TWI670529B - 圖案偏光膜及其製造方法 - Google Patents

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TWI670529B
TWI670529B TW104112124A TW104112124A TWI670529B TW I670529 B TWI670529 B TW I670529B TW 104112124 A TW104112124 A TW 104112124A TW 104112124 A TW104112124 A TW 104112124A TW I670529 B TWI670529 B TW I670529B
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Nobuyuki Hatanaka
幡中伸行
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Sumitomo Chemical Co., Ltd.
日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種用以獲得較薄且抗反射特性優異之圖案圓偏光板之圖案偏光膜。
本發明提供一種圖案偏光膜，其係積層有基材與含有聚合性液晶化合物之聚合物及二色性色素之圖案化液晶硬化膜者，並且具有偏光度為10%以下且單體透過率為80%以上之區域(A)、與偏光度為90%以上且單體透過率為40%以上之區域(B)。

Description

圖案偏光膜及其製造方法
本發明係關於一種圖案偏光膜及其製造方法。
引用文獻1中揭示有使用有聚乙烯醇偏光膜之圖案偏光膜及含有該偏光膜之圓偏光板。但是，上述偏光膜存在製造方法繁雜且膜厚較厚之問題。專利文獻2中揭示有含有包含塗佈膜之偏光元件之偏光膜及含有該偏光膜之圓偏光板。然而，含有包含塗佈膜之圖案化之偏光元件之圖案偏光膜尚屬未知。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]美國專利第5327285號說明書
[專利文獻2]日本專利特開2006-337892號公報
需求一種用以獲得較薄且抗反射特性優異之圖案圓偏光板之圖案偏光膜。又，需求一種具有偏光度較高之區域與單體透過率較高之區域之圖案偏光膜之製造方法。
本發明包含以下發明。
[1]一種圖案偏光膜，其係積層有基材與含有聚合性液晶化合物之聚合物及二色性色素之圖案化液晶硬化膜者，並且上述圖案偏光膜具有：一個以上之偏光度為10%以下且單體透過率為80%以上之區域(A)、與一個以上之偏光度為90%以上且單體透過率為40%以上之區域(B)。
[2]如[1]之圖案偏光膜，其中區域(B)具有上述液晶硬化膜。
[3]如[1]或[2]之圖案偏光膜，其中區域(A)及區域(B)分別獨立為選自由線狀、帶狀、圓狀、文字狀及圖形狀所組成之群中之至少一種形狀。
[4]如[3]之圖案偏光膜，其中區域(A)為線狀，寬度為1μm~10mm。
[5]如[3]之圖案偏光膜，其中區域(B)為線狀，寬度為1μm~10mm。
[6]如[3]之圖案偏光膜，其中各個區域(A)具有帶狀、圓狀、文字狀或圖形狀之形狀，連續之區域(A)之面積為500mm2以下。
[7]如[3]之圖案偏光膜，其中各個區域(B)具有帶狀、圓狀、文字狀或圖形狀之形狀，連續之區域(B)之面積為500mm2以下。
[8]如[1]或[2]之圖案偏光膜，其以條紋狀具有區域(A)與區域(B)。
[9]如[8]之圖案偏光膜，其中區域(B)之寬度為1μm~10mm。
[10]如[8]之圖案偏光膜，其中區域(B)之寬度為1μm~1mm。
[11]如[1]之圖案偏光膜，其中基材係具有1/4波長板功能之相位差膜。
[12]如[1]之圖案偏光膜，其進而具有具有1/4波長板功能之相位差膜。
[13]如[11]或[12]之圖案偏光膜，其中具有1/4波長板功能之相位差膜具有反波長色散特性。
[14]如[1]之圖案偏光膜，其中基材係具有1/2波長板功能之相位差膜，於上述基材上進而積層有具有1/4波長板功能之相位差膜。
[15]如[11]、[12]及[14]中任一項之圖案偏光膜，其進而具有正C膜。
[16]一種如[1]之圖案偏光膜之製造方法，其包括下述(1)~(4)之步驟：
(1)於基材或形成有配向膜之基材之表面塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素之組合物的步驟
(2)使所塗佈之聚合性液晶化合物及二色性色素配向的步驟
(3)對配向之聚合性液晶化合物經由光罩照射活性能量線，藉此獲得含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜的步驟
(4)將上述液晶硬化膜利用23℃下之上述二色性色素之飽和溶解度為1質量%以下之溶劑進行清洗，去除上述未聚合之聚合性液晶化合物，藉此獲得圖案化液晶硬化膜的步驟。
[17]如[16]之圖案偏光膜之製造方法，其中基材係樹脂基材。
[18]如[16]或[17]之圖案偏光膜之製造方法，其中溶劑係含有醇溶劑之溶劑。
[19]如[16]之圖案偏光膜之製造方法，其中於將光罩壓接於配向之聚合性液晶化合物之狀態下照射活性能量線。
[20]如[16]之圖案偏光膜之製造方法，其中活性能量線係與基材面之法線方向平行之紫外線。
根據本發明之圖案偏光膜，可獲得較薄且抗反射特性優異之圖案 圓偏光板。又，根據本發明之圖案偏光膜之製造方法，可獲得具有偏光度較高之區域與單體透過率較高之區域之圖案偏光膜。
1‧‧‧圖案化液晶硬化膜
2‧‧‧基材
3‧‧‧1/2波長板
4‧‧‧正C膜
6‧‧‧1/4波長板
10‧‧‧圖案圓偏光板
100‧‧‧具有條紋狀之圖案區域之圖案偏光膜
101‧‧‧具有圓狀之圖案區域之圖案偏光膜
110‧‧‧形成有液晶硬化膜之區域
120‧‧‧利用光罩進行遮蔽而獲得之區域
130‧‧‧未塗佈液晶硬化膜形成用組合物之區域
210‧‧‧第1輥
210A‧‧‧捲芯
220‧‧‧第2輥
220A‧‧‧捲芯
211A、211B‧‧‧塗佈裝置
212A、212B、212C‧‧‧乾燥爐
213A‧‧‧偏光UV照射裝置
213B‧‧‧活性能量線照射裝置
214‧‧‧溶劑漕
230‧‧‧第3輥
230A‧‧‧捲芯
240‧‧‧第4輥
240A‧‧‧捲芯
300‧‧‧輔助輥
400‧‧‧圖案偏光膜之剖面
410‧‧‧液晶硬化膜
420‧‧‧基材
H‧‧‧積層有液晶硬化膜之區域之厚度
h‧‧‧液晶硬化膜之厚度
圖1係本發明之圖案偏光膜之剖面之模式圖。
圖2係具有條紋狀之圖案區域之圖案圓偏光板之模式圖。
圖3係具有圓狀之圖案區域之圖案圓偏光板之模式圖。
圖4(a)~(h)係圖案圓偏光板之模式圖。
圖5係表示圖案偏光膜之連續性製造方法(捲對捲(Roll to Roll)方式)之主要部分之模式圖。
圖6係表示圖案圓偏光板之連續性製造方法之主要部分之模式圖。
<圖案偏光膜>
本發明之圖案偏光膜係基材與圖案化液晶硬化膜之積層體。此處，所謂圖案化液晶硬化膜意指液晶硬化膜形成所期望之花紋。上述積層體係液晶硬化膜於基材上形成所期望之花紋者。
較佳為於基材與上述液晶硬化膜之間進而積層有配向膜。即，本發明之圖案偏光膜較佳為基材與配向膜與上述液晶硬化膜之積層體。
本說明書之偏光度係指將自然光轉換為直線偏光之程度，其由下述式(11)定義，可取0~100%之值。若該值為100%則自偏光膜出射之光為完全直線偏光，越接近100%則自偏光膜出射之光越成為選擇性較高之偏光，因此可謂優異之偏光膜。
偏光度(%)={(T1-T2)/(T1+T2)}×100 (11)
(此處，T1及T2分別為對偏光膜入射直線偏光時之透過率，T1為出射與透過軸方向平行之直線偏光進行測定時之透過率，T2為出射與吸收軸方向平行之直線偏光進行測定時之透過率)
本說明書之單體透過率係表示偏光膜以何種程度使入射之光透過之值，其由下述式(10)定義，可取0~100%之值。若該值為100%則偏光膜使入射光之所有光透過，若為0%則偏光膜吸收或反射入射光之所有光。
單體透過率(%)=(T1+T2)/2 (10)
(式中，T1及T2表示與上述相同含義)
於本說明書中，關於作為以僅控制某特定波長之光之方式調配有色素之所謂彩色偏光膜的圖案偏光膜，將表示光吸收之最大波長下之測定值定義為圖案偏光膜之偏光度及單體透過率。又，關於作為混合複數種色素而獲得之所謂中性灰之偏光膜的圖案偏光膜，為了表現可見光全部區域之偏光性能，將能見度修正偏光度及能見度修正單體透過率定義為圖案偏光膜之偏光度及單體透過率。
利用光罩進行遮蔽而獲得之區域(以下有時稱為區域(A))之偏光度通常為10%以下，較佳為5%以下，更佳為1%以下。該偏光度存在該區域中所存在之上述液晶硬化膜之量越少越下降之傾向。即，區域(A)較佳為不具有上述液晶硬化膜。
區域(A)之單體透過率越接近100%則透明性越高，認為應用於顯示器等時具有實用性。另一方面，該單體透過率係包括隨著空氣界面與偏光膜之折射率差之界面反射損耗在內之值，因而亦取決於基材等之材料，理論上之最大值大致為88~94%。區域(A)之單體透過率通常為80%以上，較佳為85%以上，更佳為88%以上。本發明之圖案偏光膜之單體透過率存在該區域中所存在之上述液晶硬化膜之量越少越提高之傾向。
形成有液晶硬化膜之區域(以下有時稱為區域(B))之偏光度通常為65%以上，較佳為85%以上，更佳為90%以上，進而較佳為92%以上，進而更佳為95%以上。區域(B)通常具有上述液晶硬化膜。存在液晶硬 化膜中所含之聚合性液晶化合物之聚合物之配向秩序度越高，區域(B)之偏光度越高之傾向。
對區域(B)之單體透過率而言，因與透過軸方向正交之方向之偏光之大部分因吸收而損耗，故而理論上之最大值大致為44~47%。區域(B)之單體透過率通常為40%以上，較佳為42%以上，更佳為44%以上。
作為區域(A)之形狀，可列舉：線狀、帶狀、圓狀、文字狀及圖形狀等，可為任意之形狀，但較佳之形狀為線狀。又，作為區域(B)之形狀，可列舉：線狀、帶狀、圓狀、文字狀及圖形狀等，可為任意之形狀，但較佳之形狀為線狀。又，較佳為圖案偏光膜以條紋狀具有區域(A)與區域(B)。所謂圖案偏光膜之圖案係指花紋，可僅存在於一個區域，亦可存在於複數個區域。圖案較佳為規則之花紋。
於區域(A)之形狀為線狀之情形時，該區域之寬度較佳為1μm~10mm，更佳為1μm~1mm，進而較佳為1μm~100μm。
於區域(B)之形狀為線狀之情形時，該區域之寬度較佳為1μm~10mm，更佳為1μm~1mm，進而較佳為1μm~100μm。
於圖案偏光膜以條紋狀具有區域(A)與區域(B)之情形時，區域(B)之寬度較佳為1μm~10mm，更佳為1μm~1mm，進而較佳為1μm~100μm。
連續之區域(A)之面積較佳為100mm2以下。所謂連續之區域(A)之面積，並非指圖案偏光膜整體之區域(A)之面積之合計，而係指每一個連續形成之區域(A)之面積。
連續之區域(B)之面積較佳為100mm2以下。所謂連續之區域(B)之面積，並非指圖案偏光膜整體之區域(B)之面積之合計，而係指每一個連續形成之區域(B)之面積。
區域(A)與區域(B)之表面積之合計相對於本發明之圖案偏光膜之表面積較佳為90%以上，更佳為95%以上，進而較佳為99%以上。
圖1係表示本發明之圖案偏光膜400之剖面模式圖。圖案偏光膜400積層有基材420與液晶硬化膜410，液晶硬化膜410係圖案化液晶硬化膜。圖中，H係表示積層有液晶硬化膜410之區域之厚度，h係表示液晶硬化膜之厚度。
圖案偏光膜之積層有液晶硬化膜之區域之厚度通常為6~310μm，較佳為20~200μm。
液晶硬化膜之厚度通常為0.5~10μm，較佳為1~5μm。液晶硬化膜之厚度可藉由干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計進行測定。
又，液晶硬化膜較佳為於X射線繞射測定中獲得布勒格波峰者。此種獲得布勒格波峰之液晶硬化膜存在例如顯示源自六角液相或結晶相之繞射波峰，又顯示較高偏光度之傾向。
液晶硬化膜通常係自含有聚合性液晶化合物及二色性色素之組合物而形成。於本說明書中，有時將該組合物稱為液晶硬化膜形成用組合物。
<圖案圓偏光板>
作為上述圖案偏光膜之基材，採用具有1/4波長板功能之相位差膜，或積層上述圖案偏光膜與該相位差膜，藉此可獲得顯示圓偏光特性之圖案圓偏光板。該積層例如較佳為具有1/4波長板功能之相位差膜之遲相軸(光軸)及區域(B)之透過軸實質上成為45°。
可藉由積層本發明之圖案偏光膜與具有1/4波長板功能之相位差膜(以下有時稱為1/4波長板)而獲得圖案圓偏光板。此時，較佳為以圖案偏光膜之區域(B)之透過軸與1/4波長板之遲相軸(光軸)實質上成為45°之方式積層。所謂實質上45°通常係指45±5°之範圍。又，可藉由使區域(B)之透過軸與相位差膜之光軸一致或正交而獲得作為光學補償膜發揮功能之圖案偏光膜。
1/4波長板通常具有式(40)所表示之光學特性，較佳為具有式 (40-1)所表示之光學特性。
100nm<Re(550)<160nm (40)
130nm<Re(550)<150nm (40-1)
Re(550)係表示相對於波長550nm之光之面內相位差值。
進而，1/4波長板較佳為具有反波長色散特性。所謂反波長色散特性係指短波長下之面內相位差值大於長波長下之面內相位差值的光學特性，較佳為滿足式(50)及式(51)。Re(λ)係表示相對於波長λ nm之光之面內相位差值。具備具有滿足式(50)及式(51)之光學特性之1/4波長板之圖案圓偏光板對於可見光區域之各波長之光可獲得一致之偏光轉換之特性，故而存在抗反射特性優異之傾向。
Re(450)/Re(550)≦1.00 (50)
1.00≦Re(630)/Re(550) (51)
1/4波長板可為藉由使聚合性液晶化合物聚合而形成之塗佈膜，亦可為延伸膜。具有滿足式(50)及式(51)之光學特性之1/4波長板係藉由使特定之聚合性液晶化合物聚合、或使包含具有特定之結構之高分子之膜延伸而獲得。作為聚合性液晶化合物，可為與液晶硬化膜形成用組合物中所含之聚合性液晶化合物相同者，亦可為不同者。可使用市售之聚合性液晶化合物，作為市售品之例，可列舉：BASF公司製造之製品名“LC242”。又，作為滿足式(50)及(51)之之特定之聚合性液晶化合物，可列舉日本專利5463666號中揭示之化合物。
1/4波長板之遲相軸之方向較佳為相對於1/4波長板之長邊方向為0°±10°或90°±10°。若使用此種1/4波長板，則可容易地獲得圖案圓偏光板。
於1/4波長板為藉由使聚合性液晶化合物聚合而形成之塗佈膜之情形時，其遲相軸方向係根據聚合性液晶化合物之配向方向而決定。
於1/4波長板為延伸膜之情形時，其遲相軸方向根據延伸方法而有 所不同，根據單軸、雙軸或斜向延伸等延伸方法而決定遲相軸及光軸。沿長邊方向單軸延伸之延伸膜之生產性較高，富有通用性，故而較佳。
圖案偏光膜與1/4波長板之積層較佳為藉由接著劑貼合而進行。
亦可自圖案偏光膜卸除基材或基材及配向膜而使用。例如，亦可於使用接著劑貼合圖案偏光膜之形成圖案化液晶硬化膜之面與1/4波長板等其他構件後，卸除該圖案偏光膜之基材或基材及配向膜。此時，接著劑可塗佈於圖案偏光膜上，亦可塗佈於其他構件上。較佳為塗佈於圖案偏光膜所具有之圖案化液晶硬化膜或其他構件上。
上述圖案圓偏光板可進而具有選自由具有1/2波長板功能之相位差膜(以下有時稱為1/2波長板)及正C膜所組成之群中之一個以上，進而亦可具有抗反射層、增亮膜及保護層。
所謂保護層，係起到保護液晶硬化膜免受外部刺激之作用。作為形成保護層之成分，若為形成時不侵入液晶硬化膜者即可，較佳可列舉：(甲基)丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、尿素樹脂、矽樹脂、聚乙烯醇等水溶性高分子。可分別以聚合物之形態溶解於溶劑中再塗佈於液晶硬化膜上而形成，亦可以單體之形態溶解於溶劑中或直接塗佈單體本身而形成後再加以聚合。
1/2波長板通常具有滿足式(60)之光學特性。
200nm<Re(550)<320nm(60)
Re(550)係表示相對於波長550nm之光之面內相位差值。
正C膜通常具有滿足式(70)之光學特性。式中，nx係表示於正C膜形成之折射率楕圓體中相對於膜平面為平行之方向之主折射率。ny係表示於正C膜形成之折射率楕圓體中相對於膜平面為平行且相對於該nx之方向為正交之方向之折射率。nz係表示於正C膜形成之折射率楕圓體中相對於膜平面為垂直之方向之折射率。
1/2波長板及正C膜可為藉由使聚合性液晶化合物聚合而形成之塗 佈膜，亦可為延伸膜。
nx≒ny<nz (70)
至於作為藉由使聚合性液晶化合物聚合而形成之塗佈膜之1/4波長板、1/2波長板及正C膜，可列舉：日本專利特開2010-31223號公報、日本專利特開2010-270108號公報、日本專利特開2011-6360號公報及日本專利特開2011-207765號公報中揭示之相位差膜等。
至於作為延伸膜之1/4波長板，可列舉：「PURE-ACE(註冊商標)WR」(帝人股份有限公司有限公司製造)等。
至於作為延伸膜之正C膜，可列舉：日本專利特開2008-129465號公報中揭示之延伸膜及公知之多層擠出膜等。
上述圖案圓偏光板之抗反射特性優異。於本發明中，所謂圖案圓偏光板之抗反射特性優異係指可對所期望之區域賦予抗反射特性。對圖案圓偏光板而言，於經由圖案圓偏光板對反射板入射可見區域之光而測定反射率時，具有反射率較高之區域與反射率較低之區域。具有上述區域(A)之區域相當於反射率較高之區域，積層有上述區域(B)之區域相當於反射率較低之區域。
藉由使用具有此種特性之圖案圓偏光板，可僅對顯示裝置之需要之區域賦予抗反射特性。
抗反射特性除可藉由測定上述反射率而評價以外，亦可藉由測定各波長之楕圓率而評價。所謂楕圓率，係自圓偏光之偏光剖面之短軸相對於長軸之比求得，具體而言，完全圓偏光時之楕圓率為100%，直線偏光時之楕圓率為0%。各波長之楕圓率越接近100%，越成為優異之圓偏光板，抗反射特性越優異。即，具有區域(A)之區域之楕圓率越接近0%，積層有區域(B)之區域之楕圓率越接近100%，越成為優異之圖案圓偏光板。
於將不經由圖案圓偏光板而對反射板入射光進行測定之反射率 設為100%，圖案圓偏光板之具有區域(A)之區域之反射率較佳為75%以上，更佳為80%以上，進而較佳為85%以上。同樣，積層有區域(B)之區域之反射率較佳為15%以下，更佳為10%以下，進而較佳為5%以下。
圖案圓偏光板之具有區域(A)之區域之相對於波長450nm之光之楕圓率較佳為20%以下，更佳為5%以下。同樣相對於波長550nm之光之楕圓率較佳為20%以下，更佳為5%以下。同樣相對於波長590nm之光之楕圓率較佳為20%以下，更佳為5%以下。同樣相對於波長630nm之光之楕圓率較佳為20%以下，更佳為5%以下。
圖案圓偏光板之積層有區域(B)之區域之楕圓率較佳為80%以上，更佳為90%以上。尤其於中性灰之圖案偏光膜中，相對於波長450nm之光之楕圓率較佳為60%以上，更佳為70%以上。同樣相對於波長550nm之光之楕圓率較佳為80%以上，更佳為90%以上。同樣相對於波長590nm之光之楕圓率較佳為80%以上，更佳為90%以上。同樣相對於波長630nm之光之楕圓率較佳為60%以上，更佳為70%以上。
圖4係以剖面模式圖表示圖案圓偏光板10之構成例。
圖4(a)及(b)係具有圖案化液晶硬化膜1、基材2及1/4波長板6之圖案圓偏光板10。
圖4(c)及(d)係具有圖案化液晶硬化膜1、基材2、1/4波長板6及1/2波長板3之圖案圓偏光板10。
圖4(e)係具有圖案化液晶硬化膜1、1/4波長板6及1/2波長板3之圖案圓偏光板10。該圖案圓偏光板可藉由使用1/2波長板3作為基材，於其表面形成圖案化液晶硬化膜而獲得。又，亦可藉由將圖案偏光膜所具有之圖案化液晶硬化膜貼合於1/2波長板3上後，去除圖案偏光膜所具有之基材，進而積層1/4波長板6而獲得。
圖4(f)~(h)係具有圖案化液晶硬化膜1、1/4波長板6、1/2波長板3及正C膜4之圖案圓偏光板10。該等圖案圓偏光板可藉由與圖4(e)所示 之圖案圓偏光板相同之方法而製造。
於積層1/4波長板與1/2波長板製作圖案圓偏光板之情形時，較佳為首先以相對於圖案偏光膜所具有之圖案化液晶硬化膜之吸收軸，其遲相軸成為75°之方式積層1/2波長板，其次以其遲相軸成為15°之方式積層1/4波長板。
正C膜之積層順序並無限制，但必須以圖案偏光膜所具有之圖案化液晶硬化膜、1/2波長板及1/4波長板之順序積層。藉由以此種方式積層，所得圖案圓偏光板對於可見光區域之各波長之光可獲得一致之偏光轉換之特性，故而存在抗反射特性優異之傾向。
本發明之圖案偏光膜及上述圖案圓偏光板可視需要進行剪裁，使用於各種顯示裝置中。圖案偏光膜及圖案圓偏光板通常係經由接著劑或感壓式接著劑而貼合於顯示裝置上。
所謂顯示裝置係指具有顯示元件之裝置，係含有發光元件或發光裝置作為發光源者。作為具備該圖案偏光膜或該圖案圓偏光板之顯示裝置，例如可列舉：液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如電場發射顯示裝置(FED)、表面場發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用有電子油墨或電泳元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如柵狀光閥(GLV)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(DMD)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置包含透過型液晶顯示裝置、半透過型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置等之任一者。該等顯示裝置可為顯示二維圖像之顯示裝置，亦可為顯示三維圖像之立體顯示裝置。該圖案偏光膜及該圖案圓偏光板可尤其有效地用於有機電致發光(EL)顯示裝置及無機電致發光(EL)顯示裝置等顯示裝置、以及含有觸控面板之顯示裝置中。
<基材>
基材可為玻璃基材亦可為樹脂基材，較佳為樹脂基材。藉由使用包含樹脂之膜基材，可獲得較薄之圖案偏光膜。
樹脂基材較佳為透明樹脂基材。所謂透明樹脂基材係指可使光、尤其可見光透過之具有透光性之基材，所謂透光性係指對於遍及380nm~780nm之光線之能見度修正透過率為80%以上之特性。
基材較佳為1/4波長板。藉由於基材中使用1/4波長板，可不積層圖案偏光膜與1/4波長板而獲得圖案圓偏光板。
作為可用作基材之較佳1/4波長板，可列舉與上述1/4波長板相同者。
又，基材亦可為1/2波長板。
作為構成基材之樹脂，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯、降烯系聚合物等聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素及醋酸丙酸纖維素等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚；及聚苯醚等。較佳為纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚醚碸、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯。
纖維素酯係纖維素中所含之羥基之至少一部分經酯化者，可自市場獲取。又，含有纖維素酯之基材亦可自市場獲取。作為市售之含有纖維素酯之基材，可列舉：Fujitac(註冊商標)膜(富士軟片(股份有限公司))、KC8UX2M(Konica Minolta Opto(股份有限公司))、KC8UY(Konica Minolta Opto(股份有限公司))及KC4UY(Konica Minolta Opto(股份有限公司))等。
所謂環狀烯烴系樹脂係指包含降烯或多環降烯系單體等環狀烯烴之聚合物或該等之共聚物者。該環狀烯烴系樹脂可含有開環結構，又，亦可為將含有開環結構之環狀烯烴系樹脂氫化者。又，該環狀烯烴系樹脂亦可於不明顯損害透明性、不顯著增大吸濕性之範圍 內，含有源自鏈狀烯烴及乙烯化芳香族化合物之結構單元。又，該環狀烯烴系樹脂亦可於其分子內導入極性基。
作為鏈狀烯烴，可列舉乙烯及丙烯等，作為乙烯化芳香族化合物，可列舉：苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯等。
於環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與鏈狀烯烴或乙烯化芳香族化合物之共聚物之情形時，源自環狀烯烴之結構單元之含量相對於共聚物之全部結構單元，通常為50莫耳%以下，較佳為15~50莫耳%。
於環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與鏈狀烯烴與乙烯化芳香族化合物之三元共聚物之情形時，源自鏈狀烯烴之結構單元之含量相對於共聚物之全部結構單元，通常為5~80莫耳%，源自乙烯化芳香族化合物之結構單元之含有比例相對於共聚物之全部結構單元，通常為5~80莫耳%。此種三元共聚物具有可使高價之環狀烯烴之使用量較少的優點。
環狀烯烴系樹脂可自市場獲取。作為市售之環狀烯烴系樹脂，可列舉：Topas(註冊商標)(Ticona公司(獨))、ART0N(註冊商標)(JSR(股份有限公司))、ZEONOR(ZEONOR)(註冊商標)(日本ZEON(股份有限公司))、ZEONEX(ZEONEX)(註冊商標)(日本ZEON(股份有限公司))及APEL(註冊商標)(三井化學(股份有限公司))等。可藉由例如溶劑澆鑄法、熔融擠出法等公知之方法將此種環狀烯烴系樹脂製膜，而製為基材。作為市售之含有環狀烯烴系樹脂之基材，可列舉：S-SINA(註冊商標)(積水化學工業(股份有限公司))、SCA40(註冊商標)(積水化學工業(股份有限公司))、ZEONOR膜(註冊商標)(Optronics(股份有限公司))及ART0N膜(註冊商標)(JSR(股份有限公司))等。
可對基材實施表面處理。作為表面處理之方法，例如可列舉：於自真空至大氣壓之環境下，以電暈或電漿處理基材表面的方法；對基材表面進行雷射處理的方法；對基材表面進行臭氧處理的方法；對基 材表面進行皂化處理的方法；對基材表面進行火焰處理的方法；於基材表面塗佈偶合劑的方法；對基材表面進行底塗處理的方法及使反應性單體或具有反應性之聚合物附著於基材表面後照射輻射、電漿或紫外線使之反應的接枝聚合法等。其中，較佳為於自真空至大氣壓之環境下，對基材表面進行電暈或電漿處理的方法。
作為以電暈或電漿進行基材之表面處理的方法，可列舉：於大氣壓附近之壓力下，於對向之電極間設置基材，產生電暈或電漿，進行基材之表面處理的方法；於對向之電極間流通氣體，於電極間將氣體電漿化，將電漿化之氣體吹附於基材的方法；及於低壓條件下產生輝光放電電漿，進行基材之表面處理的方法。
其中，較佳為於大氣壓附近之壓力下，於對向之電極間設置基材，產生電暈或電漿，進行基材之表面處理的方法；或於對向之電極間流通氣體，於電極間將氣體電漿化，將電漿化之氣體吹附於基材的方法。該藉由電暈或電漿之表面處理通常可藉由市售之表面處理裝置而進行。
基材可於與塗佈液晶硬化膜形成用組合物之面相反之面具有保護膜。作為保護膜，可列舉：聚乙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯及聚烯烴等膜、以及於該膜上進而具有黏著層之膜等。其中，對聚對苯二甲酸乙二酯而言，因乾燥時之熱變形較小，故而較佳。藉由於與塗佈液晶硬化膜形成用組合物之面相反之面具有保護膜，可抑制基材搬送時之膜之晃動或塗佈面之少許振動，可提高塗膜之均勻性。
作為基材之厚度，於可進行實用性之操作之程度之重量的方面而言，較佳為較薄，但若過薄，則存在強度下降、加工性變差之傾向。基材之厚度通常為5~300μm，較佳為20~200μm。
基材之長邊方向之長度通常為10~3000m，較佳為100~2000m。基材之短邊方向之長度通常為0.1~5m，較佳為0.2~2m。
<配向膜>
本發明中所謂配向膜係指具有使聚合性液晶化合物於所期望之方向進行液晶配向之配向限制力者。
作為配向膜，較佳為具有不會因液晶硬化膜形成用組合物之塗佈等而溶解之耐溶劑性，又，具有用以去除溶劑或使聚合性液晶化合物配向之加熱處理之耐熱性者。作為該配向膜，可列舉：含有配向性聚合物之配向膜、光配向膜及於表面形成凹凸圖案或複數個槽並使之配向之溝槽配向膜等。
作為配向性聚合物，可列舉：分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺及作為其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚唑、聚伸乙基亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類。其中，較佳為聚乙烯醇。亦可組合使用兩種以上之配向性聚合物。
含有配向性聚合物之配向膜通常可藉由將使配向性聚合物溶解於溶劑中而成之組合物(以下，有時稱為配向性聚合物組合物)塗佈於基材上並去除溶劑，或將配向性聚合物組合物塗佈於基材上，去除溶劑，進行摩擦(摩擦法)而形成於基材之表面。
作為上述溶劑，可列舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖素、丁基溶纖素、丙二醇單甲醚等醇溶劑，乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶劑，丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮等酮溶劑，戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑，甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑，乙腈等腈溶劑，四氫呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶劑，及氯仿、氯苯等氯化烴溶劑。該等溶劑可單獨使用，亦可組合兩種以上而使用。
配向性聚合物組合物中之配向性聚合物之濃度為可使配向性聚 合物完全溶解於溶劑中之範圍即可，相對於溶液以固形物成分換算計較佳為0.1~20質量%，更佳為0.1至10質量%左右。
作為配向性聚合物組合物，亦可直接使用市售之配向膜材料。作為市售之配向膜材料，可列舉：Sunever(註冊商標，日產化學工業(股份有限公司)製造)、Optomer(註冊商標，JSR(股份有限公司)製造)等。
作為將配向性聚合物組合物塗佈於基材上之方法，可列舉：旋轉塗佈法、擠壓塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法、狹縫式塗佈法、棒式塗佈法、敷料器法等塗佈法，軟版法等印刷法等公知方法。於藉由下述捲對捲方式之連續性製造方法而製造圖案偏光膜之情形時，該塗佈方法通常採用凹版塗佈法、模嘴塗佈法或軟版法等印刷法。
作為去除配向性聚合物組合物中所含之溶劑之方法，可列舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
為了對配向膜賦予配向限制力，視需要進行摩擦(摩擦法)。藉由選擇摩擦方向，可任意地控制配向限制力之方向。
作為藉由摩擦法而賦予配向限制力之方法，可列舉：使藉由將配向性聚合物組合物塗佈於基材上並退火而形成於基材表面之配向性聚合物之膜與捲繞摩擦布並旋轉之摩擦輥接觸之方法。
光配向膜通常係藉由將含有具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑之組合物(以下，有時稱為「光配向膜形成用組合物」)塗佈於基材上並照射光(較佳為偏光UV(偏光紫外線))而形成於基材之表面。光配向膜可藉由選擇照射之光之偏光方向而任意地控制配向限制力之方向，故而更佳。
所謂光反應性基係指藉由光照射而產生液晶配向能之基。具體而言，可列舉：與藉由光照射而產生之分子之配向誘導或異構化反應、二聚化反應、光交聯反應或光分解反應等成為液晶配向能之起源之光反應相關之基。其中，就配向性優異之方面而言，較佳為與二聚化反 應或光交聯反應相關之基。作為光反應性基，較佳為具有不飽和鍵、尤其是雙鍵之基，尤佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群中之至少一者之基。
作為具有C=C鍵之光反應性基，可列舉：乙烯基、多烯基、茋基、苯乙烯基吡啶基、苯乙烯基吡啶鎓基、查耳酮基及桂皮醯基。作為具有C=N鍵之光反應性基，可列舉：具有芳香族希夫鹼、芳香族腙等結構之基。作為具有N=N鍵之光反應性基，可列舉：偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基、甲臢基及具有氧化偶氮苯結構之基。作為具有C=O鍵之光反應性基，可列舉：二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及順丁烯二醯亞胺基。該等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、鹵化烷基等取代基。
其中，較佳為與光二聚化反應相關之光反應性基，就光配向所需之偏光照射量較少且易獲得熱穩定性或經時穩定性優異之光配向膜之方面而言，較佳為桂皮醯基及查耳酮基。作為具有光反應性基之聚合物，尤佳為該聚合物側鏈之末端部具有成為桂皮酸結構之桂皮醯基者。
作為光配向膜形成用組合物中所含之溶劑，可列舉與上述配向性聚合物組合物中所含之溶劑相同者，可根據具有光反應性基之聚合物或單體之溶解性而適宜選擇。
光配向膜形成用組合物中之具有光反應性基之聚合物或單體之含量可根據聚合物或單體之種類或目標光配向膜之厚度而適宜調節，較佳為至少0.2質量%，更佳為0.3~10質量%之範圍。於不明顯損害光配向膜之特性之範圍內，光配向膜形成用組合物亦可含有聚乙烯醇或聚醯亞胺等高分子材料或光敏劑。
作為將光配向膜形成用組合物塗佈於基材上之方法，可列舉與將配向性聚合物組合物塗佈於基材上之方法相同的方法。作為自所塗佈 之光配向膜形成用組合物去除溶劑之方法，例如可列舉與自配向性聚合物組合物去除溶劑之方法相同的方法。
照射偏光時，可採用對自塗佈於基材上之光配向膜形成用組合物去除溶劑者直接照射偏光UV的形式，亦採用自基材側照射偏光，使偏光透過而照射之形式。又，該偏光尤佳為實質之平行光。照射之偏光之波長較佳為具有光反應性基之聚合物或單體之光反應性基可吸收光能之波長區域者。具體而言，尤佳為波長250~400nm之範圍之UV(紫外線)。作為該偏光照射中所使用之光源，可列舉：氙氣燈，高壓水銀燈，超高壓水銀燈，金屬鹵素燈，KrF、ArF等紫外光雷射等，更佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵素燈。該等燈於波長313nm之紫外線之發光強度方面較大，故而較佳。可藉由使來自上述光源之光通過適當之偏光元件進行照射，而照射偏光UV。作為該偏光元件，可使用偏光過濾器或格蘭-湯姆森、格蘭-泰勒等偏光稜鏡或線柵型之偏光元件。
再者，進行摩擦或偏光照射時，若進行遮蔽，則亦可形成液晶配向之方向不同之複數個區域(圖案)。
溝槽配向膜係藉由膜表面之凹凸圖案或複數個槽而獲得液晶配向能之膜。根據H.V.Kennel等人，報告有如下事實：於具有複數個等間隔排列之直線狀之溝槽(槽)之基材中放置液晶分子之情形時，液晶分子於沿該槽之方向配向(Physical Review A24(5)，2713頁，1981年)。
作為將溝槽配向膜形成於基材表面之具體方法，可列舉：對感光性聚醯亞胺表面經由具有週期性圖案形狀之狹縫之曝光用遮罩進行曝光後，進行顯影及沖洗處理去除不需要之聚醯亞胺膜而形成凹凸圖案的方法；於表面具有槽之板狀之母盤上形成UV硬化樹脂層，將樹脂層移至基材膜後加以硬化的方法；搬送形成有UV硬化樹脂層之基材膜，將具有複數個槽之輥狀母盤抵壓於UV硬化樹脂層表面形成凹凸後加 以硬化的方法等，可使用日本專利特開平6-34976號公報、日本專利特開2011-242743號公報揭示之方法等。
上述方法中，較佳為將具有複數個槽之輥狀母盤抵壓於UV硬化樹脂層表面形成凹凸後加以硬化的方法。作為輥狀母盤，自耐久性之觀點而言，可使用不鏽(SUS)鋼。
作為UV硬化樹脂，可使用單官能丙烯酸酯之聚合物、多官能丙烯酸酯之聚合物或該等之混合物之聚合物。
所謂單官能丙烯酸酯係指分子內具有1個選自由丙烯醯氧基(CH2=CH-COO-)及甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)-COO-)所組成之群中之基(以下，有時亦記為(甲基)丙烯醯氧基)的化合物。
作為具有1個(甲基)丙烯醯氧基之單官能丙烯酸酯，可列舉：碳數4至16之烷基(甲基)丙烯酸酯、碳數2至14之β羧基烷基(甲基)丙烯酸酯、碳數2至14之烷基化苯基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸異酯等。
所謂多官能丙烯酸酯，通常係指分子內具有2個至6個(甲基)丙烯醯氧基的化合物。
作為具有2個(甲基)丙烯醯氧基之雙官能丙烯酸酯，可例示：1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯；1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；聚乙二醇二丙烯酸酯；雙酚A之雙(丙烯醯氧基乙基)醚；乙氧化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯；丙氧化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙氧化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及3-甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作為具有3個至6個(甲基)丙烯醯氧基之多官能丙烯酸酯，可列舉：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；三(2-羥乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯；乙氧化三羥甲基丙烷三(甲 基)丙烯酸酯；丙氧化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；己內酯改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三(2-羥乙基)異氰尿酸酯三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；己內酯改性季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物；己內酯改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物及己內酯改性三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐之反應物等。再者，於此處例示之多官能丙烯酸酯之具體例中，所謂(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。又，所謂己內酯改性係指於(甲基)丙烯酸酯化合物之來自醇之部位與(甲基)丙烯醯氧基之間導入己內酯之開環體或開環聚合物。
該多官能丙烯酸酯亦可使用市售品。作為該市售品，可列舉：A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT(新中村化 學股份有限公司有限公司製造)，“ARONIX M-220”、“ARONIX M-325”、“ARONIX M-240”、“ARONIX M-270”“ARONIX M-309”“ARONIX M-310”、“ARONIX M-321”、“ARONIX M-350”、“ARONIX M-360”、“ARONIX M-305”、“ARONIX M-306”、“ARONIX M-450”、“ARONIX M-451”、“ARONIX M-408”、“ARONIX M-400”、“ARONIX M-402”、“ARONIX M-403”、“ARONIX M-404”、“ARONIX M-405”、“ARONIX M-406”(東亞合成股份有限公司有限公司製造)，“EBECRYL11”、“EBECRYL145”、“EBECRYL150”、“EBECRYL40”、“EBECRYL140”、“EBECRYL180”、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYL系列(Daicel-Cytec股份有限公司有限公司製造)等。
作為溝槽配向膜之凹凸，凸部之寬度較佳為0.05~5μm，凹部之寬度較佳為0.1~5μm，凹凸之階差之深度為2μm以下，較佳為0.01~1μm以下。若為該範圍，則可獲得配向混亂較小之液晶配向。
配向膜之厚度通常為10nm~10000nm，較佳為10nm~1000nm，更佳為10nm~500nm。
<聚合性液晶化合物>
所謂聚合性液晶化合物係指具有聚合性基且具有液晶性之化合物。
所謂聚合性基係指與聚合反應相關之基，較佳為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基係指可藉由自下述光聚合起始劑產生之活性自由基或酸等而參與聚合反應之基。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯 醯氧基。液晶性可為熱致性液晶亦可為液向性液晶，又，作為熱致液晶之相秩序結構，可為向列型液晶亦可為層列型液晶。
作為聚合性液晶化合物，自獲得更高之偏光特性之方面而言，較佳為層列型液晶化合物，更佳為高次層列型液晶化合物。其中，更佳為形成層列型B相、層列型D相、層列型E相、層列型F相、層列型G相、層列型H相、層列型I相、層列型J相、層列型K相或層列型L相之高次層列型液晶化合物，進而較佳為形成層列型B相、層列型F相或層列型I相之高次層列型液晶化合物。若聚合性液晶化合物形成之液晶相為該等高次層列型相，則可製造配向秩序度更高之液晶硬化膜，獲得較高之偏光度。又，此種配向秩序度較高之液晶硬化膜可於X射線繞射測定中獲得源自六角液相或結晶相之高次結構之布勒格波峰。該布勒格波峰係源自分子配向之週期結構之波峰，可獲得其週期間隔為3.0~6.0Å之膜。作為此種化合物，具體可列舉下述式(1)所表示之化合物(以下，有時稱為化合物(1))等。該聚合性液晶化合物可單獨使用，亦可組合使用。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (1)
[式(1)中，X1、X2及X3相互獨立表示可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己-1,4-二基；其中，X1、X2及X3中至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基；構成環己-1,4-二基之-CH2-可由-O-、-S-或-NR-取代；R表示碳數1~6之烷基或苯基；Y1及Y2相互獨立表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa=N-；Ra及Rb相互獨立表示氫原子或碳數1~4之烷基；U1及U2表示氫原子或聚合性基，至少一個為聚合性基；W1及W2相互獨立表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-； V1及V2相互獨立表示可具有取代基之碳數1~20之烷二基，構成該烷二基之-CH2-可由-O-、-S-或-NH-取代]
於化合物(1)中，較佳為X1、X2及X3中至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基。
可具有取代基之1,4-伸苯基較佳為未經取代。可具有取代基之環己-1,4-二基較佳為可具有取代基之反-環己-1,4-二基，可具有取代基之反-環己-1,4-二基較佳為未經取代。
作為可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己-1,4-二基可任意具有之取代基，可列舉：甲基、乙基及丁基等碳數1~4之烷基，氰基及鹵素原子等。
Y1較佳為-CH2CH2-COO-或單鍵，Y2較佳為-CH2CH2-或-CH2O-。
U2為氫原子或聚合性基。U1為氫原子或聚合性基，較佳為聚合性基。較佳為U1及U2均為聚合性基，較佳為均為光聚合性基。具有光聚合性基之聚合性液晶化合物於可於更低溫之條件下聚合之方面有利。
U1及U2所表示之聚合性基可相互不同，但較佳為相同。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。
作為V1及V2所表示之烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙-1,3-二基、丁-1,3-二基、丁-1,4-二基、戊-1,5-二基、己-1,6-二基、庚-1,7-二基、辛-1,8-二基、癸-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及二十烷-1,20-二基等。V1及V2較佳為碳數2~12之烷二基，更佳為碳數6~12之烷二基。
作為可具有取代基之碳數1~20之烷二基可任意具有之取代基，可列舉氰基及鹵素原子等，但該烷二基較佳為未經取代，更佳為未經 取代且直鏈狀之烷二基。
較佳為W1及W2相互獨立為單鍵或-O-。
作為化合物(1)之具體例，可列舉：式(1-1)~式(1-23)所表示之化合物等。於化合物(1)具有環己-1,4-二基之情形時，該環己-1,4-二基較佳為反式體。
例示之化合物(1)中，較佳為選自由式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)、式(1-6)、式(1-7)、式(1-8)、式(1-13)、式(1-14)及式(1-15)分別所表示之化合物所組成之群中之至少一種。
例示之化合物(1)可單獨或組合用於液晶硬化膜形成用組合物中。又，於組合兩種以上之聚合性液晶化合物之情形時，較佳為至少一種為化合物(1)，更佳為兩種以上為化合物(1)。藉由組合，有時即使於液晶-結晶相轉移溫度以下之溫度下亦可短暫保持液晶性。作為組合兩種聚合性液晶化合物之情形時之混合比，通常為1：99~50：50，較佳為5：95~50：50，更佳為10：90~50：50。
聚合性液晶化合物例如可藉由Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)及日本專利第4719156號等中揭示之公知方法而製造。
作為液晶硬化膜形成用組合物中之聚合性液晶化合物之含有比例，自提高聚合性液晶化合物之配向性之觀點而言，相對於液晶硬化膜形成用組合物之固形物成分100質量份，通常為70~99.5質量份，較佳為80~99質量份，更佳為80~94質量份，進而較佳為80~90質量份。 所謂本說明書之固形物成分係指自液晶硬化膜形成用組合物去除溶劑之成分之總量。
液晶硬化膜形成用組合物含有二色性色素，較佳為含有聚合起始劑及溶劑。又，亦可含有增感劑、聚合抑制劑、調平劑及聚合性非液晶化合物等。
<二色性色素>
所謂二色性色素係指具有如下性質之色素：分子之長軸方向之吸光度與短軸方向之吸光度不同。
作為二色性色素，較佳為於300~700nm之範圍內具有吸收最大波長(λMAX)者。作為此種二色性色素，例如可列舉：吖啶色素、色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉：單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及茋偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素。二色性色素可單獨或組合，於要求於可見光全部區域獲得偏光性能之情形時較佳為組合三種以上。此時尤佳為組合三種以上之偶氮化合物。
作為偶氮色素，例如可列舉：式(2)所表示之化合物(以下，有時稱為「化合物(2)」)。
A1(-N=N-A2)p-N=N-A3 (2)
[式(2)中，A1及A3相互獨立表示可具有取代基之苯基、可具有取代基之萘基或可具有取代基之1價之雜環基；A2表示可具有取代基之1,4-伸苯基、可具有取代基之萘-1,4-二基或可具有取代基之2價之雜環基；p表示1~4之整數；於p為2以上之整數之情形時，複數個存在之A2相互獨立，可相同亦可不同]
作為1價之雜環基，可列舉：自喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、唑及苯并唑等雜環化合物去除1個氫原子 之基。作為2價之雜環基，可列舉自上述雜環化合物去除2個氫原子之基。
作為A1及A3之苯基、萘基及1價之雜環基以及A2之對伸苯基、萘-1,4-二基及2價之雜環基任意具有之取代基，可列舉：碳數1~4之烷基；甲氧基、乙氧基及丁氧基等碳數1~4之烷氧基；三氟甲基等碳數1~4之氟化烷基；氰基；硝基；鹵素原子；胺基、二乙胺基及吡咯烷基等經取代或未經取代之胺基(所謂經取代之胺基係指具有1個或2個碳數1~6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2~8之烷二基之胺基；未經取代之胺基係-NH2)。再者，碳數1~6之烷基之具體例係與化合物(1)之伸苯基等任意具有之取代基中例示者相同。
化合物(2)之中，較佳為以下式(2-1)~式(2-6)所分別表示之化合物。
[式(2-1)~(2-6)中，B1~B20相互獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基、碳數1~4之烷氧基、氰基、硝基、經取代或未經取代之胺基(經取代之胺基及未經取代之胺基之定義如上所述)、氯原子或三氟甲基；n1~n4相互獨立表示0~3之整數；於n1為2以上之情形時，複數個B2相互獨立，可相同亦可不同，於n2為2以上之情形時，複數個B6相互獨立，可相同亦可不同，於n3為2以上之情形時，複數個B9相互獨立，可相同亦可不同，於n4為2以上之情形時，複數個B14相互獨立，可相同亦可不同]
作為上述蒽醌色素，較佳為式(2-7)所表示之化合物。
[式(2-7)中，R1~R8相互獨立表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx 或鹵素原子；Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基]
作為上述色素，較佳為式(2-8)所表示之化合物。
[式(2-8)中，R9~R15相互獨立表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子；Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基]
作為上述吖啶色素，較佳為式(2-9)所表示之化合物。
[式(2-9)中，R16~R23相互獨立表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵素原子；Rx表示碳數1~4之烷基或碳數6~12之芳基]
作為式(2-7)、式(2-8)及式(2-9)中之Rx所表示之碳數1~4之烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基等，作為碳數6~12之芳基，可列舉：苯基、甲苯甲醯基、二甲苯基及萘基等。
作為上述花青色素，較佳為式(2-10)所表示之化合物及式(2-11)所表示之化合物。
[式(2-10)中，D1及D2相互獨立表示式(2-10a)~式(2-10d)之任一者所表示之基；
n5表示1~3之整數]
[式(2-11)中，D3及D4相互獨立表示式(2-11a)~式(2-11h)之任一者所表示之基；
n6表示1~3之整數]
作為液晶硬化膜形成用組合物中之二色性色素之含量，自使二色性色素之配向變得良好之觀點而言，相對於液晶硬化膜形成用組合物之固形物成分100質量份，較佳為0.1質量份以上、30質量份以下，更佳為0.1質量份以上、20質量份以下，進而較佳為0.1質量份以上、10質量份以下，尤佳為0.1質量份以上、5質量份以下。若二色性色素之含量為該範圍內，則聚合性液晶化合物之液晶配向不容易混亂，故而較佳。
<聚合起始劑>
聚合起始劑係可使聚合性液晶化合物等之聚合反應開始之化合物。作為聚合起始劑，較佳為藉由光作用產生活性自由基之光聚合起始劑。
作為聚合起始劑，例如可列舉：安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三化合物、錪鹽及鋶鹽等。
作為安息香化合物，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚及安息香異丁醚等。
作為二苯甲酮化合物，例如可列舉：二苯甲酮、鄰苯甲醯苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3',4,4'-四(第三丁基過氧化羰基)二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
作為烷基苯酮化合物，例如可列舉：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基噻吩基)丙-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙-1-酮之低聚物等。
作為醯基氧化膦化合物，可列舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧 化膦及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。
作為三化合物，例如可列舉：2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三及2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三等。
聚合起始劑可使用市售者。作為市售之聚合起始劑，可列舉：Irgacure(註冊商標)907、184、651、819、250及369(Ciba Japan(股份有限公司))；Seikuol(註冊商標)BZ、Z及BEE(精工化學(股份有限公司))；kayacure(註冊商標)BP100及UVI-6992(Dow公司製造)；Adeka Optomer SP-152及SP-170(ADEKA(股份有限公司))；TAZ-A及TAZ-PP(Nihon SiberHegner公司)；及TAZ-104(三和化學公司)等。
作為聚合起始劑之含量，自使聚合性液晶化合物之配向不容易混亂之觀點而言，相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。
<溶劑>
作為溶劑，較佳為可完全溶解聚合性液晶化合物及二色性色素者，又，較佳為對聚合性液晶化合物之聚合反應為惰性之溶劑。
作為溶劑，可列舉：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯 仿及氯苯等含氯之溶劑；等。該等溶劑可單獨使用或組合。
溶劑之含量較佳為相對於液晶硬化膜形成用組合物之總量為50~98質量%。換言之，液晶硬化膜形成用組合物中之固形物成分較佳為2~50質量%。若該固形物成分為50質量%以下，則液晶硬化膜形成用組合物之黏度變低，因此液晶硬化膜之厚度變得大致均勻，藉此存在該液晶硬化膜中難以產生不均之傾向。又，該固形物成分可考慮欲製造之液晶硬化膜之厚度而決定。
<增感劑>
作為增感劑，較佳為光敏劑。作為增感劑，例如可列舉：酮(xanthone)及9-氧硫等酮化合物(例如2,4-二乙基-9-氧硫、2-異丙基-9-氧硫等)；蒽及含烷氧基之蒽(例如二丁氧基蒽等)等蒽化合物；啡噻(phenothiazine)及紅螢烯等。
液晶硬化膜形成用組合物中之增感劑之含量相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。
<聚合抑制劑>
作為上述聚合抑制劑，可列舉：對苯二酚、含烷氧基之對苯二酚、含烷氧基之鄰苯二酚(例如丁基鄰苯二酚等)、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-鄰苯三酚自由基等自由基捕捉劑；苯硫酚類；β-萘類及β-萘酚類等。
液晶硬化膜形成用組合物中之聚合抑制劑之含量相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。
<調平劑>
所謂調平劑係指具有調整液晶硬化膜形成用組合物之流動性，使液晶硬化膜形成用組合物之塗佈膜變得更平坦的功能者，例如可列舉 界面活性劑。作為較佳之調平劑，可列舉：以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑及含氟原子之化合物為主成分之調平劑。
作為以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑，可列舉：BYK-350、BYK-352、BYK-353、BYK-354、BYK-355、BYK-358N、BYK-361N、BYK-380、BYK-381及BYK-392(BYK Chemie公司)等。
作為以含氟原子之化合物為主成分之調平劑，可列舉：MEGAFAC(註冊商標)R-08、R-30、R-90、F-410、F-411、F-443、F-445、F-470、F-471、F-477、F-479、F-482、F-483(DIC(股份有限公司))；Surflon(註冊商標)S-381、S-382、S-383、S-393、SC-101、SC-105、KH-40及SA-100(AGC Seimi Chemical(股份有限公司))；E1830及E5844(Daikin Fine Chemical(股份有限公司)研究所)；Eftop EF301、EF303、EF351及EF352(三菱綜合材料電子化成(股份有限公司))等。
液晶硬化膜形成用組合物中之調平劑之含量相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，通常為0.3質量份以上、5質量份以下，較佳為0.5質量份以上、3質量份以下。
若調平劑之含量為上述範圍內，則存在使聚合性液晶化合物易於水平配向，且所得液晶硬化膜變得更平滑之傾向，故而較佳。若調平劑相對於聚合性液晶化合物之含量超過上述範圍，則存在所得液晶硬化膜易於產生不均之傾向，故而欠佳。液晶硬化膜形成用組合物可含有兩種以上之調平劑。
<聚合性非液晶化合物>
液晶硬化膜形成用組合物亦可含有聚合性非液晶化合物。藉由含有聚合性非液晶化合物，可提高聚合反應性部位之交聯密度，提高上述液晶硬化膜之強度。
聚合性非液晶化合物較佳為具有選自由丙烯醯基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基所組成之群中之至少1個以上之聚合性基。更佳為具有 2個以上、10個以下之聚合性基，進而較佳為具有3個以上、8個以下之聚合性基。
液晶硬化膜形成用組合物中之聚合性非液晶化合物之含量相對於液晶硬化膜形成用組合物之固形物成分100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份。
藉由使聚合性液晶化合物聚合而獲得液晶硬化膜。含有以保持層列型相之液晶相之狀態聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜，與先前之主客(host-guest)型偏光膜、即以保持向列型相之液晶相之狀態使聚合性液晶化合物等聚合而獲得之偏光膜相比較，偏光度等偏光性能較高，又，與僅塗佈二色性色素或液向性液晶者相比較，偏光度等偏光性能及強度優異。
<圖案偏光膜之製造方法>
圖案偏光膜通常係藉由含有下述(1)~(4)之步驟之製造方法而製造。
(1)於基材或形成有配向膜之基材表面塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素之組合物的步驟
(2)使所塗佈之聚合性液晶化合物及二色性色素配向的步驟
(3)對配向之聚合性液晶化合物經由光罩照射活性能量線，藉此獲得含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜的步驟
(4)將上述液晶硬化膜利用23℃下之上述二色性色素之飽和溶解度為1質量%以下之溶劑進行清洗，去除上述未聚合之聚合性液晶化合物，藉此獲得圖案化液晶硬化膜的步驟
<(1)之步驟>
作為塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素之組合物(液晶硬化膜形成用組合物)之方法，可列舉與作為將配向性聚合物組合物塗佈 於基材上之方法而例示者相同之方法。於本步驟中，所謂形成有配向膜之基材表面係指形成於基材上之配向膜之表面。
<(2)之步驟>
於液晶硬化膜形成用組合物含有溶劑之情形時，通常自塗佈之液晶硬化膜形成用組合物去除溶劑。作為溶劑之去除方法，可列舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
塗佈之聚合性液晶化合物通常係藉由加熱至轉變為溶液狀態之溫度以上，繼而冷卻至液晶配向之溫度而配向，形成液晶相。
二色性色素通常伴隨聚合性液晶化合物而配向。
塗佈之聚合性液晶化合物配向之溫度可預先藉由使用有含有該聚合性液晶化合物之組合物之織構(texture)觀察等而求得。又，可同時進行溶劑之去除與液晶配向。作為此時之溫度，根據去除之溶劑或聚合性液晶化合物之種類而有所不同，較佳為50~200℃之範圍，於基材為樹脂基材之情形時，更佳為80~130℃之範圍。
於使用作為1/4波長板之基材，獲得具有作為圓偏光板之功能之圖案偏光膜之情形時，聚合性液晶化合物之配向方向較佳為使所得液晶硬化膜之透過軸與該基材之遲相軸(光軸)實質成為45°。所謂實質45°通常為45±5°之範圍。又，亦可藉由使該液晶硬化膜與基材之光軸一致或正交而獲得具有作為光學補償膜之功能之圖案偏光膜。
<(3)之步驟>
藉由對配向之聚合性液晶化合物經由光罩照射活性能量線，而使聚合性液晶化合物聚合。此時，由光罩遮蔽之區域之聚合性液晶化合物不聚合。
活性能量線之照射較佳為於將光罩壓接於配向之聚合性液晶化合物之狀態下進行。藉由於壓接狀態下進行，可獲得邊緣明確之圖案化液晶硬化膜。
聚合之聚合性液晶化合物成為液晶硬化膜。含有以保持層列型相之液晶相之狀態聚合之聚合性液晶化合物及二色性色素之液晶硬化膜，與先前之主客型偏光膜、即以保持向列型相之液晶相之狀態使聚合性液晶化合物等聚合而獲得之偏光膜相比較，偏光度等偏光性能較高，又，與僅塗佈二色性色素或液向性液晶者相比較，偏光度等之偏光性能及強度優異。
光罩具有之未遮罩區域之形狀可為任意形狀，可藉由將光罩加工為線狀、帶狀、圓狀、文字狀或圖形狀而使各種設計成為可能。又，光罩具有之遮罩區域之形狀亦可為任意形狀。
活性能量線之光源較佳為使用平行光，以成為設定之光罩之圖案之形狀以及寬度。作為活性能量線之光源，若為產生紫外線、電子束、X射線等者即可。較佳為低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等於波長400nm以下具有發光分佈之光源。活性能量線更佳為相對於基材之法線方向為平行之紫外線。
活性能量線之照射能量較佳為以對聚合起始劑之活性化有效之波長區域之照射量成為10~5000mJ/cm2之方式設定，更佳為100~2000mJ/cm2。若照射量低於10mJ/cm2，則存在聚合性液晶化合物之硬化變得不充分，清洗步驟中液晶硬化膜溶解之傾向。
<(4)之步驟>
由光罩遮蔽之區域之未聚合之聚合性液晶化合物可藉由以溶劑清洗含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜而去除。對該溶劑而言，該液晶硬化膜中所含之二色性色素之23℃下之飽和溶解度為1質量%以下。該飽和溶解度較佳為0.4質量%以下，更佳為0.1質量%以下。
藉由以上述溶劑進行清洗而獲得圖案化液晶硬化膜。此處，所謂 圖案化液晶硬化膜係指與上述圖案化液晶硬化膜相同者。
藉由以上述溶劑進行清洗，可於保持圖案化液晶硬化膜中所含之二色性色素之同時，去除未聚合之聚合性液晶化合物，故而獲得偏光度較高之區域。又，可與未聚合之聚合性液晶化合物一同充分去除該區域中所含之二色性色素，故而獲得單體透過率較高之區域。又，上述溶劑較佳為不溶解基材者，若為此種溶劑，則不浸漬基材，故而獲得單體透過率更高之區域。
作為藉由溶劑進行清洗之方法，可列舉：於溶劑中浸漬形成有含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜之基材，使未聚合之聚合性液晶化合物溶解於溶劑中的方法；及對形成有上述液晶硬化膜之基材吹附溶劑，使未聚合之聚合性液晶化合物溶解於溶劑中的方法等。
清洗所使用之溶劑較佳為溶解聚合性液晶化合物，不溶解液晶硬化膜之溶劑。上述溶劑可根據液晶硬化膜形成用組合物中所含之二色性色素而適宜選擇。
作為上述溶劑，可列舉：水；甲醇、乙醇、1-丙醇、異丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、壬醇、癸醇、十一醇、乙二醇、丙二醇、甲基溶纖素、丁基溶纖素及丙二醇單甲醚等醇溶劑；二乙醚等醚溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；等。較佳為含有醇溶劑之溶劑，更佳為含有選自由甲醇、乙醇及異丙醇所組成之群中之至少1種之溶劑。又，於易於調整聚合性液晶化合物之溶解之方面而言，較佳為水與醇溶劑之混合溶劑。
含有醇溶劑之溶劑中之醇溶劑之含有比例通常為10~100%，較佳 為30~100%，更佳為50~100%，進而較佳為80~100%。
於藉由溶劑進行清洗之情形時，亦可乾燥。
如此，獲得具有圖案化液晶硬化膜之圖案偏光膜。此處，於圖案偏光膜中，上述步驟(4)中去除有未聚合之聚合性液晶化合物及其中所含之二色性色素之區域相當於上述區域(A)，具有圖案化液晶硬化膜之區域相當於上述之區域(B)。
藉由本發明之製造方法而獲得之圖案偏光膜具有偏光度較高之區域與單體透過率較高之區域，故而於顯示裝置等中可僅對需要之區域賦予較高之偏光特性。該圖案偏光膜之偏光度為上述範圍者。
根據藉由此種製造方法而獲得之圖案偏光膜，於顯示裝置等中可僅對需要之區域印刷賦予較高之偏光特性。
圖2係具有條紋狀之圖案區域之本發明之圖案偏光膜100之模式圖。
以灰色塗滿所示之部分110係表示形成有液晶硬化膜之區域，以空白所示之部分120係表示利用光罩進行遮蔽而獲得之區域，以點所示之部分130係表示未塗佈液晶硬化膜形成用組合物之區域(僅僅為淵部)。
圖3係具有圓狀之圖案區域之本發明之圖案偏光膜101之模式圖。圖中之部分110、120及130係表示與圖2相同之意義。
<圖案偏光膜之連續性製造方法>
圖案偏光膜較佳為藉由捲對捲方式而連續性製造。參照圖5，說明藉由捲對捲方式進行連續性製造之方法之主要部分之一例。
基材被捲取至第1捲芯210A上之第1輥210例如可自市場容易地獲取。作為可以此種輥之形態而自市場獲取之基材，於已例示之基材中，可列舉包含纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯之膜等。
繼而，自上述第1輥210捲出基材。捲出基材之方法係藉由於該第 1輥210之捲芯210A上設置適當之旋轉機構，藉由該旋轉機構而使第1輥210旋轉而進行。又，亦可為於自第1輥210搬送基材之方向上設置適當之輔助輥300，藉由該輔助輥300之旋轉機構而捲出基材之形式。進而，亦可為於第1捲芯210A及輔助輥300上均設置旋轉機構，藉此一邊對基材賦予適度之張力一邊捲出基材之形式。
自上述第1輥210捲出之基材通行過塗佈裝置211A時，藉由該塗佈裝置211A而於其表面上塗佈光配向膜形成用組合物。作為用以如此連續性塗佈光配向膜形成用組合物之塗佈裝置211A，較佳為凹版塗佈法、模嘴塗佈法及軟版法。
通行過塗佈裝置211A之基材被搬送至乾燥爐212A，藉由乾燥爐212A而進行乾燥，於基材表面連續形成第一塗佈膜。乾燥爐212A中例如使用組合通風乾燥法與加熱乾燥法之熱風式乾燥爐。乾燥爐212A之設定溫度係根據上述光配向膜形成用組合物中所含之溶劑之種類等而決定。乾燥爐212A可為包含相互不同之設定溫度之複數個區域者，亦可為串聯設置有相互不同之設定溫度之複數個乾燥爐者。
藉由偏光UV照射裝置213A對所得第一塗佈膜照射偏光，藉此獲得光配向膜。
繼而，形成有光配向膜之基材通行過塗佈裝置211B。藉由塗佈裝置211B於光配向膜上塗佈含有聚合性液晶化合物與二色性色素與溶劑之組合物後，通行過乾燥爐212B，藉此獲得該聚合性液晶化合物及該二色性色素配向之第二塗佈膜。乾燥爐212B不僅擔當自塗佈於光配向膜上之含有聚合性液晶化合物與二色性色素與溶劑之組合物去除溶劑之作用，亦擔當賦予熱能以使該組合物中所含之聚合性液晶化合物配向之作用。乾燥爐212B與乾燥爐212A相同，可為包含相互不同之設定溫度之複數個區域者，亦可為串聯設置有相互不同之設定溫度之複數個乾燥爐者。
於第二塗佈膜中所含之聚合性液晶化合物配向之狀態下，搬送至活性能量線照射裝置213B。於活性能量線照射裝置213B中，於第二塗佈膜上安置光罩(未圖示)，進而進行活性能量線照射。藉由利用活性能量線照射裝置213B之活性能量線照射，未遮蔽之區域之聚合性液晶化合物以配向狀態聚合，獲得含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜。
形成有含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜之基材通行過蓄滿23℃下之上述二色性色素之飽和溶解度為1質量%以下之溶劑之溶劑漕214中。清洗去除上述活性能量線照射時經遮蔽之區域之未聚合之聚合性液晶化合物，藉此形成區域(A)。
進而通行過乾燥爐212C，藉此去除附著於表面之溶劑。
如此連續性製造之圖案偏光膜被捲取至第2捲芯220A上，獲得第2輥220之形態。再者，捲取時，亦可進行使用適當之間隔件之共捲取。
如此，基材自第1輥210依序通行過塗佈裝置211A、乾燥爐212A、偏光UV照射裝置213A、塗佈裝置211B、乾燥爐212B、活性能量線照射裝置213B、溶劑漕214及乾燥爐212C，藉此可藉由捲對捲方式連續性製造圖案偏光膜。
又，於圖5所示之製造方法中，揭示有自基材至圖案偏光膜之連續性製造方法，但例如亦可使基材自第1輥依序通行過塗佈裝置211A、乾燥爐212A及偏光UV照射裝置213A，將其捲取至捲芯上，藉此製造輥狀之基材與光配向膜之積層體，進而，捲出該輥狀之積層體，依序通行過塗佈裝置211B、乾燥爐212B、活性能量線照射裝置213B、溶劑漕214中及乾燥爐212C，藉此連續性製造圖案偏光膜。
於以第2輥220之形態製造圖案偏光膜之情形時，可自第2輥220捲出長條之圖案偏光膜，剪裁為特定之尺寸後，於剪裁之圖案偏光膜上 貼合1/4波長板，藉此製造圖案圓偏光板，亦可藉由準備將長條之1/4波長板捲取至捲芯上之第3輥，而連續性製造長條之圖案圓偏光板。
關於連續性製造長條之圖案圓偏光板之方法，參照圖6說明。
該製造方法包含以下步驟：自第2輥220連續性捲出圖案偏光膜，同時自將長條之1/4波長板捲取而成之第3輥230連續性捲出長條之1/4波長板的步驟；連續性貼合圖案偏光膜與上述長條之1/4波長板而獲得長條之圖案圓偏光板的步驟；將所得長條之圖案圓偏光板捲取至第4捲芯240A，獲得第4輥240的步驟。
該方法係所謂的捲對捲貼合。再者，貼合可使用接著劑。
[實施例]
以下，藉由實施例進而詳細說明本發明。例中之「%」及「份」若無特別說明，則為質量%及質量份。
[飽和溶解度測定方法]
各二色性色素對於特定溶劑之23℃下之飽和溶解度係藉由以下方法測定。於樣本管中稱量各溶劑5g與二色性色素0.2g稱量，於設定為23℃之水浴中攪拌24小時而製備飽和溶解度溶液。對該溶液進行取樣，與標準液5mL一同溶解於四氫呋喃中製備測定溶液。將該測定溶液注入液體液相層析儀(島津製作所製造；LC-10AT)中，自各自之波峰面積值之比率與另外製成之校準曲線，計算23℃下二色性色素對特定溶劑之飽和溶解度。再者，標準液使用自乙腈1000ml與己基苯10ml製備者。
液體液相層析儀(LC)測定係於以下所示之條件下進行。
使用管柱：KinetexC18，2.6μm，100mm×4.6mm直徑
管柱溫度：40℃
移動相：(A液)0.1%(v/v)-TFA(Trifluoroacetic acid，三氟乙酸)/水
(B液)0.1%(v/v)-TFA/乙腈50%/THF(Tetrahydrofuran，四氫呋喃)50%
梯度條件
流量：1.0mL/min
注入量：5μL
檢測方法：UV(254nm)
實施例1 [光配向膜形成用組合物之製造]
混合下述成分，將所得之混合物於80℃下攪拌1小時，藉此獲得光配向膜形成用組合物。下述具有光反應性基之聚合物係藉由日本專利特開2013-33248號公報中所揭示之方法而合成。
具有光反應性基之聚合物：
[液晶硬化膜形成用組合物1之製造]
混合下述成分，於80℃下攪拌1小時，藉此獲得液晶硬化膜形成用組合物。二色性色素係使用日本專利特開2013-101328號公報之實施 例中揭示之偶氮系色素。式(1-6)及(1-7)所示之聚合性液晶化合物係依據日本專利第4719156號公報中揭示之方法而合成。
聚合性液晶化合物：
二色性色素1：
聚合起始劑：2-二甲胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369,Ciba Specialty Chemicals公司製造) 6份
調平劑：
[圖案偏光膜(1)之製造]
將三乙醯纖維素膜(KonicaMinolta公司製造之KC4UY-TAC，厚度40μm)切出80mm×80mm，於其表面實施電暈處理(AGF-B10，春日電機股份有限公司有限公司製造)。使用棒式塗佈機於實施過電暈處理之 膜表面塗佈光配向膜形成用組合物後，於設定為120℃之乾燥烘箱中乾燥1分鐘，而獲得第一塗佈膜。對第一塗佈膜，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7，Ushio電機股份有限公司有限公司製造)，以50mJ/cm2(313nm基準)之累計光量照射相對於膜之長邊方向為0°方向之偏光UV，形成光配向膜。使用棒式塗佈機於所得之光配向膜上於70mm×80mm之區域塗佈液晶硬化膜形成用組合物後，於設定為110℃之乾燥烘箱中乾燥1分鐘，藉此獲得聚合性液晶化合物及二色性色素配向之第二塗佈膜。對第二塗佈膜中央部，經由40mm×40mm之光罩(線寬275μm)，使用高壓水銀燈(Unicure VB-15201BY-A，Ushio電機股份有限公司有限公司製造)照射紫外線(氮氣環境下，波長：365nm，波長365nm之累計光量：1000mJ/cm2)，藉此獲得含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜。將所得之具有液晶硬化膜之膜浸漬於乙醇中3分鐘，清洗去除未聚合之聚合性液晶化合物，而獲得具有條紋狀之圖案之圖案偏光膜(1)。所得之圖案偏光膜(1)具有與圖2所示之本發明之圖案偏光膜之模式圖相同之形狀。
二色性色素1於乙醇中之飽和溶解度為0.003質量%。
[圖案偏光膜(1)之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
對圖案偏光膜(1)之形成有圖案化液晶硬化膜之區域及利用光罩進行遮蔽而獲得之區域，藉由以下方式測定偏光度及單體透過率。使用於分光光度計(島津製作所股份有限公司有限公司製造UV-3150)上設置有附有偏光元件之固定器之裝置，藉由雙光束法於2nm間距380~680nm之波長範圍內測定透過軸方向之透過率(T1)及吸收軸方向之透過率(T2)。由吸收軸方向之吸光度最大之波長(λMAX)之透過軸方向之透過率(T1)及吸收軸方向之透過率(T2)之值，使用下述式(10)及式(11)算出偏光度及單體透過率。其結果為，形成有圖案化液晶硬化膜 之區域之λMAX為520nm，偏光度為92.8%，單體透過率為44.0%。又，利用光罩進行遮蔽而獲得之區域中未測到光之吸收，偏光度為0%，單體透過率為92%。
單體透過率(%)=(T1+T2)/2 (10)
偏光度(%)={(T1-T2)/(T1+T2)}×100 (11)
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)測定圖案偏光膜(1)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為2.0μm。
圖案偏光膜(1)之厚度為42μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(1)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為271μm、275μm、275μm、274μm、278μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖樣化。又，形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
[楕圓率測定]
於圖案偏光膜(1)上經由黏著劑而貼合作為環狀烯烴系樹脂之單軸延伸膜之1/4波長板(ZEONOR膜，日本ZEON股份有限公司有限公司，面內相位差值Ro：138nm)，獲得圖案圓偏光板(1)。對圖案圓偏光板(1)之積層有圖案化液晶硬化膜之區域、及具有利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之區域，使用王子計測機器(股份有限公司)製造之自動雙折射計「KOBRA(註冊商標)」，測定相對於波長550nm之光之楕圓率。結果，積層有圖案化液晶硬化膜之區域之波長550nm下之楕圓率為92%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之波長550nm下之楕圓率為0%。即，自圖案偏光膜(1)獲得對特定波長之光之抗反射特性優異之圖案圓偏光板。
實施例2 [液晶硬化膜形成用組合物2之製造]
除於實施例1之液晶硬化膜形成用組合物1中進而添加以下之二色性色素而製造液晶硬化膜形成用組合物2並用作塗佈液以外，以與實施例1相同之方式，製造圖案偏光膜(2)。
二色性色素2：
二色性色素3：
二色性色素2對乙醇之飽和溶解度為0.001質量%。
二色性色素3對乙醇之飽和溶解度為0.061質量%。
[圖案偏光膜之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例1相同之方式測定偏光度及單體透過率。藉由JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行能見度修正算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=92.3%，Ty=43.7%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=92.0%。
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)， 測定圖案偏光膜(2)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為2.0μm，含有聚合性液晶化合物之聚合物之液晶硬化膜之清洗前後之減膜率為0%。圖案偏光膜(2)之厚度為42μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(2)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為275μm、272μm、275μm、274μm、274μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖樣化。又，形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
[楕圓率測定]
於圖案偏光膜(2)上經由黏著劑貼合作為單軸延伸膜之1/4波長板(PURE-ACE WRF-S，帝人股份有限公司有限公司製造)，獲得圖案圓偏光板(2)。使用王子計測機器(股份有限公司)製造之自動雙折射計「KOBRA(註冊商標)」測定上述1/4波長板之延遲(Re(λ))，結果Re(450)=132nm，Re(550)=145nm，Re(590)=147nm，Re(630)=148nm，Re(750)=151nm，顯示反波長色散特性。對圖案圓偏光板(2)之積層有圖案化液晶硬化膜之區域、及具有利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之區域，使用王子計測機器(股份有限公司)製造之自動雙折射計「KOBRA(註冊商標)」，測定相對於波長450nm、550nm、590nm、630nm及750nm之光之楕圓率。結果積層有圖案化液晶硬化膜之區域之波長450nm下之楕圓率為77%，550nm下之楕圓率為91%，590nm下之楕圓率為99%，630nm下之楕圓率為92%。具有利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之區域之波長450nm下之楕圓率為0%，550nm下之楕圓率為0%，590nm下之楕圓率為0%，630nm下之楕圓率為0%。即，自圖案偏光膜(2)獲得抗反射特性優異之圖案圓偏光板。
實施例3
除將作為清洗實施例2中之液晶硬化膜之溶劑之乙醇變為甲醇以外，以與實施例2相同之方式，獲得圖案偏光膜(3)。
二色性色素1對甲醇之飽和溶解度為0.001質量%。
二色性色素2對甲醇之飽和溶解度為0.001質量%。
二色性色素3對甲醇之飽和溶解度為0.015質量%。
[圖案偏光膜之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例2相同之方式，算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=92.7%，Ty=43.9%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=92.0%。
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)測定圖案偏光膜(3)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為2.1μm，含有聚合性液晶化合物之聚合物之液晶硬化膜之清洗前後之減膜率為0%。圖案偏光膜(3)之厚度為43μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(3)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為278μm、275μm、277μm、278μm、274μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖案化。形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
實施例4
除將作為清洗實施例2中之液晶硬化膜之溶劑之乙醇變為異丙醇以外，以與實施例2相同之方式，獲得圖案偏光膜(4)。
二色性色素1對異丙醇之飽和溶解度為0.002質量%。
二色性色素2對異丙醇之飽和溶解度為0.043質量%。
二色性色素3對異丙醇之飽和溶解度為0.001質量%。
[圖案偏光膜之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例2相同之方式，算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=93.8%，Ty=43.6%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=92.0%。
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)測定圖案偏光膜(4)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為2.0μm，含有聚合性液晶化合物之聚合物之液晶硬化膜之清洗前後之減膜率為0%。圖案偏光膜(4)之厚度為43μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(4)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為274μm、278μm、275μm、277μm、278μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖案化。形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
實施例5
除將作為清洗實施例2中之液晶硬化膜之溶劑之乙醇變為丙二醇1-單甲醚，將浸漬於該溶劑中清洗去除未聚合之聚合性液晶化合物之時間設為20秒以外，以與實施例2相同之方式，獲得圖案偏光膜(5)。
二色性色素1對丙二醇1-單甲醚之飽和溶解度為0.028質量%。
二色性色素2對丙二醇1-單甲醚之飽和溶解度為0.336質量%。
二色性色素3對丙二醇1-單甲醚之飽和溶解度為0.017質量%。
[圖案偏光膜之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例2相同之方式，算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=93.7%，Ty=44.2%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=92.0%。
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)測定圖案偏光膜(5)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為2.0μm，含有聚合性液晶化合物之聚合物之液晶硬化膜之清洗前後之減膜率為0%。圖案偏光膜(5)之厚度為42μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(5)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為272μm、278μm、277μm、274μm、275μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖案化。形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
實施例6
除使用實施例2中使用之單軸延伸膜(PURE-ACE WRF-S，帝人股份有限公司有限公司製造，厚度50μm)代替三乙醯纖維素膜，進而，以偏光UV之偏光振動方向相對於上述單軸延伸膜之遲相軸成為45°之方式進行偏光UV之照射以外，以與實施例1相同之方式，製作圖案偏光膜(6)。
[圖案偏光膜(6)之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例2相同之方式，算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=95.7%，Ty=41.7%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=89.0%。
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)測定圖案偏光膜(6)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為2.5μm。圖案偏光膜(6)之厚度為53μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(6)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為276μm、277μm、276μm、274μm、273μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖案化。形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
[楕圓率測定]
對圖案偏光膜(6)之形成圖案化液晶硬化膜之區域及利用光罩進行遮蔽而獲得之區域，使用王子計測機器(股份有限公司)製造之自動雙折射計「KOBRA(註冊商標)」，測定相對於波長450nm、550nm、590nm、630nm及750nm之光之楕圓率。結果形成圖案化液晶硬化膜之區域之波長450nm下之楕圓率為78%，550nm下之楕圓率為92%，590nm下之楕圓率為96%，630nm下之楕圓率為88%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之波長450nm下之楕圓率為0%，550nm下之楕圓率為0%，590nm下之楕圓率為0%，630nm下之楕圓率為0%。即，圖案偏光膜(6)係抗反射特性優異之圖案圓偏光板。
參考例1
除將作為清洗實施例2中之液晶硬化膜之溶劑之乙醇變為丙二醇 1-單甲醚2-乙酸酯以外，以與實施例2相同之方式，獲得圖案偏光膜(7)。
二色性色素1對丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯之飽和溶解度為0.077質量%。
二色性色素2對丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯之飽和溶解度為0.89質量%。
二色性色素3對丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯之飽和溶解度為0.026質量%。
[圖案偏光膜之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例2相同之方式，算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=66.4%，Ty=49.8%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=92.0%。
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)測定圖案偏光膜(7)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為1.85μm，含有聚合性液晶化合物之聚合物之液晶硬化膜之清洗前後之減膜率為5%。圖案偏光膜(7)之厚度為42μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(7)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為282μm、270μm、272μm、279μm、277μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖案化。又，形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
參考例2
除將作為清洗實施例2中之液晶硬化膜之溶劑之乙醇變為乙酸乙 酯以外，以與實施例2相同之方式製作圖案偏光膜(8)，結果作為基材膜之三乙醯纖維素膜溶解，無法獲得樣本。因此，代替三乙醯纖維素膜，使用旋轉塗佈機於50mm×50mm之玻璃基板(厚度1mm)上塗佈光配向膜形成用組合物後，於設定為120℃之加熱板上乾燥1分鐘，而獲得第一塗佈膜。對第一塗佈膜，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；Ushio電機股份有限公司有限公司製造)，以50mJ/cm2(313nm基準)之累計光量照射相對於膜之長邊方向為0°方向之偏光UV，形成光配向膜。使用旋轉塗佈機於所得光配向膜上於50mm×50mm之區域塗佈液晶硬化膜形成用組合物後，於設定為110℃之加熱板上乾燥1分鐘，藉此獲得聚合性液晶化合物及二色性色素配向之第二塗佈膜。
對第二塗佈膜中央部，經由40mm×40mm之光罩(線寬275μm)，使用高壓水銀燈(Unicure VB-15201BY-A，Ushio電機股份有限公司有限公司製造)照射紫外線(氮氣環境下，波長：365nm，波長365nm之累計光量：1000mJ/cm2)，藉此獲得含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜。
二色性色素1對乙酸乙酯之飽和溶解度為0.059質量%。
二色性色素2對乙酸乙酯之飽和溶解度為1.3質量%。
二色性色素3對乙酸乙酯之飽和溶解度為0.023質量%。
[圖案偏光玻璃之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例2相同之方式，算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=33.1%，Ty=58.7%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=92.0%。
[膜厚測定]
使用雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司有限公司製造)測 定圖案偏光膜(8)之圖案化液晶硬化膜之厚度，結果為1.85μm，含有聚合性液晶化合物之聚合物之液晶硬化膜之清洗前後之減膜率為8%。圖案偏光膜(8)之厚度為1002μm。
[線寬測定]
藉由偏光顯微鏡測定圖案偏光膜(8)之形成為條紋狀之液晶硬化膜之寬度。測定分別不同之液晶硬化膜5點之寬度，結果寬度分別為277μm、274μm、278μm、274μm、273μm。與光罩之線寬(275μm)幾乎一致，確認可以光罩之線寬進行圖案化。又，形成為條紋狀之液晶硬化膜之連續面積為8.3mm2。
參考例3
除將作為清洗實施例2中之液晶硬化膜之溶劑之乙醇變為四氫呋喃以外，以與實施例2相同之方式製作圖案偏光膜(9)，結果作為基材膜之三乙醯纖維素膜溶解，無法獲得樣本。因此，以與參考例2相同之方式於玻璃基板上製作圖案化液晶硬化膜。
二色性色素1對四氫呋喃之飽和溶解度為0.33質量%。
二色性色素2對四氫呋喃之飽和溶解度為4.5質量%。
二色性色素3對四氫呋喃之飽和溶解度為0.33質量%。
[圖案偏光玻璃之評價] [偏光度、單體透過率之測定]
以與實施例2相同之方式，算出能見度修正偏光度(Py)及能見度修正單體透過率(Ty)。其結果為，形成圖案化液晶硬化膜之區域之Py=0.1%，Ty=92.1%。利用光罩進行遮蔽而獲得之區域之Py=0%，Ty=92.0%。甚至聚合性液晶化合物之聚合物亦發生溶解，幾乎無法獲得圖案化液晶硬化膜。
[產業上之可利用性]
本發明之圖案偏光膜可用於獲得較薄且抗反射特性優異之圖案 圓偏光板。又，根據本發明之圖案偏光膜之製造方法，可製造具有偏光度較高之區域與單體透過率較高之區域之圖案偏光膜。

Claims (19)

  1. 一種圖案偏光膜，其係積層有基材與含有聚合性液晶化合物之聚合物及二色性色素之圖案化液晶硬化膜者，並且上述圖案偏光膜具有一個以上之偏光度為10%以下且單體透過率為80%以上之區域(A)、與一個以上之具有上述液晶硬化膜且偏光度為90%以上且單體透過率為40%以上之區域(B)。
  2. 如請求項1之圖案偏光膜，其中區域(A)及區域(B)分別獨立為選自由線狀、帶狀、圓狀、文字狀及圖形狀所組成之群中之至少一種形狀。
  3. 如請求項2之圖案偏光膜，其中區域(A)為線狀，寬度為1μm~10mm。
  4. 如請求項2之圖案偏光膜，其中區域(B)為線狀，寬度為1μm~10mm。
  5. 如請求項2之圖案偏光膜，其中各個區域(A)具有帶狀、圓狀、文字狀或圖形狀之形狀，連續之區域(A)之面積為500mm2以下。
  6. 如請求項2之圖案偏光膜，其中各個區域(B)具有帶狀、圓狀、文字狀或圖形狀之形狀，連續之區域(B)之面積為500mm2以下。
  7. 如請求項1之圖案偏光膜，其以條紋狀具有區域(A)與區域(B)。
  8. 如請求項7之圖案偏光膜，其中區域(B)之寬度為1μm~10mm。
  9. 如請求項7之圖案偏光膜，其中區域(B)之寬度為1μm~1mm。
  10. 如請求項1之圖案偏光膜，其中基材係具有1/4波長板功能之相位差膜。
  11. 如請求項1之圖案偏光膜，其進而具有具有1/4波長板功能之相位差膜。
  12. 如請求項10或11之圖案偏光膜，其中具有1/4波長板功能之相位差膜具有反波長色散特性。
  13. 如請求項1之圖案偏光膜，其中基材係具有1/2波長板功能之相位差膜，於上述基材上進而積層有具有1/4波長板功能之相位差膜。
  14. 如請求項10、11及13中任一項之圖案偏光膜，其進而具有正C膜。
  15. 一種如請求項1之圖案偏光膜之製造方法，其包括下述(1)~(4)之步驟：(1)於基材或形成有配向膜之基材之表面塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素之組合物的步驟(2)使所塗佈之聚合性液晶化合物及二色性色素配向的步驟(3)對配向之聚合性液晶化合物經由光罩照射活性能量線，藉此獲得含有聚合性液晶化合物之聚合物與未聚合之聚合性液晶化合物之液晶硬化膜的步驟(4)將上述液晶硬化膜利用23℃下之上述二色性色素之飽和溶解度為1質量%以下之溶劑進行清洗，去除上述未聚合之聚合性液晶化合物，藉此獲得圖案化液晶硬化膜的步驟。
  16. 如請求項15之圖案偏光膜之製造方法，其中基材係樹脂基材。
  17. 如請求項15或16之圖案偏光膜之製造方法，其中溶劑係含有醇溶劑之溶劑。
  18. 如請求項15之圖案偏光膜之製造方法，其中於將光罩壓接於配向之聚合性液晶化合物之狀態下照射活性能量線。
  19. 如請求項15之圖案偏光膜之製造方法，其中活性能量線係與基材面之法線方向平行之紫外線。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150037550A (ko) * 2013-09-30 2015-04-08 주식회사 엘지화학 국지적으로 편광 해소 영역을 갖는 편광판 및 그 제조 방법
JP6872309B2 (ja) * 2015-06-25 2021-05-19 日東電工株式会社 偏光子
CN106978196B (zh) * 2015-10-29 2022-02-15 住友化学株式会社 组合物、偏振膜
JP6285529B2 (ja) * 2016-03-15 2018-02-28 住友化学株式会社 楕円偏光板
CN107193072B (zh) * 2016-03-15 2018-08-28 住友化学株式会社 椭圆偏振板
CN105700208B (zh) * 2016-04-13 2019-07-05 京东方科技集团股份有限公司 一种用于制造显示面板的方法、显示面板以及显示装置
KR20180023102A (ko) 2016-08-23 2018-03-07 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 패턴 및 이의 제조방법
CN106569633B (zh) * 2016-10-31 2019-07-16 上海天马微电子有限公司 触控结构及其制造方法
KR20180081197A (ko) * 2017-01-05 2018-07-16 삼성디스플레이 주식회사 편광판 제조방법 및 편광판을 구비하는 표시장치
WO2019082744A1 (ja) * 2017-10-27 2019-05-02 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法及び偏光フィルム
JP6888168B2 (ja) * 2018-03-16 2021-06-16 富士フイルム株式会社 エレクトロルミネッセンス表示装置
WO2020121907A1 (ja) * 2018-12-11 2020-06-18 住友化学株式会社 偏光フィルム及びその製造方法
US11353644B2 (en) * 2020-10-01 2022-06-07 A. U. Vista, Inc. Display device having blended display panel
WO2022202141A1 (ja) * 2021-03-22 2022-09-29 富士フイルム株式会社 画像表示装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006337892A (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Nitto Denko Corp 楕円偏光板、及び液晶パネル、及び液晶表示装置、及び画像表示装置
US20080068545A1 (en) * 2006-09-05 2008-03-20 Tosoh Corporation Optical compensation film and retardation film
US20130106675A1 (en) * 2011-11-01 2013-05-02 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, picture display apparatus, and 3d picture display system
TW201329539A (zh) * 2011-11-18 2013-07-16 Sumitomo Chemical Co 偏光膜、圓偏光板及使用其等之有機ｅｌ圖像顯示裝置
TW201331643A (zh) * 2011-12-20 2013-08-01 Sumitomo Chemical Co 偏光膜形成用組合物及偏光膜
TW201348762A (zh) * 2012-03-30 2013-12-01 Sumitomo Chemical Co 圓偏光板及其製造方法
TW201402707A (zh) * 2012-03-26 2014-01-16 Sumitomo Chemical Co 組合物及偏光膜

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5327285A (en) 1990-06-11 1994-07-05 Faris Sadeg M Methods for manufacturing micropolarizers
JPH0634976A (ja) 1992-07-21 1994-02-10 Toshiba Corp 液晶表示素子
EP2159611B1 (en) 2003-11-06 2018-01-03 Sumitomo Chemical Company, Limited Polymerizable liquid crystal and oriented polymer film
JP2005266696A (ja) * 2004-03-22 2005-09-29 Nitto Denko Corp 円偏光板、光学フィルムおよび画像表示装置
JP4889239B2 (ja) * 2005-05-18 2012-03-07 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド バックライトユニットおよび液晶表示装置
KR100782646B1 (ko) 2006-02-13 2007-12-06 엘지전자 주식회사 미디어 플레이어의 리소스 설정방법
JP4849454B2 (ja) * 2006-05-12 2012-01-11 日東電工株式会社 楕円偏光板およびそれを用いた画像表示装置
JP4905082B2 (ja) 2006-11-22 2012-03-28 東ソー株式会社 位相差フィルム
JP5232465B2 (ja) * 2007-02-08 2013-07-10 日東電工株式会社 長尺光学積層体の製造方法、長方形状光学積層体の製造方法、及び液晶パネル
KR100839414B1 (ko) * 2007-04-19 2008-06-19 삼성에스디아이 주식회사 전자 영상 기기
JP5391682B2 (ja) 2007-12-28 2014-01-15 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2009193014A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Fujifilm Corp パターニング楕円偏光板
KR101253048B1 (ko) * 2008-12-31 2013-04-12 엘지디스플레이 주식회사 광시야각 액정표시소자
JP5899607B2 (ja) 2009-03-16 2016-04-06 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
KR101677764B1 (ko) 2009-04-21 2016-11-18 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 화합물
JP2011006360A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP4645772B1 (ja) 2009-10-09 2011-03-09 ソニー株式会社 位相差素子用配向膜およびその製造方法、位相差素子およびその製造方法、表示装置
JP5749568B2 (ja) * 2010-05-28 2015-07-15 富士フイルム株式会社 立体画像印刷用印画紙、立体画像印刷物、立体画像印刷物の製造方法、及び立体画像の提供方法
US20130114136A1 (en) * 2010-07-20 2013-05-09 Zeon Corporation Phase difference film layered body used in stereoscopic image device
US8467177B2 (en) * 2010-10-29 2013-06-18 Apple Inc. Displays with polarizer windows and opaque masking layers for electronic devices
JP2012198523A (ja) * 2011-03-04 2012-10-18 Dainippon Printing Co Ltd 長尺パターン配向膜およびそれを用いた長尺パターン位相差フィルム
JP5711588B2 (ja) * 2011-03-31 2015-05-07 富士フイルム株式会社 ３ｄ画像表示装置、３ｄ画像表示装置用パターン偏光板、及び３ｄ画像表示システム
KR101933220B1 (ko) * 2011-07-07 2018-12-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광 소자, 원편광판 및 이들의 제조 방법
TWI564598B (zh) * 2011-10-12 2017-01-01 Sumitomo Chemical Co A polarizing film, a circularly polarizing plate, and the like

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006337892A (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Nitto Denko Corp 楕円偏光板、及び液晶パネル、及び液晶表示装置、及び画像表示装置
US20080068545A1 (en) * 2006-09-05 2008-03-20 Tosoh Corporation Optical compensation film and retardation film
US20130106675A1 (en) * 2011-11-01 2013-05-02 Fujifilm Corporation Optical film, polarizing plate, picture display apparatus, and 3d picture display system
TW201329539A (zh) * 2011-11-18 2013-07-16 Sumitomo Chemical Co 偏光膜、圓偏光板及使用其等之有機ｅｌ圖像顯示裝置
TW201331643A (zh) * 2011-12-20 2013-08-01 Sumitomo Chemical Co 偏光膜形成用組合物及偏光膜
TW201402707A (zh) * 2012-03-26 2014-01-16 Sumitomo Chemical Co 組合物及偏光膜
TW201348762A (zh) * 2012-03-30 2013-12-01 Sumitomo Chemical Co 圓偏光板及其製造方法

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