TW202036057A - 偏光薄膜的製造方法以及偏光薄膜 - Google Patents
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Abstract
本發明的目的在於提供一種能夠製造具有優異的光學特性、於面內為均勻的色調的塗佈型偏光薄膜的製造方法。本發明提供一種偏光薄膜的製造方法,所述偏光薄膜包含基材和偏光膜,所述偏光薄膜的製造方法包括:(a)在所述基材上塗佈配向膜組成物而形成第一塗佈膜的步驟、(b)使所述第一塗佈膜乾燥而形成第一乾燥膜的步驟、(c)對所述第一乾燥膜照射偏光而形成配向膜的步驟、(d)在所述配向膜上形成偏光膜的步驟、以及(e)在溫度為60℃~150℃的環境下對至少包含所述基材和所述配向膜的配向膜積層體進行單軸拉伸的步驟。
Description
本發明是有關於一種偏光薄膜的製造方法以及偏光薄膜。
在液晶顯示裝置或有機電致發光(electroluminescence,EL)顯示裝置等平板顯示裝置中,為了進行其光學補償,使用了偏光薄膜等光學薄膜。近來,強烈要求平板顯示裝置的薄膜化,與此相伴,偏光薄膜亦要求進一步薄型。例如專利文獻1中記載了一種塗佈含有聚合性液晶化合物和二色性色素的組成物而形成的塗佈型偏光薄膜。根據塗佈型的偏光薄膜,容易實現薄型化。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特表2007-510946號公報
[發明所欲解決之課題]
本發明的目的在於提供一種能夠製造具有優異的光學特性、於面內為均勻的色調的塗佈型偏光薄膜的製造方法。另外,本發明的目的在於提供一種具有優異的光學特性的塗佈型偏光薄膜。
[解決課題之手段]
本發明包含以下的發明。
〔1〕一偏光薄膜的製造方法,所述偏光薄膜包括基材與偏光膜,所述偏光薄膜的製造方法包括:
(a)在所述基材上塗佈配向膜組成物而形成第一塗佈膜的步驟;
(b)使所述第一塗佈膜乾燥而形成第一乾燥膜的步驟;
(c)對所述第一乾燥膜照射偏光而形成配向膜的步驟;
(d)在所述配向膜上形成偏光膜的步驟;以及
(e)在溫度為60℃~150℃的環境下對至少包含所述基材和所述配向膜的配向膜積層體進行單軸拉伸的步驟。
〔2〕如〔1〕所述的偏光薄膜的製造方法,其中,進行所述單軸拉伸的方向與所述配向膜的配向限制力的方向所成的角度在0°±15°的範圍內或90°±15°的範圍內。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的偏光薄膜的製造方法,其中所述步驟(d)包括:
(d1)在所述配向膜上塗佈偏光膜組成物而形成第二塗佈膜的步驟;
(d2)使所述第二塗佈膜乾燥而形成第二乾燥膜的步驟;以及
(d3)使所述第二乾燥膜硬化而形成所述偏光膜的步驟。
〔4〕如〔3〕所述的偏光薄膜的製造方法,其中,在所述步驟(d1)中,所述偏光膜組成物含有二色性色素和聚合性液晶化合物。
〔5〕如〔3〕或〔4〕所述的偏光薄膜的製造方法,其中,在所述步驟(d3)中,對所述第二乾燥膜進行光照射而使所述第二乾燥膜硬化。
〔6〕如〔1〕至〔5〕中任一項所述的偏光薄膜的製造方法,其中,在所述步驟(e)中,所述單軸拉伸以成為1.01倍~1.5倍的拉伸倍率的方式進行。
〔7〕一種偏光薄膜,包括基材與偏光膜,其中,
所述偏光膜含有二色性色素和聚合性液晶化合物的聚合物,
有序參量的平均值S1ave
滿足下述式(1a)的關係:
S1ave
≧0.998 (1a)。
〔8〕如〔7〕所述的偏光薄膜,其中,有序參量差ΔS1
滿足下述式(3a)的關係:
ΔS1
≦0.0015 (3a)。
〔9〕如〔7〕或〔8〕所述的偏光薄膜,其中,能見度修正單體偏光度Py〔%〕滿足下述式(6a)的關係:
Py≧97.0 (6a)。
[發明的效果]
根據本發明,能夠製造具有優異的光學特性、於面內為均勻的色調的塗佈型偏光薄膜。
[偏光薄膜的製造方法]
本發明是一種偏光薄膜的製造方法,所述偏光薄膜包括基材與偏光膜,所述偏光薄膜的製造方法包括:
(a)在所述基材上塗佈配向膜組成物而形成第一塗佈膜的步驟;
(b)使所述第一塗佈膜乾燥而形成第一乾燥膜的步驟;
(c)對所述第一乾燥膜照射偏光而形成配向膜的步驟;
(d)在所述配向膜上形成偏光膜的步驟;以及
(e)在溫度為60℃~150℃的環境下對至少包含所述基材和所述配向膜的配向膜積層體進行單軸拉伸的步驟。
根據上述製造方法,可製造依次含有基材、配向膜、及偏光膜且具有良好的光學特性的偏光薄膜。
<基材>
基材較佳為長條。藉由使用長條的基材,可連續地製造長條的偏光薄膜。為長條時,基材的長邊方向的長度通常為10 m~10000 m,較佳為100 m~2000 m。基材的短邊方向的長度通常為0.1 m~5 m,較佳為0.2 m~2 m。再者,本說明書中的「長條」的基材包括「捲成捲狀的長條基材」以及「自捲狀的長條基材捲出的長條基材」,提及長條配向膜以及長條偏光薄膜等時的「長條」亦是同樣的。再者,基材不限定於長條,但較佳為矩形。
基材通常為樹脂基材。樹脂基材通常為透明樹脂基材。透明樹脂基材是指具有能夠使光、特別是可見光透過的透光性的基材,透光性是指對波長380 nm~780 nm的光線的透過率為80%以上的特性。
作為構成基材的樹脂,例如可列舉:聚乙烯、聚丙烯、降冰片烯系聚合物等聚烯烴;環狀烯烴系樹脂;聚乙烯醇;聚對苯二甲酸乙二酯;聚甲基丙烯酸酯;聚丙烯酸酯;三乙醯纖維素、二乙醯纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯;聚萘二甲酸乙二酯;聚碳酸酯;聚碸;聚醚碸;聚醚酮;聚苯硫醚;以及聚伸苯醚等。較佳為纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯、聚醚碸、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯。
纖維素酯是纖維素中所含的羥基的至少一部分酯化而成,可自市場上獲得。另外,含有纖維素酯的基材亦可自市場上獲得。作為市售的含有纖維素酯的基材,可列舉:富士塔克(Fujitac)(註冊商標)薄膜(富士膠片(股))、KC8UX2M(柯尼卡美能達精密光學(Konica Minolta Opto)(股))、KC8UY(柯尼卡美能達精密光學(Konica Minolta Opto)(股))、及KC4UY(柯尼卡美能達精密光學(Konica Minolta Opto)(股))等。
所謂環狀烯烴系樹脂包括降冰片烯或多環降冰片烯系單體等環狀烯烴的聚合物、或該些的共聚物。該環狀烯烴系樹脂可含有開環結構,另外,亦可為將包含開環結構的環狀烯烴系樹脂氫化而成者。另外,在不顯著損害透明性、且不顯著增大吸濕性的範圍內,該環狀烯烴系樹脂可包含來自鏈狀烯烴及乙烯基化芳香族化合物的結構單元。另外,該環狀烯烴系樹脂亦可在其分子內導入極性基。
鏈狀烯烴可列舉乙烯及丙烯等,乙烯基化芳香族化合物可列舉苯乙烯、α-甲基苯乙烯、及經烷基取代的苯乙烯等。
環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴與鏈狀烯烴或乙烯基化芳香族化合物的共聚物時,來自環狀烯烴的結構單元的含量相對於共聚物的全部結構單元而言通常為50莫耳%以下,較佳為15莫耳%~50莫耳%。
環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、鏈狀烯烴、及乙烯基化芳香族化合物的三元共聚物時,來自鏈狀烯烴的結構單元的含量相對於共聚物的全部結構單元而言通常為5莫耳%~80莫耳%,來自乙烯基化芳香族化合物的結構單元的含有比例相對於共聚物的全部結構單元而言通常為5莫耳%~80莫耳%。此種三元共聚物具有可相對減少價格昂貴的環狀烯烴的使用量這一優點。
環狀烯烴系樹脂可自市場獲得。市售的環狀烯烴系樹脂可列舉:湯帕斯(Topas)(註冊商標)(提卡納(Ticona)公司製);阿頓(ARTON)(註冊商標)(JSR(股)製);瑞翁諾阿(ZEONOR)(註冊商標)、及瑞翁耐克斯(ZEONEX)(註冊商標)(以上為日本瑞翁(ZEON)(股)製);以及阿佩爾(APEL)(註冊商標)(三井化學(股)製)等。可利用例如溶劑澆鑄法、熔融擠出法等公知的方法對此種環狀烯烴系樹脂進行製膜,從而製成基材。市售的包含環狀烯烴系樹脂的基材可列舉:愛斯西娜(ESCENA)(註冊商標)及SCA40(以上,積水化學工業(股)製)、瑞翁諾阿薄膜(ZEONOR FILM)(註冊商標)(歐普太斯(OPTES)(股)製)、以及阿頓薄膜(ARTON FILM)(註冊商標)(JSR(股))等。
可對基材實施表面處理。基材的表面處理例如可列舉:在真空環境至大氣壓環境下的電暈或電漿處理、雷射處理、臭氧處理、皂化處理、火焰處理、偶合劑的塗佈處理、底塗處理、以及藉由接枝聚合法的處理等,所述接枝聚合法在使反應性單體、具有反應性的聚合物附著於基材表面後,照射放射線、電漿或紫外線而使其反應。其中,較佳為在真空環境至大氣壓環境下的電暈或電漿處理。
作為利用電暈或電漿的基材的表面處理,可列舉:在大氣壓附近的壓力下,在相向的電極之間設置基材,產生電暈或電漿而對基材進行表面處理的方法;向相向的電極之間流通氣體,使氣體在電極之間電漿化,將經電漿化的氣體吹附至基材的方法;以及在低壓條件下產生輝光放電電漿而對基材進行表面處理的方法。
其中,較佳為在大氣壓附近的壓力下,在相向的電極之間設置基材,產生電暈或電漿而對基材進行表面處理的方法;或向相向的電極之間流通氣體,使氣體在電極之間電漿化,將經電漿化的氣體吹附至基材的方法。藉由該電暈或電漿的表面處理通常利用市售的表面處理裝置進行。
基材可在與塗佈偏光膜組成物的面相反的面上具有保護薄膜。作為保護薄膜,可列舉聚乙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯及聚烯烴等的薄膜、以及在該薄膜上更具有黏著層的薄膜等。其中,由於乾燥時的熱變形小,因而較佳為聚對苯二甲酸乙二酯。藉由在與塗佈偏光膜組成物的面相反的面上具有保護薄膜,可抑制輸送基材時的薄膜的晃動、塗佈面的微弱振動,從而可提高塗膜的均勻性。
就可進行實用性處理的程度的重量方面而言,基材的厚度較佳為薄,但過薄時強度降低,有加工性差的傾向。基材的厚度通常為5 μm~300 μm,較佳為20 μm~200 μm。
<步驟(a)~步驟(c)>
配向膜經由如下步驟而形成在基板上,即,
(a)在所述基材上塗佈配向膜組成物而形成第一塗佈膜的步驟、
(b)使所述第一塗佈膜乾燥而形成第一乾燥膜的步驟、
(c)對所述第一乾燥膜照射偏光而形成配向膜的步驟。
配向膜具有使塗佈在其上的偏光膜組成物中所含的聚合性液晶化合物在一定方向上配向的配向限制力。聚合性液晶化合物可配向成其分子長軸方向與配向限制力的方向平行。配向膜的配向限制力的方向是通常與所照射的偏光的偏光方向平行或垂直的方向。
配向膜具有不因塗佈偏光膜組成物等而發生溶解的耐溶劑性、另外較佳為具有在用於除去溶劑或使二色性色素配向的加熱處理中的耐熱性。配向膜的膜厚例如為10 nm~10000 nm,較佳為10 nm~1000 nm,更佳為500 nm以下,另外,更佳為10 nm以上。若在上述範圍內,則能夠充分發揮配向限制力。
<配向膜組成物>
配向膜組成物含有具有光反應性基的聚合物或單體、及溶劑。光反應性基是指藉由照射光而顯示配向能力的基。具體而言,光反應性基藉由照射光而誘發分子的配向,或進行異構化反應、二聚化反應、光交聯反應、或者光分解反應般的引發配向能力的光反應。在該光反應性基中,自配向性優異方面考慮,較佳為引起二聚化反應或光交聯反應者。作為能夠發生以上反應的光反應性基,較佳為具有不飽和鍵、特別是雙鍵的基,特佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)以及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成的群組中的至少一個的基。
作為具有C=C鍵的光反應性基,例如可列舉:乙烯基、聚烯基、茋基、茋唑基、茋唑鎓基、查耳酮基及肉桂醯基等。作為具有C=N鍵的光反應性基,可列舉出具有芳香族席希夫鹼和芳香族腙等結構的基。作為具有N=N鍵的光反應性基,可列舉偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基及甲䐶基等、及以氧偶氮苯為基本結構的基。作為具有C=O鍵的光反應性基,可列舉二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基和馬來醯亞胺基等。該些基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧羰基、羥基、磺酸基和鹵代烷基等取代基。
其中,較佳為能夠進行光二聚化反應的光反應性基,就光配向所需的偏光的照射量比較少,且容易得到熱穩定性和經時穩定性優異的光配向膜的方面而言,肉桂醯基和查耳酮基較佳。作為具有光反應性基的聚合物,特佳為具有該聚合物側鏈的末端部成為桂皮酸結構般的肉桂醯基者。
作為配向膜組成物的溶劑,較佳為溶解具有光反應性基的聚合物及單體的溶劑。該溶劑可列舉:水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基賽路蘇、丁基賽路蘇或丙二醇單甲醚等醇;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯或乳酸乙酯等酯系溶劑;丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮或甲基異丁基酮等酮系溶劑;戊烷、己烷或庚烷等非氯系脂肪族烴溶劑;甲苯或二甲苯等非氯系芳香族烴溶劑;乙腈等腈系溶劑;四氫呋喃或二甲氧基乙烷等醚系溶劑;氯仿或氯苯等氯系溶劑等。該些溶劑可單獨使用,亦可組合使用。
相對於配向膜組成物的具有光反應性基的聚合物或單體的含量可根據該具有光反應性基的聚合物或單體的種類、欲製造的光配向膜的厚度而適當調節,但較佳為至少為0.2質量%以上,特佳為0.3質量%~10質量%的範圍。另外,在不顯著損害配向膜特性的範圍內,可含有聚乙烯醇或聚醯亞胺等高分子材料或光敏劑。
<第一塗佈膜>
在步驟(a)中,藉由在基材上塗佈配向膜組成物而形成第一塗佈膜。作為在基材上塗佈配向膜組成物的方法,可列舉凹版塗佈法、模塗佈法、塗敷器法以及柔版法等。再者,根據該些方法,可在長條的基材上連續塗佈配向膜組成物。較佳為凹版塗佈法、模塗佈法及柔版法。
<第一乾燥膜>
在步驟(b)中,藉由將第一塗佈膜乾燥而形成第一乾燥膜。在本說明書中,將相對於第一塗佈膜的總質量,第一塗佈膜所含有的溶劑的含量為50質量%以下者稱為第一乾燥膜。
將第一塗佈膜乾燥的方法可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。較佳為通風乾燥法和加熱乾燥法相結合的方法。乾燥溫度較佳為10℃~250℃,進而佳為25℃~200℃。乾燥時間較佳為10秒鐘~60分鐘,更佳為30秒鐘~30分鐘。藉由乾燥來除去第一塗佈膜中含有的溶劑。
第一乾燥膜中的溶劑的含量較佳為30質量%以下,更佳為10質量%以下,進而佳為5質量%以下,特佳為1質量%以下。
<配向膜>
在步驟(c)中,對第一乾燥膜照射偏光而形成具有配向限制力的配向膜。在基材及配向膜為長條的情況下,配向膜的配向限制力的方向與配向膜的長邊方向所成的角度較佳為0°±15°或90°±15°,更佳為0°±10°或90°±10°,進而佳為0°±5°或90°±5°,特佳為0°±1°或90°±1°。配向膜的配向限制力的方向可藉由照射的偏光的偏光方向來調整。配向限制力的方向亦可根據具有光反應性基的聚合物的種類而改變。
在以所述配向膜的配向限制力的方向與配向膜的長邊方向垂直的方式形成配向膜的情況下,當偏光的偏光方向與配向膜的配向限制力的方向正交時,偏光的偏光方向相對於配向膜的長邊方向較佳為0°±15°,更佳為0°±10°,進而佳為0°±5°,特佳為0°±1°。另一方面,當偏光的偏光方向與配向膜的配向限制力的方向平行時,偏光的偏光方向相對於配向膜的長邊方向較佳為90°±15°,更佳為90°±10°,進而佳為90°±5°,特佳為90°±1°。
偏光可自第一乾燥膜側直接照射到第一乾燥膜上,亦可自基材側透過基材進行照射。
偏光的波長較佳為具有光反應性基的聚合物或單體的光反應性基可吸收光能的波長區域的波長。具體而言,較佳為波長為250 nm~400 nm的範圍的紫外線。偏光的光源可列舉:氙氣燈(xenon lamp)、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等紫外光雷射等,較佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈。該些燈由於波長313 nm的紫外線的發光強度大,故較佳。
偏光例如藉由使來自所述光源的光穿過偏振片來獲得。藉由調整所述偏振片的偏光角,可任意調整偏光的方向。所述偏振片可列舉:偏光濾波器或格蘭湯姆遜(Glan Thomson)、格蘭泰勒(Glan Taylor)等偏光稜鏡或線柵(wire grid)型偏振片。較佳為偏光實質上是平行光。
如此,得到了配向膜。配向膜可誘發液晶材料的配向。若配向膜的配向限制方向與長條的基材的長邊方向平行,則對於吸收軸的方向與長條的基材的長邊方向平行的長條的偏光薄膜的製造是有用的。若配向膜的配向限制方向與長條的基材的長邊方向正交,則對於吸收軸的方向與長條的基材的長邊方向正交的長條的偏光薄膜的製造是有用的。
<步驟(d)>
在配向膜上形成偏光膜的步驟(d)包括:
(d1)在所述配向膜上塗佈偏光膜組成物而形成第二塗佈膜的步驟;
(d2)使所述第二塗佈膜乾燥而形成第二乾燥膜的步驟;及
(d3)使所述第二乾燥膜硬化而形成所述偏光膜的步驟。
<偏光膜組成物>
偏光膜組成物較佳為含有二色性色素及聚合性液晶化合物。含有聚合性液晶化合物的偏光膜的強度提高,並且顏色不均減少。由於第二塗佈膜的膜厚不易產生不均,因此偏光膜組成物的黏度較佳為10 mPa·s以下,更佳為0.1 mPa·s~7 mPa·s。偏光膜組成物可更含有溶劑、聚合起始劑、增感劑、聚合抑制劑、調平劑以及聚合性非液晶化合物等。
<二色性色素>
二色性色素是指具有分子的長軸方向的吸光度和短軸方向的吸光度不同的性質的色素。
二色性色素較佳為在300 nm~700 nm的範圍內具有最大吸收波長(λMAX)。此種二色性色素例如可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等,其中較佳為偶氮色素。偶氮色素可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素和二苯乙烯偶氮色素等,並且較佳為雙偶氮色素和三偶氮色素。二色性色素可單獨使用,亦可組合使用,但較佳為組合三種以上。特佳為組合三種以上的偶氮化合物。
偶氮色素例如可列舉式(2)所示的化合物(以下,有時亦稱為「化合物(2)」)。
A1
(-N=N-A2
)p
-N=N-A3
(2)
[式(2)中,
A1
及A3
相互獨立地表示可具有取代基的苯基、可具有取代基的萘基或可具有取代基的1價雜環基。A2
表示可具有取代基的1,4-伸苯基、可具有取代基的萘-1,4-二基或可具有取代基的2價雜環基。p表示1~4的整數。當p為2以上的整數時,多個A2
彼此獨立地可相同亦可不同]。
作為1價雜環基,可列舉自喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩並噻唑、咪唑、苯并咪唑、噁唑及苯并噁唑等雜環化合物中除去1個氫原子後的基。作為2價雜環基,可列舉自所述雜環化合物中除去2個氫原子後的基。
作為A1
及A3
中的苯基、萘基及1價雜環基、以及A2
中的對伸苯基、萘-1,4-二基及2價雜環基任意具有的取代基,可列舉:碳數1~4的烷基;甲氧基、乙氧基及丁氧基等碳數1~4的烷氧基;三氟甲基等碳數1~4的氟化烷基;氰基;硝基;鹵素原子;胺基、二乙基胺基及吡咯烷基等經取代或未經取代的胺基(經取代的胺基是指具有1個或2個碳數1~6的烷基的胺基、或者2個經取代的烷基相互鍵結而形成碳數2~8的烷二基的胺基。未經取代的胺基為-NH2
。)再者,碳數1~6的烷基的具體例子與化合物(1)的伸苯基等任意具有的取代基所例示者相同。
化合物(2)中,較佳為以下的式(2-1)~式(2-6)分別表示的化合物。
[式(2-1)~(2-6)中,
B1
~B20
相互獨立地表示氫原子、碳數1~6的烷基、碳數1~4的烷氧基、氰基、硝基、經取代或未經取代的胺基(經取代的胺基及未經取代的胺基的定義如上所述)、氯原子或三氟甲基。
n1~n4相互獨立地表示0~3的整數。
在n1為2以上的情況下,多個B2
相互獨立地可相同,亦可不同,
在n2為2以上的情況下,多個B6
相互獨立地可相同,亦可不同,
在n3為2以上的情況下,多個B9
相互獨立地可相同,亦可不同,
在n4為2以上的情況下,多個B14
相互獨立地可相同,亦可不同]。
[式(2-7)中,
R1
~R8
相互獨立地表示氫原子、-Rx
、-NH2
、-NHRx
、-NRx 2
、-SRx
或鹵素原子。
Rx
表示碳數1~4的烷基或碳數6~12的芳基]。
[式(2-8)中,
R9
~R15
相互獨立地表示氫原子、-Rx
、-NH2
、-NHRx
、-NRx 2
、-SRx
或鹵素原子。
Rx
表示碳數1~4的烷基或碳數6~12的芳基]。
所述吖啶色素較佳為式(2-9)所示的化合物。
[式(2-9)中,
R16
~R23
相互獨立地表示氫原子、-Rx
、-NH2
、-NHRx
、-NRx 2
、-SRx
或鹵素原子。
Rx
表示碳數1~4的烷基或碳數6~12的芳基]。
作為式(2-7)、式(2-8)及式(2-9)中的Rx
所表示的碳數1~4的烷基,可列舉:甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基等,作為碳數6~12的芳基,可列舉苯基、甲苯甲醯基、二甲苯基及萘基等。
自使二色性色素的配向良好的觀點出發,偏光膜組成物中的二色性色素的含量相對於偏光膜組成物的固體成分100質量份較佳為0.1質量份以上且30質量份以下,更佳為0.1質量份以上且20質量份以下,進而佳為0.1質量份以上且10質量份以下,特佳為0.1質量份以上且5質量份以下。此處,固體成分是指自偏光膜組成物中除去溶劑後的成分的合計量。
<聚合性液晶化合物>
聚合性液晶化合物是具有聚合性基且顯示液晶性的化合物。聚合性基是指參與聚合反應的基,較佳為光聚合性基。此處,光聚合性基是指藉由自後述的光聚合起始劑產生的活性自由基、酸等而能夠進行聚合反應的基。作為聚合性基,可列舉:乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、氧雜環丙基、氧雜環丁基等。其中,較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、氧雜環丙基及氧雜環丁基,更佳為丙烯醯氧基。顯示液晶性的化合物可以是熱致性液晶亦可以是溶致液晶,另外,可以是熱致液晶中的向列液晶亦可以是層列液晶。
就獲得更高的偏光特性的方面而言,聚合性液晶化合物較佳為層列液晶化合物,更佳為高次層列液晶化合物。其中,較佳為形成層列B相、層列D相、層列E相、層列F相、層列G相、層列H相、層列I相、層列J相、層列K相或層列L相的高次層列液晶化合物,更佳為形成層列B相、層列F相或層列I相的高次層列液晶化合物。若聚合性液晶化合物形成的液晶相為該些高次層列相,則可製造配向秩序度更高的偏光膜。另外,如此般配向秩序度高的偏光膜於X射線繞射測定中,可獲得源自六角(hexatic)相或晶體相等高次結構的布勒格波峰。該布勒格波峰為來源於分子配向的週期結構的波峰,若聚合性液晶化合物形成的液晶相為該些高次層列相,則可獲得其週期間隔為3.0 Å~6.0 Å的膜。具體而言,此種化合物可列舉下述式(B)表示的化合物(以下,存在稱為化合物(B)的情形)等。該聚合性液晶化合物可單獨使用,亦可組合使用。
U1
-V1
-W1
-X1
-Y1
-X2
-Y2
-X3
-W2
-V2
-U2
(B)
[式(B)中,
X1
、X2
及X3
相互獨立地表示可具有取代基的1,4-伸苯基或可具有取代基的環己烷-1,4-二基。其中,X1
、X2
及X3
中的至少一個為可具有取代基的1,4-伸苯基。構成環己烷-1,4-二基的-CH2
-可經取代為-O-、-S-或-NR-。R表示碳數為1~6的烷基或苯基。
Y1
及Y2
相互獨立地表示-CH2
CH2
-、-CH2
O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa
=CRb
-、-C≡C-或-CRa
=N-。Ra
及Rb
相互獨立地表示氫原子或碳數1~4的烷基。
U1
表示氫原子或聚合性基。
U2
表示聚合性基。
W1
和W2
相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-。
V1
和V2
相互獨立地表示可具有取代基的碳數1~20的烷二基,構成該烷二基的-CH2
-可經取代為-O-、-S-或-NH-]。
於化合物(B)中,較佳為X1
、X2
及X3
中的至少一個為可具有取代基的1,4-伸苯基。
可具有取代基的1,4-伸苯基較佳為未經取代。可具有取代基的環己烷-1,4-二基較佳為可具有取代基的反式-環己烷-1,4-二基,可具有取代基的反式-環己烷-1,4-二基較佳為未經取代。
可具有取代基的1,4-伸苯基或可具有取代基的環己烷-1,4-二基任意地具有的取代基可列舉:甲基、乙基及丁基等碳數1~4的烷基、氰基及鹵素原子等。
Y1
較佳為-CH2
CH2
-、-COO-或單鍵,Y2
較佳為-CH2
CH2
-或-CH2
O-。
U2
為聚合性基。U1
為氫原子或聚合性基,較佳為聚合性基。U1
及U2
較佳為均為聚合性基,更佳為均為光聚合性基。具有光聚合性基的聚合性液晶化合物於在更低溫的條件下可聚合的方面有利。
U1
及U2
所表示的聚合性基可相互獨立而不同,較佳為相同。作為聚合性基,可列舉:乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、氧雜環丙基、氧雜環丁基等。其中,較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、氧雜環丙基及氧雜環丁基,更佳為丙烯醯氧基。
作為V1
及V2
所表示的烷二基,可列舉:亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及二十烷-1,20-二基等。V1
及V2
較佳為碳數2~12的烷二基,更佳為碳數6~12的烷二基。
作為可具有取代基的碳數1~20的烷二基任意地具有的取代基,可列舉氰基及鹵素原子等,該烷二基較佳為未經取代,更佳為未經取代且直鏈狀的烷二基。
W1
及W2
相互獨立,較佳為單鍵或-O-。
化合物(B)的具體例可列舉式(1-1)~式(1-23)所表示的化合物等。於化合物(B)具有環己烷-1,4-二基時,該環己烷-1,4-二基較佳為反式體。
於所例示的化合物(B)中,較佳為選自由式(1-2)、式(1-3)、式(1-4)、式(1-6)、式(1-7)、式(1-8)、式(1-13)、式(1-14)及式(1-15)分別表示的化合物所組成的群組中的至少一種。
所例示的化合物(B)可單獨或組合而用於長條偏光膜。另外,於組合兩種以上聚合性液晶化合物時,較佳為至少一種為化合物(B),更佳為兩種以上為化合物(B)。存在如下情況:藉由組合,於液晶-結晶相轉變溫度以下的溫度下亦可暫且保持液晶性。組合兩種聚合性液晶化合物時的混合比通常為1:99~50:50,較佳為5:95~50:50,更佳為10:90~50:50。
化合物(B)例如藉由路伯等人(Lub et al.)著、≪荷蘭皇家化學期刊,Recl.Trav.Chim.Pays-bas≫、115、321-328(1996)、或日本專利第4719156號等中記載的公知方法來製造。
關於偏光膜組成物中的聚合性液晶化合物的含有比例,就提高聚合性液晶化合物的配向性的觀點而言,相對於偏光膜組成物的固體成分100質量份,通常為70質量份~99.5質量份,較佳為80質量份~99質量份,更佳為80質量份~94質量份,進而佳為80質量份~90質量份。
<溶劑>
溶劑較佳為可完全溶解聚合性液晶化合物,另外,較佳為對聚合性液晶化合物的聚合反應為惰性的溶劑。
溶劑可列舉:甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑;乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑;丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑;戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑;甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑;乙腈等腈溶劑;四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑;氯仿及氯苯等含氯的溶劑等。該些溶劑可單獨使用,亦可組合使用。
相對於所述偏光膜組成物的總量,溶劑的含量較佳為50質量%~98質量%。換言之,偏光膜組成物中的固體成分較佳為2質量%~50質量%。若該固體成分為50質量%以下,則偏光膜組成物的黏度變低,因此偏光膜的厚度變得大致均勻,藉此有所述偏光膜不易產生不均的傾向。另外,該固體成分可考慮所欲製造的偏光膜的厚度而決定。
<聚合起始劑>
聚合起始劑為可使聚合性液晶化合物等的聚合反應開始的化合物。聚合起始劑較佳為藉由光的作用產生活性自由基的光聚合起始劑。
聚合起始劑例如可列舉:安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三嗪化合物、錪鹽和鋶鹽等。
安息香化合物例如可列舉:安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚及安息香異丁醚。
二苯甲酮化合物例如可列舉:二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、3,3',4,4'-四(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮和2,4,6-三甲基二苯甲酮。
烷基苯酮化合物例如可列舉:二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基硫代苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-〔4-(2-羥基乙氧基)苯基〕丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-〔4-(1-甲基乙烯基)苯基〕丙烷-1-酮的寡聚物等。
醯基氧化膦化合物可列舉:2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦等。
三嗪化合物例如可列舉:2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪及2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪等。
聚合起始劑中可使用市售者。市售的聚合起始劑可列舉:豔佳固(Irgacure)(註冊商標)907、豔佳固(Irgacure)184、豔佳固(Irgacure)651、豔佳固(Irgacure)819、豔佳固(Irgacure)250、及豔佳固(Irgacure)369(日本巴斯夫(BASF Japan)(股)製造);塞庫爾(SEIKUOL)(註冊商標)BZ、塞庫爾(SEIKUOL)Z及塞庫爾(SEIKUOL)BEE(精工化學(股)製造);卡丘阿(Kayacure)(註冊商標)BP100及卡丘阿(Kayacure)UVI-6992(道(Dow)公司製造);艾迪科奧普特瑪(ADEKA Optomer)SP-152及艾迪科奧普特瑪(ADEKA Optomer)SP-170((股)艾迪科(ADEKA)製);TAZ-A及TAZ-PP(日本大昌華嘉(DKSH Japan)(股)製造);及TAZ-104((股)三和化學製)等。
聚合起始劑較佳為於在偏光膜組成物中包含聚合性液晶化合物時,包含於偏光膜組成物中。關於於偏光膜組成物中含有聚合性液晶化合物時的偏光膜組成物中的聚合起始劑的含量,就不易使聚合性液晶化合物的配向混亂的觀點而言,相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份,通常為0.1質量份~30質量份,較佳為0.5質量份~10質量份,更佳為0.5質量份~8質量份。
<增感劑>
增感劑較佳為光增感劑。增感劑例如可列舉:呫噸酮及噻噸酮等呫噸酮化合物(例如2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮等);蒽及含烷氧基的蒽(例如,二丁氧基蒽等)等蒽化合物;啡噻嗪和紅螢烯等。
增感劑較佳為在偏光膜組成物中含有聚合性液晶化合物的情況下,包含在偏光膜組成物中。關於偏光膜組成物中含有聚合性液晶化合物時的偏光膜組成物中的增感劑的含量,相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份,通常為0.1質量份~30質量份,較佳為0.5質量份~10質量份,更佳為0.5質量份~8質量份。
<聚合抑制劑>
所述聚合抑制劑可列舉:對苯二酚、含烷氧基的對苯二酚、含烷氧基的鄰苯二酚(例如丁基鄰苯二酚等)、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基自由基等自由基捕捉劑;苯硫酚類;β-萘胺類及β-萘酚類等。
當偏光膜組成物中含有聚合性液晶化合物時,聚合抑制劑較佳為包含在偏光膜組成物中。藉由聚合抑制劑,可控制聚合性液晶化合物的聚合反應的進行程度。
關於偏光膜組成物中含有聚合性液晶化合物時的偏光膜組成物中的增感劑的含量,相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份,通常為0.1質量份~30質量份,較佳為0.5質量份~10質量份,更佳為0.5質量份~8質量份。
<調平劑>
調平劑具有調整偏光膜組成物的流動性,使偏光膜組成物的塗佈膜變得更平坦的功能,例如可列舉界面活性劑。作為較佳的調平劑,可列舉以聚丙烯酸酯化合物作為主要成分的調平劑、及以含氟原子的化合物為主要成分的調平劑。
作為以聚丙烯酸酯化合物為主要成分的調平劑,可列舉:BYK-350、BYK-352、BYK-353、BYK-354、BYK-355、BYK-358N、BYK-361N、BYK-380、BYK-381及BYK-392(畢克化學(BYK Chemie)公司製)等。
作為以含氟原子的化合物為主要成分的調平劑,可列舉:麥格菲斯(MEGAFACE)(註冊商標)R-08、麥格菲斯(MEGAFACE)R-30、麥格菲斯(MEGAFACE)R-90、麥格菲斯(MEGAFACE)F-410、麥格菲斯(MEGAFACE)F-411、麥格菲斯(MEGAFACE)F-443、麥格菲斯(MEGAFACE)F-445、麥格菲斯(MEGAFACE)F-470、麥格菲斯(MEGAFACE)F-471、麥格菲斯(MEGAFACE)F-477、麥格菲斯(MEGAFACE)F-479、麥格菲斯(MEGAFACE)F-482、麥格菲斯(MEGAFACE)F-483(迪愛生(DIC)(股)製);沙福隆(SURFLON)(註冊商標)S-381、沙福隆(SURFLON)S-382、沙福隆(SURFLON)S-383、沙福隆(SURFLON)S-393、沙福隆(SURFLON)SC-101、沙福隆(SURFLON)SC-105、沙福隆(SURFLON)KH-40、沙福隆(SURFLON)SA-100(AGC清水化學(AGC Seimi Chemical)(股)製);E1830及E5844((股)大金精細化學(Daikin Fine Chemical)研究所製);艾福拓(EFTOP)(商品名)EF301、艾福拓(EFTOP)EF303、艾福拓(EFTOP)EF351、艾福拓(EFTOP)EF352(三菱材料(Material)電子化成(股)製)等。
在偏光膜組成物中含有聚合性液晶化合物的情況下,調平劑較佳為包含在偏光膜組成物中。相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份,偏光膜組成物中的調平劑的含量通常為0.3質量份以上且5質量份以下,較佳為0.5質量份以上且3質量份以下。
調平劑的含量在上述範圍內時,存在容易使聚合性液晶化合物水平配向,並且所得到的長條偏光膜變得更平滑的傾向,因此較佳。調平劑相對於聚合性液晶化合物的含量超過上述範圍時,存在所得的偏光膜容易產生不均的傾向,因此欠佳。偏光膜組成物可含有兩種以上調平劑。
<聚合性非液晶化合物>
偏光膜組成物亦可含有聚合性非液晶化合物。藉由含有聚合性非液晶化合物,可提高聚合反應性部位的交聯密度,提高偏光膜的強度。
聚合性非液晶化合物較佳為具有由丙烯醯基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基所組成的群中的至少一個以上的聚合性基。更佳為具有2個以上且10個以下的聚合性基,進而較佳為具有3個以上且8個以下的聚合性基。
相對於偏光膜組成物的固體成分100質量份,偏光膜組成物中的聚合性非液晶化合物的含量通常為0.1質量份~30質量份,較佳為0.5質量份~10質量份。
<第二塗佈膜>
在步驟(d1)中,藉由將偏光膜組成物塗佈在配向膜上而形成第二塗佈膜。
將偏光膜組成物塗佈於配向膜的方法可列舉與配向膜組成物的塗佈方法相同的方法。於二色性色素具有溶致液晶性的情況下,可藉由施加剪切力而進行塗佈,使二色性色素配向。
<第二乾燥膜>
在步驟(d2)中,使第二塗佈膜乾燥而形成第二乾燥膜。在本說明書中,將如下者稱為第二乾燥膜:第二塗佈膜中的溶劑的含量相對於第二塗佈膜的總質量而成為50質量%以下者。該溶劑的含量較佳為30質量%以下,更佳為10質量%以下,進而佳為5質量%以下,特佳為1質量%以下。
將第二塗佈膜乾燥的方法可列舉與將第一塗佈膜乾燥的方法相同的方法。通常,對第二塗佈膜進行加熱乾燥,使二色性色素及聚合性液晶化合物轉變成液晶相,藉此二色性色素及聚合性液晶化合物配向。
於乾燥後的第二乾燥膜所含的二色性色素及聚合性液晶化合物未形成液晶相的情況下,可將第二乾燥膜加熱至該些二色性色素及聚合性液晶化合物顯示出液晶相的溫度為止,藉此形成液晶相。亦可將第二乾燥膜所含的二色性色素及聚合性液晶化合物加熱至轉變成溶液狀態的溫度以上,繼而冷卻至該二色性色素或聚合性液晶化合物顯示出液晶相的溫度為止,藉此形成液晶相。
再者,所述乾燥、所述用以形成液晶相的加熱亦可藉由同一加熱步驟進行。
<偏光膜>
第二乾燥膜亦可直接用作偏光膜,於第二乾燥膜中包含聚合性液晶化合物的情況下,較佳為藉由步驟(d3)進行硬化。所謂進行硬化,是使第二乾燥膜所含的聚合性液晶化合物進行聚合,作為聚合方法,可列舉加熱及光照射,較佳為光照射。藉由該硬化,可將第二乾燥膜所含的二色性色素以經配向的狀態固定。
硬化較佳為於使聚合性液晶化合物形成液晶相的狀態下進行,亦可於顯示出液晶相的溫度下進行光照射而進行硬化。
光照射的光可列舉可見光、及紫外光。就容易處理的方面而言,較佳為紫外光。光可直接照射於第二乾燥膜,亦可透過長條基材而進行照射。
所述光照射的光源可列舉:氙氣燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等紫外光雷射等,較佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈。該些燈的波長313 nm的紫外線的發光強度大,故而較佳。
偏光膜的厚度通常為5 μm以下,較佳為0.5 μm以上且3 μm以下,更佳為1 μm以上且3 μm以下。長條偏光膜的厚度可藉由干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計而測定。另外,長條偏光膜較佳為於X射線繞射測定中顯示出布勒格波峰。
<步驟(e)>
本發明的製造方法包括如下的步驟(e),即,在溫度為60℃~150℃的環境下對至少包含上述基材和上述配向膜的配向膜積層體進行單軸拉伸。步驟(e)只要是在形成配向膜的步驟(c)之後,其時機就沒有限定,可以在步驟(c)之後且步驟(d)之前,亦可與步驟(d)同時,還可在步驟(d)之後。
步驟(e)中,進行單軸拉伸的方向與配向膜的配向限制力的方向所成的角度較佳為0˚±15˚或90˚±15˚的範圍內,更佳為0˚±10˚或90˚±10˚,進而佳為0˚±5˚或90˚±5˚,特佳為0˚±1˚或90°±1°。
作為連續地單軸拉伸長條的配向膜積層體的方法,可列舉使用夾持輥的方法、夾住配向膜積層體的兩端並在配向膜積層體的寬度方向上拉伸的方法等。在使用夾持輥的方法中,在包含一對輥的夾持輥的一對輥之間夾壓配向膜積層體,相對改變一對輥的旋轉速度,藉此將配向膜積層體在輸送方向上單軸拉伸。
在對配向膜積層體進行單軸拉伸時,使用能夠調整環境的溫度的機構。例如,可藉由在加熱爐內單軸拉伸配向膜積層體來調整環境溫度。環境溫度設為60℃~150℃,較佳為65℃~100℃。進而,單軸拉伸時的配向膜積層體的基材的溫度較佳為60℃~150℃,更佳為65℃~100℃。
單軸拉伸的拉伸倍率較佳為1.01倍~1.5倍,更佳為1.05倍~1.5倍,進而佳為1.1倍~1.3倍。
本發明的製造方法藉由包括步驟(e),可提高偏光薄膜的有序參量(S1
),可提高能見度修正偏光度(Py)的值,從而可容易地在畫面內獲得均勻的色調。
<偏光薄膜>
根據上述方法,可製造依次含有基材、配向膜和偏光膜且具有良好的光學特性的偏光薄膜。藉由在本發明的偏光薄膜上進一步貼合1/4λ波長板,可得到圓偏光板。
偏光薄膜為長條時,藉由將其切成單片狀,可得到單片狀的偏光薄膜。所謂單片狀,是將薄膜的長邊方向與短邊方向的平衡明顯不同者除外,於本說明書中,若長邊方向的長度為短邊方向的長度的5倍以下,則稱為單片狀。切斷可藉由任意的方法進行。
本發明的偏光薄膜的較佳的形態包括基材和偏光膜,偏光膜包括二色性色素和聚合性液晶化合物的聚合物。
本發明的偏光薄膜的有序參量(S1
)的平均值(S1ave
)較佳為滿足下述式(1a)的關係,更佳為滿足下述式(1b)的關係。偏光薄膜的有序參量(S1
)的平均值(S1ave
)可小於1。
S1ave
≧0.998 (1a)
S1ave
≧0.999 (1b)
任意區域的有序參量(S1
)是在將偏光薄膜的任意區域劃分成多個微小區域,設各微小區域的吸收軸的軸角度為θ1
,設微小區域的軸角度θ1
的標準偏差為σ時,由式(2)定義的值。吸收軸的軸角度依賴於二色性色素的配向方向。
S1
=(3cos2
σ-1)/2 (2)
由式(2)可知,S1
=0時,表示二色性色素的配向方向沒有秩序的狀態,S1
=1時,表示二色性色素與特定的方向一致來排列的狀態。在本說明書中,有序參量(S1
)和有序參量的平均值(S1ave
)設為藉由以下記載的方法求出的值。
本發明的偏光薄膜的與拉伸方向正交的方向(例如吸收軸方向)的有序參量差(ΔS1
)較佳為滿足下述式(3a)的關係,更佳為滿足下述式(3b)的關係。
ΔS1
≦0.0015 (3a)
ΔS1
≦0.0010 (3b)
關於與拉伸方向正交的方向的有序參量差(ΔS1
),如下述式(4)所定義般,是由在與拉伸方向正交的方向上排列的多個區域的有序參量(S1
)中的最大值S1max
和最小值S1min
的差定義的值。在本說明書中,有序參量差(ΔS1
)設為藉由以下記載的方法求出的值。
ΔS1
=S1max
-S1min
(4)
有序參量(S1
)、有序參量的平均值(S1ave
)以及有序參量差(ΔS1
)可如以下般進行測定。再者,作為測定對象的偏光薄膜可為長條,亦可為單片狀。首先,在偏光薄膜的吸收軸方向的整個寬度上等間隔地設定20處吸收軸方向1.7 mm×透過軸方向1.4 mm的測定區域。將各測定區域進一步在吸收軸方向上分割為168份、在透過軸方向上分割為128份,來設定21504個微小區域。對於各微小區域,使用吸收軸角度測定計(艾克歐麥特瑞克(AXOMETRICS)公司,AxoStep_成像偏光計(Imaging Polarimeter))測定吸收軸角度。然後,按照上述式(2)對每個測定區域計算有序參量(S1
)。
將20個有序參量的平均值設為有序參量的平均值(S1ave
)。根據以20處算出的有序參量中最大的有序參量(S1max
)與最小的有序參量(S1min
)的差,算出有序參量差(ΔS1
)。
本發明的偏光薄膜的能見度修正偏光度(Py)較佳為滿足下述式(6a)的關係,更佳為滿足下述式(6b)的關係。本發明的偏光薄膜的能見度修正偏光度(Py)可滿足下述式(6c)的關係。
Py≧97.0 (6a)
Py≧98.0 (6b)
Py≦99.99 (6c)
本發明的偏光薄膜的能見度修正透過率(Ty)通常為35%以上,較佳為40%以上,更佳為42%以上。若Ty為35%以上,則白亮度提高,故而較佳。再者,此處的透過率亦包含基材薄膜與空氣界面上的伴隨著折射率差的界面反射損失、或因基材薄膜本身的吸收所引起的損失。另外,於藉由抗眩處理等對偏光薄膜賦予防眩性能的情形時,為包含散射光而藉由積分球測定所得的值。
<偏光薄膜的連續的製造方法>
本發明的偏光薄膜為長條的情況下,通常藉由輥對輥(Roll to Roll)形式而連續地製造。參照圖1,對藉由輥對輥(Roll to Roll)形式連續地製造長條偏光薄膜的方法的主要部分的一例進行說明。
將長條基材捲取於第一捲芯210A上的第一輥210例如可自市場上容易地獲取。關於此種能以輥的形態自市場上獲取的長條基材,於已例示的基材中,可列舉包含纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯的薄膜等。
繼而,自上述第一輥210捲出長條基材。捲出長條基材的方法藉由如下方式進行:於該第一輥210的捲芯210A上設置適當的旋轉機構,藉由該旋轉機構使第一輥210旋轉。另外,亦可為如下形式:於自第一輥210搬送長條基材的方向上,設置適當的輔助輥300,利用該輔助輥300的旋轉機構捲出長條基材。進而,亦可為如下形式:於第一捲芯210A及輔助輥300上一併設置旋轉機構,藉此一方面對長條基材賦予適度的張力,一方面捲出長條基材。
自所述第一輥210捲出的長條基材於通過塗佈裝置211A時,藉由塗佈裝置211A於其表面上塗佈配向膜組成物(步驟(a))。如此般連續地塗佈配向膜組成物的塗佈裝置211A較佳為凹版塗佈法、模塗佈法、柔版法。
通過塗佈裝置211A而形成有第一塗佈膜的長條基材被搬送至乾燥爐212A中,藉由乾燥爐212A使第一塗佈膜乾燥而形成第一乾燥膜(步驟(b))。於乾燥爐212A中,例如使用將通風乾燥法及加熱乾燥法組合的熱風式乾燥爐。乾燥爐212A的設定溫度根據光配向膜組成物所含的溶劑的種類等而決定。乾燥爐212A可為包含互不相同的設定溫度的多個區者,亦可為將互不相同的設定溫度的多個乾燥爐串聯設置而成者。
藉由偏光照射裝置213A對所得的第一乾燥膜照射偏光,藉此獲得長條配向膜(步驟(c))。此時,以配向膜的配向限制力的方向成為長條基材的長邊方向的方式照射偏光。
形成有長條配向膜的長條基材被輸送至加熱爐214,藉由加熱爐加熱包含長條基材和長條配向膜的配向膜積層體。在加熱爐214內,配向膜積層體在一對夾持輥215之間被輸送,在長軸方向上被單軸拉伸(步驟(e))。加熱爐214的溫度較佳為60℃~150℃,更佳為65℃~100℃。藉由夾持輥215進行單軸拉伸的拉伸倍率較佳為1.01倍~1.5倍,更佳為1.05倍~1.5倍,進而佳為1.1倍~1.3倍。
繼而,形成有長條配向膜的長條基材通過塗佈裝置211B。藉由塗佈裝置211B,於長條配向膜上塗佈偏光膜組成物(包含聚合性液晶化合物者),形成第二塗佈膜(步驟d1)。此後,藉由通過乾燥爐212B而形成第二乾燥膜(步驟d2)。乾燥爐212B與乾燥爐212A同樣地,可為包含互不相同的設定溫度的多個區者,亦可為將互不相同的設定溫度的多個乾燥爐串聯設置而成者。
藉由通過乾燥爐212B,偏光膜組成物所含的聚合性液晶化合物形成液晶相,二色性色素配向。於第二乾燥膜所含的聚合性液晶化合物形成液晶相的狀態下,藉由光照射裝置213B照射光,藉此該聚合性液晶化合物以保持液晶相的狀態而聚合,形成長條偏光膜(步驟d3)。
如此而獲得的長條偏光薄膜捲取至第二捲芯220A上,獲得第二輥220的形態。再者,於捲取時,亦可進行使用適當的隔片的共捲。
如此,長條基材自第一輥210起依序通過塗佈裝置211A、乾燥爐212A、偏光照射裝置213A、加熱爐214、夾持輥215、塗佈裝置211B、乾燥爐212B及光照射裝置213B,藉此可以輥對輥(Roll to Roll)形式連續地製造長條偏光薄膜。
另外,圖1所示的製造方法中,示出自長條基材至長條偏光薄膜為止連續地製造的方法,但亦可藉由其他方法製造。例如,亦可首先自第一輥210捲出長條基材,使其依序通過塗佈裝置211A、乾燥爐212A及偏光照射裝置213A、加熱爐214、夾持輥215,並將其捲取至捲芯上,藉此連續地製造輥狀的長條配向薄膜,接著捲出所獲得的輥狀的長條配向薄膜,使其依序通過塗佈裝置211B、乾燥爐212B及光照射裝置213B而製造長條偏光薄膜。
於以第二輥220的形態製造長條偏光薄膜的情況下,可自第二輥220捲出長條偏光薄膜,裁斷成規定的尺寸後,將相位差薄膜貼合至經裁斷的偏光薄膜上,藉此製造圓偏光板,亦可準備將長條相位差薄膜捲取於捲芯上的第三輥,藉此連續地製造長條圓偏光板。
參照圖2,對連續地製造長條圓偏光板的方法進行說明。該製造方法包括:自第二輥220連續地捲出本發明的長條偏光薄膜,並且自捲取有長條相位差薄膜的第三輥230連續地捲出長條相位差薄膜的步驟;將長條偏光薄膜與長條相位差薄膜連續地貼合而獲得長條圓偏光板的步驟;及將所獲得的長條圓偏光薄膜捲取至第四捲芯240A上,獲得第四輥240的步驟。該方法是所謂的輥對輥(Roll to Roll)貼合。
長條偏光薄膜與長條相位差薄膜可使用適當的接著劑而貼合。
如上所述獲得的長條偏光薄膜視需要而裁斷,可用於各種顯示裝置。長條偏光薄膜、及自長條偏光薄膜切出的偏光薄膜通常經由接著劑或感壓式接著劑而貼合於顯示裝置。較佳為長條偏光薄膜連續地貼合於顯示裝置,更佳為連續地貼合於多個顯示裝置。藉由將長條偏光薄膜連續地貼合於顯示裝置,可獲得帶有長條偏光薄膜的顯示裝置。
顯示裝置是具有顯示元件的裝置,包含發光元件或發光裝置作為發光源。具備本發明的長條偏光薄膜、或自本發明的長條偏光薄膜切出的偏光薄膜的顯示裝置例如可列舉:液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如場發射顯示裝置(field emission display,FED)、表面場發射顯示裝置(表面傳導電子發射顯示器)(surface-conduction electron-emitter display,SED))、電子紙(使用電子墨水或電泳元件的顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如柵狀光閥(Grating Light Valve,GLV)顯示裝置、具有數位微鏡器件(Digital Micromirror Device,DMD)的顯示裝置)、及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置亦包含透過型液晶顯示裝置、半透過型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直觀型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置等的任一種。該些顯示裝置可為顯示二維圖像的顯示裝置,亦可為顯示三維圖像的立體顯示裝置。本發明的長條偏光薄膜、及自本發明的長條偏光薄膜切出的偏光薄膜特別可有效地用於有機電致發光(EL)顯示裝置及無機電致發光(EL)顯示裝置等顯示裝置、以及包含觸控面板的顯示裝置。
[實施例]
以下,根據實施例更詳細地對本發明進行說明。例中的「%」及「份」只要無特別記述,則為質量%及質量份。
[實施例1]
<配向膜組成物的製備>
混合下述成分,將所獲得的混合物於80℃下攪拌1小時,藉此獲得配向膜組成物。下述光配向性材料藉由日本專利特開2013-33248號公報記載的方法而合成。
光配向性材料(2份):
溶劑(98份):鄰二甲苯
<偏光膜組成物的製備>
混合下述成分,在80℃下攪拌1小時,得到偏光膜組成物。二色性色素使用日本專利特開2013-101328號公報的實施例中記載的偶氮系色素。
〔其他成分〕
聚合起始劑:
2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(豔佳固(Irgacure)369;日本巴斯夫(BASF Japan)(股)製) 6份
調平劑:
聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N;畢克化學(BYK-Chemie)公司製)
1.2份
溶劑:鄰二甲苯 250份
<長條偏光薄膜的製造>
於以8 m/min的速度連續地捲出寬度640 mm的輥狀的長條三乙醯纖維素薄膜(柯尼卡美能達(Konica Minolta)(股)製造的KC4UY-TAC 厚度40 μm),對薄膜表面實施電漿處理後,使用狹縫式模塗機以16 ml/min的流量噴出配向膜組成物,於薄膜中央部的寬度400 mm的範圍內形成第一塗佈膜(步驟(a))。進而,藉由在設定為100℃的通風乾燥爐中搬送2分鐘而去除溶媒,形成第一乾燥膜(步驟(b))。此後,以成為20 mJ/cm2
(313 nm基準)的強度的方式對第一乾燥膜照射相對於薄膜的長邊方向而成為平行的方向的偏光UV光,藉此賦予配向限制力,形成長條配向膜(步驟(c))。長條配向膜的配向限制力的方向是與輸送方向正交的方向。
將得到的長條基材和長條配向膜的配向膜積層體在設定為80℃的內部具有一對夾持輥的加熱爐中用0.5分鐘輸送,通過夾持輥時以1.1倍的拉伸倍率沿輸送方向進行單軸拉伸(步驟(e))。夾持輥被導入加熱爐後,經過0.3分鐘後配置於要到達的位置。
然後,使用狹縫式模塗機以24 ml/min的流量於配向膜積層體的長條配向膜上噴出偏光膜組成物,於薄膜中央部的寬度400 mm範圍內形成第二塗佈膜(步驟(d1))。進而,藉由在設定為110℃的通風乾燥爐中搬送2分鐘而去除溶媒,形成第二乾燥膜(步驟(d2))。然後,以1000 mJ/cm2
(365 nm基準)照射UV光而使第二乾燥膜所含的聚合性液晶化合物硬化,藉此形成長條偏光膜(步驟(d3))。然後,連續地捲繞成輥狀,獲得在與輸送方向垂直的方向上具有吸收軸的實施例1的長條偏光薄膜。長條偏光薄膜的長邊方向的長度為200 m。
<長條偏光薄膜的評價>
(1)有序參量的平均值(S1ave
)及有序參量差(ΔS1
)
在得到的長條偏光薄膜的距塗敷開始部分3 m的位置,在長條偏光薄膜的寬度方向整個寬度上等間隔地設定20處寬度方向1.7 mm×長邊方向1.4 mm的測定區域。將各測定區域進一步在寬度方向上分割為168份,在長度方向上分割為128份,設定21504個微小區域。對於各微小區域,使用吸收軸角度測定計(艾克歐麥特瑞克(AXOMETRICS)公司,AxoStep_成像偏光計(Imaging Polarimeter))測定吸收軸角度。然後,按照上述的式(2)計算出每個測定區域的有序參量(S1
)。將20個有序參量的平均值設為有序參量的平均值(S1ave
)。然後,根據以20處算出的有序參量中最大的有序參量(S1max
)與最小的有序參量(S1min
)的差,計算有序參量差(ΔS1
)。如以上般算出的有序參量的平均值(S1ave
)和有序參量差(ΔS1
)如表1所示。
偏光度及透過率
如以下般測定樣品的偏光度、及透過率。使用在分光光度計((股)島津製作所製造UV-3150)上設置有帶有偏振片的濾光器的裝置,藉由雙射束法以2 nm步進而於380 nm~680 nm的波長範圍內測定透過軸方向的透過率(T1)及吸收軸方向的透過率(T2)。根據所測定的各波長的透過軸方向的透過率(T1)及吸收軸方向的透過率(T2)的值,使用下述式(7)及式(8)算出單體透過率以及偏光度,藉由日本工業標準(Japanese Industrial Standards,JIS)Z 8701的2度視場(C光源)進行能見度修正,算出能見度修正偏光度(Py)、能見度修正透過率(Ty)以及Lab表色系統中的色度(單體a及單體b)。將該些中的能見度修正偏光度(Py)示於表1。
單體透過率(%)=(T1+T2)/2 式(7)
偏光度(%)={(T1-T2)/(T1+T2)}×100 式(8)
(3)目視不均
對於得到的長條偏光薄膜,以碘-PVA偏光板(SRW842A;住友化學(股)製)與吸收軸正交的方式配置,在直下型背光上,目視觀察40 cm×40 cm的任意區域內,按照以下基準進行偏光薄膜的色調評價。
A:沒有不均,外觀良好。
B:雖然有部分不均,但不均很薄。
C:有部分不均,不均明顯。
D:整體上不均明顯。
[實施例2]
除了步驟(e)中的單軸拉伸的拉伸倍率為1.2倍這一點以外,藉由與實施例1的長條偏光薄膜的製造方法相同的方法,製造實施例2的長條偏光薄膜。對於得到的長條偏光薄膜,藉由與實施例1同樣的方法進行評價。
[實施例3]
實施例1中,在步驟(c)之後且步驟(d1)之前的時機進行步驟(e),與此相對,在實施例3中,在步驟(d3)之後進行步驟(e),除此之外,藉由與實施例1的長條偏光薄膜的製造方法相同的方法,製造實施例3的長條偏光薄膜。對於得到的長條偏光薄膜,藉由與實施例1同樣的方法進行評價。
[實施例4]
實施例2中,在步驟(c)之後且步驟(d1)之前的時機進行步驟(e),與此相對,在實施例4中,在步驟(d3)之後進行步驟(e),除此之外,藉由與實施例2的長條偏光薄膜的製造方法相同的方法,製造實施例4的長條偏光薄膜。對於得到的長條偏光薄膜,藉由與實施例1同樣的方法進行評價。
[比較例1]
除了不進行步驟(e)以外,藉由與實施例1的長條偏光薄膜的製造方法相同的方法,製造比較例1的長條偏光薄膜。對於得到的長條偏光薄膜,藉由與實施例1同樣的方法進行評價。
[表1]
根據表1的結果,確認到能以200 m輥的形式於寬度方向及長邊方向上均勻地製作具有高的偏光性能且沒有不均、在面內為均勻的色調的偏光薄膜。
實施例1 | 實施例2 | 實施例3 | 實施例4 | 比較例1 | ||
緊接在拉伸步驟(步驟(e))之前的步驟 | 步驟(c) | 步驟(c) | 步驟(d3) | 步驟(d3) | - | |
拉伸倍率(倍) | 1.1 | 1.2 | 1.1 | 1.2 | - | |
評價 | Py(%) | 98.5 | 98.8 | 98.0 | 98.2 | 97.0 |
目視不均 | A | A | A | B | C | |
有序參量的平均值(S1ave ) | 0.9993 | 0.9996 | 0.9982 | 0.9991 | 0.9972 | |
有序參量差(ΔS1 ) | 0.0005 | 0.0004 | 0.0007 | 0.0012 | 0.0021 |
210:第一輥
210A:捲芯/第一捲芯
220:第二輥
220A:捲芯
211A、211B:塗佈裝置
212A、212B:乾燥爐
213A:偏光照射裝置
213B:光照射裝置
214:加熱爐
215:夾持輥
300:輔助輥
230:第三輥
230A:捲芯
240:第四輥
240A:捲芯
圖1是表示長條偏光薄膜的連續製造方法(輥對輥(Roll to Roll)形式)的主要部分的示意圖。
圖2是表示長條圓偏光板的連續製造方法的主要部分的示意圖。
210:第一輥
210A:捲芯
220:第二輥
220A:捲芯
211A、211B:塗佈裝置
212A、212B:乾燥爐
213A:偏光照射裝置
213B:光照射裝置
214:加熱爐
215:夾持輥
300:輔助輥
Claims (9)
- 一種偏光薄膜的製造方法,所述偏光薄膜包括基材與偏光膜,所述偏光薄膜的製造方法包括: (a)在所述基材上塗佈配向膜組成物而形成第一塗佈膜的步驟; (b)使所述第一塗佈膜乾燥而形成第一乾燥膜的步驟; (c)對所述第一乾燥膜照射偏光而形成配向膜的步驟; (d)在所述配向膜上形成偏光膜的步驟;以及 (e)在溫度為60℃~150℃的環境下對至少包含所述基材和所述配向膜的配向膜積層體進行單軸拉伸的步驟。
- 如請求項1所述的偏光薄膜的製造方法,其中,進行所述單軸拉伸的方向與所述配向膜的配向限制力的方向所成的角度在0°±15˚的範圍內或90˚±15˚的範圍內。
- 如請求項1或請求項2所述的偏光薄膜的製造方法,其中所述步驟(d)包括: (d1)在所述配向膜上塗佈偏光膜組成物而形成第二塗佈膜的步驟; (d2)使所述第二塗佈膜乾燥而形成第二乾燥膜的步驟;以及 (d3)使所述第二乾燥膜硬化而形成所述偏光膜的步驟。
- 如請求項3所述的偏光薄膜的製造方法,其中,在所述步驟(d1)中,所述偏光膜組成物含有二色性色素和聚合性液晶化合物。
- 如請求項3或請求項4所述的偏光薄膜的製造方法,其中,在所述步驟(d3)中,對所述第二乾燥膜進行光照射而使所述第二乾燥膜硬化。
- 如請求項1至請求項5中任一項所述的偏光薄膜的製造方法,其中,在所述步驟(e)中,所述單軸拉伸以成為1.01倍~1.5倍的拉伸倍率的方式進行。
- 一種偏光薄膜,包括基材與偏光膜,其中, 所述偏光膜含有二色性色素和聚合性液晶化合物的聚合物, 有序參量的平均值S1ave 滿足下述式(1a)的關係: S1ave ≧0.998 (1a)。
- 如請求項7所述的偏光薄膜,其中,有序參量差ΔS1 滿足下述式(3a)的關係: ΔS1 ≦0.0015 (3a)。
- 如請求項7或請求項8所述的偏光薄膜,其中,能見度修正單體偏光度Py滿足下述式(6a)的關係,所述能見度修正單體偏光度Py的單位為%: Py≧97.0 (6a)。
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