TW201939075A - 偏光膜形成用組成物、偏光膜、偏光板及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種偏光膜形成用組成物,其可形成無壞點及無配向缺陷且具有高配向秩序度的偏光膜。
上述課題之解決手段為一種偏光膜形成用組成物,其含有顯示層列型液晶性的聚合性液晶化合物、二色性色素及至少2種以上的有機溶劑,其中,前述有機溶劑含有:沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出-20℃以上50℃以下的有機溶劑A、及沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃的有機溶劑B。

Description

偏光膜形成用組成物、偏光膜、偏光板及其製造方法
本發明係有關偏光膜形成用組成物、偏光膜、偏光板及其製造方法。
以往,偏光板在平板顯示裝置(FPD)中係被用以貼合在液晶單元(liquid crystal cell)或有機EL顯示元件等圖像顯示元件。就此種偏光板而言,廣泛使用具有下述構成之偏光板:於使聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向碘或二色性染料等顯示二色性的化合物而成之偏光片的至少一面,隔著接著層積層三乙酸纖維素膜等保護層之構成。
近年來,伴隨著對於平板顯示裝置的薄型化的要求,對於其構成要件之一的偏光板或偏光膜也要求更進一步的薄型化,對於此種要求,已提出各種偏光板或偏光膜。例如,專利文獻1揭示一種含有由顯示層列型(smectic)液晶相的聚合性液晶化合物形成的聚合物及二色性色素之 偏光片。又,專利文獻2揭示一種可將顯示層列型相的聚合性液晶化合物與二色性色素溶解於溶劑並藉由濕式塗布法而形成偏光膜之聚合性液晶組成物。此外,專利文獻3揭示一種含有複類種二色性色素及顯示層列型液晶相的聚合性液晶化合物,且在可見光全域會顯示偏光性能之薄型偏光膜。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4719156號公報
[專利文獻2]日本特開2012-083734號公報
[專利文獻3]日本特開2013-210624號公報
如上述專利文獻所揭示之偏光板或偏光膜(偏光片),一般係經過下述步驟而製作:將含有聚合性液晶化合物與二色性色素以及溶劑的偏光膜形成用組成物,塗布於基材膜等薄膜上而形成塗膜,並將該塗膜加熱乾燥,藉此使聚合性液晶化合物相轉移成液晶狀態。本發明人等發現,在該步驟中若聚合性液晶化合物相轉移成液晶狀態之前,溶劑從塗膜揮發時,則聚合性液晶化合物容易析出成微結晶。若析出此種微結晶,即使於後續進行加熱乾燥,亦難以得到聚合性液晶化合物與二色性色素為良好的混合包裹狀態,在所得之偏光膜會引起壞點及配向缺陷。此種微結晶的析 出,咸認歸因於比起一般的向列型液晶,層列型液晶具有更靠近結晶的結構,尤其在由顯示層列型液晶性的聚合性液晶化合物所形成之偏光膜中成為問題。
於是,本發明之目的係提供一種偏光膜形成用組成物,其可形成無壞點及無配向缺陷且具有高配向秩序度之偏光膜。
本發明人等為了解決上述課題而進行深入探討的結果,遂完成本發明。亦即,本發明係提供以下較佳的態樣。
[1]一種偏光膜形成用組成物,其含有顯示層列型液晶性的聚合性液晶化合物、二色性色素及至少2種有機溶劑,其中,前述有機溶劑含有:沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出-20℃以上50℃以下的有機溶劑A、及沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃的有機溶劑B。
[2]如前述[1]所述之偏光膜形成用組成物,其中,相對於偏光膜形成用組成物所含之全有機溶劑100質量份,有機溶劑A的含量為51至99質量份,有機溶劑B的含量為1至49質量份。
[3]如前述[1]或[2]所述之偏光膜形成用組成物,其中,有機溶劑A的沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出0℃以上50℃以下,有機溶劑B的沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃且在150℃以下。
[4]如前述[1]至[3]中任一項所述之偏光膜形成用組成物,更含有聚合起始劑。
[5]如前述[1]至[4]中任一項所述之偏光膜形成用組成物,其中,有機溶劑A為酮系溶劑或芳香族系溶劑。
[6]如前述[1]至[5]中任一項所述之偏光膜形成用組成物,其中,有機溶劑B係由二醇系溶劑、酮系溶劑及醯胺系溶劑所組成的群組選出者。
[7]如前述[1]至[6]中任一項所述之偏光膜形成用組成物,其中,偏光膜形成用組成物的固體成分為5至40質量%。
[8]如前述[7]所述之偏光膜形成用組成物,其中,前述固體成分中之聚合性液晶化合物的比率為40至99.9質量%。
[9]如前述[7]或[8]所述之偏光膜形成用組成物,其中,前述固體成分中之二色性色素的比率為1至20質量%。
[10]一種偏光膜,係前述[1]至[9]中任一項所述之偏光膜形成用組成物的硬化物,且聚合性液晶化合物及/或其聚合物以層列型液晶狀態配向者。
[11]如前述[10]所述之偏光膜,係在X射線繞射測定中得到布勒格尖峰(Bragg peak)者。
[12]一種偏光板,係具備前述[10]或[11]所述之偏光膜、基材及配向膜而成者。
[13]一種偏光板之製造方法,其包含下列步驟:形成前述[1]至[9]中任一項所述之偏光膜形成用組成物的塗膜;將前述塗膜加熱乾燥至前述偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度以上後進行降溫,使該聚合性液晶化合物相轉移成層列型液晶相;以及在保持前述層列型液晶相的狀態下使聚合性液晶化合物聚合而形成偏光膜。
[14]如前述[13]所述之偏光板之製造方法,係將偏光膜形成用組成物的塗膜形成於光配向膜上,且前述光配向膜係藉由包含下列步驟之方法而形成:從含有會因光而產生配向限制力的聚合物或單體及溶劑之組成物形成塗膜;從前述塗膜將溶劑乾燥去除而得到乾燥塗膜;以及對前述乾燥塗膜照射偏光紫外線。
藉由本發明,可提供一種偏光膜形成用組成物,其可形成無壞點及無配向缺陷且具有高配向秩序度之偏光膜。
以下針對本發明之實施形態詳細說明。此外,本發明之範圍並不限定於此處說明之實施形態,在不損及本發明之主旨的範圍內皆可進行各種的變更。
<偏光膜形成用組成物>
本發明之偏光膜形成用組成物係含有顯示層列型液晶性的聚合性液晶化合物(以下又稱為「聚合性液晶化合物(A)」)。藉由使用顯示層列型液晶性的聚合性液晶化合物,可形成配向秩序度高的偏光膜。聚合性液晶化合物(A)所顯示之液晶狀態為層列型相(層列型液晶狀態),從能夠實現更高配向秩序度的觀點來看,更佳為顯示高階層列型相(高階層列型液晶狀態)者。在此,所謂高階層列型相,係意指層列型B相、層列型D相、層列型E相、層列型F相、層列型G相、層列型H相、層列型I相、層列型J相、層列 型K相及層列型L相,該等之中,更佳為層列型B相、層列型F相及層列型I相。液晶性可為熱致性液晶或溶致性液晶,但從可控制緻密的膜厚之點來看,較佳為熱致性液晶。聚合性液晶化合物可為單體,但亦可為由聚合性基聚合之低聚物或聚合物。
聚合性液晶化合物(A)只要是顯示層列型液晶性的聚合性液晶化合物即可,並無特別限定,可使用公知的聚合性液晶化合物。
聚合性液晶化合物(A)例如可列舉式(A1)所示之化合物及該化合物的聚合物(以下將該化合物及該聚合物統稱為「聚合性液晶化合物(A1)」)。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (A1)[式(A1)中、X1、X2及X3彼此獨立地表示2價芳香族基或2價脂環式烴基,在此,該2價芳香族基或2價脂環式烴基所含之氫原子可被取代成鹵原子、碳數1至4的烷基、碳數1至4的氟烷基、碳數1至4的烷氧基、氰基或硝基,構成該2價芳香族基或2價脂環式烴基的碳原子可被取代成氧原子或硫原子或氮原子。但是,X1、X2及X3中之至少1個為可具有取代基的1,4-伸苯基或可具有取代基的環己烷-1,4-二基。
Y1及Y2彼此獨立地為單鍵或二價連結基。
U1表示氫原子或聚合性基。
U2表示聚合性基。
W1及W2彼此獨立地為單鍵或二價連結基。
V1及V2彼此獨立地表示可具有取代基的碳數1至20的烷二基,構成該烷二基的-CH2-可被取代成-O-、-CO-、-S-或NH-。]
於聚合性液晶化合物(A1)中,X1、X2及X3彼此獨立地較佳為可具有取代基的1,4-伸苯基、或可具有取代基的環己烷-1,4-二基,X1、X2及X3中之至少1個為可具有取代基的1,4-伸苯基、或可具有取代基的環己烷-1,4-二基。尤其,X1及X3較佳為可具有取代基的環己烷-1,4-二基,該環己烷-1,4-二基更佳為反式-環己烷-1,4-二基。可具有取代基的1,4-伸苯基、或可具有取代基的環己烷-1,4-二基所任意具有的取代基,可列舉甲基、乙基及丁基等碳數1至4的烷基,氰基及氯原子、氟原子等鹵原子。較佳為未取代。又,Y1及Y2為同一結構時,X1、X2及X3中之至少1個較佳為相異的結構。X1、X2及X3中之至少1個為相異的結構時,有容易顯現層列型液晶性之傾向。
Y1及Y2彼此獨立地較佳為-CH2CH2-、-CH2O-、-CH2CH2O-、-COO-、-OCOO-、單鍵、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-、-CRa=N-或-CO-NRa-。Ra及Rb彼此獨立地表示氫原子或碳數1至4的烷基。Y1更佳為-CH2CH2-、-COO-或單鍵,Y2更佳為-CH2CH2-或CH2O-。又,X1、X2及X3全部為同一結構時,Y1及Y2較佳為彼此相異的結構。Y1及Y2為彼此相異的結構時,有容易顯現層列型液晶性之傾向。
U2為聚合性基。U1為氫原子或聚合性基,較佳為聚合性基。以U1及U2均為聚合性基為較佳,均為自由基聚合性基為較佳。聚合性基例如可列舉乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁烷基等。其中,較佳為自由基聚合性基,更佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基、乙烯氧基,宜為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基。U1所示之聚合性基與U2所示之聚合性基彼此可為相異,但較佳為相同種類的基。
V1及V2所示之烷二基可列舉亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及二十烷-1,20-二基等。V1及V2較佳為碳數2至12的烷二基,更佳為碳數6至12的烷二基。
該烷二基所任意具有的取代基可列舉氰基及鹵原子等,但該烷二基較佳為未取代,更佳為未取代的直鏈狀烷二基。
W1及W2彼此獨立地宜為單鍵、-O-、-S-、-COO-或OCOO-,較佳為單鍵或-O-。
聚合性液晶化合物(A1)例如可列舉式(A-1)至式(A-25)所示之化合物。聚合性液晶化合物(A1)具有環己烷-1,4-二基時,該環己烷-1,4-二基較佳為反式物。
該等之中,以選自由式(A-2)、式(A-3)、式(A-4)、式(A-5)、式(A-6)、式(A-7)、式(A-8)、式(A-13)、式(A-14)、式(A-15)、式(A-16)及式(A-17)所示之化合物所組成的群組之至少1種為較佳。聚合性液晶化合物(A1)可單獨使用1種,亦可組合2種以上使用。
聚合性液晶化合物(A1)可藉由Lub等、Recl.Trav.Chim.Pays-Bas、115、321-328(1996)、或日本專利第4719156號等所述之公知的方法而製造。
在不損及本發明之效果下,本發明之偏光膜形成用組成物可含有聚合性液晶化合物(A)以外之其他聚合性液晶化合物。從可得到配向秩序度高的偏光膜之觀點來看,聚合性液晶化合物(A)相對於偏光膜形成用組成物中之全聚合性液晶化合物的總質量之比率,聚合性液晶化合物較佳為51質量%以上為聚合性化合物(A),更佳為70質量%以上,又更佳為90質量%以上的聚合性液晶化合物,亦可全部(100質量%)為聚合性液晶化合物(A)。
本發明之偏光膜形成用組成物中之聚合性液晶化合物的含量相對於偏光膜形成用組成物的固體成分,較佳為40至99.9質量%,更佳為60至99.9質量%,又更佳為70至99質量%。聚合性液晶化合物的含量在上述範圍內時,有聚合性液晶化合物的配向性會有變高之傾向。於本說明書中,所謂固體成分係指從偏光膜形成用組成物中將溶劑去除後的成分之合計。
本發明之偏光膜形成用組成物含有二色性色素。在此,所謂二色性色素係意指具有分子於長軸方向之吸光度、與於短軸方向之吸光度為相異的性質之色素。本發明中所能夠使用的二色性色素只要具有上述性質即可,並無特別制限,可以為染料或顏料。可以分別將2種以上的染料或顏料組合使用,亦可將染料與顏料組合使用。
二色性色素較佳係於300至700nm的範圍具有極大吸收波長(λMAX)者。此種二色性色素可列舉吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等。
偶氮色素可列舉單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及茋偶氮色素等,較佳為雙偶氮色素及三偶氮色素,例如可列舉式(I)所示之化合物(以下稱為「化合物(I)」)。
K1(-N=N-K2)p-N=N-K3 (I)
[式(I)中、K1及K3彼此獨立表示可具有取代基的苯基、可具有取代基的萘基或可具有取代基的1價雜環基。K2表示可具有取代基的對伸苯基、可具有取代基的萘-1,4-二基或可具有取代基的2價雜環基。p表示1至4的整數。P為2以上的整數時,複數個K2可彼此互為相同或相異。在可見光域顯示吸收的範圍內-N=N-鍵可被取代成-C=C-、-COO-、-NHCO-、-N=CH-鍵。]
1價雜環基可列舉從喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、噁唑、苯并噁唑等雜環化合物去除1個氫原子後的基。2價雜環基可列舉從前述雜環化合物去除2個氫原子後之基。
K1及K3中之苯基、萘基及1價雜環基、以及K2中之對伸苯基、萘-1,4-二基及2價雜環基所任意具有的取代基可列舉:碳數1至4的烷基;甲氧基、乙氧基、丁氧基等碳數1至4的烷氧基;三氟甲基等碳數1至4的氟烷基;氰基;硝基;鹵原子;胺基、二乙基胺基、吡咯啶基等取代或未取代胺基(所謂取代胺基係指具有1個或2個碳數1至6的烷基之胺基、或2個取代烷基彼此鍵結而形成碳數2至8的烷二基之胺基。未取代胺基為-NH2)等。
化合物(I)之中,較佳為式(I-1)至式(I-6)中任一者所示之化合物。
[式(I-1)至(I-8)中,B1至B30彼此獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基、碳數1至4的烷氧基、氰基、硝基、取代或未取代的胺基(取代胺基及未取代胺基的定義如前所述)、氯原子或三氟甲基。
n1至n4彼此獨立地表示0至3的整數。
n1為2以上時,複數個B2可彼此為相同或相異,n2為2以上時,複數個B6可彼此為相同或相異,n3為2以上時,複數個B9可彼此為相同或相異。
n4為2以上時,複數個B14可彼此為相同或相異。]
前述蒽醌色素較佳為式(I-9)所示之化合物。
[式(I-9)中,R1至R8彼此獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵原子。
Rx表示碳數1至4的烷基或碳數6至12的芳基。]
前述噁酮色素較佳為式(I-10)所示之化合物。
[式(I-10)中,R9至R15彼此獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵原子。
Rx表示碳數1至4的烷基或碳數6至12的芳基。]
前述吖啶色素較佳為式(I-11)所示之化合物。
[式(I-11)中,R16至R23彼此獨立地表示氫原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或鹵原子。
Rx表示碳數1至4的烷基或碳數6至12的芳基。]
於式(I-9)、式(I-10)及式(I-11)中,Rx的碳數1至6的烷基可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基等,碳數6至12的芳基可列舉苯基、甲苯基、二甲苯基及萘基等。
前述花青色素較佳為式(I-12)所示之化合物及式(I-13)所示之化合物。
[式(I-12)中,D1及D2彼此獨立地表示式(I-12a)至式(I-12d)中任一者所示之基。
n5表示1至3的整數。]
[式(2-13)中、D3及D4彼此獨立地表示式(1-13a)至式(1-13h)中任一者所示之基。
n6表示1至3的整數。]
本發明之偏光膜形成用組成物中之二色性色素的含量可因應所使用的二色性色素的種類等而適當決定,但相對於偏光膜形成用組成物的固體成分,較佳為1至60質量%,更佳為1至20質量%,又更佳為1至15質量%。二色性色素的含量在上述範圍內時,不容易干擾聚合性液晶化合物的配向,可得到具有高配向秩序度的偏光膜。
本發明之偏光膜形成用組成物含有至少2種的有機溶劑。該2種的有機溶劑至少含有:沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出-20℃以上50℃以下的有機溶劑A、及沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃的有機溶劑B。藉由使本發明之偏 光膜形成用組成物含有上述沸點相異之至少2種有機溶劑,雖然在將偏光膜形成用組成物的塗膜加熱乾燥而使聚合性液晶化合物相轉移成液晶狀態之步驟(以下稱為「加熱乾燥步驟」)前不容易使溶劑揮發,但在加熱乾燥步驟中容易使溶劑乾燥去除,而可得到不容易產生配向缺陷或壞點且偏光性能優異的偏光膜。本發明之偏光膜形成用組成物含有2種以上的聚合性液晶化合物時,有機溶劑A及B各別係根據該偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物在混合狀態下的等向性相轉移溫度而選擇。
有機溶劑A通常係具有將聚合性液晶化合物及二色性色素溶解,於塗膜中容易產生聚合性液晶化合物與二色性色素良好的混合包裹狀態,且調整偏光膜形成用組成物的固體成分濃度及黏度之作用。尤其,一般顯示層列型液晶性的化合物有黏度較高的傾向,藉由使偏光膜形成用組成物含有有機溶劑A,使該組成物的處理性變良好,結果容易形成偏光膜。偏光膜形成用組成物的塗膜之加熱乾燥步驟前抑制有機溶劑從塗膜揮發之情形,有機溶劑A的沸點係比偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出-20℃以上50℃以下,較佳為高出0℃以上50℃以下,更佳為高出10℃以上50℃以下,更佳為高出20℃以上40℃以下。有機溶劑A的沸點比聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度低超過-20℃時,於加熱乾燥步驟前有機溶劑容易揮發,聚合性液晶化合物的微結晶容易析出。又,有機溶劑A的沸點比聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃時,雖然可以抑制加熱乾燥步驟前之溶劑的揮發,但於加熱乾燥步驟中溶劑難以揮發而容易產生配向缺陷,又,為了去除溶劑而必須提高加熱溫度,容易對基材等膜造成損傷。同時,由於可減低在加熱 乾燥步驟後殘留的溶劑量,故可抑制因殘留溶劑之配向缺陷的發生。有機溶劑A可單獨使用1種或組合2種以上使用。
有機溶劑B為高沸點溶劑,於加熱乾燥步驟前的塗膜中具有帶來保濕效果之作用。從在加熱乾燥步驟前抑制從塗膜的揮發之觀點來看,有機溶劑B的沸點係比偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃,較佳為高出55℃以上,較佳為高出150℃以下,更佳為高出60℃以上150℃以下,又更佳為高出60℃以上120℃以下。藉由含有沸點比聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出前述範圍的有機溶劑B,可有效地抑制有機溶劑從加熱乾燥步驟前的塗膜揮發之情形,在塗膜中可保持聚合性液晶化合物與二色性色素良好的混合包裹狀態。籍此,可有效地抑制所得之偏光膜產生壞點之情形。有機溶劑B可單獨使用1種或組合2種以上使用。
有機溶劑A的沸點與有機溶劑B的沸點之差較佳為20℃以上,更佳為30℃以上,且較佳為120℃以下,更佳為100℃以下。有機溶劑A與B的沸點處於上述關係時,容易使得在偏光膜形成用組成物的塗膜之加熱乾燥步驟前抑制聚合性液晶化合物的微結晶產生之效果、與加熱乾燥步驟中溶劑的去除容易性的效果取得平衡,所得之偏光膜不容易產生壞點及配向缺陷。
有機溶劑A及B各別可因應所使用的聚合性液晶化合物及二色性色素等,並基於聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度,而從可將聚合性液晶化合物及二色性色素溶解之公知的有機溶劑中適當選擇。有機溶劑例如可列舉以下的溶劑: 甲基異丁基酮(116℃)、環己酮(156℃)、環戊酮(131℃)、甲基戊基酮(151℃)、異佛酮(215℃)、γ-丁內酯(GBL)(204℃)等酮系溶劑;二甲苯(144℃)、均三甲苯(165℃)、枯烯(152℃)、乙基苯(136℃)、茴香醚(154℃)、苯胺(184℃)、苯甲醛(178℃)、苯甲基醇(205℃)、苯甲酸甲酯(199℃)、苯甲酸乙酯(213℃)、苯甲酸丙酯(230℃)、苯甲酸丁基(250℃)、硝基苯(211℃)、四氫萘(207℃)等芳香族系溶劑;辛烷(125℃)、壬烷(151℃)、癸烷(174℃)、十一烷(196℃)、十二烷(216℃)等長鏈烴系溶劑;乙二醇單甲基醚(124℃)、乙二醇單乙基醚(202℃)、乙二醇正丙基醚(151℃)、乙二醇異丙基醚(141℃)、乙二醇正丁基醚(171℃)、乙二醇單甲基醚(124℃)、二乙二醇二甲基醚(162℃)、二乙二醇二乙基醚(189℃)、二丙二醇二甲基醚(171℃)、二乙二醇單甲基醚(194℃)、二乙二醇單乙基醚(202℃)、二乙二醇單丁基醚(230℃)、二乙二醇乙基甲基醚(176℃)、二乙二醇丁基甲基醚(212℃)、丙二醇單甲基醚(120℃)、丙二醇二甲基醚(120℃)、二丙二醇單甲基醚(188℃)、二丙二醇二甲基醚(171℃)、丙二醇二甲基醚(97℃)、三丙二醇二甲基醚(215℃)、三乙二醇單甲基醚(249℃)、三乙二醇二甲基醚(216℃)、四乙二醇二甲基醚(276℃)、丙二醇單甲基醚乙酸酯(146℃)、乙二醇單甲基醚乙酸酯(145℃)、乙二醇單甲基醚乙酸酯(145℃)、二乙二醇單乙基醚乙酸酯(217℃)、二乙二醇單丁基醚乙酸酯(245℃)等二醇系溶劑;乙酸丙酯(102℃)、乙酸丁酯(126℃)、乙酸戊酯(149℃)、乳酸乙酯(155℃)、丙酸甲基甲氧酯(143℃)、丙酸乙基乙氧酯(170℃)、丙酸異戊酯(156 ℃)、異丁酸異戊酯(179℃)、丁酸乙酯(121℃)、丁酸丙酯(143℃)、丁酸丁酯(165℃)、碳酸伸乙酯(244℃)、碳酸伸丙酯(242℃)等酯系溶劑;N,N-二甲基甲醯胺(153℃)、N,N-二甲基乙醯胺(165℃)、N-甲基吡咯啶酮(202℃)、γ-丁內醯胺(245℃)等醯胺系溶劑;及氯苯(131℃)、1,1,2,2,-四氯乙烷(147℃)等鹵素系溶劑。
有機溶劑A係以選擇對於聚合性液晶化合物及二色性色素的溶解性高者為更有利。本發明之較佳的一實施態樣中,有機溶劑A為酮系溶劑或芳香族系溶劑,更佳為芳香族系溶劑。又,有機溶劑B係以選擇沸點相對於聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度為高且對於聚合性液晶化合物及二色性色素的溶解性高者為更有利。本發明之較佳的一實施態樣中,有機溶劑B係由二醇系溶劑、酮系溶劑及醯胺系溶劑所組成的群組中選出,更佳為沸點150℃以上之二醇系溶劑、酮系溶劑及醯胺系溶劑。
本發明之偏光膜形成用組成物中之有機溶劑A的含量相對於偏光膜形成用組成物所含之全有機溶劑100質量份,較佳為51至99質量份,更佳為60質量份以上,又更佳為70質量份以上,且更佳為95質量份以下,又更佳為90質量份以下。又,有機溶劑B的含量相對於偏光膜形成用組成物所含之全有機溶劑100質量份,較佳為1至49質量份,更佳為5質量份以上,又更佳為10質量份以上,且更佳為40質量份以下,又更佳為30質量份以下。分別含有上述含量的範圍內之有機溶劑A及B時,會因在加熱乾燥步驟前之塗膜中抑制溶劑的揮發,可得到聚合性液晶化合物與二色性色素良好的混合包裹狀態,而且於加熱乾燥步驟中不需要過度的加熱,即使於聚合性液晶化合物的相轉移溫度附近的溫度下亦可充分去 除溶劑,使因殘留溶劑所造成之配向缺陷得到抑制,可得到偏光性能優異之偏光膜。在含有2種以上的有機溶劑A及/或有機溶劑B時,上述含量係意指有機溶劑A及/或有機溶劑B各別之合計量。在不損及本發明之效果的情況下,本發明之偏光膜形成用組成物可含有有機溶劑A及B以外之有機溶劑。
本發明之偏光膜形成用組成物較佳係含有使其固體成分成為5至40質量%的量之有機溶劑。換言之,本發明之偏光膜形成用組成物中之有機溶劑的含量(有機溶劑A及B、以及包含時除此以外之有機溶劑的合計量)相對於偏光膜形成用組成物的總質量,較佳為60至95質量%。有機溶劑的含量在上述範圍時,於加熱乾燥前之塗膜中可抑制溶劑的揮發,於加熱乾燥步驟中不需要過度的加熱而容易將溶劑乾燥去除,可減低殘留溶劑的量。藉此,可得到偏光性能優異之偏光膜。
本發明之偏光膜形成用組成物較佳係含有聚合起始劑。聚合起始劑為可使聚合性液晶化合物開始聚合反應之化合物,從可在更低溫條件下開始聚合反應之點來看,較佳為光聚合起始劑。具體而言,可列舉可藉由光的作用而產生活性自由基或酸之光聚合起始劑,其中,較佳為會因光的作用而產生自由基之光聚合起始劑。聚合起始劑可單獨使用或組合2種以上使用。
聚合起始劑可列舉苯偶姻化合物、二苯基甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基膦氧化物化合物、三嗪化合物、錪鹽及鋶鹽等。
苯偶姻化合物可列舉苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻異丙基醚及苯偶姻異丁基醚等。
二苯基甲酮化合物可列舉二苯基甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯基甲酮、4-苯甲醯基-4’-甲基二苯基硫化物、3,3’,4,4’-四(第三丁基過氧羰基)二苯基甲酮及2,4,6-三甲基二苯基甲酮等。
烷基苯酮化合物可列舉二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-N-嗎啉基-1-(4-甲基硫苯基)丙烷-1-酮、2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-〔4-(2-羥基乙氧基)苯基〕丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-〔4-(1-甲基乙烯基)苯基〕丙烷-1-酮的低聚物等。
醯基膦氧化物化合物可列舉2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物等。
三嗪化合物可列舉2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪及2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪等。
聚合起始劑可使用市售者。市售的聚合起始劑可列舉“Irgacure(註冊商標)907”、“Irgacure(註冊商標)184”、“Irgacure(註冊商標)651”、“Irgacure(註冊商標)819”、“Irgacure(註冊商標)250”、“Irgacure(註冊商標)369”(CIBA Japan(股));“Seikuol(註冊商標)BZ”、“Seikuol(註冊 商標)Z”、“Seikuol(註冊商標)BEE”(精工化學(股));“Kayacure(註冊商標)BP100”(日本化藥(股));“Kayacure(註冊商標)UVI-6992”(DOW公司製);“Adeka OptomerSP-152”、“Adeka OptomerSP-170”(ADEKA(股));“TAZ-A”、“TAZ-PP”(日本siberhegner公司);及“TAZ-104”(三和化學公司)等。
偏光膜形成用組成物含有聚合起始劑時,其含量可因應該偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物的種類及其量而適當決定,但相對於聚合性液晶化合物100質量份,較佳為0.1至30質量份,更佳為0.5至10質量份,又更佳為0.5至8質量份。聚合起始劑的含量在上述範圍內時,可在不會干擾聚合性液晶化合物的配向之情況下進行聚合。
偏光膜形成用組成物含有光聚合起始劑時,可更含有光敏劑。藉由使用光敏劑,可進一步促進聚合性液晶化合物的聚合反應。光敏劑可列舉:氧雜蒽酮、硫雜蒽酮等氧雜蒽酮化合物(2,4-二乙基硫雜蒽酮、2-異丙基硫雜蒽酮等);蔥、含烷氧基的蔥(二丁氧基蔥等)等蔥化合物;啡噻嗪及紅螢烯(rubrene)等。光敏劑可單獨使用或組合2種以上使用。
本發明之偏光膜形成用組成物中之光敏劑的含量只要因應光聚合起始劑及聚合性液晶化合物的種類及其量而可適當決定,但相對於聚合性液晶化合物100質量份,較佳為0.1至30質量份,更佳為0.5至10質量份,又更佳為0.5至8質量份。
又,本發明之偏光膜形成用組成物可含有調平劑。調平劑係具有使藉由調整偏光膜形成用組成物的流動性並塗布該偏光膜形成用組成物而得到之塗膜更加平坦之功能,具體而言,可列舉界面活性劑。調平劑較佳係選自由以聚丙烯酸酯化合物作為主成分之調平劑及以含氟原子的化 合物作為主成分之調平劑所組成的群組中之至少1種。調平劑可單獨使用或組合2種以上使用。
以聚丙烯酸酯化合物作為主成分之調平劑可列舉“BYK-350”、“BYK-352”、“BYK-353”、“BYK-354”、“BYK-355”、“BYK-358N”、“BYK-361N”、“BYK-380”、“BYK-381”及“BYK-392”(BYK Chemie公司)等。
以含氟原子的化合物作為主成分之調平劑可列舉“Megafac(註冊商標)R-08”、同一系列之“R-30”、同一系列之“R-90”、同一系列之“F-410”、同一系列之“F-411”、同一系列之“F-443”、同一系列之“F-445”、同一系列之“F-470”、同一系列之“F-471”、同一系列之“F-477”、同一系列之“F-479”、同一系列之“F-482”及同一系列之“F-483”(DIC(股));“Surflon(註冊商標)S-381”、同一系列之“S-382”、同一系列之“S-383”、同一系列之“S-393”、同一系列之“SC-101”、同一系列之“SC-105”、“KH-40”及“SA-100”(AGC Seimi Chemical(股));“E1830”、“E5844”(Daikin Fine Chemical研究所(股));“EftopEF301”、“EftopEF303”、“EftopEF351”及“EftopEF352”(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals(股))等。
本發明之偏光膜形成用組成物中之調平劑的含量相對於聚合性液晶化合物100質量份,較佳為0.05至5質量份,更佳為0.05至3質量份。調平劑的含量在前述範圍內時,容易使聚合性液晶化合物水平配向,且不容易產生不均勻,會有得到更平滑的偏光膜之傾向。
為了使偏光膜形成用組成物的聚合反應更安定地進行,該組成物可含有適量的聚合抑制劑,藉此容易控制聚合性液晶化合物的聚合反應之進行程度。
聚合抑制劑可列舉氫醌、含烷氧基的氫醌、含烷氧基的兒茶酚(例如丁基兒茶酚等)、連苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基自由基等自由基捕獲劑;苯硫酚類;β-萘基胺類及β-萘酚類等。
偏光膜形成用組成物含有聚合抑制劑時,其含量可因應聚合性液晶化合物的種類及其量、以及光敏劑的使用量等而適當調節,但相對於聚合性液晶化合物100質量份,較佳為0.1至30質量份,更佳為0.5至10質量份,又更佳為0.5至8質量份。若聚合抑制劑的含量在此範圍內,則可在不會干擾聚合性液晶化合物的配向之情況下進行聚合。
偏光膜形成用組成物可含有光聚合起始劑、調平劑、光敏劑及聚合抑制劑以外之其他添加劑。其他添加劑可列舉抗氧化劑、離型劑、安定劑、上藍劑等著色劑、阻燃劑及潤滑劑等。偏光膜形成用組成物含有其他添加劑時,其他添加劑的含量相對於偏光膜形成用組成物的固體成分,較佳為超過0質量%且為20質量%以下,更佳為超過0質量%且為10質量%以下。
本發明之偏光膜形成用組成物的固體成分較佳為5至40質量%。偏光膜形成用組成物的固體成分濃度在上述下限值以上時,在偏光膜形成用組成物的塗膜之加熱乾燥步驟前可防止溶劑揮發而析出聚合性液晶化合物的微結晶之情形,可抑制偏光膜中壞點的產生。又,固體成分在上述上限值以下時,於加熱乾燥步驟中容易將有機溶劑去除,在所得之偏 光膜不容易產生配向缺陷。此外,由於一般顯示層列型液晶性的化合物之黏度較高,故藉由將固體成分濃度設為上述範圍,亦具有容易進行塗布,結果容易形成偏光膜之優點。在本發明中,偏光膜形成用組成物的固體成分更佳為10質量%以上,又更佳為15質量%以上,且更佳為35質量%以下,又更佳為30質量%以下。固體成分濃度主要可藉由有機溶劑或聚合性液晶化合物的配合量而調整。
本發明之偏光膜形成用組成物通常可藉由將聚合性液晶化合物、二色性色素及有機溶劑、以及視需要之上述添加劑加以混合、攪拌而調製。
本發明之偏光膜形成用組成物不容易產生壞點或配向缺陷,可得到配向秩序度高的偏光膜。因此,本發明亦包含使本發明之偏光膜形成用組成物硬化而成之偏光膜(亦即,偏光膜形成用組成物的硬化物)。於本發明之偏光膜中,形成該偏光膜的聚合性液晶化合物及/或其聚合物較佳係以層列型液晶狀態配向。藉由以層列型液晶狀態配向,使本發明之偏光膜顯示高配向秩序度。
配向秩序度高的偏光膜係在X射線繞射測定中可得到如六角液相(hexatic phase)或晶體相之源自高階結構的布勒格尖峰。所謂布勒格尖峰係意指源自分子配向的面周期結構之峰值。由本發明之偏光膜形成用組成物形成的偏光膜較佳係在X射線繞射測定中顯示布勒格尖峰者,又,以在聚合性液晶化合物及/或其聚合物吸收光的方向進行分子配向之「水平配向」為更佳。本發明中,較佳係分子配向的面周期間隔為3.0至6.0Å的偏光膜。
本發明之偏光膜例如可依照後述的本發明之偏光板的製造方法中之偏光膜的形成方法而製造。
本發明亦以具備本發明之偏光膜而成之偏光板作為對象。在本發明之一實施態樣中,本發明之偏光板係以除了本發明之偏光膜以外,尚包含基材及配向膜尤其包含基材及光配向膜為較佳。
本發明之偏光板例如可藉由包含下述的方法而製造:形成本發明之偏光膜形成用組成物的塗膜;將前述塗膜加熱乾燥至前述偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物的向列型-等向性相轉移溫度以上後進行降溫,使該聚合性液晶化合物相轉移成層列型液晶相(層列型液晶狀態);以及在保持前述層列型液晶相(層列型液晶狀態)的狀態下使聚合性液晶化合物聚合而形成偏光膜。
偏光膜形成用組成物的塗膜之形成例如可藉由於基材上或後述的配向膜上等塗布偏光膜形成用組成物而進行。又,本發明之偏光板包含相位差膜等時,可於其上方直接塗布偏光膜形成用組成物。
基材通常為透明基材。基材未設置於顯示元件的顯示面時,例如將基材從偏光膜移除後的積層體設置於顯示元件的顯示面時,基材亦可不為透明。所謂透明基材係意指具有能夠使光尤其是可見光穿透的透明性之基材,所謂透明性係指相對於波長380至780nm的光線之穿透率為80%以上之特性。具體的透明基材可列舉透光性樹脂基材。構成透光性樹脂基材的樹脂可列舉:聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴;降冰片烯系聚合物等環狀烯烴系樹脂;聚乙烯醇;聚對苯二甲酸乙二酯;聚甲基丙烯酸酯;聚丙 烯酸酯;三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、乙酸酯丙酸纖維素等纖維素酯;聚萘二甲酸乙二酯;聚碳酸酯;聚碸;聚醚碸;聚醚酮;聚苯硫醚及聚伸苯醚等。從取得的容易度或透明性的觀點來看,較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸酸酯、纖維素酯、環狀烯烴系樹脂或聚碳酸酯。纖維素酯係使纖維素所含之羥基的一部分或全部酯化而成者,可從市場容易取得。又,纖維素酯基材亦可易於從市場取得。市售的纖維素酯基材可列舉“Fujitac Film”(富士写真膜(股));“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(Konica Minolta Opto(股))等。
基材的厚度過薄時強度會降低,有加工性劣化之傾向,因此通常為5至300μm,較佳為20至200μm,更佳為20至100μm。
將偏光膜形成用組成物塗布於基材等的方法可列舉旋轉塗布法、擠壓法、凹版塗布法、模縫塗布法、棒式塗布法、塗敷器法等塗布法,柔版印刷法等印刷法等公知的方法。
其次,將從偏光膜形成用組成物所得之塗膜加熱至前述偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度以上,使溶劑乾燥去除,同時使聚合性液晶化合物相轉移成液體相。隨後進行降溫而使該聚合性液晶化合物相轉移成層列型相(層列型液晶狀態)。
塗膜的加熱溫度可考量所使用的聚合性液晶化合物及要形成塗膜的基材等膜的材質等而做適當決定。為了在將有機溶劑充分去除的情況,使聚合性液晶化合物充分成為等向性狀態,因此加熱溫度較佳為比聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出1℃以上,更佳為高出5℃以上,又更佳為高出7℃以上的溫度。加熱溫度的上限並無特別限定,但為了 避免因加熱而對塗膜或基材等造成損傷,故較佳為150℃以下,更佳為130℃以下。
加熱時間可因應加熱溫度、所使用的聚合性液晶化合物的種類、有機溶劑的種類、沸點及其量等而適當決定,但通常為0.5至10分鐘,較佳為1至5分鐘。
在加熱至聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度以上前,可在不會使從膜形成用組成物所得之塗膜中所含之聚合性液晶化合物進行聚合的條件下,設置用以將塗膜中的溶劑適度去除之預備乾燥步驟。藉由設置該乾燥步驟,可提升聚合性液晶化合物的配向性。乾燥方法可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等,該乾燥步驟中之乾燥溫度(加熱溫度)可因應所使用的聚合性液晶化合物的種類、有機溶劑的種類、沸點及其量等而適當決定,但從抑制聚合性液晶化合物的微結晶析出之觀點來看,通常為30至150℃,較佳為50至130℃。乾燥時間可因應乾燥溫度或所使用的有機溶劑的種類等而適當決定,但通常為0.1至5分鐘,較佳為0.1至3分鐘。
其次,在藉由上述加熱乾燥所得之乾燥塗膜中,在保持聚合性液晶化合物的層列型液晶狀態的情況下使聚合性液晶化合物聚合,藉此可使偏光膜形成用組成物的硬化膜形成為偏光膜。聚合方法較佳為光聚合法。光聚合中,對乾燥塗膜照射的光可因應該乾燥塗膜所含之光聚合起始劑的種類、聚合性液晶化合物的種類(尤其是該聚合性液晶化合物所具有的聚合性基的種類)及其量而適當選擇。其具體例可列舉選自由可見光、紫外光、紅外光、X射線、α射線、β射線及γ射線所組成的群組中之1種以上 的光或活性電子束。其中,從容易抑制聚合反應的進行之點、或可使用在該領域被廣範使用者來作為光聚合裝置之點來看,較佳為紫外光,較佳係以可藉由紫外光進行光聚合之方式來選擇偏光膜形成用組成物所含有之聚合性液晶化合物或光聚合起始劑的種類。又,聚合時藉由以適當的冷卻手段對乾燥塗膜一邊冷卻一邊進行光照射,亦可控制聚合溫度。若藉由採用此種冷卻手段,而在更低溫實施聚合性液晶化合物的聚合,即使使用相較耐熱性低者作基材,亦可適當地形成偏光膜。光聚合時,藉由進行遮蔽或顯像等,亦可得到經圖案化的偏光膜。
前述活性能量線的光源可列舉低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢絲燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380至440nm的光之LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
紫外線照射強度通常為10至3,000mW/cm2。紫外線照射強度較佳為對光聚合起始劑的活性化有效之波長區域中之強度。光照射時間通常為0.1秒至10分鐘,較佳為0.1秒至5分鐘,更佳為0.1秒至3分鐘,又更佳為0.1秒至1分。以此種紫外線照射強度照射1次或複數次時,其累積光量為10至3,000mJ/cm2,較佳為50至2,000mJ/cm2,更佳為100至1,000mJ/cm2
藉由進行光聚合,使聚合性液晶化合物在保持層列型相、較佳為高階的層列型相的液晶狀態的情況下進行聚合而形成偏光膜。使聚合性液晶化合物在保持層列型相的液晶狀態的情況下聚合而得到之偏光膜,伴隨著前述二色性色素的作用,相較於以往的主客型(host-guest)偏光膜亦 即由向列型相的液晶狀態所構成之偏光膜,具有偏光性能高之優點。此外,相較於只塗布有二色性色素或溶致液晶者,亦具有強度優異之優點。
偏光膜的厚度可因應所利用的顯示裝置而適當選擇,較佳為0.5至10μm,更佳為1至5μm,又更佳為1至3μm。
偏光膜形成用組成物的塗膜較佳係形成於配向膜上。配向膜係使聚合性液晶化合物往所期望的方向進行液晶配向,且具有配向限制力者。配向膜係以具有不會因偏光膜形成用組成物所含之有機溶劑而溶解的溶劑耐性,而且在用以使溶劑去除或聚合性液晶化合物配向之加熱處理中具有耐熱性者為較佳。該配向膜可列舉:包含配向性聚合物的配向膜、從含有會因光而產生配向限制力之聚合物及溶劑之組成物中所形成的光配向膜、及於表面具有凹凸圖案或複數個溝之溝槽配向膜、往配向方向延伸之延伸膜等,從不容易產生静電或異物且作為光學膜的品質優異之觀點來看,較佳為光配向膜。
配向性聚合物可列舉於分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或膠質類、屬於在分子內具有醯亞胺鍵的聚醯亞胺及其水解物之聚醯胺酸(polyamic acid)、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚噁唑、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類。其中,較佳為聚乙烯醇。配向性聚合物可單獨使用或組合2種以上使用。
含有配向性聚合物的配向膜通常係將配向性聚合物溶解於溶劑而成之組成物(以下有時稱為「配向性聚合物組成物」)塗布於基材並將溶劑去除而得到,或是將配向性聚合物組成物塗布於基材,並將溶劑去除、並加以摩擦(摩擦法)而得者。溶劑可列舉出與先前在偏光膜形成用組成物所能夠使用的有機溶劑中之列舉為相同者。
配向性聚合物組成物中之配向性聚合物的濃度只要在能夠使配向性聚合物材料完全溶解於溶劑之範圍內即可,但相對於溶液,以固體成分換算計較佳為0.1至20%,更佳為0.1至10%左右。
配向性聚合物組成物可直接使用市售的配向膜材料。市售的配向膜材料可列舉Sunever(註冊商標,日產化學工業(股)製)、Optomer(註冊商標,JSR(股)製)等。
將配向性聚合物組成物塗布於基材的方法可列舉出與將偏光膜形成用組成物塗布於基材的方法中舉例為相同者。
將配向性聚合物組成物所含之溶劑去除之方法可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
為了對配向膜賦予配向限制力,可視需要進行摩擦處理(摩擦法)。
藉由摩擦法賦予配向限制力之方法可列舉:使捲繞有摩擦布且旋轉中的摩擦滾輪,與將配向性聚合物組成物塗布於基材並進行退火而形成於基材表面之配向性聚合物的膜接觸之方法。
光配向膜通常係藉由將具光反應性基且含有會因光而產生配向限制力之聚合物或單體及溶劑之組成物(以下稱為「光配向膜形成用組成物」)塗布於基材等膜上而形成塗膜後,從所得之塗膜將溶劑乾燥去除,接著對所得之乾燥塗膜照射偏光紫外線而形成。光配向膜就可藉由選擇要照射的偏光紫外線的偏光方向而任意控制配向限制力的方向之點為更佳。
所謂光反應性基係指會因光照射而產生液晶配向能之基。具體而言,可列舉參與了會因光照射而產生的分子的配向誘導或異構化反應、二聚反應、光交聯反應或光分解反應等成為液晶配向能的來源的光反應之基。其中,參與二聚反應或光交聯反應的基,就配向性優異之點而言為較 佳。光反應性基較佳為具有不飽和鍵特別是雙鍵的基,特佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成的群組中之至少1種之基。
具有C=C鍵的光反應性基可列舉乙烯基、多烯基、二苯乙烯基、苯乙烯基吡啶基、苯乙烯基吡啶鎓基、查耳酮基及桂皮醯基等。具有C=N鍵的光反應性基可列舉具有芳香族希夫鹼、芳香族腙等結構之基。具有N=N鍵的光反應性基可列舉偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基、甲基(formazan group)、及具有氧偶氮苯結構的基等。具有C=O鍵的光反應性基可列舉二苯基甲酮基、香豆素基、蒽醌基及馬來醯亞胺基等。該等基可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羥基、磺酸基、鹵烷基等取代基。
其中,較佳為參與光二聚反應之光反應性基,從光配向所需的偏光照射量較少且容易得到熱安定性或經時安定性優異之光配向膜之點來看,較佳為桂皮醯基及查耳酮基。具有光反應性基的聚合物特佳為該聚合物側鏈的末端部具有如桂皮酸結構之桂皮醯基者。
藉由將光配向膜形成用組成物塗布於基材上,可於基材上形成光配向誘導層。該組成物所含之溶劑可列舉出與先前在偏光膜形成用組成物所能夠使用的有機溶劑中列舉為相同者,可因應具有光反應性基的聚合物或單體的溶解性而適當選擇。
光配向膜形成用組成物中之具有光反應性基的聚合物或單體的含量可配合聚合物或單體的種類或目標光配向膜的厚度而適當決定,但相對於光配向膜形成用組成物的總質量,較佳至少設為0.2質量%,更佳為0.3至10質量%的範圍。在不明顯損及光配向膜的特性之範圍內,光配向膜形成用組成物可含有聚乙烯醇或聚醯亞胺等高分子材料或光敏劑。
將光配向膜形成用組成物塗布於基材的方法可列舉與將配向性組成物塗布於基材的方法為同樣的方法。從經塗布的光配向膜形成用組成物中將溶劑去除之方法可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。
將溶劑乾燥去除時之溫度可因應所使用的溶劑的種類或其量等而適當決定,但通常為30至150℃,較佳為60至130℃。乾燥去除時之時間通常為0.1至10分鐘,較佳為0.5至5分鐘。
要照射偏光時,可採用對於從塗布於基板上之光配向膜形成用組成物去除溶劑後者照射偏光紫外線之形式,或從基材側照射偏光紫外線,使偏光紫外線穿透而照射之形式。該偏光紫外線以實質上為平行光者為特佳。照射的偏光紫外線的波長宜為能夠使具有光反應性基的聚合物或單體之光反應性基吸收光能之波長區域者。具體而言,特佳為波長250至400nm的範圍之紫外線。用於該偏光照射的光源可列舉氙燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等紫外光雷射等,更佳為高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈。該等之中,高壓水銀燈、超高壓水銀燈及金屬鹵化物燈因為在波長313nm的紫外線的發光強度較大,因而較佳。藉由通過適當的偏光片而照射來自前述光源的光,可照射出偏光紫外線。該偏光片可使用偏光過濾器或格蘭-湯姆森(Glan-Thompson)、格蘭-泰勒(Glan-Taylor)等的偏光稜鏡或線柵式的偏光片。
此外,進行摩擦或偏光照射時,若進行遮蔽,則亦可形成液晶配向的方向相異之複數個區域(圖案)。
溝槽(groove)配向膜係於膜表面具有凹凸圖案或複數個溝槽(溝)之膜。在具有等間隔排列之複數個直線狀的溝槽之膜塗布聚合性液晶化合物時,液晶分子係往沿著其溝的方向進行配向。
得到溝槽配向膜之方法可列舉:在感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖案形狀的狹縫之曝光用遮罩曝光後,進行顯像及沖洗處理而形成凹凸圖案之方法;於表面具有溝之板狀原盤形成硬化前的UV硬化樹脂之層,將所形成的樹脂層移至基材後予以硬化之方法;及在形成於基材之硬化前的UV硬化樹脂的膜按壓具有複數個溝之滾輪狀的原盤而形成凹凸,隨後進行硬化之方法等。
配向膜(含有配向性聚合物的配向膜或光配向膜)的厚度通常為10至10000nm的範圍,較佳為10至1000nm的範圍,更佳為500nm以下,又更佳為10至200nm,特佳為50至150nm的範圍。
從顯示裝置的彎曲性或視覺辨認性之觀點來看,本發明之偏光板的厚度較佳為10至300μm,更佳為20至200μm,又更佳為25至100μm。
由於本發明之偏光膜及偏光板的偏光性能優異,因此可較佳使用於各種顯示裝置。所謂顯示裝置係具有顯示機構的裝置,且包含發光元件或發光裝置作為發光源。顯示裝置可列舉液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電子發射顯示裝置(電場發射顯示裝置(FED等)、表面電場發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用電子印墨或電泳元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(柵狀光閥(GLV)顯示裝置、具有數位微鏡裝置(DMD)的顯示裝置等)及壓電陶瓷顯示器等,尤其以有機EL顯示裝置及觸控面板顯示裝置為較佳、特佳為有機EL顯示裝置。藉由將本發明之偏光板隔著黏著劑或接著劑而貼合於顯示裝置的表面,可得到包含本發明之偏光板的顯示裝置。
(實施例)
以下藉由實施例來更詳細說明本發明。例中的「%」及「份」只要沒有特別註記,均為質量%及質量份。
<光配向膜形成用組成物的調製>
將日本特開2013-033249號公報記載之下述成分混合,將所得之混合物在80℃攪拌1小時,藉此得到光配向膜形成用組成物。
‧光配向性聚合物:
2份
‧溶劑:
鄰二甲苯 98份
<光配向膜基材的調製>
使用100mm×100mm的三乙酸纖維素膜(KC8UX2M,Konica Minolta(股)製)作為基材,在膜表面施行電暈處理後,塗布上述光配向膜形成用組成物並在120℃乾燥而得到乾燥覆膜。在該乾燥覆膜上照射偏光UV而形成光配向膜,得到附光配向膜的膜。偏光UV處理係使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7;Ushio電機股份有限公司製),並以在波長365nm測定的強度為100mJ之條件進行。依如此方式製備附光配向膜的膜。
<偏光膜形成用組成物的調製>
1.比較例1
將下述成分混合並在80℃攪拌1小時,藉此得到偏光膜形成用組成物(1)。二色性色素係使用日本特開2013-101328號公報之實施例所述之偶氮色素。
‧聚合性液晶化合物(混合物):
‧二色性色素:
‧聚合起始劑:
2-二甲基胺基-2-苯甲基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure369;Ciba Specialty Chemical(股)製) 6份
‧調平劑:
聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N;BYK-Chemie公司製) 1.2份
‧溶劑:
甲苯 400份
<相轉移溫度的測定>
(1)配向膜的形成
依照以下的方法測定偏光膜形成用組成物(1)中之聚合性液晶化合物的相轉移溫度。於玻璃基材上藉由旋轉塗布法塗布聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型,和光純藥工業股份有限公司製)的2質量%水溶液,於乾燥後形成厚度100nm的膜。接著藉由對所得之膜的表面施行摩擦處理而形成配向膜。摩擦處理係使用半自動摩擦裝置(商品名:LQ-008型,常陽工學股份有限公司製),利用布(商品名:YA-20-RW,吉川化工股份有限公司製)以擠壓量0.15mm、旋轉數500rpm、16.7mm/s的條件進行。
(2)相轉移溫度的測定
將聚合性液晶化合物(4-6)75質量份,聚合性液晶化合物(4-8)25質量份添加於氯仿400質量份並於80℃攪拌1小時,藉此得到均勻混合之混合組成物。藉由旋轉塗布法將所得之組成物塗布於前述附配向膜之玻璃基材上,並於130℃之加熱板上加熱乾燥3分鐘,藉此去除作為溶劑之氯仿。隨後,將所得之塗布膜迅速冷卻至室溫,得到聚合性液晶化合物的乾燥覆膜。將該乾燥覆膜於加熱板上再次昇溫至130℃後,以5℃/分鐘的速度降溫至23℃時,以偏光顯微鏡進行觀察,藉此測定相轉移溫度。結果確認到在111.6℃相轉移成向列型液晶相,在109.2℃相轉移成層列型A相,在93.9℃相轉移成層列型B相,直到成為23℃為止維持層列型B相。於上述過程中確認到等向性相轉移溫度為111.6℃。
<偏光膜的製作方法>
(1)光配向膜的形成
使用三乙酸纖維素膜(KC8UX2M,Konica Minolta(股)製)作為基材,並於膜表面施行電暈處理後,塗布上述光配向膜形成用組成物,在120℃乾燥而得到乾燥覆膜。於該乾燥覆膜上照射偏光UV以進行光配向膜形成而得到附光配向膜之膜。偏光UV處理係使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7;Ushio電機股份有限公司製),並以在波長365nm測定的強度為100mJ之條件進行。
(2)偏光膜的形成
於上述得到之附光配向膜之膜上,藉由棒式塗布法(#9 30mm/s)塗布偏光膜形成用組成物(1)。將經塗布的膜在23℃室溫静置30秒後,在120℃的乾燥烘箱加熱乾燥1分鐘,藉此將溶劑充分去除,同時使聚合性液晶化合物相轉移成等向性液晶相後,冷卻至室溫以使該聚合性液晶化合物相轉移成層列型液晶狀態。其次,使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7;Ushio電機股份有限公司製),對由偏光膜形成用組成物所形成之層照射曝光量1000mJ/cm2(365nm基準)的紫外線,藉此在保持前述聚合性液晶化合物的層列型液晶狀態的情況下使該乾燥覆膜所含之聚合性液晶化合物聚合,從該乾燥覆膜形成偏光膜(1)。該偏光膜(1)的膜厚以雷射顯微鏡(Olympus股份有限公司製OLS3000)進行測定,為2.3μm。如此得到含有偏光膜及基材之偏光片(偏光膜積層體)。對該偏光膜(1)使用X射線繞射裝置X’Pert PRO MPD(Spectris股份有限公司製)同樣地進行X射線繞射測定,結果於2θ=20.2°附近得到峰值半寬度(FWHM)=約0.17°之明顯的繞射峰值(布勒格尖峰)。又,來自摩擦垂直方向的入射也得到同等的結果。從峰值位置求得的秩序周期(d)為約4.4Å,確認到反映高階層列型相的結構之形成。
<壞點的評估>
將依如此方式所得之偏光膜(1)以200倍的顯微鏡進行穿透觀察,於整面觀察到約200至800μm左右之圓狀脫色。又,在200倍的偏光顯微鏡正交偏光下以使偏光膜的吸收軸(分子配向方向)成為45°之方式觀察下產生漏光,因此確認到聚合性液晶化合物本身已配向。依上述觀察結果,確認到在液晶區域中產生未包裹二色性色素的區域(壞點)。
<壞點評估基準>
○:以目視未得到確認,在上述顯微鏡觀察中也未得到確認。
△:雖然以目視未得到確認,但在上述顯微鏡觀察中得到確認。
×:以目視得到確認,在上述顯微鏡觀察也得到確認。
<偏光度Py、單體穿透率Ty的測定>
依以下方式測定比較例1的偏光膜積層體之偏光度Py及單體穿透率Ty。在波長380nm至780nm的範圍使用已於分光光度計(島津製作所股份有限公司製UV-3150)設置附偏光片之支架的裝置以雙光束法測定穿透軸方向的穿透率(Ta1)及吸收軸方向的穿透率(Tb2)。於該支架的基準側設置光量阻隔50%的篩網。
使用下述式(式1)及(式2)算出在各波長之單體穿透率、偏光度,並且藉由JIS Z 8701的2度視角(C光源)進行發光因數校正,算出發光因數校正單體穿透率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。結果,顯示Ty=42.5%、Py=97.6%之經高度配向之源自層列型液晶的高性能(該值以吸收二色性比相當於48)。
單體穿透率Ty(%)=(Ta1+Tb2)/2 (式1)
偏光度Py(%)=(Ta1-Tb2)/(Ta1+Tb2)×100 (式2)
2.比較例2至5、實施例1至16
除了將溶劑變更為表1所示之組成以外,其餘以與比較例1同樣的方式製作偏光膜形成用組成物(2)至(21),並以與比較例1同樣的方式製作偏光膜(2)至(21)。將所得之偏光膜的壞點、偏光度Py及單體穿透率Ty以與比較例1同樣的方式測定。評估結果表示於表2。
3.實施例17
除了將聚合性液晶化合物變更為以下的聚合性液晶化合物以外,其餘以與比較例1同樣的方式製作偏光膜形成用組成物(22),並以與比較例1同樣的方式製作偏光膜(22)。此外,以與比較例1同樣的方式測定實施例17所使用的聚合性液晶化合物的相轉移溫度,確認到在105.6℃相轉移成向列型液晶相,在102.1℃相轉移成層列型A相,在85.4℃相轉移成層列型B相,直到成為23℃為止維持層列型B相。於上述過程中,確認到等向性相轉移溫度為105.6℃。對所得之偏光膜的壞點、偏光度Py及單體穿透率Ty以與比較例1同樣的方式進行測定。評估結果表示於表2。
4.參考例
除了將聚合性液晶化合物變更為屬於向列型液晶之Pario Color LC242(BASF公司製)以外,其餘以與比較例1同樣的方式製作偏光膜形成用組成物(23),並以與比較例1同樣的方式製作偏光膜(23)。對於所得之偏光膜的壞點、偏光度Py及單體穿透率Ty以與比較例1同樣的方式進行測定。此外,LC242的等向性相轉移溫度為118.0℃。評估結果表示於表2。
藉由本發明可知,由偏光膜形成用組成物所形成的偏光膜係無壞點且偏光性能高者,該偏光膜形成用組成物含有:沸點比聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出-20℃以上50℃以下的有機溶劑A,以及沸點比聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃的有機溶劑B。

Claims (14)

  1. 一種偏光膜形成用組成物,其含有顯示層列型液晶性的聚合性液晶化合物、二色性色素及至少2種有機溶劑,其中,前述有機溶劑含有:沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出-20℃以上50℃以下的有機溶劑A、及沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃的有機溶劑B。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光膜形成用組成物,其中,相對於偏光膜形成用組成物所含之全有機溶劑100質量份,有機溶劑A的含量為51至99質量份,有機溶劑B的含量為1至49質量份。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光膜形成用組成物,其中,有機溶劑A的沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出0℃以上50℃以下,有機溶劑B的沸點比前述聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度高出超過50℃且在150℃以下。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光膜形成用組成物,更含有聚合起始劑。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之偏光膜形成用組成物,其中,有機溶劑A為酮系溶劑或芳香族系溶劑。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之偏光膜形成用組成物,其中,有機溶劑B係由二醇系溶劑、酮系溶劑及醯胺系溶劑所組成的群組選出者。
  7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之偏光膜形成用組成物,其中,偏光膜形成用組成物的固體成分為5至40質量%。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之偏光膜形成用組成物,其中,前述固體成分中之聚合性液晶化合物的比率為40至99.9質量%。
  9. 如申請專利範圍第7或8項所述之偏光膜形成用組成物,其中,前述固體成分中之二色性色素的比率為1至20質量%。
  10. 一種偏光膜,係申請專利範圍第1至9項中任一項所述之偏光膜形成用組成物的硬化物,且聚合性液晶化合物及/或其聚合物以層列型液晶狀態配向者。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之偏光膜,係在X射線繞射測定中得到布勒格尖峰者。
  12. 一種偏光板,係具備申請專利範圍第10或11項所述之偏光膜、基材及配向膜而成者。
  13. 一種偏光板之製造方法,其包含下列步驟:形成申請專利範圍第1至9項中任一項所述之偏光膜形成用組成物的塗膜;將前述塗膜加熱乾燥至前述偏光膜形成用組成物所含之聚合性液晶化合物的等向性相轉移溫度以上後進行降溫,使該聚合性液晶化合物相轉移成層列型液晶相;以及在保持前述層列型液晶相的狀態下使聚合性液晶化合物聚合而形成偏光膜。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之偏光板之製造方法,係將偏光膜形成用組成物的塗膜形成於光配向膜上,且前述光配向膜係藉由包含下列步驟之方法而形成: 從含有會因光而產生配向限制力的聚合物或單體及溶劑之組成物形成塗膜;從前述塗膜將溶劑乾燥去除而得到乾燥塗膜;以及對前述乾燥塗膜照射偏光紫外線。
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