TW201034946A - Silicon for n-type solar cell and process for producing phosphorus-doped silicon - Google Patents

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Tomohiro Megumi
Hiroshi Tabuchi
Koichi Kamisako
Marwan Dhamrin
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Sumitomo Chemical Co
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Description

201034946 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明首先關於η型太陽能電池 之矽製造方法’詳細而言,係關於製 鋁及磷’並且適合於η型太陽能電池 矽之方法。 ^ 【先前技術】 將磷摻入於矽所得之摻磷之矽, 於作爲太陽能電池的原材料。該摻磷 入於加熱熔融狀態下的矽來製造出。 於矽來製得混合物,並將所得的混合 〇 另一方面,矽的製造方法,爲人 使鹵化矽還原之方法(例如參照專利 Q 法所得之還原矽,有含有鋁作爲雜質 還原矽含有鋁時,該含鋁的還原矽顯 陽能電池特性非爲良好,難以直接用 材料。因此,係考量到例如藉由所謂 精製後使用,此方向性凝固法,是在 加熱熔融,並且在鑄模內將溫度梯度 下凝固後,使鋁偏析並去除濃縮的區 此外,藉由方向性凝固法所製造 電池用矽,仍未爲人所知。將磷摻入 用矽,其次關於摻磷 造出以特定濃度含有 用途之矽以及摻磷之 爲η型半導體且有利 之矽,可藉由將磷摻 此外,亦可將磷摻入 物加熱熔融而製造出 所知者有藉由金屬鋁 文獻1 )。藉由該方 之可能性。此外,當 示出Ρ型特性,其太 作爲太陽能電池的原 的方向性凝固法進行 將前述含鋁的還原矽 設定爲卓方向之狀態 域。 之含鋁的η型太陽能 於精製的還原矽之方 -5- 201034946 法,亦未爲人所知。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開平2-64006號公報 【發明內容】 (發明所欲解決之課題) 本發明之一項課題係提供一種含鋁的η型太陽能電池 用矽。 本發明之其他課題係提供一種經濟性地製造出從含銘 的矽所精製之摻磷之矽之方法。 (用以解決課題之手段) 本發明者們係爲了解決上述課題進行精心探討,結果 獲知以下發現。 (a )在藉由方向性凝固法將含鋁之加熱熔融的矽進 行精製之前或之後將磷摻入,均可製得精製之摻磷之矽。 (b)尤其在將磷摻入後使摻磷之矽在單方向上凝固 時,凝固後的矽中,鋁等之雜質在冷卻過程中從位於溫度 梯度的低溫側之區域朝向位於高溫側之區域偏析,相對於 此,磷的分布中,偏析相對較少。 (e )在藉由方向性凝固法將含鋁之加熱熔融的矽進 行精製時’當以使矽中之磷/鋁質量濃度比成爲0.009以 上之方式將磷摻入時,依據方向性凝固法進行精製後可製 -6- 201034946 得η型太陽能電池用矽。 (d)尤其是含有質量濃度爲0.001~1.0 ppm的鋁及 0.001 1〜1·1 ppm的磷,且磷/鋁質量濃度比爲1.1以上之η 型太陽能電池用矽,係有利於作爲太陽能電池的原材料。 本發明係藉由此等發現而完成。 亦即,本發明之η型太陽能電池用矽,係由下列構成 所形成。 (1) 一種η型太陽能電池用矽,其係含有質量濃度 爲0.001-1.0 ppm的鋁及0.0011-1.1 ppm的磷,且磷/鋁 質量濃度比爲1.1以上。 (2 )如前述(1 )之矽,其係以使磷/鋁質量濃度比 成爲〇_〇〇9以上之方式將磷摻入於含鋁的矽來製得混合物 ’將所得之混合物加熱熔融來製得熔融混合物,並且在單 方向的溫度梯度下,於鑄模內使所得之熔融混合物凝固而 製得。 (3 )如前述(1 )之矽’其係將含鋁的矽加熱熔融來 製得熔融物’以使磷/鋁質量濃度比成爲0.009以上之方 式將磷摻入於所得之熔融物來製得溶融混合物,並且在單 方向的溫度梯度下,於鑄模內使所得之熔融混合物凝固而 製得。 此外,本發明之摻磷之矽製造方法,係由下列構成所 形成。 (4) 一種摻磷之矽製造方法,其係藉由將含鋁的矽 加熱熔融來製得熔融物並將磷摻入於所得之熔融物,或是 201034946 將磷摻入於含鋁的矽來製得混合物並將所得之混合物加熱 熔融’調製出含鋁、隣及矽之熔融混合物後,在單方向的 溫度梯度下,於鑄模內使前述熔融混合物凝固。 (5) 如前述(4)之方法,其中在前述熔融混合物的 調製中’係以使磷/鋁質量濃度比成爲0.009以上之方式 將磷摻入。 (6) 如前述(4)或(5)之方法,其中前述含鋁的 矽’爲藉由金屬鋁使鹵化矽還原所得之還原矽。 (7) 如前述(4)至(6)中任一項之方法,其係在 將前述含鋁的矽進行酸洗後加熱熔融。 (8) 如則述(4)至(7)中任一項之方法,其係在 減壓下將前述含鋁的矽加熱熔融。 (9 )如則述(4 )至(8 )中任一項之方法,其中前 述含鋁的矽,爲藉由單方向性凝固所精製之矽。 發明之效果: 根據本發明,能夠簡單地製造出含鋁的η型太陽能電 池用矽。亦即,在藉由方向性凝固法將含鋁的矽進行精製 時’藉由摻入因應矽中的鋁含量所決定之適量的磷,即使 從顯示出Ρ型特性之含鋁的矽中,亦可製造出有利於作爲 太陽能電池的原材料之η型太陽能電池用矽。 此外’根據本發明,能夠簡單地製得精製之摻磷之矽 。尤其是將含鋁的矽加熱熔融來製得熔融物並將磷摻入於 所得之熔融物,再使其在單方向上凝固來進行精製之方法 -8 - 201034946 ,相較於將含鋁的矽加熱熔融並使其在單方向上凝固來進 行精製後,再次將所得之精製的矽加熱熔融並將磷摻入之 方法,可減少加熱熔融的次數’所以能夠經濟性地製造出 摻磷之矽。 【實施方式】 以下係以使用還原矽作爲含鋁的矽之情況爲例,並參 0 照第1圖〜第3圖來詳細說明本發明之含鋁的η型太陽能 電池用矽及摻磷之矽製造方法的一實施形態。 本實施形態之含鋁的η型太陽能電池用矽,可將磷摻 入於含鋁的矽並藉由方向性凝固進行精製而製得。含鋁的 砂’例如有藉由金屬鋁使鹵化矽還原所得之還原矽。該還 原矽可藉由下列方式所得。亦即,如第1圖(a )所示, 藉由金屬鋁(3)使鹵化矽(1)還原,且如第1圖(b) 所不來製得還原矽(5 )。鹵化矽(1 )例如有下列一般式 Q (〇所表示之化合物等。 [化學式1]
SiHnX4.„ · · · ( i ) [式中,η表示〇〜3的整數,χ表示鹵素原子]。 則述一般式(i)中,X所表示之鹵素原子,例如有 氟原子、氯原子、溴原子、碘原子,該鹵化矽化合物㈠ ),例如有四氟化矽、三氟化矽、二氟化矽、氟化矽、四 -9 - 201034946 氯化砂、三氯化砂、二氯化砂、氯化砂、四溴化砂、三溴 化矽、二溴化矽、溴化矽、四碘化矽、三碘化矽、二碘化 矽、碘化矽等。 鹵化矽(1)的純度,就製得純度高之η型太陽能電 池用矽及摻磷之矽而言,較佳爲99.99質量%以上,尤佳 爲99.9999質量%以上,更佳爲99.99999質量%以上。此 外,當考量到將所得之摻磷之矽用作爲η型太陽能電池用 矽時,較佳爲使用硼含量較少的鹵化矽(1)。具體而言 ,鹵化矽(η的硼含量,較佳是相對於矽的質量比爲〇.3 ppm以下’尤佳是0.1 ppm以下,更佳是0.01 ppm以下 。前述硼含量’可藉由感應耦合電漿質譜分析法(ICP質 譜分析法)來測定。 鹵化矽(1)的磷含量,相對於矽的質量比爲3 ppm 以下’較佳是1 ppm以下。當磷含量超過3 ppm時,後述 之η型太陽能電池用矽的磷含量,可能會超過考量到太陽 能電池特性時之容許含量。前述磷含量,可藉由ICP質譜 分析法或輝光放電質譜分析法(G D M S )來測定。 金屬銘(3) ’一般較佳爲作爲鋁所市售之電解還原 鋁,以及藉由偏析凝固法、三重電解法等方法將電解還原 鋁進行精製所得之高純度鋁等。 金屬銘(3 )的純度,就製得雜質所造成的污染較少 之η型太陽能電池用矽及摻磷之矽而言,較佳爲99.9質 量%以上’尤佳爲99.95質量%以上。金屬鋁的純度,爲 從金屬銘的1 〇 〇質量%中減去鐵、銅 '鎵、鈦、鎳、鈉、 -10- 201034946 鎂及鋅的合計含量後之値,此等雜質元素的合計含量,可 藉由GDMS來測定。金屬鋁亦可使用含有含量相對較低的 矽之金屬鋁。 藉由金屬鋁(3)使鹵化矽(1)還原時,例如可將鹵 化矽(1 )吹入至加熱熔融狀態下的金屬鋁(3 )中。若以 此方法藉由金屬鋁(3)使齒化矽(1)還原,可製得目的 之含鋁的矽。具體而言,如第1圖(a)所示,可通過吹 0 入管(2 )將氣體狀態之鹵化矽(1 )吹入至加熱熔融狀態 下的金屬鋁(3 )中。 吹入管(2 ),較佳係使用相對於加熱熔融狀態下的 金屬鋁(3)爲非活性,且具有耐熱性者。具體而言’較 佳是由石墨等之碳、碳化矽、碳化氮、礬土(氧化鋁)、 石英等之砂石(氧化砂)等所構成。 加熱熔融狀態下的金屬鋁(3)被保持於容器(4) ° 該容器(4),較佳係使用相對於加熱熔融狀態下的金屬 Q 鋁(3)、鹵化矽(1)及矽爲非活性’且具有耐熱性者。 具體而言,較佳是由石墨等之碳、碳化矽、碳化氮、攀土 (氧化鋁)、石英等之矽石(氧化矽)等所構成。 當通過吹入管(2)將鹵化矽(1)吹入至保持於容器 (4 )之加熱熔融狀態下的金屬鋁(3 )中時,鹵化砂(1 )藉由金屬鋁(3)被還原爲矽’且所生成之矽溶解於金 屬鋁(3 )。藉此可製得含矽的鋁融液(3 〇 )。鋁融液( 30)的矽含量,可藉由鹵化矽(1)的吹入量來調整。 當將吹入鹵化矽(1)後的鋁融液(30)冷卻時’溶 -11 - 201034946 解於此之矽,如第1圖(b )所示’係作爲還原矽(5 )晶 析於冷卻後的固形物(3 0,)的上面°例如可藉由金剛石 切割器等,從冷卻後的固形物(3 〇 ’)中切割出此晶析的 還原矽(5),而製得目的之還原矽(5)作爲含鋁的矽。 所得之還原矽(5 )的純度’較佳爲94質量%以上’ 尤佳爲99.9質量%以上,更佳爲99.99質量%以上。此外 ’鋁含量,較佳是相對於矽的質量比爲52000 PPm以下’ 尤佳是1 100 ppm以下,更佳是12 ppm以下。硼含量,較 佳是相對於矽的質量比爲Ο」5 PPm以下,尤佳是〇.01 ppm以下。磷含量,較佳是相對於矽的質量比爲3 ppm以 下,尤佳是1 ppm以下。碳含量’較佳是相對於矽的質量 比爲9 ppm以下,尤佳是1 ppm以下。此般純度的還原矽 (5 ),例如可藉由在相對較慢的冷卻速度下將鋁融液( 3〇 )冷卻而製得。前述鋁及硼含量,可藉由ICP質譜分析 法測定。前述磷含量,可藉由ICP質譜分析法或GDMS 測定。前述碳含量,可藉由傅立葉轉換紅外線分光光度儀 法(FT-IR )來測定。 尤其當考量到用作爲η型太陽能電池用矽時,還原矽 (5 )的純度較佳爲98質量%以上,尤佳爲99.9質量%以 上,更佳爲99.999質量%以上。此外,鋁含量較佳是相對 於矽的質量比爲1質量%以下,尤佳是1000 ppm以下, 更佳是1 0 ppm以下。磷含量較佳是相對於矽的質量比爲 3 ppm以下,尤佳是1 ppm以下。還原矽(5 )的純度愈 低,至η型太陽能電池用矽的製作爲止所實施之依據方向 -12- 201034946 性凝固法進行精製之次數可能會增加。因此,當還原矽( 5 )的純度未滿98質量%,或是鋁含量相對於矽的質量比 超過1質量%,或是憐含量超過3 ppm時,工業上且經濟 上難以依據方向性凝固法進行精製。 在所得之還原矽(5)的表面,可能會附著金屬鋁。 此外,由於所用之鹵化矽(1 )或金屬鋁(3 )的純度等的 不同,在所得之還原矽(5 )中可能會含有鋁以外的雜質 0 。此時,較佳矽將還原矽(5)進行酸洗以去除鋁等的雜 質後,再進入後述之下一項的加熱熔融步驟。 還原矽(5)的酸洗,例如可藉由將還原矽(5)浸漬 於酸來進行。酸洗所用的酸,例如有濃硝酸、濃鹽酸、王 水等。酸洗溫度一般爲2 0〜90 °C,酸洗時間一般爲5小時 ~ 2 4小時,較佳爲5小時〜1 2小時。 接著,將成爲含鋁的矽之所得的還原矽(5 )加熱熔 融。還原矽(5)的加熱熔融,可在大氣壓下進行,但較 0 佳是在減壓下進行。藉此,可從還原矽(5)中使揮發性 的雜質元素揮發而去除。減壓下加熱熔融時的壓力(絕對 壓)’一般爲400Pa以下,較佳爲lOOPa以下’尤佳爲 0_5Pa以下。將還原矽(5)加熱熔融時的加熱溫度,只要 是還原矽(5)的熔融溫度以上即可,一般爲1410〜1650 〇C。 然後將磷摻入於加熱熔融的還原矽(5 )。磷的摻入 量’可因應還原矽(5 )中所含之磷含量、後述之下一項 凝固步驟中之磷的偏析程度、目的之摻磷之矽的磷含量’ -13- 201034946 來適當地選擇,較佳爲較硼含量還多,且以相對於矽 量比一般爲〇·〇2〜3 ppm,較佳爲〇.〇3〜1 ppm之方式 入。磷的摻入亦可在加熱熔融前進行。 尤其當考量到用作爲η型太陽能電池用矽時,磷 入量係因應含鋁的矽中所含之鋁含量,係以使矽中[ 鋁質量濃度比成爲0.009以上,較佳爲〇.〇〇9~1.5之 來慘入。鱗的慘入量在憐/鋁質量濃度比未滿0.009 所得之精製矽難以顯示出η型特性,且所得之η型太 電池用矽的良率亦會降低,所以較不佳。 磷一般係作爲純度99.99999質量% ( 7個9 )以 高純度矽與99.9999質量% (6個9)以上的高純度磷 金的矽-磷母合金來摻入。矽-磷母合金,例如有電阻 2ιηΩ · cm,且磷含量相對於矽之質量比爲700~770 者。 接著藉由方向性凝固法,將摻磷後之加熱熔融狀 的還原矽(5 )進行精製。本實施形態之方向性凝固 如第2圖所示,係在將溫度梯度(T )設定在單方向 狀態下,於鑄模(6 )內將加熱熔融狀態下的還原矽 冷卻。 具體而言,鑄模(6 )較佳係使用相對於加熱熔 態下的還原矽(5 )爲非活性,且具有耐熱性者。具 言,鑄模(6)較佳是由石墨等之碳、碳化矽、碳化 礬土(氧化鋁)、石英等之矽石(氧化矽)等所構成 溫度梯度(T ),於第2圖的例子中,係以使低 的質 來摻 的摻 :磷/ 方式 時, 陽能 上的 之合 率爲 Ppm 態下 法, 上之 :5 ) 融狀 體而 氮、 〇 溫側 -14- 201034946 (51)成爲下方’高溫側(52)成爲上方之方式設定在重 力方向上。溫度梯度(T)只需設定在單方向上即可,例 如可設定在水平方向上使低溫側(5 1 )與高溫側(52 )成 爲相同高度’或是設定在重力方向上,使低溫側(5丨)成 爲上方,高溫側(52)成爲下方。溫度梯度(T)不須具 備過大的設備,就實用上的點來看,一般爲0.2〜2.5。(: /mm,較佳爲 0.5〜1.5 °C /mm。 溫度梯度(T )例如可以下列方式來設定。亦即,爐 (8)開放其下部(8’)的中央部,並以從該下部(8,) 的中央部升降自如之方式將鑄模(6)配置於爐(8)內。 位於此鑄模(6)的上方及左右方之爐(8)內,配置3個 加熱器(7 )。一邊以各加熱器(7 )加熱鑄模(6 )的上 部,一邊以爐(8 )的下部(8 ’)將鑄模(6 )的下部冷卻 。藉此,係以使低溫側(5 1 )成爲下方’高溫側(52 )成 爲上方之方式,將溫度梯度(Τ)設定在重力方向上。 將鑄模(6)的下部冷卻之方法’例如除了空冷等之 外’亦有因應溫度梯度(Τ)來使用水冷板(9)之方法等 。亦即,夾介鑄模(6 )將一對水冷板(9 )對向配置於爐 (8)的下方。各水冷板(9) ’係在由不鏽鋼等所構成之 本體內部設置有循環流路’使水於該循環流路中循環來將 鑄模(6 )的下部冷卻。 加熱熔融狀態下的還原矽(5)之冷卻,可藉由使收 納此還原矽(5)之鑄模(6)往箭頭Α所示之下方向移 動,使該鑄模(〇從爐(8 )的下部(8,)往爐(8 )的 -15- 201034946 外部導引來進行。藉此’還原矽(5 )可一邊從低溫側( 51)形成固相(54) —邊凝固,且如第3圖(a)所示, 成爲矽方向性凝固物(1 〇 )。 藉由冷卻低溫側(5 1 )所形成之固相(5 4 )、與位於 高溫側(5 2 )且尙未凝固之液相(5 5 )之界面(5 6 )的移 動速度所表示之凝固速度(R),一般爲0.05~2 mm /分, 較佳爲0·4〜1.2 mm/分。凝固速度(R),例如可藉由使鑄 模(6)往爐(8)的外部移動時之鑄模(6)的移動速度 來調整。 還原矽(5 )從低溫側(5 1 )逐漸凝固,此凝固過程 的凝固率(Y),係以在所用的還原矽(5)當中成爲固 相(54 )之還原矽的比例(% )來表示。 前述凝固過程中,還原矽(5)中所含之鋁等的雜質 ’會往高溫側(52 )偏析而移動。因此,凝固後的矽方向 性凝固物(10)中,雜質含量(C)係從溫度梯度(T) 的低溫側(5 1 )朝向高溫側(52 )單方向地增加。相對於 此’還原矽(5 )中所含之磷,偏析於高溫側(5 2 )者較 少’乃相對較均一地分布於固相(5 4 )及液相(5 5 )。 第3圖(a )、( b )爲顯示製得本發明的一實施形態 之含鋁的η型太陽能電池用矽及摻磷之矽之步驟的槪略說 明圖。如第3圖(a )所示,所得之矽方向性凝固物(10 )中,冷卻過程中位於溫度梯度(T )的低溫側(51 )之 區域,成爲雜質含量較少之精製矽區域(1 0A ),位於溫 度梯度(T )的高溫側(52 )之區域,成爲含有較多偏析 -16- 201034946 的雜質之粗矽區域(10B)。當從該矽方向性凝固物(10 )中去除粗矽區域(10B )時,如第3圖(b )所示,可製 得由精製矽區域(10A)所形成之目的之摻磷之矽(11) 〇 去除粗矽區域(1 0B )之方法,並無特別限定,例如 可採用使用有金剛石切割器等之一般的方法。亦即,沿著 精製矽區域(10A)與粗矽區域(10B)之界面,來切除 0 由粗矽區域(1 0B )所構成之粗矽(1 2 )。所得之摻磷之 矽(1 1 ),例如有利於作爲太陽能電池的原材料。 尤其當摻磷之矽(11)爲η型太陽能電池用矽時,該 η型太陽能電池用矽中的鋁含量,相對於矽的質量比爲 0.001~1_〇 ppm,較佳是 0.03 〜0.3 ppm,尤佳是 0.03 〜0.1 ppm。當鋁含量未滿0.001 PPm時,經濟上較爲不利。此 外,當鋁含量超過1·〇 ppm時,作爲太陽能電池的特性會 降低。 Q 此外,磷含量相對於矽的質量比爲0.001 1〜1.1 ppm, 較佳是〇·3〜〇·8 ppm。當碟含量未滿0.0011 ppm或是超過 1 . 1 ppm時,作爲太陽能電池的特性會降低。 再者,η型太陽能電池用矽中的磷/鋁質量濃度比爲 1.1以上’較佳爲1·1〜20 °當磷/銘質量濃度比未滿1.1時 ,所得之矽難以顯示出η型特性,且所得之η型太陽能電 池用砂的良率亦會降低。本發明之摻磷之矽的用途,並不 限定於前述所例不之用途。 以上係說明本發明之較佳實施形態,但本發明並不限 -17- 201034946 定於以上實施形態,在申請專利範圍所記載之範圍內,可 進行各種改善或變更。例如在前述一實施形態中,係說明 使用還原矽作爲含鋁的矽之情況,但本發明並不限定於此 ,亦可使用其他含鋁的矽取代還原矽來作爲原料。 此外,在前述一實施形態中,係說明將所得之還原矽 加熱熔融,並將磷摻入於此之情況,但亦可藉由方向性凝 固法將前述還原矽進行精製後加熱熔融,並將磷摻入於此 。亦即,當含有相對較多的鋁時,可能有無法依據一次的 方向性凝固法進行精製來充分地去除鋁之情況。因此,當 無法藉由一次的方向性凝固法來充分地去除鋁時,亦即必 須依據方向性凝固法進行複數次的精製時,只需使用經單 方向性凝固精製後的矽作爲含鋁的矽即可。藉此,可製得 最終經適度地精製去除鋁之η型太陽能電池用矽及摻磷之 砂。 此外,在前述一實施形態中,係說明將含鋁的矽加熱 熔融,以使磷/鋁質量濃度比成爲0.009以上之方式將磷 摻入後,在鑄模內將溫度梯度設定爲單方向之狀態下進行 凝固之情況,但亦能夠以使磷/鋁質量濃度比成爲0.009 以上之方式將磷摻入於含鋁的矽後,加熱熔融並在鑄模內 將溫度梯度設定爲單方向之狀態下進行凝固。 以下係列舉出實施例來詳細說明本發明,但本發明並 不限定於下列實施例。 [實施例1 ] -18- 201034946 <n型半導體用矽的製作> 如第2圖及第3圖所示之方式來製得n型半導體用矽 。具體而言,首先將高純度矽[純度99.99999%以上]l〇kg ,以及相當於1 0 ppm之高純度鋁[純度99.999%、住友化 學株式會社製]0.1kg,裝入於第2圖所示之石墨製的鑄模 (6)[內尺寸18cmxl8cmx深度28cm、內容積約9L],於 氬氣環境的電爐(8)內加熱至154〇t使溶解,而製作出 0 融液深度130mm之含鋁的矽融液。 接著以使矽中之磷/鋁質量濃度比成爲0.03’且於矽 融液中之相對於矽的質量比爲0.3 ppm之方式將磷摻入。 前述磷,係作爲純度99.99999質量% (7個9)以上的高 純度矽與99.9999質量% (6個9)以上的高純度磷之合金 的矽-磷母合金來摻入。此矽-磷母合金的電阻率爲2m Ω -cm,且磷含量相對於砍之質量比爲770 ppm。 然後,藉由在溫度梯度(τ ) 1 °c /mm、凝固速度(R Q ) 〇.4mm/分的條件下使鑄模(6)往箭頭A方向移動之方 向性凝固法,使含鋁的矽融液在單方向上凝固,而製得如 圖3所示之矽方向性凝固物(1 0 )。溫度梯度(T ),係 以使低溫側(5 1 )成爲下方,高溫側(52 )成爲上方之方 式設定在重力方向上。 所得之矽方向性凝固物(1 〇 )中,係藉由金剛石切割 器,切割出凝固過程的凝固率(Y)爲20%、50%及80% 時之相當於固相(54 )與液相(55 )之界面(56 )的部分 ,並藉由ICP質譜分析法將各部分之鋁及磷含量予以定量 -19- 201034946 。其結果如第1表所示。從第1表中可得知’各凝固率( Y)之砂方向性凝固物(1〇)中的磷/銘質量濃度比均爲 1 .1以上。 [第1表] 凝固率(Y) (%) 鋁含量(ppm) 磷含量(Ιψηι) 磷/銘質量濃度比 20 0.03 0.12 4.0 50 0.05 0.16 3.2 80 0.12 0.29 2.4 [實施例2] 首先,與前述實施例1相同來製作出融液深度 13 0mm之含鋁的矽融液。接著以使矽中之磷/鋁質量濃度 比成爲0.07,且於矽融液中之相對於砂的質量比爲〇·7 ppm之方式將磷摻入’除此之外’其他與前述實施例1相 同來進行方向性凝固法,而製得矽方向性凝固物(1 0 ) ° 所得之矽方向性凝固物(1 0 )中’係藉由金剛石切割 器’切割出凝固過程的凝固率(Υ )爲2 0 %、5 〇 %及8 〇 % 時之相當於固相(54)與液相(55)之界面(56)的部分 ,並藉由ICP質譜分析法將各部分之銘及磷含量予以定量 。其結果如第2表所示。從第2表中可得知,各凝固率( γ)之砂方向性凝固物(10)中的鱗’銘質量濃度比均爲 1 · 1以上。 •20- 201034946 [第2表] 凝固率(Υ) (%) 銘含量(ppm) 磷含量(ppm) 碟/銘質量濃度比 20 0.04 0.28 7.0 50 0.06 0.38 6.3 80 0.15 0.68 4.5 [比較例1 ] 首先,與前述實施例1相同來製作出融液深度 13 0mm之含鋁的矽融液。接著以使矽中之磷/鋁質量濃度 比成爲0.003,且於矽融液中之相對於矽的質量比爲0.03 ppm之方式將磷摻入,除此之外,其他與前述實施例1相 同來進行方向性凝固法,而製得矽方向性凝固物(10 )。 所得之矽方向性凝固物(1 〇 )中,係藉由金剛石切割 器,切割出凝固過程的凝固率(γ )爲2 0 %、5 0 %及8 0 % 時之相當於固相(54)與液相(55)之界面(56)的部分 ,並藉由感應耦合電漿質譜分析法將各部分之鋁及磷含量 q 予以定量。其結果如第3表所示。從第3表中可得知,各 凝固率(Υ )之矽方向性凝固物(1 0 )中的磷/鋁質量濃度 比均未滿1.1 ° [第3表] 凝固率(Y) (%) 鋁含量 磷含量(ppm) 磷/銘質量濃度比 20 0.03 0.01 0.3 50 0.05 0.01 0.2 80 0.13 0.03 0.2 [比較例2] -21 - 201034946 首先,與前述實施例1相同來製作出融液深度 1 3 0mm之含銘的矽融液。對砂融液並未將磷摻入。接著 與前述實施例1相同來進行方向性凝固法’而製得矽方向 性凝固物(1 〇 )。 所得之矽方向性凝固物(10 )中’係藉由金剛石切割 器,切割出凝固過程的凝固率(γ )爲20%、50%及80% 時之相當於固相(54 )與液相(55 )之界面(56 )的部分 ,並藉由感應耦合電漿質譜分析法將各部分之鋁及磷含量 予以定量。其結果如第4表所示。從第4表中可得知’各 凝固率(Y )之矽方向性凝固物(1 〇 )中的磷/鋁質量濃度 比均未滿〗.1。 f第4表] 凝固率(Y) (%) 鋁含量(ppm) 磷含量(I>pm) 磷/鋁質量濃度比 20 0.04 0.004 0.1 50 0.06 0.005 0.08 80 0.15 0.01 0.07 <評估> 上述實施例1、2及比較例1、2中所得之各矽方向性 凝固物(10)中,將凝固率(Y)爲80%爲止之部分用作 爲太陽能電池用矽,並評估其電阻率、使用期限及擴散長 度作爲該太陽能電池特性。各評估方法如下所示,並且將 該結果一同顯示於第5表。 -22- 201034946 (電阻率及使用期限) 首先,使用線鋸從矽方向性凝固物(1 〇)中切割出 50mmx50mm、厚度0.35mm的方形晶圓。接著以氟硝酸對該 晶圓進行蝕刻後,測定晶圓的電阻率及使用期限。晶圓的電 P且率,係以 QSSPC ( Quasi-Steady-State Photoconductance :準穩態光電導)法來測定。測定儀器係使用Textronix 社製的「TDS2 1 0」。晶圓的使用期限,係浸漬於碘-乙醇 0 溶液中並以QSSPC法來測定。測定儀器係使用Textronix 社製的「TDS210」。光源使用白色光源,且並非局部, 而是測定晶圓全體的平均使用期限。 (擴散長度) 從矽方向性凝固物(1〇)中切割出寬度180mmx長度 130mmx厚度5mm之具有平行於凝固方向的剖面之基板, 以氟硝酸進行蝕刻後,進行氧化處理並測定基板的擴散長 ❹ 度。基板的擴散長度,係以SPV ( Surface Photo Voltage :表面光電壓)法來測定。測定儀器係使用SDi社製的「 CMS4010」。 -23- 201034946 [第5表]
鋁含量 (ppm) 磷含量 (ppm) 讎 質量濃 度比 電阻率 (Ω cm) 使用 期限 (μδ) 擴散 長度 (μιη) 總體 評估 實施例I 0.03 〜0.12 0.12-0.29 2.4-4.0 0.8〜1.8 50 300 ◎ 實施例2 0.04-0.15 0.28-0.68 4.5 〜7,0 0.3 〜0.9 30 120 〇 比較例1 0.03-0.13 0.01-0.03 0.2-0.3 3~23 50 40 X 比較例2 0.04-0.15 0.004-0.01 0.07-0.1 2~12 50 40 X 從第5表中可得知,實施例1係顯示出電阻率 0.8-1.8Ω . cm,η型,使用期限除了方向性凝固物的端部 以外爲5 0μ8,擴散長度除了方向性凝固物的端部以外爲 3 ΟΟμιη。從此等結果中,可判斷實施例1能夠用作爲η型 太陽能電池用矽。此外,實施例 2係顯示出電阻率 0.3〜0.9Ω · cm,η型,使用期限除了方向性凝固物的端部 以外爲3 0 μ s,擴散長度除了方向性凝固物的端部以外爲 1 20 μιη。從此等結果中,可判斷實施例2能夠用作爲η型 太陽能電池用矽。 另一方面,比較例1係顯示出電阻率3〜23 Ω · cm,ρ 型,使用期限除了方向性凝固物的端部以外爲50μ8,擴 散長度除了方向性凝固物的端部以外爲40μιη。從此等結 果中,可判斷比較例1難以用作爲η型太陽能電池用矽。 此外,比較例2係顯示出電阻率2~ 12 Ω . cm,ρ型,使 用期限除了方向性凝固物的端部以外爲50μ8,擴散長度 除了方向性凝固物的端部以外爲40 μτη。從此等結果中, 可判斷比較例2難以用作爲η型太陽能電池用矽。 -24- 201034946 [實施例3] 如第1圖〜第3圖所示之方式來製得摻磷之矽(11) 。具體而言,首先如第1圖所示之方式來製得還原矽(5 )。所使用之各構件如下所示。 鹵化矽(1 ):使用純度99.99質量%以上,硼含量 〇_1 ppm,磷含量〇.3 ppm之四氯化矽氣體。前述硼含量 及磷含量均爲相對於矽之質量比。 0 金屬鋁(3 ):使用純度99.9質量%以上之市售的電 解還原鋁。 吹入管(2 ):使用內徑8mm、氧化鋁製的管。 容器(4 ):使用內徑1 80mm、深度200mm、石墨製 的容器。 如第1圖所示,從吹入管(2 )將鹵化矽(1 )吹入至 1 02 0 °C之加熱熔融狀態下的金屬鋁(3 )中,藉此使鹵化 石夕(1)還原。鹵化砂(1)的吹入量設定爲0.2L /分。 Q 將所得之鋁融液(3 0 )冷卻,並藉由金剛石切割器, 切割出晶析的矽而製得還原矽(5 )。藉由ICP質譜分析 法將此還原矽(5)的鋁含量予以定量,其結果以相對於 砂之質量比來表不爲1080 ppm。 將此還原矽(5)浸漬於8 0°C、3 6%的鹽酸8小時以 進行酸洗。藉由ICP質譜分析法將酸洗後之還原矽(5) 中的鋁及硼含量予以定量,並藉由GDMS將磷含量予以定 量,其結果以相對於矽之質量比來表示時,鋁含量爲10.1 Ppm,磷含量爲0.08 ppm,硼含量爲未滿0.015 ppm (檢 -25- 201034946 測下限)。酸洗後之還原矽(5 )的純度爲9 9 · 9 9質量%以 上。 接著將酸洗後的還原矽(5)投入於第2圖所示之鑄 模(6 ),將此加熱至1 5 1 0 °C使熔融,在此狀態下,於 IPa (絕對壓)的減壓下保持12小時。鑄模(6)使用內 徑40mm'深度200mm、石墨製者。 然後在保持還原矽(5 )的加熱熔融狀態下,將氬氣 導入至爐(8)內並設定在大氣壓,以相對於矽之質量比 爲 0.6 ppm之方式將磷摻入。前述磷,係作爲純度 99.99999質量%(7個9)以上的高純度矽與99.9999質 量% (6個9)以上的高純度磷之合金的矽-磷母合金來摻 入。此矽-磷母合金的電阻率爲2m Ω · cm,且磷含量相對 於矽之質量比爲700 ppm。 然後,藉由在溫度梯度(T ) 1 °C /mm、凝固速度(R )0.4mm /分的條件下使鑄模(6)往箭頭A方向移動之方 向性凝固法,使還原矽(5)在單方向上凝固,而製得第 3圖所示之矽方向性凝固物(1 〇 )。溫度梯度(τ ),係 以使低溫側(5 1 )成爲下方’高溫側(5 2 )成爲上方之方 式設定在重力方向上。 所得之矽方向性凝固物(1 0 )中’係藉由金剛石切割 器’切割出凝固過程的凝固率(Y)爲2 0 %、5 0 %及8 0 % 時之相當於固相(54 )與液相(55 )之界面(56 )的部分 ,並藉由ICP質譜分析法將各部分之鋁及硼含量予以定量 ,並藉由GDMS將磷含量予以定量。其結果如第6表所示 -26- 201034946 [第6表] 凝固率(Y) (%) 銘含量(ppm) 硼含量(ppm) 磷含量(ppm) 20 0.03 <0.015 0.3 50 0.06 <0.015 0.4 80 0.15 <0.015 0.6 酸洗後的還原矽(5 ) ·· 銘含量1 〇. 1 ppm 砸含量未滿0.015 ppm 磷含量〇·〇8 ppm 從第6表中可得知,將磷摻入於加熱熔融的還原矽( 5)後,即使在單方向上凝固,凝固後之矽中的磷分布中 ,偏析亦相對較少。然後,藉由將凝固過程的凝固率(Y )爲80%時之相當於界面(56 )的部分中所得之矽方向凝 固物(1 〇 )切斷並切除粗矽區域(1 0B )部分,可製得由 精製矽區域(1 0 A )所形成之目的之摻磷之矽(1 1 )。 [實施例4] 首先與前述實施例1相同來製得酸洗前的還原矽(5 )。接著將此還原矽(5)投入於第2圖所示之鑄模(6) ,加熱至154〇°C使熔融,藉由在溫度梯度(T) 1°C /mm、 凝固速度(R ) 〇.4mm/分的條件下使鑄模(6 )往箭頭A 方向移動之方向性凝固法,使還原矽(5 )在單方向上凝 固,而製得矽方向性凝固物(1 0 )。溫度梯度(T ),係 以使低溫側(5 1 )成爲下方,高溫側(5 2 )成爲上方之方 -27- 201034946 式設定在重力方向上。 接著在所得之矽方向性凝固物(10)中,在凝固過程 的凝固率(Y)爲80%時之相當於界面(56)的部分中切 除粗矽區域(10B)部分,來將還原矽(5)進行精製。藉 由ICP質譜分析法,將製得作爲精製矽區域(10A)之精 製後的還原矽(5)中的鋁及硼含量予以定量,並藉由 GDMS將磷含量予以定量,其結果以相對於矽之質量比來 表不時’錫含量爲6.3 ppm,磷含量爲0.03 ppm,硼含量 爲未滿〇 . 01 5 p p m (檢測下限)。 接著將上述精製後的還原砂(5)投入於第2圖所不 之鑄模(6 ),將此加熱至1 540°C使熔融,以相對於矽之 質量比爲0.03 ppm之方式將磷摻入。然後,藉由在溫度 梯度(T ) 1 °C /mm、凝固速度(R ) 0.4mm/分的條件下使 鑄模(6 )往箭頭A方向移動之方向性凝固法,使還原矽 (5 )在單方向上凝固,而製得第3圖所示之矽方向性凝 固物(1 〇 )。溫度梯度(T ),係以使低溫側(5 1 )成爲 下方,高溫側(52)成爲上方之方式設定在重力方向上。 所得之矽方向性凝固物(1 0 )中,係藉由金剛石切割 器’切割出凝固過程的凝固率(Y )爲2〇%、50%及80% 時之相當於界面(56 )的部分,並藉由ICP質譜分析法將 各部分之鋁及硼含量予以定量,並藉由.GDMS將磷含量予 以定量。其結果如第7表所示。 -28- 201034946 [第7表] 凝固率(Υ) (%) 銘含量(ppm) 硼含量(ppm) 磷含量(ppm) 20 0.05 <0.015 0.02 50 0.08 <0.015 0.03 80 0.16 <0.015 0.03 精製後的還原矽(5 ): 銘含量6.3 ppm 硼含量未滿0.015 ppm 磷含量0.03 ppm 0 從第7表中可得知,藉由將凝固過程的凝固率(Υ ) 爲8 0 %時之相當於界面(5 6 )的部分所得之矽方向凝固物 (10)切斷並切除粗矽區域(10B)部分’可製得由精製 矽區域(1 0 A )所形成之目的之摻磷之矽(1 1 ) ° 【圖式簡單說明】 第1圖(a ) 、( b )爲顯示製得本發明的一實施形態 之還原矽之步驟的槪略說明圖。 © 第2圖爲顯示本發明的一實施形態之方向性凝固法之 槪略說明圖。 第3圖(a ) 、( b )爲顯示製得本發明的一實施形態 之含鋁的η型太陽能電池用矽及摻磷之矽之步驟的槪略說 明圖。 【主要元件符號說明】 1 :鹵化矽 2 :吹入管 -29- 201034946 3 :金屬鋁 4 :容器 5 :還原矽 6 :鑄模 7 :加熱器 8 :爐 9 :水冷板 1 〇 :矽方向性凝固物 10A :精製矽區域 1 0 B :粗矽區域 1 1 :摻磷之矽 1 2 :粗矽 3 0 :鋁融液 5 1 :低溫側 5 2 :高溫側 5 4 :固相 5 5 :液相 56 :界面 -30-

Claims (1)

  1. 201034946 七、申請專利範圍: 1 . 一種η型太陽能電池用矽,其係含有質量濃度爲 0_001~1.0 ppm的鋁及0.0011〜1.1 ppm的磷,且磷/鋁質量 濃度比爲1.1以上。 2 .如申請專利範圍第!項之矽,其係以使磷/鋁質量濃 度比成爲0.009以上之方式將磷摻入於含鋁的矽來製得混 合物,將所得之混合物加熱熔融來製得熔融混合物,並且 0 在單方向的溫度梯度下,於鑄模內使所得之熔融混合物凝 固而製得。 3 ·如申請專利範圍第1項之矽,其係將含鋁的矽加熱 熔融來製得熔融物,以使磷/鋁質量濃度比成爲0.009以上 之方式將磷摻入於所得之熔融物來製得熔融混合物,並且 在單方向的溫度梯度下,於鑄模內使所得之熔融混合物凝 固而製得。 4. 一種摻磷之矽製造方法,其係藉由將含鋁的矽加熱 Q 熔融來製得熔融物並將磷摻入於所得之熔融物,或是將磷 摻入於含鋁的矽來製得混合物並將所得之混合物加熱熔融 ,調製出含鋁、磷及砂之熔融混合物後,在單方向的溫度 梯度下,於鑄模內使前述熔融混合物凝固。 5. 如申請專利範圍第4項之方法,其中在前述熔融混 合物的調製中,係以使磷/鋁質量濃度比成爲0.009以上之 方式將磷摻入。 6 .如申請專利範圍第4項之方法,其中前述含鋁的矽 ,爲藉由金屬鋁使鹵化矽還原所得之還原矽。 -31 - 201034946 7.如申請專利範圍第4項之方法,其係在將前述含鋁 的矽進行酸洗後加熱熔融。 8 .如申請專利範圍第4項之方法,其係在減壓下將前 述含鋁的矽加熱熔融。 9.如申請專利範圍第4至8項中任一項之方法,其中 前述含鋁的矽,爲藉由單方向性凝固所精製之矽。
    -32-
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104928761B (zh) * 2014-03-19 2018-02-23 新特能源股份有限公司 一种硅片母合金的制备方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3824065A1 (de) * 1988-07-15 1990-01-18 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von solarsilicium
JP3247842B2 (ja) * 1996-10-14 2002-01-21 川崎製鉄株式会社 太陽電池用シリコンの鋳造方法
JPH10273311A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Kawasaki Steel Corp 太陽電池用シリコンの精製方法及び装置
JP2003212533A (ja) * 2002-01-24 2003-07-30 Jfe Steel Kk 太陽電池用シリコンの精製方法
TW200704587A (en) * 2005-06-29 2007-02-01 Sumitomo Chemical Co Method for producing silicon with high purity
JP5256588B2 (ja) * 2005-06-29 2013-08-07 住友化学株式会社 高純度シリコンの製造方法
JP2007055891A (ja) * 2005-07-28 2007-03-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 多結晶シリコンの製造方法
JP5194404B2 (ja) * 2005-08-19 2013-05-08 住友化学株式会社 珪素の製造方法
WO2007021035A1 (ja) * 2005-08-19 2007-02-22 Sumitomo Chemical Company, Limited 珪素の製造方法
JP4817761B2 (ja) * 2005-08-30 2011-11-16 京セラ株式会社 半導体インゴット及び太陽電池素子の製造方法
DE112006003557T5 (de) * 2005-12-27 2008-11-20 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Verfahren zur Herstellung von polykristallinem Silicium
US8319093B2 (en) * 2006-07-08 2012-11-27 Certainteed Corporation Photovoltaic module
CN101506097B (zh) * 2006-08-31 2011-06-29 三菱麻铁里亚尔株式会社 金属硅及其制备方法
JP5218934B2 (ja) * 2006-08-31 2013-06-26 三菱マテリアル株式会社 金属シリコンとその製造方法
US7651566B2 (en) * 2007-06-27 2010-01-26 Fritz Kirscht Method and system for controlling resistivity in ingots made of compensated feedstock silicon
US8404967B2 (en) * 2008-01-08 2013-03-26 Certainteed Corporation Photovoltaic module
JP4805284B2 (ja) * 2008-01-15 2011-11-02 三菱マテリアル株式会社 スパッタリング用ターゲット及びその製造方法
US20090188552A1 (en) * 2008-01-30 2009-07-30 Shih-Yuan Wang Nanowire-Based Photovoltaic Cells And Methods For Fabricating The Same
US7888158B1 (en) * 2009-07-21 2011-02-15 Sears Jr James B System and method for making a photovoltaic unit
WO2011150058A2 (en) * 2010-05-25 2011-12-01 Mossey Creek Solar, LLC Method of producing a semiconductor

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