TW201501725A

TW201501725A - 含有鑽石粒子之口腔用組成物（二）

Info

Publication number: TW201501725A
Application number: TW103119721A
Authority: TW
Inventors: Kouichi Fujisawa
Original assignee: Sunstar Suisse Sa
Priority date: 2013-06-07
Filing date: 2014-06-06
Publication date: 2015-01-16
Also published as: CN105307623A; EP3006013A1; ES2683128T3; WO2014196592A1; JP6382190B2; JPWO2014196592A1; EP3006013A4; CA2914216A1; US20160120774A1; TWI638663B; EP3006013B1; CN105307623B

Abstract

本發明是以提供一種口腔用組成物為課題，該口腔用組成物具備下述特徵：牙齒表面汙垢去除力高且具有適切的研磨力。依據本發明，可提供一種口腔用組成物，其含有鑽石粒子及研磨性二氧化矽粒子，前述鑽石粒子之中位徑(d50)為2.5~3.5μm，前述研磨性二氧化矽粒子之RDA為50以上。

Description

含有鑽石粒子之口腔用組成物(二)

發明領域

本發明是關於含有鑽石粒子之口腔用組成物，更詳細的說，是關於含有特定的鑽石粒子及特定的研磨性二氧化矽粒子之口腔用組成物。本申請案主張已於2013年6月7日提出申請之日本專利申請第2013-120779號優先權，且該專利申請案之說明書及/或圖式所記載的內容可藉由參照而被納入本說明書中。

發明背景

牙齒的著色是因為被稱作色斑的色素沉積物沉積到牙齒而產生，而這會成為審美上的大問題。就用以去除色斑的手段而言，刷牙(刷洗，brushing)是一重要的手段，例如，藉由牙刷等用具將摻合有牙齒研磨劑之磨齒組成物等的口腔用組成物含在口中並刷掃牙齒的方法係以去除牙齒表面之汙垢為目的而進行。一般認為越是使用具有高研磨力的牙齒研磨劑就越具有汙垢去除效果，為了達成目的而被視為理想。這是因為一般認為，牙齒研磨劑越是硬質，將牙齒表面作物理性研磨的力量就越強，色斑去除力就越高。

然而，一但使用摻和了具有高研磨力之牙齒研磨劑的口腔用組成物，會有將牙齒磨耗到必要以上程度之虞。例如，典型的堅質牙齒研磨劑之氧化鋁雖然具有優異之牙齒表面汙垢去除力，但亦會因為研磨而傷害牙齒。為了不傷害牙齒，雖然下了各種功夫卻仍是無法解決問題，於是現在氧化鋁變得幾乎不被摻和到口腔用組成物中。

作為牙齒研磨劑之研磨力指標，RDA(Relative Dentin Abrasion：相對的象牙質損耗值)與REA(Relative Enamel Abrasion：相對的琺瑯質損耗值)廣泛被使用。如其名稱，RDA及REA分別是表示牙齒象牙質之摩耗度及牙齒琺瑯質之摩耗度的指標。牙齒表面雖為琺瑯質，但在牙周病等導致牙齦後退時，亦會有象牙質出現的情況，因此RDA、REA均可說是應被探討之數值。

就牙齒研磨劑而言，為了去掉牙齒表面的色斑等，以RDA具有某種程度之值者為佳，相反的，具有過大數值者會有過於削除牙齒表面之虞而不理想。1995年的ISO中，在關於「磨齒劑的物性與安全性」之國際規格中，RDA被設定為250以下。此外，象牙質通常不會出現在牙齒表面，即使出現了也希望盡可能不予傷害，因此，通常會出現在牙齒表面之琺瑯質的損耗指標(即REA)乃被期望不要超過一定的值(一般而言是「40」)。

如上述，現今正需求一種具有色斑去除力高且具適切研磨力作為特徴的口腔用組成物。

先行技術文獻專利文獻

專利文獻1：國際公開第10/060653號說明書

發明概要

本發明是以提供一種口腔用組成物為課題，該口腔用組成物具備下述特徵：牙齒表面汙垢去除力高，且具適切的研磨力。

本案發明人發現，含有特定鑽石粒子及特定研磨性二氧化矽粒子之口腔用組成物的色斑去除力顯著提高，且對象牙質之研磨力在適當值(約150)以下，對琺瑯質的研磨力不會過小或過大，並經進一步反覆改良終至完成本發明。

亦即，本發明包含以下項次所記載之主題。

項1. 一種口腔用組成物，含有鑽石粒子及研磨性二氧化矽粒子，前述鑽石粒子之中位徑(d50)為2.0~3.5μm，前述研磨性二氧化矽粒子之RDA在50以上200以下。

項2. 如項1之口腔用組成物，其中前述鑽石粒子之粒徑累積分布10%值(d10)與d50之差在2μm以內，粒徑之累積分布99%值(d99)與d50之差在3μm以內。

項3. 如項1或2之口腔用組成物，其中前述研磨性二氧化矽粒子的中位徑(d50)為2.5~10μm。

項4. 如項1至3中任一項之口腔用組成物，其含有前述鑽石粒子0.1~0.3質量%。

項5. 如項1至4中任一項之口腔用組成物，其含有前述研磨性二氧化矽粒子1~10質量%。

項6. 如項1至5中任一項之口腔用組成物，其進一步含有磺基琥珀酸系界面活性劑。

本發明口腔用組成物一併具有優異的色斑除去力與優異的研磨力(亦即，對象牙質之研磨力在適當值以下(宜在約150以下)且對琺瑯質之研磨力不會過小或過大)。因此，可適宜使用於照護牙齒。

用以實施發明之形態

以下，針對本發明做更詳細的說明。

本發明口腔用組成物含有特定的鑽石粒子及特定的研磨性二氧化矽粒子。

前述特定之鑽石粒子宜為中位徑(50%累積徑：d50)在2~3.5μm者，且以2.5~3.5μm為佳，以2.5~3μm更佳。又，該鑽石粒子之粒度分布宜尖銳，具體而言，粒徑之累積分布10%值(10%累積徑：d10)與d50之差宜在2μm以內，且粒徑之累積分布99%值(99%累積徑：d99)與d50之差宜在3μm以內。d10與d50之差以在1.5μm以內為佳，在1μm以內更佳。又，d99與d50之差以在2.5μm以內為佳，在2μm以內更佳。

此外，本說明書中鑽石粒子的粒徑(累積徑)是使用水做為分散液並藉由庫爾特原理(細孔電阻法)而求得之值(亦即，利用庫爾特計數器(Coulter counter)求得之值)。該值可利用諸如庫爾特計數器Multisizer 3(Beckman Coulter股份有限公司製)來測定。

此外，本說明書中二氧化矽的粒徑(累積徑)是藉由雷射繞射散射法求得之值。舉例來說，該值可使用低功率He/Ne雷射並以利用佛朗霍菲繞射(Fraunhofer diffraction)原理之Malvern Mastersizer來測定。

就鑽石而言，不論是天然或合成，效果皆不會有太大變化，但宜為可較便宜取得之合成鑽石。此種鑽石粒子例如可從Microdiamant公司或BM Group公司購入市售品而取得。

本案發明人亦發現到，將鑽石粒子摻合在口腔用組成物時顯示出下述特有性質：雖不充分，但會顯示出某種程度的清掃力(PCR)，雖然不會太過削除牙齒表面之柔軟部分(象牙質)，卻很會削除牙齒表面之堅硬部分(琺瑯質)。因此，若將鑽石粒子使用在口腔用組成物，特別是會有REA變得過大之虞。又，為了確保充分的清掃性，雖不得不併用具一定以上RDA值(50以上)之二氧化矽，但若僅是從去除色斑的觀點出發而以可確保充分清掃性之方式摻合，磨齒劑的RDA會變得過大，一旦在日常使用，將會產生隊對牙齒造成損傷之虞。就此，本案發明人發現，若組合具有特定粒徑與粒度分布之鑽石與研磨性二氧化矽，將可獲得適度的REA、RDA及PCR。

於本說明書中，磨齒劑(鑽石粒子、研磨性二氧化矽粒子)之REA是以ISO11609；2010 Annex B所記載的方法為準所測得之值。此外，舉例來說，亦可委託Therametric Technologies,Inc.,Indiana 46060,USA來測定。

此外，就牙齒研磨劑之REA而言，一般是希望在40以下。

前述特定之研磨性二氧化矽粒子是RDA值在50以上且在200以下的二氧化矽粒子，宜在75以上且170以下，以在100以上且160以下為佳，以在120以上且150以下為最佳。研磨性二氧化矽粒子的製造方法並無特別限制，例如可為沉澱二氧化矽粒子及溶融二氧化矽粒子等。

又，本說明書中各粒子的RDA是以ISO11609；2010 Annex B記載的方法測得之值。此外，舉例來說，亦可委託Therametric Technologies,Inc來測定。

又，該研磨性二氧化矽粒子之中位徑(50%累積徑；d50)宜在2.5~10μm，且以2.5~9μm為佳。一旦中位徑過大，RDA值雖會變高，PCR值卻變得不會增加，因此不宜。

此外，此種研磨性二氧化矽粒子亦可從諸如PQ Silicas公司、Huber公司、Evonik公司、Rhodia公司等購入市售品來使用。

本發明之口腔用組成物中，前述特定之鑽石粒子宜含有0.1~0.3質量%，且以0.15~0.25質量%為佳。藉由含有此種程度之量的該鑽石粒子，可更加發揮本發明之效果。又，可適當的抑制REA以免變得過大。

又，本發明之口腔用組成物中，前述特定之研磨性二氧化矽粒子宜含有1質量%以上且在10質量%以下，且以含有1~8質量%為佳，以含有2~7質量%最佳。藉由含有此種量的該研磨性二氧化矽粒子，可更加發揮本發明之效果。

特別是，若為組合有上述鑽石粒子之含有量及上述研磨性二氧化矽粒子之含有量的口腔用組成物，尤可發揮本發明之效果。

又，本發明口腔用組成物中宜進一步含有磺基琥珀酸系界面活性劑。磺基琥珀酸系界面活性劑通常是作為發泡劑而摻合在口腔用組成物之成分。在本發明之口腔用組成物中，藉由摻合磺基琥珀酸系界面活性劑，可配合鑽石粒子及研磨性二氧化矽粒子而更加發揮本發明之效果。

本發明所使用的磺基琥珀酸系界面活性劑並無特別限制，然以磺基琥珀酸烷酯系界面活性劑為宜，例如可使用磺基琥珀酸單酯。舉例來說，可使用日本特開2003-81796號公報所記載之磺基琥珀酸，具體而言，可適宜地使用通式(1)所示磺基琥珀酸單酯。

通式(1)：

[式中，X₁及X₂中之任一者為R₁O-(AO)_n-或R₁CO-B-(AO)_n-，另一者為M₂O-；M₁及M₂分別相同或相異，表示氫、鹼金屬、鹼土族金屬、銨或烷醇胺；R₁表示碳數8~22的烷基或烯基；AO表示碳數2~3的氧伸烷基；平均加成莫耳數n表示0~20；B表示-NH-或碳數2~3的單烷醇胺殘基]。

在通式(1)所示之磺基琥珀酸單酯中，R₁為源自天然或合成之碳數8~22左右之直鏈或支鏈烷基或烯基。可舉例如月桂基、椰油基、肉豆蔻基、硬脂基、C₁₂~C₁₄合成烷基、異壬基、異十二烷基、辛烯基、十二烯基等。R₁的碳數越長越可減低苦味或刺激，但越短越能提高色斑形成抑制效果，因此R₁的碳數宜為10~16左右，且以12~14左右為佳。特別是以C₁₂~C₁₄合成烷基或者組合使用月桂基與肉荳蔻基為最佳。

M₁及M₂可各自相同亦可相異，為氫、鹼金屬、鹼土族金屬、銨或烷醇胺。鹼金屬可例示如鈉、鉀等，鹼土族金屬可例示如鎂等，烷醇胺可例示如單乙醇胺、二乙醇胺及三乙醇胺等。其中，M₁及M₂以鈉與鎂為宜，且以鈉特別為佳。

AO基為碳數2~3左右的氧伸烷基，且宜為氧伸乙基。AO之平均加成莫耳數n宜為0~20左右。平均加成莫耳數n越小，色斑形成抑制效果越高且苦味亦會減低，因此以n在0~7左右的情況為宜，且以0~2左右為佳。平均加成莫耳數0則意指未有氧伸烷基加成的磺基琥珀酸單酯。

通式(1)所示磺基琥珀酸單酯之例可列舉如聚氧乙烯(7莫耳)月桂基磺基琥珀酸2鈉、聚氧乙烯(2莫耳)月桂基磺基琥珀酸2鈉、聚氧乙烯(1莫耳)月桂基磺基琥珀酸2鈉、月桂基磺基琥珀酸2鈉、聚氧乙烯(7莫耳)肉豆蔻基磺基琥珀酸2鈉、聚氧乙烯(2莫耳)烷基(C12~14)磺基琥珀酸2鈉、聚氧乙烯(1莫耳)烷基(C12~14)磺基琥珀酸2鈉、烷基(C12~14)磺基琥珀酸2鈉、聚氧乙烯(2莫耳)月桂基磺基琥珀酸鎂、聚氧乙烯(2莫耳)烷基(C12~14)磺基琥珀酸鎂及聚氧乙烯(7莫耳)肉豆蔻基磺基琥珀酸2三乙醇胺等。

又，最合適之磺基琥珀酸單酯是在通式(1)中R₁為碳數12~14左右、AO基為氧伸乙基且其平均加成莫耳數n為0~2左右的鈉鹽。具體而言，可列舉如聚氧乙烯(2莫耳)烷基(C12~14)磺基琥珀酸2鈉、聚氧乙烯(1莫耳)烷基(C12~14)磺基琥珀酸2鈉、烷基(C12~14)磺基琥珀酸2鈉等。

磺基琥珀酸系界面活性劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。

在本發明之口腔用組成物中，磺基琥珀酸系界面活性劑舉例來說以含有0.1~10質量%左右為宜，且以含有0.2~5質量%左右為佳，以含有0.5~2質量%左右最佳。

本發明之口腔用組成物可以習知的方法製造。又，本發明口腔用組成物可使用在牙齒用、義齒用之任一種，且可依循常法製成膏狀(paste)磨齒劑、粉狀磨齒劑、霜狀(cream)磨齒劑、凝膠狀磨齒劑、液狀磨齒劑、糊(pasta)劑等各劑型。尤宜製成膏狀磨齒劑、粉狀磨齒劑、霜狀磨齒劑或凝膠狀磨齒劑。

舉例來說，可藉由混合藥學上或口腔衛生學上所許容的基材、鑽石粒子及研磨性二氧化矽粒子(以及因應需要之其他成分)來製造本發明口腔用組成物。此種基材可例示如水、甘油、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇、山梨糖醇、木糖醇、乳糖醇、甘露醇、乙醇等。

本發明之口腔用組成物亦可摻合一般被添加在口腔用組成物之其他成分(任意成分)。

例如，就界面活性劑而言，除了磺基琥珀酸烷酯系界面活性劑以外，還可摻合非離子界面活性劑、陰離子界面活性劑或兩性界面活性劑。具體而言，非離子界面活性劑可舉例如脂肪酸酯、脂肪酸烷醇醯胺酯類、脂肪酸去水山梨糖醇酯、脂肪酸單甘油酯、脂肪酸聚甘油酯、聚氧乙烯烷基苯基醚、烷基醣苷、癸二酸二乙酯、聚氧乙烯氫化蓖麻油、脂肪酸聚氧乙烯去水山梨糖醇酯等。陰離子界面活性劑可舉例如烷基硫酸酯鹽(例如月桂基硫酸鈉)、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯鹽、聚氧乙烯烷基醚磺基琥珀酸鹽、N-醯基胺基酸鹽、N-醯基牛磺酸鹽、烷基醚羧酸鹽、烷基磷酸鹽、聚氧乙烯烷基醚磷酸鹽、脂肪酸單甘油酯硫酸鹽、烷基磺酸基醋酸鹽等。兩性離子界面活性劑可舉例如烷基二甲基胺基醋酸甜菜鹼、烷基醯胺基丙基二甲基胺基醋酸甜菜鹼、N-醯基-N-羧基甲基-N-羥基乙基乙二胺、N-烷基胺基乙基甘胺酸等。該等界面活性劑可單獨摻合或組合2種以上來摻合。相對於組成物總量，其摻合量通常為0.1~10質量%。

作為增稠劑，可摻合諸如：卡拉膠、羧甲基纖維素或其鹽、羥丙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羥乙基纖維素、結晶纖維素．羧甲基纖維素鈉等纖維素衍生物；黃原膠、黃蓍膠、刺梧桐膠、阿拉伯膠、結冷膠等膠類；聚乙烯醇、聚丙烯酸鈉、羧基乙烯聚合物、聚乙烯基吡咯烷酮等合成黏合劑；增稠性二氧化矽(例如RDA為10以下的二氧化矽)、矽鋁膠、矽酸鎂鋁等無機黏合劑；海藻酸鈉、果膠、大豆多糖類、軟骨素硫酸鈉、玻尿酸鈉等。該等增稠劑可單獨摻合或組合2種以上來摻合。增稠劑的通常摻合量為0.01~20質量%。

就香味劑而言，舉例來說，可將薄荷腦、羧酸、茴香腦、丁香酚、水楊酸甲酯、檸檬烯、蘿勒萜、正癸醇、香茅醛(Citronelle)、α-萜品醇、乙酸甲酯、乙酸香茅酯、甲基丁香酚、桉樹腦、沉香醇、乙基沉香醇、百里香酚、綠薄荷油(spearmint)、西洋薄荷油(peppermint)、檸檬油、橙油、鼠尾草油、迷迭香油、桂皮油、紫蘇油、冬青油、丁香油、尤加利油、甜椒油、d-樟腦、d-龍腦、茴香油、肉桂油、肉桂醛、薄荷油(mint oil)及香草醛等香料單獨摻合或組合2種以上來摻合，且相對於組成物總量，通常可以摻合0.01~1質量%。

又，舉例來說，可將糖精鈉、乙醯磺胺酸鉀、甜菊糖、甜菊萃取物、三氯蔗糖、新橙皮苷二氫查爾酮(neohesperidinyl dihydrochalcone)、甘草酸、紫蘇糖、索馬甜、天冬醯胺基苯丙胺醯基甲酯、對甲氧基肉桂醛等甜味劑單獨摻合或組合2種以上作摻合，且相對於組成物總量，通常可以摻合0.01~1質量%。

進一步而言，可單獨摻合或以組合2種以上之方式來摻合諸如山梨糖醇、乙二醇、丙二醇、甘油、1,3-丁二醇、聚丙二醇、木糖醇、麥芽糖醇、乳糖醇、巴拉金糖(palatinit)及聚乙二醇等以作為濕潤劑。

又，作為防腐劑，可單獨摻合或以組合2種以上之方式來摻合：對羥苯甲酸甲酯、對羥基苯甲酸乙酯、對羥基苯甲酸丙酯、對羥基苯甲酸丁酯等對羥基苯甲酸酯類；安息香酸鈉、苯氧乙醇、鹽酸烷基二胺基乙基甘胺酸等。

又，亦可單獨摻合或以組合2種以上之方式來摻合藍色1號、黃色4號、紅色202號、綠3號等法定色素、群青、強化群青、鐵青等礦物系色素以及氧化鈦等以作為著色劑。

又，亦可摻合檸檬酸、磷酸、蘋果酸、焦磷酸、乳酸、酒石酸、甘油磷酸、乙酸、硝酸、其等在化學上可能的鹽或氫氧化鈉等來作為pH調整劑。其等可單獨摻合或組合2種以上作摻合以使組成物之pH成為4~8(宜5~7)之範圍。pH調整劑的摻合量可例示如0.01~2重量%。

此外，在本發明口腔用組成物中，作為藥效成分，可單獨摻合或以組合2種以上之方式來摻合諸如：西吡氯銨、苯扎氯銨、芐索氯銨、鹽酸氯已定、葡萄糖酸氯己定等陽離子性殺菌劑；醋酸dl-α-生育酚酯、琥珀酸生育酚酯、或菸鹼酸生育酚酯等維他命E類；甘胺酸十二基二胺基乙酯等兩性殺菌劑；二氯苯氧氯酚、異丙基甲苯酚等非離子性殺菌剤劑；聚葡萄糖酶、澱粉酶、蛋白酶、齒斑葡聚醣酶、溶菌酶、溶菌酵素(lytic enzyme)等酵素；單氟磷酸鈉、氟化鈉、氟化亞錫等氟化物；傳明酸或ε-胺己酸、鋁氯羥基尿囊素、二氫膽固醇、甘草酸、甘油磷酸鹽(glycerol phosphate)、葉綠素、氯化鈉、Callopeptide、甘草酸二鉀、尿囊素、日本扁柏油、硝酸鉀等。

又，填充本發明口腔用組成物的容器亦無特別限制。可使用例如玻璃製、金屬製、塑膠製或積層型等材質的容器。又，容器的形態亦無特別限制，可使用例如瓶溶器、杯容器、袋容器或管容器等。

實施例

以下將具體說明本發明，但本發明並非為下述例所限定者。

口腔用組成物之調製

依照下述表1所記載的組成，調製實施例1~9及比較例1~3之口腔用組成物(膏)。具體而言，將鑽石粒子、研磨性二氧化矽粒子、發泡劑(磺基琥珀酸鈉及月桂基硫酸鈉)以外的原料混合，再加入鑽石粒子及研磨性二氧化矽粒子並攪拌、均質化，最後，添加發泡劑並在真空下攪拌、均質化(亦兼去泡處理)。此外，鑽石粒子是使用從瑞士購入之 Microdiamant AG,CH-8574 Lingwil。又，表1各成分的數值是表示質量%。

此外，研磨性二氧化矽粒子是使用市售的5種研磨性沉澱二氧化矽粒子(二氧化矽A~E)及研磨性溶融二氧化矽(二氧化矽F)。各研磨性二氧化矽粒子之中位徑(d50)及RDA係如下述：

(二氧化矽A粒子)d50：2μm、RDA：120

(二氧化矽B粒子)d50：3μm、RDA：160

(二氧化矽C粒子)d50：4μm、RDA：200

(二氧化矽D粒子)d50：8μm、RDA：150

(二氧化矽E粒子)d50：14μm、RDA：100

(二氧化矽F粒子)d50：14μm、RDA：130

此外，使用3種鑽石粒子(分別為鑽石粒子A~C)。鑽石粒子A之d50為2.8μm，d10為1.8μm，d99為4.5μm；鑽石粒子B之d50為2μm，d10為1μm以上，d99為3.5μm以下；鑽石粒子C之d50為3μm，d10為1.8μm以上，d99為4.5μm以下。

此外，於使用成分之中，增稠性二氧化矽雖是沉澱二氧化矽，然RDA為10以下，不具有口腔用組成物所需求的研磨力，因此並非作為研磨性二氧化矽來使用，而是作為增稠劑來使用之成分。所使用之增稠性二氧化矽的平均粒徑為13μm。

此外，上述各研磨性二氧化矽粒子之粒徑是使用低功率He/Ne雷射並使用利用佛朗霍菲繞射(Fraunhofer diffraction)原理之Malvern Mastersizer所測得之值。又，上述鑽石粒子之粒徑是利用庫爾特計數器Multisizer 3(Beckman Coulter股份有限公司製)測得之值。又，上述RDA是利用ISO11609；2010 Annex B所記載的方法而測得之值。

口腔用組成物之評價

針對獲得之各口腔用組成物，依照Stooky等人的方法(J Dent Research,61：1236-1239,1982)來測定色斑去除力(PCR；Pellicle cleaning ratio)。又，依照ISO11609；2010 Annex B所記載的方法來評價RDA。結果一併顯示在表1。

另外，使用具有不同中位徑之鑽石粒子(中位徑為5μm或10μm)，調製與比較例1組成相同的口腔用組成物。分別令其為比較例1a(使用中位徑為5μm之鑽石粒子)、比較例1b(使用中位徑為10μm之鑽石粒子)。然後，除了將象牙質改為琺瑯質、將來回1500次改為來回10000次以及將對照的放射線量改為10之外，其餘依照ISO11609；2010 Annex B所記載的方法，測定各例口腔用組成物之REA。結果，比較例1a之口腔用組成物為約45、比較例1b之口腔用組成物為100。又，對實施例5、比較例1~5亦同樣的測定REA，實施例5之口腔用組成物為22.5、比較例1、2、3、4、5之口腔用組成物分別為21.4、16.2、28.0、5.4、3.7。

從本案比較例1~3之結果得知，儘管一般被認為大多與PCR值具正相關之RDA具有與15~20約略相同之值，然在d10或d99為同水準之下，d50為2.8μm或3μm之鑽石粒子顯示出較d50為2μm之鑽石粒子更高的PCR值。另一方面， REA值顯示出d50越大就增加的傾向，依據該等結果，可說是所使用之鑽石粒子的d50宜為2~3.5μ左右，且以2.5~3μm為佳。

從以上結果可確認，若為本發明口腔用組成物，則色斑去除力極高，且對象牙質的研磨性不會過大，對琺瑯質的研磨力不會過小亦不會過大。

表1

Claims

一種口腔用組成物，含有鑽石粒子及研磨性二氧化矽粒子，前述鑽石粒子之中位徑(d50)為2.0~3.5μm，前述研磨性二氧化矽粒子之RDA在50以上200以下。
如請求項1之口腔用組成物，其中前述鑽石粒子之粒徑累積分布10%值(d10)與d50之差在2μm以內，粒徑之累積分布99%值(d99)與d50之差在3μm以內。
如請求項1或2之口腔用組成物，其中前述研磨性二氧化矽粒子的中位徑(d50)為2.5~10μm。
如請求項1至3中任一項之口腔用組成物，其含有前述鑽石粒子0.1~0.3質量%。
如請求項1至4中任一項之口腔用組成物，其含有前述研磨性二氧化矽粒子1~10質量%。
如請求項1至5中任一項之口腔用組成物，其進一步含有磺基琥珀酸系界面活性劑。