201105424 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 轉塗種旋 事七準備形成塗布液之液體膜。、 為&佈處理之 【先前技術】 使用平面顯示器卿)製程中之光微影程序時，頻繁 基板(例如玻璃基板)上塗佈光阻液之非旋轉H知 處理 塗佈不均勾時，於塗佈掃描中在基二;均-性或 向繞到狹縫噴嘴背面侧而形成之彎月面宜描方 間隙地占滿狹縫喷嘴之喷吐口盘某之光阻液無 it，1!旋轉塗佈法中’防止光阻乾燥膜膜厚. 為滿足此要件’作為塗佈掃描之事神備，需自狹縫喷嘴之 坌處理。 與長度同等或在其以上之門：：:二:^王邱阿迎水平設置狹縫喷嘴 與基板之間之塗佈間隙係必要條 v 土”田^宇*刖準 噴ϋ函蓋背面下端部進行形成光阻液液體膜之預塗處理 ，當處理法係在塗佈處理部附近水平設- 子馬上沿既定方向旋韓。 ^置亚貨吐光阻液，其後預塗滾 液迴繞至簡讀=^於職好了貞伽近之光阻 液體膜以料滾f外胸上，光阻液 膜自離。光阻液液體 轉機構，亦包使預塗滚子旋_之旋 等，一旦結束箱冷、塗滾子之刮刀或清洗喷嘴及乾燥噴嘴 滾子連續_，情藉_賴構使預塗 嘴及乾物分別朝_===::洗嗔 201105424 r Jί預塗處理為承触捲取自狹缝喷嘴喷吐之光阻 液而使用之碰滾子上的區域隨著狹縫噴嘴或驗滾子之尺寸不 同’而不需預塗滾子全周(360。），通常僅需半周⑽。)以下，1/4周 (90°)以下或是1/5周(72。)以下即可亦有可能。然而，以往一般的 預，處理裝置每當實行碰處卩料後處理如上述令預塗滚子 連f旋轉，對預塗滾子外周面整體(全周)噴送清洗液，故有大量使 用清洗液(通常係稀釋劑)之問題。 絲決關題’本射請人於翻讀〗巾辟—種預塗處 理法二為進行1次雜處理，令狹縫噴嘴之喷吐口與雜滾子上 定間隙對向、:一定量之處理液或塗佈液(例如光阻液)自狭 田、、、吐，並令預塗滚子恰旋轉g联旋轉角，使㈣塗滾子半 周以下之部分表面區域於該碰處理，在連續既定次數之預塗處 理結束後横跨全周集中清洗預塗滾子外周面。 、 此，塗處理法沿碰滾子之周向分财賴面成複數，依序 刀配此等为割區域(部分表面區域)使用於連續既定次數之預塗處 跨全周—併清洗預塗滾子外周面。此—併清洗處理藉 ^疋?機構使碰滾子連續旋轉，並同時使清洗機構與乾燥部作 ，知、跨全周集中清洗預塗滾子外周面，於進行各預塗處理時不 需用以將捲取於預塗滾子表面之塗佈液液體關下之刮刀，可 ^塗㈣後於清洗處理時雜之清洗液，且亦可防止清洗處理 曰"Τ產生微粒。 【先前技術文獻】 【專利文獻】 【專利文獻1】日本特開2007-237046 【發明内容】 (發明所欲解決之課題） 本發明係本財請人於上料散獻丨賴枕預塗處理法 之改良版’且以獨特的觀點純慮_塗處理之產出或是可 度，並同時實現更為節省預塗處理中使用之清洗液。 201105424 隍箱=理ί發Ξ提供—種預塗處理方法及預塗處理聚置，可佯 可靠度’並同時進—步削減清洗液之使用量。 i解决珠通之手段） 妙Ϊ =觀點巾的職處理方法係絲在驗麵轉塗佈 升 缝噴嘴的噴吐口附近，作為塗佈處理之事㈡ 形成塗佈^讀膜，其特: ㈣早備 口隔iiiH進=f分之預塗處理，令該狹縫噴嘴的噴吐 預泠竽早冰田噴 疋置塗佈液再使該預塗滾子旋轉，在該 預塗5子外，面上捲取—部分驗喷吐之塗佈液； 燥以序乾^亥預塗滾子外周面上所捲取之塗佈液液體膜乾 令該理=該第1乾燥膜， 預涂'、穿+外、冃而μ ^吐一疋置塗佈液再使該預塗滾子旋轉，在該 Γ第1乾燥膜不同之區域捲取-部分該經喷 附著===洗除該預塗滾子外周面上所 備形成塗布液液體膜，其特徵在於包作t佈處理之事別準 圓筒狀或狀職滾子，水平配置於既定位置； 碇轉機構，使該預塗滾子繞著其中心軸旋轉； 機構，為清洗該預塗滾子外周面㈣送 排氣機構，用以使該預塗滾子周圍強制排氣.， 先機構及該排氣機構之各動作; 定間隙平行對向於該預塗滾子頂部，使口= 201105424 構使該預塗滾子旋轉，在該預徐if子外闲 上捲部分該經喷吐之塗佈液， ^頂土 /衰子外周面 使在㈣續使該驗滚子旋轉， 乾燥膜，子卜周面上職取之塗錄職燥1作為第i 為進行另1次分之預塗處理， 2的喷吐π隔著既㈣隙平行對向於un’i狹缝 周面上與該第1乾燥膜不同之區域捲取-部分該ί喷:子/卜 希望次Ϊ之該預塗處理結束後，藉由該旋 時使該清洗機構與該排氣機構作動，藉由清洗之^ "t去除Ϊ難滾子賴面上卿著之液顧或乾顧。 依上述第1觀點之預塗處理方法或處理裝 為傕 ，留(附著)於该區域内之塗佈液液體膜乾燥以作為第1乾燥膜，且 %預ffl外周面上與第1乾燥膜不同之區域實施後續之預塗 处。弟1乾祕固定於既定區域内而固持在該處，故即使於且 附近實施後續之預塗處理林會自第丨乾燥膜受到影響(干擾)、,、 第1乾燥膜宜藉由自然乾燥以半乾狀態形成。因此，$ =滾子上捲取-部分塗佈液後，預塗滾子仍持續保持旋轉，使塗 佈液自絲燥。藉由如此之自絲燥法，各乾雜可以半乾狀態 一併清洗處理之，易於沖掉乾燥膜，可削減清洗液使用量。 一併清洗時，宜使預塗滾子旋轉，並同時僅對預塗滾子外周 面中附著有液體膜或乾燥膜之區域喷送清洗液，藉此可進一步削 減清洗液使用量。 且在一併清洗如，宜先對預塗滾子外周面上所附著之液體膜 或乾燥膜之範圍及膜厚進行測定，根據該測定結果可決定一併清 洗時清洗液之使用量。藉此，可進一步削減清洗液使用量。 201105424 • 明第2觀點中的預塗處理方法_來在用於非旋_冷你 法塗佈處理之狹缝喷嘴的噴也口附近，作為塗佈處 形成塗佈液液體膜.，其特徵在於包含： 事刚準備 ί f序’令該塗佈處理用狹缝噴嘴或是非塗佈處理用之另 ，平行對向，使該狹縫喷嘴喷吐塗佈液並使該預塗=子=子 在該，塗滾子外周面上捲取—部分或全部該經喷吐^涂佈^ ’ ，平行對向於該預塗滾子頂部，使該狹縫定 液再使該預塗滚子旋轉，在該第i層乾卜讯 疋置塗佈 吐之塗佈液；及 乐純知膜上振取一部分該經喷 附著之液£?或=膜月洗之方式一併去除該預塗滾子外周面上所 * 塗 喊塗布液液體膜，其舰在於包含：、、主佈處理之事則準備 ，筒狀或圓柱狀預塗滾子’水平配置於既 j轉機構，使_魏子繞著其巾心倾轉.， >月洗機構，為清洗該預塗滾子外周 、主 ==構，用以使該預塗滾子周圍強:C; 才工制。卩’控制该旋轉機構、該清洗機、 且令該塗佈處理用狹縫嘖嘴或是非排軋機構之各動作； 嘴隔著既定間隙平行對用之另-狹縫喷 面上捲取—部分或全部驗纽之ϋί轉’錢鮮滾子外周 201105424 該預未藉由該旋轉機構捲取該塗佈液後 液液觸㈣線.之塗佈 子頂:p、，1·^^!之預塗處理’使該第1層乾燥膜位於該預塗滾 滾子頂部了 向於該預塗 ;，子旋轉，在心層乾=佈捲 早希數之4預塗處理結束後，藉由該旋轉機構使預备子 式·^去=ίί、ίΐ=_排氣機構作動，藉由清洗G # μ I、,'衰子外周面上所附著之液體膜或乾燥膜。 分之預塗ί狀或處縣置，树為某1次 ί施後續Ϊ^^Ϊί 子卜周面上形狀第1層乾燥膜上 層液體膜。ΪΓ乞燥膜上_捲取第2 膜之長度㈣θΛϋΐ卜周社麟取之第1層液體 2玆 (預塗處理第久'、層液體膜捲取之次數 :==之。藉:二^ 洗液進-、幅增加’亦可實現一併清洗時清 程序ϊί?，之二紐：上述* 2觀財麵處理綠内該第1 ζ二刀之預塗處理，令該塗佈處理用狹縫喷嘴的噴吐 二間隙平行對向於該預塗滾子頂部，使該狹缝喷嘴嘖吐 佈預液塗滚一 ，苑iii ΐ乾燥膜宜藉由自然乾燥以半乾狀態形成之。因此， 持旋ίΊΞϋίΐ—部分塗佈液後’預塗滾子宜仍持續保 '輅排讀構、准持未啟動以使塗佈液膜自然乾燥。藉由如此 201105424 乾狀態-併清洗處理之，易於沖 作為車父佳之另_ At、 2程^與該第3料之2觀对碰處理方法在該第 ί 6程序，^，二^膜膜厚分布特性進行測定；及 膜膜厚均-性超過x—蝴定結果’於該第1層乾燥 之判定結果，於該實行該第3程序 出主旨為應，實行該第曰3^之未超過該基準時，提 燥，膜厚ί行置包含用以對該預塗滚子上乾 定，猎由顧厚敎部_第】層賴膜之膜厚分布特性進行測 -性=該Si:，，’於該第1層乾燥膜之臈厚均 燥膜上進ΐίίίΐ均—性未超過該基準時，中止在該第1層乾 喷嘴3於後續之預塗處理中預定是承接由狹縫 進^ 之帛1層乾雜讀_厚均—性） 進订t力能，可提升預塗處理之產出妓可靠度 寸未達樣’該第3程序中沿周向之塗佈液捲取尺 =運到韻1程序中沿周向之塗佈液捲取尺寸的v 相社麟取之111驗魏之蝴沿周向尺 相當(通下 捲取之第2層液體膜之長度(沿周向尺寸） 所接!^日'’依較佳之—癌樣’使在第3程序中於第1層乾燥膜上 用盘燥以作為第2層第1乾燥膜。其後，使 二弟層弟1乾她不同之區域在第1層乾燥膜上進行又1 人刀之預塗處理，於此區域内捲取塗佈液(第2層第2液體膜）。其 201105424 洗;:時膜:掉第1層乾燥膜與第2層第1乾燥膜及第2 ，使在第3程序巾於第1層乾燥膜上所捲 =之主佈親體膜乾燥以作為第2層乾雜。其後，使用 ίίίί)進彳次分之預塗處理，於祕域内捲取塗佈液(第3 於一併清洗時同時沖掉第1層乾燥膜、第2層乾 秌胰與弟3層液體膜(乾燥膜)第1乾燥膜。 冷予(第4程序)時，宜使碰滾子_，並同時僅對預 巾崎有液體贱乾舰之區域魏清洗液。藉 v削減一併清洗時清洗液之使用量。且亦可在一併清 及^ 滾子外周面上賴著之各液體膜或乾燥膜之範圍 旦，U'、1疋’根據此測定結果決定一併清洗時清洗液之使用 里，=&，y更促進—併清洗時清洗液使用量之削減。 本洽欲3觀點中的職處理方法仙來在用於非旋轉塗佈 来ί二狹缝噴嘴的喷吐口附近，作為塗佈處理之事前準備 形成ί佈液液體膜，其特徵在於包含： +備 口隔行1次分之預塗處理’令該狹縫喷嘴的噴吐 對向’使噴二配置之圓筒狀或圓柱狀預塗滾子頂部平行 令躲、^^噴㈣吐—定量塗佈液再使該預塗滾子旋轉，在 ΐΐίί周面上捲取一部分該經喷吐之塗佈液； 之塗ΐ液、該第1程序中於該預塗滾子外周面上所捲取 乾卡以作為第1層第1乾燥膜； 乾燥膜，二姑行另1次分之預塗處理，錯開該第1層第1 滾i頂^ 嘴㈣吐ϋ隔著既定_平賴向於該預塗 ㈣祕使塗滾子旋 分該經噴吐之^佈液周面上與該第1乾制不同之區域捲取—部 之塗該第3程序巾於該碰滾子外周面上所捲取 师夜液由，以作為第1層第2乾燥膜；. 10 201105424 ^ 2 1 ^ J間隙平行對向於該預塗滾子頂部==口 佈液再使該職滾子娜，在該第丨M 料一疋置塗 一部，經喷吐之塗佈H ^ 1層弟1或弟2乾燥膜上捲取 附著藉由清洗之方式—併去除該職滾子外周面上所 佈法於非旋轉塗 圓筒狀或圓柱狀預塗滾子，水平配置於. 旋轉機構，使該預塗滾子繞著其中心軸旋轉· ’ 碰滾子外周面而噴送清洗液； ，乳機構，用以使該預塗滾子周圍強制排氣；及 控ΓΓί轉機構、該清洗機構及該職機構之各動作； 上捲塗滚子旋轉，在該預塗滚子外“ 該預===保持未啟動’藉由該旋轉機構捲取該塗佈液後 液寺績旋轉，使在該預塗滾子外周面上所捲取之塗i 夜液錢車乞無，以作為第1層第1乾燥膜， . 噴嘴2d1-:,分ί預塗處理’錯開該第1乾燥膜’令該狹縫 縫噴;噴吐—工對向於該預塗滾子頂部，使該狹 在該雅紛瞻麵子旋轉， 經噴吐之塗佈液 4乾域不同之區域捲取—部分該 仍使持未啟動’藉由該旋轉機構捲取該塗佈液後 液=:=第;=外周面上所捲取之塗佈液 11 201105424 為進行又1次分之預塗處理，使該第1層第丨 位於該預塗滾子頂部，令該狹缝噴嘴的噴吐口 =弟2乾燥膜 對向於該預塗滾子頂部，使該狹缝噴嘴噴吐定間隙^行 該旋轉機構使該預塗滾子旋轉，在該第丨芦第二j佈液再藉由 捲取一部分該經喷吐之塗佈液， 3弟2乾燥膜上 所希望次數之該預塗處理結束後，藉由該旋轉 子旋轉，並同時令該清洗機構及該魏機構作動轉滾 式一併去除該預塗滚子外周面上所附著之所有薄膜:由巧洗之方 用而?上f第3觀點之預塗處理方法或處理裝置’在預塗穿子外 行乾燥程序在碰滾子賴面上形成第 處理進 又，在第i層第！或第2乾燥膜上亦實施4 =弟=膜。 目乂於預塗滾子外周面上所捲取之賴膜之長度周向尺 層乾燥膜上職取之第2層液體默紐(沿周$弟 / ’於預塗滾子—周内第2層液體膜 ^ 1 ！層㈣麟取之蝴讎處理 層各液體膜(或是乾燥膜)可藉由-併清洗同時去除之層及弟2 觀點之預塗處理方法或預塗處理裝置與上述第2 滾子上可不插入、主^預金處理裝置相同’亦可大幅增加在預塗 4清、先而連續實施之預塗處理次數，亦可實現 併π洗吟β洗液使用I進一步大幅之削減。 、 形成塗布練料歸絲之事前準備 吐口二之預塗處理’令該狭縫喷嘴的喷 取-ίίίΙί再使該職滾子旋轉，在該預塗滾子外周面上ί 12 201105424 膜厚測定部，肋賴預塗滾子外 體膜或其乾雜之财分布躲進行^ =所絲之塗佈液液 枯从嘴吐功能判定部’根據由該膜厚測定部獲得之膜严八布 特性測定結果，判定該狹縫喷嘴之噴吐功能良否。 、子刀 依上述構成，可自實施驗處理後在 =液體膜或其乾燥膜之膜厚分布特性欺狹缝噴嘴=== 良否，故可提升塗佈處理之產出或是可靠度。、、力月b (發明之效果） 又 =本發明之驗處理方法或職處 。，可保障預塗處理之可靠度，並同時進—步削 【實施方式】 以下，參照附圖說明本發明之較佳實施形態。 [預塗處理裝置之構成] ~ 圖. 中顯不本發明-實施形態内預塗處理震置之。 此預塗處理裝置於例如LCD製刻光微影程序中進行非徐^ 法之光阻塗聽狀絲塗職置(未經圖示)内，為進行光阻ς 處理配置被處理基板於進行載置或是浮升輸送之塗佈平 ς 示)附近。 α 、'工θ 露出 圖示之預塗處理裝置中，殼體10由在上表面具有狹 部12之長條形框體所構成’藉由軸承(未經圖示)以水平且可 之方式支持所收納之預塗滾子14,俾其頂部隔著開口部12於 預塗滾子14侧如不鏽鋼所構成之圓筒狀或圓柱狀滾子，具 有一定外徑(例如100〜150mm)與後述涵蓋狹縫噴嘴72全長之^ 度。殼體10亦可例如以不鐵鋼製作。 於殼體10内，自預塗滾子14頂部(最上部)起至底部(最下 在沿正的旋轉方向（圖1中係順時針)前進途中，最好是在旋 置90°〜180°之區間内，設有清洗機構16之清洗噴嘴。此清洗喷嘴 13 201105424 宜由長條形2流體喷射噴嘴1δ所構成，以涵蓋預 之長度與其平行配置，經由配管2〇、22 皇垃、、n王長 氣體供給部26。於配管20、22途中八为卜/月》液供給部24及 清洗讎奸μ時, 自清洗液供給部24及氣體供給部26分別接洗嘴18 及氣體(例如空氣或氮氣)所希望之流量，n釋劑） 體，自狹縫或多孔型嗔吐口以噴射流之方式朝塗 閉閥28、30，特別是可在後述來自主^ ^及開 意地控制清洗液及氣體之流量。 之扣不下個別且任 於開口部12與清洗機構16之間之區間，奶 不接觸預塗滾子14外周φ程度的微小_接— 3 蔽部32。清洗預塗滾子14時^^ 不通過霧氣遮蔽部32之間隙朝開口部』 於殼體10内，以預塗滾子14為中心霧 構16= 反側’設有霧氣導人部34、抽吸心及_ g機 位置設於自雜滾子14頂部沿旋轉方向i轉角 間内。圖示構成例之霧氣導入部34㈣Sf1 Ξ間itr1G内壁與預塗滾子14外周面之間形成之霧ϊί入 位%宜設於自碰奸14條域射向旋轉角 肉1_古/- Γ之區間内。圖不構成例之強制乾燥部犯柯巴門 =體1〇内壁與預塗滾子14外周面之間形成= 抽吸口 36經由真空通路44及真空導管46，通往 泵ίΐΪ風扇(未經圖示)及霧氣捕集器或過濾器等之真空^置 。^广通路44終端附近，設有藉由排氣閥控制部5〇、^ ϊίίϊΓΊ52。—旦使真空裂置48導通，令排氣阻尼器5 為開啟紅、’務氣導入部34及強制乾燥部38即作動，霧氣導入 14 201105424 用氣流及液體甩除用氣流分別於霧氣導入用間隙4〇及液體 間隙42自外流往吸氣口 36。一旦關閉排氣阻尼器52， ^ 真空裝置48導通，吸氣口 36中亦不及於真空，霧氣導 強制乾燥部38會呈斷開狀態。 1斗及 於此預塗處理裝置中，用卩強制使預塗滾子14 夕 氣麵45如上述，包含霧氣導入部34、抽吸口 3 乾= 38、真空裝置48、排氣閥控制部50及排氣阻尼 虫利钇各# 於殼體10产底’預塗滾子14正下方之位置形成有排放口 ％ 此排放口 54經由排液管56通往排放槽％。 於此預塗處理裝置中，用以使預塗滾子 ?包含馬達60、旋轉控制部62及編碼器64。馬達 達所構成，此旋轉驅動軸經由例如帶輪或傳動皮帶 經圖不)連接預塗滾子14之旋轉軸。旋轉# 彳化冓(未 達60之基本動作(旋轉、停止、速度控==62=堇可控制馬 任意控制馬達60之旋轉量及旋轉肢柯猎由編碼器64 於此預塗處理裝置中，設有用以測定 膜尽感測态66設置或配置於開口部丨 喷嘴72，自該位晋以非桩縮女日附近，俾不干擾狹縫 ^ !4 _l工亦P光學式測定正前方於預塗矛 外周面上所附者之光阻膜或其液 谓土濃 可藉_如支料料可動之一^成 狹縫嘴嘴72遠離殼體10之開口部厚感測裔、66，於 開口部12上。 τ 5膜厚感測器66對準 膜厚運算部68將膜厚感測器66 卜 ^袞子Η上光阻液膜之膜厚測定值 號輸入，運异預塗 —定間隔配置複數個膜厚感測器66成^好14之抽方向以 之周向，沿軸柯料敏紐液補沿驗滾子Η 厚測定部67獲得之膜厚測定值或分布特性。將藉由膜 制部70。 膜居分布特性測定值送往主控 15 201105424 主控制部70包含按照既定軟體動 塗處理裝置内清洗機構16、排氣機構45之，=，統合控制此預 定部67之動作。於圖示之構成例中 1，構65及膜厚測 裝置招、膜厚感測器66及膜厚運算部H 7〇直接控制真空 制部25、排氣閥控制部5〇及旋轉控=動作，亚赭由清洗控 18、排氣阻尼器52及馬達6〇各動^ 流^喷射喷嘴 構65之旋轉控制部62可掌握或是控 70藉由旋轉機 轉角位置。 頂主/袞子Η之旋轉量及旋
控制部70統合控制此預塗處理裝置内敕體之m 2關於預塗處理而言，控制該光 f内d-序二亚J 佈處理用狹缝喷嘴72所有動作。 布叙置中所包含之光阻塗 亦即於該光阻塗佈裝置中，狹縫喰 支持，且可輸送至預先設定之空‘動機構立74 置。且於狹縫喷嘴72中， 疋位於任思位 給光阻液。在此，於光阻供由光阻供給管78供 理而言，主控制部70藉^义閉閥80。就關於預塗處 閉閥80 ,控制狹縫嗔嘴曰& ^ ' 4、光阻供給部76、開 ^塗處理及光阻时吐動作。 方法ί === 8 ’ 此預塗處理裝置可實施之預塗處理 平台上，置之該光阻塗佈裝置中’每當在塗佈 iff塗處理裝置進行1次分的預 進行二開始子i4外周面橫跨全周重設成潔淨狀態，再 波形顯示圖2之預人;時之各階段。圖3中以時間軸上的 於此第1 處動作中預塗滾子14之旋轉速*。 .構74使狹縫‘f 首先如圖1所示’藉由喷嘴移動機 頂部隔著岐縫料72之喷相與難滾子μ 16當然保持耒纟翻 f十〜數百叫0平行對向。此時，清洗機構 寻未啟動，排氣機構45亦保持未啟動。 16 201105424 其次如圖2之I(噴吐)所示，令預塗滾子14靜止，直接藉由 阻供給部76對狹缝喷嘴72噴吐一定量光阻液R。 曰 此光阻液喷吐之動作於一定時間（圖3之t〇〜t〇内進行。由狹缝 喷嘴72之喷吐口喷吐之光阻液R之液體抵達預塗滾子14 附 近再沿周向朝周圍擴散。 接著，藉由旋轉機構65於既定時間點(圖3之時點 滾子I4之旋轉動作開始，如圖2之11(捲取)所示，光阻液 至狹縫喷嘴72之背面下端部72a，光阻液R捲取於預涂滾子^ 外周面上。在此，捲取光阻液R時之旋轉速度v⑵目對H 不會招致過快切斷光阻液R之液舰，可卿例如關速产 伐言，於既疋吋间點（圖3之時點y迅速提高預塗滾 旋轉$度。藉此，如圖2之ΠΙ(切離)所示，切離光阻液尺子 膜，分成狹缝喷嘴72侧與預塗滾子14側。此時，若使狹 72上昇，即可更為謝纽確實地魏定部位分離光 f 面自？噴吐口起涵蓋背面下端部72續:二 相背72。另-方面，於預塗滾子14外周面上，如上 捲取之光阻液之液難RM〗。此光阻賴歸 =^ 於旋轉角度範_可奴為例如7〇。〜75。。1 /Q周向捲取尺4 於此實施例中，切離光阻液膜咖後 乾燥)所·塗滾子Η持續纟_轉。 ® 速度如以圖3之實線V所示，可持續祕袞子14之域 (圖3之時點_，如圓周速：f二離二= 於此：未啟動 r果ί效預塗滚子14亦持續維持旋轉，籍此動^ 17 201105424 垂滴第3果止預塗滚子14上所捲取之光阻液膜舰1之液體 罔t即，於捲取(Π)及切離(冚)動 液膜^自預塗滾子14頂部沿周)=部=袞子14上的光阻 ^ ΐ在此預塗滾子14若停止旋轉，沿周向朝T之力即合舌 =、、=用於光阻液膜舰]，光阻液膜_會於預塗滾子曰14 ί ⑽使用20cp以下的低黏度光阻液= 發生光阻液膜之液體垂滴。 文於預土滾子上如上述易於 然而’於此貫施例中’藉由預塗滾子 阻液膜聰1作用之重力“（引發^體垂$ 散，以表f張概不因液體垂滴而擴 AM作為第2效果，藉由停止排氣機構45，持續維Μ Ξ自=時間内高效率地使預塗滾子14上所捲取= 亦即’若使排氣機構45導通，令預塗滾子14旋轉 子14上的光阻液膜_於強制乾燥部38之間隙42 = ，受巨大的應力，導致易於降低膜厚均—性，別 紐部38之間隙42内施加於光阻液膜RJ%逆風之壓力若、”、乂 有差異，在光阻液膜表面即會易於沿周向造成條= 凸。若停止排氣機構45,於預塗滾* 14旋轉中其外周面上= 液膜⑽通過間隙42時亦不需承受逆風之壓力，可接 大氣中以靜止狀態放置時之自然乾燥。 寺於在 如此，於預塗滾子14上光阻液膜聊因自然乾燥 持液狀而膜的表層部乾燥固化，呈半乾或微乾狀態。—旦〕 之半乾狀態，預塗滚子14之旋轉即使停止，於光阻液=: 會發生液體錢。 _^亦不 於此貫城㈣中，為與自然乾燥程序前完全呈液 膜 區別，稱自然乾燥程序後呈半乾狀態之光阻液膜 為光阻乾燥膜[RMJ。 1 ^ 18 201105424 乾焊使5 ί滾子14旋轉對光阻液膜腿1所進行之自然 f (圖3之叫進行。於此期間内，藉由喷 =====平台，以在此進行基板- 即再回到此預i二里裝i 佈處理一旦結束’狹縫喷嘴72 隔著既定間隙與預塗滾子向進行定位’俾該噴吐口 塗處之各階段。於此第2次預 子所=之第1光阻乾燥膜陶，而在該預塗滾 ί 一72 _制之雜下，令狭射嘴72喷 序。料仃九阻/夜R之捲取(11)、切離⑽、自然乾_ν)各程 程序此處辦烟，藉由捲取⑻及切離(πι)之 7〇〇 75°^βΓ1^ 外周面上以既定沿周向尺寸(旋轉角度範圍 7〇〜75 )捲取光阻液R，形成光阻液膜响。又 = =Μ旋轉並自切離(m)轉變至自然乾燥㈣動作:不引起 3 區域内使光阻液膜譲2自餘燥。如此在預 向設定於下游侧旁之分割區域内]作=二在= 餘物’以既定靡尺寸(豕75。)形成第2光阻乾燥ς 第3次預塗處理省略圖示，而以與上 處理相同之程序及動作進行。結果，在與2次預塗 [聊]、[RM2]不同之區域内，通常在沿旋轉方向於=餘膜 乾燥膜[RMJT游側旁之分割區域内，作為附隨於^ 3 ==阻 之殘餘物’以蚊沿周向尺寸(7G。〜75。)形成第3光里 又，於第3次預塗處理結束之時點，第 陶3]。 雖已如上述因自然乾燥而呈半乾狀態，#第弟H__3] 丨-Μ及弟2光阻乾燥膜 19 201105424 [RM〗]、[RM2]健祕料餘H。脚，f丨衫2光 於預'塗滚子14上完全未錢強制』處it 處理’故即使自然乾燥之時間長達數倍仍尚維持半乾狀能。… 於此第1實施例中’預塗滾子1〇卜周面橫跨全周重^ Ϊί二，進行蚊次數’例如4次預塗處理，緊接於Ϊΐ; 主滾子14進行一併清洗(外周面全周之潔淨化）。 及緊於士一周内進行最後(第4次)預塗處理 及緊接於其後之-併清洗處理時之各階段 3ΪΪ圖5預塗處理動作及—併清洗處_作㈣塗滾0子Ik 於最後(第4次)預塗處理中亦如圖5 游侧旁的分割區域内捲取3光阻乾燥膜陶3]下 子 構16及排氣機構45作動。 、月（）耘序中，令m洗機 [_]、[舰2]、陶3]及光阻液膜職光阻乾燥膜 此測定結絲運算^式蚊清積)補厚’根據 如’可以在預塗滾子14上所附著洗液之使用量。例 的總光阻量(範圍X膜厚)為基準值，=且=(液^膜或乾燥膜） 準值(總光阻量)之數值。 、巧冼液使用量為等於該基 且就關於光阻膜測定而言，诵賫 之預塗處理，故亦可視附著於各^員^子14上係重複相同 陶3]、應4的範圍及膜厚相同，=阻膜[购、_]、 範圍（面積)及膜厚即可。 中之一，例如[RMJi 作為清洗(V)程序中較佳之—能 65與清洗機構16連動(合作），進&舍，制部70令旋轉機構 進仃控制，俾2流體喷射喷嘴18 20 201105424 僅對在預塗滾子.I4外周面全周中附著有 清洗液及空氣之2流體‘以此清 洗液之▲里或疋使用置如上述根據光阻膜之測定決定之。 如此’藉由自2流體噴射噴嘴18所噴射之2流 ，擊力’當然可㈣沖掉_著在預塗 面 輕易/沖掉半乾狀態之光阻乾難‘]、[^ 其中夕半混在清洗液巾流往正下方的排放Π 54，，則化 近飛L。如此於—併清洗中在2流體儒喷嘴18 周圍產生之務乳ma内朝上方飄起者由霧氧 致不會朝殼體10之開π部12側^由減遮心32所遮敝，大 管46另一直 =路於中開啟排氣阻尼器52，經由真空導 38供給來Γ真空裝置仙二36。對霧氣導入部34及強制乾燥部 嗔嘴氣導人部34 4G下端將在2流體噴射 ϊ、Ϊί ^ __吸人其中，霧氣ma於間隙40中严預 ^子14外周面順著旋轉方向流動，再將自間隙*上端於抽吸 上=士= 霧氣咖送往真空裝置48。強制乾燥部38將空氣自 方之大軋工間經由開口部12吸入間隙42中， 抽二出現=下端於 =方向逆向之氣流沖擊預塗滾子14外周面以甩除二 氣^收因此液魏除產生之霧氣mb，故乾燥效率高且可防止妾霧 如上述於清洗(v)程序間始再經過既定時間時(圖6 ‘使f機構16斷開，停止2流體喷射清洗。其後济; 之動4作 義構45(霧氣導入部34及強制乾燥^ 之強制乾^跨全取真空力使雜滾子14相面乾燥 则乙^木(VI)私序。又，經過既定時間後，關閉排氣阻尼器52: 21 201105424 =氣機構45斷開以停止乾燥處理，藉此結I-併清洗處理之全 強制ί燥—併狀處”包含清洗(v)及 ί ί i Γ 3〜t4)同長(例如60秒）。此時，清洗(ν)之處理 ’ 之t3 t5)可5又疋為例如20秒，強制乾燥(VI)之處理時間（圖 6之t5〜t6)可設定為例如4〇秒。 … 絲此第1實關’沿碰滾子14周向分财外周面 1 f . ' ^)，分配各分割區域給連續之既定次數(4次)預塗 Ξ液液後(第4次)預塗處理外各預塗處理中’在捲取光 卜i後仍持續維持預塗滚子14旋轉，藉此動作，可防 含m RMi之液體垂滴’固持光阻液膜_於各分割(分配) 可在㈣間内高效率地使光阻賴叫自然乾燥，而 底牛乾狀悲之光阻乾燥膜[RMi]。 如此，可防止於預塗滾子14上光阻液膜_〖之液體垂滴，故 二ΪΪ旁邊的未使用分觀域之虞，後續之預塗處理不會因 月，j面的預，處理而受到影響’可提升預塗處理之再現性及可靠度。 π著在遞滾子14上的各光阻賴腿丨可作為藉由自^乾 狀態的絲乾制_] ’或扣完錄雜的狀態清 量/易於沖洗，可雜清洗機構16之負擔，減少清洗液之使用 ，於一併清洗時，僅對預塗滾子14外周面中附著有光阻膜 巧]、_2]、陶3]、KM,之區域喷送·之清缝，故可進膜 步削減清洗液之使用量。 又，圖示例中預塗滾子丨4外周面係分割為4，1次預塗處理 二，周=之光阻液捲取尺寸為7〇。〜75。。然而，分魏及捲取尺寸 可係任忍者，例如每1次沿周向捲取尺寸亦可在70。以下即可，分 割預，滾子14外周面為5，連續5次使用。且在預塗滾子14外^ ，上毛、跨周所设定之複數分割區域之間預塗處理所使用之順^ 係任意者(順序不同），不與排列順序一致亦可。 、 22 201105424 圖8中以立體圖顯示上述依第丨實施例預塗處理方法之大致 程序。 [預塗處理方法之第2實施例] 其次就圖9〜圖12,說明可以此預塗處理裝置實施之預塗處 方法第2實施例。 、 、 此第2實施例係使在預塗滾子14上可不插入清洗處理而連續 進行之預塗處理次數飛躍性地增加之方法。此實施例中’至使用 預塗滾子14外周面，於-周内最後(第4次)之預塗處理中將捲取 在預塗滾子14上的光阻液之液體膜KM#切離之步驟(圖5之π 離))止，與第1實施例經歷相同之處理。 於第2貫施例中，此後非一併清洗(V)，而係與第1次〜第3 次預塗處理時相同轉變為自然乾燥(IV)程序。結果，在預塗滾子 外周面上’於第3光阻乾燥膜[RMj與第丨光阻乾燥膜[腺1]之 間所設定之分割區域内，作為附隨於第4次預塗處理之殘餘物， 以既定沿周向尺寸(70。〜75。)形成第4光阻乾燥膜_4]。 —接著，如圖9所示，主控制部70藉由旋轉機構65及膜厚測 j 67，測錢著在預塗滾子14上的所有光阻乾燥膜陶】]、、 [2]、j：RM3]、[RM4]之各膜厚分布特性。如上述清洗⑺前的膜 =測定伽來決定清洗液之使用量，故精度不需過高，但此時膜 二，性直接關係到預塗處理之可靠度(再現性)故宜盡量以高 亦即，於此第2實施例中，形成在預塗滾子Μ外周面上 Ιίί阻乾燥膜[腿1]、[腿2]、[腹3]、_4]係驗承接在後ί 予^處理中自狹缝喷嘴72喷吐之光阻液R之基底。此基底膜之膜 f均—性(平坦度)不僅影響捲取於其上的光阻液膜之均一性、 ’亦影響殘留於狹缝喷嘴72噴吐口側之光阻液膜财的 性1甚至影響光阻塗祕理巾塗佈在基板上的光賴之膜厚均- 上對乾ffl)程序不_顧而在預塗滾子14 上對先阻液腠RMi施加應力，故通常可獲得膜厚均一性(平坦度） 23 201105424 °然而，若絲自腳所不輕的麗力或 ϊϊϊ巧動’或狹縫噴嘴72之喷吐功能發生異常，即亦有可 $，之膜厚均一性(平坦度)不佳。於此實施形 二n塗處理之精度及再現性萬無—失，如上述使旋轉 ft、if厚測定部67作動，就所有光阻乾燥膜_ι]、陶j、 [RJVI3]、[RJV[4]檢查其膜厚均一性。 ㈣’膜厚均—性超過既定基準時，主控制部70根據 定結果，判定該光阻乾燥膜_]係可使用於後 =二止=理之良品。然而，膜厚均一性未超過該基準時，判 阻乾賊陶⑽、不可使用於後續職處理之不良品。 况明中，所有第】層光阻乾燥膜陣丨]、[RM 受到可使用（良品)之認可。 白 ，10中顯示第2實施例内，在已形成於碰滾子14外周面 各g 1光阻乾燥膜陶上進行後續，例如第5次預塗處理時之 5次預塗處理中，首先使第1層之第1光阻乾__^ 於預圣滾子14頂部’藉由喷嘴移動機構74使狹縫喷嘴72定位， =狹缝喷嘴72之喷吐σ隔著既定_(例如數十〜數百 滾子14頂部平行對向。 卜厂、]只土 、*其次如圖10之尺喷吐)所示，令預塗滾子14靜止，直接藉由 光阻供給部76令狹縫喷嘴72喷吐一定量光阻液r。 此光阻液噴吐之動作於一定時間（圖3之tG〜t〇内進行。由狹缝 ，嘴72喷吐口喷吐之光阻液R之液體抵達預塗滾子14頂部，亦 即第1層之第1光阻乾燥膜[RM^l，再沿周向於周圍擴散。 接著，藉由旋轉機構65於既定時間點使預塗滾子14開始旋 1 ’如圖10之11(捲取)所示，光阻液R迴繞至狹縫噴嘴72背^下 蠕部72a，在第1光阻乾燥膜[RMJ上捲取光阻液R'。 〜在此，由狹縫噴嘴72喷吐之光阻液R易於附著於係同一材質 之弟1光阻乾燥膜[RM!] ’故捲取時間（圖3之hH；2)相當程度較在 預塗滾子14外周面上捲取時短。藉此，因切離(111)程序殘留於第 24 201105424 1光阻乾燥膜[RM_的光阻液膜相 ⑽時大致相同。 ，、好14外周面上進行截取 作為一例，第1層光阻乾燥膜 4〇mm時，於本次(第5次)預塗處理捲取 ^ : 随、' 二又，於魅處理捲取在驗滾子14 _光阻 72舆預f袞子丨4之間之_隔盼〜數百tSti縫喷嘴 切離(III)程序後，與第i層時的預塗處理之 = 子14持續保持旋轉並轉變為自然乾燥(1 :過既定 預塗滾子Η停止旋轉。其結果，於預塗第工日;^ 乾燥膜陶扯，作為附隨於第5次預塗處理之殘餘物: 周向尺寸(例如約18。)形成第2層第1光阻乾燥膜㈣ /〇 後續之第6次及第7次預塗處理亦藉由與上述第5 户 理完全相同之程序，分別在第丨層第2光乾u pa乾燥膜[RM3]上進行。 _隣2』及弟3先 藉此’於預塗滾子14第！層第2光阻乾燥 附隨於第6次預塗處理之殘餘物，以與上述大致^ = 寸(約18。)形成第2層第2光阻乾燥膜[rmd。且心= 乾燥膜剛上，作為附隨於第7次預塗處 :：3 大致相同^周向尺寸㈣。)形成第2層第3先^燥=逑 於此第2實施例中，如圖U所示，在以第8 ^處^] 1層第4光阻乾燥膜[购上捲取第2層光阻液膜加4後-預塗J 子14馬上進行一併清洗(外周面全周潔淨化）。 ’土彳、 亦即，如圖11所示’於第8次預塗處理中，光阻液反之 (I)、捲取(II)及切離(III)各程序亦與第5次〜第7次預涂時 同，在第1層第4光阻乾燥膜[rmj上捲取光阻液膜=。、 25 201105424 然而，在切離(ΠΙ)後，卻跳過自然乾燥(IV)程序，預塗滾子14 持續維持旋轉，轉變為清洗(V)程序。於此清洗(ν)程序，令&洗 構16及排氣機構45作動。 ' 此時，於清洗(V)程序開始前，主控制部70亦藉由旋轉機 65及膜厚測定部67，測定預塗滾子14上所附著之第1層光阻 燥膜_〗]、[RM2]、[RM3]、[RMJ、第2層光阻乾燥膜[rmJ、 = [rm3]及光阻液膜mi4之範圍（面積)及膜厚，根據此測定結果，^由 運异決疋清洗(V)程序中清洗液之使用量。例如，可以預塗穿子μ 上所附著之所有光阻膜(液體膜或乾燥膜)之總光阻量(範^丨^膜严 為基準值’決定例如清洗液使用量為等於該基準值(總光阻量)之^ 值0 此第2實施例之一併清洗處理中清洗及強制乾燥之程 序基本上可分別係與上述第1實施例之一併清洗處理中 | 強制乾燥(VI)之程序同一内容之製程。 ' 依此第2實施例，不僅包含上述第丨實施例中之作用效果全 2 ’在第1層光阻乾燥膜[職]、[RM2]、[應3]、陶$ =施後續之預塗處理，集中進行預塗滾子14之―併清洗處理，故 亦可使清洗液使用量之削減效果倍增。 圖12中以立體圖顯示依上述第2實施例預塗處理方法之大 程序。 [變形例及其他實施例] ^上Ϊ第2實施例中’不僅可任意選擇在預塗滾子14外周面上 捲Γ第1層複數光阻乾燥膜陶之她及捲取順 ί捲所示’任意擇在第1層光阻乾燥膜陶上 、’捲取之^ 2層光阻麵呵之她及捲取順序。 層分⑦ί光阻_陶上進行第2 在預冷乎田與層*阻乾燥膜陶]不同之區域， Γ周面上進行另-第1層分之預塗處理。 於預_ 軸，相較 所办成之苐1層光阻液膜RM之沿周向捲 26 201105424 U3424 Ϊίί尺2糾噴血之沿周 1層光阻液膜RM，藉由盘=宜大致橫跨全周形成第 降於此第i層光阻乾燥膜^之為膜 短地分割分割區域，以實施相當多例二向較 又，於用以在預塗滾子14外周 之處理中，可令預塗滾子14触化成基底膜⑷層先阻膜） 預塗處理裝置。 代以專屬之其他狹缝喷嘴於例如
亦可ίϊ彳地域之第2層光阻乾賴μ上 刀』貝她设績之預塗處理’捲取第3屏# J 層以上以實施錄次雜處理。弟3層植顧。且亦可重疊4 於併清洗處理中，清洗液之使用量合 塗滾子Μ外周面全周喷送清洗液。用里雖&加，但亦可於預 預k處理裝置内各部構成或功能亦 例如於清洗機構16亦可使用或併用1形恶限疋。 具，例如刮刀，排之清洗工 可進行各種變形。4 ° 1特別疋強制乾無部38之構成 之結’柯利崎似預塗處理 進行败之構(或乾制)謂厚分布特性 ^產出長邊賴喷吐流之均-性)，哺升光 二:、介電等 液二間 ίί ==液等。本發明愤處理基板不限===可=
他千面顯不峨板、半導_心基板、光罩、印刷.基H 27 201105424 【圖式簡單說明j 圖1係顯示本發明一實施形態中預塗處 Ξ 顯示實施例中進行第1次預塗處理時各 子』=之預塗處理動作中以時間轴上的波形=滾 Ξ 3示進行第2次預塗處理時各階段圖。 理及緊接於其後之-併清洗處理時各階段圖。W4-人)之預塗處 圖6係圖2之預塗處理動作及— 波形顯示預塗滾子旋轉速度圖。 处甲以蚪間軸上的 圖7係用以說明清洗程序中預塗處理裝置之作用圖。 圖8係顯轉1實細巾碰處理方法大致料之立 圖9係顯示用以測定第1層光阻乾燥膜膜厚分布特性n 部位構成及作用圖。 子刀哗符性之重要 時各意顯示在第1層光阻乾燥膜上進行第1次預塗處理 圖11係不意顯示在第1層光阻乾燥膜上進行最 及緊接於其後的-併清洗處理時各隨圖。T喊咖塗處理 第1實施例中預塗處理方法大致程序之立體圖。 圖13係不思顯不一變形例中進行預塗處理時各階段圖。 阻膜於另一變形例在預塗滾子上形成基底膜(第1層光 阻膜）’於其上貫施預塗處理之方法圖。 、raii、rni4〜光阻液膜(光阻液之 【主要元件符號說明】 ma、mb〜霧氣 R〜光阻液 RF、RM、RM〗、RM2、R] 液體膜） 陶、陶、[腫2]、陶、_、[rmi]、[] 光阻乾燥膜 L 3」 28 201105424 ti、t〗、【3、丈5〜時點 V’〜假想線(短劃線） va〜旋轉速度 Vb〜速度 V〜實線 10〜殼體 12〜開口部 14〜預塗滾子 16〜清洗機構 18〜2流體喷射喷嘴 20、22〜配管 24〜清洗液供給部 25〜清洗控制部 26〜氣體供給部 28、30、80〜開閉閥 32〜霧氣遮蔽部 34〜霧氣導入部 36〜抽吸口（吸氣口)(真空口) 38〜強制乾燥部 40〜霧氣導入用間隙 .42〜液體甩除用間隙 44〜真空通路 45〜排氣機構 46〜真空導管 48〜真空裝置 50〜排氣閥控制部 52〜排氣阻尼器 5 4〜排放口 • 56〜排液管 5 8〜排放槽 29 201105424 60〜馬達 62〜旋轉控制部 64〜編碼器 65〜旋轉機構 66〜膜厚感測器 67〜膜厚測定部 68〜膜厚運算部 70〜主控制部 72〜狹缝喷嘴 72a〜狹缝喷嘴72之背面下端部 74〜喷嘴移動機構 76〜光阻供給部 78〜光阻供給管 30