CN209433187U - 一种自动曝光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种自动曝光机，其包括用于对待曝光基板进行对位操作的第一气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第一表面的曝光操作的第一气浮式曝光装置、用于对待曝光基板进行板面翻转操作的气浮式翻转装置、用于对翻转后的待曝光基板进行再次对位操作的第二气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第二表面的曝光操作的第二气浮式曝光装置以及用于对曝光完成的待曝光基板进行出料操作的气浮式出料装置。本实用新型的自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免接触摩擦造成的产品质量问题。

Description

一种自动曝光机

技术领域

本实用新型涉及印刷电路板在图形影像转移过程中的自动化技术领域，尤其涉及一种自动曝光机。

背景技术

目前，在印制电路图形的自动曝光机中，都是通过机械滚轮摩擦传送工件、机械手吸盘摄取工件表面来实现工件的定位、交替和工位之间的自动衔接。存在机械结构复杂，传送链长；占地面积大；机械动作循环周期长，生产效率低等问题。特别是近年来印制电路的高密度精细化，使在生产过程中与工件表面接触造成的静电、污染、划伤等成为影响产品质量的突出难题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，同时，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免了接触摩擦造成的产品质量问题。

为实现上述目的，本实用新型提出一种自动曝光机，所述自动曝光机包括用于通过气浮式结构对待曝光基板进行对位操作的第一气浮式对位装置、用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第一表面的曝光操作的第一气浮式曝光装置、用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行板面翻转操作的气浮式翻转装置、用于通过气浮式结构对翻转后的所述待曝光基板进行再次对位操作的第二气浮式对位装置、用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第二表面的曝光操作的第二气浮式曝光装置以及用于通过气浮式结构对曝光完成的所述待曝光基板进行出料操作的气浮式出料装置；所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置依次对接设置。

可选地，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈一字排列设置。

可选地，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈两排设置，使得所述第一气浮式对位装置与所述气浮式出料装置相邻设置、所述第一气浮式曝光装置与所述第二气浮式曝光装置相邻设置、所述气浮式翻转装置与所述第二气浮式对位装置相邻设置。

可选地，所述第一气浮式对位装置及所述第二气浮式对位装置分别包括气浮对位平台与移载对位装置，所述气浮对位平台包括气浮对位平面，所述移载对位装置包括与待曝光基板的大小相适配的基板定位框以及驱动所述待曝光基板由所述气浮对位平面的上方平移到所述第一气浮式曝光装置的上方的平移运动机构。

可选地，所述基板定位框包括对位挡板、第一活动挡板、两间隔设置的第二活动挡板、第一驱动机构以及两第二驱动机构；所述对位挡板的长度与所述待曝光基板的长度或宽度相适配；所述第一活动挡板与所述对位挡板相互平行设置；所述第一驱动机构与所述第一活动挡板驱动连接，以驱动所述第一活动挡板远离或靠近所述对位挡板；每一所述第二活动挡板分别与所述对位挡板相互垂直设置；两所述第二驱动机构与两所述第二活动挡板一一对应驱动连接，以驱动相应的两所述第二活动挡板相向或相离远动，使得所述对位挡板、所述第一活动挡板、两所述第二活动挡板活动围成与所述待曝光基板的大小相适配的所述基板定位框。

可选地，所述第一气浮式曝光装置及所述第二气浮式曝光装置分别包括气浮曝光平台、底片框、对位相机以及曝光光源，所述气浮曝光平台包括气浮吸附一体曝光平面，所述底片框、所述对位相机以及所述曝光光源依次设于所述气浮吸附一体曝光平面的上方。

可选地，所述气浮式翻转装置包括第一气浮翻转平台、第二气浮翻转平台以及翻转机构；所述第一气浮翻转平台包括第一气浮翻转平面，所述第二气浮翻转平台包括第二气浮翻转平面，所述第一气浮翻转平面与所述第二气浮翻转平面上下相对间隔设置，使得所述待曝光基板悬浮于所述第一气浮翻转平面与所述第二气浮翻转平面之间；所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台之间通过若干挡板结构连接固定，所述翻转机构驱动连接所述第二气浮翻转平台的底部，以实现所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台的共同翻转。

可选地，若干所述挡板结构在所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台之间形成进料口与出料口，所述进料口的进料方向与所述出料口的出料方向相同或相互垂直设置。

可选地，所述气浮式翻转装置还包括推板机构，所述推板机构包括一在所述第一气浮平面与所述第二气浮平面之间自由移动的推板以及驱动所述推板工作的推板电机。

可选地，所述气浮式出料装置包括升降式气浮出料平台以及出料滚轮机构，所述升降式气浮出料平台包括出料气浮平面以及驱动所述出料气浮平面升降的升降驱动电机，所述出料气浮平面镂空设置形成若干均匀分布的滚轮轴安装位，所述出料滚轮机构包括若干出料滚轮轴以及驱动所述若干出料滚轮轴转动的滚轮轴驱动电机，所述若干出料滚轮轴一一对应安置于相应的所述滚轮轴安装位中。

本实用新型提供的自动曝光机，其包括依次对接设置的第一气浮式对位装置、第一气浮式曝光装置、气浮式翻转装置、第二气浮式对位装置、第二气浮式曝光装置以及气浮式出料装置，由于每一装置均采用气浮式结构将待曝光基板悬浮在经过洁净处理的气垫上进行高效传送，使待曝光基板在无表面接触摩擦的状态下，靠推动待曝光基板侧边进行工件的对位、交替曝光和翻面传送操作。可见，本自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，同时，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免了接触摩擦造成的产品质量问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例一自动曝光机的结构示意图。

图2为图1所示自动曝光机的结构示意简图。

图3为图1所示自动曝光机的气浮式翻转装置的结构示意简图。

图4为本实用新型实施例二自动曝光机的结构示意简图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本实用新型，但并不构成对本实用新型的限定。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。

实施例一

如图1及图2所示，本实施例提供一种自动曝光机100，该自动曝光机100包括第一气浮式对位装置110、第一气浮式曝光装置120、气浮式翻转装置130、第二气浮式对位装置140、第二气浮式曝光装置150以及气浮式出料装置160。其中，第一气浮式对位装置110主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行对位操作。第一气浮式曝光装置120主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行第一表面的曝光操作。气浮式翻转装置130主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行板面翻转操作。第二气浮式对位装置140主要用于通过气浮式结构对翻转后的待曝光基板2进行再次对位操作。第二气浮式曝光装置150主要用于通过气浮式结构对待曝光基板2进行第二表面的曝光操作。气浮式出料装置160主要用于通过气浮式结构对曝光完成的待曝光基板2进行出料操作。第一气浮式对位装置110、第一气浮式曝光装置120、气浮式翻转装置130、第二气浮式对位装置140、第二气浮式曝光装置150以及气浮式出料装置160依次对接设置。

在本实施例中，如图1及图2所示，第一气浮式对位装置110、第一气浮式曝光装置120、气浮式翻转装置130、第二气浮式对位装置140、第二气浮式曝光装置150以及气浮式出料装置160呈两排设置，使得第一气浮式对位装置110与气浮式出料装置160相邻设置、第一气浮式曝光装置120与第二气浮式曝光装置150相邻设置、气浮式翻转装置130与第二气浮式对位装置140相邻设置。通过这样的装置布局，可有效减少本自动曝光机100占地空间，同时，工件(即待曝光基板2)的进料与出料均在同一侧，使得本自动曝光机100工作时只需一人值守，大大降低人工成本。

如图1及图2所示，第一气浮式对位装置110包括气浮对位平台111与移载对位装置112，气浮对位平台111包括气浮对位平面，移载对位装置112包括与待曝光基板2的大小相适配的基板定位框以及驱动待曝光基板2由气浮对位平面的上方平移到第一气浮式曝光装置120的上方的平移运动机构(未图示)。基板定位框包括对位挡板1121、第一活动挡板1122、两间隔设置的第二活动挡板1123、第一驱动机构(未图示)以及两第二驱动机构(未图示)；对位挡板1121的长度与待曝光基板2的长度或宽度相适配。第一活动挡板1122与对位挡板1121相互平行设置。第一驱动机构与第一活动挡板1122驱动连接，以驱动第一活动挡板1122远离或靠近对位挡板。每一第二活动挡板1123分别与对位挡板1121相互垂直设置。两第二驱动机构与两第二活动挡板1123一一对应驱动连接，以驱动相应的两第二活动挡板相向或相离远动，使得对位挡板1121、第一活动挡板1122、两第二活动挡板1123活动围成与待曝光基板2的大小相适配的基板定位框。通过第一活动挡板1122与两第二活动挡板1123的活动，变成围成一个尺寸与待曝光基板2的大小相适配的基板定位框，进而将该待曝光基板2锁定在预设的位置，完成该待曝光基板2的对位操作。具体地，如图2所示，该对位挡板1121包括间隔设置的固定挡板与移动挡板，且移动挡板位于固定挡板的延伸方向上，移动挡板在固定挡板的延伸方向上自由移动，使得移动挡板的长度、固定挡板的长度以及固定挡板与移动挡板之间的间距之和与待曝光基板2的长度或宽度相适配。对于本领域技术人员而言，该对位挡板1121亦可采用一体式板体，该一体式板体的长度与待曝光基板2的长度或宽度相适配。同样的，该基板定位框亦可直接为一体式框体，该一体式框体的内框尺寸与待曝光基板2的大小相适配，工作时，直接将由上一工序传送过来的待曝光基板2放入该一体式框体的内框中，进行悬浮夹持定位。另外，该基板定位框还可采用以下结构设置，四个吹气装置，两两相对设置围成该基板定位框，通过四个吹气装置，两两相对吹气形成一个气压平衡点，将待曝光基板2对位时预设的位置设在该气压平衡点，这样一来，当待曝光基板2在气浮对位平面上方处于气浮状态时，便会位于四个吹气装置之间，然后在四个吹气装置的吹气作用下，到达气压平衡点，完成待曝光基板2的对位操作。该气浮对位平面为多孔材料介质层，且该多孔材料介质层上开设有若干分布均匀的细微气孔。气浮对位平台111还包括空气泵，气浮对位平台111的底侧开设有连通各细微气孔的通气口。空气泵连通通气口，以通过对各细微气孔充气来使得气浮对位平面形成上浮正压力。该多孔材料介质层为陶瓷层或铝金属材料层，空气能从其分布均匀的细微小孔进行气浮。

与第一气浮式对位装置110的结构相同，如图1及图2所示，第二气浮式对位装置140同样包括气浮对位平台141与移载对位装置142，气浮对位平台141包括气浮对位平面，移载对位装置142包括与待曝光基板2的大小相适配的基板定位框以及驱动待曝光基板2由气浮对位平面的上方平移到第二气浮式曝光装置150的上方的平移运动机构(未图示)。基板定位框包括对位挡板1421、第一活动挡板1422、两间隔设置的第二活动挡板1423、第一驱动机构(未图示)以及两第二驱动机构(未图示)；对位挡板1421的长度与待曝光基板2的长度或宽度相适配。第一活动挡板1422与对位挡板1421相互平行设置。第一驱动机构与第一活动挡板1422驱动连接，以驱动第一活动挡板1422远离或靠近对位挡板。每一第二活动挡板1423分别与对位挡板1421相互垂直设置。两第二驱动机构与两第二活动挡板1423一一对应驱动连接，以驱动相应的两第二活动挡板相向或相离远动，使得对位挡板1421、第一活动挡板1422、两第二活动挡板1423活动围成与待曝光基板2的大小相适配的基板定位框。通过第一活动挡板1422与两第二活动挡板1423的活动，变成围成一个尺寸与待曝光基板2的大小相适配的基板定位框，进而将该待曝光基板2锁定在预设的位置，完成该待曝光基板2的对位操作。具体地，如图2所示，该对位挡板1421包括间隔设置的固定挡板与移动挡板，且移动挡板位于固定挡板的延伸方向上，移动挡板在固定挡板的延伸方向上自由移动，使得移动挡板的长度、固定挡板的长度以及固定挡板与移动挡板之间的间距之和与待曝光基板2的长度或宽度相适配。对于本领域技术人员而言，该对位挡板1421亦可采用一体式板体，该一体式板体的长度与待曝光基板2的长度或宽度相适配。同样的，该基板定位框亦可直接为一体式框体，该一体式框体的内框尺寸与待曝光基板2的大小相适配，工作时，直接将由上一工序传送过来的待曝光基板2放入该一体式框体的内框中，进行悬浮夹持定位。另外，该基板定位框还可采用以下结构设置，四个吹气装置，两两相对设置围成该基板定位框，通过四个吹气装置，两两相对吹气形成一个气压平衡点，将待曝光基板2对位时预设的位置设在该气压平衡点，这样一来，当待曝光基板2在气浮对位平面上方处于气浮状态时，便会位于四个吹气装置之间，然后在四个吹气装置的吹气作用下，到达气压平衡点，完成待曝光基板2的对位操作。该气浮对位平面为多孔材料介质层，且该多孔材料介质层上开设有若干分布均匀的细微气孔。气浮对位平台141还包括空气泵，气浮对位平台141的底侧开设有连通各细微气孔的通气口。空气泵连通通气口，以通过对各细微气孔充气来使得气浮对位平面形成上浮正压力。该多孔材料介质层为陶瓷层或铝金属材料层，空气能从其分布均匀的细微小孔进行气浮。

如图1及图2所示，第一气浮式曝光装置120包括气浮曝光平台121、底片框122、对位相机123以及曝光光源124，气浮曝光平台121包括气浮吸附一体曝光平面，底片框122、对位相机123以及曝光光源124依次设于气浮吸附一体曝光平面的上方。与第一气浮式曝光装置120的结构相同，第二气浮式曝光装置150同样包括气浮曝光平台151、底片框152、对位相机153以及曝光光源154，气浮曝光平台151包括气浮吸附一体曝光平面，底片框152、对位相机153以及曝光光源154依次设于气浮吸附一体曝光平面的上方。该气浮吸附一体曝光平面为多孔材料介质层，且该多孔材料介质层上开设有若干分布均匀的细微气孔。气浮曝光平台121还包括空气泵，气浮曝光平台121的底侧开设有连通各细微气孔的通气口。空气泵连通通气口，以通过对各细微气孔充气来使得气浮吸附一体曝光平面形成上浮正压力，或通过对各细微气孔抽气来使得气浮吸附一体曝光平面形成真空吸附。该多孔材料介质层为陶瓷层或铝金属材料层，空气能从其分布均匀的细微小孔进行气浮和吸附。

如图1、图2及图3所示，气浮式翻转装置130包括第一气浮翻转平台131、第二气浮翻转平台132以及翻转机构133。其中，第一气浮翻转平台131包括第一气浮翻转平面1311，第二气浮翻转平台132包括第二气浮翻转平面1321，第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321上下相对间隔设置，使得待曝光基板2悬浮于第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321之间。第一气浮翻转平台131与第二气浮翻转平台132之间通过若干挡板结构(未图示)连接固定，翻转机构133驱动连接第二气浮翻转平台132的底部，以实现第一气浮翻转平台131与第二气浮翻转平台132的共同翻转。具体地，如图3所示，第一气浮翻转平面1311及第二气浮翻转平面1321均为多孔材料介质层，且该多孔材料介质层上开设有若干分布均匀的细微气孔。第一气浮翻转平台131还包括第一风机1312，第一气浮翻转平台131的顶部设置有连通各细微气孔的第一风机罩子1313。第一风机1312连通第一风机罩子1313，以通过对各细微气孔充气来使得第一气浮翻转平面1311形成上浮正压力。第二气浮翻转平台132还包括第二风机1322，第二气浮翻转平台132的底侧设置有连通各细微气孔的第二风机罩子1323。第二风机1322连通第二风机罩子1323，以通过对各细微气孔充气来使得第二气浮翻转平面1321形成上浮正压力。这样一来，当待曝光基板2经过上一工序传送到第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321之间后，第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321分别形成的上浮正压力相互作用达到平衡后，使得待曝光基板2悬浮于第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321之间。该多孔材料介质层优选为陶瓷层或铝金属材料层，空气能从其分布均匀的细微小孔吹出形成上浮正压力，对于本领域技术人员而言，该多孔材料介质层亦可采用其他具有相似结构的材料进行替代。若干挡板结构在第一气浮翻转平台131与第二气浮翻转平台132之间形成进料口与出料口，如图1所示，图中下侧为进料口，左侧为出料口(翻转后出料口变为右侧)，右侧与上侧均通过挡板结构挡住，此时，进料口的进料方向与出料口的出料方向相互垂直设置。翻转机构133包括一固设于第二气浮平台132的底部的翻转轴以及驱动翻转轴翻转的翻转电机，通过翻转电机驱动翻转轴翻转，可使得第一气浮翻转平台131与第二气浮翻转平台132之间的上下关系对调，最终实现待曝光基板2的翻面操作。另外，气浮式翻转装置130还包括推板机构134，推板机构134包括一在第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1312之间自由移动的推板以及驱动推板工作的推板电机。通过推板电机驱动推板在第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321之间自由移动，可实现待曝光基板2翻面后在无表面接触摩擦的状态下被推出本气浮式翻转装置130。

如图1及图2所示，气浮式出料装置160包括升降式气浮出料平台161以及出料滚轮机构162，升降式气浮出料平台161包括出料气浮平面以及驱动出料气浮平面升降的升降驱动电机，出料气浮平面镂空设置形成若干均匀分布的滚轮轴安装位，出料滚轮机构161包括若干出料滚轮轴以及驱动若干出料滚轮轴转动的滚轮轴驱动电机，若干出料滚轮轴一一对应安置于相应的滚轮轴安装位中。具体地，出料气浮平面为多孔材料介质层，且该多孔材料介质层上开设有若干分布均匀的细微气孔。升降式气浮出料平台161还包括空气泵，升降式气浮出料平台161的底侧开设有连通各细微气孔的通气口。空气泵连通通气口，以通过对各细微气孔充气来使得气浮对位平面形成上浮正压力。该多孔材料介质层为陶瓷层或铝金属材料层，空气能从其分布均匀的细微小孔进行气浮。

如图1及图2所示，本自动曝光机100工作过程具体如下：首先，待曝光基板2由本自动曝光机100的左侧进料，传送到气浮对位平台111的气浮对位平面上方，此时，该气浮对位平面处于气浮工作模式，其通过气体形成连绵的向上浮力，使得该待曝光基板2悬浮于该气浮对位平面的上方，以处于无接触摩擦的自由状态，第一驱动机构驱动第一活动挡板1122靠近对位挡板1121运动，两第二驱动机构分别驱动相应的两第二活动挡板1123相向运动，使得该待曝光基板2锁定在由对位挡板1121、第一活动挡板1122及两第二活动挡板1123围成的基板定位框中，进而完成该待曝光基板2的对位。接着，移载对位装置112再向曝光区域(即第一气浮式曝光装置120的气浮吸附一体曝光平面的上方)运动，当移载对位装置112的平移运动机构将其基板定位框由气浮对位平面的上方平移到气浮吸附一体曝光平面的上方的同时，该待曝光基板2会随着其基板定位框移动到曝光区域的指定位置，与之同时，其基板定位框的前端将已完成曝光并悬浮在气浮吸附一体曝光平面上的前一待曝光基板2推到气浮式翻转装置130。此时，气浮吸附一体曝光平面由充气正压力切换成抽气形成真空负压，将该待曝光基板2吸附在气浮吸附一体曝光平面上，放置好菲林的底片框122在对位相机123的对位下对准待曝光基板2，并在曝光光源154的帮助下完成待曝光基板2的第一表面的曝光操作。与之同时，移载对位装置112再回到初始位置迎接下一个待曝光基板2的到来，开始下一个工作循环。而第一表面曝光完毕的待曝光基板2由基板定位框的前端推到气浮式翻转装置130，即传送到第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321之间，第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321分别形成的上浮正压力相互作用达到平衡后，使得待曝光基板2悬浮于第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321之间，再通过翻转电机驱动翻转轴翻转，使得第一气浮翻转平台131与第二气浮翻转平台132之间的上下关系对调，最终实现待曝光基板2的翻面操作，再通过推板机构134的推板电机驱动推板在第一气浮翻转平面1311与第二气浮翻转平面1321之间自由移动，推动待曝光基板2往右侧出料口移动，以进入第二气浮式对位装置140，待曝光基板2在第二气浮式对位装置140中的工作过程与在第一气浮式对位装置110中的工作过程一致，通过第二气浮式对位装置140可对翻转后的待曝光基板2进行再次对位操作，并将之送入第二气浮式曝光装置150中。待曝光基板2在第二气浮式曝光装置150中的工作过程与在第一气浮式曝光装置120的工作过程一致，通过第二气浮式曝光装置150可对翻转对位后的待曝光基板2进行第二表面的曝光操作，至此，待曝光基板2完成所有面的曝光操作，最后，其将曝光完毕的待曝光基板2送入气浮式出料装置160，此时，待曝光基板2在出料气浮平面的作用下处于无接触摩擦的悬浮状态，接着，升降式气浮出料平台161下降，待曝光基板2与若干出料滚轮轴接触，在若干出料滚轮轴的传送下，完成出料操作。

实施例二

如图4所示，本实施例二提供一种自动曝光机200，与实施例一中的自动曝光机100相比，其不同之处在于，本实施例中的自动曝光机200的第一气浮式对位装置210、第一气浮式曝光装置220、气浮式翻转装置230、第二气浮式对位装置240、第二气浮式曝光装置250以及气浮式出料装置260呈一字排列设置。此时，其由于待曝光基板2翻面后，其传送方向与翻面前的传送方向需要保持一致，因而，本实施例中，气浮式翻转装置230进料口的进料方向与出料口的出料方向设为相同设置，此时，只需改变第一气浮翻转平台与第二气浮翻转平台之间的挡板结构即可。

本实用新型实施例提供的自动曝光机，其包括依次对接设置的第一气浮式对位装置、第一气浮式曝光装置、气浮式翻转装置、第二气浮式对位装置、第二气浮式曝光装置以及气浮式出料装置，由于每一装置均采用气浮式结构将待曝光基板悬浮在经过洁净处理的气垫上进行高效传送，使待曝光基板在无表面接触摩擦的状态下，靠推动待曝光基板侧边进行工件的对位、交替曝光和翻面传送操作。可见，本自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，同时，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免了接触摩擦造成的产品质量问题。

以上结合附图对本实用新型的实施方式作了详细说明，但本实用新型不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本实用新型原理和精神的情况下，对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，仍落入本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种自动曝光机，其特征在于，所述自动曝光机包括用于通过气浮式结构对待曝光基板进行对位操作的第一气浮式对位装置、用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第一表面的曝光操作的第一气浮式曝光装置、用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行板面翻转操作的气浮式翻转装置、用于通过气浮式结构对翻转后的所述待曝光基板进行再次对位操作的第二气浮式对位装置、用于通过气浮式结构对所述待曝光基板进行第二表面的曝光操作的第二气浮式曝光装置以及用于通过气浮式结构对曝光完成的所述待曝光基板进行出料操作的气浮式出料装置；所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置依次对接设置。

2.如权利要求1所述的自动曝光机，其特征在于，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈一字排列设置。

3.如权利要求1所述的自动曝光机，其特征在于，所述第一气浮式对位装置、所述第一气浮式曝光装置、所述气浮式翻转装置、所述第二气浮式对位装置、所述第二气浮式曝光装置以及所述气浮式出料装置呈两排设置，使得所述第一气浮式对位装置与所述气浮式出料装置相邻设置、所述第一气浮式曝光装置与所述第二气浮式曝光装置相邻设置、所述气浮式翻转装置与所述第二气浮式对位装置相邻设置。

4.如权利要求1-3任一所述的自动曝光机，其特征在于，所述第一气浮式对位装置及所述第二气浮式对位装置分别包括气浮对位平台与移载对位装置，所述气浮对位平台包括气浮对位平面，所述移载对位装置包括与待曝光基板的大小相适配的基板定位框以及驱动所述待曝光基板由所述气浮对位平面的上方平移到所述第一气浮式曝光装置的上方的平移运动机构。

5.如权利要求4所述的自动曝光机，其特征在于，所述基板定位框包括对位挡板、第一活动挡板、两间隔设置的第二活动挡板、第一驱动机构以及两第二驱动机构；所述对位挡板的长度与所述待曝光基板的长度或宽度相适配；所述第一活动挡板与所述对位挡板相互平行设置；所述第一驱动机构与所述第一活动挡板驱动连接，以驱动所述第一活动挡板远离或靠近所述对位挡板；每一所述第二活动挡板分别与所述对位挡板相互垂直设置；两所述第二驱动机构与两所述第二活动挡板一一对应驱动连接，以驱动相应的两所述第二活动挡板相向或相离远动，使得所述对位挡板、所述第一活动挡板、两所述第二活动挡板活动围成与所述待曝光基板的大小相适配的所述基板定位框。

6.如权利要求1-3任一所述的自动曝光机，其特征在于，所述第一气浮式曝光装置及所述第二气浮式曝光装置分别包括气浮曝光平台、底片框、对位相机以及曝光光源，所述气浮曝光平台包括气浮吸附一体曝光平面，所述底片框、所述对位相机以及所述曝光光源依次设于所述气浮吸附一体曝光平面的上方。

7.如权利要求1-3任一所述的自动曝光机，其特征在于，所述气浮式翻转装置包括第一气浮翻转平台、第二气浮翻转平台以及翻转机构；所述第一气浮翻转平台包括第一气浮翻转平面，所述第二气浮翻转平台包括第二气浮翻转平面，所述第一气浮翻转平面与所述第二气浮翻转平面上下相对间隔设置，使得所述待曝光基板悬浮于所述第一气浮翻转平面与所述第二气浮翻转平面之间；所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台之间通过若干挡板结构连接固定，所述翻转机构驱动连接所述第二气浮翻转平台的底部，以实现所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台的共同翻转。

8.如权利要求7所述的自动曝光机，其特征在于，若干所述挡板结构在所述第一气浮翻转平台与所述第二气浮翻转平台之间形成进料口与出料口，所述进料口的进料方向与所述出料口的出料方向相同或相互垂直设置。

9.如权利要求7所述的自动曝光机，其特征在于，所述气浮式翻转装置还包括推板机构，所述推板机构包括一在所述第一气浮平面与所述第二气浮平面之间自由移动的推板以及驱动所述推板工作的推板电机。

10.如权利要求1-3任一所述的自动曝光机，其特征在于，所述气浮式出料装置包括升降式气浮出料平台以及出料滚轮机构，所述升降式气浮出料平台包括出料气浮平面以及驱动所述出料气浮平面升降的升降驱动电机，所述出料气浮平面镂空设置形成若干均匀分布的滚轮轴安装位，所述出料滚轮机构包括若干出料滚轮轴以及驱动所述若干出料滚轮轴转动的滚轮轴驱动电机，所述若干出料滚轮轴一一对应安置于相应的所述滚轮轴安装位中。