TW201127557A - Apparatus for recovering abrasives, apparatus for blasting process comprising the apparatus for recovering abrasives and method of blasting process - Google Patents

Apparatus for recovering abrasives, apparatus for blasting process comprising the apparatus for recovering abrasives and method of blasting process Download PDF

Info

Publication number
TW201127557A
TW201127557A TW099128611A TW99128611A TW201127557A TW 201127557 A TW201127557 A TW 201127557A TW 099128611 A TW099128611 A TW 099128611A TW 99128611 A TW99128611 A TW 99128611A TW 201127557 A TW201127557 A TW 201127557A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
bead processing
spray
nozzle
spray material
scattering prevention
Prior art date
Application number
TW099128611A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI513547B (zh
Inventor
Kazumichi Hibino
Kazuyoshi Maeda
Norihito Shibuya
Original Assignee
Sintokogio Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sintokogio Ltd filed Critical Sintokogio Ltd
Publication of TW201127557A publication Critical patent/TW201127557A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI513547B publication Critical patent/TWI513547B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C9/00Appurtenances of abrasive blasting machines or devices, e.g. working chambers, arrangements for handling used abrasive material
    • B24C9/003Removing abrasive powder out of the blasting machine
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C9/00Appurtenances of abrasive blasting machines or devices, e.g. working chambers, arrangements for handling used abrasive material

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)

Description

201127557 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於於對被加工物哈M 6 ^ 切赁射喷射材之喷珠加工 回收裝置及具 中’效率良好地進行喷射材之回收之嘴射材 備該喷射材回收裝置之喷珠加工裝^。 【先前技術】 以往,喷珠加工技術在去毛邊、細面化、鑄造品之去 流線、姓刻等微細加工等表面, * 哥衣面加工之領域等持續被使用。 在一般被使用之喷珠加工裝置係回收對被加工物進行喷珠 力後之噴射材,將不可使用之噴射材或因喷珠加工而由 L田…產生之粉塵等與可使用之噴射材分級後,進行再 於㈣文…揭示具備於喷珠加工被加工 物=珠至之下^設形成為漏斗狀之回收部,吸引回收往 ^下之研磨材’以氣旋分級之構成之喷珠加工裝置。 文獻1 .日本特開平9·323263號公報 【發明内容】 [發明欲解決之課題] 然而’上述之構成之喷珠加工袈 大之噴珠Μ體飛散 喷射材在谷積 > L七 仕贺珠至壁面或搬送路栌硏葚,姓 有效率之回收困難。特別 路…,故 場合,容易往喷珠室 #為數心以下之微粉之 此外,為了以分級穿…厂 心目收更加困難。 裝置之負磨吸引容積大之噴珠室内之喷 201127557 射材,分級裴置等使吸引力產生之設備被要求高吸 引負壓及吸引風量),故會有噴珠加工裝置中之^力(吸 收路徑大型化之問題。 級及回 針對上述問題,本發明係以可效率良好地進〜 之回收,且能將分級裝置等使為了回收喷射材所必$射材 引力產生之設備小型化來實現使喷珠加工 之吸 衣直之小型化 可能之喷射材回收裝置及具備該喷射材回收裝置之 馮 工裝置及喷珠加工方法為目的。 珠加 [解決課題之技術手段] 在本發明係為了達成上述目的而如於請求項1呓 發明使用-種喷射材回收裝置’安裝於喷珠加工::: 嘴,吸弓I ®收被從喷珠加工用料嘴對被加工物喷射之 射材及因喷珠加工而產生之粉塵,其特徵在於具備:㈣ 為具有覆蓋前述嘴珠加工用喷射嘴之喷射口之開口之箱狀 且構成為於開口端部與被加工物之加工面之間設置可 外氣之空隙之防止噴射材及粉塵之飛散之飛散防止蓋以 從:述空隙被導入之外氣為移送媒體並從設於前述飛散防 止蓋之吸引構件將前述飛散防止蓋内之喷射材及粉塵往外 部吸引排氣之吸引裝置之技術手段。 利用於請求項1記載之發明,以飛散防止蓋防止噴射 材及粉塵之飛散’以吸引裝置透過設於飛散防止蓋之吸引 構件卩從a又於飛散防止蓋之開口端部與被加工物之加工 面之間之空隙被導入之外氣為移送媒體,在被加工物之極 近處吸引排氣,故僅吸引飛散防止蓋内部之小容積即可, 201127557 *τ效率良好地進行喷射材及粉塵之回收。此外,由於可防 止噴射材及粉塵附著於被加工物之搬送機構等,故沒有於 搬送時於被加工物造成損傷之虞。此外,由於於開口端部 與被加工物之加工面之間設有可吸引外氣之空隙,故亦沒 有於喷珠加工中使嘴或被加工物移動時或於被加工物之搬 送時於被加工物造成損傷之虞。 在請求項2記載之發明係使用於前述喷射材回收裝置 中,前述吸引構件係設於前述飛散防止蓋之上端部;設有 設於設有前述吸引構件之側之前述飛散防止蓋之側面之輔 助吸引構件之技術手段。 利用於請求項2記載之發明,藉由設於側面之辅助受 引構件’纟飛散防止蓋内有往吸引構件之方向之氣流』 生’故可效率良好地回收喷射材。另外,在此所謂上端吾 係♦曰於飛散防止甚$卜f 、 止盍之上邛(頂部)比中心靠近端面(外月 部方向)。 在°月求項3或4記載之發明係使用於前述喷射材回 裝置中於月ij述飛散防止蓋之開口端部附近之内側面設 做為朝向前述開口端部從前述飛散防止蓋之内部往外部 面被形成且導引來自前述空隙之外氣之導入之導引部之 術手段。 I*荖之門求項3或4記載之發明’由於於前述飛散 二端部附近之内側面形成有導引來自空隙之外 引。卜故可從形成⑨開口端部與被加工物之 工面之間之空隙將外氣順利導入飛散防止蓋之内部。 6 201127557 ΐ區Γ肖㈣_防止蓋之開口端部附近剝離渦流等產生 扩失)2 &可防止於空:隙之吸入外氣時之通氣抵抗(壓力 貝)之増大或噴射好 材及叔塵之滯留,可有效率地吸引除 舌嘴射材及粉塵。 在請求項5至8 射材回收裝置中,前 長方形之技術手段。 中任一項記載之發明係使用於前述喷 述噴珠加工用喷射嘴係喷射口形成為 托項5至8中任-項記載之發明,喷射口形成為 ^之喷珠加工用噴射嘴可使加工寬度增廣,故可將寬 又較廣之區域效率良好地喷珠加工Η旦由於此加工方法喷 ㈣之噴射量變多’故以以往之喷射材之回收方法無法充 刀=收噴射材。利用本發明,可有效率地吸引除去喷射材 及叙塵&在使用此種噴珠加工用喷射嘴之場合,可適切 地使用本發明。 θ长項9至12中任一項記載之發明係使用於前述喷 射材回收裝置中,前述喷珠加卫用喷射嘴係重力喷射式之 技術手段。 根據請求項9至12中任—項記載之發明,藉由使喷珠 加工用喷射嘴為重力喷射式亦即藉由因被供給至嘴内部之 壓縮空氣而於嘴内部產生之負壓供給喷射材並喷射之方 式,不需要如直壓喷射式亦即於將喷射材供給至加壓槽後 藉由加壓該加壓槽來對喷珠加工用嘴供給喷射材之方式之 加壓槽:大型之附帶設備,可實現喷珠加工裝置之小型化。 在請求項13記載之發明係使用於前述喷射材回收裝置 7 201127557 中,前述喷珠加工用噴射嘴係配置為對被加卫物之加工面 傾斜’前述吸引構件朝向被加工物之加工面中之喷射材之 喷射位置&於與前述喷珠加工㈣射嘴之傾斜方向相反方 向之技術手段。 艮據清求項13記載之發明,藉由將嘴配置為對被加工 物之加工面傾斜而使喷射材及粉塵容易往與嘴之傾斜方向 #方向飛散,並於噴射材及粉塵舞散之方向配置有吸引 構件故可有效率地吸引除去喷射材’及粉塵。此外,如請 求項14記载前述吸引構件朝向被加工物之加工面中之喷: 材之喷射位置傾斜設於與前述喷珠加卫㈣射嘴之傾斜方 向相反方向亦可。 在凊求項15或16記載之發明係使用於前述喷射材回 收裝置中’前述喷珠加工㈣射嘴之設置角度係、對被加工 面為30〜75度之技術手段。 根據請求項15 * 16記載之發4,使前述喷珠加工用 喷射嘴之設置角度為30〜75度可有效率地吸引除去喷射材 j請求項17記載之發明係使用於前述噴射材回收裝置 中則述吸弓丨構件係於以被加工物之加工面十之噴射材之 喷射位置為中心之圓周上設為吸引方向為圓周之切線方向 之技術手段。 如咕求項1 7記載之發明配置吸引構件可於飛散防止蓋 之内:使璇渴狀之氣流產生。藉此,可使喷射材及粉塵不 易從工隙往外部漏出,故可有效率地吸引除去喷射材及粉 201127557 塵。 在請求項18至:> τ ^ 喷射材回收裳置中,丄:任一項記載之發明係使用於前述 後述之清潔裝置鄰接配置於前述飛 政防止蓋之外側,該清 被加工物表置係於喷珠加工後除去殘留於 口之r狀m L噴射材及粉塵,具備:形成為具有開 9 冓成為於開口端部與被加工物之加工面之間設 防::卜孔之第2空隙之第2飛散防止蓋;☆第2飛散 盍π對被加工物表面吹送壓縮空氣以將前述喷射材 及柘塵從被加工物表面剝離並除去之空氣鼓風嘴;設於前 述飛:防止蓋並以從前述第2空隙被導入之外氣為移送媒 體將則述第2飛散防止蓋内之喷射材及粉塵往外部吸引排 氣之第2吸引構件之技術手段。 根據明求項18至21中任一項記載之發明,於喷珠加 工後U於帛2飛散防止蓋内之空氣鼓風嘴對被加工物 之加工面進仃壓縮空氣之噴射,可將附著於被加工物表面 之噴射材及粉塵剝冑、除去。,皮剝離之喷射材及粉塵被第2 飛散防止蓋防止飛散’透過設於第2飛散防止蓋之第2吸 引構件,以從设於第2飛散防止蓋之開口端部與被加工物 之加工面之間之第2空隙被導入之外氣為移送媒體在被 加工物之極近處吸引排氣,可清潔被加工物表面。藉此, 可防止起因於因喷珠加工而往被加工物之附著之喷射材及 粉塵之往噴珠加工裝置外之漏出及飛散。在此所謂喷珠加 工後除被加工物全體之加工結束後之場合外,亦包含於加 工中加工面之一部分往第2飛散防止蓋外面相對移動之場 201127557 合0 在請求項22 5 a .3中任一項記載之發明係使用於前述 噴射材回收裝晋φ, , 於則述第2飛散防止蓋之開口端部附 近之内側面設有做. | 朝向前述開口端部從前述飛散防止蓋 之内部往外部夕& #… 破形成且導引來自前述空隙之外氣之導 入之導引部之技術手段。 利用於請求j苜” s 。 至2 5中任一項記載之發明’由於於 第2飛散防止蓋之關 ^部(第2開口端部)附近之内側 面形成有導引來自空隙之外氣之導入之導引部(第2導引 部),故可從形成於開口端部與被加工物之加工面之間之 空隙將外氣順利導入第 $ Ζ飛散防止盍之内部。藉此,可消 除於第2開口端部附近 %雕,两寻產生之區域,故可防止 於空隙之吸入外痛抹夕 灰 、’通氣抵抗(壓力損失)之增大或喷 射材及2塵之滯留,可有效率地吸引除去〇 在叫求項26至33中任一項記載之發明係使用一種喷 珠加工裝置,具備前述喷射材时裝置之技術手段。另外, 在凊求項34至41中任一话,3·^ « 王w Y仕項圮載之發明係使用於前述喷珠 加工裝置申’進一步具備為了吸引回收喷射材之吸引裝 置、由前述回收後之喷射材分離取出可再使用之嗔射材之 分級機之技術手段。 如請求項26至41中任—馆4〜 頁5己載之發明,在具備前述 喷射材回收裝置之嗔珠加工裝置係喷射材及粉廢被喷射材 回收裝置吸W回收,可使用之噴射材被供給至喷珠加工裝 置,故可將使為了喷射材之移送而必要之吸引力產生之八 10 201127557 級裝置、集塵機等設備小型〖,藉此可將喷珠加工裝置全 體小型化。 ; 在π求項42至49中任一項記載之發明係使用一種使 用引述喷珠加工裝置之喷珠加工方法,以前述喷射嘴將喷 射材往被加工面喷射,並以前述吸引裝置吸引回收飛散防 止蓋内或飛散防止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材;由前 述回收後之噴射材分離取出可再使用之喷射材之技術手 段。 士明求項42至49中任一項記載之發明,以吸引裝置 回收被喷射嘴喷射且飛散防止蓋内或飛散防止蓋及第2飛 散防止蓋内之喷射材後,由回收後之喷射材分離取出可再 使用之喷射材’可實現分級裝置之小型化,可將喷珠加工 裝置王體小型化。在以往之喷珠加工裝置因有吸引加工室 全體之必要故需要甚大之吸引能力,且吸引後立即投入分 級機(分㉟取出可再使狀喷㈣。—般係氣旋等風力分 級機被使用),故配合吸引風量該分級機亦為大型。在本 發明係吸引風量少及先:往吸引裝置回收後再分離取出可再 使用之喷射材,故分級機只要具有分離之能力即可結果 可貫現分級機之小型化。 【實施方式] 針對本發明之喷射材回收裝置及具備該喷射材回收裝 置之噴珠加工裝置參照圖說明。在本實施形態係以重力噴 射(吸引)式噴珠加工裝置為例說明。如i所示,嘴珠 11 201127557 Γ:對被加工物w喷射喷射材以進行喷珠加 射裝置10、回收於喷射裝置10被喷射 喷珠加工而由被加工物w產生之粉塵之回收裝置:材= 回收裝置20回收之噴射材分級並對喷射裝置⑺供給喷射 材之供'”。裝置30、將被加工物W以喷射裝置1〇進珠 加工之喷珠加工部4〇。 仃噴珠 喷射裝置1〇具備:對被加工物Ψ喷射噴射材之喷射嘴 1對喷射嘴11透過空氣配管13供給壓縮空氣之壓縮機 等匕壓縮空氣供給裝i 12、不圖示之喷射嘴移動機構。喷射 嘴1 1係透過噴射材供給管5 1連接於後述之漏斗32。 回收裝置2G具備:防止從喷射^丨丨被喷射之喷射材 之散散之飛散防止蓋21'將飛散防止蓋21内之喷射材與被 喷珠加工之破加工# w之粉塵透過吸引風道Μ吸引回收之 吸引裝置22、為了除去附著於通過飛散防止蓋之被加工 物W之刖述喷射材與前述粉塵之清g裝置23。清潔裝置23 係透過第2吸引風道53連結於吸引裝置22。 關於飛散防止蓋21及清潔裝置23之詳細之構造後 述。本實施形態之吸引裝置22具備:吸引及捕集喷射材(亦 包含因破碎等而無法使用之喷射材)或因喷珠加工而由被 加工物w產生之粉塵之捕集單元22a、貯藏喷射材及粉塵 之貯藏槽22b。喷射材及粉塵係被以捕集單元22a吸引,透 過捕集單元22a中之過濾器捕集。被捕集之噴射材及粉塵係 被脈衝喷射或機械式手段等公知之方法由前述過濾器玻剝 離’被貯藏於貯藏槽22b。 12 201127557 供給裝置30具備:透過 一· 且次 引喷射材與被研磨後之被加工物w之粉塵並將可使用之喷 射材與無法使用之噴射材及粉塵分級之分級裝置31、具備 貯藏從分級裝置31供給之喷射材之貯藏槽並具備對喷射嘴 11透過喷射材供給管51定量供給既定量之噴射材之定量供 給裝置之漏斗32、將在分級裝置31被分級之無法使用之噴 射材及粉塵透過風道55排氣回收之集塵機33。 在本實施形態係採用氣旋式分級裝置做為分級裝置 31。氣旋式分級裝置係將粉體與空氣一起吹入氣旋塔 之上部後進行分級者。㈣集塵機33給予之負壓而產生之 氣流中之喷射材及粉塵之中,可使用之噴射材因旋轉氣流 而受離心力,&氣流中被分離而到達周壁,被捕集於氣旋 塔3la下方之暫存槽31b。另外,無法使用之喷射材及粉塵 被風道55吸入後被集塵機33回收。 喷珠加工部40具備:進行喷珠加卫之噴珠加工室Μ、 搬送被加工物w之搬送機構42。搬送機構42係由搬送被 加工物W之搬送滾輪,、吸附保持被加工物 位之載台42b等構成。’ 其次,針對飛散防止蓋21之構造說明。在本實施开、離' 係使用喷射口形狀為長方形之嘴 〜 月阁、所- 〈嘴做為喷射嘴11,如圖2(A) 及圖2⑻所不,以喷射口之長邊對被加工 猫方向垂直之方式對被加工物W之加工“被傾斜配置。 若使用此種喷射嘴U可使加工 將寬产較廣之㈤“ 1 見又較廣&可效率良好地 又 、喷珠加工,但由於噴射材之喷射量變 13 201127557 多’故以^主之喷射材之回收方法無法充分回收嘴射材。 飛散防止21係形成為具有開口部之箱狀以覆蓋喷射嘴 Η,安裝於喷射嘴U且一體地被設置。 骯政防止蓋21係被配置為與加工面S之距離被嗖定為 於開口端部2la與被加工物~之加工面s之間設置;吸引 外氣之空隙T。 扣於飛散防止蓋21之上部連接於吸引風道52設有以從 空隙T被導入之外氣將飛散防止蓋21内之喷射材及粉塵往 外部吸引排氣之吸引構件21b。吸引構件21b係朝向噴射嘴 1 1之喷射材之喷射位置P,傾斜設於與喷射嘴丨丨之傾斜方 向相反方向。 喷射嘴11之傾斜角度以相對加工面S為3〇〜75度配 置較理想。其原因在於若角度小則被喷射之喷射材之速度 勝過吸引力,往該飛散防止蓋21外漏出,若角度大則無法 充分獲得傾斜配置之效果。在本實施形態雖係使用飛散防 止蓋21在從側面觀察之場合為長方形之箱狀物,但使用例 如梯形般具有既定之角度之斜面之箱狀物並於該斜面設置 噴射嘴1 1或吸引構件2 lb,藉此使具有設置角度之噴嘴之 設置較容易。 二隙T之寬度係設定為可吸引充分之外氣且使噴射材 及粉塵不會往外部漏出之寬度。在此,空隙T之寬度係數 mm程度’較理想為1.0〜4.0mm。在空隙T為未滿1·〇之場 合’會有吸引外氣時之壓力損失變大或飛散防止蓋2 1與被 加工物W接觸之虞。亦即,有因飛散防止蓋21與被加工物 14 201127557 w之接觸而於被加工物w造成損傷之虞。此外 超過4·°臟之場合’由空隙T吸入之外氣之速度降低使 低於由噴射嘴11被啃斛 4 1史 反赁射之噴射材之速度,喷射材及粉 飛散防止蓋21之外部漏出。 如圖2(C)所示’於飛散防止蓋之開口端部… 附近之内側面设有做為朝向開口端部2“從飛散防止蓋η 之内部往外部之面被形成且導引來自空隙了之外氣之導入 =導引部2U。在本實施形態中’導引部…係將飛散防止 蓋21之開口下端往外方圓弧地折彎而做為往外方凸出之曲 面部被形成。藉由導引部21c可消除導入外氣時於開口端部 21 a附近產生剝離滿|洎笙夕ρ θ ,, 库/0机寺之£域,故可防止於空隙τ之吸入 外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之增大或喷射材及粉塵之 滞留,可有效率地吸引除去喷射材及粉塵。 故 此外’可如圖10所示,於飛散防止蓋21之上部將吸 引構件置為比該飛散防止蓋21之中心線靠近端面, 且將喷射嘴11配置為靠近該吸引構件21h之相反側端面, 進而於配置有該吸引構,21h之側之側面設置輔助吸引構 二21i。藉由由輔助吸引構件21i所產生之吸引力,在該飛 丨散防止蓋21内產生往設置有吸引構件21h之側之氣流g 可以吸引構件21h有效地吸引喷射材。辅助吸引構件2ι 係使為了以吸引構# 2i.h有效地吸引喷射材之氣流之產生 促進之目的’故輔助吸引構件21i中之吸引力不比吸引構件 21h中之吸引力高亦可。在本實施例係將具有比吸引構件 21h之徑充分小之徑之亨助吸引構件21i配置$個。 15 201127557 喷射嘴11雖對加工面s設置為垂直或傾斜設置皆可, 但較理想為傾斜配置,更理想為對加工面S具有3〇〜75度 之角度配置較理想4原因在於若角度小則被喷射之喷射 材之速度勝過吸引力’往該飛散防止蓋2"卜漏出若角度 大則無法獲得從輔助吸引構# 2li產生之吸引力導致之氣 流之產生之充分之效果。 此外,在本實施形態係於開口端部2if於飛散防止蓋 21之内側面設有做為朝向開口端部2if從飛散防止蓋η之 内部往外部之面被形成且導引來自空$ τ之外氣之導入之 導引部2 1 g。 其-人,針對清潔裝置23說明。在本實施形態係使用喷 射口形狀為長方形之嘴做為空氣鼓風嘴咖,如圖3 (Α) 及j B )所不’被配置為喷射口之長邊對被加工物W或嘴 ,知瞄方向垂直。若使用此種空氣鼓風嘴23b,可使壓縮空 氣之喷射寬度較廣,故可將寬度較^之區域效率良好地處 理:第2飛散防止蓋23a係形成為具有開口部之箱狀以覆蓋 氣豉風嘴23b ’安裝於空氣鼓風嘴23b且一體地被設置。 第2飛散防止蓋23a係被配置為與加工面8之距離被 設定為於第2開口端部23d與被加工物…之加工面s之間 设置可吸引外氣之空隙t。 於第2飛放防止蓋23a之上部連接於第2吸引風道 設有以從空隙t被導入之外氣將第2飛散防止蓋23&内之喷 于材及粕塵往外部吸引排氣之第2吸引構件”。。第2吸引 構件23c係設置為對被加工物w大致垂直。 16 201127557 空隙t之寬度係設定為可吸引充分之外氣且使噴射材 及粉塵不會往外部漏出之寬度。在此,空隙t之寬度係數 mm程度,較理想為ΐ·〇〜4.〇mm。在空隙t為未滿丨〇之場 合,會有吸引外氣時之壓力損失變大或第2飛散防止蓋23& 與被加工物w接觸之虞。亦即,有因第2飛散防止蓋23a 與被加工物W之接觸而於被加工物w造成損傷之虞。此 外’在超過4.0mm之場合’由空隙:t吸入之外氣之速度降 低,使低於由空氣鼓風嘴23b被喷射之噴射材之速度,噴 射材及粉塵往第2飛散防止蓋23a之外部漏出。 如圖3(C)所示,於笛私π .. 、弟2飛散防止蓋23a之第2開口 端部2 3 d附近之内側面設有傲盔έ J w,做為朝向第2開口端部23d從 第2飛散防止蓋2 3 a之内部技冰却十工、1 彺外部之面被形成且導引來自空 隙t之外氣之導入之第2藤以却 .,_ 心乐/導引部23e。在本實施形態中,第 2導引部23e係將第2飛傲防,μ蓄,。 私政防止蓋23a之開口下端往外方圓 弧地折彎而做為往外方凸出 乃凸出之曲面部破形成。藉由第2導 引部23e可消除導入外氣睥 Γ轧呀於第2開口端部23d附近產生剝 離》尚流專之區域,故可卩六μ + _ 了防止於空隙【之吸入外氣時之通氣抵 抗(壓力損失)之増大咬喑私 及噴射材及粉塵之滯留,可有效率 地吸引除去喷射材及粉塵。 其_人,針對如上述構成之噴珠加工 首先,以搬送機構42心“ 4 m之動作說明。 ,被加工物w配置於喷射嘴 緊貼處,將噴射嘴"固定於既定之位置。下 使被加卫物w相對於喷射嘴㈣ 珠加工。在以既定之操作丁嘴 %工乳供給裝置丨2將壓縮空 17 201127557 氣導入喷射嘴11内部後,於喷射嘴U内部負壓產生,從 漏斗32被定量供給之噴射材透過喷射材供給管51被往喷 射嘴11内部吸弓卜被吸引至喷射嘴u内部之噴射材被壓 縮空氣加速,被往被加工物w之加工面s噴射,進行噴珠 加工。在此,可以搬送機構42使被加工物w相對喷射嘴 11移動,亦可以不圖示之嘴移動機構使喷射嘴丨丨移動。 從噴射嘴11被喷射並衝撞被加工物%而飛散之喷射材 及因喷珠加工而產生之粉塵等係以從設於飛散防止蓋2 i與 加工面S之間之空隙T被吸引之外氣為移送媒體,被吸/引 構件21b由飛散防止蓋21内部吸引除去。被吸引構件2ib 吸引除去之噴射材及粉塵係經由吸引風道52被吸引裝置22 吸引回收。 由於以飛散防止蓋21防止喷射材及粉塵之飛散,以從 空隙T被導入之外氣為移送媒體,在被加工物评之極近處 吸引排氣’故僅吸引飛散防止蓋21内部之小容積即可,可 效率良好地進行喷射材及粉塵之回收。特別是以往回收為 困難之數μ m以下之微粉之喷射材亦可有效率地回收。此 外,即使於使用喷射量多之喷射口為長方形之噴射嘴丨丨之 場合,亦可充分回收喷射材及粉塵。此外,亦沒有噴射材 及粉塵附著於被加工物W之搬送機構42等而於搬送時於被 加工物W造成損傷之虞》 將喷射嘴π配置為對被加工物w之加工面s傾斜而使 噴射材及粉塵容易往與喷射嘴U之傾斜方向相反方向飛 散,並於喷射材及粉塵飛散之方向配置有吸引構件21b,故 18 201127557 可有效率地吸引除去喷射材及粉塵。 另外,由於於開口端部21 a形成有導引來自空隙τ之 外氣之導入之導引部2i‘c,故可消除由空隙T導入外氣時於 開口端部2 1 a附近產生渦流等之區域,故可防止於空隙τ 之吸入外氣時之通氣抵抗之增大或喷射材及粉塵之滞留 等’可有效率地吸引除去喷射材及粉塵。 被喷珠加工後之被加工物W係被搬送機構42往飛散防 止蓋21外搬送。於其路徑設置有清潔裝置23,被喷珠加工 後之被加工物W係通過清潔裝置23之下方。 對被移送後之被加丨ix物W由空氣鼓風嘴23b喷射由壓 縮空氣供給裝置12供給之壓縮空氣。藉此,附著於被加工 物W表面之喷射材及粉塵被由被加工物w表面剝離。被剝 離之喷射材及粉塵以從設於第2飛散防止蓋23a與加工面s 之間之空隙t被吸引之外氣為移送媒體,被第2吸引構件 23 c由第2飛散防止蓋23a内部吸引除去。被第2吸引構件 吸引除去之喷射材及粉塵係經由連結於前述飛散防止 蓋21與吸引裝置22之路徑即吸引風道52之第2吸引風道 53被吸引裝置22吸引回收。 *被吸引回收之噴射材及粉塵被貯藏於吸引裝置22中之 貯藏槽22b。在此,吸引梦署,〇 〇 ,丨Α 次引裝置22只要能吸引體積皆小之飛 散防止盖21及第2飛掛狀ιΐ* # 胧敢防止蓋23a之内部即可,故不必為 大容量之設備。 被具備飛散防止蓋21、明3丨# $ ± t 显及引裝置22、清潔裝置23之 回收裝置20回收之喑M枓从# ^叹之噴射材破移送往分級裝置31。在此,由 19 201127557 於喷射材已被回收裝置20吸引回收’故可使以為了喷射材 之移送而必要之集塵機33使分級裝置31產生之風量較 小。藉此’可將分級裝置31、集塵機33等使吸弓丨力產生之 設備小型化。 被移送至分級裝置3 1之喷射材及粉塵被分級為可使用 之喷射材與不可使用之喷射材及粉塵。不可使用之喷射材 及粉塵經由風道55被集塵機33回收。 可使用之喷射材被貯藏於暫存槽31b,視需要被供給往 漏斗32。如上述再利用回收之噴射材,可持續良好地連續 之喷珠加工。 (變更例) ’ 噴珠加工裝置1之噴射裝置10、供給裝置3〇、喷珠加 工部40並不受限於上述之實施形態’可採用公知之方法。 例如,喷珠加工裝置丨可採用加壓式噴珠加工裝置。此外, 喷射嘴11可採用喷射口為圓形之嘴:亦可配置為喷射方向 垂直於加工面s。 於圖2顯示之飛散防止蓋21 '於圖3顯示之第2心 防止蓋23a雖為四角之箱狀,但此等蓋之形狀並不受限; 此,可採用例如圓柱狀、圓錐狀' 角錐狀等各種形狀。 導引部21c只要是於飛散防止蓋21之開口端部2ι^ 近之内側面做為朝向開口端部21a從飛散防止蓋η之内4 往外部之面被形成且能從空隙τ導引外氣並順利導入,^ W各種形狀。亦可例如圖4(a)及(b)所示,對開^ 端部2 1 a之至少内相丨丨推;^ p工丄 門側進仃R面加工,形成導引部21c。 20 201127557 吸引構件2lb之數量 '配置位置可適當選定。例如, 上述之實施形態中,可於喷射嘴Π之長邊方向追加設置吸 引構件2 lb。藉此,可有效率地吸引除去往噴射嘴丨丨之長 邊方向飛散之喷射材及粉塵。 此外’如圖5所示,採用將吸引構件2 lb於以被加工 物W之加工面s中之喷射材之喷射位置為中心之圓周上設 為吸引方向為圓周之切線方向之配置亦可。藉由如上述配 置吸引構件21b,可於飛;散防止蓋21之内部使旋渦狀之氣 抓產生。藉此’可使噴射材及粉塵不易從空隙T往外部漏 出’故可有效率地吸引除去喷射材及粉塵。特別是在將喷 射嘴11配置為喷射方向垂直於加工面S之場合,喷射材及 粉塵容易在飛散防止蓋21之内部放射狀地飛散,故可適當 地使用本構成。 空氣鼓風嘴23b並非受限於上述之實施形態者。例如, 可使用喷射口為圓形之嘴,可使用複數支嘴,亦可配置為 喷射方向對加工面s傾斜。 第2導引部23e只要是於第2開口端部23d附近之内側 面做為朝向第2開口端部23d從第2飛散防止蓋23a之内部 在外4之面被形成且從空隙(導引外氣並順利導入,可採用 各種形狀。亦可例如® 6 (A)及⑻所示,對第2開口 鈿。p 2 3 d之至少内側進行R面加工,形成第2導引部2 3 e。 第2吸引構件23c之數量、配置位置可適當選定。例如, 上述之實施形態中,可對被加工物W之進行方向於空氣鼓 風嘴23b之前後方向追加設置第2吸引構件。藉此,可 21 201127557 有效率地吸引除去往第2飛散防止蓋23a内飛散之噴射材及 此外,如圖8所示’採用將第2吸引構件23c於以被加 工物W之噴射位置P為中心之圓周上設為吸引方向為圓周 之切線方向之配置亦可。藉由如上述配置第2吸引構件 23c’可於第2飛散防止蓋23a之内部使漩渦狀之氣流產生。 藉此可使喷射材及粉塵不易從空隙t往外部漏出,故可有 效率地吸引除去噴射材及粉塵。特別是在將空氣鼓風嘴231] :置為噴射方向垂直於被加工物w之場合,喷射材及粉塵 谷易在第2飛散防止蓋23a之内部放射狀地飛散,故可適當 地使用本構成。 田 空氣鼓風嘴23b不僅喷射壓縮空氣,亦可具有藉由喷 珠力除去喷射材及粉塵或被附加於被加工物w之電荷之 :段。例如,可使含有若干之水分咸靜電除去劑,可:電 篁放電等將離子或原子團導入壓縮空氣並噴射,亦可使用 超音波(超音波空氣鼓風)。 使用 本實施形態之清潔裝置23在喷珠加 之表面沒有喷射材及粉塵之附著之場合
只要僅從集塵機33 W小且喷珠加工室4丨之 33被給予之吸引力便足 22 201127557 夠即使不另外設置回收裝置20亦可。在此場合,分級裝 置31及集塵機33相當於回收裝置20。 (實施例1 ) 在本實施形態係針對飛散防止蓋2丨中之導引部2丨c之 形狀檢时。另外,本發明並非被限定於以下之實施例者。 使用為直徑15〇mm、高度45mm之圓筒形狀且具有導 引。卩2 1 c之形狀被以如圖9 ( a )所示之從飛散防止蓋2 i 之内部在外部之R面形成之導引部21。與吸引構件川之 飛散防止蓋2卜測定以吸引風道52將鼓風機連結於吸引構 件21 b時之豉風機之吸引靜壓及開口端部2丨&之靜壓。此 外’使用如圖9 ( B )所示之不具有導引部21c之飛散防止 蓋21做為比較例。其他條件係設定為與實施例相同。 將結果顯示於表1。飛散防止蓋21具備導引部21c之 場合之鼓風機之吸引靜壓為_8.3kpa,吸引風…&。另 -11.2kPa,吸弓! 以上之結J 變低,比起不J (表1 ) 風量為4. lm3。 民’確認具有導引部21e使鼓風機之靜壓負荷 ”丨部2lc之場合可獲得較大之風量。 -------- 導引部21c 開口端部2 1 a 之靜壓(kPa) --- 鼓Μ 吸引靜壓 (kPa ) 吸引風量 (m3/min ) _5-2 — 4.1 有 -3.4 -—- -8 3 益 -7.3 s -11.2 23 201127557 (實施例2 ) 在本實施例係針對輔助吸引構件21i之效果及喷射嘴 11之傾斜角度之影響調查。另外,永發明並非被限定於以 下之實施例者。 使用為寬度160mm、長度200mm、高度45mm且於開 口端部21f從内部往外部具有R形狀之導引部2ig之飛散 防止蓋2卜於此飛散防止蓋21之頂部設置有直徑13扪爪之 吸引構件21h。吸引構件21h係設置於因吸引構件2ih與飛 散防止蓋21交又而形成之橢圓(包含圓)之中心從飛散防 止蓋21之長邊之長度方向之中心往端面側移動之位 置。進而,於從開口端部21a離開l〇mm之飛散防止蓋21 之側面設置有輔助吸引構件2Η。在本實施形態係均等配置 有5支直徑8_之管。此外,以25、30、45、75、80度之 角度傾斜設置有喷射嘴u。 又 將吸引構件21h及輔助吸引構件21i透過吸引風道52 及輔助吸引風道56直接連結於吸引裝置(不圖示)。由該 喷射嘴π以噴射壓力0 6MPa喷射喷射材(wA#6〇〇) ’同 時使前述吸引裝置作動,觀察噴射材往飛散防止蓋Μ之外 部之漏出及於前述噴射後被加工物w之喷射材之殘留。 在喷射嘴11之傾斜角度為3〇、45、75、80度之場合 之任-者’喷射材之漏出皆沒有被觀察到,但在25則有; 射材之漏出被觀察到。此外’對喷射後之被加工面之喷射 材殘留在噴射嘴11之傾斜角度為80度之場合被確認。 因此,喷射嘴11之傾斜角度之最佳值為30〜75度。 24 201127557 [實施形態之效果] (1)利用於本發明之回收裝置20,以飛散防止蓋21 防止喷射材及粉塵之飛散,以從空隙T被導入之外氣為移 送媒體,在被加工物W—之極近處吸引排氣,故僅吸引飛散 防止蓋21内部之小容積即可,可效率良好地進行喷射材及 粉塵之回收。特別是以往回收為困難之微粉之喷射材亦可 有效率地回收。此外,即使於使用噴射量多之喷射口為長 方形之喷射嘴11之場合’亦可充分回收喷射材及粉塵。此 外’由於可防止喷射材及粉塵附者於被加工物W之搬送機 構42等,故亦沒有於搬送時於被加工物w造成損傷之虞。 (2 )由於於開口端部2 1 a形成有導引來自空隙τ之外 氣之導入之導引部21 c,故可消除由空隙τ導入外氣時於飛 散防止蓋之開口端部附近產生剝離渦流等之區域,可防止 於空隙之吸引外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之増大或喷 射材及粉塵之滯留,可有效率地吸引除去噴射材及粉塵。 (3 )藉由將喷射嘴11配置為對被加工物貨之加工面 S傾斜而使喷射材及粉塵容易往與嘴之傾斜方向相反方向 飛散’並於喷射材及粉塵飛散之方向配置有吸引構件21b, 故可有效率地吸引除去喷射材及粉塵。 (4 )於喷珠加工後由空氣鼓風嘴23b對被加工物吹送 壓縮空氣,可將附著於被加工物W之喷射材及粉塵剝離。 被剝離之喷射材及粉塵被第2飛散防止蓋23a防止飛散以 從空隙t被導入之外氣為移送媒體,在被加工物w之極近 處吸引排氣,故沒有往外部之噴射材及粉塵之飛散,可清 25 201127557 潔被加工物表面。 (5 )由於於第2開口端部23d形成有導引來自空隙t 之外氣之導入之第2導引部23e,故%消除由空隙t導入外 氣時於第2開口端部23d附近產生剝離渦流等之區域,故 可防止於空隙t之吸引外氣時之通氣抵抗(壓力損失)之增 大或噴射材及粉塵之滯留’可有效率地吸引除去噴射材及 粉塵。 (6 )利用具備本發明之回收裝置2〇之噴珠加工裝置 1,喷射材被回收裝置20吸引回收,故可將使為了喷射材 之移送而必要之由集塵機33供給之風量較小。藉此,可將 使為了喷射材之移送而必要之吸引力產生之分級裝置、集 塵機等設備小型化。 [其他本實施形態] 在因喷射材之噴射量小等理由而可不考慮來自飛散防 止蓋21之喷射材及粉塵之漏出之場合等,可不設喷珠加工 室41。此外,再進行不希望有塵埃之材料、製品之喷珠加 工之場合,亦可將喷珠加工室41等之喷珠加工部4〇做為 潔淨室構成。 本申請係基於在日本於2〇〇9年〇9月i i日被提出申請 之特願2009-210309號及於2010年〇5月〇6日被提出申請 之特願201 〇-106095號,其内容係做為本申請之内容形成其 一部分。 此外,本發明應可藉由本說明書之詳細之說明進一步 完全理解。然巾,詳細之說明及特定之實施例為本發明之 26 201127557 較理想之實施形態,僅係為了說明之目的而被記載者。因 從此詳細之說明各種變更、改變對當業者而言為明顯。 申請人無將被記載之實施形態之任一者 意圖,被揭示之改變、代替案之中,即使文言上 含於申請專利範圍内者,亦為在均等論下之發明之一部分。 於本說明書或申請專利範圍之記載中,名詞及同樣之 司之使用,、要/又有特別被指明或只要非根據文脈被明 =否疋,應解釋為包含單數與複數雙方。在本說明書中被 提供之任一例示或例示性用語之使用(例如:「等」曰)亦 僅係為了使本發明容易說明之意目,只要沒有在申請專利 範圍記載便非對本發明之範圍施加限制者。 【圖式簡單說明】 為具備本發明之喷射材回收裝置之喷珠加工裝置 之構成圖。 為回收裝置之飛散防止蓋及吸引構件之說明圖。 ()為剖面說明圖,圖2(b)為平面說明圖,圖2(c) 、飛政防止蓋之開口端部之擴大剖面說明圖。 圖3為清潔裝置之第2飛散防止蓋 2吸 說明圖。圖1 τ ^ .. 1 )為剖面圖,圖3(B)為平面說明圖,圖 (C )為第2補11 L — 圖 4 A 马顯示形成於飛散防止蓋
圖5為顯示 飛散防止盍之開口端部之擴大剖面說明圖。 ‘ π观散防止盏之開口端部之將外氣往 之導引部之變更例之剖面說明圖。 不飛散防止蓋之變更例之平面說明圖。 27 201127557 圖6為顯示形成於第2飛散防止蓋 氣往第2㈣防止蓋㈣導引之第 端部之將外 面說明®。 ”丨部之變更例之剖 圖7為顯示清潔之變更例之剖面說明圖 圖圖:為顯示第2飛散防止蓋之變更例…說明圖。 施例之, 實施例及比較例之說明圖。圖9(幻為實 ::二圖’圖9⑻為比較例之說明圖。 為設有輔助吸引構件之回收裝置之說明圖。 【主要 1 10 11 12 13 20 21 21a 21b 21c 2lf 2lg 2lh 2li 元件符號說明】 喷珠加工裝置 喷射裝置 噴射嘴
壓縮空氣供給裝 空氣配管 回收裝置 飛散防止蓋 開口端部 吸引構件 導引部 開口端部 導引部 吸引構件 輔助吸?丨構件 28 201127557 22 吸引裝置 22a 捕集單元 22b 貯藏槽 23 清潔:裝置 23a 第2飛散防止蓋 23b 空氣鼓風嘴 23c 第2 .吸引構件 23d 第2開口端部 23e 第2導引部 30 供給裝置 31 分級.裝置 31a 氣旋塔 31b 暫存槽 32 漏斗 33 集塵機 40 喷珠加工部 41 喷珠室 42 搬送機構 42a 搬送滾輪 42b 載台 51 喷射材供給管 52 吸引風道 53 第2吸引風道 54 回收風道 29 201127557 55 風 56 輔 S 加 T 空 t 空 W 被 P 喷 P 壓 道 助吸弓丨風道 工面 隙 隙(第2空隙) 加工物 射材之喷射位置 縮空氣之喷射位置 30

Claims (1)

  1. 201127557 七、申請專利範圍:。 1、一種喷射材回收奘番 吸引回收被從喷珠加工用射:裝於喷珠加工用喷射嘴, 及因喷珠加工而產生▲鹿嘴對被加工物喷射之喷射材 形成為具有覆蓋=嘴珠:特::於具備: 口之箱狀且構成為於開二=喷射嘴之喷射口之開 置可吸引外氣之空隙之防止:與破加工物之加工面之間設 止蓋; ’ 嘴射材及粉塵之飛散之飛散防 L 以從前述空隙被導 飛散防止蓋之吸引構件將」乳為移送媒體並從設於前述 塵往外部吸引排々之‘别述飛散防止蓋内之噴射材及粉 1及51排軋之吸別裝置。 中1冑%專利&圍第1項記載之噴射材时裝置,A 中’:;…丨構件係設於前述飛散防止蓋之上端部, 设有輔助吸引構件,該輔 W, 引構件之側之,n ^ 引構件设於設有前述吸 、侦丨之則述飛散防止蓋之側面。 中,1項記狀料材时裝置,其 中於Μ飛散防止蓋H 直其 朝向前述開口 内側面設有做為 形成且^丨來D 蓋之内部往外部之面被 α來“』述空隙之外氣之導 4、如申請專利範圍第2 广 中,於前奸、1 戰工賀射材回收裝置,苴 ,飛散防止蓋之開口端部附近之 、 朝向前述開口 側面設有做為 拟占曰道 從刖述飛散防止蓋之内部往外邱少 ^ 5、如引:自前述⑼之外氣之導入之導引部:面破 申請專利範圍第1項記載之喷射材回收裝置’其 31 201127557 前述喷珠加工用喷射嘴係、噴射口形成為長方形。 、如申請專利範圍第2項記載之切材时裝置,其 7迷喷珠加μ喷射嘴㈣射口形成為長方形。 、如申請專利第3項記載之嘴射材时裝置,其 刚迷嗔珠加工用喷射嘴係噴射口形成為長方形。 8 二如申請專利範圍第4項記載之喷射材回收裝置其 月以噴珠加工用喷射嘴係噴射口形成為長方形。 V::請專利範圍第5項記載之喷射材回收裝置,其 則述噴珠加工用喷射嘴係重力嘴射式。 並中^=請專㈣圍第6項記載之;射材回收裝置, 八 別述喷珠加工用喷射嘴係重力噴射式。 盆中請專利範圍第7項記载之喷射材回收裝置, ’、 則述喷珠加工用喷射嘴係重力噴射式。 12、 如申請專利範 2 其中,針、… 載之噴射材回收裝置, 、 則述噴珠加工用喷射嘴係重力噴射式。 13、 如申請專利範圍第】至12 ^ ^ ^ ^ 材回㈣置,其中,貞中任—項§己載之喷射 加工抓 刚述喷珠加工用噴射嘴係配置為對被之加工面傾斜,前述吸引構件朝向被加工物之加工 中之喷射材之喷射位置今於盘 傾斜方向相反方向。…刖迷噴珠加工用喷射嘴之 14 Ή請專利範圍第u 12項中任—項記載 2裝置’其中,前述喷珠加工用嘴射嘴係配置為對被 之加工面傾斜’前述吸引構件朝向被加工物之加工 之喷射材之喷射位置傾斜設於與前述喷珠加工用喷射 中 中 中 中 中 32 201127557 嘴之傾斜方向相反方向。 15、如申請專利範圍第13項記載之噴射材回收襄置, 其中’前述噴珠加工用喷射嘴之設置角度係對被加工面為 3 〇〜7 5度。 16、 如申請專利範圍第14項記載之噴射材回收裝置, 其中’前述噴珠加工用喷射嘴之設置角度係對被加工面為 3 0〜7 5度。 17、 如申請專利範圍第丨至12項中任一項記载之喷射 材回收裝置,其中’前述吸引構件係於以被加工物之加工 面中之嘴射材之噴射位置為中心之圓周上設為吸引方向為 圓周之切線方向。 18、如申請專利範圍第丨至12項中任一項記載之喷射 材回收裝置中,將清潔裝置鄰接配置於前述飛散防止 *之外側,忒清潔裝置係於喷珠加工後除去殘留於被加工 物表面之前述喷射材及粉塵,具備: 開口端部與被加工 空隙之第2飛散防 形成為具有開口之箱狀且構成為於 物之加工面之間設置可吸引外氣之第2 止蓋; 於第2飛散防止蓋内部對被加 以瞄〜^ 物表面吹送壓縮空氣 鼓風嘴; ⑯表面剝離並除去之空氣 2空隙被導入之外 之嘴射材及粉塵往 卜設於前述飛散防止蓋並以從前述第 氣為移送媒體將前述第2飛散防止蓋内 外部吸引排氣之第2吸引構件。 33 201127557 19、如申請專利範圍第15項記載之噴射材回收裝置, 其中,將清潔裝置鄰接配置於前述疵散防止蓋之外側,該 清潔裝置係於喷珠加工後除去殘留於被加工物表面之前述 噴射材及粉塵,具備: 形成為具有開口之箱狀且構成為於開口端部與被加工 物之加工面之間設置可吸引外氣 J久:Μ 乱心弟2空隙之第2飛散防 止蓋; 於第2飛散防止蓋内部對被加工物表面吹送壓縮空 以將前述喷射材及粉塵從被加工物表面剝離並除去之空 鼓風嘴; 1 設於前述飛散防止蓋並以從前述第2空隙被導入之 氣為移送媒體將前述第2飛散防止蓋内之喷射材及粉塵 外部吸引排氣之第2吸引構件。 2〇、如申請專利範圍第16項記載之噴射材回收裝置 ’、中,將清潔裝置鄰接配置於前述飛散防止蓋之外側, 清潔裝置係於喷珠加工後除去殘留於被加卫物表面之前 噴射材及粉塵,具備: 形成為具有開口之箱狀且構成Λ 再战為於開口端部與被加- 物之加工面之間設置可吸引外氣 止蓋· 乐2空隙之第2飛散1= 於第2飛散防止蓋内部對被 物表面吹送壓縮空J 以將前述喷射材及粉塵從被加工物 、 鼓風嘴; 勿表面剝離並除去之空| 設於前述飛散防止蓋並以從前 义禾2空隙破導入之外 34 201127557 氣為移送媒㈣前述第2飛散防止蓋内之喷射材及粉塵往 外部吸引排氣之第2吸引構件。 21、如申請專利範圍第17項記載之喷射材回收裝置, 其中,將清潔裝置鄰接配置於前述飛散防止蓋之外側,該 π潔裝置係於喷珠加工後除去殘留於被加卫物表面之前述 噴射材及粉塵,具備: ▽取付丹有開口之箱狀且構成為於開口端部與被加工 加工面之間設置可吸引外氣之第2空隙之第2飛散防 止盍; 於第2飛散防止蓋内部對被加工物表面 述喷射材及粉離被加工物表面剝離並除去之空氣 述飛散防止蓋並以從前述· 2空隙被導入之外 二=媒體將前述第2飛散防止蓋内之喷射材及粉塵往 卜。I5吸引排氣之第2吸引構件。 装請專利範圍第18項記載之噴射材回收裝置, 其中’於削述帛2飛散防止蓋 右仳蛊έ日a #附近之内側面設 有U為朝“相口端部 之面被形成且導心自防止盍之内部往外部 23、 如申=來自刚述空隙之外氣之導入之導引部。 如申h專利範圍第19 其中,於前述第載之噴射材回收裝置, 弟2飛政防止蓋之開口端 有做為朝向前述開口端部從前述飛散近之内側面設 之面被形成且導引I 羞之内部往外部 24、 如申=來 空隙之外氣之導入之導引部。 申-專利範圍第20項記載之喷射材回收裝置, 35 201127557 其中,於前述帛2飛散防止蓋之開口端部附近之内側面, 有做為朝向前㈣口端特前述飛散防止蓋之㈣往外部 之面被形成且導引來自前述空隙之外氣之導入之導引部。 心如中請專利範圍第21項記載之噴射材回收裝置°, 其中,於前述帛2飛散防止蓋之開口端部附近之内側面設 有做為朝向前述開口端部從前述飛散防止蓋之内部往外部 之面被形成且導引來自前述空隙之外氣之導入之導引部。 26、 -種噴珠加工裝置’具備申請專利範圍帛^至u 項中任一項記載之喷射材回收裝置。 27、 一種喷珠加工裝置,具備申請專利範圍第Η項記 載之喷射材回收裝置。 28、 一種喷珠加工裝置,具備申請專利範圍第16項記 載之喷射材回收裝置。 29、 一種喷珠加工裝置,具備申請專利範圍第17項記 載之喷射材回收裝置。 30、 一種噴珠加工裝置,具備申請專利範圍第μ項記 載之喷射材回收裝置。 3 1、一種喷珠加工裝置,具備申請專利範圍第19項記 載之喷射材回收裝置^ 32、 一種噴珠加工裝置,具備申請專利範圍第2〇項記 載之噴射材回收裝置。 33、 一種噴珠加工裝置,具備申請專利範圍第?!項記 載之噴射材回收裝置。 34、 如申請專利範圍第26項之喷珠加工裝置,其中, 36 201127557 進步具備為了吸引回收喷射材之吸引裝置、由前述回 "喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 35如申請專利範圍第27項之喷珠加工裝置,其中 進一步具供* 1 , 、為了吸引回收喷射材之吸引裝置、由前述回 後之喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 36如申請專利範圍第28項之喷珠加工裝置,其中 進步具備為了吸引回收喷射材之吸引裝置、由前述回 後之喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 37如申請專利範圍第29項之喷珠加工裝置,其中 進步具備為了吸引回收噴射材之吸引裝置、由前述回 後之喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 38如申請專利範圍第3〇項之喷珠加工裝置,其中 進一步具備為了吸引回收喷射材之吸引裝置、由前述回 後之喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 39、如申請專利範圍第3 1項之喷珠加工裝置,其中 進一步具備為了吸引回收喷射材之吸引裝置、由前述回 後之喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 40如申晴專利範圍第32項之喷珠加工裝置,其中 進一步具備為了吸引回收噴射材之吸引裝置、由前述回 後之喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 41、 如申請專利範圍第33項之喷珠加工裝置,其中 進一步具備為了吸引回收噴射材之吸引裝置、由前述回 後之喷射材分離取出可再使用之喷射材之分級機。 42、 一種使用如申請專利範圍第34項記載之喷珠加 收 收 收 收 收 收 收 收 工 37 201127557 裝置之喷珠加工方法’以前述喷射嘴將喷射材往被加工面 喷射,並以前述吸弓丨裝置吸弓丨回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材; 由回收後之該嗔射材分離取出可再使用之喷射材。 43、 -種使用如中請專利範圍第35項記載之噴珠加工 裝置之喷珠加卫方法,以前述噴射嘴將喷射材往被加工面 喷射,並以前述吸引裝罟明引 教置及引回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材; 由回收後之為噴射材分離取出可再使用之喷射材。 44、 -種使用如巾請專利範圍第%項記載之噴珠加工 裝置之喷珠加工方法,以前述噴射嘴將喷射材往被加工面 喷射,並以前述吸引裝罟明3丨门& 1 w 1衮置及引回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材; 由回收後之該噴射材分離取出可再使用之喷射材。 45、 種使用如申請專利範圍第37項記載之喷珠加工 裝置之喷珠加工方法,ιν 乂 .+. a上 以刚返噴射嘴將噴射材往被加工面 喷射,並以前述吸引裝罟成2丨η l 1 裝置及引回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材. 由回收後之該切材分離取出可再使用之喷射材。 46、 一種使用如申士主宙』,丨冷々 甲3月專利範圍第38項記載之喷珠加工 裝置之喷珠加工方法,以诰、Α κ 以則边噴射嘴將喷射材往被加工面 噴射,並以前述吸引梦筈成2丨 展置吸引回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材; ”飛政防 由回收後之β亥噴射材分離取出可再使用之喷射材。 38 201127557 47、 一種使用如申請專利範圍第39項記載之喷珠加工 裝置之喷珠加工方法,以前述喷射嘴將喷射材往被加工面 喷射’並以前述吸引裝置吸引回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材; 由回收後之該喷射材分離取出可再使用之喷射材。 48、 一種使用如申請專利範圍第4〇項記載之喷珠加工 裝置之喷珠加工方法,以前述喷射嘴將喷射材往被加工面 噴射,並以前述吸引裝置吸引回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材; 由回收後之該喷射材分離取出可再使用之噴射材。 49、-種使用如中請專利範圍第41項記載之噴珠加工 襄置之喷珠加卫方法,以前述喷射嘴將喷射材往被加工面 喷射,並以前述吸引裝置吸引回收飛散防止蓋内或飛散防 止蓋及第2飛散防止蓋内之喷射材· 由回收後之該嘴射材分離取出可再使用之噴射材。 八、圖式: (如次頁) 39
TW099128611A 2009-09-11 2010-08-26 Spraying material recovery apparatus and jetting processing apparatus and jetting processing method including jetting material recovery apparatus TWI513547B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009210309 2009-09-11
JP2010106095 2010-05-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201127557A true TW201127557A (en) 2011-08-16
TWI513547B TWI513547B (zh) 2015-12-21

Family

ID=43625203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW099128611A TWI513547B (zh) 2009-09-11 2010-08-26 Spraying material recovery apparatus and jetting processing apparatus and jetting processing method including jetting material recovery apparatus

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5578181B2 (zh)
KR (1) KR101548243B1 (zh)
CN (1) CN102216032B (zh)
TW (1) TWI513547B (zh)
WO (1) WO2011030924A2 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9821434B2 (en) 2012-06-27 2017-11-21 Sintokogio, Ltd. Shot peening method, shot peening evaluation method, and shot peening evaluation assembly structure

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103474617B (zh) * 2013-09-11 2015-10-28 深圳好电科技有限公司 一种锂电池用涂碳铝箔的生产方法及设备
CN103846815A (zh) * 2013-10-23 2014-06-11 洛阳市鼎晶电子材料有限公司 一种除尘风橱
BR112017018437B1 (pt) * 2015-06-11 2021-06-08 Sintokogio, Ltd aparelho de jateamento de granalha
KR101913399B1 (ko) * 2016-07-29 2018-11-01 주식회사 포스코 분말 퇴적물 제거유닛 및 이를 갖춘 분말 퇴적물 제거로봇
DE102017220032A1 (de) * 2017-11-10 2019-05-16 Premium Aerotec Gmbh Verfahren zur behandlung einer oberfläche eines faserverbundbauteils
CN109201533B (zh) * 2018-09-06 2020-01-24 龙元明筑科技有限责任公司 一种干挂石材幕墙用建筑装饰机器人
DE102019112791B3 (de) * 2019-05-15 2020-06-18 Netzsch Trockenmahltechnik Gmbh Schleifvorrichtung zum verrunden von partikeln
CN110280544A (zh) * 2019-06-27 2019-09-27 株式会社三友 清扫装置及清扫方法
CN113427403B (zh) * 2021-08-12 2022-11-01 北京大学口腔医学院 水刀切削装置
CN114559657B (zh) * 2022-04-29 2022-08-02 石家庄铁道大学 一种具有多角度边角修正功能的3d打印装置及方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0102430A1 (en) * 1982-09-07 1984-03-14 Metal Improvement Company Inc. Shot peening or blasting apparatus
US4723378A (en) * 1987-02-24 1988-02-09 Progressive Blasting Systems, Inc. Exhaust and reclaim system for blasting enclosures
JPH02198680A (ja) * 1988-10-25 1990-08-07 Nippon Kansen Kogyo Kk 塗料等の飛散防止装置
DE9310642U1 (de) * 1993-07-16 1993-10-21 Ernst Peiniger GmbH Unternehmen für Bautenschutz, 45145 Essen Flächenstrahlvorrichtung
JP3031304U (ja) * 1996-05-16 1996-11-22 株式会社タダキカイ サンドブラスト用の砂塵飛散防止装置
JP3921258B2 (ja) 1996-06-03 2007-05-30 株式会社不二製作所 ブラスト装置
DE19780863D2 (de) * 1996-08-16 1999-12-23 Ricardo Reh Vorrichtung zum Strahlen plattenförmiger Werkstücke
DE202004005386U1 (de) * 2004-04-01 2004-06-17 Krumm, Wolfgang, Prof. Dr.-Ing. Reinigungsanlage, insbesondere Entzunderungsanlage
JP2005329482A (ja) * 2004-05-19 2005-12-02 Sintokogio Ltd ショットブラスト装置
JP4486468B2 (ja) * 2004-10-08 2010-06-23 株式会社不二製作所 研磨材噴射装置
US9039487B2 (en) * 2008-08-07 2015-05-26 Fuji Manufacturing Co., Ltd. Blasting method and apparatus having abrasive recovery system, processing method of thin-film solar cell panel, and thin-film solar cell panel processed by the method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9821434B2 (en) 2012-06-27 2017-11-21 Sintokogio, Ltd. Shot peening method, shot peening evaluation method, and shot peening evaluation assembly structure

Also Published As

Publication number Publication date
JP2013504439A (ja) 2013-02-07
TWI513547B (zh) 2015-12-21
CN102216032A (zh) 2011-10-12
JP5578181B2 (ja) 2014-08-27
KR101548243B1 (ko) 2015-08-28
WO2011030924A2 (en) 2011-03-17
KR20120047842A (ko) 2012-05-14
CN102216032B (zh) 2014-05-14
WO2011030924A3 (en) 2011-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW201127557A (en) Apparatus for recovering abrasives, apparatus for blasting process comprising the apparatus for recovering abrasives and method of blasting process
US7730896B2 (en) Dry cleaning device and dry cleaning method
KR20100056988A (ko) 연마재 회수 시스템을 갖는 블라스트 가공 방법 및 장치, 박막 태양전지 패널의 가공 방법 및 이에 의해 가공된 박막 태양전지 패널
WO2011039972A1 (ja) 清掃ノズル及びそれを備えた塵埃除去装置
JP5879903B2 (ja) 乾式クリーニング筐体、乾式クリーニング装置及び乾式クリーニングシステム
JP4689765B2 (ja) 洗浄媒体及び洗浄装置
TW202005717A (zh) 旋風式分級裝置之排出機構、旋風式分級裝置及研磨加工系統
JP2005074563A (ja) 換気機構を備えたブラスト加工装置
KR101850689B1 (ko) 분진제거장치
CN104958045A (zh) 吸尘器
JP3921258B2 (ja) ブラスト装置
JP4954030B2 (ja) 洗浄媒体及びそれを使用する乾式洗浄装置
JP6097159B2 (ja) パーツフィーダー用除電器
JP3179338B2 (ja) ブラスト加工装置
CN103978438B (zh) 钢带通过式抛丸清理机
JP7146172B2 (ja) 異物除去装置及び異物除去装置を備えたブラスト加工装置
JP4256510B2 (ja) サンドブラスト加工における被加工物のクリーニングユニット
JP3125953B2 (ja) ショットブラスト装置
JP2008237985A (ja) 付着異物除去装置および付着異物除去方法
TWI526280B (zh) And a bead processing apparatus for a bead processing chamber in which the attachment of the sprayed material and the dust to the inner wall is suppressed
JP2004181580A (ja) 成形品のバリ取り装置
JPH08252769A (ja) クローズド型ブラスト装置
JP6069917B2 (ja) 乾式クリーニング筐体及び乾式クリーニング装置
JP2019213728A (ja) 固形物の粉取り装置
JPH10128666A (ja) エアブラスト装置