TW201923392A - 偏光膜之製造方法及偏光膜 - Google Patents

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Abstract

本發明之偏光膜之製造方法包括如下步驟：準備步驟，係準備於基材層之至少單面側具有含有二色性色素之偏光層之積層膜；保護層積層步驟，係藉由於積層膜之偏光層上積層具有用以被覆偏光層之被覆區域與用以使偏光層露出之露出區域之保護層而獲得附有保護層之積層膜；溶解液接觸步驟，係獲得附有圖案化偏光層之膜，該附有圖案化偏光層之膜具有藉由使附有保護層之積層膜與可溶解偏光層之溶解液接觸而去除偏光層之一部分區域所形成之圖案化偏光層；及剝離步驟，係自附有圖案化偏光層之膜剝離保護層。

Description

偏光膜之製造方法及偏光膜
本發明係關於一種偏光膜之製造方法及偏光膜，尤其係關於一種具有含有液晶化合物與二色性色素之層之偏光膜之製造方法及偏光膜。
使用有機發光二極體(OLED)之有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置與液晶顯示裝置等相比，不僅可實現輕量化或薄型化，亦可實現廣範圍之視角、較快之回應速度、較高之對比度等高畫質，故而用於智慧型手機或電視、數位相機等各種領域。已知於有機EL顯示裝置中，為抑制由外界光之反射所導致之視認性之下降，使用圓偏光板等提高抗反射性能。
作為此種圓偏光板中所使用之偏光膜，於日本專利特開2015-206852號公報(專利文獻1)及日本專利特開2015-212823號公報(專利文獻2)中揭示有於基材上積層有圖案化之液晶硬化膜之圖案偏光膜。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2015-206852號公報
[專利文獻2]日本專利特開2015-212823號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明之目的在於提供一種具有視感度修正偏光度互不相同之至少2個區域之新穎之偏光膜之製造方法及偏光膜。
[解決問題之技術手段]
本發明提供以下所示之偏光膜之製造方法及偏光膜。
[1]一種偏光膜之製造方法，其包括如下步驟：
準備步驟，係準備於基材層之至少單面側具有含有二色性色素之偏光層之積層膜；
保護層積層步驟，係藉由於上述積層膜之上述偏光層上積層具有用以被覆上述偏光層之被覆區域與用以使上述偏光層露出之露出區域之保護層而獲得附有保護層之積層膜；
溶解液接觸步驟，係獲得附有圖案化偏光層之膜，該附有圖案化偏光層之膜具有藉由使上述附有保護層之積層膜與可溶解上述偏光層之溶解液接觸而去除上述偏光層之一部分區域所形成之圖案化偏光層；及
剝離步驟，係自上述附有圖案化偏光層之膜剝離上述保護層。
[2]如[1]之偏光膜之製造方法，其中上述準備步驟包括如下步驟：
配向層形成步驟，係於上述基材層之單面側塗佈配向層形成用組合物而形成配向層；及
偏光層形成步驟，係於上述基材層之形成有上述配向層之側之面塗佈含有液晶化合物及上述二色性色素之偏光層形成用組合物而形成上述偏光層。
[3]如[2]之偏光膜之製造方法，其中上述配向層形成用組合物含有光配向性聚合物，
上述配向層形成步驟係對塗佈上述配向層形成用組合物而形成之配向層用塗佈層進行偏光照射而形成上述配向層。
[4]如[2]或[3]之偏光膜之製造方法，其中上述偏光層係聚合性液晶化合物配向而成之層，
上述偏光層形成步驟係對塗佈上述偏光層形成用組合物而形成之偏光層用塗佈層進行活性能量線照射而形成上述偏光層。
[5]如[2]至[4]中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述偏光層於X射線繞射測定中顯示布勒格波峰。
[6]如[1]至[5]中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述露出區域之俯視形狀為圓形、橢圓形、長圓形或多角形，
於上述露出區域為圓形之情形時之直徑為5 cm以下，
於上述露出區域為橢圓形或長圓形之情形時之長徑為5 cm以下，
於上述露出區域為多角形之情形時，以上述多角形內切之方式繪出之假想圓之直徑為5 cm以下。
[7]如[1]至[6]中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述偏光膜之長度為10 m以上。
[8]如[1]至[7]中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述基材層具有1/4波長板功能。
[9]一種圓偏光板之製造方法，其具有相位差層積層步驟，係將藉由如[1]至[7]中任一項之偏光膜之製造方法而製造之偏光膜與具有1/4波長板功能之相位差層積層。
[10]如[9]之圓偏光板之製造方法，其中上述偏光膜係長度為10 m以上之長條偏光膜，
上述相位差層係長度為10 m以上之長條相位差層，
上述相位差層積層步驟係藉由將上述長條偏光膜與上述長條相位差層積層而形成長條積層體，
進而具有將上述長條積層體裁斷為單片之裁斷步驟。
[11]一種偏光膜，其係具有偏光區域與具有低於偏光區域之視感度修正偏光度之低偏光區域者，
上述偏光區域含有液晶化合物及二色性色素，視感度修正偏光度為90%以上，
上述低偏光區域不含液晶化合物及二色性色素，
上述低偏光區域之俯視形狀為圓形、橢圓形、長圓形或多角形，
於上述低偏光區域為圓形之情形時之直徑為5 cm以下，
於上述低偏光區域為橢圓形或長圓形之情形時之長徑為5 cm以下，
於上述低偏光區域為多角形之情形時，以上述多角形內切之方式繪出之假想圓之直徑為5 cm以下。
[12]如[11]之偏光膜，其中上述低偏光區域之視感度修正偏光度為10%以下。
[13]如[11]或[12]之偏光膜，其中上述偏光區域之視感度修正單體透過率為35%以上，
上述低偏光區域之視感度修正單體透過率為80%以上。
[14]如[11]至[13]中任一項之偏光膜，其中上述偏光膜之長度為10 m以上。
[發明之效果]
根據本發明，可提供一種具有視感度修正偏光度互不相同之至少2個區域之偏光膜之製造方法。
以下，參照圖式，對本發明之偏光膜之製造方法及偏光膜之較佳實施形態進行說明。再者，本發明之範圍並不限定於此處說明之實施形態，可於不損害本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
[第1實施形態(偏光膜之製造方法及偏光膜)]
圖1係表示本發明之偏光膜之一例之概略俯視圖。圖2(a)～(e)係表示圖1所示之偏光膜之製造步驟之各步驟中所得之層構造之概略剖視圖。圖2(e)係圖1之X-X剖視圖。本實施之形態之偏光膜1之製造方法具有如下步驟：
準備步驟，即準備於基材層13之至少單面側具有含有二色性色素之偏光層11之積層膜62(圖2(b))；
保護層積層步驟，即藉由於積層膜62之偏光層11上積層具有用以被覆偏光層11之被覆區域35a與用以使偏光層11露出之露出區域35b之保護層35而獲得附有保護層之積層膜63(圖2(c))；
溶解液接觸步驟，即獲得具有藉由使附有保護層之積層膜63與可溶解偏光層11之溶解液接觸而去除偏光層11之一部分區域所形成之圖案化偏光層11'之附有圖案化偏光層之膜64(圖2(d))，及
剝離步驟，即自附有圖案化偏光層之膜64剝離保護層35。藉此，例如可製造圖1及圖2(e)所示之具有圖案化偏光層11'之偏光膜1。偏光層11可含有液晶化合物，亦可為聚合性液晶化合物配向而成之層。
(偏光膜)
對藉由上述製造方法而獲得之偏光膜之一例進行說明。圖1所示之偏光膜1係具有光吸收各向異性之功能之膜，具有圖案化偏光層11'。圖案化偏光層11'具有偏光區域11a與具有低於偏光區域11a之視感度修正偏光度(Py)之低偏光區域11b。偏光區域11a含有液晶化合物及二色性色素，並且視感度修正偏光度為90%以上。低偏光區域11b較佳為不含液晶化合物及二色性色素，為圖案化偏光層11'之開口部。偏光膜1亦可為於基材層13上具有上述圖案化偏光層11'者。
偏光膜1係具有圖案化偏光層11'者，除上述基材層13外，可進而具有配向層12、其他層等。於下文敍述配向層12之詳細內容。作為其他層，例如可列舉以對圖案化偏光層11'之表面進行保護等為目的而設置之表面保護層。於偏光膜1具有基材層13之情形時，較佳為於圖案化偏光層11'之與基材層13相反側之面設置表面保護層，於將基材層13剝離而使用之情形時，可於圖案化偏光層11'之剝離基材層13之側之面設置表面保護層。表面保護層可為1層構造，亦可為多層構造。於表面保護層為多層構造之情形時，各層可由相同之材料形成，亦可由互不相同之材料形成。
再者，於圖2(e)所示之偏光膜1中，揭示了於基材層13之單面側具有配向層12及圖案化偏光層11'之例，但亦可於基材層13之雙面具有配向層及圖案化偏光層。設置於基材層13之雙面之圖案化偏光層之結構可相互相同，亦可互不相同。
偏光膜1可為長度10 m以上之長條狀之偏光膜，於該情形時，偏光膜1可為捲繞成滾筒狀之捲繞體。可自該捲繞體連續捲出偏光膜，進行與下述相位差層積層之步驟、切割為單片之步驟等步驟。成為捲繞體之長條狀之偏光膜之長度只要為10 m以上，則並無特別限定，例如可為10000 m以下。
圖案化偏光層11'之偏光區域11a可含有液晶化合物及二色性色素。偏光區域11a之視感度修正偏光度(Py)較佳為90%以上，更佳為92%以上，進而較佳為95%以上，通常為100%以下。又，偏光區域11a之視感度修正單體透過率(Ty)例如較佳為35%以上，更佳為40%以上，進而較佳為44%以上，通常未達50%。
圖案化偏光層11'之低偏光區域11b較佳為不含液晶化合物及二色性色素，較佳為具有低於偏光區域11a之視感度修正偏光度(Py)且具有高於偏光區域11a之視感度修正單體透過率(Ty)。低偏光區域11b之視感度修正偏光度(Py)例如可為10%以下，較佳為5%以下，更佳為1%以下，亦可為0%。又，低偏光區域11b之視感度修正單體透過率(Ty)例如可為80%以上，較佳為85%以上，更佳為88%以上，通常為98%以下。
本說明書中之視感度修正偏光度(Py)及視感度修正單體透過率(Ty)可基於使用分光光度計測定之偏光度及單體透過率而算出。例如，可使用於分光光度計上設置有附偏光元件之摺疊器(folder)之裝置，藉由雙光束法測定作為可見光之波長380 nm～780 nm之範圍內之透射軸方向(配向垂直方向)之透過率(T1 )及吸收軸方向(配向同一方向)之透過率(T2 )。可見光範圍內之偏光度及單體透過率係使用下述式(式1)及(式2)算出各波長下之偏光度及單體透過率，進而根據JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度修正，藉此可算出視感度修正單體透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。
偏光度[%]＝{(T1 －T2 )/(T1 ＋T2 )}×100 (式1)
單體透過率[%]＝(T1 ＋T2 )/2 (式2)
偏光區域11a之佔有面積及低偏光區域11b之佔有面積只要根據偏光膜1所要求之特性而適宜選擇即可。偏光區域11a及低偏光區域11b之佔有面積之合計相對於偏光膜1之表面積的比率較佳為90%以上，更佳為95%以上，進而較佳為99%以上。又，相對於偏光區域11a之佔有面積與低偏光區域11b之佔有面積之合計面積，偏光區域11a之佔有面積較佳為50%以上，更佳為70%以上，進而較佳為80%以上。例如，如圖1所示，低偏光區域11b之佔有面積小於偏光區域11a之佔有面積且以包圍低偏光區域11b之方式設置偏光區域11a。於圖1所示之偏光膜1中，以包圍1個圓形之低偏光區域11b之方式設置偏光區域11a，但低偏光區域11b可分別獨立設置有複數個。
偏光區域11a之形狀及低偏光區域11b之形狀並無特別限定，例如圖1所示，於以包圍低偏光區域11b之方式設置偏光區域11a之情形時，低偏光區域11b之俯視形狀可形成為圓形；橢圓形；長圓形；三角形、正方形、矩形、菱形等多角形；文字形狀；該等之組合等任意形狀。
低偏光區域11b之俯視形狀較佳為圓形、橢圓形、長圓形或多角形。於低偏光區域11b為圓形之情形時，其直徑較佳為5 cm以下，更佳為3 cm以下，進而較佳為2 cm以下。於低偏光區域11b為橢圓形或長圓形之情形時，其長軸較佳為5 cm以下，更佳為3 cm以下，進而較佳為2 cm以下。於低偏光區域11b為多角形之情形時，以該多角形內切之方式繪出之假想圓之直徑較佳為5 cm以下，更佳為3 cm以下，進而較佳為2 cm以下。上述形狀之低偏光區域11b可較佳地用作設置於智慧型手機或平板等之相機之透鏡位置所對應之區域。低偏光區域11b不含液晶化合物及二色性色素，藉此可獲得優異之透明性，故而可提高相機之性能。
進而，可以各自之俯視形狀成為線狀、帶狀、波狀等形狀之方式設置偏光區域11a與低偏光區域11b。於該情形時，偏光區域11a與低偏光區域11b可分別交替地設置複數個。於該情形時，偏光區域11a及低偏光區域11b之寬度分別獨立，較佳為1 μm～10 mm，更佳為1 μm～1 mm，進而較佳為1 μm～100 μm。
再者，於偏光膜為長條狀之偏光膜之情形時，長條狀之偏光膜通常根據偏光膜之用途等而裁斷為特定尺寸，故而較佳為以於裁斷後之偏光膜之特定位置形成偏光區域11a或低偏光區域11b之方式，設定長條狀之偏光膜之偏光區域或低偏光區域之配置。例如，於裁斷後之偏光膜為圖1所示之偏光膜1之情形時，較佳為於長條狀之偏光膜之長度方向及/或寬度方向上以特定間隔設置複數個低偏光區域11b。
圖案化偏光層11'之偏光區域11a之厚度較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上，又，較佳為5 μm以下，更佳為3 μm以下。又，低偏光區域11b之厚度較佳為未達0.5 μm，更佳為0 m。偏光區域11a及低偏光區域11b之厚度可藉由干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計等而測定。
其次，基於圖2(a)～(e)，說明偏光膜1之製造方法之各步驟。
(準備步驟)
於準備步驟中準備之積層膜62只要為於基材層13之至少單面側具有偏光層11者，則並無特別限定，較佳為如圖2(b)所示，於基材層13上依序積層有配向層12、偏光層11者。此種積層膜62可經由以下步驟製造：配向層形成步驟，即於基材層13之一面塗佈配向層形成用組合物而形成配向層12，從而獲得附有配向層之基材層61(圖2(a))；及偏光層形成步驟，即於附有配向層之基材層61之形成配向層12之側之面塗佈偏光層形成用組合物而形成偏光層11。
(基材層)
基材層13可於製造偏光膜1時，用於支持配向層12或偏光層11，又，可用於支持偏光膜1之圖案化偏光層11'。
基材層13可為玻璃基材，亦可為樹脂基材，較佳為樹脂基材。又，就可連續地製造偏光膜1之方面而言，基材層13更佳為將捲繞為滾筒狀之長條之樹脂基材捲出者。樹脂基材較佳為具有可使可見光透過之透光性之基材。此處，所謂透光性係指對波長380～780 nm之波長區域之光之視感度修正單體透過率為80%以上。
關於基材層13之厚度，就成為實用上可操作之程度之質量之方面而言，較佳為較薄，但若過薄，則存在強度下降、加工性劣化之傾向。基材層13之厚度通常為5 μm～300 μm，較佳為20 μm～200 μm。又，基材層13可以可剝離之方式設置，例如，將偏光膜1之圖案化偏光層11'貼合於構成顯示裝置之構件或下述相位差層等後，可自偏光膜1剝離。藉此，可獲得偏光膜1之進一步之薄膜化效果。
作為構成樹脂基材之樹脂，例如可列舉：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴；降烯系聚合物等環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素及乙酸丙酸纖維素等纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等。
作為市售之纖維素酯之樹脂基材，可列舉：“Fujitac Film”(富士軟片股份有限公司製造)；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(以上，Konica Minolta Opto股份有限公司製造)等。
作為市售之環狀烯烴系樹脂，可列舉：“Topas”(註冊商標)(Ticona公司(德)製造)、“ARTON”(註冊商標)(JSR股份有限公司製造)、“ZEONOR”(註冊商標)、“ZEONEX”(註冊商標)(以上，日本ZEON股份有限公司製造)及“APEL”(註冊商標)(三井化學股份有限公司製造)。可藉由溶劑流延法、熔融擠出法等公知之方法將此種環狀烯烴系樹脂進行製膜，從而製為樹脂基材。亦可使用市售之環狀烯烴系樹脂之樹脂基材。作為市售之環狀烯烴系樹脂之樹脂基材，可列舉：“S-SINA”(註冊商標)、“SCA40”(註冊商標)(以上，積水化學工業股份有限公司製造)、“ZEONOR FILM”(註冊商標)(Optronics股份有限公司製造)及“ARTON FILM”(註冊商標)(JSR股份有限公司製造)。
基材層13可為1層構造，亦可為2層以上之多層構造。於基材層13為多層構造之情形時，各層可由相同之材料形成，亦可由互不相同之材料形成。
又，基材層13可具有1/4波長板功能。藉由使基材層13具有1/4波長板功能，藉由組合基材層13與圖案化偏光層11'，可獲得具有圓偏光板之功能之偏光膜。藉此，即使除基材層13外不對偏光膜1貼合具有1/4波長板功能之相位差層，亦可獲得圓偏光板。又，於基材層13為多層構造之情形時，可藉由使用將具有1/2波長板功能之層與具有1/4波長板功能之層積層而成者，將圖案化偏光層11'積層於具有1/2波長板功能之層側，而獲得圓偏光板。或者，於基材層13為多層構造之情形時，亦可藉由使用將具有反波長色散性之1/4波長板功能之層與具有正C板功能之層積層而成者，而獲得圓偏光板。
(偏光層)
偏光層11只要為含有二色性色素者，則並無特別限定，較佳為具有含有液晶化合物與二色性色素之區域。於偏光層11具有偏光膜1平面之偏光特性之情形時，較佳為具有二色性色素與液晶化合物相對於偏光膜1平面為水平配向之狀態之區域。又，於偏光層11具有偏光膜1之膜厚方向之偏光特性之情形時，較佳為具有二色性色素與液晶化合物相對於偏光膜1平面為水平配向之狀態之區域。
對偏光層11中二色性色素與液晶化合物相對於偏光膜1面為水平配向之狀態之區域而言，作為對波長λ nm之光之液晶配向水平方向上之吸光度A1(λ)與液晶配向面內垂直方向上之吸光度A2(λ)之比之二色比(＝A1(λ)/A2(λ))較佳為7以上，更佳為20以上，進而較佳為30以上。該值越高，表示越具有吸收選擇性優異之偏光特性。於偏光層11為向列型液晶相之情形時，上述比為5～10左右，但根據二色性色素之種類而有所不同。再者，於偏光層11為向列型液晶相及層列型液晶相之情形時，可藉由例如利用各種顯微鏡之表面觀察或利用霧度計之散射度測定，而確認液晶化合物與二色性色素未相分離。
偏光層11之厚度較佳為0.5 μm以上，更佳為1 μm以上，又，較佳為10 μm以下，更佳為5 μm以下。偏光層11之厚度可藉由干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計等而測定。
(配向層形成步驟)
於配向層形成步驟中，於基材層13之一面塗佈配向層形成用組合物而形成配向層12，從而獲得附有配向層之基材層61(圖2(a))。配向層形成步驟中形成之配向層12可具有使積層於其上之液晶化合物於所期望之方向上液晶配向之配向限制力。作為配向層形成用組合物，可使用：下述配向性聚合物組合物、光配向膜形成用組合物、含有用以形成溝槽配向膜之樹脂材料之組合物等。
配向層12使液晶化合物之液晶配向變得容易。水平配向、垂直配向、混合配向、傾斜配向等液晶配向之狀態根據配向層12及液晶化合物之性質而有所變化，其組合可任意地選擇。例如，若配向層12係表現水平配向作為配向限制力之材料，則液晶化合物可形成水平配向或混合配向，若配向層12為表現垂直配向之材料，則液晶化合物可形成垂直配向或傾斜配向。水平、垂直等表達係表示以偏光膜1平面為基準之情形時，配向之液晶化合物之長軸之方向。例如，所謂垂直配向係指於相對於偏光膜1平面之垂直方向上具有配向之聚合性液晶之長軸。此處之垂直係指相對於偏光膜1平面為90°±20°。偏光膜1較佳為具有偏光膜1平面之偏光特性，故而配向層12較佳為使用表現水平配向之材料而形成。
作為配向層12之配向限制力，於配向層12由配向性聚合物形成之情形時，可藉由表面狀態或摩擦條件而任意地調整，於由光配向性聚合物形成之情形時，可藉由偏光照射條件等而任意地調整。又，亦可藉由選擇聚合性液晶化合物之表面張力或液晶性等物性，而控制液晶配向。
配向層12之厚度通常為10 nm～5000 nm，較佳為10 nm～1000 nm，更佳為30 nm～300 nm。又，於基材層13與偏光層11之間形成之配向層12較佳為對於配向層12上形成偏光層11時使用之溶劑為不溶，又，具有用於去除溶劑或液晶配向之加熱處理之耐熱性。
作為配向層12，可列舉包含配向性聚合物之配向膜、光配向膜或溝槽(groove)配向膜等。於基材層13為自捲繞有長條之樹脂基材之捲繞體捲出者之情形時，就可容易地控制其配向方向之方面而言，配向層12較佳為光配向膜。
作為配向性聚合物，可列舉：分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠類、分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺、作為其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚㗁唑、聚伸乙基亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯啶酮、聚丙烯酸或聚丙烯酸酯類等。其中，較佳為聚乙烯醇。該等配向性聚合物可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。
包含配向性聚合物之配向膜通常可藉由如下方法獲得：將使配向性聚合物溶解於溶劑中之組合物(以下有時稱為「配向性聚合物組合物」)塗佈於基材層13，去除溶劑，或將配向性聚合物組合物塗佈於基材層13，去除溶劑，進行摩擦(摩擦法)。
作為配向性聚合物組合物中所使用之溶劑，可列舉：水；甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基賽路蘇、丁基賽路蘇或丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯或乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮或甲基異丁酮等酮溶劑；戊烷、己烷或庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯或二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃或二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿或氯苯等氯取代烴溶劑等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。
配向性聚合物組合物中之配向性聚合物之含量只要為可使配向性聚合物完全溶解於溶劑中之範圍即可，相對於溶液以固形物成分換算計較佳為0.1～20質量%，更佳為0.1～10質量%。
作為配向性聚合物組合物，可直接使用市售之配向膜材料。作為市售之配向膜材料，可列舉：Sunever(註冊商標)(日產化學工業股份有限公司製造)或Optomer(註冊商標)(JSR股份有限公司製造)等。
作為將配向性聚合物組合物塗佈於基材層13之方法，可列舉：旋轉塗佈法、擠壓塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法、棒式塗佈法或敷料法等塗佈方法或柔版法等印刷法等公知之方法。於藉由卷對卷(Roll-to-Roll)形式之連續製造方法製造偏光膜1之情形時，該塗佈方法通常可採用凹版塗佈法、模嘴塗佈法或柔版法等印刷法。
藉由將配向性聚合物組合物中所含之溶劑去除，形成配向性聚合物之乾燥覆膜。作為溶劑之去除方法，可列舉：自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及減壓乾燥法等。其後，可使上述乾燥覆膜與捲繞有摩擦布之旋轉摩擦輥接觸，從而形成配向層12。
光配向膜通常可藉由如下方法獲得：將含有具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑之組合物(以下有時稱為「光配向膜形成用組合物」)塗佈於基材層13而形成配向層用塗佈層，對該配向層用塗佈層照射偏光(較佳為偏光UV(ultraviolet，紫外線))。就可藉由選擇照射之偏光之偏光方向而任意地控制配向限制力之方向之方面而言，光配向膜更佳。
所謂光反應性基係指藉由照射光而產生液晶配向能力之基。具體而言，係藉由照射光而產生如分子之配向誘發或異構化反應、二聚化反應、光交聯反應或光分解反應之成為液晶配向能力之起源之光反應者。該光反應性基之中，就配向性優異之方面而言，較佳為引起二聚化反應或光交聯反應者。作為可產生如以上之反應之光反應性基，較佳為具有不飽和鍵，尤其具有雙鍵者，更佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群中之至少一個之基。
作為具有C=C鍵之光反應性基，例如可列舉：乙烯基、多烯基、茋基、茋唑基、茋唑鎓(Stilbazonium)基、查耳酮基或桂皮醯基等。就易於控制反應性之方面或光配向時之配向限制力表現之觀點而言，較佳為查耳酮基或桂皮醯基。作為具有C=N鍵之光反應性基，可列舉：具有芳香族希夫鹼或芳香族腙等結構之基。作為具有N=N鍵之光反應性基，可列舉：偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基或甲臢基等或以氧化偶氮苯為基本結構者。作為具有C=O鍵之光反應性基，可列舉：二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基或順丁烯二醯亞胺基等。該等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧羰基、羥基、磺酸基或鹵化烷基等取代基。
作為光配向膜形成用組合物之溶劑，較佳為溶解具有光反應性基之聚合物及單體者，作為該溶劑，例如可列舉作為上述配向性聚合物組合物之溶劑而列舉之溶劑等。
光配向膜形成用組合物中之具有光反應性基之聚合物或單體之含量可根據該具有光反應性基之聚合物或單體之種類或所欲製造之光配向膜之厚度而適宜調節，較佳為0.2質量%以上，尤佳為0.3～10質量%之範圍。又，可於不明顯損害光配向膜之特性之範圍內，含有聚乙烯醇或聚醯亞胺等高分子材料或光敏劑。
作為將光配向膜形成用組合物塗佈於基材層13之方法，可列舉與上述將配向性聚合物組合物塗佈於基材層13之方法相同之方法。作為自塗佈之光配向膜形成用組合物去除溶劑之方法，例如可列舉與自配向性聚合物組合物去除溶劑之方法相同之方法。
偏光照射可直接自將溶劑自塗佈於基材層13上之光配向膜形成用組合物去除之乾燥覆膜上進行，亦可以透過基材層13之偏光照射至乾燥覆膜之方式自基材層13側進行。又，偏光照射中所使用之偏光尤佳為實質平行光。照射之偏光之波長較佳為具有光反應性基之聚合物或單體之光反應性基可吸收光能之波長區域者。具體而言，尤佳為波長250～400 nm之範圍之UV(紫外光)。作為偏光照射中所使用之光源，可列舉：氙氣燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等紫外光雷射等，更佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈或金屬鹵化物燈。該等燈因波長313 nm之紫外光之發光強度較大，故而較佳。可藉由使來自光源之光通過適當之偏光元件進行照射而照射偏光。作為該偏光元件，可使用偏光濾光器(polarizing filter)或葛蘭-湯普生、葛蘭泰勒(Glan-Taylor)等偏光稜鏡或線柵型之偏光元件。
再者，進行摩擦或偏光照射時，若進行遮蔽，則亦可形成液晶配向之方向不同之複數個區域(圖案)。
溝槽(groove)配向膜係於膜表面具有凹凸圖案或複數個溝槽(槽)之膜。於將液晶分子置於具有等間隔排列之複數個直線狀之溝槽之膜之情形時，液晶分子於沿其槽之方向配向。
作為獲得溝槽配向膜之方法，可列舉：介隔具有圖案形狀之狹縫之曝光用遮罩對感光性聚醯亞胺膜表面進行曝光後，進行顯影及沖洗處理，從而形成凹凸圖案的方法；於表面具有槽之板狀之母盤上形成硬化前之UV硬化性樹脂層，將樹脂層移至基材後進行硬化的方法；將具有複數個槽之滾筒狀之母盤壓抵於形成於基材上之硬化前之UV硬化性樹脂膜，形成凹凸，其後進行硬化的方法等。具體可列舉：日本專利特開平6-34976號公報及日本專利特開2011-242743號公報中記載之方法等。
為獲得配向混亂較小之配向，溝槽配向膜之凸部之寬度較佳為0.05 μm～5 μm，凹部之寬度較佳為0.1 μm～5 μm，凹凸之階差之深度較佳為2 μm以下，較佳為0.01 μm～1 μm以下。
(偏光層形成步驟)
於偏光層形成步驟中，於附有配向層之基材層61之形成配向層12之側之面塗佈偏光層形成用組合物，從而形成偏光層11。偏光層形成用組合物係含有液晶化合物及二色性色素之組合物，較佳為含有溶劑及聚合起始劑，可含有增感劑、聚合抑制劑、調平劑、反應性添加劑等。
(液晶化合物)
作為偏光層形成用組合物中所含之液晶化合物，可使用公知之液晶化合物。液晶化合物之種類並無特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物及該等之混合物。又，液晶化合物可為高分子液晶化合物，亦可為聚合性液晶化合物，亦可為該等之混合物。
作為液晶化合物，較佳為使用聚合性液晶化合物。藉由使用聚合性液晶化合物，可任意地控制偏光膜之色相，並且可將偏光膜大幅薄型化。又，可不進行延伸處理而製造偏光膜，故而可製為不會因熱而發生延伸鬆弛之非伸縮性之偏光膜。
所謂聚合性液晶化合物係指具有聚合性基且具有液晶性之化合物。聚合性基係指參與聚合反應之基，較佳為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基係指可藉由自下述光聚合起始劑產生之活性自由基或酸等而參與聚合反應之基。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁基，更佳為丙烯醯氧基。液晶性可為熱致型液晶，亦可為溶致型液晶，於如本實施之形態之偏光層11般與二色性色素混合之情形時，較佳為使用熱致型液晶。
於聚合性液晶化合物為熱致型液晶之情形時，可為顯示向列型液晶相之熱致性液晶化合物，亦可為顯示層列型液晶相之熱致性液晶化合物。聚合性液晶化合物所顯示之液晶狀態較佳為層列相，就高性能化之觀點而言，更佳為高次層列相。其中，更佳為形成層列B相、層列D相、層列E相、層列F相、層列G相、層列H相、層列I相、層列J相、層列K相或層列L相之高次層列型液晶化合物，進而較佳為形成層列B相、層列F相或層列I相之高次層列型液晶化合物。若聚合性液晶化合物形成之偏光層11為該等高次層列相，則可於偏光層11中形成偏光性能更高之區域。又，此種偏光性能較高之區域於X射線繞射測定中獲得源自六角相或結晶相等高次結構之布勒格波峰。該布勒格波峰係源自分子配向之週期結構之波峰，可獲得其週期間隔為3～6 Å之膜。於本實施形態之偏光膜1中，偏光層11含有聚合性液晶化合物以層列相之狀態聚合之聚合物，藉此可對偏光層11賦予更高之偏光特性，故而較佳。
例如可藉由以下方法確認聚合性液晶化合物是否顯示向列型液晶相或層列型液晶相。於基材上塗佈偏光膜形成用組合物而形成塗佈膜後，於聚合性液晶化合物不會聚合之條件下進行加熱處理，藉此將塗佈膜中含有之溶劑去除。繼而，藉由利用偏光顯微鏡之質構觀察、X射線繞射測定或示差掃描熱量測定，對藉由將形成於基材上之塗佈膜加熱至各向同性相溫度並緩慢冷卻而表現之液晶相進行檢查。
作為此種聚合性液晶化合物，具體可列舉下述式(A)所表示之化合物(以下有時稱為化合物(A))等
U1 -V1 -W1 -X1 -Y1 -X2 -Y2 -X3 -W2 -V2 -U2 (A)
[式(A)中，X1 、X2 及X3 分別獨立表示2價之芳香族基或2價之脂環式烴基，此處，該2價之芳香族基或2價之脂環式烴基中所含之氫原子可被取代為鹵素原子、碳數1～4之烷基、碳數1～4之氟烷基、碳數1～4之烷氧基、氰基或硝基，構成該2價之芳香族基或2價之脂環式烴基之碳原子可被取代為氧原子、硫原子或氮原子；其中，X1 、X2 及X3 中至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基；
Y1 、Y2 、W1 及W2 相互獨立為單鍵或二價之連結基；
V1 及V2 相互獨立為可具有取代基之碳數1～20之烷二基，構成該烷二基之-CH2 -可被取代為-O-、-S-或NH-；
U1 及U2 相互獨立表示聚合性基或氫原子，至少1個為聚合性基]。
於化合物(A)中，X1 、X2 及X3 中至少1個為可具有取代基之1,4-伸苯基或可具有取代基之環己烷-1,4-二基。尤其，X1 及X3 較佳為可具有取代基之環己烷-1,4-二基，該環己烷-1,4-二基進而較佳為反-環己烷-1,4-二基。於含有反-環己烷-1,4-二基之結構之情形時，存在易於表現層列型液晶性之傾向。又，作為可具有取代基之1,4-伸苯基及可具有取代基之環己烷-1,4-二基任意具有之取代基，可列舉：甲基、乙基或丁基等碳數1～4之烷基、氰基、氯原子或氟原子等鹵素原子。較佳為未經取代。
Y1 及Y2 較佳為相互獨立為單鍵、-CH2 CH2 -、-CH2 O-、-COO-、-OCO-、-N=N-、-CRa =CRb -、-C≡C-或CRa =N-，Ra 及Rb 相互獨立表示氫原子或碳數1～4之烷基。Y1 及Y2 更佳為-CH2 CH2 -、-COO-、-OCO-或單鍵，於X1 、X2 及X3 全部不含環己烷-1,4-二基之情形時，更佳為Y1 及Y2 為互不相同之鍵結方式。於Y1 及Y2 為互不相同之鍵結方式之情形時，存在易於表現層列型液晶性之傾向。
W1 及W2 較佳為相互獨立為單鍵、-O-、-S-、-COO-或OCO-，更佳為相互獨立為單鍵或-O-。
作為V1 及V2 所表示之碳數1～20之烷二基，可列舉：亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基或二十烷-1,20-二基等。V1 及V2 較佳為碳數2～12之烷二基，更佳為直鏈狀之碳數6～12之烷二基。藉由設為直鏈狀之碳數6～12之烷二基，存在結晶性提高，易於表現層列型液晶性之傾向。
作為可具有取代基之碳數1～20之烷二基任意具有之取代基，可列舉：氰基及氯原子、氟原子等鹵素原子等，該烷二基較佳為未經取代，更佳為未經取代且直鏈狀之烷二基。
U1 及U2 較佳為均為聚合性基，更佳為均為光聚合性基。就可於較之熱聚合性基之低溫條件下聚合，故而可於秩序度較高之狀態下形成聚合性液晶化合物之聚合物的方面而言，具有光聚合性基之聚合性液晶化合物有利。
U1 及U2 所表示之聚合性基可互不相同，但較佳為相同。作為聚合性基，可列舉：乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基或氧雜環丁基，更佳為甲基丙烯醯氧基或丙烯醯氧基。
作為此種聚合性液晶化合物，例如可列舉如以下者。
[化1]
[化2]
[化3]
[化4]
例示之上述化合物中，較佳為選自由式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)、式(1-6)、式(1-7)、式(1-8)、式(1-13)、式(1-14)及式(1-15)所表示之化合物所組成之群中之至少一種。
例示之化合物(A)可單獨或組合用於偏光層11。又，於組合兩種以上之聚合性液晶化合物之情形時，較佳為至少一種為化合物(A)，更佳為兩種以上為化合物(A)。藉由組合兩種以上之聚合性液晶化合物，存在即使於液晶-結晶相轉移溫度以下之溫度下亦可暫時保持液晶性之情形。作為組合兩種聚合性液晶化合物之情形時之混合比，通常為1：99～50：50，較佳為5：95～50：50，進而較佳為10：90～50：50。
化合物(A)例如可藉由Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321－328(1996)或日本專利第4719156號等中記載之公知方法而製造。
偏光層11中之聚合性液晶化合物之含量相對於偏光層11之固形物成分100質量份，通常為50～99.5質量份，較佳為60～99質量份，更佳為70～98質量份，進而較佳為80～97質量份。若聚合性液晶化合物之含量為上述範圍內，則存在配向性變高之傾向。此處，所謂固形物成分係指自下述偏光層形成用組合物去除溶劑後之成分之合計量。
(二色性色素)
所謂二色性色素係指分子之長軸方向上之吸光度與短軸方向上之吸光度具有不同性質之色素。二色性色素係與液晶化合物一同配向而顯示二色性之色素，二色性色素本身可具有聚合性，亦可具有液晶性。作為二色性色素，較佳為具有吸收可見光之特性，更佳為於380～680 nm之範圍內具有吸收極大波長(λMAX )者。作為此種二色性色素，例如可列舉：吖啶色素、㗁 色素、花青色素、萘色素、偶氮色素或蒽醌色素等，其中較佳為偶氮色素。作為偶氮色素，可列舉：單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素或茋偶氮色素等，較佳為雙偶氮色素或三偶氮色素。二色性色素可單獨使用，亦可組合兩種以上使用，為於可見光全部區域獲得吸收，較佳為組合三種以上之二色性色素，更佳為組合三種以上之偶氮色素。
作為偶氮色素，例如可列舉式(I)所表示之化合物(以下有時亦稱為「化合物(I)」)
T1 -A1 (-N=N-A2 )p -N=N-A3 -T2 (I)
[式(I)中，A1 、A2 及A3 相互獨立表示可具有取代基之1,4-伸苯基、萘-1,4-二基或可具有取代基之2價之雜環基，T1 及T2 相互獨立為吸電子基或推電子基，位於相對於偶氮鍵面內為實質180°之位置；p表示0～4之整數；於p為2以上之情形時，各個A2 相互可相同，亦可不同；於可見光範圍內顯示吸收之範圍內，-N=N-鍵可被取代為-C=C-、-COO-、-NHCO-或-N=CH-鍵]。
作為A1 、A2 及A3 中之1,4-伸苯基、萘-1,4-二基及2價之雜環基所任意具有之取代基，可列舉：甲基、乙基或丁基等碳數1～4之烷基；甲氧基、乙氧基或丁氧基等碳數1～4之烷氧基；三氟甲基等碳數1～4之氟化烷基；氰基；硝基；氯原子、氟原子等鹵素原子；胺基、二乙胺基及吡咯烷基等經取代或未經取代之胺基(所謂經取代之胺基係指具有1個或2個碳數1～6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2～8之烷二基之胺基；未經取代之胺基係指-NH2 )。再者，作為碳數1～6之烷基，可列舉：甲基、乙基或己基等。作為碳數2～8之烷二基，可列舉：伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基或辛烷-1,8-二基等。為了於如層列型液晶之高秩序液晶結構中包含化合物(I)，A1 、A2 及A3 較佳為相互獨立為未經取代、氫被取代為甲基或甲氧基之1,4-伸苯基或2價之雜環基，p較佳為0或1。其中就具有分子合成之簡便性與高性能之兩者之方面而言，更佳為p為1且A1 、A2 及A3 之3個結構中至少2個為1,4-伸苯基。
作為2價之雜環基，可列舉：自喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、㗁唑及苯并㗁唑去除2個氫原子後之基。於A2 為2價之雜環基之情形時，較佳為分子鍵結角度實質成為180°之結構，具體而言，更佳為2個5員環縮合而成之苯并噻唑、苯并咪唑、苯并㗁唑結構。
T1 及T2 較佳為相互獨立為吸電子基或推電子基且為互不相同之結構，進而較佳為T1 為吸電子基且T2 為推電子基，或T1 為推電子基且T2 為吸電子基。具體而言，T1 及T2 較佳為相互獨立為碳數1～4之烷基、碳數1～4之烷氧基、氰基、硝基、具有1個或2個碳數1～6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2～8之烷二基之胺基、或三氟甲基，其中，為了包含於如層列型液晶之高秩序液晶結構中，必須為分子之排斥體積更小之結構體，故而較佳為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、氰基、具有1個或2個碳數1～6之烷基之胺基、或2個取代烷基相互鍵結形成碳數2～8之烷二基之胺基。
作為此種偶氮色素，例如可列舉如以下者。
[化5]
[化6]
[式(2-1)～(2-6)中，B1 ～B20 相互獨立表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基、氰基、硝基、經取代或未經取代之胺基(經取代之胺基及未經取代之胺基之定義如上所述)、氯原子或三氟甲基；又，就獲得較高之偏光性能之觀點而言，B2 、B6 、B9 、B14 、B18 、B19 較佳為氫原子或甲基，進而較佳為氫原子；
n1～n4分別獨立表示0～3之整數；
於n1為2以上之情形時，複數個B2 分別可相同，亦可不同，
於n2為2以上之情形時，複數個B6 分別可相同，亦可不同，
於n3為2以上之情形時，複數個B9 分別可相同，亦可不同，
於n4為2以上之情形時，複數個B14 分別可相同，亦可不同]
作為上述蒽醌色素，較佳為式(2-7)所表示之化合物。
[化7]
[式(2-7)中，R1 ～R8 相互獨立表示氫原子、-Rx 、-NH2 、-NHRx 、-NRx 2 、-SRx 或鹵素原子；
Rx 表示碳數1～4之烷基或碳數6～12之芳基]
作為上述㗁 色素，較佳為式(2-8)所表示之化合物。
[化8]
[式(2-8)中，R9 ～R15 相互獨立表示氫原子、-Rx 、-NH2 、-NHRx 、-NRx 2 、-SRx 或鹵素原子；
Rx 表示碳數1～4之烷基或碳數6～12之芳基]
作為上述吖啶色素，較佳為式(2-9)所表示之化合物。
[化9]
[式(2-9)中，R16 ～R23 相互獨立表示氫原子、-Rx 、-NH2 、-NHRx 、-NRx 2 、-SRx 或鹵素原子；
Rx 表示碳數1～4之烷基或碳數6～12之芳基]
作為式(2-7)、式(2-8)及式(2-9)中之Rx 所表示之碳數1～4之烷基，可列舉：甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基等，作為碳數6～12之芳基，可列舉：苯基、甲苯甲醯基、二甲苯基或萘基等。
作為上述花青色素，較佳為式(2-10)所表示之化合物及式(2-11)所表示之化合物。
[化10]
[式(2-10)中，D1 及D2 相互獨立表示式(2-10a)～式(2-10d)之任一者所表示之基；
[化11]

n5表示1～3之整數]
[化12]
[式(2-11)中，D3 及D4 互相獨立表示式(2-11a)～式(2-11h)之任一者所表示之基；
[化13]

n6表示1～3之整數]
作為二色性色素之含量(於含有複數種之情形時為其合計量)，就獲得良好之光吸收特性之觀點而言，相對於偏光層11中之聚合性液晶化合物100質量份，通常較佳為0.1～30質量份，更佳為1～20質量份，進而較佳為3～15質量份。若二色性色素之含量少於該範圍，則光吸收變得不充分，無法獲得充分之偏光性能，若多於該範圍，則存在阻礙液晶分子之配向之情形。
(溶劑)
偏光層形成用組合物可含有溶劑。通常聚合性液晶化合物之黏度較高，故而於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時，藉由使用含有溶劑之偏光層形成用組合物，可使塗佈變得容易，結果為易於形成偏光層11。作為溶劑，較佳為可完全溶解聚合性液晶化合物及二色性色素者，又，較佳為對聚合性液晶化合物之聚合反應為惰性之溶劑。
作為溶劑，可列舉：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚或丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯或乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮或甲基異丁酮等酮溶劑；戊烷、己烷或庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯或二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃或二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿或氯苯等含氯之溶劑；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮等醯胺系溶劑等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。
偏光層形成用組合物中所含之溶劑之含量相對於偏光層形成用組合物之合計量較佳為50～98質量%。換言之，偏光層形成用組合物中之固形物成分之含量較佳為2～50質量%。若固形物成分之含量為50質量%以下，則偏光層形成用組合物之黏度變低，因此存在偏光層11之厚度變得大致均勻，偏光層11中難以產生不均之傾向。又，該固形物成分之含量可考慮所欲製造之偏光層11之厚度而決定。
(聚合起始劑)
偏光層形成用組合物可含有聚合起始劑。聚合起始劑可於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時使用，係可使聚合性液晶化合物等之聚合反應開始之化合物。作為聚合起始劑，就不依存於熱致型液晶之相狀態之觀點而言，較佳為藉由光之作用而產生活性自由基之光聚合起始劑。
作為聚合起始劑，例如可列舉：安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三化合物、錪鹽或鋶鹽等。
作為安息香化合物，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚或安息香異丁醚等。
作為二苯甲酮化合物，例如可列舉：二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3',4,4'-四(過氧化第三丁基羰基)二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。
作為烷基苯酮化合物，例如可列舉：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-啉基-1-(4-甲硫基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮或2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之低聚物等。
作為醯基氧化膦化合物，可列舉：2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。
作為三化合物，例如可列舉：2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三或2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三等。
聚合起始劑亦可使用市售者。作為市售之聚合起始劑，可列舉：Irgacure(註冊商標)907、184、651、819、250、369、379、127、754、OXE01、OXE02或OXE03(Ciba Specialty Chemicals股份有限公司製造)；Seikuol(註冊商標)BZ、Z或BEE(精工化學股份有限公司製造)；kayacure(註冊商標)BP100或UVI-6992(Dow Chemical股份有限公司製造)；Adeka Optomer SP-152、N-1717、N-1919、SP-170、Adeka arkls NCI-831、Adeka arkls NCI-930(ADEKA股份有限公司製造)；TAZ-A或TAZ-PP(日本Nihon SiberHegner股份有限公司製造)；TAZ-104(三和化學股份有限公司製造)等。偏光層形成用組合物中之聚合起始劑可使用一種，亦可根據光之光源而混合兩種以上之複數種聚合起始劑而使用。
偏光層形成用組合物中之聚合起始劑之含量可根據聚合性液晶化合物之種類或其量而適宜調節，相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，通常為0.1～30質量份，較佳為0.5～10質量份，更佳為0.5～8質量份。若聚合起始劑之含量為上述範圍內，則可不打亂聚合性液晶化合物之配向而進行聚合。
(增感劑)
偏光層形成用組合物可含有增感劑。增感劑可於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時較佳地使用，於使用具有光聚合性基之聚合性液晶化合物之情形時，增感劑較佳為光敏劑。作為增感劑，例如可列舉：酮及9-氧硫等酮化合物(例如2,4-二乙基-9-氧硫、2-異丙基-9-氧硫等)；蒽及含烷氧基之蒽(例如二丁氧基蒽等)等蒽化合物；啡噻或紅螢烯等。
於偏光層形成用組合物含有增感劑之情形時，可進一步促進偏光層形成用組合物中含有之聚合性液晶化合物之聚合反應。該增感劑之使用量相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，較佳為0.1～10質量份，更佳為0.5～5質量份，進而較佳為0.5～3質量份。
(聚合抑制劑)
就使聚合反應穩定地進行之觀點而言，偏光層形成用組合物可含有聚合抑制劑。聚合抑制劑可於使用聚合性液晶化合物作為液晶化合物之情形時較佳地使用，藉由聚合抑制劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應之進行程度。
作為聚合抑制劑，例如可列舉：對苯二酚、含烷氧基之對苯二酚、含烷氧基之鄰苯二酚(例如丁基鄰苯二酚等)、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基自由基等自由基捕捉劑；苯硫酚類；β-萘胺類或β-萘酚類等。
於偏光層形成用組合物含有聚合抑制劑之情形時，聚合抑制劑之含量相對於聚合性液晶化合物之含量100質量份，較佳為0.1～10質量份，更佳為0.5～5質量份，進而較佳為0.5～3質量份。若聚合抑制劑之含量為上述範圍內，則可不打亂聚合性液晶化合物之配向而進行聚合。
(調平劑)
偏光層形成用組合物可含有調平劑。所謂調平劑係指具有調整組合物之流動性，使塗佈組合物而獲得之膜變得更平坦之功能的添加劑，例如可列舉：有機改性聚矽氧油系、聚丙烯酸酯系或全氟烷基系之調平劑。具體可列舉：DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上全部由Dow Corning Toray(股)製造)、KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001(以上全部由信越化學工業(股)製造)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上全部由邁圖高新材料日本有限公司製造)、fluorinert(註冊商標)FC-72、fluorinert FC-40、fluorinert FC-43、fluorinert FC-3283(以上全部由Sumitomo 3M(股)製造)、MEGAFAC(註冊商標)R-08、MEGAFAC R-30、MEGAFAC R-90、MEGAFAC F-410、MEGAFAC F-411、MEGAFAC F-443、MEGAFAC F-445、MEGAFAC F-470、MEGAFAC F-477、MEGAFAC F-479、MEGAFAC F-482、MEGAFAC F-483(以上均由DIC(股)製造)、Eftop(商品名)EF301、Eftop EF303、Eftop EF351、Eftop EF352(以上全部由三菱綜合材料電子化成(股)製造)、Surflon(註冊商標)S-381、Surflon S-382、Surflon S-383、Surflon S-393、Surflon SC-101、Surflon SC-105、KH-40、SA-100(以上全部由AGC Seimi Chemical(股)製造)、商品名E1830、商品名E5844(大金精密化學研究所(股)製造)、BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353或BYK-361N(均為商品名：BM Chemie公司製造)等。其中，較佳為聚丙烯酸酯系調平劑或全氟烷基系調平劑。
於偏光層形成用組合物含有調平劑之情形時，相對於液晶化合物100質量份，較佳為0.01～5質量份，更佳為0.1～5質量份，進而較佳為0.1～3質量份。若調平劑之含量為上述範圍內，則存在易於使液晶化合物水平配向，且所得偏光層變得更平滑之傾向。若調平劑相對於液晶化合物之含量超過上述範圍，則存在所得偏光層中易於產生不均之傾向。再者，偏光層形成用組合物可含有兩種以上之調平劑。
(反應性添加劑)
偏光層形成用組合物可含有反應性添加劑。作為反應性添加劑，較佳為於其分子內具有碳-碳不飽和鍵與活性氫反應性基者。再者，此處所謂「活性氫反應性基」係指對羧基(-COOH)、羥基(-OH)、胺基(-NH2 )等具有活性氫之基具有反應性之基，其代表例為縮水甘油基、㗁唑啉基、碳二醯亞胺基、氮丙啶基、醯亞胺基、異氰酸基、硫代異氰酸基、順丁烯二酸酐基等。反應性添加劑所具有之碳-碳不飽和鍵或活性氫反應性基之個數通常分別為1～20個，較佳為分別為1～10個。
較佳為於反應性添加劑中存在至少2個活性氫反應性基，於該情形時，存在複數個之活性氫反應性基可相同，亦可不同。
所謂反應性添加劑所具有之碳-碳不飽和鍵係指碳-碳雙鍵、碳-碳三鍵或該等之組合，較佳為碳-碳雙鍵。其中，作為反應性添加劑，較佳為含有作為乙烯基及/或(甲基)丙烯醯基之碳-碳不飽和鍵。進而，較佳為活性氫反應性基為選自由環氧基、縮水甘油基及異氰酸基所組成之群中之至少一種之反應性添加劑，更佳為具有丙烯醯基與異氰酸基之反應性添加劑。
作為反應性添加劑之具體例，可列舉：甲基丙烯醯氧基縮水甘油醚或丙烯醯氧基縮水甘油醚等具有(甲基)丙烯醯基與環氧基之化合物；氧雜環丁烷丙烯酸酯或氧雜環丁烷甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯醯基與氧雜環丁基之化合物；內酯丙烯酸酯或內酯甲基丙烯酸酯等具有(甲基)丙烯醯基與內酯基之化合物；乙烯基㗁唑啉或異丙烯基㗁唑啉等具有乙烯基與㗁唑啉基之化合物；丙烯酸異氰酸基甲酯、甲基丙烯酸異氰酸基甲酯、丙烯酸2-異氰酸基乙酯或甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯等具有(甲基)丙烯醯基與異氰酸基之化合物之低聚物等。又，可列舉：甲基丙烯酸酐、丙烯酸酐、順丁烯二酸酐或乙烯基順丁烯二酸酐等具有乙烯基或伸乙烯基與酸酐之化合物等。其中，較佳為甲基丙烯醯氧基縮水甘油醚、丙烯醯氧基縮水甘油醚、丙烯酸異氰酸基甲酯、甲基丙烯酸異氰酸基甲酯、乙烯基㗁唑啉、丙烯酸2-異氰酸基乙酯、甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯或上述之低聚物，尤佳為丙烯酸異氰酸基甲酯、丙烯酸2-異氰酸基乙酯或上述之低聚物。
具體而言，較佳為下述式(Y)所表示之化合物。
[化14]
[式(Y)中，n表示1～10為止之整數，R1' 表示碳數2～20之2價脂肪族或脂環式烴基或碳數5～20之2價芳香族烴基；各重複單元中具有之2個R2' 中，一個為-NH-，另一個為＞N-C(=O)-R3' 所表示之基；R3' 表示羥基或具有碳-碳不飽和鍵之基；
式(Y)中之R3' 中，至少1個R3' 為具有碳-碳不飽和鍵之基]
上述式(Y)所表示之反應性添加劑之中，尤佳為下述式(YY)所表示之化合物(以下有時稱為化合物(YY))(再者，n與上述含義相同)。
[化15]
化合物(YY)可直接使用市售品或視需要進行精製而使用。作為市售品，例如可列舉Laromer(註冊商標)LR-9000(BASF公司製造)。
於偏光層形成用組合物含有反應性添加劑之情形時，反應性添加劑之含量相對於液晶化合物100質量份，通常為0.01～10質量份，較佳為0.1～5質量份。
(偏光層形成用組合物之塗佈方法)
作為塗佈偏光層形成用組合物之方法，可列舉：擠出塗佈法、直接凹版塗佈法、反向凹版塗佈法、毛細管(CAP)塗佈法、狹縫塗佈法、微凹版塗佈法、模嘴塗佈法、噴墨法等。又，亦可列舉：使用浸漬塗佈機、棒式塗佈機、旋轉塗佈機等塗佈機而塗佈之方法等。其中，於以卷對卷形式連續塗佈之情形時，較佳為利用微凹版塗佈法、噴墨法、狹縫塗佈法、模嘴塗佈法之塗佈方法，於塗佈於玻璃等單片基材之情形時，較佳為均勻性較高之旋轉塗佈法。於以卷對卷形式進行塗佈之情形時，亦可於基材層13上塗佈配向膜形成用組合物等而形成配向層12，進而於所得配向層12上連續塗佈偏光層形成用組合物。
於塗佈偏光層形成用組合物而形成偏光層11時，自塗佈之偏光層形成用組合物去除溶劑而形成偏光層用塗佈層。作為去除溶劑之方法，可使用與自配向性聚合物組合物去除溶劑之方法相同之方法，例如可列舉：自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減壓乾燥及組合該等之方法。其中，較佳為自然乾燥或加熱乾燥。乾燥溫度較佳為0～200℃之範圍，更佳為20～150℃之範圍，進而較佳為50～130℃之範圍。乾燥時間較佳為10秒鐘～10分鐘，更佳為30秒鐘～5分鐘。
於偏光層形成用組合物中所含之液晶化合物為聚合性液晶化合物之情形時，較佳為對偏光層形成步驟中形成之偏光層用塗佈層進行活性能量線照射，使聚合性液晶化合物進行光聚合而形成偏光層11。作為照射之活性能量線，根據偏光層用塗佈層中所含之聚合性液晶化合物之種類(尤其聚合性液晶化合物所具有之光聚合性官能基之種類)，於含有光聚合起始劑之情形時根據光聚合起始劑之種類及該等之量而適宜選擇。具體而言，可列舉選自由可見光、紫外光、紅外光、X射線，α射線、β射線及γ射線所組成之群中之一種以上之光。其中，就易於控制聚合反應之進行之方面及可使用該領域中廣泛使用者作為光聚合裝置之方面而言，較佳為紫外光，較佳為以可藉由紫外光而光聚合之方式而選擇聚合性液晶化合物之種類。
作為活性能量線之光源，例如可列舉：低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙氣燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380～440 nm之光之LED(Light-emitting diode，發光二極體)光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
活性能量線之照射強度通常為10 mW/cm2 ～3000 mW/cm2 。活性能量線之照射強度較佳為對陽離子聚合起始劑或自由基聚合起始劑之活化有效之波長區域之強度。活性能量線之照射時間通常為0.1秒鐘～10分鐘，較佳為0.1秒鐘～5分鐘，更佳為0.1秒鐘～3分鐘，進而較佳為0.1秒鐘～1分鐘。若以此種活性能量線之照射強度照射1次或複數次，則其累計光量為10 mJ/cm2 ～3000 mJ/cm2 ，較佳為50 mJ/cm2 ～2,000 mJ/cm2 ，更佳為100 mJ/cm2 ～1000 mJ/cm2 。於累計光量為該範圍以下之情形時，存在聚合性液晶化合物之硬化變得不充分，無法獲得良好之轉印性之情形。相反地，於累計光量為該範圍以上之情形時，存在偏光層著色之情形。
(保護層積層步驟)
於保護層積層步驟中，如圖2(c)所示，於準備步驟中準備之積層膜62之偏光層11上積層具有用以被覆偏光層11之被覆區域35a與用以使偏光層11露出之露出區域35b的保護層35。藉此，可獲得附有保護層之積層膜63。露出區域35b可設為例如保護層35之開口部。被覆區域35a可於使下述可溶解偏光層11之溶解液與附有保護層之積層膜63接觸時，抑制溶解液與偏光層11接觸。另一方面，保護層35之露出區域35b中，可使溶解液與偏光層11接觸。
如下所述，若偏光層11與溶解液接觸，則溶解液溶解偏光層11。因此，露出區域35b較佳為與使偏光層11溶解之區域對應而形成。例如，於製造圖1及圖2(e)所示之偏光膜1之情形時，較佳為根據低偏光區域11b之形狀而決定其形狀。例如，若低偏光區域11b之俯視形狀為圓形；橢圓形；長圓形；三角形、正方形、矩形、菱形等多角形；線狀；帶狀；波狀等，則露出區域35b與該等形狀對應而形成即可。於在10 m以上之長條偏光膜上規則地形成圓形；橢圓形；長圓形；三角形、正方形、矩形、菱形等多角形之情形時，可不介隔光罩而製作之本製造方法與先前文獻1、2相比較，生產性優異。
例如，於露出區域35b為圓形之情形時，其直徑較佳為5 cm以下，更佳為3 cm以下，進而較佳為2 cm以下。於露出區域35b為橢圓形或長圓形之情形時，其長軸較佳為5 cm以下，更佳為3 cm以下，進而較佳為2 cm以下。於露出區域35b為多角形之情形時，以該多角形內切之方式繪出之假想圓之直徑較佳為5 cm以下，更佳為3 cm以下，進而較佳為2 cm以下。如下所述，因溶解液滲透至偏光層中，故而露出區域35b之大小可不與低偏光區域11b大小相同，而以略小於低偏光區域11b之方式形成。
又，保護層35之被覆區域35a較佳為與不使偏光層11溶解之區域對應而形成。例如，於製造圖1及圖2(e)所示之偏光膜1之情形時，較佳為根據偏光區域11a之形狀而決定其形狀。
作為保護層35，可使用於片狀基材上形成有成為露出區域35b之區域者。成為露出區域35b之區域可藉由如下方法等形成：藉由打孔、切繪、射水等對片狀基材之特定部分進行機械沖裁之方法；藉由雷射剝蝕、化學溶解等將片狀基材之特定部分去除之方法等。
作為形成保護層35之片狀基材，只要為於與下述可溶解偏光層11之溶解液接觸時對溶解液不溶，又，於用以將溶解液或溶解之偏光層去除而進行之清洗條件下具有耐久性者即可，其材料並無特別限定。作為形成保護層35之片狀基材，例如可使用與上述基材層13相同之材料而形成，尤其較佳為使用樹脂基材而形成，更佳為使用容易抑制保護層35之成為露出區域35b之區域(例如開口部)之變形之聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯樹脂。
保護層35較佳為具有用以貼合於偏光層11之黏著層。為了如下所述剝離保護層，黏著層較佳為相對於偏光層11可剝離。又，保護層35之厚度通常為20 μm以上，更佳為30 μm以上，又，通常為250 μm以下，較佳為200 μm以下。
(溶解液接觸步驟)
於溶解液接觸步驟中，可獲得具有藉由使附有保護層之積層膜63與可溶解偏光層11之溶解液接觸而去除偏光層11之一部分區域所形成之圖案化偏光層11'之附有圖案化偏光層之膜64(圖2(d))。附有保護層之積層膜63之保護層35具有用以被覆偏光層11之被覆區域35a與用以使偏光層11露出之露出區域35b，故而於露出區域35b中溶解液可與偏光層11接觸。藉此，與溶解液之接觸部分之偏光層11被去除，從而可形成不含液晶化合物及二色性色素之區域。
附有保護層之積層膜63與溶解液之接觸可藉由如下方式進行：將附有保護層之積層膜63浸漬於溶解液中，將溶解液塗佈、噴霧、滴加至附有保護層之積層膜63等，較佳為藉由將附有保護層之積層膜63浸漬於溶解液中之方法而進行。藉此，偏光層11中，自保護層35之露出區域35b露出之偏光層11表面與溶解液接觸，液晶化合物或二色性色素亦被去除。其結果，可獲得具有偏光層11之一部分區域被去除而形成有偏光區域11a及低偏光區域11b之圖案化偏光層11'之附有圖案化偏光層之膜64(圖2(d))。
偏光層11之表面中，被保護層35之被覆區域35a被覆之區域中，偏光層11未與溶解液直接接觸，故而難以溶解偏光層11。相對於此，偏光層11中，自保護層35之露出區域35b露出之區域中，偏光層11與溶解液直接接觸，故而易於溶解偏光層11，易於去除液晶化合物及二色性色素。因此，圖2(d)所示之附有圖案化偏光層之膜64中，可形成偏光層11中與被覆區域35a對應之區域中殘存偏光層11，具有與露出區域35b對應之區域中去除了液晶化合物及二色性色素之低偏光區域11b的圖案化偏光層11'。
如此，藉由使用於偏光層11中於欲去除構成偏光層11之液晶化合物及二色性色素之區域配置有保護層35之露出區域35b之附有保護層之積層膜63，可形成於偏光層11之所期望之位置中去除了液晶化合物及二色性色素之圖案化偏光層11'。溶解液係溶解偏光層11者，故而較佳為以不必要之區域之偏光層11不被去除之方式，調整保護層35之厚度、露出區域35b之大小、溶解液之濃度、附有保護層之積層膜於溶解液中之浸漬時間、溶解液於附有保護層之積層膜63上之塗佈量、噴霧量或滴加量等。
作為溶解液，只要為使偏光層11溶解，且不使基材層13及保護層35溶解者，則並無特別限定，較佳為有機溶劑。例如可列舉：苯甲醚、甲苯等芳香族烴、四氫呋喃、二甲氧基乙烷等醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯等酯、丙酮、甲基乙基酮、環戊酮等酮、氯仿等含氯之溶解液等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合。
使附有保護層之積層膜63與溶解液接觸之接觸條件可根據偏光層11之厚度或去除偏光層11之區域之大小等而適宜選定。溶解液之溫度較佳為10～80℃，更佳為20～60℃。
溶解液接觸步驟較佳為於使附有保護層之積層膜63與溶解液接觸，去除偏光層11之一部分後，設置沖洗溶解液或溶解之偏光層之清洗步驟。清洗步驟可適宜使用水或醇等不會使偏光層11溶解者而進行。
(剝離步驟)
於剝離步驟中，自液狀物接觸步驟中獲得之附有圖案化偏光層之膜64剝離保護層35。藉此，可獲得包含具有偏光區域11a與低偏光區域11b之圖案化偏光層11'之偏光膜1(圖1及圖2(e))。
圖1及圖2(e)所示之偏光膜1亦可進而剝離基材層13而使用。於該情形時，亦可將配向層12與基材層13一同剝離。例如，基材層13之剝離亦可於將偏光膜1之圖案化偏光層11'貼合於構成顯示裝置之構件或相位差層等後進行。
(連續製造偏光膜之方法)
偏光膜1之製造方法較佳為藉由卷對卷形式而連續製造。於該情形時，於準備步驟中準備捲繞為滾筒狀之積層膜，一面將該積層膜捲出一面搬送，連續進行保護層積層步驟、溶解液接觸步驟、剝離步驟即可。於保護層積層步驟中，一面將捲繞為滾筒狀之保護層捲出一面搬送，於積層膜上積層保護層從而獲得附有保護層之積層膜即可。於溶解液接觸步驟中，一面連續搬送附有保護層之積層膜一面使其通過充滿溶解液之溶解液浴，或一面連續搬送附有保護層之積層膜一面塗佈、噴霧或滴加溶解液，從而獲得附有圖案化偏光層之膜即可。於剝離步驟中，一面搬送附有圖案化偏光層之膜一面連續剝離保護層，將偏光膜捲取為滾筒狀而製為捲繞體即可。如上所述連續製造之偏光膜例如可具有10 m以上之長度。
又，於準備步驟具有配向層形成步驟之情形時，一面將捲繞為滾筒狀之基材層捲出一面搬送，藉由塗佈裝置於該基材層上連續塗佈配向層形成用組合物而形成配向層即可。於準備步驟具有偏光層形成步驟之情形時，一面連續搬送附有配向層之基材層，一面於附有配向層之基材層之形成配向層之側之面塗佈偏光層形成用組合物而形成偏光層即可。
[第2實施形態(圓偏光板及其製造方法)]
(圓偏光板)
圖3(a)～(c)係分別表示本發明之圓偏光板之一例之概略剖視圖。圖2(e)所示之偏光膜1藉由積層具有1/4波長板功能之相位差層15，可成為圖3(a)及(b)所示之圓偏光板5a、5b。相位差層15可積層於偏光膜1之圖案化偏光層11'側(圖3(a))，亦可積層於基材層13側(圖3(b))。又，亦可將自圖3(a)所示之圓偏光板5a剝離基材層13而成者用作圓偏光板5c(圖3(c))，於該情形時，亦可將配向層12與基材層13一同剝離。
又，圓偏光板可為將偏光膜1與多層構造之相位差層積層而成者。於該情形時，作為多層構造之相位差層，可使用積層有具有1/2波長板功能之層與具有1/4波長板功能之層之相位差層，藉由將多層構造之相位差層之具有1/2波長板功能之層側與偏光膜1積層，可製為圓偏光板。或者，亦可藉由使用積層有具有反波長色散性之1/4波長板功能之層與具有正C板功能之層之相位差層作為多層構造之相位差層，而獲得圓偏光板。
又，可使用具有作為相位差層之功能者作為偏光膜1之基材層13，進而積層相位差層而製為圓偏光板。於該情形時，可根據圓偏光板中之基材層13及相位差層之積層位置，選擇基材層13及相位差層所具有之作為相位差層之功能。
偏光膜與相位差層可介隔使用有公知之黏著劑或接著劑之接著層而積層。
(圓偏光板之製造方法)
圓偏光板可藉由積層偏光膜與相位差層而製造。於偏光膜為連續製造之長度為10 m以上之長條偏光膜之情形時，較佳為使用長度為10 m以上之長條相位差層作為上述相位差層，一面連續搬送兩者一面積層長條偏光膜與長條相位差層，藉此形成長條積層體。此時，較佳為於長條偏光膜及長條相位差層之至少一者上塗佈黏著劑或接著劑而將兩者積層。
為將偏光膜安裝於特定尺寸之顯示裝置等，圓偏光板之製造方法可具有將積層長條偏光膜與長條相位差層而獲得之長條積層體裁斷為特定尺寸之單片的步驟。於裁斷步驟中，較佳為於長條積層體之長度方向及寬度方向之至少一個方向上裁斷長條積層體。於該情形時，較佳為以裁斷之單片中低偏光區域配置於特定位置之方式，決定長條積層體中之裁斷位置。
[實施例]
基於實施例進而具體說明本發明。但本發明並不受該等實施例限定。
實施例、比較例中之「%」及「份」若無特別說明，則為質量%及質量份。
[視感度修正偏光度(Py)及視感度修正透過率(Ty)]
(評價用樣品之製作)
準備各實施例、比較例及參考例中所使用之配向層形成用組合物及偏光層形成用組合物。又，準備將與各實施例、比較例及參考例中用作基材層者相同之膜切出40 mm×40 mm所得者作為評價用樣品之基材層。使用該等，除不使用保護層以外，進行與各實施例、比較例及參考例之偏光膜之製造相同之順序獲得評價用樣品。
(視感度修正偏光度(Py)及視感度修正透過率(Ty))
關於評價用樣品，根據以下順序算出視感度修正單體透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。使用於分光光度計(島津製作所股份有限公司製造 UV-3150)上設置有附偏光元件之摺疊器之裝置，藉由雙光束法測定波長380 nm～780 nm之範圍內之透射軸方向之透過率(T1 )及吸收軸方向之透過率(T2 )。該摺疊器於參考側設置有將光量截斷50%之篩網。使用下述(式1)及(式2)，算出各波長下之透過率、偏光度，進而根據JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度修正，算出視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。
偏光度[%]＝{(T1 －T2 )/(T1 ＋T2 )}×100 (式1)
單體透過率[%]＝(T1 ＋T2 )/2 (式2)
[實施例1]
(配向層形成用組合物之製造)
混合下述成分，將所得混合物於80℃下攪拌1小時，藉此獲得作為光配向膜形成用組合物之配向層形成用組合物。
・下述所示之具有光反應性基之聚合物 2份
[化16]

・溶劑：鄰二甲苯 98份
(偏光層形成用組合物之製造)
混合下述成分，於80℃下攪拌1小時，藉此獲得偏光層形成用組合物。二色性色素係使用日本專利特開2013-101328號公報之實施例中記載之偶氮系色素。
・式(1-6)所表示之聚合性液晶化合物 75份
[化17]

・式(1-7)所表示之聚合性液晶化合物 25份
[化18]

・下述所示之二色性色素(1) 2.8份
[化19]

・下述所示之二色性色素(2) 2.8份
[化20]

・下述所示之二色性色素(3) 2.8份
[化21]

・下述所示之聚合起始劑 6份
2-二甲胺基-2-苄基-1-(4-啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；Ciba Specialty Chemicals公司製造)
・下述所示之調平劑 1.2份
聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製造)
・下述所示之溶劑 250份
環戊酮
(偏光膜之製造)
將作為基材層之三乙醯纖維素膜(Konica Minolta公司製造之KC4UY-TAC，厚度40 μm)切出20×20 mm，對其表面實施電暈處理(AGF-B10，春日電機股份有限公司製造)。使用棒式塗佈機，於實施有電暈處理之膜表面塗佈配向層形成用組合物後，於設定為120℃之乾燥烘箱中乾燥1分鐘，獲得配向層用塗佈層。使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；牛尾電機股份有限公司製造)，以50 mJ/cm2 (313 nm基準)之累計光量，對配向層用塗佈層上照射相對於膜邊為0°方向之偏光UV，形成配向層。使用棒式塗佈機於所得配向層上塗佈偏光層形成用組合物後，於設定為110℃之乾燥烘箱中乾燥1分鐘。其後使用高壓水銀燈(Unicure VB-15201BY-A，牛尾電機股份有限公司製造)照射紫外線(氮氣環境下，波長：365 nm，波長365 nm之累計光量：1000 mJ/cm2 )，藉此獲得液晶化合物及二色性色素配向而成之偏光層。於偏光層上貼合藉由開孔機而開孔從而形成開口部之保護層(藤森工業股份有限公司製造之AY-638；於厚度為38 μm之聚酯膜上包含厚度為15 μm之黏著劑層)後，於作為溶解液之苯甲醚中浸漬10秒鐘。其後，剝離保護層而獲得偏光膜。
以目視觀察所得偏光膜之外觀，結果可明確地確認不存在偏光層之圓形區域(低偏光區域)，可知獲得具有偏光區域與低偏光區域之偏光膜。又，根據上述順序製作評價用樣品，算出其視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。其結果示於表1。
[實施例2]
除使用對作為環狀烯烴系樹脂之單軸延伸膜之1/4波長板(ZEONOR FILM，日本ZEON股份有限公司，面內相位差值Ro：138 nm)之表面進行有硬塗處理之膜代替三乙醯纖維素膜作為基材層，以遲相軸與偏光層之吸收軸成為45°之方式積層以外，以與實施例1相同之方式獲得偏光膜。以目視觀察所得偏光膜之外觀，結果可明確地確認不存在偏光層之圓形區域(低偏光區域)，可知獲得具有偏光區域與低偏光區域之偏光膜。又，根據上述順序製作評價用樣品，算出其視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。其結果示於表1。
[實施例3]
除使用四氫呋喃作為溶解液以外，以與實施例1相同之方式獲得偏光膜。以目視觀察所得偏光膜之外觀，結果可明確地確認不存在偏光層之圓形區域(低偏光區域)，可知獲得具有偏光區域與低偏光區域之偏光膜。又，根據上述順序製作評價用樣品，算出其視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。其結果示於表1。
[比較例]
除使用甲醇作為溶解液以外，以與實施例1相同之方式獲得偏光膜。以目視觀察所得偏光膜之外觀，結果無法確認不存在偏光層之區域，可知未獲得具有偏光區域與低偏光區域之偏光膜。又，根據上述順序製作評價用樣品，算出其視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。其結果示於表1。
[參考例]
除不使用溶解液以外，以與實施例1相同之方式獲得偏光膜。以目視觀察所得偏光膜之外觀，結果無法確認不存在偏光層之區域，可知未獲得具有偏光區域與低偏光區域之偏光膜。又，根據上述順序製作評價用樣品，算出其視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。其結果示於表1。
再者，表1中所示之各實施例、比較例及參考例中測定之視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)之值係包含基材層之視感度修正透過率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)之值的值，基材層單獨體之視感度修正透過率(Ty)為92%，基材層之視感度修正偏光度(Py)之值為0%，故而表1中所示之各實施例、比較例及參考例中去除基材層之情形時，認為視感度修正透過率(Ty)之值大於表1所示之值，視感度修正偏光度(Py)之值與表1所示之值相同。
[表1]
1‧‧‧偏光膜
5a～5c‧‧‧圓偏光板
11‧‧‧偏光層
11'‧‧‧圖案化偏光層
11a‧‧‧偏光區域
11b‧‧‧低偏光區域
12‧‧‧配向層
13‧‧‧基材層
15‧‧‧相位差層
35‧‧‧保護層
35a‧‧‧被覆區域
35b‧‧‧露出區域
61‧‧‧附有配向層之基材層
62‧‧‧積層膜
63‧‧‧附有保護層之積層膜
64‧‧‧附有圖案化偏光層之膜
圖1係表示本發明之偏光膜之一例之概略俯視圖。
圖2(a)～(e)係表示本發明之偏光膜之製造步驟之各步驟中所得之層構造之一例之概略剖視圖。
圖3(a)～(c)係分別表示本發明之圓偏光板之一例之概略剖視圖。

Claims (14)

  1. 一種偏光膜之製造方法，其包括如下步驟： 準備步驟，係準備於基材層之至少單面側具有含有二色性色素之偏光層之積層膜； 保護層積層步驟，係藉由於上述積層膜之上述偏光層上積層具有用以被覆上述偏光層之被覆區域與用以使上述偏光層露出之露出區域之保護層而獲得附有保護層之積層膜； 溶解液接觸步驟，係獲得附有圖案化偏光層之膜，該附有圖案化偏光層之膜具有藉由使上述附有保護層之積層膜與可溶解上述偏光層之溶解液接觸而去除上述偏光層之一部分區域所形成之圖案化偏光層；及 剝離步驟，係自上述附有圖案化偏光層之膜剝離上述保護層。
  2. 如請求項1之偏光膜之製造方法，其中上述準備步驟包括如下步驟： 配向層形成步驟，係於上述基材層之單面側塗佈配向層形成用組合物而形成配向層；及 偏光層形成步驟，係於上述基材層之形成有上述配向層之側之面塗佈含有液晶化合物及上述二色性色素之偏光層形成用組合物而形成上述偏光層。
  3. 如請求項2之偏光膜之製造方法，其中上述配向層形成用組合物含有光配向性聚合物， 上述配向層形成步驟係對塗佈上述配向層形成用組合物而形成之配向層用塗佈層進行偏光照射而形成上述配向層。
  4. 如請求項2或3之偏光膜之製造方法，其中上述偏光層係聚合性液晶化合物配向而成之層， 上述偏光層形成步驟係對塗佈上述偏光層形成用組合物而形成之偏光層用塗佈層進行活性能量線照射而形成上述偏光層。
  5. 如請求項2至4中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述偏光層於X射線繞射測定中顯示布勒格波峰。
  6. 如請求項1至5中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述露出區域之俯視形狀為圓形、橢圓形、長圓形或多角形， 於上述露出區域為圓形之情形時之直徑為5 cm以下， 於上述露出區域為橢圓形或長圓形之情形時之長徑為5 cm以下， 於上述露出區域為多角形之情形時，以上述多角形內切之方式繪出之假想圓之直徑為5 cm以下。
  7. 如請求項1至6中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述偏光膜之長度為10 m以上。
  8. 如請求項1至7中任一項之偏光膜之製造方法，其中上述基材層具有1/4波長板功能。
  9. 一種圓偏光板之製造方法，其包括相位差層積層步驟，係將藉由如請求項1至7中任一項之偏光膜之製造方法而製造之偏光膜與具有1/4波長板功能之相位差層積層。
  10. 如請求項9之圓偏光板之製造方法，其中上述偏光膜係長度為10 m以上之長條偏光膜， 上述相位差層係長度為10 m以上之長條相位差層， 上述相位差層積層步驟係藉由將上述長條偏光膜與上述長條相位差層積層而形成長條積層體， 進而包括將上述長條積層體裁斷為單片之裁斷步驟。
  11. 一種偏光膜，其係具有偏光區域與具有低於偏光區域之視感度修正偏光度之低偏光區域者， 上述偏光區域含有液晶化合物及二色性色素，並且視感度修正偏光度為90%以上， 上述低偏光區域不含液晶化合物及二色性色素， 上述低偏光區域之俯視形狀為圓形、橢圓形、長圓形或多角形， 於上述低偏光區域為圓形之情形時之直徑為5 cm以下， 於上述低偏光區域為橢圓形或長圓形之情形時之長徑為5 cm以下， 於上述低偏光區域為多角形之情形時，以上述多角形內切之方式繪出之假想圓之直徑為5 cm以下。
  12. 如請求項11之偏光膜，其中上述低偏光區域之視感度修正偏光度為10%以下。
  13. 如請求項11或12之偏光膜，其中上述偏光區域之視感度修正單體透過率為35%以上， 上述低偏光區域之視感度修正單體透過率為80%以上。
  14. 如請求項11至13中任一項之偏光膜，其中上述偏光膜之長度為10 m以上。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7492813B2 (ja) 2019-07-31 2024-05-30 住友化学株式会社 偏光フィルムおよびその製造方法
JP2022041071A (ja) * 2020-08-31 2022-03-11 住友化学株式会社 二液型偏光膜形成用組成物

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4466704A (en) * 1981-07-20 1984-08-21 Polaroid Corporation Patterned polarizer having differently dyed areas
JP5232465B2 (ja) * 2007-02-08 2013-07-10 日東電工株式会社 長尺光学積層体の製造方法、長方形状光学積層体の製造方法、及び液晶パネル
KR101933220B1 (ko) * 2011-07-07 2018-12-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광 소자, 원편광판 및 이들의 제조 방법
KR101941440B1 (ko) * 2011-10-05 2019-01-23 엘지디스플레이 주식회사 코팅형 편광판 및 그 제조방법
JP6001874B2 (ja) 2012-02-17 2016-10-05 日東電工株式会社 光学積層体及び光学積層体の製造方法
US9618669B2 (en) * 2013-11-08 2017-04-11 Apple Inc. Electronic device display with polarizer windows
KR20150086159A (ko) * 2014-01-17 2015-07-27 주식회사 엘지화학 국지적으로 편광 해소 영역을 갖는 편광자 제조 방법, 이를 이용하여 제조된 편광자 및 편광판
CN105229505B (zh) * 2014-03-26 2018-01-16 Lg化学株式会社 制造具有局部去偏光区域的偏光片的方法，以及通过使用该方法制造的偏光片、偏光板和图像显示器件
JP6459741B2 (ja) 2014-04-17 2019-01-30 三菱ケミカル株式会社 偏光素子の製造方法、その方法を用いて得られる偏光素子を備えた表示装置の製造方法
JP2015212823A (ja) 2014-04-18 2015-11-26 住友化学株式会社 パターン偏光フィルム
KR102426386B1 (ko) * 2014-04-18 2022-07-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 패턴 편광 필름 및 그의 제조 방법
JP6299367B2 (ja) 2014-04-18 2018-03-28 住友化学株式会社 パターン偏光フィルムの製造方法
JP6215864B2 (ja) * 2014-04-25 2017-10-18 日東電工株式会社 偏光子、偏光板および画像表示装置
JP6514464B2 (ja) * 2014-09-03 2019-05-15 日東電工株式会社 非偏光部を有する偏光子の製造方法
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