TW201331643A - 偏光膜形成用組合物及偏光膜 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種可製造薄型且具有高透明性之偏光膜的偏光膜形成用組合物及由該偏光膜形成用組合物所形成之偏光膜。本發明提供一種含有聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物、二色性色素、光聚合起始劑及溶劑，且滿足以下(A)及(B)之必要條件的偏光膜形成用組合物，以及由該偏光膜形成用組合物所形成之偏光膜。(A)聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物均具有聚合性基；(B)由偏光膜形成用組合物所獲得之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物不形成相分離狀態，且顯示出向列液晶相及層列液晶相。

Description

偏光膜形成用組合物及偏光膜
本發明係關於一種偏光膜形成用組合物、以及由該偏光膜形成用組合物所製造之偏光膜及其製造方法等。
近年來之液晶顯示裝置強烈要求其薄膜化，伴隨於此，該液晶顯示裝置所使用之偏光子亦要求更薄型者。為了實現更薄型之偏光子，對於液晶顯示裝置所使用之偏光膜，正在研究以由含有聚合性液晶化合物之組合物所形成者代替迄今為止之包含經碘染色之聚乙烯醇之膜。
作為由含有聚合性液晶化合物之組合物所形成之偏光膜，例如專利文獻1中揭示有一種僅由聚合性層列液晶化合物、二色性色素、光聚合起始劑及抑制劑所構成之偏光膜，又，專利文獻2中揭示有一種僅由聚合性液晶化合物、二色性色素、聚合起始劑、抑制劑、凝膠化劑及溶劑所構成之偏光膜。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4719156號公報
[專利文獻2]日本專利特表2008-547062號公報
然而，進一步要求偏光膜之薄型化及高透明化。
本發明之目的在於提供一種可製造薄型且具有高透明性 之偏光膜的偏光膜形成用組合物及由該偏光膜形成用組合物所形成之偏光膜。
本發明提供以下發明。
[1]一種偏光膜形成用組合物，其含有聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物、二色性色素、聚合起始劑及溶劑，且滿足以下(A)及(B)之必要條件：(A)聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物均具有聚合性基；(B)由偏光膜形成用組合物所獲得之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物不形成相分離狀態，且顯示出向列液晶相及層列液晶相；(以下將該等(A)及(B)之必要條件分別稱為「(必要條件A)」及「(必要條件B)」)。
[2]如[1]之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物係式(1)所表示之化合物：U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2(1)
(式中，X1、X2及X3相互獨立地表示可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基；其中，X1、X2及X3中之至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基；構成環己烷-1,4-二基之-CH2-可經-O-、-S-或-NR-取代；R表示碳數1~6之烷基或苯基；Y1及Y2相互獨立地表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa=N-；Ra及Rb相互獨立地表示氫原子或碳數1~4 之烷基；U1表示氫原子或聚合性基；U2表示聚合性基；W1及W2相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-；V1及V2相互獨立地表示可具有取代基之碳數1~20之烷二基，構成該烷二基之-CH2-可經-O-、-S-或-NH-取代)。
[3]如[1]或[2]之偏光膜形成用組合物，其中聚合性非液晶化合物為單官能丙烯酸酯或多官能丙烯酸酯。
[4]如[1]至[3]中任一項之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物所具有之聚合性基、與聚合性非液晶化合物所具有之聚合性基分別獨立為丙烯醯氧基(CH2=CHCOO-)或甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)COO-)。
[5]如[1]至[4]中任一項之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物所具有之聚合性基、與聚合性非液晶化合物所具有之聚合性基相同。
[6]如[1]至[5]中任一項之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物於分子內具有1~2個聚合性基，聚合性非液晶化合物於分子內具有2~6個聚合性基。
[7]如[1]至[6]中任一項之偏光膜形成用組合物，其中相對於聚合性液晶化合物100質量份，聚合性非液晶化合物之含量為3質量份以上且10質量份以下。
[8]一種偏光膜之製造方法，其包括以下(I)、(II)及(III)之步驟：(I)將如[1]至[7]中任一項之偏光膜形成用組合物塗佈於基材上或形成於基材上之配向膜上，去除溶劑而形成塗佈膜的步驟； (II)係使(I)中所形成之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物成為層列液晶相狀態的步驟；(III)於(II)中所形成之聚合性液晶化合物為層列液晶相狀態之塗佈膜中，使聚合性液晶化合物與聚合性非液晶化合物共聚合的步驟。
[9]如[8]之偏光膜之製造方法，其中基材為實施有配向處理之透明基材。
[10]如[8]或[9]之偏光膜之製造方法，其中(II)步驟係包括步驟(I-1)與步驟(I-2)之步驟，上述步驟(I-1)係進行加熱處理直至(I)步驟中所形成之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物顯示出向列液晶相為止，上述步驟(I-2)係使步驟(I-1)中所形成之該聚合性液晶化合物為向列液晶相狀態之塗佈膜冷卻直至該聚合性液晶化合物顯示出層列液晶相為止。
[11]一種偏光膜，其係藉由如[8]至[10]中任一項之製造方法所製造。
[12]如[11]之偏光膜，其於X射線之繞射測定中顯示出布拉格波峰。
[13]一種顯示裝置，其包含如[11]或[12]之偏光膜。
根據本發明之偏光膜形成用組合物，可製造薄型且高透明性之偏光膜。
<偏光膜形成用組合物>
本發明之偏光膜形成用組合物(以下有時稱為「本組合 物」)含有聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物、二色性色素、聚合起始劑及溶劑。藉由下述製造方法由本組合物所形成之偏光膜(以下有時稱為「本偏光膜」)可製造不僅適合於液晶顯示裝置、而且亦適合於有機EL顯示裝置之圓偏光板(以下有時稱為「本圓偏光板」)。首先，對本組合物加以說明。
<聚合性液晶化合物>
所謂本發明之聚合性液晶化合物，係指具有聚合性基且具備以下特性之液晶化合物：於由本組合物所形成之塗佈膜中不形成相分離狀態，且顯示出向列液晶相及層列液晶相。
由本組合物所形成之塗佈膜是否滿足(必要條件B)例如可以如下方式進行確認。於玻璃基材上塗佈本組合物，於聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物不聚合之條件下對所塗佈之本組合物進行加熱處理及/或減壓處理，藉此去除溶劑。繼而，對玻璃基材上所形成之塗佈膜進行加熱，確認該塗佈膜所含之聚合性液晶化合物是否不形成相分離且顯示出向列液晶相。繼而，使經加熱之塗佈膜緩慢地冷卻，確認該塗佈膜所含之聚合性液晶化合物是否於不形成相分離且顯示出層列液晶相。向列液晶相及層列液晶相之確認例如可藉由利用偏光顯微鏡之質構觀察、X射線繞射測定或示差掃描熱量測定而進行。相分離之形成之確認例如可藉由利用各種顯微鏡之表面觀察或利用霧度計(Haze Meter)之散射度測定而進行。
聚合性液晶化合物所顯示出之層列液晶相更佳為高次層列相。此處所謂高次層列相，係指層列B相、層列D相、層列E相、層列F相、層列G相、層列H相、層列I相、層列J相、層列K相及層列L相，其中，更佳為層列B相、層列F相及層列I相。若聚合性液晶化合物所顯示出之層列液晶相為該等高次層列相，則可製造配向有序度更高之本偏光膜。又，如此般配向有序度較高之本偏光膜於X射線繞射測定中可獲得來源於六角液相(六角液相)或結晶相等高次結構之布拉格波峰。
作為聚合性液晶化合物，較佳為自向列液晶相向層列液晶相進行相轉變之溫度為40~200℃之化合物，更佳為相轉變溫度為60~140℃之化合物。
作為較佳之聚合性液晶化合物，例如可列舉式(1)所表示之化合物(以下有時稱為「化合物(1)」)。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (1)
[式(1)中，X1、X2及X3相互獨立地表示可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基。其中，X1、X2及X3中之至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基。構成環己烷-1,4-二基之-CH2-可經-O-、-S-或-NR-取代。R表示碳數1~6之烷基或苯基。
Y1及Y2相互獨立地表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa=N-。Ra及Rb相互獨立地表示氫原子或碳數1~4之烷基。
U1表示氫原子或聚合性基。
U2表示聚合性基。
W1及W2相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-。
V1及V2相互獨立地表示可具有取代基之碳數1~20之烷二基，構成該烷二基之-CH2-可經-O-、-S-或-NH-取代]。
於化合物(1)中，較佳為X1、X2及X3中之至少2個為可具有取代基之1,4-伸苯基。
可具有取代基之1,4-伸苯基較佳為未經取代。可具有取代基之環己烷-1,4-二基較佳為可具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基，可具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基較佳為未經取代。
作為可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基所任意具有之取代基，可列舉：甲基、乙基及丁基等碳數1~4之烷基，氰基，鹵素原子等。
化合物(1)之Y1較佳為-CH2CH2-、-COO-或單鍵，Y2較佳為-CH2CH2-或-CH2O-。
U2為聚合性基。U1為氫原子或聚合性基，較佳為聚合性基。U1及U2較佳為均為聚合性基，較佳為均為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基，係指接受光之能量而參與聚合之基。具有光聚合性基之聚合性液晶化合物於可於更低溫條件下進行聚合之方面有利。作為光聚合性基，較佳為自由基聚合性基。所謂自由基聚合性基，意指藉由自下述聚合起始劑所產生之活性自由基而可參與聚合反應之基。
於化合物(1)中，U1及U2之聚合性基可互不相同，較佳為相同。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基及環氧丙烷基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基及乙烯氧基，更佳為丙烯醯氧基及甲基丙烯醯氧基。
作為V1及V2之烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及二十烷-1,20-二基等。V1及V2較佳為碳數2~12之烷二基，更佳為碳數6~12之烷二基。
作為可具有取代基之碳數1~20之烷二基所任意具有之取代基，可列舉氰基及鹵素原子等，該烷二基較佳為未經取代，更佳為未經取代且直鏈狀之烷二基。
W1及W2較佳為相互獨立為單鍵或-O-。
作為化合物(1)之具體例，可列舉式(1-1)~式(1-23)分別所表示之化合物等。於該化合物(1)之具體例具有環己烷-1,4-二基之情形時，該環己烷-1,4-二基較佳為反式體。
聚合性液晶化合物可單獨或混合2種以上而用於本組合物中。於混合2種以上之情形時，較佳為至少1種為化合物(1)，更佳為2種以上為化合物(1)。作為混合2種聚合性液晶化合物之情形時之混合比，通常為1：99~50：50，較佳為5：95~50：50，更佳為10：90~50：50。
本組合物之聚合溫度通常為聚合性液晶化合物之層列相轉變溫度以下。本組合物之聚合溫度可藉由調整本組合物所含之成分而控制。較佳為預先求出聚合性液晶化合物之層列相轉變溫度，調整聚合性液晶化合物以外之成分以使本組合物於低於該相轉變溫度之溫度條件下聚合。於本組合物包含2種以上之聚合性液晶化合物之情形時，求出該2種以上之聚合性液晶化合物之混合物之層列相轉變溫度，以相同之方式進行控制。
於所例示之化合物(1)中，較佳為式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)、式(1-6)、式(1-7)、式(1-8)、式(1-13)、式(1-14)及式(1-15)所表示之化合物。該等化合物藉由與其他聚合性 液晶化合物、或聚合性非液晶化合物之相互作用，可容易地於層列相轉變溫度以下之溫度條件下、即充分保持高次層列相之液晶狀態之情況下進行聚合。
相對於本組合物之固形物成分100質量份，本組合物中之聚合性液晶化合物之含有比例通常為70~99.5質量份，較佳為80~99質量份，更佳為80~94質量份，進而較佳為80~90質量份。若化合物(1)之含有比例處於上述範圍內，則存在下述化合物(2)之配向性變高之傾向而較佳。此處，所謂固形物成分，係自本組合物中去掉溶劑所得之成分之合計量。
聚合性液晶化合物可利用例如Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)、或日本專利第4719156號等中記載之公知方法而製造。
<聚合性非液晶化合物>
所謂本發明之聚合性非液晶化合物，意指具有聚合性基、且即便溫度變化亦於固體與液體之間不具有液晶狀態的化合物。
聚合性非液晶化合物較佳為(i)其自身並無著色(對可見光之吸收)，(ii)具有與聚合性液晶化合物均勻混合之程度之相溶性，且(iii)不會妨礙聚合性液晶化合物所顯示出之液晶狀態之形成。
作為聚合性非液晶化合物，可列舉單官能丙烯酸酯及多官能丙烯酸酯。所謂單官能，意指具有1個聚合性基，所謂多官能，意指具有複數個聚合性基。就聚合性液晶化合 物與聚合性非液晶化合物之聚合反應連續地進行之方面而言，較佳為多官能丙烯酸酯。聚合性非液晶化合物所具有之聚合性基之個數較佳為1個~6個，更佳為2個~6個。
聚合性非液晶化合物所具有之聚合性基較佳為與聚合性液晶化合物所具有之聚合性基相同。
再者，於選自聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物中之至少一化合物具有複數種聚合性基之情形時，較佳為聚合性液晶化合物所具有之至少1個聚合性基、與聚合性非液晶化合物所具有之至少1個聚合性基相同。
作為更佳之聚合性非液晶化合物，可列舉具有上述(i)、(ii)及(iii)之特徵，且分子內具有1個~6個、較佳為2個~6個聚合性基的單官能丙烯酸酯及多官能丙烯酸酯。再者，該單官能丙烯酸酯及多官能丙烯酸酯由於為非液晶性，故較佳為不具有液晶原基結構者。又，亦可於不擾亂由本組合物所獲得之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物之向列液晶相及層列液晶相之範圍內，於分子內含有胺基甲酸酯結構、胺基結構、環氧結構、乙二醇結構及聚酯結構。
聚合性非液晶化合物可單獨或混合2種以上而用於本組合物中。
所謂單官能丙烯酸酯，係指分子內具有1個選自由丙烯醯氧基(CH2=CH-COO-)及甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)-COO-)所組成之群中之基(以下有時亦記作(甲基)丙烯醯氧基)的化合物。於聚合性非液晶化合物為單官能丙烯酸酯之情形時，聚合性液晶化合物亦較佳為具有(甲基)丙烯醯 氧基。
作為具有1個(甲基)丙烯醯氧基之單官能丙烯酸酯，可列舉：碳數4~16之(甲基)丙烯酸烷基酯、碳數2~14之(甲基)丙烯酸-β-羧基烷基酯、碳數2~14之(甲基)丙烯酸烷基化苯酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸異酯等。
所謂多官能丙烯酸酯，通常係指分子內具有2個~6個(甲基)丙烯醯氧基之化合物。於聚合性非液晶化合物為多官能丙烯酸酯之情形時，聚合性液晶化合物亦較佳為具有(甲基)丙烯醯氧基。
作為具有2個(甲基)丙烯醯氧基之2官能丙烯酸酯，可例示：1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、雙酚A之雙(丙烯醯氧基乙基)醚、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及3-甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作為具有3個~6個(甲基)丙烯醯氧基之多官能丙烯酸酯，可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三(2-羥基乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥 甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；己內酯改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性三(2-羥基乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物、己內酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物、及己內酯改性三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物等。再者，於此處所示之多官能丙烯酸酯之具體例中，所謂(甲基)丙烯酸酯，意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。又，所謂己內酯改性，意指於(甲基)丙烯酸酯化合物之來源於醇之部位與(甲基)丙烯醯氧基之間導入己內酯之開環體、或開環聚合 物。
該多官能丙烯酸酯亦可使用市售品。
作為該市售品，可列舉：A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT(新中村化學股份有限公司製造)，「ARONIX M-220」、「ARONIX M-325」、「ARONIX M-240」、「ARONIX M-270」「ARONIX M-309」「ARONIX M-310」、「ARONIX M-321」、「ARONIX M-350」、「ARONIX M-360」、「ARONIX M-305」、「ARONIX M-306」、「ARONIX M-450」、「ARONIX M-451」、「ARONIX M-408」、「ARONIX M-400」、「ARONIX M-402」、「ARONIX M-403」、「ARONIX M-404」、「ARONIX M-405」、「ARONIX M-406」(東亞合成股份有限公司製造)，「EBECRYL 11」、「EBECRYL 145」、「EBECRYL 150」、「EBECRYL 40」、「EBECRYL 140」、「EBECRYL 180」、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYL系列(Daicel-Cytec股份有限公司製造)等。
作為較佳之多官能丙烯酸酯，可列舉下述式(4-1)~(4-14)分別所表示之化合物。
相對於本組合物之總質量，本組合物中之聚合性非液晶化合物之含量通常為0.1~20質量%，較佳為1~10質量%，更佳為3~7質量%。相對於本組合物之固形物成分100質量份，更佳為0.1~19質量份，進而更佳為1~15質量份，尤佳為4~10質量份。進而相對於聚合性液晶化合物100重量份，特佳為3質量份以上且10質量份以下。若聚合性非液晶化合物之含量處於上述範圍內，則可於不擾亂由本組合 物所獲得之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物之配向性的情況下，使本組合物中之聚合性成分(聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物)共聚合，因此較佳。上述含量亦取決於聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物各自之種類，若聚合性非液晶化合物之含量大於上述範圍，則存在本偏光膜之透明性下降之傾向而欠佳。
<二色性色素>
所謂二色性色素，係指具有分子之長軸方向上之吸光度、與短軸方向上之吸光度不同的性質之色素。只要為具有此種性質者，則二色性色素可為染料亦可為顏料，又，亦可為複數種化合物之混合物。
作為上述二色性色素，較佳為於300~700 nm之範圍內具有最大吸收波長(λMAX)者。作為此種二色性色素，例如可列舉：吖啶色素、色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等，其中，較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉：單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及二苯乙烯偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素。
作為偶氮色素，例如可列舉式(2)所表示之化合物(以下有時稱為「化合物(2)」)。
A1(-N=N-A2)p-N=N-A3 (2)
[式(2)中，A1及A3相互獨立地表示可具有取代基之苯基、可具有取代基之萘基或可具有取代基之1價雜環基。A2表示可具有 取代基之對伸苯基、可具有取代基之萘-1,4-二基或可具有取代基之2價雜環基。P表示1~4之整數。於p為2以上之整數之情形時，複數個A2可彼此相同亦可不同]。
作為1價雜環基，可列舉自喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、唑及苯并唑等雜環化合物中去掉1個氫原子所得之基。自雜環化合物中去掉2個氫原子所得之基相當於2價雜環基，該雜環化合物之具體例如上所述。
作為A1及A3中之苯基、萘基及1價雜環基、以及A2中之對伸苯基、萘-1,4-二基及2價雜環基所任意具有之取代基，可列舉：碳數1~4之烷基；甲氧基、乙氧基及丁氧基等碳數1~4之烷氧基；三氟甲基等碳數1~4之氟烷基；氰基；硝基；鹵素原子；胺基、二乙胺基及吡咯啶基等經取代或未經取代之胺基(所謂經取代之胺基，意指具有1個或2個碳數1~6之烷基的胺基、或者2個取代烷基相互鍵結而形成碳數2~8之烷二基的胺基；未經取代之胺基為-NH2)。再者，碳數1~6之烷基之具體例與化合物(1)之伸苯基等所任意具有之取代基中所例示者相同。
於化合物(2)中，較佳為以下式(2-1)~式(2-6)分別所表示之化合物。
[式(2-1)~(2-6)中，B1~B20相互獨立地表示氫原子、碳數1~6之烷基、碳數1~4之烷氧基、氰基、硝基、經取代或未經取代之胺基(經取代之胺基及未經取代之胺基之定義如上所述)、氯原子或三氟甲基。
n1~n4相互獨立地表示0~3之整數。
於n1為2以上之情形時，複數個B2可彼此相同亦可不同， 於n2為2以上之情形時，複數個B6可彼此相同亦可不同，於n3為2以上之情形時，複數個B9可彼此相同亦可不同，於n4為2以上之情形時，複數個B14可彼此相同亦可不同]。
作為上述蒽醌色素，較佳為式(2-7)所表示之化合物。
[式(2-7)中，R1~R8相互獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子。
Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基]。
作為上述色素，較佳為式(2-8)所表示之化合物。
[式(2-8)中，R9~R15相互獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子。
Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基]。
作為上述吖啶色素，較佳為式(2-9)所表示之化合物。
[式(2-9)中，R16~R23相互獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子。
Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基]。
作為式(2-7)、式(2-8)及式(2-9)中之Rx所表示之碳數1~4之烷基，可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基等，作為碳數6~12之芳基，可列舉苯基、甲苯甲醯基、二甲苯基及萘基等。
作為上述花青色素，較佳為式(2-10)所表示之化合物及式(2-11)所表示之化合物。
[式(2-10)中，D1及D2相互獨立地表示式(2-10a)~式(2-10d)中之任一者所表示之基。
n5表示1~3之整數]。
[式(2-11)中，D3及D4相互獨立地表示式(2-11a)~式(2-11h)中之任一者所表示之基。
n6表示1~3之整數]。
相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，本組合物中之二色性色素之含量較佳為0.1質量份以上且30質量份以下，更佳為0.1質量份以上且20質量份以下，進而較佳為0.1質量份以上且10質量份以下，尤佳為0.1質量份以上且5質量份以下。若二色性色素之含量處於該範圍內，則可於不擾亂由本組合物所獲得之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物之配向的情況下，使該聚合性液晶化合物與聚合性非液晶化合物進行聚合，因此較佳。若二色性色素之含量過多，則存在妨礙聚合性液晶化合物之配向之虞。因此，亦可於聚合性液晶化合物能保持液晶狀態之範圍內決定二色性色素之含量。
二色性色素可使用市售者。
<聚合起始劑>
本組合物含有聚合起始劑。該聚合起始劑係可引發聚合性液晶化合物等之聚合反應之化合物。作為聚合起始劑，較佳為可藉由光之作用而產生活性自由基之光聚合起始劑。
作為聚合起始劑，例如可列舉：安息香化合物、二苯基酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三化合物、錪鹽及鋶鹽等。
作為安息香化合物，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚及安息香異丁醚等。
作為二苯基酮化合物，例如可列舉：二苯基酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯基酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3',4,4'-四(第三丁基過氧化羰基)二苯基酮及2,4,6-三甲基二苯基酮等。
作為烷基苯酮化合物，例如可列舉：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-啉基-1-(4-甲基噻吩基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之低聚物等。
作為醯基氧化膦化合物，可列舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。
作為三化合物，例如可列舉：2,4-雙(三氯甲基)-6-(4- 甲氧基苯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三及2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三等。
聚合起始劑可使用市售者。作為市售之聚合起始劑，可列舉：「Irgacure 907」、「Irgacure 184」、「Irgacure 651」、「Irgacure 819」、「Irgacure 250」、「Irgacure 369」(Ciba-Japan(股))；「Seikuol BZ」、「Seikuol Z」、「Seikuol BEE」(精工化學(股))；「Kayacure BP100」(日本化藥(股))；「Kayacure UVI-6992」(DOW公司製造)；「Adeka Optomer SP-152」、「Adeka Optomer SP-170」(ADEKA(股))；「TAZ-A」、「TAZ-PP」(Nihon SiberHegner公司)；及「TAZ-104」(SANWA CHEMICAL公司)等。
本組合物中之聚合起始劑之含量可根據聚合性液晶化合物之種類及其量而適當調節，通常相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份而為0.1~30質量份。較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。若聚合起始劑之含量處於該範圍內，則可於不擾亂由本組合物所獲得之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物之配向的情況下，使聚合性液晶化合物與聚合性非液晶化合物共聚合，因此較佳。
<溶劑>
本組合物含有溶劑。作為溶劑，較佳為可使聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物及二色性色素完全溶解之溶劑。又，較佳為對本組合物中之聚合反應表現出非活性之溶劑。
作為溶劑，可列舉：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；及氯仿及氯苯等含氯溶劑等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合使用複數種。
相對於本組合物之總量，溶劑之含量較佳為50~98質量%。換言之，本組合物中之固形物成分較佳為2~50質量%。若固形物成分為2質量%以上，則存在易獲得本偏光膜之傾向而較佳。又，若該固形物成分為50質量%以下，則存在以下傾向而較佳：本組合物之黏度變低，故本偏光膜之厚度變得大致均勻，藉此本偏光膜不易產生不均。又，該固形物成分可考慮到所欲製造之本偏光膜之厚度而決定。
本組合物亦可含有上述成分以外之成分，作為該成分，尤其可列舉控制聚合性液晶化合物等之聚合反應之聚合反 應助劑。
<聚合反應助劑>
本組合物可進而含有增感劑。作為增感劑，較佳為光增感劑。作為該增感劑，例如可列舉：酮及9-氧硫等酮化合物(例如2,4-二乙基-9-氧硫、2-異丙基-9-氧硫等)；蒽及含烷氧基之蒽(例如二丁氧基蒽等)等蒽化合物；酚噻及紅螢烯等。
於本組合物含有增感劑之情形時，可進一步促進本組合物所含之聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物之聚合反應。相對於聚合性液晶化合物之合計100質量份，該增感劑之使用量較佳為0.1~30質量份，更佳為0.5~10質量份，進而較佳為0.5~8質量份。
為了使聚合反應穩定地進行，亦可使本組合物中適當含有聚合抑制劑。藉由含有聚合抑制劑，可對聚合性液晶化合物之聚合反應及聚合性非液晶化合物之聚合反應之進行程度進行控制。
作為上述聚合抑制劑，例如可列舉：對苯二酚、含烷氧基之對苯二酚、含烷氧基之鄰苯二酚(例如丁基鄰苯二酚等)、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧自由基等自由基捕捉劑；苯硫酚類；β-萘胺類及β-萘酚類等。
於使本組合物中含有聚合抑制劑之情形時，關於其含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，聚合抑制劑之含量較佳為0.1~30質量份，更佳為0.5~10質量份，進而較佳為0.5~8質量份。若聚合抑制劑之含量處於該範圍內， 則可於不擾亂該偏光膜形成用組合物所含之聚合性液晶化合物之配向的情況下進行聚合，因此可使該聚合性液晶化合物於更良好地保持液晶狀態之情況下聚合。
<勻平劑>
本組合物較佳為含有勻平劑。所謂該勻平劑，係指具有調整本組合物之流動性、使塗佈本組合物所獲得之塗佈膜變得更平坦的功能者，可列舉界面活性劑等。該勻平劑更佳為選自由以聚丙烯酸酯化合物為主成分之勻平劑及以含氟原子之化合物為主成分之勻平劑所組成之群中之至少1種。再者，此處所謂聚丙烯酸酯化合物係不具有聚合性基者。
作為以聚丙烯酸酯化合物為主成分之勻平劑，可列舉：「BYK-350」、「BYK-352」、「BYK-353」、「BYK-354」、「BYK-355」、「BYK-358N」、「BYK-361N」、「BYK-380」、「BYK-381」及「BYK-392」[BYK Chemie公司]等。
作為以含氟原子之化合物為主成分之勻平劑，可列舉：「MEGAFAC R-08」、「MEGAFAC R-30」、「MEGAFAC R-90」、「MEGAFAC F-410」、「MEGAFAC F-411」、「MEGAFAC F-443」、「MEGAFAC F-445」、「MEGAFAC F-470」、「MEGAFAC F-471」、「MEGAFAC F-477」、「MEGAFAC F-479」、「MEGAFAC F-482」及「MEGAFAC F-483」[DIC(股)]；「Surflon S-381」、「Surflon S-382」、「Surflon S-383」、「Surflon S- 393」、「Surflon SC-101」、「Surflon SC-105」、「KH-40」及「SA-100」[AGC Seimi Chemical(股)]；「E1830」、「E5844」[Daikin Fine Chemical研究所(股)]；「Eftop EF301」、「Eftop EF303」、「Eftop EF351」及「Eftop EF352」[Mitsubishi Materials Electronic Chemicals(股)]等。
於本組合物含有勻平劑之情形時，相對於聚合性液晶化合物100質量份，其含量較佳為0.3質量份以上且5質量份以下，更佳為0.5質量份以上且3質量份以下。若勻平劑之含量處於上述之範圍內，則存在易使聚合性液晶化合物水平配向、且所獲得之本偏光膜變得更平滑的傾向，因此較佳。若勻平劑相對於聚合性液晶化合物之含量超過上述範圍，則存在所獲得之本偏光膜易產生不均之傾向而欠佳。再者，本組合物可含有2種以上之勻平劑。
<本偏光膜之形成方法>
其次，對由本組合物形成本偏光膜之方法加以說明。首先，將本組合物塗佈於基材上或形成於基材上之配向膜上。較佳為塗佈於形成於基材上之配向膜上。作為基材，較佳為透明基材。
<透明基材>
所謂透明基材，係具有可使光、尤其是可見光透過之程度之透明性的基材。所謂該透明性，係指對波長遍及380~780 nm之光線之透過率為80%以上之特性。具體而言，若例示該透明基材，則可列舉玻璃基材或塑膠基材。 再者，作為構成塑膠基材之塑膠，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、降烯系聚合物等聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及丙酸乙酸纖維素等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等塑膠。其中，就可容易地自市場上獲得、或透明性優異之方面而言，尤佳為纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯。就於使用該透明基材製造本偏光膜之情形時，於搬運或保管該透明基材時不會引起破碎等破損而易於操作的方面而言，可預先於該透明基材上貼附支撐基材等。又，有於由本偏光膜製造圓偏光板時對塑膠基材賦予相位差性之情況，將於下文進行說明。於該情形時，只要藉由延伸處理等對塑膠基材賦予相位差性即可。再者，對透明基材賦予相位差性之方法將於下文中進行說明。
纖維素酯係纖維素所含之羥基之至少一部分經乙酸酯化而成者。包含此種纖維素酯之纖維素酯膜可容易地自市場上獲得。作為市售之三乙酸纖維素膜，例如有「Fujitac Film」(富士軟片(股))；「KC8UX2M」、「KC8UY」及「KC4UY」(Konica Minolta Opto(股))等。此種市售三乙酸纖維素膜可直接或視需要賦予相位差性後用作透明基材。又，亦可對所準備之透明基材之表面實施防眩處理、硬塗處理、抗靜電處理或抗反射處理等表面處理後用作透 明基材。
所謂環狀烯烴系樹脂，例如係指由降烯或多環降烯系單體等環狀烯烴之聚合物或共聚物(環狀烯烴系樹脂)所構成者，該環狀烯烴系樹脂可局部地含有開環部。又，亦可為將含有開環部之環狀烯烴系樹脂氫化而成者。進而，就不明顯損及透明性之方面、或不明顯增大吸濕性之方面而言，該環狀烯烴系樹脂亦可為例如環狀烯烴與鏈狀烯烴或乙烯基化芳香族化合物(苯乙烯等)之共聚物。又，該環狀烯烴系樹脂亦可於其分子內導入極性基。
於環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物之共聚物的情形時，作為該鏈狀烯烴，為乙烯或丙烯等，又，作為乙烯基化芳香族化合物，為苯乙烯、α-甲基苯乙烯及經烷基取代之苯乙烯等。於此種共聚物中，相對於環狀烯烴系樹脂之所有結構單元，來源於環狀烯烴之結構單元之含有比例為50莫耳%以下，例如為15~50莫耳%左右之範圍。於環狀烯烴系樹脂為由環狀烯烴、鏈狀烯烴及乙烯基化芳香族化合物所獲得之三元共聚物的情形時，例如相對於該環狀烯烴系樹脂之總結構單元，來源於鏈狀烯烴之結構單元之含有比例為5~80莫耳%左右，來源於乙烯基化芳香族化合物之結構單元之含有比例為5~80莫耳%左右。此種三元共聚物之環狀烯烴系樹脂具有於製造該環狀烯烴系樹脂時可相對減少昂貴之環狀烯烴之使用量的優點。
環狀烯烴系樹脂可容易地自市場上獲得。作為市售之環 狀烯烴系樹脂，可列舉：「Topas」[Ticona公司(德)]；「ARTON」[JSR(股)]；「ZEONOR」及「ZEONEX」[日本ZEON(股)]；「APEL」[三井化學(股)製造]等。可藉由例如溶劑澆鑄法或熔融擠出法等公知之製膜方法將此種環狀烯烴系樹脂製膜而形成膜(環狀烯烴系樹脂膜)。又，亦可使用已以膜之形態市售之環狀烯烴系樹脂膜。作為上述市售之環狀烯烴系樹脂膜，例如可列舉：「S-SINA」及「SCA40」[積水化學工業(股)]；「ZEONOR膜」[Optronics(股)]；「ARTON膜」[JSR(股)]等。
繼而，簡單說明對塑膠基材賦予相位差性之方法。塑膠基材可藉由公知之延伸方法而賦予相位差性。例如準備將塑膠基材捲取於輥上而成之卷(捲取體)，自該捲取體連續地捲出塑膠基材，將所捲出之塑膠基材搬送至加熱爐內。加熱爐之設定溫度係設定為塑膠基材之玻璃轉移溫度附近(℃)~[玻璃轉移溫度+100](℃)之範圍，較佳為設定為玻璃轉移溫度附近(℃)~[玻璃轉移溫度+50](℃)之範圍。於該加熱爐中，於沿塑膠基材之進行方向、或與進行方向正交之方向延伸時，調整搬送方向或張力，朝任意之角度傾斜而進行單軸或雙軸之熱延伸處理。延伸之倍率通常為1.1~6倍左右之範圍，較佳為1.1~3.5倍左右之範圍。又，作為沿傾斜方向延伸之方法，只要為可使配向軸連續地向所需之角度傾斜者則並無特別限定，可採用公知之延伸方法。上述延伸方法可列舉例如日本專利特開昭50-83482號公報或日本專利特開平2-113920號公報中所記載之方法。
就重量為實用上可操作之程度之方面、及可確保充分之透明性之方面而言，透明基材之厚度較佳為較薄，但若過薄，則存在強度下降、加工性較差之傾向。玻璃基材之適當厚度例如為100~3000 μm左右，較佳為100~1000 μm。塑膠基材之適當厚度例如為5~300 μm左右，較佳為20~200 μm。於將本偏光膜用作下述圓偏光板之情形時，尤其是用作行動機器用途之圓偏光板之情形時之透明基材之厚度較佳為更薄，玻璃基材之情形時之厚度較佳為100~500 μm左右，塑膠基材之情形時之厚度較佳為20~100 μm左右。再者，於藉由進行延伸而對塑膠基材賦予相位差性之情形時，延伸後之厚度係根據延伸前之厚度或延伸倍率而決定。
<配向膜>
於製造本偏光膜所使用之基材上，較佳為形成配向膜。於該情形時，本組合物係塗佈於配向膜上。因此，該配向膜較佳為具有不會因本組合物之塗佈等而溶解之程度之耐溶劑性。又，較佳為具有於用以去除溶劑或使液晶配向之加熱處理中之耐熱性。作為該配向膜，可使用配向性聚合物而形成。
作為上述配向性聚合物，例如可列舉：分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺及作為其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚唑、聚伸乙亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯啶酮、聚丙烯酸或聚丙烯酸酯類等聚合物。該等之 中，較佳為聚乙烯醇。形成配向膜之該等配向性聚合物可單獨使用，亦可混合使用2種以上。
配向性聚合物係以溶解於溶劑中之配向性聚合物組合物(包含配向性聚合物之溶液)之形式塗佈於基材上，藉此可於該基材上形成配向膜。作為該溶劑，可列舉：水；甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基賽路蘇、丁基賽路蘇及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等經氯取代之烴溶劑等。該等有機溶劑可單獨使用，亦可組合使用複數種。
又，作為用以形成配向膜之配向性聚合物組合物，亦可直接使用市售之配向膜材料。作為市售之配向膜材料，可列舉：Sunever(註冊商標，日產化學工業(股)製造)或Optomer(註冊商標，JSR(股)製造)等。
作為於上述基材上形成配向膜之方法，例如可於上述基材上塗佈上述配向性聚合物組合物或市售之配向膜材料，其後進行退火，藉此於上述基材上形成配向膜。如此所獲得之配向膜之厚度例如為10 nm~10000 nm之範圍，較佳為10 nm~1000 nm之範圍。
為了對上述配向膜賦予配向限制力，較佳為視需要進行 摩擦(摩擦法)。藉由賦予配向限制力而可使聚合性液晶化合物朝所需之方向配向。
作為藉由摩擦法賦予配向限制力之方法，例如可列舉如下方法：準備纏繞有摩擦布並旋轉之摩擦輥，將基材上形成有配向膜形成用塗佈膜之積層體載置於台上，向旋轉之摩擦輥搬送，藉此使該配向膜形成用塗佈膜與旋轉之摩擦輥接觸。
又，亦可利用所謂光配向膜。所謂光配向膜，通常係指將包含具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑之組合物(以下有時稱為「光配向層形成用組合物」)塗佈於基材上，藉此於基材上形成光配向誘發層，藉由照射偏光(較佳為偏光UV)而對光配向誘發層賦予配向限制力，形成光配向層之配向膜。所謂光反應性基，係指藉由照射光(光照射)而產生液晶配向能力之基。具體而言，係指發生如藉由照射光所引起之分子之配向誘發或異構化反應、二聚反應、光交聯反應或者光分解反應之類的成為液晶配向能力之起源之光反應者。該光反應性基之中，引起二聚反應或光交聯反應者就配向性優異、保持偏光膜形成時之層列液晶狀態的方面而言較佳。作為可引起如上所述之反應之光反應性基，較佳為具有不飽和鍵、尤其是雙鍵者，尤佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群中之至少一個之基。
作為具有C=C鍵之光反應性基，例如可列舉：乙烯基、 多烯基、二苯乙烯基、二苯乙烯唑基、二苯乙烯唑鎓基、查爾酮基及桂皮醯基等。作為具有C=N鍵之光反應性基，可列舉具有芳香族希夫鹼及芳香族腙等結構之基。作為具有N=N鍵之光反應性基，可列舉：偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基及甲臢基等，或以偶氮氧基苯為基本結構者。作為具有C=O鍵之光反應性基，可列舉：二苯基酮基、香豆素基、蒽醌基及順丁烯二醯亞胺基等。該等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基及鹵化烷基等取代基。
其中，較佳為可引起光二聚反應之光反應性基，桂皮醯基及查爾酮基由於易獲得光配向所需之偏光照射量相對較少、且熱穩定性或經時穩定性優異的光配向層，故較佳。進而言之，作為具有光反應性基之聚合物，尤佳為該聚合物側鏈之末端部具有如形成桂皮酸結構之桂皮醯基者。
作為光配向層形成用組合物之溶劑，較佳為溶解具有光反應性基之聚合物及單體者，作為該溶劑，例如可列舉上述配向性聚合物組合物中所使用之溶劑。
相對於光配向層形成用組合物，具有光反應性基之聚合物或單體之濃度可根據該具有光反應性基之聚合物或單體之種類或所欲製造之光配向膜之厚度而適當調節，以固形物成分濃度表示，較佳為至少設定為0.2質量%，尤佳為0.3~10質量%之範圍。又，該組合物亦可於不明顯損及光配向膜之特性之範圍內含有聚乙烯醇或聚醯亞胺等高分子材料或光增感劑。
作為於基材上塗佈光配向層形成用組合物之方法，可採用旋轉塗佈法、擠壓塗佈法、凹版塗佈法、模塗法、棒塗法及敷料器法等塗佈法，或柔版印刷法等印刷法等公知之方法。再者，於藉由下述卷對卷形式之連續性製造方法實施本偏光膜製造之情形時，該塗佈方法通常係採用凹版塗佈法、模塗法或柔版印刷法等印刷法。
再者，若於進行摩擦或偏光照射時進行遮蔽，則亦可形成配向方向不同之複數個區域(圖案)。
<本偏光膜之製造方法>
於上述基材上或形成於基材上之配向膜上塗佈本組合物並去除溶劑而獲得塗佈膜。作為塗佈之方法(塗佈方法)，例如可列舉與作為於基材上塗佈配向性聚合物或光配向層形成用組合物之方法所例示者相同之方法。
繼而，於塗佈膜中所含之聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物不聚合之條件下去除溶劑，藉此形成塗佈膜。作為去除方法，例如可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。繼而，使該塗佈膜所含之聚合性液晶組合物成為顯示出層列液晶相之狀態。於該情形時，較佳為發揮該聚合性液晶化合物之特性而使其液晶狀態成為向列液晶相後，使該向列液晶相轉變為層列液晶相。為了如此般使液晶相轉變，採用如下方法：首先加熱至塗佈膜所含之聚合性液晶化合物顯示出向列液晶相之溫度以上，繼而冷卻至該聚合性液晶化合物顯示出層列液晶相之溫度為止。
如此般塗佈膜中之聚合性液晶化合物顯示出層列液晶相或向列液晶相之溫度只要如上所述般預先藉由使用本組合物之質構觀察等求出即可。
於使聚合性液晶化合物與聚合性非液晶化合物聚合時，為了使聚合性液晶化合物良好地保持層列液晶相，較佳為使用包含2種以上之聚合性液晶化合物作為該聚合性液晶化合物之本組合物。若使用該2種以上之聚合性液晶化合物之含量比經調整之本組合物，則有以下優點：於經由向列液晶相而形成層列液晶相後，既便於原本顯示結晶相之溫度下，亦可暫時形成過冷卻狀態，易保持高次層列相之液晶狀態。含有2種聚合性液晶化合物之情形時之2種聚合性液晶化合物之含量比通常為1：99~50：50，較佳為5：95~50：50，更佳為10：90~50：50。
繼而，對聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物之聚合步驟加以說明。
使塗佈膜中之聚合性液晶化合物成為層列液晶相後，於保持該層列液晶相之狀態下對塗佈膜照射能量，藉此使聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物聚合。由於本組合物含有聚合起始劑，故較佳為照射使聚合起始劑活化之條件之能量，作為較佳之能量，可列舉光。作為所照射之光，可根據該塗佈膜所含之聚合起始劑之種類、或聚合性液晶化合物與聚合性非液晶化合物之種類(尤其是該聚合性液晶化合物所具有之聚合基之種類)及其量，而適當藉由選自由可見光、紫外光及雷射光所組成之群中之光或活 性電子束而進行。該等之中，就易於控制聚合反應之進行之方面、或作為聚合之裝置而可使用該領域中所廣泛採用者之方面而言，較佳為紫外光。因此，較佳為預先選擇本組合物所含之聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物及聚合起始劑之種類以可藉由紫外光進行聚合。又，於聚合時，亦可於照射紫外光之同時利用適當之冷卻方法冷卻塗佈膜，藉此控制聚合溫度。若可藉由採用此種冷卻方法於更低溫度下實施聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物之聚合，則亦有以下優點：即便上述基材使用耐熱性相對較低者，亦可適當形成本偏光膜。再者，於聚合時，亦可藉由進行遮蔽或顯影等而獲得經圖案化之本偏光膜。
藉由進行如上所述之聚合，上述聚合性液晶化合物於保持層列相、較佳為如上述所例示之高次層列相之液晶狀態的情況下聚合，形成本偏光膜。聚合性液晶化合物於保持層列相之液晶狀態之情況下聚合所獲得之本偏光膜亦伴隨著上述二色性色素之作用而有以下優點：與先前之賓主型偏光膜、即於保持向列相之液晶狀態之情況下使聚合性液晶化合物等聚合所獲得之偏光膜相比較，具有偏光性能較高之優點。進而有以下優點：與僅塗佈有二色性色素或向液性液晶者相比較，強度優異。
如此所形成之本偏光膜之厚度較佳為0.5 μm以上且10 μm以下之範圍，更佳為1 μm以上且5 μm以下。因此，本偏光膜形成用之塗佈膜之厚度係考慮到所獲得之本偏光膜之厚度而決定。再者，本偏光膜之厚度係利用干涉膜厚 計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計進行測定所求出者。
透明性可利用霧度(Haze)值進行評價。霧度值較佳為5%以下，更佳為2%以下。
又，如此所形成之本偏光膜如上所述，尤佳為於X射線繞射測定中可獲得布拉格波峰者。作為此種可獲得布拉格波峰之本偏光膜，例如可列舉顯示出來源於六角液相或結晶相之繞射波峰之本偏光膜。
<本偏光膜之連續製造方法>
以上，說明了本偏光膜之製造方法之概要，於商業上製造本偏光膜時，需求可連續地製造本偏光膜之方法。此種連續製造方法係基於卷對卷形式者，有時稱為「本製造方法」。再者，於本製造方法中，以基材為透明基材之情形為中心進行說明。
本製造方法例如包括如下步驟：準備將透明基材捲取於第1卷芯上之第1卷；自該第1卷連續地送出透明基材；將上述光配向層形成用組合物連續地塗佈於透明基材上；自所塗佈之光配向層形成用組合物中去除溶劑，於透明基材上連續地形成第一塗佈膜；對該塗佈膜照射偏光UV，藉此連續地形成光配向層而形成光配向膜；於該光配向膜上連續地塗佈本組合物；於聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物不聚合之條 件下將所塗佈之本組合物乾燥，藉此於該光配向膜上連續地形成第二塗佈膜；使該塗佈膜所含之聚合性液晶化合物之液晶狀態成為層列液晶相後，於保持層列液晶相之狀態下使聚合性液晶化合物聚合，藉此連續地獲得偏光膜；及將連續獲得之包含透明基材、光配向膜及偏光膜之積層體捲取於第2卷芯上，獲得第2卷。此處參照圖1說明本製造方法。
將透明基材捲取於第1卷芯210A上之第1卷210例如可自市場上容易地獲取。作為此種能以卷之形態自市場上獲取之透明基材，於上述所例示之透明基材中，可列舉包含纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯之膜等。又，於將本偏光膜用作圓偏光板時，預先賦予有相位差性之透明基材亦可自市場上容易地獲取，例如可列舉包含纖維素酯、聚碳酸酯或環狀烯烴系樹脂之相位差膜等。
繼而，自上述第1卷210送出透明基材。送出透明基材之方法係藉由在該第1卷210之卷芯210A上設置適當之旋轉機構，利用該旋轉機構使第1卷210旋轉而進行。又，亦可為如下形式：於自第1卷210送出透明基材之方向上設置適當之輔助卷300，利用該輔助卷300之旋轉機構送出透明基材。進而，亦可為如下形式：於第1卷芯210A及輔助卷300上均設置旋轉機構，藉此一面對透明基材賦予適當之張力，一面送出透明基材。
自上述第1卷210所送出之透明基材於通過塗佈裝置211A時，藉由該塗佈裝置211A而於其表面上塗佈光配向層形成用組合物。用以如此般連續地塗佈光配向層形成用組合物之該塗佈裝置211A通常為可進行凹版塗佈法、模塗法、柔版印刷法等之塗佈之印刷裝置。
經過塗佈裝置211A之膜被搬送至乾燥爐212A內，藉由該乾燥爐212A而經加熱，自所塗佈之該組合物中去除溶劑，於透明基材上連續地形成第一塗佈膜。作為乾燥爐212A，例如可使用熱風式乾燥爐等。乾燥爐212A之設定溫度係根據藉由塗佈裝置211A所塗佈之光配向層形成用組合物所含之溶劑之種類等而決定。又，乾燥爐212A可為劃分為複數個區域且劃分而成之複數個區域各自之設定溫度不同的形式之乾燥爐，亦可為串列地配置複數個乾燥爐且乾燥爐各自之設定溫度不同的形式之乾燥爐。
藉由通過加熱爐212A而連續地形成之第一塗佈膜繼而藉由偏光UV照射裝置213A而對第一塗佈膜之表面或透明基材側之表面照射偏光UV，形成光配向層而形成光配向膜。
如此般連續形成之基材與光配向膜之積層體藉由繼而通過塗佈裝置211B而於光配向膜上塗佈本組合物後，藉由通過乾燥爐212B，而成為本組合物所含之聚合性液晶化合物顯示出層列液晶相之第二塗佈膜。乾燥爐212B發揮自光配向膜上所塗佈之本組合物中去除溶劑之作用，與此同時亦發揮以下作用：以使本組合物所含之聚合性液晶化合物經 由向列液晶相而顯示出層列液晶相的方式，對本組合物賦予熱能量。為了使聚合性液晶化合物成為向列液晶相後變為層列液晶相，乾燥爐212B可為能進行多階段之加熱處理者。即，乾燥爐212B與乾燥爐212A同樣地，可為劃分為複數個區域且劃分而成之複數個區域各自之設定溫度不同的形式之乾燥爐，亦可為串列地配置複數個乾燥爐且各乾燥爐各自之設定溫度不同的形式之乾燥爐。
經過上述乾燥爐212B之膜係於充分去除本組合物所含之溶劑、第二塗佈膜中之聚合性液晶化合物保持層列液晶相的狀態下被搬送至光照射裝置213B。藉由該光照射裝置213B之光照射，聚合性液晶化合物於保持層列液晶相之狀態下與聚合性非液晶化合物一起進行光聚合，於光配向膜上連續地形成本偏光膜。
如此般連續形成之本偏光膜係以包含透明基材及光配向膜之積層體之形式被捲取至第2卷芯220A上，而獲得第2卷220之形態。於捲取所形成之本偏光膜而獲得第2卷時，可使用適當之間隔件供卷。
如此，使透明基材依序通過第1卷/塗佈裝置211A/乾燥爐212A/偏光UV照射裝置213A/塗佈裝置211B/乾燥爐212B/光照射裝置213B，藉此於透明基材上之光配向膜上連續地製造本偏光膜。
又，於圖1所示之本製造方法中，示出了自透明基材連續地製造至本偏光膜為止之方法，例如亦可使透明基材依序通過第1卷/塗佈裝置211A/乾燥爐212A/偏光UV照射裝置 213A，將藉此而連續地形成之基材與光配向膜之積層體捲取於卷芯上，以卷之形態製造該積層體，自該卷送出該積層體，使所送出之該積層體依序通過塗佈裝置211B/乾燥爐212B/光照射裝置213B，而製造本偏光膜。
藉由本製造方法所獲得之本偏光膜係其形狀為膜狀且長條狀者。於將該本偏光膜用於下述液晶顯示裝置等之情形時，根據該液晶顯示裝置之規模(scale)等裁剪成所需之尺寸而使用。
以上，以透明基材/光配向膜/本偏光膜之積層體之形態之情形為中心說明了本偏光膜之構成及製造方法，但作為包含本偏光膜之積層體，可自該積層體剝離光配向膜或透明基材，亦可設定為積層有除了透明基材/光配向膜/本偏光膜以外之層或膜之形態。作為該等層及膜，如上所述，本偏光膜可進而具備相位差膜，亦可進而具備抗反射層或亮度提高膜。
又，亦可藉由使透明基材本身成為相位差膜，而製成相位差膜/光配向膜/本偏光膜之形態之圓偏光板或楕圓偏光板。例如於使用經單軸延伸之1/4波長板作為相位差膜之情形時，以相對於透明基材之搬送方向而大致成45°的方式設定偏光UV之照射方向，藉此能以卷對卷之方式製作圓偏光板。作為如此般製造圓偏光板時所使用之1/4波長板，較佳為具有對可見光之面內相位差值隨著波長變短而變小之特性者。
又，亦可使用1/2波長板作為相位差膜，製作使其遲相 軸與偏光膜之吸收軸之角度錯開而設定之直線偏光板卷，於與形成有該偏光膜之面相反之側進而形成1/4波長板，藉此製作寬頻帶之圓偏光板。
<本偏光膜之用途>
本偏光膜可用於各種顯示裝置。所謂顯示裝置，係具有顯示元件之裝置，包含發光元件或發光裝置作為發光源。作為顯示裝置，例如可列舉：液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如場發射顯示裝置(FED，Field Emission Display)、表面傳導電子發射顯示裝置(SED，Surface Conduction Electron Emitter Display))、電子紙(使用電子油墨或電泳元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如柵狀光閥(GLV，Grating Light Valve)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(DMD，Digital Micro-mirror Device)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置亦包含透過式液晶顯示裝置、半透過式液晶顯示裝置、反射式液晶顯示裝置、直視式液晶顯示裝置及投影式液晶顯示裝置等之任意者。該等顯示裝置可為顯示二維圖像之顯示裝置，亦可為顯示三維圖像之立體顯示裝置。
本偏光膜尤其可有效地用於有機電致發光(EL)顯示裝置或無機電致發光(EL)顯示裝置之顯示裝置。
圖2及圖5係模式性地表示使用本偏光膜之液晶顯示裝置(以下有時稱為「本液晶顯示裝置」)10之剖面構成之概略圖。液晶層17係由2片基材14a及基材14b所夾持。
圖12係模式性地表示使用本偏光膜之EL顯示裝置(以下有時稱為「本EL顯示裝置」)之剖面構成之概略圖。
圖13係模式性地表示使用本偏光膜之投射式液晶顯示裝置之構成之概略圖。
首先對圖2所示之本液晶顯示裝置10加以說明。
於基材14a之液晶層17側配置有彩色濾光片15。彩色濾光片15係配置於夾持液晶層17而與像素電極22對向之位置上，黑色矩陣20係配置於與像素電極間之邊界對向之位置上。透明電極16係以覆蓋彩色濾光片15及黑色矩陣20之方式配置於液晶層17側。再者，於彩色濾光片15與透明電極16之間亦可具有保護層(未圖示)。
於基材14b之液晶層17側規則地配置有薄膜電晶體21與像素電極22。像素電極22係配置於夾持液晶層17而與彩色濾光片15對向之位置上。於薄膜電晶體21與像素電極22之間配置有具有連接孔(未圖示)之層間絕緣膜18。
作為基材14a及基材14b，可使用玻璃基材及塑膠基材。該玻璃基材或塑膠基材可採用材質與作為本偏光膜製造所使用之透明基材所例示者相同之基材。又，本偏光膜之透明基材亦可兼作基材14a及基材14b。於製造形成於基材上之彩色濾光片15或薄膜電晶體21時需要加熱至高溫之步驟的情形時，較佳為玻璃基材或石英基材。
薄膜電晶體可根據基材14b之材質而採用最佳者。作為薄膜電晶體21，可列舉：形成於石英基材上之高溫多晶矽電晶體、形成於玻璃基材上之低溫多晶矽電晶體、形成於 玻璃基材或塑膠基材上之非晶矽電晶體。為了使本液晶顯示裝置更小型化，亦可於基材14b上形成驅動IC(Integrated Circuit，積體電路)。
於透明電極16與像素電極22之間配置有液晶層17。於液晶層17上配置有間隔件23，以將基材14a及基材14b之間保持為一定距離。再者，於圖2中以柱狀之間隔件進行了圖示，但該間隔件並不限定於柱狀，只要可將基材14a及基材14b之間保持為一定距離，則其形狀為任意。
於形成於基材14a及基材14b上之層之中與液晶層17接觸之面上，亦可分別配置用以使液晶朝所需之方向配向之配向層。再者，亦可將本偏光膜配置於液晶單元內部，即於接觸液晶層17之面側配置本偏光膜。以下將此種形式稱為「內嵌形式」。
各構件係以基材14a、彩色濾光片15及黑色矩陣20、透明電極16、液晶層17、像素電極22、層間絕緣膜18及薄膜電晶體21、以及基材14b之順序積層。
於夾持此種液晶層17之基材14a及基材14b之中，於14a及基材14b之外側設置有偏光子12a及12b，該等中之至少1個偏光子中包含本偏光膜。
進而，較佳為積層相位差層(例如1/4波長板或光學補償膜)13a及13b。藉由在偏光子12a及12b中於偏光子12b上配置本偏光膜，可對本液晶顯示裝置10賦予將入射光轉變成直線偏光之功能。再者，視液晶顯示裝置之結構、或液晶層17所含之液晶化合物之種類不同，相位差膜13a及13b亦 可不配置，於使用透明基材為相位差膜、含有本偏光膜之(楕)圓偏光板之情形時，可將該相位差膜設定為相位差層，因此亦可省略圖2之相位差層13a及/或13b。亦可進而於含有本偏光膜之偏光子之光出射側(外側)設置偏光膜。
又，亦可於含有本偏光膜之偏光子之外側(於在本偏光膜上進而設置偏光膜之情形時，於其外側)配置用以防止外光反射之抗反射膜。
如上所述，可於圖2之本液晶顯示裝置10之偏光子12a或12b中使用本偏光膜。藉由將本偏光膜設置於偏光子12a及/或12b上，有可達成本液晶顯示裝置10之進一步之薄型化之效果。
於在偏光子12a或12b中使用本偏光膜之情形時，其積層順序並無特別限定。參照圖2之以虛線包圍之A及B部分之放大圖對該積層順序進行說明。
圖3係圖2之A部分之放大模式剖面圖。圖3之(A1)表示於使用偏光子100作為偏光子12a之情形時，以自相位差層13a側開始依序配置有本偏光膜3、光配向膜2及透明基材1之方式進行設置。又，圖3之(A2)表示以自相位差層13a側開始依序配置有透明基材1、光配向膜2及本偏光膜3之方式進行設置。
圖4係圖2之B之部分之放大模式圖。圖4之(B1)係於使用偏光子100作為偏光子12b之情形時，以自相位差膜13b側開始依序配置有透明基材1、光配向膜2及本偏光膜3之方式進行設置。圖4之(B2)係於使用偏光子100作為偏光子 12b之情形時，以自相位差膜13b側開始依序配置有本偏光膜3、光配向膜2及透明基材1之方式進行設置。
於偏光子12b之外側配置有作為發光源之背光單元19。背光單元19包含光源、導光體、反射板、擴散片及視野角調整片。作為光源，可列舉：電致發光、冷陰極管、熱陰極管、發光二極體(LED，Light-Emitting Diode)、雷射光源及水銀燈等。又，可根據上述光源之特性選擇本偏光膜之種類。
於本液晶顯示裝置10為透過式液晶顯示裝置之情形時，自背光單元19中之光源所發出之白色光入射至導光體內，藉由反射板改變行路並經擴散片擴散。擴散光藉由視野角調整片以具有所需之指向性的方式進行調整後，自背光單元19入射至偏光子12b內。
於無偏光之入射光中，僅某一直線偏光透過液晶面板之偏光子12b。該直線偏光藉由相位差層13b而轉變為圓偏光或楕圓偏光，依序透過基材14b、像素電極22等而到達液晶層17。
此處，根據像素電極22與對向之透明電極16之間之電位差之有無，液晶層17所含之液晶分子之配向狀態發生變化，控制自本液晶顯示裝置10所出射之光之亮度。於液晶層17為使偏光直接透過之配向狀態之情形時，該偏光透過液晶層17、透明電極16，某特定之波長範圍之光透過彩色濾光片15而到達偏光子12a，液晶顯示裝置以最亮之程度顯示由彩色濾光片所決定之顏色。
相反地，於液晶層17為將偏光轉變並使其透過之配向狀態之情形時，透過液晶層17、透明電極16及彩色濾光片15之光被偏光子12a吸收。藉此，該像素顯黑。於該等2種狀態之中間配向狀態下，自本液晶顯示裝置10所出射之光之亮度亦處於上述兩者之中間，因此該像素顯示中間色。
於本液晶顯示裝置10為半透過式液晶顯示裝置之情形時，較佳為使用在本偏光膜之偏光層側進而積層有1/4波長板者(圓偏光板)。此時，像素電極22具有由透明材料所形成之透過部、與由使光反射之材料所形成之反射部，於透過部中，以與上述透過型液晶顯示裝置相同之方式顯示圖像。另一方面，於反射部中，外光入射至液晶顯示裝置內，藉由本偏光膜上進而具備之1/4波長板之作用，透過本偏光膜之圓偏光通過液晶層17，經像素電極22反射而被用於顯示。
繼而，參照圖8對使用本偏光膜之本EL顯示裝置30加以說明。於將本偏光膜用於本EL顯示裝置之情形時，較佳為將本偏光膜製成圓偏光板(以下有時稱為「本圓偏光板」)後使用。本圓偏光板通常有2個實施形態。因此，於說明本EL顯示裝置30之構成等之前，參照圖6對本圓偏光板之2個實施形態加以說明。
圖6(A)係模式性地表示本圓偏光板110之第1實施形態之剖面圖。該第1實施形態係於偏光子100中之本偏光膜3上進而設置有相位差層(相位差膜)4之本圓偏光板110。圖6(B)係模式性地表示本圓偏光板110之第2實施形態之剖面 圖。該第2實施形態係使用預先賦予有相位差性之透明基材1(相位差膜4)作為製造偏光子100時所使用之透明基材1，藉此使透明基材1本身兼備作為相位差層4之功能的本圓偏光板110。
此處，預先對本圓偏光板110之製造方法進行說明。圓偏光板110之第2實施形態如以上所說明般，可藉由在製造本偏光膜100之本製造方法中，使用預先賦予有相位差性之透明基材1、即相位差膜作為透明基材1而製造。圓偏光板110之第1實施形態只要藉由於利用本製造方法B所製造之本偏光膜3上貼合相位差膜而形成相位差層4即可。再者，於藉由本製造方法B以第2卷220之形態製造本偏光膜100之情形時，可為自該第2卷220捲出本偏光膜100並裁剪成特定之尺寸後，於經裁剪之本偏光膜100上貼合相位差膜的形態，亦可準備將相位差膜捲取於卷芯上之第3卷，藉此連續地製造形狀為膜狀且長條狀之本圓偏光板110。
參照圖7對連續地製造圓偏光板110之第1實施形態之方法加以說明。該製造方法包括如下步驟：自上述第2卷220連續地捲出本偏光膜100，與此同時自捲取有相位差膜之第3卷230連續地捲出上述相位差膜；將自上述第2卷220所捲出之設置於本偏光膜100上之偏光層、與自上述第3卷所捲出之上述相位差膜連續地貼合，形成本圓偏光板110；及將所形成之本圓偏光板110捲取於第4卷芯240A上而獲得第4卷240。
以上，說明了本圓偏光板110之第1實施形態之製造方法，但於貼合偏光子100中之本偏光膜3、與相位差膜時，可使用適當之黏著劑，經過由該黏著劑所形成之黏著層貼合本偏光膜3與相位差膜。
繼而，參照圖8對具備本圓偏光板110之本EL顯示裝置加以說明。
本EL顯示裝置30係於形成有像素電極35之基材33上積層有作為發光源之有機功能層36、及陰極電極37者。夾持基材33而於與有機功能層36相反之側配置有圓偏光板31，作為該圓偏光板31，係使用本圓偏光板110。藉由對像素電極35施加正電壓，對陰極電極37施加負電壓，且於像素電極35及陰極電極37之間施加直流電流，有機功能層36發光。作為發光源之有機功能層36包含電子傳輸層、發光層及電洞傳輸層等。自有機功能層36所出射之光通過像素電極35、層間絕緣膜34、基材33、圓偏光板31(本圓偏光板110)。對包含有機功能層36之有機EL顯示裝置進行了說明，亦可應用於包含無機功能層之無機EL顯示裝置。
於製造本EL顯示裝置30時，首先於基材33上以所需之形狀形成薄膜電晶體40。繼而，使層間絕緣膜34成膜，繼而利用濺鍍法使像素電極35成膜，進行圖案化。其後積層有機功能層36。
繼而，於基材33之設置有薄膜電晶體40之面的相反面上設置圓偏光板31(本圓偏光板110)。
於使用本圓偏光板110作為圓偏光板31之情形時，參照 圖8之以虛線包圍之C部分之放大圖說明其積層順序。於使用本圓偏光板110作為圓偏光板31之情形時，該本圓偏光板110上之相位差層4係配置於基材33側。圖9(C1)係使用本圓偏光板110之第1實施形態作為圓偏光板31之放大圖，圖9之(C2)係使用本圓偏光板110之第2實施形態作為圓偏光板31之放大圖。
繼而，對本EL顯示裝置30之除了本偏光膜31(圓偏光板110)以外之構件加以簡單說明。
作為基材33，可列舉：藍寶石玻璃基材、石英玻璃基材、鈉玻璃基材及氧化鋁等陶瓷基材；銅等金屬基材；塑膠基材等。雖未圖示，但亦可於基材33上形成導熱性膜。作為導熱性膜，可列舉鑽石薄膜(DLC(Diamond-Like Carbon，類鑽碳)等)等。於將像素電極35設為反射式之情形時，光沿著與基材33相反之方向出射。因此，不僅可使用透明材料，亦可使用不鏽鋼等非透過材料。基材可單一地形成，亦可利用接著劑貼合複數片基材而以積層基材之形式形成。又，該等基材並不限定於板狀者，亦可為膜。
作為薄膜電晶體40，例如只要使用多晶矽電晶體等即可。薄膜電晶體40係設置於像素電極35之端部，其大小為10~30 μm左右。再者，像素電極35之大小為20 μm×20 μm~300 μm×300 μm左右。
於基材33上設置有薄膜電晶體40之配線電極。配線電極之電阻較低，具有與像素電極35電性連接且將電阻值抑制為較低之功能，該配線電極通常係使用含有Al、Al及過渡 金屬(其中不包含Ti)、Ti或氮化鈦(TiN)中之任一種或兩種以上者。
於薄膜電晶體40與像素電極35之間設置有層間絕緣膜34。層間絕緣膜34只要為利用濺鍍或真空蒸鍍使SiO2等氧化矽、氮化矽等無機系材料成膜而成者，利用SOG(Spin-On-Glass，旋塗玻璃)所形成之氧化矽層，光阻劑、聚醯亞胺及丙烯酸系樹脂等樹脂系材料之塗膜等具有絕緣性者，則任一者均可。
於層間絕緣膜34上形成阻隔壁41。阻隔壁41係配置於像素電極35之周邊部(鄰接像素間)。作為阻隔壁41之材料，可列舉丙烯酸系樹脂及聚醯亞胺樹脂等。阻隔壁41之厚度較佳為1.0 μm以上且3.5 μm以下，更佳為1.5 μm以上且2.5 μm以下。
繼而，對包含作為透明電極之像素電極35、作為發光源之有機功能層36、及陰極電極37的EL元件加以說明。有機功能層36具有至少各1層之電洞傳輸層及發光層，例如依序具有電子注入傳輸層、發光層、電洞傳輸層及電洞注入層。
作為像素電極35，例如可列舉：ITO(Indium Tin Oxides，摻錫氧化銦)、IZO(Indium Zinc Oxide，摻鋅氧化銦)、IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide，氧化銦鎵鋅)、ZnO、SnO2及In2O3等，尤佳為ITO或IZO。像素電極35之厚度只要具有可充分進行電洞注入之一定以上之厚度即可，較佳為設定為10~500 nm左右。
像素電極35可藉由蒸鍍法(較佳為濺鍍法)而形成。作為濺鍍氣體，並無特別限制，只要使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等惰性氣體或該等之混合氣體即可。
作為陰極電極37之構成材料，例如只要使用K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等金屬元素即可，但為了提高電極之動作穩定性，較佳為使用選自所例示之金屬元素中之2成分或3成分之合金系。作為合金系，例如較佳為Ag-Mg(Ag：1~20 at%)、Al-Li(Li：0.3~14 at%)、In-Mg(Mg：50~80 at%)及Al-Ca(Ca：5~20 at%)等。
陰極電極37係藉由蒸鍍法及濺鍍法等而形成。較佳為陰極電極37之厚度為0.1 nm以上，較佳為1~500 nm以上。
電洞注入層具有使來自像素電極35之電洞之注入較為容易的功能，電洞傳輸層具有傳輸電洞之功能及妨礙電子之功能，亦稱為電荷注入層或電荷傳輸層。
發光層之厚度、電洞注入層與電洞傳輸層之合併厚度、及電子注入傳輸層之厚度並無特別限定，視形成方法而亦有所不同，但較佳為設定為5~100 nm左右。電洞注入層或電洞傳輸層可使用各種有機化合物。形成電洞注入傳輸層、發光層及電子注入傳輸層時，就可形成均質之薄膜之方面而言，可使用真空蒸鍍法。
作為發光源即有機功能層36，可使用：利用來源於單重態激子之發光(螢光)者、利用來源於三重態激子之發光(磷光)者、包含利用來源於單重態激子之發光(螢光)者與利用 來源於三重態激子之發光(磷光)者的層、由有機物所形成者、包含由有機物所形成者與由無機物所形成者之層、高分子材料、低分子材料、包含高分子材料與低分子材料者等。但，並不限定於此，可將使用作為EL元件用而公知之各種材料之有機功能層36用於本EL顯示裝置30中。
於陰極電極37與密封蓋39之空間中配置乾燥劑38。其原因在於有機功能層36不耐潮濕。藉由乾燥劑38吸收水分而防止有機功能層36之劣化。
圖10係表示本EL顯示裝置30之另一態樣之剖面構成之概略圖。該本EL顯示裝置30具有使用薄膜密封膜41之密封結構，可自陣列基材之相反面亦獲得出射光。
作為薄膜密封膜41，較佳為使用在電解電容器之膜上蒸鍍有DLC(類鑽碳)之DLC膜。DLC膜具有水分浸透性極差之特性，防濕性能較高。又，亦可於陰極電極37之表面直接蒸鍍DLC而形成DLC膜等。又，亦可將樹脂薄膜與金屬薄膜積層為多層而形成薄膜密封膜41。
如上所述，提供本發明之新穎之偏光膜(本偏光膜)、及具備本偏光膜之新穎之顯示裝置(本液晶顯示裝置及本EL顯示裝置)。
最後，對使用本偏光膜之投射式液晶顯示裝置加以說明。
圖11係表示使用本偏光膜之投射型液晶顯示裝置之概略圖。
作為該投射型液晶顯示裝置之偏光子142及/或偏光子 143，係使用本偏光膜。
自作為發光源之光源(例如高壓水銀燈)111所出射之光線束首先通過第1透鏡陣列112、第2透鏡陣列113、偏光轉換元件114、重疊透鏡115，藉此進行反光線束剖面上之亮度之均勻化與偏光化。
具體而言，自光源111所出射之光線束藉由使微小之透鏡112a形成為矩陣狀而成之第1透鏡陣列112而被分割成多個微小之光線束。以使所分割之各光線束照射作為照明對象之3個液晶面板140R、140G、140B整體之方式，具備第2透鏡陣列113及重疊透鏡115，因此，各液晶面板入射側表面整體照度大致均勻。
偏光轉換元件114係由偏振分光鏡陣列所構成，配置於第2透鏡陣列113與重疊透鏡115之間。藉此發揮以下作用：預先將來源於光源之無規偏光轉變為具有特定之偏光方向之偏光，降低下述入射側偏光子中之光量損耗、提高畫面之亮度。
如上所述般經亮度均勻化及偏光化之光經由反射鏡122，藉由用以分離為RGB之3原色之分色鏡121、123、132而依序經紅色通道、綠色通道、藍色通道分離，分別入射至液晶面板140R、140G、140B。
液晶面板140R、140G、140B分別於其入射側配置有偏光子142，於出射側配置有偏光子143。可於該偏光子142、偏光子143中使用本偏光膜。
配置於RGB各光路上之偏光子142及偏光子143係以各自 之吸收軸正交之方式配置。配置於各光路上之各液晶面板140R、140G、140B具有將根據圖像信號對各像素分別控制之偏光狀態轉變為光量之功能。
本偏光膜100藉由選擇適合於對應之通道二色性色素之種類，可用作於藍色通道、綠色通道及紅色通道之任一光路中均耐久性優異之偏光膜。
根據液晶面板140R、140G、140B之圖像資料，以各像素不同之透過率使入射光透過，藉此所製作之光學像藉由合光稜鏡150而被合成，藉由投影透鏡170而放大投影於屏幕180上。
作為電子紙，可列舉；藉由光學各向異性與染料分子配向般之分子進行顯示者，藉由電泳、粒子移動、粒子旋轉、相變化般之粒子進行顯示者，藉由膜之一端移動而進行顯示者，藉由分子之發色/相變化進行顯示者，藉由分子之光吸收進行顯示者，電子與電洞結合而藉由自發光進行顯示者等。更具體而言，可列舉：微膠囊型電泳、水平移動型電泳、垂直移動型電泳、球狀扭轉球、磁性扭轉球、圓柱扭轉球方式、帶電色劑、電子粉流體、磁性泳動型、磁性感熱式、電潤濕、光散射(透明/白濁變化)、膽固醇狀液晶/光導電層、膽固醇狀液晶、雙穩定性向列液晶、鐵電性液晶、2色性色素-液晶分散型、可動膜、利用隱色染料之發消色、光致變色、電子呈色、電沈積、軟性有機EL等。電子紙不僅可用於個人利用文字或圖像者，亦可用於廣告顯示(標牌)等。藉由本偏光膜，可使電子紙之 厚度變薄。
作為立體顯示裝置，例如提出有如微球方式般使互不相同之相位差膜排列之方法(日本專利特開2002-185983號公報)，若使用本發明之光學膜作為偏光膜，則易藉由印刷、噴墨、光微影法等進行圖案化，因此可縮短顯示裝置之製造步驟，且無需相位差膜。
[實施例]
以下，藉由實施例進一步詳細說明本發明。例中之「%」及「份」只要無特別說明，則為質量%及質量份。
於本實施例中，使用下述聚合性液晶化合物。
化合物(1-6)(下述式(1-6)所表示之化合物)
化合物(1-6)係利用Lubetal.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)記載之方法所合成。
[相轉變溫度之測定]
化合物(1-6)之相轉變溫度係藉由求出包含化合物(1-6)之膜之相轉變溫度而確認。其操作如下。
於形成於玻璃基材上之配向膜上形成包含化合物(1-6)之膜，一面加熱一面藉由利用偏光顯微鏡(BX-51，Olympus公司製造)之質構觀察來確認相轉變溫度。確認到包含化合物(1-6)之膜於升溫至120℃後降溫時，於112℃下相轉變為向列相，於110℃下相轉變為層列A相，於94℃下相轉變為層列B相。
化合物(1-7)(下述式(1-7)所表示之化合物)
化合物(1-7)係將上述化合物(1-6)之合成作為參考而合成。
[相轉變溫度之測定]
以與化合物(1-6)之相轉變溫度測定相同之方式確認化合物(1-7)之相轉變溫度。確認化合物(1-7)於升溫至140℃後降溫時，於133℃下相轉變為向列相，於118℃下相轉變為層列A相，於78℃下相轉變為層列B相。
實施例1 [本組合物等之製備]
將下述成分混合，於8()℃下攪拌1小時，藉此獲得本組合物(偏光膜形成用組合物)。
聚合性液晶化合物：化合物(1-6) 75份
化合物(1-7) 25份
二色性色素：化合物(2-1-1) 2.5份
日本專利第3687130號公報記載之D10之色素
聚合起始劑：1-羥基-環己基-苯基酮(Irgacure184，Ciba Specialty Chemicals公司製造) 6份
勻平劑：BYK-361N(BYK-Chemie公司製造) 1.5份
聚合性非液晶化合物：多官能丙烯酸酯(4-5) 5.0份
溶劑：環戊酮 250份
[相轉變溫度之測定]
以與化合物(1-6)及化合物(1-7)之情形相同之方式，求出如上所述般所製備之本組合物所含之聚合性液晶化合物之相轉變溫度。確認到於升溫至140℃後降溫時，於109℃下不形成相分離狀態且相轉變為向列相，於98℃下不形成相分離狀態且相轉變為層列A相，於74℃下不形成相分離狀態且相轉變為層列B相。
[本偏光膜之製造及評價] 1.配向膜之形成
使用玻璃基材作為透明基材。
藉由旋轉塗佈法於該玻璃基材上塗佈聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型，和光純薬工業股份有限公司製造)之2質量%水溶液(配向層形成用組合物)，乾燥後，形成厚度100 nm之膜。繼而，藉由對所獲得之膜之表面實施摩擦處理而形成配向層，製作偏光膜。摩擦處理係使用半自動摩擦裝置(商品名：LQ-008型，常陽工學股份有限公司製造)，利用布(商品名：YA-20-RW，吉川化工股份有限公司製造)於壓入量0.15 mm、轉速500 rpm、16.7 mm/s之條件下進行。藉由該摩擦處理，獲得於玻璃基材上形成有配向膜之積層體1。
2.偏光膜之形成
藉由旋轉塗佈法於積層體1之配向膜上塗佈上述偏光膜 形成用組合物，於120℃之加熱板上加熱乾燥1分鐘後，迅速冷卻至室溫為止，於上述配向膜上形成塗佈膜。於該塗佈膜中，所含之聚合性液晶化合物之液晶狀態為層列B相。繼而，使用UV照射裝置(SPOTCURESP-7，Ushio電機股份有限公司製造)，以曝光量2000 mJ/cm2(313 nm基準)對塗佈膜照射紫外線，藉此使該塗佈膜所含之聚合性液晶化合物保持上述液晶狀態而聚合，由該塗佈膜製作偏光膜。利用雷射顯微鏡(Olympus股份有限公司公司製造之OLS3000)測定此時之偏光膜之厚度，結果為1.6 μm。
3. X射線繞射測定
對所獲得之偏光膜使用X射線繞射裝置X'Pert PRO MPD(Spectris股份有限公司製造)進行X射線繞射測定。使用Cu作為靶於X射線管電流40 mA、X射線管電壓45 kV之條件下產生X射線，使所產生的X射線經由固定發散狹縫1/2°而自配向方向入射，於掃描範圍2θ=4.0~40.0°之範圍內以2θ=0.01671°步進掃描進行測定，結果於2θ=20.24°附近獲得了波峰半高寬(FWHM，Full Width Half Maximum)=約0.1718°之陡峭之布拉格波峰。又得知，即便自與偏光膜之表面平行、且與配向方向垂直之方向入射，亦獲得同等結果。由波峰位置所求出之秩序週期(d)為約4.4 Å，形成了反映高次層列相之結構。
4.二色比(DR，Dichroic Ratio)之測定=以如下方式測定二色比
使用在分光光度計(島津製作所股份有限公司製造之UV- 3150)上安裝有附偏光子之摺疊夾(folder)之裝置，以雙光束法測定最大吸收波長下之透過軸方向之吸光度(A1)及吸收軸方向之吸光度(A2)。該摺疊夾係於參考側設置截止50%光量之網。由所測得之透過軸方向之吸光度(A1)及吸收軸方向之吸光度(A2)之值算出比(A2/A1)，作為二色比。二色比越高，可謂作為偏光膜之特性越優異。將吸收軸方向之吸光度(A2)之最大吸收波長及於該波長下之二色比之測定結果示於表1。
5.霧度值之測定
為了確認本偏光子之透明性，使用霧度計(HZ-2，Suga Test Instruments(股)製造)測定霧度值。將其測定結果示於表1。
實施例2~8、參考例1、比較例1~2係改變聚合性非液晶化合物之種類與含量以外以相同之方式製作本組合物。又，於比較例3中，於不添加聚合性非液晶化合物之條件下製作組合物，於塗佈及120℃之乾燥後，於70℃之加熱板上迅速移動，其後進行UV曝光，藉此製作偏光膜。將各自之測定結果示於表1。
實施例9~15係將二色性色素變更為下述結構式(2-3-1)，並改變聚合性非液晶化合物之種類與含量，除此以外以與實施例1相同之方式製作偏光膜。將各自之測定結果示於表1。
實施例1~15未形成相分離狀態且表現出良好之水平配向性與較高之二色性。良好之水平配向性係由於聚合性液晶化合物顯示向列液晶相，較高之二色性係由於聚合性液晶化合物顯示層列液晶相。
[產業上之可利用性]
本偏光膜可較佳地用作顯示裝置(顯示器)用途。因此，可製造該本偏光膜之本組合物於產業上之價值較高。
1‧‧‧透明基材
2‧‧‧光配向膜
3‧‧‧本偏光膜
4‧‧‧相位差層
10‧‧‧液晶顯示裝置
11‧‧‧抗反射層
12a、12b‧‧‧偏光膜
13a、13b‧‧‧相位差膜
14a、14b‧‧‧基材
15‧‧‧彩色濾光片
16‧‧‧透明電極
17‧‧‧液晶層
18‧‧‧層間絕緣膜
19‧‧‧背光單元
20‧‧‧黑色矩陣
21‧‧‧薄膜電晶體
22‧‧‧像素電極
23‧‧‧間隔件
24‧‧‧液晶顯示裝置
30‧‧‧EL顯示裝置
31‧‧‧圓偏光板
33‧‧‧基材
34‧‧‧層間絕緣膜
35‧‧‧像素電極
36‧‧‧發光層
37‧‧‧陰極電極
38‧‧‧乾燥劑
39‧‧‧密封蓋
40‧‧‧薄膜電晶體
41‧‧‧阻隔壁
42‧‧‧薄膜密封膜
100‧‧‧偏光膜
110‧‧‧圓偏光板
111‧‧‧光源
112‧‧‧第1透鏡陣列
112a‧‧‧透鏡
113‧‧‧第2透鏡陣列
114‧‧‧偏光轉換元件
115‧‧‧重疊透鏡
121、123、132‧‧‧分色鏡
122‧‧‧反射鏡
140R、140G、140B‧‧‧液晶面板
142、143‧‧‧偏光子
150‧‧‧合光稜鏡
170‧‧‧投影透鏡
180‧‧‧屏幕
210‧‧‧第1卷
210A‧‧‧卷芯
211A、211B‧‧‧塗佈裝置
212A、212B‧‧‧乾燥爐
213A‧‧‧偏光UV照射裝置
213B‧‧‧光照射裝置
220‧‧‧第2卷
220A‧‧‧卷芯
230‧‧‧第3卷
230A‧‧‧卷芯
240‧‧‧第4卷
240A‧‧‧卷芯
300‧‧‧輔助卷
圖1係表示本發明之偏光膜之連續製造方法(卷對卷(Roll to Roll)形式)之要部之模式圖。
圖2係表示使用含有本發明之偏光膜之偏光子的液晶顯示裝置之剖面構成之模式圖。
圖3(A1)、(A2)係表示設置於液晶顯示裝置上之含有本 發明之偏光膜的偏光子之積層順序之模式圖。
圖4(B1)、(B2)係表示設置於液晶顯示裝置上之包有本發明之偏光膜的偏光子之積層順序之模式圖。
圖5係表示使用含有本發明之偏光膜之偏光子的液晶顯示裝置(內嵌形式)之構成之模式圖。
圖6(A)、(B)係含有本發明之偏光膜之圓偏光板之剖面模式圖。
圖7係含有本發明之偏光膜之圓偏光板的連續製造方法之模式圖。
圖8係表示使用含有本發明之偏光膜之圓偏光板的EL(Electro Luminescence，電致發光)顯示裝置之構成之模式圖。
圖9(C1)、(C2)係表示設置於EL顯示裝置上之包含本發明之偏光膜之圓偏光板之積層順序之模式圖。
圖10係表示使用含有本發明之偏光膜之圓偏光板的EL顯示裝置之構成之模式圖。
圖11係表示使用含有本發明之偏光膜之偏光子的投射型液晶顯示裝置之構成之模式圖。

Claims (13)

  1. 一種偏光膜形成用組合物，其含有聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物、二色性色素、聚合起始劑及溶劑，且滿足以下(A)及(B)之必要條件：(A)聚合性液晶化合物及聚合性非液晶化合物均具有聚合性基；(B)由偏光膜形成用組合物所獲得之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物於不形成相分離狀態，並顯示出向列液晶相及層列液晶相。
  2. 如請求項1之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物係式(1)所表示之化合物：U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (1)(式中，X1、X2及X3相互獨立地表示可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基；其中，X1、X2及X3中之至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基；構成環己烷-1,4-二基之-CH2-可經-O-、-S-或-NR-取代；R表示碳數1~6之烷基或苯基；Y1及Y2相互獨立地表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa=N-；Ra及Rb相互獨立地表示氫原子或碳數1~4之烷基；U1表示氫原子或聚合性基；U2表示聚合性基；W1及W2相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-；V1及V2相互獨立地表示可具有取代基之碳數1~20之烷二基，構成該烷二基之-CH2-可經-O-、-S-或-NH-取代)。
  3. 如請求項1或2之偏光膜形成用組合物，其中聚合性非液晶化合物為單官能丙烯酸酯或多官能丙烯酸酯。
  4. 如請求項1至3中任一項之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物所具有之聚合性基、與聚合性非液晶化合物所具有之聚合性基分別獨立為丙烯醯氧基(CH2=CHCOO-)或甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)COO-)。
  5. 如請求項1至4中任一項之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物所具有之聚合性基、與聚合性非液晶化合物所具有之聚合性基相同。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光膜形成用組合物，其中聚合性液晶化合物於分子內具有1~2個聚合性基，聚合性非液晶化合物於分子內具有2~6個聚合性基。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光膜形成用組合物，其中相對於聚合性液晶化合物100質量份，聚合性非液晶化合物之含量為3質量份以上且10質量份以下。
  8. 一種偏光膜之製造方法，其包括以下(I)、(II)及(III)之步驟：(I)將如請求項1至7中任一項之偏光膜形成用組合物塗佈於基材上或形成於基材上之配向膜上，去除溶劑而形成塗佈膜的步驟；(II)使(I)中所形成之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物成為層列液晶相狀態的步驟；(III)於(II)中所形成之聚合性液晶化合物為層列液晶相狀態之塗佈膜中，使聚合性液晶化合物與聚合性非液晶 化合物共聚合的步驟。
  9. 如請求項8之偏光膜之製造方法，其中基材為實施有配向處理之透明基材。
  10. 如請求項8或9之偏光膜之製造方法，其中(II)步驟係包括步驟(I-1)與步驟(I-2)之步驟，上述步驟(I-1)係進行加熱處理直至(I)步驟中所形成之塗佈膜所含之聚合性液晶化合物顯示出向列液晶相為止，上述步驟(I-2)係使步驟(I-1)中所形成之該聚合性液晶化合物為向列液晶相狀態之塗佈膜冷卻直至該聚合性液晶化合物顯示出層列液晶相為止。
  11. 一種偏光膜，其係藉由如請求項8至10中任一項之製造方法所製造。
  12. 如請求項11之偏光膜，其中於X射線之繞射測定中顯示出布拉格波峰。
  13. 一種顯示裝置，其包含如請求項11或12之偏光膜。
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