TWI539969B

TWI539969B - Composition for oral use

Info

Publication number: TWI539969B
Application number: TW099134877A
Authority: TW
Inventors: Hiroshi Sakamoto
Original assignee: Sunstar Inc
Priority date: 2009-10-14
Filing date: 2010-10-13
Publication date: 2016-07-01
Also published as: JP2018135361A; TW201119682A; CN104287980A; JP6336556B2; US20120244203A1; CN104287981B; CN102655842B; US9186308B2; JP6640903B2; JP2015178521A; US8734764B2; JP6099695B2; CN104287980B; JP5791507B2; CN102655842A; JPWO2011046179A1; SG10201406366QA; CN104287981A; JP2017061557A; WO2011046179A1

Description

口腔用組成物

技術領域

本發明關於一種口腔用組成物，更詳言之，則是關於一種含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑之口腔用組成物。

背景技術

牙齒之著色係由於被稱為色斑(stain)之色素沉積物沉積於牙齒而產生，此現象會成為審美上的大問題。而作為去除色斑之手段，一般來說是採用：使調配有牙齒研磨劑之牙齒研磨組成物等之口腔用組成物經由牙刷等用具而含於口中，再將牙齒刷淨的方法。由於主要是透過研磨來去除色斑，而認為使用具有越高研磨力之牙齒研磨劑，就會有越高之色斑去除效果。從此觀點來看，質地越硬之牙齒研磨劑越宜用以去除色斑。這是因為可以想見，越硬質之牙齒研磨劑將牙齒表面作物理研磨的力量越強，色斑去除效果越高。

然而，若使用調配有具研磨力之牙齒研磨劑的口腔用組成物，則會有對牙齒造成必要程度以上磨耗之虞。一旦牙齒表面受到磨耗，象牙質將會露出而產生引起知覺過敏的疑慮。又，由於露出之象牙質耐酸性甚低，亦有可能助長蛀牙。例如，氧化鋁(具代表性之硬質牙齒研磨劑)雖具優異色斑去除力，但亦會因研磨而損傷牙齒。為了不損傷牙齒而耗費各種功夫，但並未解決問題，到目前，氧化鋁已幾乎不會調配到口腔用組成物中。

因此，現今仍希望開發出一種在具有適度研磨力之同時亦具有高度色斑去除力之口腔用組成物，亦即，相對於研磨力，色斑去除力之比例甚高(研磨力與色斑去除力之平衡良好)的口腔用組成物。

舉例來說，專利文獻1記載到一種特徵在於含有研磨性不同之2種二氧化矽(研磨性較高之二氧化矽及研磨性較低之二氧化矽)來作為牙齒研磨劑的口腔用組成物，其不會損傷牙齒且在去除色斑上甚有用。然而，該口腔用組成物仍含有高研磨性之二氧化矽，未必已完全消除牙齒損傷的疑慮。

先行技術文獻 專利文獻

專利文獻1　日本特開2004-238321號公報

專利文獻2　日本特開2009-1638號公報

專利文獻3　日本特開昭62-241541號公報

本發明之目的在於：提供一種相對於研磨力之色斑去除效率甚高的口腔用組成物。

本案發明人發現，令人驚訝的是，含有熔融二氧化矽之口腔用組成物即使並未具有甚高程度之研磨力卻仍具有高度色斑去除力，即，相對於研磨力之色斑去除力甚高。且發現，若是含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑之口腔用組成物，則相對於研磨力之色斑去除力更高。基於此等知識見解，本案發明人更反覆進行改良，而終至於完成本發明。

熔融二氧化矽係一種使用在半導體領域之二氧化矽，舉例而言，主要用在填充至半導體密封劑用熱硬化樹脂等(例如，參照日本特開2009-1638號公報)。但是，含有熔融二氧化矽之口腔用組成物則屬未知。又，由於熔融二氧化矽係使二氧化矽粉末於高溫下熔融來製造，密度提高而硬度非常高。如上所述，越硬質之牙齒研磨劑研磨力越高，此種牙齒研磨劑會有對牙齒造成必要以上之磨耗的疑慮，而，含有硬度極高之熔融二氧化矽的口腔用組成物不具甚高研磨力卻仍具有高度色斑去除力，此事全屬意外。

亦即，舉例來說，本發明包含下述第1~11項之口腔用組成物。

第1項

一種口腔用組成物，含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑。

第2-1項

如第1項之口腔用組成物，其含有0.25~8.5質量%之熔融二氧化矽。

第2-2項

如第1項之口腔用組成物，其含有0.5~8.5質量%之熔融二氧化矽。

第3-1項

如第1~2-2項中任一項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽之BET比表面積為10(m²/g)以下。

第3-2項

如第1~3-1項中任一項之口腔用組成物，其中牙齒研磨劑之BET比表面積為20~1000(m²/g)。

第4-1項

如第1~3-2項中任一項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽之吸油量為20(mL/100g)以下。

第4-2項

如第1~4-1項中任一項之口腔用組成物，其中牙齒研磨劑之吸油量為20~400(mL/100g)。

第5項

如第1至4項中任一項之口腔用組成物，其中牙齒研磨劑係選自於由沉澱二氧化矽、凝膠法二氧化矽、發煙(fumed)法二氧化矽、矽酸鋯(zirconosilicate)、矽酸鋁、磷酸鈣、磷酸二鈣(dicalcium phosphate)無水物、磷酸二鈣二水合物、磷酸三鈣(tribasic calcium phosphate)、磷酸氫鈣無水物、磷酸氫鈣二水合物、焦磷酸鈣、碳酸鈣、硫酸鈣、氫氧化鋁、不溶性偏磷酸鈉、磷酸三鎂、碳酸鎂、氧化鈦、聚甲基丙烯酸甲酯、皂土(bentonite)、羥磷灰石(hydroxyapatite)、結晶纖維素、聚乙烯珠及聚丙烯珠所構成群組中之至少1種物質。

第6項

如第5項之口腔用組成物，其中牙齒研磨劑為沉澱二氧化矽。

第7項

如第6項之口腔用組成物，其含有5~26質量%之沉澱二氧化矽，且較宜含有7.5~26質量%之沉澱二氧化矽。

第8項

如第6或7項之口腔用組成物，其含有合計10~34.5質量%之熔融二氧化矽及沉澱二氧化矽。

第9項

如第6至8項中任一項之口腔用組成物，其中口腔用組成物所含沉澱二氧化矽及熔融二氧化矽之質量比(沉澱二氧化矽/熔融二氧化矽)為2.5~11。

第10項

如第1至9項中任一項之口腔用組成物，其係用以清潔牙齒者。

第11項

如第1至9項中任一項之口腔用組成物，其係用以去除附著於牙齒之色斑者。

第12項

如第1至11項中任一項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽係實質上業已去除具有大於60μm粒徑之粒子的熔融二氧化矽。

第13項

如第1至11項中任一項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽係業經網目60μm之篩網(mesh)篩過的熔融二氧化矽。

第14項

如第1至13項中任一項之口腔用組成物，其RDA值為90~140。

第15項

如第1至14項中任一項之口腔用組成物，其含有具不同平均粒徑之2種或以上的熔融二氧化矽。

第16項

如第15項之口腔用組成物，其含有：平均粒徑為0.1~10μm之熔融二氧化矽；及，平均粒徑大於10μm且在45μm以下的熔融二氧化矽。

第17項

如第15或16項之口腔用組成物，其中平均粒徑為0.1~10μm之熔融二氧化矽質量佔全熔融二氧化矽質量之10~90%。

第18項

如第1至17項中任一項之口腔用組成物，其中牙齒研磨劑之RDA值為20~200。

第19項

如第1至18項中任一項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽粒子之圓形度為0.89以上。

此外，舉例來說，本發明亦包含如下述項次所載之色斑去除方法。

第A-1項

一種從附著有色斑之牙齒去除色斑之方法，包含將如第1~13項中任一項之口腔用組成物施用於口腔內之步驟。

第A-2項

一種從附著有色斑之牙齒去除色斑之方法，包含使用如第1~13項中任一項之口腔用組成物刷洗(brushing)牙齒之步驟。

本發明之口腔用組成物具有高度色斑去除力，另一方面，研磨力卻低。因此，因研磨造成損傷牙齒的可能性甚低。故而，藉由使用本發明之口腔用組成物，可幾乎不損傷牙齒而高效率地去除色斑。

本發明之實施形態

茲就本發明更詳盡說明如下。

本發明之口腔用組成物含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑，可用作牙齒清潔用組成物。特別是，藉由使用本發明之口腔用組成物刷洗牙齒等，可高效率去除色斑。且，此時非常難以發生因研磨所造成的牙齒損傷此一原本令人擔心之事。

如上所述，熔融二氧化矽用於半導體領域，為習知物或是可藉習知方法製造。此種物質可使用於本發明中。舉例來說，可藉高溫(如2000~3000℃)火焰使二氧化矽粉末原料(如矽石粉末)熔融來製得熔融二氧化矽。此外，舉例而言，可藉高溫火焰使矽粉末或環式矽氧烷氧化及熔解來製得。如此這般，由於熔融二氧化矽係以高溫處理來進行製造，混有雜質之可能性甚小。又，由於經一次熔融而凝固，二氧化矽粒子之密度提高而使硬度提高。特別是，以破碎粉末二氧化矽作為原料，並使用噴射高溫火焰之燃燒器與熔射技術所獲得之熔射熔融二氧化矽可適於用作本發明之口腔用組成物所含有的熔融二氧化矽。特別是，熔射熔融二氧化矽係於大部分粒子熔融後凝固而製得者，在硬度提高的同時真球度亦會提高，因此如下述般，特別適宜用作本發明之口腔用組成物所含有的熔融二氧化矽。雖未受特別限制，但舉例來說，此種熔射熔融二氧化矽可藉由日本特開昭62-241541號公報所記載之方法等而適宜地製得。

調配至本發明之口腔用組成物之熔融二氧化矽的二氧化矽粒子宜為具高真球度(呈現近似真球狀)者。真球度可藉著表示球之輪廓接近正圓形至何種程度的「圓形度」來評估。可如下述般進行圓形度之算出。(i)首先，拍攝欲測定圓形度之粒子影像，描繪(trace)該粒子之輪廓並算出輪廓長及面積。(ii)接著，畫出面積與所拍攝之粒子輪廓所占面積相同的圓，算出該圓之圓周長。此時，圓形度可以下式求出。另外，圓形度在粒子輪廓呈正圓形時為1，圓形度不會大於1。

【數1】

(i)所算出之粒子輪廓長

圓形度可使用正圓度測定機(JIS B7451：1997)來測定。宜使用令粒子分散於水等液體中並使其通過流量槽(flow cell)藉此來實時拍攝及解析粒子影像的裝置。可適於使用Sysmex社製之粒子像解析裝置(FPIA-3000)。

調配至本發明之口腔用組成物的熔融二氧化矽粒子之圓形度宜為0.89以上，且較宜為0.93以上，更宜為0.95以上。

此外，熔融二氧化矽與習知之牙齒研磨劑(例如沉澱二氧化矽、凝膠法二氧化矽等之濕式二氧化矽)相較下BET比表面積較小。調配於本發明之口腔用組成物的熔融二氧化矽之BET比表面積(m2/g)通常在15以下，且宜為10以下者，較宜為8以下者，而更宜為5以下者。二氧化矽之BET比表面積可藉Macsorb(Macsorb HM model-1201：Mountech股份有限公司製)來測定。

此外，調配於本發明之口腔用組成物的熔融二氧化矽宜為吸油量(亞麻仁油吸油量JIS K5101)較少者。具體而言，吸油量(mL/100g)通常為20以下，且以10以下者為宜，且較宜為8以下者，更宜為5以下者。

可以想見，BET比表面積越小，該熔融二氧化矽之二氧化矽粒子密度越高，該熔融二氧化矽粒子之硬度越高。又，可以想見，熔融二氧化矽之吸油量越小，該熔融二氧化矽之二氧化矽粒子的密度越高，該熔融二氧化矽粒子之硬度越高。亦即，可以想見，熔融二氧化矽之BET比表面積及吸油量越小，該熔融二氧化矽之二氧化矽粒子硬度越高。

作為調配在本發明之口腔用組成物之熔融二氧化矽，亦可購入市售熔融二氧化矽並予以使用。例如，可購自電化學工業股份有限公司(以DENKA熔融二氧化矽FB、FBX之形式市售中)及Micron股份有限公司(以球狀二氧化矽之形式市售中)等。

一旦將高硬度之熔融二氧化矽調配於口腔用組成物而施用於口腔內，恐怕會帶給使用者口腔內有沙沙的觸感。雖也有使用者不將此種觸感視為問題，但此種觸感仍有對使用者造成類似砂石進入口腔內般之不適感的疑慮，並不理想，宜儘可能減輕之。

舉例來說，可減少調配於口腔用組成物中之熔融二氧化矽量，以及使調配於口腔用組成物之熔融二氧化矽的二氧化矽粒子之粒徑縮小，藉此來減輕此種不適感。

因此，雖未受特別限制，但調配於本發明之口腔用組成物的熔融二氧化矽宜去除具有較大粒徑之二氧化矽粒子。例如，可使其通過篩網來進行此一去除。

具體來說，宜為實質上已去除具有大於60μm粒徑之粒子的熔融二氧化矽，且更宜為以實質上已去除具有大於55μm粒徑之粒子的熔融二氧化矽。此外，於此，「實質上已去除」並非意指令其完全不含上述粒子，而是意指例如使用篩網等進行去除操作，而使其在實質上不含上述粒子。

換言之，調配於本發明之口腔用組成物的熔融二氧化矽粒子之粒徑宜為60μm以下，且更宜為55μm以下。此亦意指，例如使用具有特定數值網目之篩網等進行去除操作，而製成實質上具有特定數值以下粒徑之二氧化矽。例如若使用網目53μm之篩網，即可製得實質上由粒徑53μm以下之粒子所構成的熔融二氧化矽。調配於本發明之口腔用組成物的熔融二氧化矽宜為實質上粒徑60μm以下(較宜為55μm以下，更宜為53μm以下，尤宜為45μm以下)者。亦即，調配於本案發明之口腔用組成物中的熔融二氧化矽宜為經網目60μm之篩網(較宜為網目55μm之篩網，更宜為網目53μm之篩網，尤宜為網目45μm之篩網)篩過的熔融二氧化矽。舉例來說，可透過特定網目之篩網將市售之熔融二氧化矽作過篩處理而製得。此外，市售之熔融二氧化矽亦有已完成此種過篩處理者，該熔融二氧化矽亦可適用於本發明之中。

此外，調配於本發明之口腔用組成物之熔融二氧化矽的平均粒徑(50%累積徑；d50)宜為約0.1~45μm，且較宜為約1~20μm，而更宜為約3~17μm。於已去除具較大粒徑之二氧化矽粒子後的熔融二氧化矽中，平均粒子徑(d50)宜在上述範圍內。

另，熔融二氧化矽之平均粒徑(d50)係將水用作分散液並以雷射光繞射散射式測定裝置所求出之值，可藉LA-920(堀場製作所股份有限公司製)來測定。

又，調配於本發明之口腔用組成物之熔融二氧化矽的RDA(Relative Dentine A brasivity)值宜為60~160，更宜為80~140。另，熔融二氧化矽之RDA係以ISO 11609：1995「A. 3.6基準研磨劑漿料」所記載之方法調製出熔融二氧化矽漿料，並將其以Hefferen氏等人之方法(J. Dent. Res.,Vol. 55，No. 4,563-573,1976年)作測定者。

此外，製造本發明之口腔用組成物時，宜將平均粒徑不同之熔融二氧化矽予以組合使用。亦即，調配於本發明之口腔用組成物的熔融二氧化矽宜為混有平均粒徑不同之2種(或2種以上)之熔融二氧化矽者。若將平均粒徑不同之熔融二氧化矽予以混合使用，可製得具有更高之色斑去除力且相對於研磨力之色斑去除力甚高的口腔用組成物。

例如，將具有不同平均粒徑之2種熔融二氧化矽混合使用時，若將此2種熔融二氧化矽中平均粒徑較小者稱為微粉熔融二氧化矽，並將較大者稱為粗粉熔融二氧化矽，則微粉熔融二氧化矽之平均粒徑宜為0.1~10μm(較宜為0.1~6μm，更宜為0.2~3μm)，粗粉熔融二氧化矽之平均粒徑則宜大於10μm且在45μm以下(較宜為12~30μm，且更宜為15~20μm)。又，此時微粉熔融二氧化矽之調配量比率若以全熔融二氧化矽為100%，則宜為10~90%，且更宜為30~90%(或30~80%)。

調配於本發明之口腔用組成物的牙齒研磨劑為習知之牙齒研磨劑。此種牙齒研磨劑可列舉如沉澱二氧化矽(特別是研磨性沉澱二氧化矽)、凝膠法二氧化矽、發煙法二氧化矽、矽酸鋯、矽酸鋁、磷酸鈣、磷酸二鈣無水物、磷酸二鈣2水合物、磷酸三鈣、磷酸氫鈣無水物、磷酸氫鈣2水合物、焦磷酸鈣、碳酸鈣、硫酸鈣、氫氧化鋁、不溶性偏磷酸鈉、磷酸三鎂、碳酸鎂、氧化鈦、聚甲基丙烯酸甲酯、皂土、羥磷灰石、結晶纖維素及合成樹脂(例如聚乙烯珠、聚丙烯珠)等。於此等之中，尤以沉澱二氧化矽為佳。再者，此種牙齒研磨劑可單獨使用或組合2種以上使用。

此等習知牙齒研磨劑與熔融二氧化矽相較下BET比表面積較大。調配於本發明之口腔用組成物的牙齒研磨劑之BET比表面積(m²/g)通常為20~1000，且宜為20~400。又，習知之牙齒研磨劑與熔融二氧化矽相較下吸油量(亞麻仁油吸油量JlS K5101)較多。調配於本發明之口腔用組成物之牙齒研磨劑的該吸油量(mL/100g)通常為20~400。再者，調配於本發明之口腔用組成物之牙齒研磨劑的RDA(Relative Dentine A brasivity)值宜為20~200。另，該牙齒研磨劑之RDA係以ISO 11609：1995「A. 3.6基準研磨劑漿料」所記載之方法調製出牙齒研磨劑之漿料，並將其以Hefferen氏等人之方法(J. Dent. Res.,Vol. 55，No. 4,563-573,1976年)作測定者。

本發明之口腔用組成物中，相對於組成物全體，宜含有熔融二氧化矽0.25~8.5質量%，且較宜0.5~8.5質量%，更宜2~5質量%，以3~4.5質量%更佳。若在該範圍內，則不僅在研磨力與色斑去除力之平衡觀點上較佳，且藉由使用上述熔融二氧化矽，帶來猶如砂石進入口腔內般之不適感的可能性較少，在此觀點上亦甚理想。

再者，調配於本發明之口腔用組成物的牙齒研磨劑量可因應牙齒研磨劑之種類而予以適當設定。例如，相對於組成物全體，牙齒研磨劑宜含有2~70質量%，且更宜為5~60質量%。特別是，將沉澱二氧化矽用作牙齒研磨劑時，相對於組成物全體，沉澱二氧化矽宜含有5~26質量%，且較宜為7.5~26質量%，更宜為7.5~22質量%，且以15~22質量%更佳，17~22質量%尤佳。

又，將沉澱二氧化矽用作牙齒研磨劑時，相對於組成物全體，沉澱二氧化矽與熔融二氧化矽合計(即，合計調配量)宜含有10~34.5質量%，且更宜為15~34.5質量%。此外，將沉澱二氧化矽用作牙齒研磨劑時，沉澱二氧化矽及熔融二氧化矽之調配質量比(沉澱二氧化矽/熔融二氧化矽)宜為2.5~11，且較宜為3~11，更宜為4~8。

在上述範圍內含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑之本發明口腔用組成物，特別是即便具有低研磨力卻仍具有高度色斑去除力，藉由使用該口腔用組成物，可不對牙齒造成必要以上之磨耗而更高效率地去除色斑。

本發明之含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑的口腔用組成物可藉習知方法而製得。

此外，本發明之口腔用組成物可使用在供牙齒用或供義齒用之任一用途，且可依常法而製成膏狀磨齒劑、粉狀磨齒劑、霜狀磨齒劑、膠狀磨齒劑、液狀磨齒劑及糊劑等之各劑型。且尤宜製成膏狀磨齒劑、粉狀磨齒劑、霜狀磨齒劑或膠狀磨齒劑。

例如，可將藥學上或口腔衛生學上可接受之基材、熔融二氧化矽及牙齒研磨劑(以及適需要而定之其他成分)予以混合，而製出本發明之口腔用組成物。舉例來說，此種基材可例示如水、甘油、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、聚丙二醇、山梨醇、木糖醇、乳糖醇、甘露糖醇及乙醇等。

本發明之口腔用組成物亦可調配一般添加於口腔用組成物之其他成分(任意成分)。

例如，作為界面活性劑，可調配非離子性界面活性劑、陰離子界面活性劑或兩性界面活性劑。具體來說，非離子性界面活性劑可列舉如脂肪酸酯、脂肪酸烷醇醯胺類、山梨糖醇脂肪酸酯、脂肪酸單甘油酯、聚甘油脂肪酸酯、聚氧乙烯烷基苯基醚、烷基糖苷、癸二酸二乙酯、聚乙烯硬化蓖麻油及脂肪酸聚氧乙烯山梨醇酐等。陰離子界面活性劑可列舉如烷基硫酸酯鹽、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯鹽、烷基磺酸化琥珀酸鹽、聚氧乙烯烷基醚磺酸化琥珀酸鹽、N-醯基胺基酸鹽、N-醯基牛磺酸鹽、烷基醚羧酸鹽、烷基磷酸鹽、聚氧乙烯烷基醚磷酸鹽、脂肪酸單甘油酯硫酸鹽及烷基磺酸化乙酸鹽等。兩性離子界面活性劑可列舉如烷基二甲基胺基乙酸甜菜鹼、烷基醯胺丙基二甲基胺基乙酸甜菜鹼、N-醯基-N-羧甲基-N-羥乙基伸乙基二胺及N-烷基胺基乙基甘胺酸等。該等界面活性劑可單獨作調配亦可組合2種以上作調配。其調配量相對於組成物全量通常為0.1~10質量%。

作為增黏劑，舉例來說可調配：鹿角菜苷、羧甲基纖維素、羥丙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羥乙基纖維素等之纖維素衍生物；三仙膠(xanthane gum)、黃蓍膠(tragacanth gum)、刺梧桐膠(Sterculia Urens Gum)、阿拉伯膠、結冷膠(gellan gum)等樹膠(gum)類；聚乙烯醇、聚丙烯酸鈉、羧乙烯基聚合物、聚乙烯吡咯啶酮等之合成黏結劑；增黏性二氧化矽、鋁二氧化矽凝膠、VEEGUM等之無機黏結劑；海藻酸鈉、果膠、大豆多糖類、軟骨素硫酸鈉及透明質酸鈉(sodium hyaluronate)等。此等增黏劑可單獨作調配或組合2種以上作調配。增黏劑之通常調配量為0.01~20質量%。

作為香味劑，舉例來說，可將薄荷腦、羧酸、茴香腦、丁香酚、水楊酸甲酯、檸檬烯、蘿勒萜(Ocimene)、正癸醇、香茅醛(Citronelle)、α-萜品醇、乙酸甲酯、乙酸香茅酯、甲基丁香酚、桉油酚、沉香醇、乙基沉香醇、麝香草酚、綠薄荷油、白薄荷油、檸檬油、橘油、鼠尾草油、迷迭香油、桂皮油、紫蘇油、冬綠油、丁香油、尤加利樹油、甜椒油、d-樟腦、d-冰片、茴香油、桂皮油、肉桂醛、薄荷油及香草精等香料作單獨調配或組合2種以上作調配，且相對於組成物全量，通常可調配0.01~1質量%。

此外，舉例來說，可將糖精鈉、乙磺內酯鉀(Acesulfame potassium)、甜菊苷、新橙皮苷二氫查爾酮(neohesperidinyl dihydrochalcone)、甘草酸苷、紫蘇糖、索馬甜、天冬胺醯苯丙胺酸甲酯(aspartyl phenylalanyl methyl ester)、對甲氧基肉桂醛等之甜味劑作單獨調配或組合2種以上作調配，且相對於組成物全量，通常可調配0.01~1質量%。

再者，作為濕潤劑，舉例來說可將山梨醇、乙二醇、丙二醇、甘油、1,3-丁二醇、聚丙二醇、木糖醇、麥芽糖醇、乳糖醇、還原巴金糖及聚乙二醇等作單獨調配或組合2種以上作調配。

此外，於本發明之口腔用組成物中，作為藥效成分，舉例來說可將氯化鯨蠟吡啶(cetylpyridinium chloride)、羥基氯苯胺(benzalkonium chloride)、陽性皂(benzethonium chloride)及鹽酸氯己西汀(chlorhexidine hydrochloride)等之陽離子性殺菌劑、乙酸dl-α-生育酚、琥珀酸生育酚或菸酸生育酚等之維生素E類、十二基二胺基乙基甘胺酸等之兩性殺菌劑、三氯沙、異丙基甲基酚等之非離子性殺菌劑、聚葡糖酶、澱粉酶、蛋白酶、葡聚糖變構水解酶(mutanase)、溶菌酶(lysozyme)、溶菌酵素(分解酶，lytic enzyme)等之酵素、單氟磷酸鈉、氟化鈉、氟化錫(II)等之氟化物、妥內散酸(Tranexamic Acid)或ε-胺基己酸(epsilon aminocaproic acid)、氯羥基尿囊素鋁鹽(Aluminum chlorohydroxy allantoinate)、二氫膽固醇、甘草酸(glycyrrhetinic acid)、甘油磷酸鹽(glycerol phosphate)、葉綠素、氯化鈉、Callopeptide、甘草酸苷酸二鉀、尿囊素、檜酚酮(hinokitiol)及硝酸鉀等作單獨調配或組合2種以上作調配。

此外，充填本發明之口腔用組成物的容器亦未特別受限。例如，可使用玻璃製、金属製、塑膠製或疊片類型(laminate type)等材質之容器。再者，容器形態亦未特別受限，例如可使用瓶裝(bottle)容器、杯裝(cup)容器、袋裝(pouch)容器或管裝(tube)容器等。

如上所述，若為本發明之口腔用組成物，即使研磨力並非甚高亦可高效率除去色斑。具體來說，研磨力可以RDA(Relative Dentine A brasivity)值來表示。本發明之口腔用組成物之研磨力(RDA值)宜為200以下，更宜為150以下。特別是宜為90~140，而更宜為100~140。又，RDA值係一表示對於象牙質之研磨性程度的數值，可藉Hefferen氏等人之方法(J. Dent. Res.,Vol. 55,No.4,563-573,1976年)求出。

此外，本發明之口腔用組成物的色斑去除力可藉著已將Stooky氏等人之方法(J. Dent. Res.,Vol.61,No.11,1236-1239,1982)作變更之方法進行測定。具體而言，可如下述般進行使用L*a*b*值分色系統之牙齒表面顏色評估來測得色斑去除力。即，計測色斑附著前牙齒表面之L*值、a*值、b*值(令其等分別為L0、a0、b0)、色斑附著後該牙齒表面之L*值、a*值、b*值(令其等分別為L1、a1、b1)及色斑去除後該牙齒表面之L*值、a*值、b*值(令其等分別為L2、a2、b2)時，色斑去除力(ΔE)可藉下式算出。

【數2】

色斑去除力(ΔE)=100×(ΔE1/ΔE0)

但，

L*值、a*值、b*值之測定可藉色差計來進行。用於測定之牙齒可使用例如牛齒琺瑯質齒片。又，於測定色斑著色前之牙齒表面之前，宜預先將齒片表面作鏡面研磨處理。色斑著色後牙齒表面之L*值(即L1)宜在30以下。使用口腔用組成物進行色斑去除時，宜浸漬於該組成物或其稀釋液(例如稀釋2或3倍)中刷洗(例如，於將牙齒表面來回刷洗100~2000次(宜來回500~1500次)之範圍內，設定任意值來進行)。刷洗係以設有普通牙刷且以BSI為準之刷洗機來進行。

更具體而言，可藉實施例記載之方法測定色斑去除力。

可如此測定之本發明口腔用組成物之色斑去除力宜為25以上，且更宜為27以上。

另，L*a*b*值分色系統係一般用以表示物體顏色之分色系統，業已在1976年於國際照明委員會(CIE)中規格化，日本亦已採用於JIS(JIS Z8729)中。

本發明口腔用組成物之該色斑去除力與該研磨力之比(色斑去除力/研磨力)為約0.2以上，更宜為約0.23以上，且0.25以上更佳。

另外，本發明之口腔用組成物不僅適用於人類，亦可適用於有牙齒之其他動物(特別是哺乳類)。此種動物可列舉如寵物或家畜，具體則可例示如狗、貓、猿猴、牛、馬、豬、羊、倉鼠及兔等。

本發明亦包含將上述口腔用組成物施用於口腔內以去除牙齒色斑之方法。對口腔內之施用方法僅需因應口腔用組成物之形態、劑形等作適當選擇即可。例如，口腔用組成物呈液狀(例如液態磨齒劑、漱口液等)時，可例示如將口腔用組成物於含於口腔內並漱口(漱洗)的方法。此外，舉例來說，可例示如將適當量之(特別是呈固體狀或膏狀的)口腔用組成物載於牙刷上並將牙齒刷洗之方法。此外，藉由該方法，亦可去除已取下之義齒之色斑。又，適用對象亦如上所述，並非特別限定在人類。

實施例

茲具體說明本發明如下，但本發明並非侷限於下述例示者。

[研磨力及色斑去除力之探討] 口腔用組成物之調製

如下述般製造含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑之口腔用組成物。另，以下使用沉澱二氧化矽作為牙齒研磨劑。

<二氧化矽>

使用以下之熔融二氧化矽及沉澱二氧化矽作為調配於口腔用組成物中之二氧化矽。另，熔融二氧化矽則是使用已使下述材料經網目53μm之篩網過篩之物。

[熔融二氧化矽](購自MICRON股份有限公司)

BET比表面積：3.5(m²/g)

吸油量(亞麻仁油吸油量JIS K5101)：5(mL/100g)

圓形度：0.95

平均粒徑(d50)：14μm

RDA：130

[沉澱二氧化矽](購自日本二氧化矽工業股份有限公司)

BET比表面積：104(m²/g)

吸油量(亞麻仁油吸油量JIS K5101)：110(mL/100g)

圓形度：0.69

平均粒徑(d50)：12μm

RDA：100

將此等熔融二氧化矽及沉澱二氧化矽與表1所記載之成分混合，製造出已變更二氧化矽調配量之各例口腔用組成物(膏狀磨齒劑)(表2~表4)。

針對所得各例之口腔用組成物，如下述般探討色斑去除力及研磨力。

<色斑去除力>

使用已將Stooky氏等人之方法(J. Dent. Res.,Vol.61,No.11,1236-1239,1982)作變更的方法進行測定，算出色斑去除力(ΔE)。具體來說，使用L^*a^*b^*分色系統，如下述般進行測定及算出。

切取牛齒琺瑯質齒片並埋入透明聚酯樹脂中，將齒片表面作鏡面研磨。以離子交換水洗淨後，使齒片充分乾燥後，以色差計(CR-241：KONICA MINOLTA SENSHING,INC.製)測定L*值、a*值及b*值。令所得之值分別為L0、a0、b0。更依序將該齒片使用0.2M之鹽酸、飽和碳酸鈉水溶液及1%植酸水溶液蝕刻齒片表面後，設置於色斑附著装置。以紅茶、咖啡、豬胃黏蛋白之混合水溶液作為色斑培養基，進行7天之色斑附著，第8天後於該色斑培養基中加入氯化鐵，更持續著色至L*值達30以下。色斑附著結束後，以色差計測定L*值、a*值及b*值。令所得之值分別為L1、a1、b1。將附著色斑後之該齒片安裝在已設有普通牙刷之刷洗機(以BSI為準)中，於各實施例及比較例之口腔用組成物的3倍稀釋液中來回刷洗1000次後，以色差計測定L*值、a*值、b*值。令所得之值分別為L2、a2、b2。接著，將下式所示之值視為色斑去除力(ΔE)予以算出(小數點以下四捨五入)並評估之。

【數3】

色斑去除力(ΔE)=100×(ΔE1/ΔE0)

但，

此外，本件等所使用之色斑培養基係如下調製者：於約1200ml之沸水中投入4個市售茶包，煮沸10分鐘後冷卻至室溫，加入3.4g之市售即溶咖啡粉末及2.5g之豬胃黏蛋白(Sigma-Aldrich社製)，攪拌均勻而調製出。

<研磨力(RDA值)>

以Hefferen氏等人之方法(J. Dent. Res.,Vol. 55,N0.4,563-573,1976年)測定RDA值。此外，該方法於日本特開昭62-87507號公報中亦有詳細說明。具體來說，係如下述般進行。即，預先準備8顆人類牙齒，對象牙質照射放射性之32P(質量數32之磷)並使用樹脂保持後，將其等分別安裝於刷洗荷重150g之8連式研磨機。接著，對各實施例及比較例之口腔用組成物25g加入自來水40mL並混合均勻，將所得漿料分別裝入研磨機之水槽中，進行1500次來回研磨。將研磨後之漿料3mL取至金屬平板模具中，於60℃下使空氣循環，同時進行乾燥一夜。針對如此製出之漿料乾燥平板表面進行放射能測定。

使用已施行同樣處理之象牙質，針對焦磷酸鈣100g/0.5%羧甲基纖維素水溶液50mL之漿料進行相同之測定，以作為對照例。

針對各水槽，以對照例時之放射線量為100來算出數值，令8個數值之平均值為RDA值。

將該RDA值用作研磨力之指標。以下，將RDA值作為研磨力之值。

將結果統整於表2~表5。又，表2~表5中「沉澱二氧化矽」及「熔融二氧化矽」欄所載數值表示已調配於各口腔用組成物之此等二氧化矽之量(質量%)。

此外，表2~5中，更一併顯示各例之口腔用組成物中相對於研磨力之色斑去除力的比(色斑去除力/研磨力)之值。相對於研磨力之色斑去除力越大的口腔用組成物(即(色斑去除力/研磨力)之值越大的口腔用組成物)，越可評估為優異之口腔用組成物。

如表2所示，相對於口腔用組成物總量調配有沉澱二氧化矽17質量%時，一旦調配熔融二氧化矽，色斑去除力即成25以上。且得知，特別是在調配有熔融二氧化矽0.5~8.5質量%時，色斑去除力為25以上且相對於研磨力之色斑去除力的比(色斑去除力/研磨力)為約0.23以上，可獲得更佳之口腔用組成物。

此外，如表3所示，相對於口腔用組成物總量調配有熔融二氧化矽3質量%時，一旦調配沉澱二氧化矽，色斑去除力即成24以上。且得知，特別是在沉澱二氧化矽之調配量為7.5~26質量%時，色斑去除力為25以上且(色斑去除力/研磨力)為約0.23以上，可獲得更佳之口腔用組成物。

又，如表4所示，相對於口腔用組成物總量調配有沉澱二氧化矽22質量%時，一旦調配熔融二氧化矽，色斑去除力即成25以上。詳言之，得知若調配至少0.25~6質量%之熔融二氧化矽，色斑去除力為25以上且(色斑去除力/研磨力)為約0.24以上，可獲得理想之口腔用組成物。

此外，從加上表5之比較例3~5的全部比較例得知，製造僅調配有熔融二氧化矽或沉澱二氧化矽之口腔用組成物時，無法獲得色斑去除力達24以上之物。

再者，從加上表5之實施例4~7的全部實施例得知：含有熔融二氧化矽及沉澱二氧化矽之口腔用組成物的色斑去除力至少在24以上而甚理想；而，含有熔融二氧化矽0.25~8.5質量%(或0.5~8.5質量%)、沉澱二氧化矽5~26質量%(或7.5~26質量%)時，色斑去除力為25以上且(色斑去除力/研磨力)為約0.24以上而更理想；在含有熔融二氧化矽2~4.5質量%及沉澱二氧化矽15~22質量%時，色斑去除力為27以上且(色斑去除力/研磨力)為約0.25以上，更是理想。

此外，表中實施例1-4及實施例2-4為相同之口腔用組成物，實施例2-6及及實施例3-4為相同之口腔用組成物。

[消除使用時不適感之探討]

調配有熔融二氧化矽之口腔用組成物係如上所述般，在施用於口腔內時(例如載於牙刷上刷牙時)，有可能會帶給口腔內沙沙的不適感(猶如砂石進入口腔內般之不適感)。雖可能因人而不將此種感覺視為問題，但仍是不甚理想。因此而從此種不適感之觀點出發，就調配於口腔用組成物之較佳熔融二氧化矽粒徑及熔融二氧化矽之調配量加以探討。

<熔融二氧化矽粒徑之探討>

此一探討使用已用於探討上述研磨力及色斑去除力之熔融二氧化矽。

使用表7示之各網目之篩網，將該熔融二氧化矽作過篩處理，去除粒徑較大之二氧化矽粒子。接著，使用該去除操作後之熔融二氧化矽，依下述處方(表6)所示組成調製出口腔用組成物(參考例1~4)。另外，下述處方中之研磨性沉澱二氧化矽與上述研磨力及色斑去除力之探討中所使用的沉澱二氧化矽相同。又，下述處方中之增黏性沉澱二氧化矽的吸油量為335(mL/100g)、BET比表面積為236(m²/g)。

使受試者評估將各口腔用組成物(參考例1~4)適量載於牙刷進行刷牙時之使用感。具體來說，請10位受試者使用各口腔用組成物刷牙(brushing)，並對於「沙沙感的感覺如何」此一問題，從以下3階段中選出答案。

「完全感覺不到」(3分)

「感覺得到但無不適」(2分)

「感到不適」(1分)

接著算出10位的平均分數，該平均分數達2.5以上者評估為○，0.2以上且小於2.5者評估為△，小於2者評估為×。茲將結果一併示於表7。

得知若是經使用網目75μm以下之篩網去除粒徑較大之粒子(即，經過篩處理)且調配有熔融二氧化矽的口腔用組成物，則在使用感上無特別問題，此外，若是經使用網目53μm以下之篩網去除粒徑較大之粒子(即，經過篩處理)且調配有熔融二氧化矽的口腔用組成物，則可獲得良好之使用感。

<熔融二氧化矽調配量之探討>

除了改變二氧化矽調配量以外，與調製上述參考例3之口腔用組成物者相同，調製出參考例3.1、參考例3.2及參考例3.3。即，調配於該等參考例之二氧化矽係業已藉網目53μm之篩網去除粒徑較大粒子(即，經過篩處理)的熔融二氧化矽。茲將各參考例中相對於組成物總量之二氧化矽調配量(質量%)示於表8。

此外，與上述相同地進行使用感評估。茲將結果一併示於表8。

得知熔融二氧化矽調配量若至少在10質量%以下，則在使用感上無特別問題，又，若熔融二氧化矽調配量在7.5質量%以下，則可獲得良好之使用感。

探討粒徑不同之熔融二氧化矽的組合

藉由組合使用粒徑不同之熔融二氧化矽，探討口腔用組成物之性能會有何種變化。

探討對象之口腔用組成物係基於表1記載之組成而得者。但，沉澱二氧化矽之調配量(質量%)及熔融二氧化矽之調配量(質量%)則使用以下表9及表10所記載之值。

另外，用於製造該口腔用組成物之熔融二氧化矽混有平均粒徑較小之熔融二氧化矽(粉末)與平均粒徑較大之熔融二氧化矽(粉末)。以下，有時將前者記載為微粉熔融二氧化矽，將後者記載為粗粉熔融二氧化矽。

於此，平均粒徑係指中位徑(d50)，其係以雷射光繞射散射式測定裝置(LA-920：堀場製作所股份有限公司製)測得之值。微粉熔融二氧化矽之平均粒徑為3.1μm，分布範圍為0.1~10μm；粗粉熔融二氧化矽之平均粒徑為17.4μm，分布範圍為10~45μm。微粉熔融二氧化矽及粗粉熔融二氧化矽對口腔用組成物的調配量(質量%)亦一併示於表9及表10。

針對所製得之各口腔用組成物，與上述「研磨力及色斑去除力之探討」中所記載者相同，測定色斑去除力、研磨力及(色斑去除力/研磨力)之值。該等之結果亦一併示於表9及表10中。

於各口腔用組成物製造過程中，相對於所用熔融二氧化矽全體之微粉熔融二氧化矽的調配比例在實施例A-1~A5分別為0、10、30、90、100%，在實施例B-1~B-3則分別為30、80、90%。

從表9及表10得知，與單獨使用微粉熔融二氧化矽或粗粉熔融二氧化矽相較下，將其等作混合使用之色斑去除力較高，且(色斑去除力/研磨力)之值亦較大。特別是，相對於所用熔融二氧化矽全體，若含有30~90%之微粉熔融二氧化矽，則色斑去除力更高且(色斑去除力/研磨力)之值亦增大，而更是理想。

茲將本發明之口腔用組成物的處方例顯示如下。此外，各處方例之調配量(%)表示質量%。另，以下之處方例中，雖使用7種熔融二氧化矽(熔融二氧化矽A~G)，但其等均是以熔射法製造之熔融二氧化矽(熔射熔融二氧化矽)。熔融二氧化矽A~G於篩網處理時之網目、圓形度、BET比表面積及吸油量(亞麻仁油吸油量JIS K5101)係如下所示。

熔融二氧化矽A：篩網網目60(μm)、圓形度0.90、BET比表面積10.0(m²/g)、吸油量9.8(mL/100g)

熔融二氧化矽B：篩網網目55(μm)、圓形度0.93、BET比表面積8.0(m²/g)、吸油量7.7(mL/100g)

熔融二氧化矽C：篩網網目53(μm)、圓形度0.95、BET比表面積5.0(m²/g)、吸油量3.5(mL/100g)

熔融二氧化矽D：篩網網目45(μm)、圓形度0.98、BET比表面積4.6(m²/g)、吸油量3.2(mL/100g)

熔融二氧化矽E：篩網網目60(μm)、圓形度0.94、BET比表面積6.0(m²/g)、吸油量5.5(mL/100g)

熔融二氧化矽F：篩網網目55(μm)、圓形度0.97、BET比表面積4.8(m²/g)、吸油量3.3(mL/100g)

熔融二氧化矽G：篩網網目53(μm)、圓形度0.91、BET比表面積9.1(m²/g)、吸油量8.3(mL/100g)

表15

Claims

一種口腔用組成物，含有熔融二氧化矽及牙齒研磨劑。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其含有0.25~8.5質量%之熔融二氧化矽。
如申請專利範圍第1或2項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽之BET比表面積為10(m²/g)以下。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽之吸油量為20(mL/100g)以下。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其中牙齒研磨劑係選自於由沉澱二氧化矽、凝膠法二氧化矽、發煙(fumed)法二氧化矽、矽酸鋯(zirconosilicate)、矽酸鋁、磷酸鈣、磷酸二鈣(dicalcium phosphate)無水物、磷酸二鈣二水合物、磷酸三鈣(tribasic calcium phosphate)、磷酸氫鈣無水物、磷酸氫鈣二水合物、焦磷酸鈣、碳酸鈣、硫酸鈣、氫氧化鋁、不溶性偏磷酸鈉、磷酸三鎂、碳酸鎂、氧化鈦、聚甲基丙烯酸甲酯、皂土(bentonite)、羥磷灰石(hydroxyapatite)、結晶纖維素、聚乙烯珠及聚丙烯珠所構成群組中之至少1種物質。
如申請專利範圍第5項之口腔用組成物，其中牙齒研磨劑為沉澱二氧化矽。
如申請專利範圍第6項之口腔用組成物，其含有5~26質量%之沉澱二氧化矽。
如申請專利範圍第6項之口腔用組成物，其含有合計10~34.5質量%之熔融二氧化矽及沉澱二氧化矽。
如申請專利範圍第8項之口腔用組成物，其中口腔用組成物所含沉澱二氧化矽及熔融二氧化矽之質量比(沉澱二氧化矽/熔融二氧化矽)為2.5~11。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其係用以清潔牙齒者。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其係用以去除附著於牙齒之色斑者。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽係實質上業已去除具有大於60μm粒徑之粒子的熔融二氧化矽。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其中熔融二氧化矽係業經網目60μm之篩網(mesh)篩過的熔融二氧化矽。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其RDA值為90~140。
如申請專利範圍第1項之口腔用組成物，其含有具不同平均粒徑之2種或以上的熔融二氧化矽。
如申請專利範圍第15項之口腔用組成物，其含有：平均粒徑為0.1~10μm之熔融二氧化矽；及，平均粒徑大於10μm且在45μm以下的熔融二氧化矽。
如申請專利範圍第16項之口腔用組成物，其中平均粒徑為0.1~10μm之熔融二氧化矽質量佔全熔融二氧化矽質量之10~90%。