TW201448314A - 具有改良之彎曲特性的顯示裝置及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明揭露一種顯示裝置。該顯示裝置包含：一顯示模組，包含一撓性基板、一顯示面板及一封裝膜；一下部模組，設置於該顯示模組之下；一上部模組，設置於該顯示模組上；以及一彈性調整層，設置於該顯示模組上或該顯示模組之下，以在該顯示裝置彎曲時調整一中性平面之一位置，其中該彈性調整層之一彈性模數小於該顯示模組、該下部模組、及該上部模組至少其中之一之一彈性模數，以將該中性平面定位於該顯示模組內或該顯示模組附近。

Description

具有改良之彎曲特性的顯示裝置及其製造方法
本發明之各實施例概言之係關於一種顯示裝置及其製造方法，更具體而言，係關於一種具有改良之彎曲特性的顯示裝置及其製造方法。
隨著近來半導體技術之快速發展，顯示裝置之性能已得到改良而使平面顯示裝置之螢幕尺寸增大、其重量降低等等，因此極大地提高了對此等平面顯示裝置之需求。
此等平面顯示器之實例包含：液晶顯示器(liquid crystal display；LCD)、電漿顯示器件(plasma display device；PDD)、場發射顯示器件(field emission display device；FED)、電致發光顯示器件(electroluminescence display device；ELD)、電泳顯示器件(electrophoresis display device；EPD)、或有機發光二極體(organic light-emitting diode；OLED)顯示器件等。
對即使在彎曲時仍能持續地保持顯示性能之撓性平面顯示裝置具有很大的需求。此等撓性顯示器使用由撓性材料形 成之一基板。
然而，即使係為一撓性顯示裝置，在被過度彎曲或彎曲次數過多時，其各種組件例如其薄膜電晶體、導電佈線等亦可受損，進而降低其性能。
本發明之各實施例提供一種顯示裝置，該顯示裝置藉由添加一彈性調整層(elasticity-adjusting layer)來將易因彎曲而受損之部分處之應變最小化，因此該顯示裝置具有改良之抗彎曲耐用性。
根據本發明之一態樣，提供一種顯示裝置，該顯示裝置包含：一顯示模組，包含一撓性基板、一顯示面板及一封裝膜；一下部模組，設置於該顯示模組之下；一上部模組，設置於該顯示模組上；以及一彈性調整層，設置於該顯示模組上或該顯示模組之下，以在該顯示裝置彎曲時調整一中性平面(neutral plane)之一位置。該彈性調整層之一彈性模數(elastic modulus)小於該顯示模組、該下部模組、及該上部模組至少其中之一之一彈性模數，以將該中性平面定位於該顯示模組內或該顯示模組附近。
該彈性調整層可包含至少兩種具有不同彈性模數之材料。
該彈性調整層可包含由至少兩種具有不同彈性模數之材料形成之一堆疊。
該彈性調整層可包含一矽酮族(silicone-group)樹脂與一丙烯酸族(acryl-group)樹脂至少其中之一。
該彈性調整層之該彈性模數可係較該顯示模組之該彈性模數小約6個數量級。
該彈性調整層之該彈性模數之值可係處於該顯示模組之該彈性模數的約1×10-7倍至約0.6×10-6倍範圍內。
該彈性調整層可包含一黏著材料。
該彈性調整層之厚度之值可係處於該顯示模組之厚度的約一倍至約三倍之範圍內。
該上部模組可包含一觸控面板、一黏著層、及一窗口。
該上部模組所具有之一厚度可大於該下部模組之一厚度。
根據本發明之另一態樣，提供一種顯示裝置，該顯示裝置包含：一顯示模組，包含一撓性基板、一顯示器件、一封裝膜、及一偏光板(polarizing plate)；一下部模組，設置於該顯示模組之下；一第一彈性調整層，設置於該下部模組與該顯示模組之間；一上部模組，設置於該顯示模組上；以及一第二彈性調整層，設置於該上部模組與該顯示模組之間。該第一彈性調整層與該第二彈性調整層各自之彈性模數可小於該顯示模組、該下部模組、及該上部模組至少其中之一之一彈性模數，以在該顯示裝置彎曲時將一中性平面定位於該顯示模組內或該顯示模組附近。
該上部模組可包含一觸控面板、一黏著層、及一窗口。
該上部模組所具有之一厚度可大於該下部模組之一厚度。
該顯示模組可包含一有機發光器件(organic light-emitting device；OLED)及一薄膜電晶體。
根據本發明之另一態樣，提供一種製造一顯示裝置之方法，該方法包含：於一玻璃基板上形成一顯示模組，該顯示模組包含一撓性基板、一顯示面板、及一封裝膜；於該顯示模組上形成一彈性調整層；於該彈性調整層上形成一上部模組；將該玻璃基板自該顯示模組移除；以及於該顯示模組之下形成一下部模組並使該下部模組耦合於該顯示模組。該彈性調整層所具有之一彈性模數小於該顯示模組、該上部模組、及該下部模組至少其中之一之一彈性模數，以在該顯示裝置彎曲時將一中性平面定位於該顯示模組內或該顯示模組附近。
該彈性調整層可藉由同時沈積至少兩種具有不同彈性模數之材料而形成。
該彈性調整層之彈性模數可根據至少兩種具有不同彈性模數之材料之一比率而確定。
該上部模組所具有之一厚度可大於該下部模組之一厚度。
該顯示面板可包含複數個有機發光器件(OLED)及 複數個薄膜電晶體。
該封裝膜可包含至少一層有機膜及至少一層無機膜。
10、11、12、13、14‧‧‧顯示裝置
21‧‧‧撓性基板
22‧‧‧顯示面板
23‧‧‧封裝膜
24、24a、24b、24c‧‧‧無機膜
25、25a、25b、25c‧‧‧有機膜
31‧‧‧第一層
32‧‧‧第二層
100‧‧‧下部模組
110‧‧‧玻璃基板
200‧‧‧顯示模組
208‧‧‧貫穿孔
210‧‧‧偏光板
211‧‧‧緩衝層
212‧‧‧主動層
213‧‧‧閘極絕緣膜
214‧‧‧閘電極
215‧‧‧層間絕緣膜
216‧‧‧源電極
217‧‧‧汲電極
218‧‧‧平坦化膜
219‧‧‧畫素界定膜
220‧‧‧中間層
221‧‧‧第一電極
222‧‧‧第二電極
223‧‧‧保護層
300‧‧‧上部模組
310‧‧‧觸控面板
330‧‧‧黏著層
350‧‧‧窗口
400‧‧‧彈性調整層
401‧‧‧第一彈性調整層
402‧‧‧第二彈性調整層
E1、E2‧‧‧彈性模數
C‧‧‧壓縮應力
F‧‧‧區域
NP‧‧‧中性平面
OLED‧‧‧有機發光器件
R‧‧‧彎曲半徑
T‧‧‧拉伸應力
TR‧‧‧薄膜電晶體
Z‧‧‧位置
Z0‧‧‧座標
(Z-Z0)‧‧‧距離
藉由參照附圖詳細闡述本發明之各實例性實施例，本發明之上述及其他特徵以及優點將變得更加顯而易見，在附圖中：第1圖係為一示意性剖視圖，其例示根據本發明一實施例之一顯示裝置之一結構；第2圖係為一剖視圖，其例示其中該顯示裝置被彎曲且被施加應力時之一狀態；第3A圖及第3B圖例示根據施加至一物體之彎曲應力而形成一中性平面NP之位置；第4圖至第7圖係為示意性剖視圖，其例示根據本發明其他實施例之顯示裝置之結構；第8圖係為本發明各實施例可包含之一顯示器件之示意性剖視圖，且第9圖係為第8圖所示之區域F之放大圖；以及第10A圖至第10D圖係為剖視圖，其依序例示根據本發明一實施例之一種製造一顯示裝置之方法。
現在，將參照附圖詳細闡述本發明之各實施例。在 附圖中相同之參考編號表示相同之元件，因此對其不予以重複贅述。此外，為便於說明及清晰起見，可誇大各組件之尺寸。
以下闡述之各實施例僅係為例示性的，且可由該等實施例衍生出各種修改形式。舉例而言，當闡述某一層係位於一基板或另一層「上」或「之上」時，該層可直接位於該基板或該另一層之上，抑或一第三層可夾置於其間。
本說明書中所用之用語僅係用於闡述各實施例而並非旨在限制本發明。在本說明書中，除非在上下文中明顯地彼此不同，否則單數形式之一表達亦包含複數形式之一表達。在本說明書中，「包含」及/或「具有」並不排除所提及之元件、步驟、運作、及/或器件之存在或附加。儘管可能使用例如「第一」及「第二」等用語來描述各種元件，然而該等元件不受限於該等用語。該等用語可用於對各元件分類。
當某一實施例可以不同方式實施時，可不同於所述之順序而執行一具體之製程順序。舉例而言，二個依序闡述之製程可實質上在同一時間執行抑或以與所述順序相反之一順序執行。
本文中所用之用語「及/或」包含相關列出項其中之一或多個項之任意及所有組合。當例如「...中至少一個」等表達位於一系列元件之前時，該表達係修飾整個系列元件而非修飾該系列中之單個元件。
如此項技術中具有通常知識者所理解，所有數值係 為近似值且可有所變化。
第1圖係為例示根據本發明一實施例之一顯示裝置10之一結構之示意性剖視圖。
參照第1圖，顯示裝置10包含：一顯示模組200、一下部模組100、一上部模組300、以及一彈性調整層400。
顯示模組200包含：一撓性基板21、一顯示面板22、以及一封裝膜23。顯示模組200可更包含一偏光板(圖中未示出)。顯示模組200之一彈性模數可係為約數百十億帕(GPa)。
撓性基板21可由可彎曲或呈撓性之各種材料(例如，塑膠材料、金屬材料等)製成。在某些實施例中，撓性基板21可係為一纖維強化塑膠(fiber reinforced plastic；FRP)。在某些實施例中，撓性基板21可包含纖維組織及/或一聚合物樹脂。該纖維組織可由光纖、或利用光纖之細紗(spun yarn)或織物形成。該聚合物樹脂可包含環氧樹脂(epoxy resin)、及丙烯酸樹脂(acrylic resin)等。
顯示面板22係用於顯示字符、圖形、或影像之一面板且可包含複數個顯示器件。各該顯示器件可係為一液晶顯示器件、一有機發光顯示器件、一電漿顯示器件、或一電泳顯示器件等。各該顯示器件可包含一或多個薄膜電晶體。
在某些實施例中，各該顯示器件可包含：訊號線，包含用於傳送一閘極訊號之一閘極線；一資料線，用於傳送一資料訊號；一開關器件，連接至該閘極線及該資料線；以及一畫素 電極，連接至開關器件且經由該畫素電極接收資料訊號；等等。各該顯示器件可形成一單元畫素。
封裝膜23係用於防止攜帶有濕氣、氧氣等之空氣滲入，且可被形成以環繞顯示面板22之上表面及/或側表面。在某些實施例中，封裝膜23可被形成為一多層(multi-layer)結構。舉例而言，封裝膜23可由複數層無機膜形成或由複數層無機膜與複數層有機膜之組合形成。在另一實施例中，封裝膜23可具有包含低熔點玻璃之一膜結構，例如包含氧化錫(SnO)之一材料。
顯示模組200可更於封裝膜23上包含偏光板。該偏光板可降低外部光之反射，且可提高對比度。
上部模組300及下部模組100可係為用於保護顯示模組200之組件。因顯示模組200之厚度僅係為幾微米或數十微米，故顯示模組200能被輕易地彎曲或無意地折疊。因此，當在沒有上部模組300及下部模組100之情況下使用顯示模組200時，顯示裝置10之可攜性可能變差，且顯示模組200可被輕易地損壞。因此，上部模組300及下部模組100被附裝至顯示模組200，以提高顯示模組200之機械強度並防止顯示模組200受損。在某些實施例中，上部模組300及/或下部模組100可被形成為複數層。各該上部模組300及下部模組100之一彈性模數可係為大約數十十億帕。
除保護顯示模組200之功能以外，上部模組300可更包含具有其他功能之組件。舉例而言，上部模組300可包含：一偏光板(圖中未示出)，用於防止外部光之反射；一觸控面板(圖 中未示出)，具有一觸控感測器；一窗口，被設置為最外層；以及一黏著層(圖中未示出)，其可夾置於各組件之間。因此，上部模組300之厚度可不同於下部模組100之厚度。舉例而言，上部模組300之厚度可數倍於下部模組100之厚度。在某些實施例中，上部模組300之厚度可處於約400微米至約600微米之間，而下部模組100之厚度可處於約100微米至約200微米之間。
在本實施例中，可設置彈性調整層400以將顯示模組200之一區域中之應變最小化。更詳細而言，彈性調整層400可藉由調整形成於顯示裝置10中之一中性平面NP之位置而將顯示模組200之該區域中之應變最小化。彈性調整層400所具有之一彈性模數亦可小於顯示模組200之彈性模數，以吸收可能施加至顯示模組200之該區域之衝擊。
我們已知，中性平面NP形成於一物體內，並指在對該物體施加彎曲時雖被彎曲但仍保持其初始長度而未延伸或縮短之一平面。亦即，中性平面NP係指不實際產生張力或壓縮之一平面，即零應變之一平面。
當應變被重複地施加至顯示模組200時，抑或當一超出斷裂強度(breaking strength)之應變被施加至顯示模組200時，形成於顯示模組200內之一顯示器件(例如，一薄膜電晶體、一佈線、封裝膜23等)可能會受損。為防止出現此種問題，中性平面NP可形成於顯示模組200之該區域或鄰近其之一區域中，以將施加至顯示模組200之應變最小化。
現在，將參照第2圖及第3圖更詳細地闡述彈性調 整層400之作用。
第2圖係為例示顯示裝置10被彎曲且被施加應力時之一狀態之剖視圖。
參照第2圖，因顯示裝置10係為撓性的，故顯示裝置10可以一彎曲半徑R彎曲。在此種情形中，根據拉伸應力T及壓縮應力C而定的應變ε被施加至顯示裝置10。中性平面NP可形成於顯示裝置10內之一區域中。當假定中性平面NP之一座標係為Z0時，根據與中性平面NP之一距離(Z-Z0)，應變ε可由以下之方程式表達：
R表示顯示裝置10之一外周彎曲半徑。亦即，隨著位置Z與中性平面NP間距離之增大以及彎曲半徑R之減小，施加至顯示裝置10之應變增大。以上方程式表明，隨著顯示裝置10厚度之增大，與中性平面NP間之距離增大，因此顯示裝置10之應變程度增大。因此，隨著顯示裝置10之厚度變薄，應變根據彎曲半徑R而減小。中性平面NP之一位置可根據用於形成顯示裝置10之材料之一彈性模數而有所變化。
第3A圖及第3B圖例示當應力被施加至一物體時，中性平面NP之一形成位置。
參照第3A圖，該物體可被概念性地劃分成一第一層31及一第二層32。假定第一層31之一彈性模數係為E1，且第二層32之一彈性模數係為E2。第3A圖顯示的係為E1等於E2之一 情形。在此種情形中，因第一層31及第二層32根據一應變力之應變程度係為相同的，故中性平面NP形成於該工件厚度方向上之中間位置中。
第3B圖顯示的係為第一層31與第二層32之平均彈性模數關係為E2>E1之一情形。在此種情形中，因第二層32之應變程度大於第一層31之應變程度，故中性平面NP形成於第一層31中、位於該物體厚度方向上之中間位置之下。如上所述，中性平面NP之一形成位置可根據二彈性模數之值而有所變化。
因此，可藉由調整彈性調整層400之彈性模數而調整形成於顯示裝置10內之中性平面NP之一位置。
再次參照第1圖，顯示裝置10之上部模組300可厚於下部模組100，且因上部模組300中所包含之大部分組件皆具有一固定或預定之彈性模數及一固定厚度，故難以隨意改變上部模組300之彈性模數及厚度。
可能存在一如下方法：藉由增大下部模組100及上部模組300之厚度而將中性平面NP置於顯示模組200之區域中。然而，當下部模組100之厚度增加時，顯示裝置10之總體厚度亦增加，進而導致因彎曲而產生之應變增大。此可使顯示裝置10受損。
在本實施例中，引入彈性調整層400以將中性平面NP置於顯示模組200之區域中抑或鄰近或靠近顯示模組200之該區域，而不改變上部模組300及下部模組100之彈性模數及/或厚 度。
彈性調整層400亦可有助於吸收衝擊。彈性調整層400可設置於顯示模組200上。然而，本實施例並非僅限於此，且相反彈性調整層400可設置於顯示模組200之下。彈性調整層400可設置於鄰近或靠近顯示模組200處，且吸收可能會被施加至顯示模組200之衝擊。
一般而言，顯示模組200可包含複數種類型之無機膜。舉例而言，無機膜可被用作顯示面板22中之一緩衝層或用作封裝膜23。無機膜之一彈性模數處於數十十億帕至數百十億帕之數量級，因此，顯示模組200之彈性模數可處於數十十億帕至數百十億帕之數量級。因此，顯示模組200對衝擊或應變可係為略微脆弱的。因此，需要吸收可能會施加至顯示模組200之衝擊。
彈性調整層400所具有之一彈性模數可遠小於顯示模組200、上部模組300、及下部模組100之彈性模數。因此，彈性調整層400可吸收可能會施加至顯示模組200之衝擊。亦即，彈性調整層400可緩衝應變，並因此防止施加至顯示裝置10之應力影響顯示模組200。
在某些實施例中，彈性調整層400之彈性模數可較顯示模組200之彈性模數小106倍。在某些實施例中，彈性調整層400之彈性模數之值可係處於顯示模組200之彈性模數的約1×10-7倍至約0.6×10-6倍範圍內。在某些實施例中，彈性調整層400之彈性模數之值可係處於約10千帕至約150千帕之範圍內。
彈性調整層400可包含至少兩種具有不同彈性模數之材料。因此，彈性調整層400之彈性模數可根據其所包含材料之彈性模數之一比率而調整。舉例而言，藉由將彈性模數約為50千帕之一材料與彈性模數約為100千帕之一材料「一比一」地混合，可達成彈性模數約為75千帕之彈性調整層400。在某些實施例中，彈性調整層400可由複數個具有不同彈性模數之層形成。舉例而言，可藉由交替地堆疊彈性模數約為50千帕之一材料及彈性模數約為100千帕之一材料而形成彈性調整層400。
彈性調整層400可包含一矽酮族樹脂或一丙烯酸族樹脂。舉例而言，彈性調整層400可包含丙烯酸胺基甲酸酯(urethane acrylate)。彈性調整層400對可見光線可係為透明的。彈性調整層400可包含一具有足夠黏著性之材料，以使彈性調整層400發揮一黏著層之作用。
彈性調整層400之厚度可大約係為顯示模組200厚度之一倍至幾倍。在某些實施例中，彈性調整層400之厚度可處於顯示模組200之厚度的一倍至三倍之範圍內。然而，彈性調整層400之厚度並非僅限於此，且可對其作出各種修改，俾使中性平面NP位於顯示模組200之該區域中或鄰近該區域。
如上所述，藉由引入彈性調整層400，顯示裝置10之厚度可被最小化，且中性平面NP可經調整以位於顯示模組200之該區域中或鄰近該區域。換言之，藉由確定或固定上部模組300或下部模組100中所包含之各該單獨組件之彈性模數及厚度、以及調整彈性調整層400之彈性模數及厚度，中性平面NP可位於顯 示模組200之該區域中或鄰近該區域。
第4圖至第7圖係為例示根據本發明其他實施例之顯示裝置11、12、13、及14之結構之示意性剖視圖。在第4圖至第7圖中，與第1圖相同之參考編號表示相同之元件，因此為簡明起見，對其不再予以贅述。
參照第4圖，第4圖所示之顯示裝置11不同於第1圖所示之顯示裝置10之處在於：彈性調整層400設置於顯示模組200之下，而非設置於顯示模組200之上。亦即，彈性調整層400可設置於下部模組100與顯示模組200之間，因此中性平面NP可經調整以位於顯示模組200之該區域中或鄰近該區域。
參照第5圖，第5圖所示之顯示裝置12不同於第1圖所示之顯示裝置10之處在於：第一彈性調整層401與第二彈性調整層402係分別設置於顯示模組200之下與之上。亦即，第一彈性調整層401可設置於下部模組100與顯示模組200之間，且第二彈性調整層402可設置於顯示模組200與上部模組300之間。
第一彈性調整層401及第二彈性調整層402可與參照第1圖所述之彈性調整層400具有實質上相同之物理特性。亦即，各該第一彈性調整層401及第二彈性調整層402之一彈性模數小於各該顯示模組200、上部模組300、以及下部模組100之彈性模數。
第一彈性調整層401及第二彈性調整層402之彈性模數及厚度可有所變化。因此，中性平面NP可經調整以位於顯示 模組200之該區域中或鄰近該區域。
藉由分別在顯示模組200之下與之上設置第一彈性調整層401與第二彈性調整層402，可改良對可能施加至顯示模組200之衝擊之吸收。
參照第6圖，顯示裝置13之上部模組300包含：一觸控面板310、一黏著層330、以及一窗口350。上部模組300可更包含各種眾所習知之功能層，例如一保護膜等。
觸控面板310感測一觸控。觸控面板310可由複數層形成，例如：一觸控片材(touch sheet)，包含一觸控感測器，該觸控感測器中包含有複數個電極；一防反射片材；一噪聲阻擋片材等。該觸控感測器可感測能夠指示一觸控之一電容變化或其他特性變化。
黏著層330可用於將上部模組300之各組件組合起來，即將各組件耦合於一起。黏著層330可將觸控面板310與窗口350彼此附著於一起。黏著層330可包含一光學透明黏著劑(optical clear adhesive；OCA)。
窗口350可用於增大顯示裝置13之機械強度，並保護顯示裝置13之組件。窗口350可由容許光從其中穿過且係為撓性之一材料形成，例如：聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、聚醚碸(polyether sulfone；PES)、聚醯亞胺(polyimide；PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate；PMMA)等。
在某些實施例中，窗口350可更包含一觸控感測功能。在此種情形中，可省卻觸控面板310。
參照第7圖，顯示裝置14不同於第6圖所示之顯示裝置13之處在於：顯示模組200更包含一偏光板210。
偏光板210可防止外部光之反射。偏光板210可由包含一偏光層(圖中未示出)、用於支撐該偏光層之一支撐層(圖中未示出)等之複數層形成。
偏光層係用於將自一光源發出之入射光偏振成與一偏光軸相同方向之光。在某些實施例中，偏光層可由包含一偏光器及/或一二向色性染料(dichroic dye)之聚乙烯醇(polyvinyl alcohol；PVA)膜形成。該二向色性染料可包含碘分子及/或染料分子。
支撐層可支撐偏光層並用於補充該偏光層之一機械強度。
第8圖係為本發明各實施例可包含之一顯示器件之示意性剖視圖，且第9圖係為第8圖所示之區域F之放大圖。
顯示裝置10、11、12、13、及14、或依據其他實施例構造而成之其他顯示裝置可包含一有機發光器件OLED及一薄膜電晶體TR以作為一顯示器件。因此，顯示面板22可包含彼此分離或間隔開之複數個有機發光器件OLED及複數個薄膜電晶體TR。該等有機發光器件OLED及該等薄膜電晶體TR可形成於撓性基板21上。撓性基板21可由一玻璃材料、一塑膠材料、或一 金屬材料形成。
緩衝層211可形成於撓性基板21上。緩衝層211可包含一絕緣材料，以於撓性基板21上提供一實質上平坦之平面，並防止濕氣及異物滲入撓性基板21。
於緩衝層211上可形成一薄膜電晶體TR、一電容器(圖中未示出)、以及一有機發光器件OLED。薄膜電晶體TR可主要包含：一主動層212、一閘電極214、一源電極216、以及一汲電極217。有機發光器件OLED可包含：一第一電極221、一第二電極222、以及一中間層220。
詳言之，以一預定圖案形成之主動層212可設置於緩衝層211上。主動層212可包含一無機半導體材料(例如矽)、一有機半導體材料、或一氧化物半導體材料，且可藉由向其中注入一p型或n型摻雜劑而形成。
一閘極絕緣膜213可形成於主動層212上。閘電極214可形成於閘極絕緣膜213上以對應於主動層212。
一層間絕緣膜215可被形成為覆蓋閘電極214，且源電極216及汲電極217可形成於層間絕緣膜215上。在此種情形中，源電極216及汲電極217可被形成為接觸主動層212之一特定區域。
一平坦化膜218可被形成為覆蓋源電極216及汲電極217，且一附加絕緣膜可更形成於平坦化膜218上。
第一電極221可形成於平坦化膜218上。第一電極 221可被形成為經由一貫穿孔208電性連接至源電極216及汲電極217中之任一者。
一畫素界定膜219可被形成為局部地覆蓋第一電極221。於畫素界定膜219中形成一預定之開孔(aperture)之後，包含一有機發光層之中間層220可形成於由該預定開孔所限定之一區域內。畫素界定膜219可界定一畫素區域及一非畫素區域。亦即，畫素界定膜219之預定開孔可實質上係為畫素區域。
除有機發光層之外，中間層220可更包含一電洞注入層(hole injection layer；HIL)、一電洞傳輸層(hole transport layer；HTL)、一電子傳輸層(electron transport layer；ETL)、以及一電子注入層(electron injection layer；EIL)。
第二電極222可形成於中間層220上。可將每一畫素之第一電極221圖案化，且第二電極222可被形成為可施加一共用電壓至所有畫素。
儘管在第8圖中僅顯示一個有機發光器件OLED，但顯示裝置10可包含複數個有機發光器件OLED。可對每一有機發光器件OLED形成一個畫素，且可對每一畫素達成紅色、綠色、藍色、或白色、或其他所需顏色。
然而，本發明揭露內容並非僅限於此。無論每一畫素之位置如何，中間層220皆可共用地形成於整個(或實質上整個)平坦化膜218上方。在此種情形中，有機發光層可藉由例如垂直地堆疊或組合包含發出紅色光、綠色光、及藍色光之發光材 料的層而形成。當然，若欲發出白色光，則亦可採用其他顏色之一組合。可更包含一顏色轉換層(color conversion layer)或一濾色片(color filter)，用於將所發出之白色光轉換為一預定顏色。
一保護層223可設置於有機發光器件OLED及畫素界定膜219上，且可用於覆蓋並保護有機發光器件OLED。可利用一無機絕緣膜及/或一有機絕緣膜而形成保護層223。
封裝膜23可包含一無機膜24及一有機膜25，其中無機膜24可包含複數層無機膜24a、24b、及24c，且有機膜25可包含複數層有機膜25a、25b、及25c。儘管在第9圖顯示之結構中無機膜24與有機膜25交替地層壓，但本發明並非僅限於此，且亦涵蓋此等膜中任意順序之任意膜。
第10A圖至第10D圖係為依序例示根據本發明各實施例一種製造顯示裝置10、11、12、13、及14之方法之剖視圖。在本實施例中，闡述一種製造第1圖所示之顯示裝置10之方法作為一實例。
參照第10A圖，於一玻璃基板110上形成撓性基板21。撓性基板21可由具有良好耐熱性及耐用性之一塑膠材料形成，例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate；PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚芳酯(polyarylate；PAR)、聚醚醯亞胺(polyetherimide；PEI)、聚醚碸(PES)、聚醯亞胺(PI)等。
由一塑膠材料形成之撓性基板21在被施加熱量時具 有彎曲或延伸之特性，因此難以於撓性基板21上精確地形成一薄膜圖案，例如各種類型之電極或導電佈線。因此，在撓性基板21附著至玻璃基板110時，可隨後執行各種薄膜圖案形成製程。
然後，於撓性基板21上形成緩衝層211，且於緩衝層211上形成一薄膜電晶體TR及一有機發光器件OLED。接著，藉由於撓性基板21上形成封裝膜23以覆蓋有機發光器件OLED及薄膜電晶體TR而形成顯示模組200。
參照第10B圖，接著，於顯示模組200上形成彈性調整層400。彈性調整層400係根據下部模組100、顯示模組200、及上部模組300之彈性模數及厚度而被形成為具有一預定彈性模數及厚度。
為調整彈性調整層400之彈性模數，可以一預定比率來組合具有不同彈性模數之材料。作為另一選擇，彈性調整層400可由具有不同彈性模數之複數個層形成。
彈性調整層400可藉由噴墨印刷(inkjet printing)、狹縫模式塗布(slot die coating)、閃蒸(flash evaporation)等方法而塗覆或沈積。在某些實施例中，彈性調整層400可藉由熱及/或光而硬化。在某些實施例中，可藉由同時沈積具有不同彈性模數之材料而形成彈性調整層400。
參照第10C圖，於彈性調整層400上形成上部模組300，且使玻璃基板110自撓性基板21分離。
參照第10D圖，於撓性基板21之下形成下部模組 100以附著於下部模組100上。
根據上述製造方法，顯示裝置10、11、12、13、及14可具有改良之耐用性及更高之耐應變(例如彎曲)可靠性。
以下，將闡述根據本發明之一實施例執行之一試驗。表1例示下部模組100、顯示模組200、及上部模組300之厚度及彈性模數，而表2例示在減小彈性調整層400之彈性模數時之彎曲測驗結果。在此種情形中，彈性調整層400之厚度係為約50微米。
如上所述，在執行彎曲測驗時，當在約10千帕至約150千帕之一範圍內改變彈性調整層400之彈性模數時，顯示模組200中未出現裂隙。當彈性模數等於或大於200千帕時，則在顯示模組200中出現裂隙。
如上所述之一顯示裝置包含一其彈性模數可被設定之彈性調整層，以將包含一顯示器件之顯示模組之應變最小化。此外，彈性調整層之彈性模數易於調整，進而能夠輕易地調整顯示模組所承受之應變量。
因此，顯示裝置具有改良之耐用性來耐受在被施加應力或發生變形(例如彎曲等)期間產生之應變，且因此可靠性提高。
儘管已參照附圖闡述顯示裝置10、11、12、13、及14以及對應之顯示器件來幫助理解之，但此等裝置及器件僅係為例示性的，且此項技術中具有通常知識者應理解，在不背離由下文申請專利範圍所界定之本發明之精神與範圍之條件下可對其作出各種形式及細節上之變化。本發明之各實施例可包含對上述特徵中任意一者或多者之任意組合或排列。
10‧‧‧顯示裝置
21‧‧‧撓性基板
22‧‧‧顯示面板
23‧‧‧封裝膜
100‧‧‧下部模組
200‧‧‧顯示模組
300‧‧‧上部模組
400‧‧‧彈性調整層
NP‧‧‧中性平面

Claims (10)

  1. 一種顯示裝置，包含：一顯示模組，包含一撓性基板、一顯示面板及一封裝膜；一下部模組，設置於該顯示模組之下；一上部模組，設置於該顯示模組上；以及一彈性調整層，設置於該顯示模組上或該顯示模組之下，以在該顯示裝置彎曲時調整一中性平面(neutral plane)之一位置；其中該彈性調整層之一彈性模數(elastic modulus)小於該顯示模組、該下部模組、及該上部模組至少其中之一之一彈性模數，以將該中性平面定位於該顯示模組內或該顯示模組附近。
  2. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彈性調整層包含至少兩種具有不同彈性模數之材料。
  3. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彈性調整層包含由至少兩種具有不同彈性模數之材料形成之一堆疊。
  4. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彈性調整層包含一矽酮族(silicone-group)樹脂與一丙烯酸族(acryl-group)樹脂至少其中之一。
  5. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彈性調整層之該彈性模數係較該顯示模組之該彈性模數小約6個數量級。
  6. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彈性調整層之該彈性模數之值係處於該顯示模組之該彈性模數的約1×10-7倍至約0.6×10-6倍範圍內。
  7. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彈性調整層包含一黏著材料。
  8. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該彈性調整層之厚度之值係處於該顯示模組之厚度的約一倍至約三倍之範圍內。
  9. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該上部模組包含一觸控面板、一黏著層、及一窗口。
  10. 如請求項1所述之顯示裝置，其中該上部模組所具有之一厚度大於該下部模組之一厚度。
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