適印刷性，同時，脫模層3A可以在熱轉印時呈現優良之脫模性，並且，抑制塗布於脫模層3A 上之硬塗層用塗布液之彈迸現象，而形成均勻之硬塗層4。再者，也可以獲得消光層2和脫模層3A之間的密合性。
又，由於脫模層3A形成於消光層2之面上，因此，可以藉由調整脫模層3A之膜厚而容易控制轉印成形品之表面光澤度。
又，由於本實施形態之轉印薄膜11A並未包含三聚氰胺樹脂，因此，也可以減少環境負荷(人負荷)。
又，本實施形態之轉印薄膜11A係在消光層2和脫模層3A之至少任何一層，包含含有羥基之纖維素衍生物。因此，由於只要是轉印薄膜11A則耐熱性提升，所以，即使是與射出成形同時地進行轉印之內模鑄轉印、亦即被要求在高溫之耐熱性的內模鑄轉印之情形，也可以抑制熱皺紋和結塊現象等之缺陷。
又，本實施形態之轉印薄膜11A係脫模層3A包含含有羥基之丙烯聚矽氧樹脂。因此，只要是轉印薄膜11A則能夠呈現可以充分地對應熱轉印之高速度化之優良的脫模性。
(實施例1)
在以下，根據各實施例而詳細地說明第1實施形態關聯之發明。又，本發明係並非僅限定於以下之實施例。
<實施例1-1>
將厚度50μm之二軸延伸聚酯薄膜(三菱樹脂公司製：G440E50)作為基材薄膜，在其一側面上，使用凹版印刷法塗布下列組成之消光層用塗布液，使120℃下乾燥10秒鐘後之膜厚為4.3μm，而形成消光層。
(消光層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧二氧化矽填充物(Evonik Degussa公司製：粒徑6μm)：5重量份
‧聚丙烯腈填充物(東洋紡公司製：粒徑7μm)：5重量份
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE HL)：10重量份
在該消光層上，使用微型凹版印刷法塗布下列組成之脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為5.2μm，而形成脫模層，然後，進行50℃下5日之老化，而製作消光脫模薄膜。
(脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量份
接著，在前述消光脫模薄膜之脫模層上，使用微型凹版印刷法塗布下列組成之硬塗層用塗布液，使乾燥後之膜厚為5.0μm，而形成硬塗層。
(硬塗層用塗布液之組成)
‧紫外線硬化樹脂：100重量份
(DIC公司製：RC29-117，內含紫外線聚合起始劑，固態成分30%)
‧二氧化矽：20重量份
(日產化學公司製：粒徑10~20nm，MEK分散液，固態成分30%)
接著，在上述硬塗層上，使用凹版印刷法塗布丙烯多元醇/異氰酸酯系油墨(東洋油墨公司製：V425固定劑)作為底漆層用塗布液，使乾燥後之膜厚為1μm，而形成底漆層。在其上面，使用凹版印刷法塗布墨色油墨(東洋油墨公司製：V428UR92墨)作為裝飾層用塗布液，使乾燥後之膜厚為3μm，而形成裝飾層。又，在其上面，使用凹版印刷法塗布接著層用塗布液(東洋油墨公司製：K539HP接著用清漆)，使乾燥後之膜厚為1μm，而形成接著層。像這樣而製作實施例1-1關聯之轉印薄膜。
將如前述地進行而製作之轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，將聚碳酸酯ABS合金樹脂(日本A&L公司製：TechnoAce T-105)射出成形。在冷卻後，打開射出成形用模具，將構成該轉印薄膜之消光脫模薄膜由轉印成形品剝離後，對於轉印成形品之表面，使用高壓水銀燈照射累積光量1000mJ/cm2之紫外線，使硬塗層交聯硬化。藉此而獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<實施例1-2>
除了使用下列組成之脫模層用塗布液以外，與實施例1-1同樣地進行而製作消光脫模薄膜。
(脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧硝基纖維素(H1/4)：10重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量
接著，在前述消光脫模薄膜之脫模層上，與實施例1-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，製作實施例1-2之轉印薄膜。該轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例1-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，得到具有高表面強度之轉印成形品。
<實施例1-3>
除了使用下列組成之脫模層用塗布液以外，與實施例1-1同樣地製作消光脫模薄膜。
(脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧硝基纖維素(H1/4)：10重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧聚矽氧變體丙烯樹脂(日油公司製：FS730)：5重量份
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量
接著，在前述消光脫模薄膜之脫模層上，與實施例1-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，而製作實施例1-3之轉印薄膜。將該轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例1-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，而獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<實施例1-4>
使用與實施例1-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例1-1同樣地形成消光層。然後，使用微型凹版印刷法塗布與實施例1-3相同組成之脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為2.2μm，而形成脫模層，然後，進行50℃下5日之老化，製作消光脫模薄膜。
接著，在前述消光脫模薄膜之脫模層上，與實施例1-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，而製作實施例1-4之轉印薄膜。將該轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例1-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，而獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<實施例1-5>
使用與實施例1-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例1-1同樣地形成消光層。然後，使用微型凹版印 刷法塗布與實施例1-2相同組成之脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為0.8μm，而形成脫模層，然後，進行50℃下5日之老化，製作消光脫模薄膜。
接著，在前述消光脫模薄膜之脫模層上，與實施例1-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，製作實施例1-5之轉印薄膜。將該轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例1-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，而獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<比較例1-1>
將厚度50μm之二軸延伸聚酯薄膜(三菱樹脂公司製：G440E50)作為基材薄膜，而在其一側面上，使用棒塗布器塗布丙烯/三聚氰胺系油墨(東洋油墨公司製：HP216 Matt Coat N清漆)作為消光層用塗布液，使乾燥後之膜厚為4.3μm。然後，在180℃進行燒結，而形成消光層。
接著，在前述消光層之面上，與實施例1-1同樣地形成脫模層。
<比較例1-2>
使用與實施例1-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例1-1同樣地形成消光層。然後，使用棒塗布器塗布丙烯/三聚氰胺系油墨(東洋油墨公司製：HP200光澤塗布(Gloss coat)N清漆)作為脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為0.5μm。然後，在180℃進行燒結，而形成脫模層，並製作消光脫模薄膜。
接著，在前述消光脫模薄膜之脫模層上，與實施例 1-1同樣地形成硬塗層。
<評價及方法>
針對在實施例1-1~1-5分別製作之轉印薄膜，就消光層、脫模層、硬塗層之成膜性以及藉於各個之轉印薄膜之對成形品的轉印性，以目視來評價。將無外觀異常之情形(無實用上問題之程度)評為「○」，將無法均勻塗布之情形或者是有外觀異常之情形(有實用上之問題)評為「×」。再者，針對使用在實施例1-1、1-4及1-5製作之轉印薄膜的成形品，亦就光澤度(60°)進行測定。將結果顯示於表1。又，將未實施層形成之情形、未實施轉印之情形、未測定光澤度之情形，評為「-」。在此，「無法均勻塗布之情形」係指為了進行成膜而嘗試了進行塗布，但是卻無法均勻地塗布之情形。又，「未實施層形成之情形」係指由於發生在成為基底之層之缺陷(皺紋等)之影響，而在成為其基底之層上應該積層之層的形成無法實施之情形。
<比較結果>
在實施例1-1~1-5所獲得之轉印薄膜，其消光層、脫模層和硬塗層之形成，皆可良好地形成。又，使用各個轉印薄膜之對成形品的轉印亦獲得良好的結果。
而另一方面，在比較例1-1，雖對於基材薄膜之消光層的形成係能夠進行，但由於在形成消光層時實施之在180℃之燒結，而產生了皺紋或熱收縮等之缺陷，無法均勻地塗布脫模層。因此，無法進行之後的硬塗層、裝飾層和接著層之形成，而無法完成製作轉印薄膜。又，比較例1-2亦相同地雖對於基材薄膜之消光層及脫模層的形成係能夠進行，但由於在形成脫模層時實施之在180℃之燒結，而發生了皺紋或熱收縮等之缺陷，無法均勻地塗布硬塗層，無法進行之後的裝飾層和接著層之形成，而無法完成製作轉印薄膜。
又，可確認到：使用在實施例1-1、1-4及1-5所獲得之轉印薄膜來進行射出成形所得之成形品的光澤度(60°)係在與脫模層的膜厚之間有關聯性。認為這是由於對應於積層之脫模層的膜厚，消光層表面之凹凸被掩埋的程度會有變化。
(第2實施形態)
第3圖係本發明之第2實施形態關聯之轉印薄膜的剖面概略圖。又，第4圖係使用第2實施形態關聯之轉印薄膜所製造之轉印成形品的剖面概略圖。
如第3圖所示，本實施形態關聯之轉印薄膜11B係依序地具備有基材薄膜1、消光層2、脫模層3B、硬塗層4、底漆層5、裝飾層6及接著層7之積層體。
在此，第2實施形態關聯之轉印薄膜11B與第1實施形態關聯之轉印薄膜11A比較，僅脫模層3B不同，其他層(也就是基材薄膜1、消光層2、硬塗層4、底漆層5、裝飾層6、接著層7)相同。更詳細地說，轉印薄膜11B所具備之脫模層3B，係在包含消光劑(第2消光劑)之點，與轉印薄膜11A所具備之脫模層3A不同。所以，本實施形態中，省略關於在第1實施形態已說明之基材薄膜1、消光層2、硬塗層4、底漆層5、裝飾層6和接著層7的說明，僅針對脫模層3B進行說明。
(脫模層3B)
脫模層3B係在其表面形成微細之凹凸，且具有脫模性之層。此脫模層3B係包含消光劑(第2消光劑)，該消光劑係與消光層2之情形相同而無特別限制，可以使用各種之無機粒子或有機粒子。以下，為方便起見，亦將包含此消光劑之脫模層3B記載為「消光脫模層3B」。也就是說，此消光脫模層3B除了包含消光劑以外，係與在第1實施形態已說明之脫模層3A相同。
包含於消光脫模層3B之消光劑的平均粒徑，係較佳為0.01μm以上50μm以下之範圍內，更佳為1μm以上30μm以下之範圍內。消光劑的平均粒徑若未滿0.01μm，則轉印成形品表面之消光外觀的賦予可能會變得不充分，而若超過50μm，則可能成為在各印刷步驟之針孔發生的要因。消光脫模層3B的厚度係並無特別限制，但可以考慮使用之消光劑的平均粒徑和轉印後之被轉印體的表面光澤度來決定。可以藉由改變該消光脫模層 3B之厚度，而調整被轉印體之表面光澤度。具體而言，若增加消光脫模層3B的厚度，則可以將被轉印體之表面光澤度調高，相反地，若減少消光脫模層3B的厚度，則可將被轉印體之表面光澤度調低。
消光劑之添加量係並無特別限制，但在用以形成消光脫模層3B之塗布液(以下，亦僅記載為「消光脫模層用塗布液」)之中，較佳是相對於成為構成消光脫模層3B之塗膜主成分的樹脂材料為大於0.0重量%且5.0重量%以下之範圍內，更佳為0.2重量%以上2.0重量%以下之範圍內。相較於只有消光層2之表面光澤度，只要是此種範圍內之添加量，則有可能在更高一些的區域調整表面光澤度，而能夠容易地增加消光外觀之光澤度變化。
但是，在只有消光層2之情形，隨著光澤度上升，會有進行射出成形所獲得之轉印成形品表面的非印像性惡化的傾向。這是由於在調整光澤度之際，為了降低消光層2之消光劑比率，而消光脫模薄膜9之表面凹凸數減少之緣故。像這樣，雖然作為光澤度是獲得了目標值，但非印像性惡化，無法均勻地賦予轉印成形品表面之消光外觀的緣故，係於實用上為不佳。在另一方面，如本實施形態般，對於消光層2進一步積層消光脫模層3B之情形，則可以不減少消光層2表面之凹凸數而調整光澤度。因此，可以對於轉印成形品之表面賦予均勻之消光外觀，而在非印像性亦獲得良好的結果。與只有消光層2之情形比較之際，像這樣，如果是成為不降低消光層2之消光劑比率而調整消光層2表面之凹凸高度的本實施 形態之構造，則能夠以均勻之消光外觀賦予些許較高區域的表面光澤度。
又，由於在消光脫模層3B中，關於前述消光劑以外之材料等、也就是形成消光脫模層3B之樹脂材料等，係與在第1實施形態已說明之形成脫模層3A之樹脂材料等相同，因此，省略該說明。
又，包含於消光脫模層3B之消光劑(第2消光劑)、和包含於消光層2B之消光劑(第1消光劑)，係可以是相同之消光劑，也可以是不同之消光劑。
(效果)
由於本實施形態關聯之轉印薄膜11B，係藉由2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂而形成消光層2，因此，可以提高在凹版印刷時之適印刷性，同時，硬化反應會在室溫~50℃程度之低溫結束，而可製作對於基材薄膜1之熱負荷少的消光層2。再者，由於消光層2係包含第1消光劑，因此，亦可在轉印成形品之表面賦予消光外觀。
又，由於消光脫模層3B係藉由含有碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯胺甲酸乙酯樹脂而形成，因此，可以提高在凹版印刷時之適印刷性，同時，消光脫模層3B係在熱轉印時呈現優良之脫模性，並且，可以抑制塗布於消光脫模層3B上之硬塗層用塗布液的彈迸現象，而形成均勻之硬塗層4。再者，亦可獲得消光層2和消光脫模層3B之間的密合性。
又，由於消光脫模層3B係形成於消光層2之面上，因此，可以藉由調整消光脫模層3B的消光劑含有 量及膜厚而輕易地控制被轉印體(轉印成形品)之表面光澤度。再者，由於可以抑制消光脫模層3B之膜厚變動所造成之對於被轉印體之表面光澤度的影響，因此，可以生產光澤度偏差小之轉印薄膜11B。
又，由於本實施形態之轉印薄膜11B並未包含三聚氰胺樹脂，因此，也可以減少環境負荷(人負荷)。
又，本實施形態關聯之轉印薄膜11B係在消光層2和消光脫模層3B之至少任何一層，包含含有羥基之纖維素衍生物。因此，由於只要是轉印薄膜11B則耐熱性提升，所以，即使是與射出成形在同時進行轉印的內模鑄轉印、亦即被要求在高溫之耐熱性的內模鑄轉印之情形，也可以抑制熱皺紋和結塊現象等之缺陷。
又，本實施形態關聯之轉印薄膜11B，其脫模層3B包含含有羥基之丙烯聚矽氧樹脂。因此，只要是轉印薄膜11B即能夠呈現亦可充分地對應於熱轉印之高速度化之優良的脫模性。
(實施例2)
以下，根據各實施例而詳細地說明第2實施形態關聯之發明。又，本發明係並非僅限定於以下之實施例。
<實施例2-1>
將厚度50μm之二軸延伸聚酯薄膜(三菱樹脂公司製：G440E50)作為基材薄膜，而在其一側面上，使用凹版印刷法塗布下列組成之消光層用塗布液，使100℃下乾燥10秒鐘後之膜厚為4.5μm，而形成消光層。
(消光層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧二氧化矽填充物(Evonik Degussa公司製：粒徑6μm)：5重量份
‧聚丙烯腈填充物(東洋紡公司製：粒徑7μm)：5重量份
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE HL)：10重量份
在前述消光層上，使用微型凹版印刷法塗布下列組成之消光脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為2.5μm，而形成消光脫模層，然後，進行50℃下5日之老化，製作消光脫模薄膜。
(消光脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧二氧化矽填充物(Evonik Degussa公司製：粒徑6μm)：1重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量份
接著，在前述消光脫模薄膜之消光脫模層上，使用微型凹版印刷法塗布下列組成之硬塗層用塗布液，使乾燥後之膜厚為5.0μm，而形成硬塗層。
(硬塗層用塗布液之組成)
‧紫外線硬化樹脂：100重量份
(DIC公司製：RC29-117、加入紫外線聚合起始劑、固態成分30%)
‧二氧化矽：20重量份
(日產化學公司製：粒徑10~20nm、MEK分散液、固態成分30%)
接著，在前述硬塗層上，使用凹版印刷法塗布丙烯多元醇/異氰酸酯系油墨(東洋油墨公司製：V425固定劑)作為底漆層用塗布液，使乾燥後之膜厚為1μm，而形成底漆層。再者，在其上面，使用凹版印刷法塗布墨色油墨(東洋油墨公司製：V428UR92墨)作為裝飾層用塗布液，使乾燥後之膜厚為3μm，而形成裝飾層。再者，在其上面，使用凹版印刷法塗布接著層用塗布液(東洋油墨公司製：K539HP接著用清漆)，使乾燥後之膜厚為1μm，而形成接著層。如此般進行而製作實施例2-1關聯之轉印薄膜。
將如前述般進行而製作之轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，使用聚碳酸酯ABS合金樹脂(日本A&L公司製：TechnoAce T-105)而射出成形。冷卻後，打開射出成形用模具，將構成該轉印薄膜之消光脫模薄膜由成形品剝離之後，對於轉印成形品之表面，使用高壓水銀燈照射累積光量1000mJ/cm2之紫外線，使硬塗層交聯硬化。藉此而獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<實施例2-2>
除了使用下列組成之消光脫模層用塗布液以外，與實施例2-1同樣地製作消光脫模薄膜。
(消光脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧二氧化矽填充物(Evonik Degussa公司製：粒徑6μm)：1重量份
‧硝基纖維素(H1/4)：20重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量
接著，在前述消光脫模薄膜之消光脫模層上，與實施例2-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，而製作實施例2-2之轉印薄膜。將此轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例2-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<實施例2-3>
除了使用下列組成之消光脫模層用塗布液以外，與實施例2-1同樣地製作消光脫模薄膜。
(消光脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧二氧化矽填充物(Evonik Degussa公司製：粒徑6μm)：1重量份
‧硝基纖維素(H1/4)：20重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧聚矽氧變體丙烯樹脂(日油公司製：FS730)：5重量份
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量
接著，在前述消光脫模薄膜之消光脫模層上，與實施例2-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，而製作實施例2-3之轉印薄膜。將此轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例2-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<實施例2-4>
使用與實施例2-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例2-1同樣地形成消光層。然後，使用微型凹版印刷法塗布與實施例2-1相同組成之消光脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為1.9μm，而形成消光脫模層，然後，進行50℃下5日之老化，製作消光脫模薄膜。
接著，在前述消光脫模薄膜之消光脫模層上，與實施例2-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，製作實施例2-4之轉印薄膜。將此轉印薄膜安裝於射出成 形機之模具內部，與實施例2-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<實施例2-5>
使用與實施例2-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例2-1同樣地形成消光層。然後，使用微型凹版印刷法塗布下列組成之消光脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為2.5μm，而形成消光脫模層，然後，進行50℃下5日之老化，製作消光脫模薄膜。
(消光脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧二氧化矽填充物(Evonik Degussa公司製：粒徑6μm)：3重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量
接著，在前述消光脫模薄膜之消光脫模層上，與實施例2-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，而製作實施例2-5之轉印薄膜。將此轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例2-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<比較例2-1>
使用與實施例2-1相同的基材薄膜，在其一側面上，使用棒塗布器塗布丙烯/三聚氰胺系油墨(東洋油墨公司製：HP216 Matt Coat N清漆)作為消光層用塗布液，使乾燥後之膜厚為4.3μm。然後，在180℃進行燒結，而形成消光層。
接著，嘗試在前述消光層之面上，與實施例2-1同樣地形成消光脫模層。但是，由於在消光層之形成時實施之在180℃的燒結，而在基材薄膜產生皺紋或熱收縮等之缺陷，無法均勻地塗布消光脫模層。因此，無法進行之後的硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層之形成，而無法完成製作轉印薄膜。
<比較例2-2>
使用與實施例2-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例2-1同樣地形成消光層。然後，使用棒塗布器塗布丙烯/三聚氰胺系油墨(東洋油墨公司製：HP200光澤塗布N清漆及HP216 Matt Coat N清漆之混合油墨)作為消光脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為0.5μm。然後，在180℃進行燒結，而形成消光脫模層，並製作消光脫模薄膜。
接著，嘗試在該消光脫模薄膜之消光脫模層上，與實施例2-1同樣地形成硬塗層。但是，由於在消光脫模層之形成時實施之在180℃的燒結，而在基材薄膜產生皺紋或熱收縮等之缺陷，無法均勻地塗布硬塗層。因此，無法進行之後的底漆層、裝飾層和接著層之形成，而無法 完成製作轉印薄膜。
<比較例2-3>
使用與實施例2-1相同的基材薄膜，在其一側面上，使用凹版印刷法塗布下列組成之消光層用塗布液，使100℃下乾燥10秒鐘後之膜厚為6.5μm，而形成消光層，然後，進行50℃下5日之老化，製作消光脫模薄膜。
(消光層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧二氧化矽填充物(Evonik Degussa公司製：粒徑6μm)：4重量份
‧硝基纖維素(H1/4)：10重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧聚矽氧變體丙烯樹脂(日油公司製：FS730)：5重量份
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量
接著，在前述消光脫模薄膜之脫模層上，與實施例2-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，而製作比較例2-3之轉印薄膜。將此轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例2-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<比較例2-4>
使用與實施例2-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例2-1同樣地形成消光層。然後，使用微型凹版印刷法塗布下列組成之光澤脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為2.2μm，而形成光澤脫模層，然後，進行50℃下5日之老化，而製作光澤脫模薄膜。
(光澤脫模層用塗布液之組成)
‧丙烯多元醇樹脂(東榮化成公司製：LC#6560)：100重量份
‧丙烯樹脂：5重量份
(含有6-羥己基丙烯酸酯和硬脂醯甲基丙烯酸酯之共聚物的羥基和長鏈烷基(碳數18))
‧異氰酸酯化合物(日本聚胺甲酸乙酯公司製：CORONATE L)：20重量
接著，在前述光澤脫模薄膜之光澤脫模層上，與實施例2-1同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，而製作比較例2-4之轉印薄膜。將此轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例2-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，獲得具有高表面強度的轉印成形品。
<比較例2-5>
使用與實施例2-1相同的基材薄膜，在其一側面上，與實施例2-1同樣地形成消光層。然後，使用微型凹版印刷法塗布與比較例2-4相同組成之光澤脫模層用塗布液，使乾燥後之膜厚為1.9μm，而形成光澤脫模層，然後， 進行50℃下5日之老化，而製作光澤脫模薄膜。
接著，在前述光澤脫模薄膜之光澤脫模層上，與比較例2-4同樣地積層硬塗層、底漆層、裝飾層和接著層，製作比較例2-5之轉印薄膜。該轉印薄膜安裝於射出成形機之模具內部，與實施例2-1同樣地進行射出成形及對於轉印成形品表面之紫外線照射，得到具有高表面強度之轉印成形品。
<評價及方法>
針對在實施例2-1~2-5及比較例2-1~2-3所製作之轉印薄膜，就消光層、脫模層、硬塗層之成膜性以及藉於各個之轉印薄膜之對於轉印成形品的轉印性，以目視來評價。將無外觀異常之情形(無實用上問題之程度)評為「○」，將無法均勻塗布之情形或者是有外觀異常之情形(有實用上之問題)評為「×」。再者，針對使用在實施例2-1、2-4、2-5及比較例2-3所製作之轉印薄膜之轉印成形品而言，就轉印成形品表面之光澤度(60°)及非印像性進行評價。非印像性之評價係以目視進行，而在將樣本放置在螢光燈之大約2m之正下方時，無法確認螢光燈輪廓之情形(無實用上問題之程度)係評為「○」，可以確認之情形(有實用上之問題)係評為「×」。將評價之結果顯示於表2。又，將未實施層形成之情形、未實施轉印之情形、未測定光澤度之情形、未就非印像性進行評價之情形記錄為為「-」。又，與前述實施例1之情形相同地，「無法均勻塗布之情形」係指雖然為了進行成膜而嘗試進行塗布，但卻無法均勻地進行塗布之情形。又， 「未實施層形成之情形」係指由於發生在成為基底之層的缺陷(皺紋等)之影響，而無法實施在成為其基底之層上應該積層之層的形成之情形。
針對在實施例2-1、2-4及比較例2-4、2-5所製作之轉印薄膜，測定使用各個轉印薄膜而製作之轉印成形品的光澤度(60°)，並評價消光脫模層或光澤脫模層之膜厚變化時之光澤度變動之狀況。具體而言，將消光脫模層彼此(實施例2-1、2-4)和光澤脫模層彼此(比較例2-4、2-5)之間的脫模層膜厚變化當作△d，光澤度之變動當作△Gr，而在實施例和比較例之間，計算、比較脫模層之膜厚變化對於光澤度變動而造成之影響大小(△Gr/△d)。將評價之結果顯示於表3。
<比較結果>
如表2所示般，在實施例2-1~2-5及比較例2-3所得到之轉印薄膜，其消光層、消光脫模層和硬塗層皆可以良好地形成。又，在使用各轉印薄膜轉印於轉印成形品表面之際，轉印性亦良好。
另一方面，在比較例2-1，可以進行對於基材薄膜之消光層的形成，但由於在形成消光層時實施之在180℃之燒結，而在基材薄膜產生皺紋或熱收縮等之缺陷，無法均勻地塗布消光脫模層。因此，無法進行之後的硬塗層、裝飾層和接著層之形成，而無法完成製作轉印薄膜。又，在比較例2-2，可以對於基材薄膜進行消光層及消光脫模層之形成，但由於在形成消光脫模層時實施之在180℃之燒結，而在基材薄膜產生皺紋或熱收縮等之缺陷，無法均勻地塗布硬塗層。因此，無法進行之後的裝飾層和接著層之形成，而無法完成製作轉印薄膜。
又，如實施例2-1、2-4、2-5之結果般，可確認到：進行射出成形所獲得之轉印成形品的光澤度(60°)，係與消光脫模層之膜厚及包含於消光脫模層之二氧化矽填充物量之間有關聯性。認為這是由於對應於積層之消光脫模層之膜厚及包含於消光脫模層之二氧化矽填充物量，而積層於消光層上之消光脫模層表面之凹凸狀態改變之緣故。又，關於轉印成形品表面之非印像性，亦獲得良好的結果。
另一方面，在使用於比較例2-3所獲得之轉印薄膜的情形，雖可以進行射出成形而獲得轉印成形品，但無法 在轉印成形品表面之非印像性獲得良好的結果。這是由於藉著調整消光層之填充物量，並減少消光層表面之凹凸數來調整光澤度之緣故。實際上，不論是否顯示與實施例2-1同樣的表面光澤度值，非印像性係成為不良結果，認為是消光脫模薄膜之表面凹凸數的差異影響到消光外觀之最終加工。
又，如表3所示地，針對在實施例2-1、2-4及比較例2-4、2-5所獲得之轉印成形品，評價形成於消光層上之消光脫模層或者是光澤脫模層的膜厚變化對於光澤度之變動所造成之影響的大小(△Gr/△d)。其結果，在使用具備消光脫模層之本實施例關聯之轉印薄膜之情形，可以確認到膜厚變動所導致之對於光澤度的影響係減少為一半左右，可以賦予更加均勻之消光外觀。
[產業上之可利用性]
藉由本發明之某一形態所獲得的轉印薄膜，係可以使用在家電製品、住宅機器、事務機器、汽車零件等所利用之面板構件等的表面保護兼裝飾。
1‧‧‧基材薄膜
2‧‧‧消光層
3A‧‧‧脫模層
4‧‧‧硬塗層
5‧‧‧底漆層
6‧‧‧裝飾(印刷)層
7‧‧‧接著層
9‧‧‧(消光)脫模薄膜
10‧‧‧轉印層
11A‧‧‧轉印薄膜

Claims (6)

  1. 一種轉印薄膜，係在基材薄膜之一側面上，至少依序地具有消光層、脫模層、硬塗層和接著層的轉印薄膜，其特徵為：以2液硬化型胺甲酸乙酯樹脂形成該消光層，且作為包含第1消光劑之層，使該脫模層成為以丙烯胺甲酸乙酯樹脂為主成分之層，該丙烯胺甲酸乙酯樹脂係至少由丙烯多元醇樹脂、與含有羥基及碳數10以上30以下之長鏈烷基的丙烯樹脂、與異氰酸酯化合物之交聯反應而生成。
  2. 如請求項1之轉印薄膜，其中在該消光層和該脫模層之至少任何一層，進一步包含含有羥基之纖維素衍生物。
  3. 如請求項1或2之轉印薄膜，其中在該脫模層，進一步包含含有羥基之丙烯聚矽氧樹脂。
  4. 如請求項1至3中任一項之轉印薄膜，其中在該脫模層，進一步包含第2消光劑。
  5. 如請求項4之轉印薄膜，其中使該第1消光劑和該第2消光劑成為相同之消光劑。
  6. 一種轉印成形品，其特徵為：使用如請求項1至5中任一項之轉印薄膜而製造。
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