TW201221992A - Method for manufacturing optical film - Google Patents

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TW201221992A TW100133619A TW100133619A TW201221992A TW 201221992 A TW201221992 A TW 201221992A TW 100133619 A TW100133619 A TW 100133619A TW 100133619 A TW100133619 A TW 100133619A TW 201221992 A TW201221992 A TW 201221992A
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Akinori Nishimura
Tomohito Takita
Kozo Nakamura
Hiroyuki Takemoto
Takehito Fuchida
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Nitto Denko Corp
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Description

201221992 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種光學膜之製造方法。 【先前技術】 為了提高液晶顯示裝置之顯示品質,改善視角特性,目 前利用光擴散元件等光學膜。光擴散元件例如具備表現光 擴散之光擴散膜、及為防止由反射外部光引起之對比度降 低或映入影像之抗光反射層,且配置於液晶顯示裴置之前 表面。 於液晶顯示裝置中,若光學膜之膜厚不均一,則會使光 學特性之面内均一性(光學均一性)降低。作為使膜厚均一 化之技術,已知於光學膜之塗敷形成中使用調平劑使光學 膜之膜厚成為均一(例如專利文獻1)。但是,如上述擴散元 件般’於為多層構造之光學膜之情形時,由於層界面存在 調平劑使層間之密接性變差’而無法獲得充分之耐擦傷 性。此種耐擦傷性不充分之情況尤其對於如上述般配置於 液晶顯示裝置之前板之光學膜而言,於實際應用方面成為 問題。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]曰本專利特開2002-361 769號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 本發明係為了解決上述先前之問題而成者,#目的在於 I58831.doc 201221992 提供一種光學均一性及耐擦傷性優異之至少為2層構造之 光學膜之製造方法。 [解決問題之技術手段] 本發明之製造方法包括於基材臈之一面上塗敷含有不具 有反應性基之氟系調平劑之第1塗敷液而形成第i功能層之 第1塗敷步驟、及於該第i功能層之表面塗敷第2塗敷液而 形成第2功能層之第2塗敷步驟,並且該氟系調平劑於塗佈 該第2塗敷液時偏向存在於該第丨功能層表面,於塗佈該第 2塗敷液後溶出至該第2塗敷液中,而偏向存在於所形成之 第2功能層表面。 於較佳實施形態中,上述氟系調平劑含有選自由下述通 式⑴所表示之構成單元、下述通式(11)所表示之構成單元 及下述通式(III)所表示之構成單元所組成之群中之至少i 種構成單元, [化1] f0 -邙士 · ( I ) -^-〇-CF2—cf2-^- · ( Π ) ~'0 —CFj—-〇- . ( ΠΙ ) 通式(I)中,m為1〜10之整數,通式(ΙΙ)中,η為2〜1〇之整 數。 於較佳實施形態中,上述氟系調平劑之含量相對於上述 第1塗敷液中之全部固形物成分為0 05重量%〜3重量%。 158831.doc 201221992 於較佳實施形態中’上述第1功能層為光擴散層。 於較佳實施形態中’上述第2功能層為抗反射層。 於較佳實施形態中’上述光擴散層具有基質與分散至該 基質中之光擴散性微粒子’於該基質與該光擴散性微粒子 之界面或其附近形成有折射率實際上連續地變化之折射率 調變區域,且滿足下述式(3)及(4), Δη^ 〇.1〇 ... (3) 0.0006^ Δη/L^ 0.01 · · · (4) 此處,Δη為基質之平均折射率nM與光擴散性微粒子之折射 率nP之差之絕對值|nM-nP| ’ L為折射率調變區域之平均厚 度。 於較佳實施形態中,nM>nP。 於較佳實施形態中,上述光擴散層滿足式(5), 0.01 ^ L/rP^ 1.0 · · · (5) 此處’ rP為上述光擴散性微粒子之半徑。 於較佳實施形態中,上述基質含有樹脂成分及超微粒子 成分,上述折射率調變區域係由該基質中之該超微粒子成 分之分散濃度之實質性梯度所形成。 於較佳實施形態中,上述光擴散層滿足式(丨), ΙηΡ'ηΑ|<|ηρ-ηΒ| · · · (1) 此處,nA表示基質之樹脂成分之折射率,nB表示基質之超 微粒子成分之折射率。 [發明之效果] 本發明之製造方法包括塗敷含有氟系調平劑之第丨塗佈 158831,doc 201221992 液而形成第!功能層之第以敷步驟、及於p功能層表面 塗敷第2塗佈液而形成第2功能層之第2塗敷㈣。本發明 之製造方法情使用之氟系調平劑於塗佈第2塗敷液時偏 向存在於第1功能層表面,於涂仗货1 & π田於堂佈第2塗敷液後溶出至第2 塗敷液中,而偏向存在於所形志夕笙 Π仏圾之第2功能層表面。藉由 上述製造方法而獲得之光學膜於本風仏 t 联於九予均一性及耐擦傷性方 面優異。 【實施方式】 A.第1塗敷步驟 本發明之製造方法之第丨塗敷步驟係於基材膜之一面上 塗敷包含Μ調平敎^塗敷液㈣成第h力能層。第( 塗敷步驟包含於基材膜之__面上塗佈該第i塗敷液,及使 形成於基材膜之第1塗敷液之塗佈膜乾燥。第❹ 可為表現光擴散功能之光擴散層。 上述第1塗敷液較佳為包含樹脂成分或其前驅體。又, 於上述第1功能層為光擴散層之情形時,第i塗敷液較佳為 ::基質形成材料及光擴散性微粒子,該基質形成材料包 含樹脂成分或其前驅體及超微粒子成分。 較有代表性為,上述第丨塗敷液係於樹脂成分之前驅體 及揮發性溶劑中’使氟系調平劑、超微粒子成分及光擴散 性微粒子分散而成之分散體。作為使超微粒子成分及光擴 :生微粒子为散之手段,可採用任意適當之手段(例如超 曰波處理、藉由攪拌機之分散處理)。 上述氟系調平劑不含有反應性基。若使用不具有反應性 I58331.doc 201221992 基之氟系調平劑,則因不與第1塗敷液中之樹脂成分發生 鍵結,故於下述第2塗敷步驟中,容易於第2塗敷液中溶 出。 上述氟系調平劑於第1塗敷步驟中,於塗佈上述第1塗敷 液而形成之塗佈膜表面偏向存在。若使用此種氟系調平 劑,則於第1塗敷步驟之乾燥時,成為氟系調平劑之薄層 覆蓋塗佈膜表面之狀態。此種狀態之塗佈膜之表面張力較 低,且,乾燥時之塗敷液之溶劑蒸發速度較慢。因此,可 減小主要由於乾燥時之加熱不均(例如烘箱内之熱不均、 由於輸送膜而產生之風(伴隨流)之接觸不均)而產生之塗佈 膜中之表面張力差’抑制塗佈膜内之熱對流之產生。其結 果為,經此種乾燥而獲得之第i功能層之厚度精度優異, 光學均一性優異。 作為可如此偏向存在之氟系調平劑,例如可列舉··包含 選自由由下述通式⑴所表示之構成單元、由下述通式⑻ 所表示之構成單元及由下述通式(m)所表示之構成單元所 成之群中之至少1種之構成單元的氟系調平劑。 [化2] *0~~CF2~^· -0-CF2-CF2~j-_ Ό-CF2·—Ο— 於通式(I)中 · ( m ) m較佳為丨〜10之整數 進而較佳為2〜8之 158831.doc 201221992 整數。於通式(II)_,η較佳為2〜1〇之整數,進而較佳為 4〜8之整數。 由上述通式(I)、(II)及(III)所表示之構成單元之合計含 有比例相對於構成上述氣系調平劑之構成單元之總量,較 佳為10 mol%~i〇0 m〇i%,進而較佳為2〇 m〇1%〜7〇 m〇】%。 較佳為上述氟系調平劑含有至少一個由上述通式(ι⑴所 表不之構成單元。若使用包含含有此種構成單元之氟系調 平劑之第1塗敷液,則於塗佈該塗敷液而形成之塗佈膜 中,氟系調平劑之移動變快,可高效地使氟系調平劑於該 塗佈膜表面偏向存在。 上述氟系調平劑所具有之醚鍵結之數較佳為2以上,進 而較佳為4〜30,尤佳為6〜20。上述氟系調平劑由於含有較 多之醚鍵結’可撓性較高。 上述氟調平劑之分子量較佳為5〇〜2〇〇〇,進而較佳為 100〜1500。若為此種範圍,則可使較多之氟系調平劑於上 述第1功能層之表面偏向存在。 氟系調平劑之調配量相對於第丨塗敷液中之全部固形物 成分,較佳為0.05重量%〜3重量。/。,更佳為〇」重量%〜2 5 重I /。,進而較佳為0 2重量。〜1. 〇重量% ,尤佳為〇 3重量 %〜0.8重量%。 上述樹脂成分可由任意適當之樹脂構成。較佳為由有機 化合物構成,更佳為由離子射線硬化型樹脂構成。離子射 線硬化型樹脂因塗膜之硬度優異,故可形成機械強度優異 之第1功能層。作為離子射線,例如可列舉紫外線、可視 158831.doc 201221992 光、紅外線、電子束。較佳為紫外線,因此,樹脂成分尤 佳為由紫外線硬化型樹脂構成。作為紫外線硬化型樹脂, 例如可列舉丙烯酸酯樹脂(環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸 酯、丙烯酸丙烯酸酯、醚丙烯酸酯)等自自由基聚合型單 體或者养聚物而形成之樹脂。構成丙浠酸酯樹脂之單體成 分(前軀體)之分子量較佳為200〜700 〇作為構成丙烯酸酯 樹脂之單體成分(前驅體)之具體例,可列舉季戊四醇三丙 烯酸酯(PETA(pentaerythritol triacrylate):分子量298)、新 戊二醇二丙烯酸酯(NPGDA(ne〇pentyl glyc〇l diacrylMe): 刀子里2i2)、二季戊四醇六丙烯酸酯(dpha (chpentaerythritol hexaacrylate):分子量 632)、二季戊四醇 五丙烯酸醋(DPPA(Dipentaerythrit〇l pentaacryiate) ··分子 量578)、二羥甲基丙烷三丙烯酸酯(tmpta (tnmethylpropane tHaeryiate):分子量 296)。視需要亦可 於前驅體中添加添加起始劑。作為起始劑,例如可列舉 UV自由基產生劑(BASF JaPan公司製造Irgacure 9〇7、同 127、同192等)、過氧化苯曱醯基。上述樹脂成分亦可於 ^述離子射線硬化型樹脂以外包含其他樹脂成分。其他樹 脂成分可為離子射線硬化型樹脂,亦可為熱硬化性樹脂, 亦可為熱可塑性樹脂。作為其他樹腊成分之代表例,可列 舉脂肪族系(例如聚烯烴)樹脂、聚胺酯系樹脂。 於上述第1功能層為光擴散層之情形時,第卜力能層較佳 為含有基質、及分散至該基以之光擴散性微粒子。 光擴散層係藉由基質與光擴散性微粒子之折射率差而表現 I58831.doc 201221992 光擴散功能。較佳為於上述光擴散層中於基質與光擴散性 微粒子之界面附近形成有折射率調變區域。於折射率調變 區域中,折射率實際上連續地變化。本專利說明壹中「折 射率實際上連續地變化」係指於折射率調變區域;只要至 少自光擴散性微粒子表面至折射率固定區域,折射率實際 上連續地變化即可。根據本發明可獲得之具有光擴散Μ 為第!功能層之光學膜之詳細内容於下述Β項進行說明。 形成上述基質之材料(基質形成材料)包含上述樹脂成分 或其前驅體、及超微粒子成分。 上述基質形成材料中’上述樹脂成分之調配量相對於基 質⑽重量份,較佳為Η)重量份〜8G重量份,更佳為2〇重量 份〜65重量份。 上述基質之樹脂成分及超微粒子成分及光擴散性微粒子 之構成材料,以及化學性及熱力學性特性可選自能夠形成 上述折射率調變區域之範圍。例如,藉由以同.系之材料 (例如有機化合物彼此)構成樹脂成分及光擴散性微粒子, 以與樹脂成分及光擴散性微粒子不同系之材料(例如I機 化合物)構成超微粒子成分,可較好地形成折射率調變區 域。進而,較佳為例如以同系材料之中相溶性較高之材料 彼此構成樹脂成分及光擴散性微粒子。折射率調變區域之 厚度及折射率梯度可藉由調整基質之樹脂成分及超微粒子 成分以及光擴散性微粒子之化學性及熱力學性特性而進行 控制。再者,於本專利說明書中「同系」係指化學構造或 特性相同或類似’厂不同系」係指除同系以外者。是否為 I5883l.doc 10· 201221992 根據選擇基準$ 為基準之情形時,有機Μ ^ ϋ如以有機或無機 化“勿與無機化合物為不同系之化合:機 單位為基準之情形時,例如丙稀酸系聚合物== 物雖然同為有機化人⑽,θ 初興%氧系聚合 2有機化.物,但屬不同系之化合物;以 >之月形時,鹼金屬與過度金屬雖然 但屬不同系之元素。 勹”、、機兀素, 上述超微粒子成分如上述般,較佳為由與上述樹脂成分 由::之先擴散性微粒子不同系之化合物所構成,更佳: 煩、機化合物構成。作為較佳之無機化合物,例如可列舉 化物、金屬氟化物。作為金屬氧化物之具體例,可 •.)、氧化鈦(折射率:2.49〜2.74)、氧化石夕(折射 聲作為金屬氣化物之具體例,可列舉氣化 ZH^37)、氣化W折射率:1·40〜叫。該等金 物及金屬氟化物因吸收光較少,並且具有離 :化=或熱可塑性樹脂等有機化合物不易表現之折射 ,故藉由超微粒子成分之重量濃度伴隨 性微粒子之界面而相料料古、㈣散 #面而相對以’可較大幅度地調變折射率。 藉由使光擴散性微粒子與基質之折射率差變大,即使係薄 =可實現高擴散,且,因形成有折射率調變區域,故防 止背向散射之效果亦較大。尤佳之無機化合物為氧化許。 =超微粒子成分之平均一次粒徑較佳為小於折射率調 變£域之平均厚度L。更具體而言,平均一次粒徑相對於 158831.doc 201221992 平均厚度乙,較佳為"5〇〜1/2,更佳為1/25〜1/3。平均一次 粒佐相對於平均厚度L若超過i/s,則有折射率調變區域之 折射率變化無法形成為實際上連續之情況。於未達1/5〇之 清形時,有折射率調變區域之形成變得困難之情況。上述 平均一次粒徑較佳為1 nm〜100更佳為! nm〜5〇 nm。 成r'可二次凝集’該情形時之平均粒徑(凝集 =粒徑)較佳為1〇 nm〜1〇〇 nm,更佳為nm〜8〇 如此,稭由使用平均粒徑小於光之波長之超微粒子成 可使超微粒子成分與樹脂成分之間不發生幾何光學性 反射 '折射、散射’可獲得光學性均—之基f。其結果, 可獲得光學性均一之光擴散層。 較佳為上述超微粒子成分係經表面改質。藉由進行表面 改質’可使超微粒子成分較好地於樹脂成分中分散,且, 可較好地形成上述折射率調變區域。作為表面改質之手 段,可採用能夠獲得本發明之效果之任意適當之手段。較 有代表性為,表面改質係藉由於超微粒子成分之表面塗佈 表面改質劑而形成表面改質劑層來進行。作為較佳之表面 改質劑之具體例,可列舉石夕院系偶合劑、鈦酸醋系偶合劑 等偶合劑,脂肪酸系界面活性劑等界面活性劑。藉由使用 此種表面改質劑’可使樹脂成分與超微粒子成分之潤渴性 提^使樹脂成分與超微粒子成分之界面變得穩定,使超 微粒子成分較好地於樹脂成分中分散,且,可較好地形成 折射率調變區域。 上述超微粒子成分之調配量相對於基質ι〇〇重量份,較 158831.doc -12- 201221992 佳為15重量份〜80重量份’進而較佳為2〇重量份〜7〇重量 份。 上述光擴散性微粒子可由任意適當之材料而構成。上述 折射率調變區域較佳為由可較好地形成之材料構成,如上 述般,光擴散性微粒子係由與上述基質之樹脂成分同系之 ' 化合物構成。例如,於構成基質之樹脂成分之離子射線硬 化型樹脂為丙烯酸酯系樹脂之情形時,較佳為光擴散性微 粒子亦由丙烯酸酯系樹脂構成。更具體而言,於構成基質 之樹脂成分之丙烯酸酯系樹脂之單體成分為例如上述的 PETA、NPGDA、DPHA、DPPA及 / 或 TMPTA之情形時,構 成光擴散性微粒子之丙烯酸酯系樹脂較佳為聚甲基丙烯酸 曱酯(PMMA,p〇lymethyl methacrylate)、聚丙烯酸甲酯 (PMA,p〇ly(methyi acryiate))、該等之共聚物、及該等之 交聯物。作為PMMA及PMA之共聚成分,可列舉聚胺酯、 聚苯乙稀(PSt ’ p〇lyStyrene)、三聚氰胺樹脂。尤佳為光擴 散性微粒子由PMMA構成。原因在於其與基質之樹脂成分 及超微粒子成分之折射率及熱力學性特性之關係較適合。 進而,較佳為光擴散性微粒子具有交聯構造(立體網狀結 構)。因藉由調整交聯構造之疏密(交聯度),可控制於光擴 ' 散性微粒子表面構成微粒子之聚合物分子之自由度,故可 控制超微粒子成分之分散狀態,作為結果可形成具有所需 之折射率梯度之折射率調變區域。例如,塗佈塗敷液之時 之光擴散性微粒子相對於樹脂成分前驅體(亦可包含溶劑) 之膨潤度較佳為100%〜200%。此處,所謂「膨潤度」係交 I58831.doc 13 201221992 聯度之指標,指膨潤狀態之粒子之平均粒徑相對於膨潤前 之粒子的平均粒徑之比率。 上述光擴散性微粒子之平均粒徑較佳為丨·〇 μηι〜5 〇 μιη,更佳為1.0 μηι〜4 〇 μηι。光擴散性微粒子之平均粒徑 較佳為光擴散層之厚度之1/2以下(例如I/]〜1/2〇) ^若為相 對於光擴散層之厚度具有此種比率之平均粒徑則可使光 擴散性微粒子於光擴散層之厚度方向複數配列,故可於入 射光通過光擴散層時使該光多重地擴散,其結果,可獲得 充分之光擴散性。 上述光擴散性微粒子之重量平均粒徑分佈之標準偏差較 佳為1.0 μηι以下,更佳為〇.5 μιη以下。若混有大量粒徑相 對於重量平均粒徑較小之光擴散性微粒子,則有擴散性過 強而無法較好地抑制背向散射之情況。若混有大量粒徑相 對於重量平均粒徑較大之光擴散性微粒子,則無法於光擴 散層之厚度方向複數配列’有時無法獲得多重擴散,其結 果’有光擴散性變得不充分之情況。 作為上述光擴散性微粒子之形狀,可根據目的採用任意 適當之形狀。作為具體例’可列舉細球狀、鱗片狀、板 狀、橢圓球狀或不定形。多數情形時,可使用細球狀微粒 子作為上述光擴散性微粒子。 上述光擴散性微粒子之調配量相對於基質i 〇〇重量份, 較佳為1 〇重量份〜丨00重量份’更佳為丨〇重量份〜4〇重量 份’進而較佳為1 〇重量份〜35重量份。藉由例如依此種調 配3:含有具有上述較佳範圍之平均粒徑之光擴散性微粒 158831.doc 14 201221992 子’可形成具有非常優異之光擴散性之光擴散層。 上述樹脂成分、超微粒子成分及光擴散性微粒子較有代 表性為滿足下述式(〗)·· |np-nA|<|np-nB| · · · (1) 式⑴中’ 表示基質之樹脂成分之折射率,ηΒ表示基質之 超微粒子成分之折射率,ηρ表示光擴散性微粒子之折射 率。進而,樹脂成分亦能夠滿足下述式(2): |ηΡ-ηΑ|<|ηΑ-ηΒ| · · · (2) 樹脂成分之折射率較佳為⑽〜⑽。超微粒子成分之折射 率較佳為1.40以下或丨.60以上,進而較佳為14〇以下或 1.70〜2·80,尤佳為丨.40以下或2〇〇〜28〇。若折射率超過 1.40或未達1·60,則光擴散性微粒子與基質之折射率差變 得不充分,當具有光擴散層之光學臈用於採用準直背光前 擴散(front diffusion)系統之液晶顯示裝置中之情形時有 自準直背光之光無法充分擴散而使視角狹窄之虞。光擴散 性微粒子之折射率較佳為1.30〜1.70,進而較佳為 1.40〜1.60。 作為上述揮發性溶劑,只要能使上述各成分溶解或均一 地刀散,則可採用任意適當之溶劑。作為揮發性溶劑之具 體例,可列舉乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丙酯、2_ 丁酮 (甲基乙基酮)、曱基異丁基酮、環戊酮、甲苯、異丙醇、 正丁醇、環戊坑或水。 上述第1塗敷液根據目的可進而含有任意適當之添加 劑°例如’為使超微粒子成分較好地分散,可較佳地使用 158831.doc 15 201221992 分散劑。作為添加劑之其他具體例,可列舉紫外線吸收 劑'消泡劑。 上述第1塗敷液之固形物成分濃度較佳為可調整至1〇重 量%〜70重量%左右。若為此種固形物成分濃度,則可獲得 具有塗敷容易之黏度之塗敷液。 於上述第1塗敷液中使用曱基乙基酮作為揮發性溶劑, 含有相對於第1塗敷液之總重量27.5重量%之氟系調平劑之 情形的表面張力較佳為1〇 mN/m〜32 mN/m,進而較佳為2〇 mN/m〜30 mN/m。若為此種範圍,則可減少主要由於乾燥 時加熱不均而產生之塗佈膜中之表面張力差,可抑制於塗 佈膜内產生之熱對流。其結果,經此種乾燥而獲得之光擴 散層厚度精度優異,面内亮度之均一性高。 作為上述基材膜’可採用任意適當之膜。作為具體例, 可列舉三乙酿纖維素(TAC ’ Triacetyl cellulose)膜、聚對 笨二曱酸乙二酯(PET,polyethylene terephthalate)膜、聚 丙烯(PP,polypropylene)膜、尼龍膜、丙烯酸膜、内酯改 性丙烯酸膜等。上述基材膜視需要亦可經易接著處理等表 面改質’亦可包含潤滑劑、抗靜電劑、紫外線吸收劑等添 加劑。 上述基材膜之厚度較佳為20 μηι〜80 μηι,進而較佳為3〇 μηι〜60 μηι 〇 上述基材膜較佳為透明。具體而言,上述基材膜之總透 光率較佳為80%以上,進而較佳為90%以上,尤佳為95% 以上。 158831.doc 201221992 作為上述第1塗敷液向基材膜之塗佈方法,可採用任音 適當之使用有塗佈機之方法心 承作為塗佈機之具體例,可列 舉棒式塗佈機、反向塗佈機、吻合式㈣機、凹版 機、擠壓式塗佈機、到刀式塗佈機。 作為上述第1塗敷液之乾燥方法,可採用任意適當之方 法。作為具體例’可列舉自然乾燥、加熱乾燥、減塵乾 燥。較佳為加熱乾燥。於上述第1功能層為光擴散層之情 形時,加熱溫度例如為6Gt〜15Gt,加熱時間例如為輝 〜5分鐘。 較佳為於上述第!塗敷步驟中,於上述塗佈之後進而包 含使上述前驅體聚合之操作。聚合方法可根據樹脂成分 (以及其前驅體)之種類採用任意適當之方法。例如,於樹 脂成分為離子射線硬化型樹脂之情形時,藉由照射離子射 線使前驅H聚合。使用紫外線作絲子射線之情形時,其 累計光量較佳為50 mJ/cmM _ mJ/cm2。離子射線相對於 光擴散性微粒子之穿透率較佳為7〇%以上,更佳為8〇%。 又例如,於樹脂成分為熱硬化型樹脂之情形時,藉由加熱 使前驅體聚合。力口熱溫度及加熱時間可根據樹脂成分之種 類而適當地設定。較佳為,聚合係藉由照射離子射線而進 行。若為照射離子射線,則因於上述第丨功能層為光擴散 層之情形時,較好地保持折射率調變區域原樣而使塗膜硬 化,故可形成較好擴散特性之光擴散層。藉由使前驅體聚 合’形成具有折射率調變區域與折射率固定區域之基質。 上述聚合可於上述乾燥之前進行,亦可於乾燥之後進 158831.doc •17- 201221992 行。 於上述第1塗敷步驟中,明顯的除上述塗佈、乾燥及聚 合以外,可於任意適當之時間點包含任意適當之步驟、處 理及/或操作。該種步驟等之種類及進行該種步驟等之時 間點可根據目的而適當地設定。 如此操作,藉由第1塗敷步驟形成第丨功能層。於上述第 1塗敷步驟後之^功能層中’於其表面’上述氣系調平劑 偏向存在。 B.第2塗敷步驟 本發明之製造方法之第2塗敷步驟係於藉由上述第】塗敷 步驟而形成之第1功能層之表面塗敷第2塗敷液而形成第2 功能層12塗敷步驟含有於上述第卜力能層上塗佈第㉔ 敷液之缸作’及使形成於第丨功能層上之第2塗敷液之塗佈 :乾燥之操作。於塗佈第2塗敷液之時,上述氟系調平劑 射^逑第!功能層表面偏向存在。第2功能層例如可為抗反 上述第2塗敷液較佳為包含任意適當之樹脂或其前驅 體:例如’於第2功能層為抗反射層之情料,上述第㉔ 液較佳為紫外線硬化型丙稀酸樹脂或其前驅體、或使膠 等“氧切等之無機微粒子分散於樹脂中之混合系材料 勺:述第2塗敷液較佳為包含揮發性溶劑。第2塗敷液中所 二與上述氟系調平劑親和性較高之 具體而吕,可列舉甲基異丁基酮(MIBK’methylis〇 158831 .doc 201221992 butyl ketone)等。若為此種揮發性溶劑,則於上述第丨塗敷 步驟後於第1功能層表面偏向存在之上述氟系調平劑容易 於第2塗敷液所包含之揮發性溶劑中溶出。 上述氟系調平劑係如上所述般’於第2塗敷液中所包含 之揮發性溶劑中溶出,自第1功能層向第2塗敷液中移動。 根據本發明之製造方法,因如上述之氟系調平劑不含有反 應性基’故可谷易地向第2塗敷液移動。又,藉由如上述 般使用與上述氟系調平劑之親和性較高之溶劑作為第2塗 敷液中所包含之揮發性溶劑,使氟系調平劑向第2塗敷液 之移動變得更容易。根據本發明之製造方法,藉由氣系調 平劑如此移動,該氟系調平劑可有利於第丨功能層之厚度 之均一化,亦能夠有利於第2功能層之厚度之均一化。 即,可實現較尚之光學均一性。進而,根據本發明之製造 方法而獲得之光學膜因第丨功能層與第2功能層的界面之氟 系調平劑之存在量較少,故耐擦傷性優異。 上述氟系調平劑如上述般向第2塗敷液移動,進而,於 塗佈第2塗敷液而形成之塗佈膜表面偏向存在。若如此偏 向存在,則藉由與於上述A項中說明之作用相同之作用, 獲得厚度精度優異之第2功能層。又,根據本發明之製造 法而獲得之光學《於第2魏層表面巾I㈣平劑為偏 向存在,故耐擦傷性優異。 上述第2塗敷液根據目的亦可進而含有任意適當之添加 劑。例如,為較好地使超微粒子成分分散,可較佳地使用 分散劑。㈣除添加劑以外之具體例,可列舉紫外線吸收 158831.doc 201221992 劑、消泡劑》 上述第2塗敷液之固形物成分濃度較佳為可調整至财 量%〜_%左右。若為此種固形物成分壤度,則可獲得 具有容易塗敷之黏度之塗敷液。 上述第】塗敷液之塗佈方法可列舉與於上述a項中說明之 第1塗敷液之塗佈方法相同之方法。 作為上述第2塗敷液之乾燥方法,可採用任意適當之方 法。作為具體例,可列舉自然乾燥、加熱乾燥、減磨乾 舞。較佳為加熱乾燥。於上述第2功能層為抗反射層之情 形^加熱溫度例如為60t〜15(rc,加熱時間例如為30秒 〜3分4里。 外於=第音2塗敷步驟中’明顯的除上述塗佈及乾燥以 ,可於任意適當之時間點包含任意適t之步驟、處 或操作。此種步驟等之種類及進行 根據目的適當地設定。 哪等之時間點可 如此操作,藉由第2塗敷步驟形成第2 2塗敷步驟後,於第2功於上逑第 向存在。 力月匕層之表面,上迷氟系調平劑為偏 本發明之製造方法根據光學狀用途,可^包含 ^ v驟可進而形成其他功能層。其他塗敫步驟可 1塗敷步驟之前進杆 t-r ;第 缺〜- 丁,亦可於第1塗敷步驟後、第2塗敷步 刖< X ’亦可於第2塗敷步驟後進行。於其他’ 步驟中,塗敷液中所包含之揮發溶劑較佳為與上述、敷 平劑之親和性較高之溶劑。其原因在於,敗系調平= 158831.doc 201221992 藉由各塗敷步驟而形成之功能層移動,最後於光學膜之最 外層表面偏向存在。 c.光學膜 圖1A為用以說明根據本發明之較佳實施形態之製造方法 而獲得之光學膜的結構之示意圖,圖1B為將圖1A之第"力 食b層120(光擴散層)之光擴散微粒子附近放大而進行說明之 示意圖。光學膜1〇〇依序具備基材膜11〇、第1功能層12〇及 第2功能層ι3〇β於第2功能層13〇中,其表面(即第2功能 層130中與第1功能層12〇相反側之表面)偏向存在有氟系調 平劑10。一個實施形態中,第1功能層120為光擴散層,第 2功旎層130為抗反射層β根據本發明之製造方法而獲得之 光學膜因抑制光擴散層之亮度不均及抗反射層之干涉不 均且耐擦傷性優異,故於例如配置於液晶顯示裝置之最 表面之形態下有用。 · 於上述第1功能層12〇為光擴散層之情形時,如圖丨a所示 般,第1功能層120較佳為含有基質2〇及分散至該基質中之 ㈣散性微粒子30。基質2〇包含樹脂成分21及超微粒子成 =22。上述光擴散層係藉由基質與光擴散性微粒子之折射 率差而表現光擴散功能。較佳為如圖1A及圖⑺所示般, 超U粒子成分22係以於基質2〇與光擴散性微粒子3〇之界面 =近形成折射率調變區域4〇之形式,於樹脂成分21中分 政因而,基質20具有:與光擴散性微粒子3〇之界面附近 、折射率D周變區域4〇、及該折射率調變區域之外側(自 光擴散性微粒子遠離側)之折射率固定區域。較佳為,基 15883l.doc -21 - 201221992 質20除折射率調變區域以外之部分實際上為折射率固定區 域《於本專利說明書中所謂「基質與光擴散性微粒子之界 面附近」包含光擴散性微粒子表面、表面附近之外部及表 面附近之内部。 較佳為上述光擴散層滿足下述式(3)及(4): △ η 2 0· 1 〇 · · · (3) 0.0006^ Δη/L^ 0.01 · · · (4) 此處,Δη為基質之平均折射率nM與光擴散性微粒子之折射 率nP之差之絕對值|ηΜ_η^,L為折射率調變區域之平均厚 度。基質之平均折射率nM為樹脂成分之折射率與超微粒子 成分之折射率之加權平均。Δη較佳為〇.丨2以上。之上限 較佳為0.20〇若Δη未滿〇1〇,則霧度成為9〇%以下之情況 較多’其結果’於組裝至液晶顯示裝置之情形時無法使自 光源之光充分擴散,有使視角變得狹窄之虞。若^超過 0.20 ’則有背向散射變大之虞。χ,有變得不易選擇基質 之樹脂成分及超微粒子成分之情況。進而較佳為叫、。 △ n/LOm·1)較佳為〇 〇〇〇8〜〇 〇〇8,進而較佳為〇⑼… 0.007。彳實現此種Δη/Ι^折射率調變區域之平均厚度[較 佳為5咖〜5〇〇nm,更佳為12nm〜4〇〇nm,進而較佳又心 _〜300 _。若平均厚度L未滿5 _,則有背向散射變大 之情況。若平均厚度L超過5〇〇 nm,則有擴散性不充分之 情況。如此,上述光擴散層儘管折射率調變區域之平均厚 度L非常薄,亦、可形成Δη較大之(即,述明顯較大)折射 率調變區域。而且’如上述般,上述光擴散層於折射率調 I58831.doc -22- 201221992 變區域中可使折射率實際上連續地變化。藉由該等協同作 用,根據上述光擴散層可實現霧度值較高、具有強擴散 性,且,抑制背向散射之薄膜之光學膜。 如上述般,於折射率調變區域40中,折射率實際上連續 地屢化。較佳為,除此之外,上述折射率調變區域最外部 之折射率與上述折射率固定區域之折射率實際上相同。換 a之,於上述光擴散層令,自折射率調變區域至折射率固 定區域折射率係連續地變化,較佳為自光擴散性微粒子至 折射率固定區域之折射率係連續地變化(圖2)。較佳為,該 折射率變化係如圖2所示般平滑。即,於折射率調變區域 與折射率固定區域之邊界,以於折射率變化曲線上能夠引 切線之形狀變化。較佳為,於折射率調變區域中,折射率 變化之梯度係隨遠離上述光擴散性微粒子而變大。根據上 述光擴散層,如上述A項中說明般,藉由適當地選擇光擴 散性微粒子、基質之樹脂成分與超微粒子成分,可實現實 際上連續性地折射率變化。其結果,即使基質2〇(實際上 為折射率固定區域)與光擴散性微粒子3 〇之折射率差較 大,亦可抑制基質20與光擴散性微粒子3〇之界面之反射, 可抑制背向散射。進而,因於折射率固定區域,折射率與 光擴散性微粒子30較大不同之超微粒子成分22之重量濃度 相對地變高,故可使基質20(實際上為折射率固定區域)與 光擴散性微粒子30之折射率差較大。其結果,即使為薄膜 亦可實現較高之霧度(較強擴散性)。因而,根據上述光擴 散層,藉由形成Δη/L非常大、且折射率實際上連續地變化 158831.doc •23· 201221992 之折射率調變區域,可實現高霧度,並且可顯著抑制背向 散射。 較佳為上述光擴散層滿足式(5)·· 0.01 ^ L/rP^ 1.0 · · · (5) 此處,rP為上述光擴散性微粒子之半徑。L/rp較佳為 0.02〜0.90。因藉由上述光擴散層’可如上述般使折射率調 變區域之平均厚度L非常薄,故可使L/rp非常小。其結 果,可充分地維持上述光擴散性微粒子之散射能,較好^ 抑制背向散射。㈣,即使為薄膜亦可實現較高霧度(較 強擴散性)。 上述折射率調變區域40之厚度(自折射率調變區域最内 部至折射率調變區域最外部之距離)可為固定(即,折射率 調變區域亦可於光擴散性微粒子之周圍以同心球狀擴 大)’厚度亦可隨光擴散性微粒子表面之位置而不同(例如 亦可成為金平糖之外輪廟形狀般)。折射率調變區域4〇之 厚度較佳為隨光擴散性微粒子表面之位置而不同 種結構,則於折射率調變區域術,可使折射率更平滑地 連續地變化。上述平均厚度L係折射率調變區域40之厚度 隨光擴散性微粒子表面之位置而不同之情形時的平均: 度,厚度固定之情形時則為該厚度。 如上述般,基質2G較佳為包含樹脂成分2ι及超微粒子成 較佳為上述折射率調變區域侧根據基㈣中之超 微粒子成分22之分散漠度之實質性梯度而形成。具體而 言,於折射率調變區域4〇中,伴隨自光擴散性微粒子遠離 158831.doc •24· 201221992 30 ’超微粒子成分22之分散濃度(較有代表性為,以重量 濃度規定)變高(必然的,樹脂成分21之重量濃度變低)。換 言之’於折射率調變區域4〇最鄰近光擴散性微粒子3〇之區 域中’超微粒子成分22係以相對較低濃度分散,超微粒子 成分22之濃度伴隨自光擴散性微粒子遠離30而增大。例 如’穿透式電子顯微鏡(TEM,Transmission electr〇n microscope)圖像之基質2〇中之超微粒子成分22之面積比率 於鄰近光擴散性微粒子30之側較小,於鄰近基質2〇之側較 大,該面積比率自光擴散性微粒子側至基質側(折射率固 定區域側)一面形成之實質性梯度一面變化。表示其代表 性之分散狀態之TEM圖像於圖3顯示。於本專利說明蚩 中,所謂 分之面積 穿透式電子顯微鏡圖像之基質中之超微粒子成 为之面積比率」係指:於包含光擴散性微粒子之直徑之剖 面之穿透式電子顯微鏡圖像中,特定範圍(特定面積)之基
粒子成分之各粒子 間之平均 158831.doc •25· 201221992 最短距離對應。具體而言’超微粒子成分之各粒子間之平 均最短距離於折射率調變區域中伴隨自光擴散性微粒子遠 離而變短,於折射率固定區域中成為固定(例如,平均最 紐距離於最鄰近光擴散性微粒子之區域為3 nm〜1〇〇 左 右於折射率固疋區域中為丨nm〜2〇 nm)。平均最短距離 係將如圖3般之分散狀態之TEM圖像二值化’可使用例如 圖像分析軟體「A像KUN(az〇kun)」(旭化成EngineeHng公 司製)之重心間距離法算出。如上所述,根據上述光擴散 層’可利用超微粒子成分22之分散濃度之實質性梯度於基 質與光擴散性微粒子之界面附近形成折射率調變區域4〇, 故可以簡便之程序,且,明顯之低成本形成光擴散層。進 而,藉^用超微粒子成分之分散濃度之實質性梯度形成 折射率調變區域’可使折射率調變區域4〇與折射率固定區 域之邊界之折射率平滑地變化。進而,藉由使用與樹脂成 分及光擴散性微粒子折射率較大不同之超微粒子成分,可 使光擴散性微粒子與基質(實際上為折㈣固定區域)之折 射率差較大,2 ’使折射率調變區域之折射率梯度陡崎。 如上所述般,於上述光擴散層中,較佳為nM>nP。如於 圖4⑷及圖4(b)中比較並顯示般,nM>np之情形相比於 Μ Ρ之障开/,即使折射率調變區域之折射率梯度陡峭, 亦可更好地抑制背向散射。 據本發月之製造方法而獲得之光學膜之厚度可視用途 設定為任意適當之值。 上述第1功能層之厚度可視用途設定為任意適當之值。 158831.doc • 26 - 201221992 於上述第1功能層為光擴散層之情形時,該光擴散層之厚 度較佳為4 μιη〜50 μιη,進而較佳為4㈣〜2〇㈣尤佳為5 H 15 μΠ1。根據上述製造方法可形成之光擴散層儘管厚 度如=般非常之薄’亦具有如上述般非常高之霧度。進 而,右為具有此種厚度較薄之光擴散層之光學膜則彎折 亦不開裂’可實現以輥狀保管。此外,因本發明之光學膜 可藉由塗敷而形成,故例如,可使光學膜之製造及向其他 構件(例如’ &晶顯不裝置之偏光板)之貼合以所謂繞捲 式連續地進行。因@ ’本發明之製造方法相比於先前生產 !生月顯優越’ j_,向如偏光板般之其他光學構件之貼合之 製造效率㈣高°再者’所謂繞捲式仙-面將長條之膜 彼此輥輸送,—面將其長度方㈣齊而連續地貼合 法。 根據本發明之製造方法獲得之光學膜如上述般厚度精度 、於上述第1功旎層為光擴散層之情形時,該光擴散 層之厚度精度於100 mmxl〇〇 _之尺寸中,較佳為(平均 厚度-K0㈣〜(平均厚度+1〇㈣,更佳為(平均厚度Μ )(平句厚度+0.5 pm)。若為此種範圍則即使於將基 質與光擴散性微粒子之折射率差設定為較大,光擴散層之 卜觀變白之If形時’亦可獲得外觀不均較少之光擴散層。 再者’光擴散層之光學均一性之程度可根據,例如,以爽 持該光擴散層之方式形成與以正交偏光之狀態配置之2片 偏光板之積層使白色光自該積層體—面上穿透之時, 出射面之㈣亮度之變化量(標準偏差。)而數值化。該面 15883I.doc •27· 201221992 内亮度之標準偏差σ較佳為1以下,更佳為〇 8以下,進而 較佳為0.1〜0.7。 於上述苐1功能層為光擴散層之情形時,該光擴散層之 擴散特性較有代表性為藉由霧度及光擴散半值角表示。所 «月霧度係表示光之擴散之強度,即入射光之擴散程度。另 一方面,所謂光擴散半值角係表示擴散光之品質,即擴散 之光之角度範圍。該光擴散層之霧度值為75%以上,較佳 為75。/。〜99.9。/。,更佳為85%〜99.9%,進而較佳為9〇%〜 99.9%,尤佳為 95%~99.9%。 上述光擴散層之擴散特性若以光擴散半值角表示,則較 佳為10。〜150。(單側5。〜75。),更佳為1〇。〜1〇〇。(單側 5。〜50°),進而較佳為30。〜80。(單側丨5。〜4〇。)。若光擴散半 值角過小,則有較斜之視角(例如最白亮度)變狹窄之情 況。若光擴散半值角過大,則有背向散射變大之情況。 於上述第2功能層為抗反射層之情形時,該抗反射層之 厚度精度於100 mmx100 mm之尺寸中,較佳為(平均厚度 -2·〇㈣〜(平均厚度+2·〇 nm),更佳為(平均厚度·18叫又〜 (平均厚度+ 1.8 nm),進而較佳為(平均厚度_丨7 nm)〜(平均 厚度化7 nm)。再者,抗反射層之光學均一性可藉由例如 干擾條紋而定性地評價。 上述第2功能層之厚度可視用途設定為任意適當之值。 於上述第2功能層為抗反射層之情形時,該抗反射層之厚 度較佳為70 nm〜1 〇〇 nm » 於上述第2功能層為抗反射層之情形時,該抗反射層之 158831.doc -28- 201221992 折射率可根據抗反射層之厚度而設定為任意適當之值。較 佳為1.38〜1.51。 [實施例] 以下,藉由實施例具體說明本發明,但本發明並不限定 於該等實施例。實施例之評價方法如下所述。又,只要未 特別標註,則實施例中之「份」及「%」為重量基準。 (1) 耐擦傷性 對於實施例及比較例中所獲得之光學膜之第2功能層表 面,使鋼絲絨(#0000)於負重300 g下往返10次,目視確認 此時之光學膜上有無損傷,並根據下述基準進行評價。 A · · ·無明顯損傷 B · · ·可見1〜7條損傷 C · · ·可見大量損傷 (2) 第2功能層之表面自由能 將實施例及比較例中獲得之光學膜於溫度251、濕度 60%RH下調濕2小時後,測定其對水之接觸角,由該等之 值算出表面自由能。 (3) 光學膜之光學均一性 (3-1)光學膜之亮度不均 使用透明黏著劑’形成實施例及比較例中所獲得之光學 膜、偏光板及玻璃板(厚度:〇_7 mm)之積層體(玻璃板/偏 光板/玻璃板/光學膜/偏光板/玻璃板)。此時,2片偏光板係 以正交偏光之狀態積層。使用高亮度白色LED背光源,使 白色光穿透該積層體。對於穿透光之出射面使用亮度測定 158831.doc -29- 201221992 照相機(Cybernet公司製造,商品名「PROMETRIC 1600」,拍攝圖像,將面内亮度數值資料化。 將所獲得之面内亮度值之中將亮點部分排除在外,並且 修正週期大於外觀不均的波紋,算出亮度之標準偏差σ]。 根據該亮度之標準偏差〇丨,評價光學膜之亮度不均(更具 體而言為第1功能層之亮度不均)。 (3-2)第2功能層之厚度精度 於實施例及比較例中獲得之光學膜上,利用大塚電子公 司製造之商品名「MCPD2000」分別測定隨機選擇之10點之 厚度,由該測定值算出第2功能層之厚度之標準偏差σ2。 (4) 氟系調平劑之分佈1 對於實施例1及比較例1中所獲得之光學膜,使用飛行時 間二次離子質譜儀(TOF-SIMS,Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry)(ION-TOF 公司製造,商品名 「TOF-SIMS5」),測定光學膜剖面(第2功能層表面〜深度 270 nm)之氟離子強度之分佈》 (5) 氟系調平劑之分佈2 針對自實施例1中獲得之光學膜之第2功能層表面至深度 270 nm之範圍内之原子(F、C、N、Ο、Al、Si、Zr)之原子 比率,使用ULVAC-PHI公司製造之商品名「Quantum2000」 進行ESCA(化學分析用電子能譜法,electron spectroscopy for chemical analysis)分析。
(6) 折射率調變區域之厚度L 將實施例及比較例中獲得之光學膜於液氮中冷卻,利用 158831.doc -30· 201221992 切片機切片為〇_ 1 μηι之厚度,製成測定試樣。利用穿透式 電子顯微鏡(ΤΕΜ,Transmission Electron Microscopy)觀察 該測定試樣之第1功能層(光擴散層)部分之微粒子之狀態及 該微粒子與基質之界面之狀態,認定微粒子與基質之界面 不β楚之部分為折射率調變區域,使用圖像分析軟體自 ΤΕΜ圖像异出其平均厚度L。更具體而言,選擇於廣視野 (倍率300倍)之剖面TEM圖像中所觀察之範圍内之最大微粒 子’利用圖像分析軟體算出所選擇之微粒子與基質之界面 之放大圖像(倍率12000倍)中所觀察之厚度。於任意5處進 行該分析’將其平均厚度作為折射率調變區域之厚度。微 粒子與基質之界面清楚之情況認定為未形成折射率調變區 域。 (7) 光擴散半值角 對於自實施例及比較例中獲得之光學膜剝離基材膜及第 2功能層而獲得之第1功能層(光擴散層),自其正面照射雷 射光,使用配光測定器每隔丨。測定擴散之光之相對於擴散 角度之擴散亮度,如圖5所示,於擴散之兩側測定自除雷 射之直進穿透光以外之光擴散亮度之最大值成為一半亮度 的擴散角度,將該兩側之角度之和(圖5之角度a+角度A1) 作為光擴散半值角。 (8) 背向散射率 與上述(7)同樣地獲得第丨功能層(光擴散層),將該第"力 能層藉由透明黏著劑貼合於黑色壓克力板(住友化學公司 製造,商品名「SUMIPEX」(註冊商標),厚度2 mm)上, 158831.doc 31 201221992 製成測定試樣。利用分光光度計(日立計測器公司製造, 商品名「U4100」)測定該測定試樣之積分反射率。另一方 面,使用自第1功能層(光擴散層)形成用塗敷液除去微粒子 之塗敷液,製作基材與透明塗敷層之積層體而作為對照試 樣,與上述同樣地測定積分反射率(即表面反射率)。藉由 自上述測定試樣之積分反射率減去上述對照試樣之積分反 射率(表面反射率)而算出第1功能層(光擴散層)之背向散射 率。 <實施例1> 於含有62%之作為超微粒子成分之氧化錘奈米粒子(平均 粒徑60 nm,平均一次粒徑10 nm,折射率2 19)的硬塗用樹 脂(JSR公司製造,商品名「〇pstar KZ6661」(含有 ΜΕΚ/ΜΙΒΚ))100份中,添加作為樹脂成分之前驅體之季戊 四醇三丙烯酸酯(大阪有機化學工業公司製造,商品名 「Viscoat #300」’折射率i .52)之5〇%曱基乙基酮(μεκ)溶 液11伤、光聚合起始劑(BASF Japan公司製造,商品名 「Irgacure 907」)0.5份、作為光擴散性微粒子之聚甲基丙 烯酸甲酯(PMMA)微粒子(積水化成品工業公司製造,商品 名「XX-131AA」’平均粒徑2·5叫’折射率丨奶叩份、 及不具有反應性基之氟系調平劑(DIC公司製造,商品名 「MEGAFAC ΤΪΜ661」)相對於上述之全部固㈣成分為 0.5%。使用攪拌機(淺田鐵工股份有限公司,商品名 「DESPA」)對該屍合物進行分散處理,製備上述各成分 均一地分散之第1功能層(光擴散層)形成用塗敷液。該第! 158831.doc -32· 201221992 功此層(光擴散層)形成用塗敷液之固形物成分濃度為 55/。。於製備該第1功能層(光擴散層)形成用塗敷液後,立 刻使用棒式塗佈機將其塗敷於包含tac膜(三乙酸纖维素 膜)(富士軟片公司製造,商品名「Fujitac」,厚度40 μιη)之 基材膜上’於l〇〇〇c下乾燥1分鐘後,照射累計光量3〇〇 mj 之紫外線,形成厚度1〇 μιη之第丨功能層(光擴散層)。 將含有奈米二氧化矽(折射率1.49)之多環丙烯酸酯(JSR 公司製造,商品名「KZ754〇j》8〇/(^ΜΙΒΚ溶液利用棒式 塗佈機塗敷於上述獲得之第1功能層(光擴散層)上,於 100 C下乾燥1分鐘後,照射累計光量30() mJ之紫外線,形 成厚度110 nm之第2功能層(抗反射層)。 如此獲得具有基材膜(40 4„!)/第!功能層(10 μιη)/第2功能 層(110 nm)之光學膜。 將所獲得之光學膜供於上述(1)〜(3)評價。將結果示於表 1。又,關於光學膜之氟系調平劑之分佈,係供於上述(4) 及(5)評價。將評價(4)之結果示於圖6,將評價(5)之結果示 於圖7。再者,於圖6中,顏色之濃淡表示氟離子強度,顏 色越淡(越接近白色)氟離子強度越強,即表示氟系調平劑 之存在量較多。又,於圖7中揭示氟原子(F)相對於F、c、 N、0、Al、Si及Zr之合計的原子比率。 再者,表1中未記載之第1功能層(光擴散層)之特性如 下:L=50 nm、Δη=〇.ΐ2、△η.ο.οοΜ、光擴散半值角 =60。、L/rP=0.04、背向散射率=〇 38%。進而,由第i功能 層(光擴散層)之基質與光擴散性微粒子之界面附近部分之 15883 丨.doc •33- 201221992 TEM圖像再構成三維像,將該三維再構成像二值化並進行 圖像處理’算出自光擴散性微粒子表面起之距離與超微粒 子成分之分散濃度(存在比率)之關係。結果確認形成超微 粒子成分之分散濃度之梯度。 <實施例2> 除了將不具有反應性基之氟系調平劑(DIC公司製造,商 品名「MEGAFAC TF-1661」)之添加量自〇·5°/。改為0.2%以 外’與實施例1同樣地獲得光學膜。將所獲得之光學膜供 於上述(1)〜(3)評價。將結果示於表1。 再者,表1中未記載之第1功能層(光擴散層)之特性如 下:L=50 nm、Δη=0.12、Δη/Ι^=0.0024、光擴散半值角 =60°、L/rP=0.04、背向散射率=0.38%。 <比較例1 > 除了使用含有異氰酸酯基之氟系調平劑(DIC公司製造, 商品名「MEGAFAC RS-721」:具有上述通式(I)〜(111)所表 示之構成單元)代替不具有反應性基之氟系調平劑(DIc公 司製造,商品名「MEGAFAC TF-1661」)以外,與實施例i 同樣地獲得光學膜。 將所獲得之光學膜供於上述(1)〜(3)評價。將結果示於表 1。又,關於光學獏之氟系調平劑之分佈,係供於上述(4) 評價。將結果示於圖6。 再者,表1中未記載之第丨功能層(光擴散層)之特性如 下:L=49 nm、Δη=0.12、Δη/[=〇 〇〇24、光擴散半值角 =60。、L/rP=0.04、背向散射率=〇 37〇/〇。 158831.doc -34· 201221992 〈比較例2> 除了使用具有異氰酸酯基之氟系調平劑(DIC公司製造, 商品名「MEGAFAC F479」:不具有上述通式(I)〜(III)所表 示之構成單元)代替不具有反應性基之氟系調平劑(DIC公 . 司製造,商品名「MEGAFAC TF-1661」)以外,與實施例1 同樣地獲得光學膜。 將所獲得之光學膜供於上述(1)〜(3)評價。將結果示於表 1 ° 再者,表1中未記載之第1功能層(光擴散層)之特性如 下:L=50 nm、Δη=0.12 ' An/L=0.0024 ' 光擴散半值角 = 60。、L/rP=0.04、背向散射率=0.39%。 [表1] 調平劑 对擦 傷性 表面 自由能 (mN/m) 光學膜之光學均一性 含有比率 (重量%) 第1功能層之亮度不均 (光學膜之亮度之標準 偏差σ^/ο)) 第2功能層之 厚度精度 o2(nm) 實施例1 TF-1661 0.5 A 26.1 0.7 1.5 實施例2 TF-1661 0.2 A 26.8 0.8 1.6 比較例1 RS721 0.5 C 30.1 0.6 2.3 比較例2 F479 0.5 B 32.1 2 3.6 根據本發明之製造方法,如圖6及7所示,氟系調平劑偏 向存在於第2功能層表面。第2功能層之表面自由能係第2 功能層表面之氟系調平劑之存在量之指標。如表1所示, 實施例1及2之光學膜之表面自由能較小,得知氟系調平劑 偏向存在於第2功能層表面。此種光學膜如表1所示具有優 異之耐擦傷性及光學均一性(降低亮度不均及干涉不均)。 另一方面,於使用具有反應性基之氟系調平劑之情形時, 158831.doc •35· 201221992 該氟1系調平劑如圖6所示,於第2功能層中之存在量非常 >'。此種光學膜如表〗所示’第2功能層之厚度精度較差 (干涉不均較強)。進而,比較例1之光學膜由於第1功能層 與第2功能層之界面之氟系調平劑之存在量較多,故而对 擦傷性較差。認為比較例2之光學膜中氟系調平劑在未偏 向存在於第1功能層及第2功能層中之情況下分散。其結果 為,第1功能層及第2功能層之厚度精度較差,如表丨所示 光學膜之光學均一性較低。又,比較例2之光學膜由於氟 系調平劑殘留於第i功能層與第2功能層之界面,故而耐擦 傷性較差。 [產業上之可利用性] 藉由本發明之製造方法而獲得之光學膜可較佳地用於液 晶顯示裝置之視覺辨識側構件'液晶顯示裝置之背光源用 構件、.照明器具(例如有機EL、LED)用擴散構件。 【圖式簡單說明】 圖1A係用以說明藉由本發明之較佳實施形態之製造方法 而獲得之光學膜的構成之示意圖。 圖1B係放大說明圖ία之第}功能層之光擴散微粒子附近 的示意圖。 圖2係用以說明圖1A之帛卜力能層中自光擴散性微粒子中 心部至基質之折射率變化的概念圖。 圖3係用以說明基質中之超微粒子成分之面積比率的穿 透式電子顯微鏡圖像。 圖4⑷係用以說明於基質之平均折射率η。光擴散性微 158831.d〇c •36· 201221992 粒子之折射率nP之情形時產生背向散射之機制的概念圖’ 圖4(b)係用以說明於nM<np之情形時產生背向散射之機制的 概念圖。 圖5係用以說明算出光擴散半值角之方法的示意圖。 圖6係表示實施例1及比較例1中之氟系調平劑於光學膜 剖面上之分佈的圖。 圖7係表示實施例1之光學膜剖面上之氟原子濃度的圖。 【主要元件符號說明】 10 氟系調平劑 20 基質 21 樹脂成分 22 超微粒子成分 30 光擴散性微粒子 40 折射率調變區域 100 光學膜 110 基材膜 120 第1功能層 130 第2功能層 158831.doc

Claims (1)

  1. 201221992 七、申請專利範圍: 1· 一種光學膜之製造方法,其包括: 於基材膜之一面上塗敷含有不具有反應性基之氟系調 平劑的第1塗敷液而形成第丨功能層之第丨塗敷步驟、及 於該第1功能層之表面塗敷第2塗敷液而形成第2功能 層之第2塗敷步驟,並且 該氟系調平劑於塗佈該第2塗敷液時偏向存在於該第ι 功能層表面,並於塗佈該第2塗敷液後於溶出至該第2塗 敷液中,而偏向存在於所形成之第2功能層表面。 士 °月求項ι之光學膜之製造方法,其中上述氟系調平劑 含有選自由下述通式⑴所表示之構成單元、下述通式 ()所表不之構成單元及下述通式(ΙΠ)所表示之構成單元 所組成之群中之至少1種構成單元, [化1] (。、士 ··(!) f0 〜邙2士 _ . . ( π〉 —PC γ— β · ( ΠΙ ) 敕Ϊ式(Ι)中,m為卜1〇之整數,通式(11)中,η為2〜10之 登數。 劑之1項1或2之光學膜之製造方法,其中上述氟系調平 0 05舌*相對於上述第1塗敷液中之全部固形物成分為 〇·05重量%〜3重量%。 158831.doc 201221992 其中上述第1功能 其中上述第2功能 4.如請求項1或2之光學膜之製造方法 層為光擴散層。 5·如請求項1或2之光學膜之製造方法 層為抗反射層。 6. 如請求項4之光學膜之製造方法,其中 中之光擴散性 上述光擴散層具有基質與分散至該基質 微粒子, 於該基質與該光擴散性微 & ★ ΤΜ <界面或其附近形成有 折射率實際上連續地變化 巧w平调變區域,且滿〇下 述式(3)及(4), △ng 〇.1〇 · · · (3) 0.0006$ Δη/LS 0.01 ...(4) 此處’ Δη為基質之平均折射率 千Μ興先擴散性微粒子之折 射率ηΡ之差之絕對值|ηΜ、ηρ丨,Τ主古 P| L為折射率調變區域之平均 厚度。
    8. 如請求項6之光學膜之製造方法, 如請求項6之光學膜之製造方法 足式(5), 其中nM>np。 其中上述光擴散層滿 〇.〇l$L/rPS 1.0 ...(5) 此處,rP為上述光擴散性微粒子之半徑。 如請求項6之光學膜之製 脂成分及超微粒子成分, 質中之該超微粒子成分 成0 9. 造方法,其十上述基質含有樹 上述折射率調變區域係由該基 之分散濃度之實質性梯度所形 158831.doc 201221992 10.如請求項9之光學膜之製造方法,其中上述光擴散層滿 足式(1), |np-nA|<|np-nB| · · ·⑴ 此處,nA表示基質之樹脂成分之折射率,nB表示基質之 . 超微粒子成分之折射率。 158831.doc
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