TW201037782A - Substrate processing apparatus - Google Patents

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TW201037782A TW099103799A TW99103799A TW201037782A TW 201037782 A TW201037782 A TW 201037782A TW 099103799 A TW099103799 A TW 099103799A TW 99103799 A TW99103799 A TW 99103799A TW 201037782 A TW201037782 A TW 201037782A
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Hideki Sueyoshi
Hisaaki Miyasako
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Shibaura Mechatronics Corp
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    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices

Description

201037782 六、發明說明: c 明戶斤屬:冬好々貝 發明領域 液處理受運 本發明係有關於一種可以諸如藥液等處理 送於處理槽之基板之基板之處理裝置。 L ^tr才支系好3 發明背景 液晶顯示裝置及半導體裝置之製造步驟6
. ’哪τ,包含對玻 批基板及半導體晶圓等之基板之飯刻處理、麵岁丨# 灸 作為光罩使用之抗蝕層之剝離處理、業經蝕刻 處理之基板之清洗處理之步驟。上述之基板之處理步驟已 採用逐一運送基板同時加以處理之單片處理法。 已知有-種藉單片處理法處理基板時,在運送基板同 時朝其上下面或上面自喷射嘴喷射處理^進行處理之 處理裝置。上述方式之處理裝置包含箱型之處理槽。 上述處理槽内配置有包含運送輥之複數運送軸,其軸 線與上述紐之運以向垂直,且對純之妓方向按= 定間隔分離而呈可旋轉驅動之狀態。因此,上述基板可藉 設於可旋轉驅動之運送軸之運送輥支持其下面,而於處理 槽内朝預定方向受運送。 迄今’上述處理槽係由具耐化學性之材料諸如氣乙埽 等合成樹脂製之板材形成箱型者。其次,處理槽可配合其 大小而改變板材之厚度,並藉其板材而具備不致因諸如處 理槽内所產生之環境氣體之流動所施加之風壓等而變形或 201037782 損傷之剛性。亦即,處理槽單體具備耐用之剛性。 另,最近上述基板已明顯大型化,液晶顯示裝置所使 用之基板已有大小在2m見方(2x2m)以上者。基板若大型 化,則處理槽亦須因應而大型化。使處理槽大型化時,為 使上述處理槽單體具備耐用之剛性,板材之厚度須達數十 mm ° 然而,加厚構成處理槽之板材而具備剛性,將導致處 理槽之高重量化,故自工廠出貨等時可能不易處理。甚且, 形成處理槽之板材之面積將增大,故加厚其板材亦難獲致 充分之剛性,並將受到處理槽内產生之氣流等之影響而反 覆變形’可能損及板材彼此之連接部分。 因此,專利文獻1中,已提案有一種藉補強用之框架補 強形成處理槽之板材,則即便處理槽大型化,亦無須加厚 上述板材即可具備剛性之處理裝置。 【先行技術文獻】 【專利文獻】 【專利文獻1】 【非專利文獻】 【非專利文獻1】特開2006-93339號公報 將處理槽構成如專利文獻1所揭露之構造,則無須加厚 構成處理槽之板材,即可提高處理槽之剛性。 另,基板若大型化,則處理槽將伴隨基板之大型化而 亦大型化,故處理槽内所設之運送轴亦將隨之而增長。即, 將無法避免處理槽内所設之用以運送基板之運送單元之大 201037782 型化。 旦運达單7L亦大型化,不僅簡定範圍内之精度將 上述運送單元水平設置於處理槽内將極為困難,且其設置 將極為不便。 t考务明内 發明概要 發明欲解決之課題 ,即可提高處理槽之 以運送基板之運送單
本發明可提供一種無須加厚板材 剛性,同時可以高精度且輕易地將用 元設置於處理槽内之基板之處理裴置 用以欲解決課題之手段 為解決上述之問題,本發明可提供一種基板之處理裝 置,包含處理槽,可處理送入該處理槽内之基板,前述處 理:包含有:下部㈣’包含上面形成有第1基準面之複數 連、、。構件’亚由料連結構件按預定間隔架設成矩形;支 柱構係下端部與前述下部框架之四隅部連結而立設 者’上σ卩框架’形成與前述下部框架大致同等大小之矩形, 四隅。Ρ並與4述支柱構件之上端部連結而設置;側壁構 件,設於按對應前述支柱構件之高度尺寸之間隔而在上下 方向上分離之前述下部框架與前述上部框架所構成之4個 側:上,並於位在預定方向上之-對側面之其中-者形成 有引述基板之搬人σ,另—者則形成有前述基板之搬出 口,複數較構件,按财咖架設於前述Τ部框架上, 並於個別之上面形成有第丨基準面;運送單元,以前述連結 5 201037782 構件之第1基準面為基準而安裝,可朝前述搬出口運送已自 前述搬入口搬入内部之基板;底構件,可封閉前述下部框 架之開口部分;及,頂構件,可封閉前述上部框架之開口 部分。 發明效果 依據本發明,可藉下部框架及上部框架補強處理槽, 且以架設於下部框架上之複數連結構件之上面作為第1基 準面,並以上述第1基準面為基準而設置運送單元,故可以 高精度且輕易地將運送單元設置於處理槽内。 圖式簡單說明 第1圖係顯示本發明之一實施例之處理裝置之縱截面 圖。 第2圖係第1圖所示之處理裝置之橫截面圖。 第3圖係處理槽之分解立體圖。 第4圖係處理槽之組裝狀態局部省略後之立體圖。 第5圖係放大顯示運送單元之寬度方向一端部之正面 圖。 第6圖係放大顯示運送單元之寬度方向中央部分之正 面圖。 I:實施方式3 用以實施發明之形態 以下,參照圖示說明本發明之一實施例。 第1圖係本發明之處理裝置之縱截面圖,該處理裝置包 含處理槽1。該處理槽1則如第3圖所示,包含矩形之下部框 201037782 架2、大小與該下部框架2大致相同之矩形之上部框架3及上 迷下部框架2之四隅部上面所立設且上端與上述上部框幻 之四隅部下錢結之纽構件4所構成之框體5。 構成該框體5之上述下部框架2係由以3支實心之棱柱 狀之連結構件9連結在預定方向上按預定_分離之-對 橫構件2a之中部及兩端部而形成者。上述下部㈣2之—對 橫構件2a、上述上部框架3各構件及支柱構件*分別係由氣
Ο 乙歸等具雜學性之合成樹脂所構叙筒狀構件所形成。 另’上述橫構件2a之兩端開口已封閉。 上述下部框架2之橫構件2&之内部空間與形成上述上 部框架3之4個構件3a之内部空間經上述支柱構件4之内部 空間而連通。即,職域5之構件巾,除上料結構件9 以外之構件之内部空間均彼此連通。 上述上部框架3之預定方向一端部之外面設有與上述 内部空間連通之排氣口體6(顯示於糊)。該排氣口體战 與構成排《狀減風箱(未圖連接。如f㈣圖所 示’上述下部框架2與上部框架3之内周面上開口形成有排 氣口 8。 尸因此,一旦上述排氣風箱動作,上述處理槽工内之環境 氣體將自上述排氣口 8而吸人形成框體5之構件之内部空 間,並藉上述排氣口體6所連接之排氣風箱而排至外部。 另,框體5之设有排軋口體6之方向係處理槽丨之寬度方 向。 上述樞體5之4個外周面’即下部框架2與上部框架3之 7 201037782 間之開口部,已分別為由氯乙烯等具耐化學性之合成樹脂 所形成之板狀之側壁構件丨丨所封閉。 覆盍上述框體5之上部框架3之上述排氣口體6所設在 之上述預定方向之側面之一對側壁構件丨丨上形成有一對開 口 13,前述開口 13則為可觀看處理槽丨内部之透明之窗構件 12所封閉。 上述處理槽1之與寬度方向交錯之方向上所設之一對 侧壁構件11之其中一者設有長孔狀之搬入口 14,另一者則 形成有同呈長孔狀之搬出口 15。自上述搬入口 14可朝上述 處理槽1内搬入諸如液晶面板所使用之玻璃製之基板w(顯 不於第6圖)。已搬入處理槽丨之基板w將如後述般,藉設於 處理槽1内之運送單元29而朝上述搬出口 15受運送。基板W 之運送方向在第2圖中顯示如箭號F。 如第5與6圖所示,上述下部框架2之3支連結構件9中, 位於寬度方向兩端之2支連結構件9之上面與位於中央之連 結構件9之上面所設之基準板1〇之上面分別形成構成同一 平面之第1基準面18,3支連結構件9之下面則分別形成構成 同一平面之第2基準面19。 另,位於寬度方向中央之連結構件9上面安裝有基準板 1〇而構成第1基準面18,但直接以連結構件9上面作為與其 它連結構件9上面之第1基準面18相同高度之第1基準面18 亦無妨。 如第1圖所示’上述下部框架2之3支連結構件9之間所 形成之2個開口部,已分別為底構件21a、21b所封閉。3支 201037782 連結構件9之下面之第2基準面19則自底構件21a、21b朝下 方突出。 上述底構件21a、21b係由氣乙烯等合成樹脂所形成, 其中一者之底構件21a上則形成有排液口 22。該排液口 22經 配官而與排液槽(均未圖示)連接,可排出已對送入處理槽1 内之基板W供給之處理液。 上述上部框架3之與上述寬度方向交錯之方向之中部 架·»又有可沿上述寬度方向進行裝卸之第丨承載構件23。第j 承載構件23與上述上部框架3之一對側邊部之間則如第丄與 3圖所不,分別架設有3個 '合計6個之第2承載構件24。 上述上部框架3與上述第1、第2承載構件23、24所隔成 之8個開口部中,設有可分別封閉該等開口部之板狀之可裝 卸之頂構件25。因此’框體5之外周面、底面及上面之開口 已分別為側壁構件11、底構件21a、21b及頂構件25所封閉。 構成如上之處理槽1並如第丨圖所示,以上述連結構件9 之第2基準面19為基準而設置於作為被言史置構件之設置框 架26上面。3支之連結構件9之第2基準面19則設定成位在同 一平面上。因此,上述處理槽丨,即框體5,可以較高之水 平精度設置於上述設置框架26之上面。 另,上述設置框架26如第丨圖所示,其寬度方向之一端 藉樞軸27而樞設於架台28上。上述設置框㈣之寬度方向 之他端則連結有未圖示之汽缸等驅動源。 因此,上述設置框架26可以樞軸27為支點而藉未圖示 之驅動源進行旋動,以使上述處理槽!對寬度方向以任意角 9 201037782 度形成傾斜狀態。即,可如後述般,藉處理槽丨内所設之運 送單元29在水平狀態下運送基板W,或在預定角度之傾斜 狀態下運送基板W。 上述處理槽1内部設有上述運送單元29。該運送單元29 則如第2圖所示,於上述處理槽1之與基板冒之運送方向交 錯之寬度方向之中央部分割成第1單元部29a與第2單元部 29b。各單元部29a、29b包含對處理槽1之寬度方向按預定 間隔平行地分離且對向之載面L字狀之—對安裝構件32。 如第5與6圖所示,一對安裝構件32之垂直之一邊上分 別安裝固定有帶狀板狀之支持構件33之下端部。各單元部 29a、2%之一對支持構件33則分別在與上述寬度方向交錯 之方向上形成對應關係之位置上設有作為軸承構件之下部 軸承34,位於寬度方向外侧之支持構件33則於下部轴承料 上方設有上部軸承35。 設於各單元部29a、29b之一對支持構件33之對應之一 對下部軸承34分別支持在軸向中部將運送軸37_分為一而 成之軸部37a之兩端部並使其£可旋轉之狀態。各 上並按預定間隔設有複數之運送輥38。各運送輥邛則可支& 持自上述搬入口 14供入處理槽丨内之基板评下面。 如第5圖所示’設於上述支持構件33之上部轴承35可支 持遠短於上述軸部3%之加壓軸39之一端部,並使其呈可旋 轉之狀態。上述加壓軸39之他料則财可推壓上述運^ _所運送之基板W之寬度方向兩端部之上面姑 W上浮之加壓輥41。 止基板 10 201037782 構成上述一對之單元部29a、29b之各一對之安裝構件 32中,位於上述處理槽1之寬度方向兩端部之其中一者之安 裝構件32如第5圖所示,係以位於上述下部框架2之寬度方 向兩端之一對連結構件9之上面之第丨基準面18為基準而進 行載置。 一對單το部29a、29b之個別另一者之安裝構件32則如 第6圖所示,係以位於上述下部框架2之寬度方向中央之連 〇 結構件9上面所設之上述基準板1〇之上面之第丨基準面“為 基準,而分別載置於其寬度方向一端部與他端部上。 為上述一對單元部29a、29b之各一對之安裝構件32所 支持而呈可疑轉之狀態,並於上述寬度方向中央使端部呈 對向狀恕之各一對軸部37a係藉接榫42而連結該等端部並 使其等呈可分解之狀態。 亦即,已藉接榫42連結端部之一對軸部37a可構成上述 運送軸37。因此,若分解接榫42所連結之運送轴37,運送 〇 單元29即可分割成2個單元部29a、2%而使用。 上述單元部29a、2%之安裝構件32之他邊上,如第5與 6圖所不’設有用以對第1基準面18安裝固定上述安裝構件 32之他邊之固定螺絲44,以及在藉該固定螺絲44對第1基準 面18安裝安裝構件32之前可先調整各單元部29a 、29b之水 平度之調整螺絲45。 因此,可以高精度設定水平度而以上述第丨基準面18為 基準於處理槽1内設置各單元部29a、29b。 如第5圖所示,設於各單元部29a、29b之軸部37a之寬 11 201037782 度方向外側之支持構件33上之上下之軸承34、35可為遮蔽 板46所覆蓋。因此,各軸承34、35即便蒙塵,亦可預防其 塵埃附著在處理槽1内受運送之基板W上。 如第1圖所示,處理槽1之寬度方向一端部之外側設有 驅動源43。該驅動源43可使設於上述處理槽丨内之運送單元 29之複數加壓軸39朝預定方向旋轉驅動。因此,可朝搬出 口 15水平運送自處理槽丨之搬入口 14供入内部之基板w。 另,驅動源43之旋轉動力係經齒輪及鍊條等未圖示之 動力傳達構件而傳至上述運送軸37。 又,處理槽1内設有可朝於其内部受運送之基板w上面 喷射供給清洗液及藥液等處理液之喷灑管(未圖示因此, 基板W可在處理槽1内受運送之期間内藉處理液而接受處 理。 依據構成如上之處理裝置,在設於處理槽丨之上部框架 3之頂構件25及第1、第2承載構件23、24已卸除之狀態下, 可於其内m運送單元29。若將接榫42卸除而將運送轴 37分成2個軸部37a,則可將運送單元29分割成2個單元部 29a、29b而加以使用。亦即,可將運送單元四構成該運送 單兀29之整體大小之—半大小之單元部29a、29b而加以使 用0 因此,2個單元部29a、2%之使用將較簡單,可較容易 地對處理槽1内裝設運送單元29。 已裝設於處理槽1内之各單元部29a、29b係以設於下部 框架2之3支連結構件9之上面形成之们基準面_基準而 12 201037782 進行設置。3支連結構件9上面所形成之3個第丨基準面18則 構成同一平面。因此,若以第1基準面18為基準而於處理槽 1内設置各單元部29a、29b,則可以較高之水平精度設置該 等單元部29a、2%。 甚且,將設於上述下部框架2之3支連結構件9之上面預 设為第1基準面18,即可迅速進行已裝設於處理槽丨内之一 對單元部29a、29b之設置,故可提昇作業效率。 0 上述下部框架2之3支連結構件9之下面形成第2基準面 19,處理槽1則以第2基準面19為基準而設置於設置框架% 上因此,可以較高之水平度輕易地對設置框架設置處理 槽1。 構成處理槽1之下部框架2之橫構件2 &與上部框架3之 構件為筒狀,其等之内部空間並經支柱構件4之内部空間而 連通進而,松構件2a之内側面與構成上部框架3之構件之 内側面上形成有排氣口 8,於上部框架3之寬度方向一側之 ◎ 卜側面上則設有與排氣風箱連接之排氣口體6。 因此’可利用構成處理槽1之框體5之構件將處理槽1内 之衣*兄氣體朝外部排出。即,排出處理槽W之環境氣體已 無頂使用專用之排氣導管等,而可對應簡化處理槽1之構 造。 上述-實施例中,雖於下部框架與上部框架雙方形成 有用以排出處理槽内之環境氣體之排氣口,但欲有效率排 出基板上面側之環境氣體時,亦可僅於上部框架形成排氣 Ό 〇 13 201037782 I:圖式簡單說明3 第1圖係顯示本發明之一實施例之處理裝置之縱截面 圖。 第2圖係第1圖所示之處理裝置之橫截面圖。 第3圖係處理槽之分解立體圖。 第4圖係處理槽之組裝狀態局部省略後之立體圖。 第5圖係放大顯示運送單元之寬度方向一端部之正面 圖。 第6圖係放大顯示運送單元之寬度方向中央部分之正 面圖。 【主要元件符號說明】 1…處理槽 13…開口 2···下部框架 14…搬入口 2a…橫構件 15…搬出口 3···上部框架 18…第1基準面 3 a…構件 19…第2基準面 4···支柱構件 21a、21b…底構件 5…框體 22…排液口 6…排氣口體 23…第1承載構件 8…排氣口 24···第2承載構件 9…連結構件 25…頂構件 10…基準板 26···設置框架 11…側壁構件 27…柩轴 12…窗構件 28…架台 14 201037782
29…運送單元 29a···第1單元部 29b…第2單元部 32…安裝構件 33…支持構件 34…下部轴承 35…上部軸承 37…運送軸 37a…轴部 38…運送輥 39…加壓轴 41…加壓輥 42…接榫 43…驅動源 44···固定螺絲 45…調整螺絲 46…遮蔽板 F…箭號 W…基板
15

Claims (1)

  1. 201037782 七、申請專利範圍: 1. 一種基板之處理裝置,包含處理槽,可處理於該處理槽 内運送之基板,前述處理槽係構成包含有: 下部框架,包含上面形成有第1基準面之複數連結 構件,且為由該等連結構件按預定間隔所架設成矩形狀 者; 支柱構件,係下端部與前述下部框架之四隅部連結 而立設者; 上部框架,形成與前述下部框架大致同等大小之矩 形,且四隅部與前述支柱構件之上端部連結而設置; 側壁構件,設於按對應前述支柱構件之高度尺寸之 間隔而在上下方向上分離之前述下部框架與前述上部 框架所構成之4個側面上,並於位在預定方向上之一對 側面之其中一者形成有前述基板之搬入口,另一者則形 成有前述基板之搬出口; 運送單元,以前述連結構件之第1基準面為基準而 安裝,可朝前述搬出口運送已自前述搬入口搬入内部之 基板; 底構件,可封閉前述下部框架之開口部分;及 頂構件,可封閉前述上部框架之開口部分。 2. 如申請專利範圍第1項之基板之處理裝置,前述連結構 件之下面形成於自前述底構件朝下方突出之第2基準 面, 前述處理槽係以前述第2基準面為基準而設置。 16 201037782 3. 如申請專利範圍第1項之基板之處理裝置,前述下部框 架、上部框架及支柱構件係由筒狀構件所形成,並組裝 成其等個別之内部空間呈連通狀態, 前述下部框架與上部框架之至少其中一者之内周 面上開口形成有可使前述處理槽内之環境氣體流入前 述内部空間之排氣口,前述内部空間則連接有可自前述 排氣口經前述内部空間而排出前述處理槽内之環境氣 體之排氣機構。 4. 如申請專利範圍第1、2或3項之基板之處理裝置,前述 運送單元包含沿行前述基板之運送方向按預定間隔而 配置之複數之運送軸,各運送轴於轴向之中部分割成已 連結成可藉接榫而分解之2個軸部,而由可分解之2個單 元部構成前述運送單元。 5. 如申請專利範圍第4項之基板之處理裝置,其中已分割 之一對軸部個別之兩端部係以前述連結構件之第1基準 面為基準而安裝之軸承構件所支持而呈可旋轉之狀態 者0 17
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