TW201013678A - Semiconductor memory device - Google Patents
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Description
201013678 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種半導體記憶裝置,尤有關於一種具有 疊層記憶胞陣列(memory eeli array)於半導體基板上之結 構之半導體記憶裝置。 【先前技術】 - 近年來,以快閃5己憶體(flash mem〇ry)之後繼候補而 言,電阻變化記憶體係受到嘱目。在此,在電阻變化記憶 體裝置中,除以遷移金屬氧化物為記錄層而非揮發性記憶 其電阻值狀態之狹義之電阻變化記憶體(ReRAM : Resistive RAM)之外,尚包含使用硫族元素化合物 (chalcogemde)等作為記錄層而利用其結晶狀態(導體)與非 曰曰負狀態(絕緣體)之電阻值資訊之相變化記憶體 (PCRAM : Phase Change RAM)。 在電阻變化記憶體之可變電阻元件中,已知有2種動作 ❹ 模式。1種係為藉由切換施加電壓之極性,設定高電阻狀 態與低電阻狀態,此係稱為雙極(bipolar)型。另丨種並非藉 ,由切換施加電壓之極性,而是控制電壓值與電壓施加時 間,而可設定高電阻狀態與低電阻狀態,此係稱為單極 (unipolar)型 〇 為了要實現高密度之記憶胞陣列,係以單極型為較佳。 此係由於單極型之情形下,不需使用電晶體,藉由在位元 (bU)線與字元(word)線之交叉部重疊可變電阻元件與二極 體等之整流元件,即可構成胞陣列之構成之故。再者,藉 141130.doc 201013678 由將此種記憶胞陣列作三維疊層排列,不會使胞陣列面積 增大,而可實現大容量(參照專利文獻1)。 一般在半導體記憶裝置中,記憶胞陣列之位元線,係連 接於包含行解碼器(c〇lumn decoder)或感測放大器(sense amplifier)等之行控制電路。此外,記憶胞陣列之字元線係 與包含列解碼器(r〇w decoder)或字元線驅動器(driver)等之 列控制電路連接。在具有交叉點(cross point)型之記憶胞 陣列之半導體記憶裝置中,係藉由行控制電路與列控制電 路來控制與選擇記憶胞連接之位元線及字元線,而進行選 擇記憶胞之資料之寫入/讀出動作。在專利文獻2中,係記 載有在半導體記憶裝置中選擇驅動與記憶胞陣列連接之配 線之控制電路。此控制電路係作成串聯連接2個電晶體, 且根據解码器訊號而選擇配線,對於所選擇之配線賦予高 電麼、非選擇之配線賦予低電壓之構成。 在具有疊層有記憶胞陣列之記憶體區塊(block)之電阻變 化記憶體裝置中,為了削減整體之晶片尺寸,有將控制電 路配置於記憶體區塊之下部之半導體基板上之情形。為了 要將控制電路配置於記憶體區塊之下部之區域内,係需削 減控制電路之電路面積。因此,係要求使選擇驅動與記憶 胞陣列連接之配線之控制電路之構成簡易。 [專利文獻1]日本特表2005-522045號公報 [專利文獻2]曰本特開2008-077697號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之問題] 141130.doc 201013678 本發明之目的係提供一種半導體記憶裝置,其係具有可 以更簡易t構成選擇㉟動與記憶⑯陣列連接之配線之控制 電路。 [解決問題之技術手段] 本發明之一態樣之半導體記憶裝置,其特徵為包括:記 憶胞陣列,其係將_聯連接整流元件與可變電阻元件而成 之》己隐胞配置於複數之第丨配線與複數之第2配線之交叉 # 部;及控制電路,其係選擇驅動前述第1配線及前述第2配 線,剛述控制電路係以使特定之電位差加於配置在所選擇 之础述第1配線與所選擇之前述第2配線之交又部之選擇記 憶胞之方式,施力σ第1電壓於所選擇之前述第1配線、及施 加第2電麗於所選擇之前述第2配線;並且使非選擇之前述 第1配線之至少1條為漂浮(floating)狀態。 【實施方式】 [發明之效果] ® 依據本發明,即可提供-種半導體記憶裝置,其係具有 可乂更簡易t構成選擇動與記憶⑽陣列連接之配線之控 .制電路。 以下參照所附圖式說明本發明之實施形態。在本實施形 態' 中半導體記憶裝置係作為具有疊層有記憶胞陣列之三維 。己隱胞陣列結構之電阻變化記憶體裝置進行說明。然而, 此構成終究僅疋-例,本發明並不限定於此,此自不待 言。 [第1實施形態] 141130.doc 201013678 圖1係表示本發明之實施形態之電阻變化記憶體裝置之 基本構成’亦即形成有半導體基板1上之全域匯流排 (global bus)等之配線之配線區域3與疊層於其上之記憶體 區塊2之構成。 如圖1所示,記憶體區塊2在此例中係由4層記憶胞陣列 ΜΑ0〜MA3所組成。在記憶體區塊2之正下方之半導體基板 1中’係5又有配線區域3。在配線區域3中,係設有用以使 對於記憶體區塊2寫入/讀出之資料與外部交換之全域匯流 排等。此外,在此配線區域3中,亦可設有包含後述之行 開關等之行控制電路、及包含列解碼器等之列控制電路。 為了連接所疊層之各記憶胞陣列MA之字元線WL及位元 線BL、及形成於半導體基板1上之配線區域3,在記憶體區 塊2之側面需有垂直配線(via c〇ntact(導孔接觸窗))。在配 線區域3之四邊,係設有位元線接觸窗區域4及字元線接觸 固區域5。在位元線接觸窗區域4及字元線接觸窗區域5, 係形成用以連接位元線BL及字元線WL與控制電路之位元 線接觸窗ό及字元線接觸窗7。字元線WL係其一端經由形 成於字元線接觸窗區域5之字元線接觸窗7而連接於配線區 域3。此外’位元線BL係其一端經由形成於位元線接觸窗 區域4之位元線接觸窗6而連接於配線區域3。 在圖1中,雖係表示將複數個記憶胞陣列Μα叠層於與半 導體基板1垂直之方向(圖1所示之ζ方向)之丨個記憶體區塊 2,惟實際上係將此種單位記憶體區塊2配置複數個於字元 線WL之長度方向(圖丨所示之χ方向)及位元線BLi長度方 141130.doc 201013678 向(圖1所示之y方向)成矩陣狀。 如圖1所示,A 4·’& 在本實施形態中’係於字元線接觸窗區域5 中僅仃接觸窗,亦即在―剖面之所有層之字元線Μ 左:共通接觸窗而連接於配線區域3。此外,在位元線接 . 觸1^區域4中’係各層位元線BL經由個別準備之4行接觸窗 :連接於配線區域3。在本實施形態中,位S線BL雖係依 母層,立驅動,而字元線WL係在所有層共通地連接,惟 〇 μ於子元線WL亦可設為依每層獨立驅動。此外,亦可設 為使位元線BL共通,使字元線WL獨立驅動。再者,亦可 X將位元線BL及子元線规之至少一方在上下之層共有之 方式構成。 圖2係為表示電阻變化記憶體裝置之記憶胞陣列MA之等 效電路之電路圖。在此,圖2所示之記憶胞陣列係在位 元線BL之長度方向(圖2所示之y方向)配置有例如2 Kbit (_個),及在字元線WL之長度方向(圖2所1之父方向)配 ® 4有例如512 bit之單位記憶胞MC 〇藉此,在丨個記憶胞陣 列MA内配置i Mblt(約1〇6個)之單位記憶胞。在1個記 141130.doc 1 憶胞陣列MA内,係將單位記憶胞MC排列成二維矩陣狀。 如圖所示在字元線WL與位元線BL2交又部,配置整流元 件例如串聯連接有二極體以與可變電阻元件VR2電阻變 化型之單位記憶胞MC。在此,構成記憶胞MC之二極體以 及可變電阻元件VR之配置、極性均不限定於圖示。 可變電阻元件VR係例如具有由電極/遷移金屬氧化物/電 極所組成之結構等,藉由電壓、電流、熱等之施加條件帶 201013678 來金屬氧化物之電阻值變化,且將其電阻值不同之狀態作 為資訊非揮發性記憶。以此可變電阻元件VR而言,更具 體而言,係可使用:如硫族元素化合物等藉由結晶狀態與 非晶質狀態之相移轉使電阻值變化(PCRAM);藉由使金屬 陽離子析出而於電極間形成架橋(contacting bridge),或所 析出之金屬離子化而破壞架橋使電阻值變化(CBRAM : Conductive Bridging RAM,傳導橋接RAM);及藉由電壓 或電流施加而使電阻值變化(ReRAM)(大致可區分為:由 於是否存在有由電極界面所存在之電荷陷阱(trap)所捕捉 之電荷而產生電阻變化、及由於是否存在有因為氧欠缺等 所引起之傳導路徑(path)而產生電阻變化)等。 以此單極型之ReRAM之情形而言,資料對於記憶胞MC 之寫入,係對可變電阻元件VR施加例如3.5 V(若包含二極 體Di之電壓下降份實際上係為4.5 V左右)之電壓、10 nA左 右之電流為10 ns-1 00 ns左右之時間。藉此,使可變電阻 元件VR從高電阻狀態變化為低電阻狀態。以下,茲將使 此可變電阻元件VR從高電阻狀態變化為低電阻狀態之動 作稱為設置(set)動作。 對於設置動作後之低電阻狀態之可變電阻元件VR,施 加0.8 V(若包含二極體Di之電壓下降份實際上係為1.8 V左 右)之電壓、1 μΑ-10 μΑ左右之電流為5 0 ns-2 ps左右之時 間。藉此,使可變電阻元件VR從低電阻狀態變化為高電 阻狀態。以下,茲將使此可變電阻元件VR從低電阻狀態 變化為高電阻狀態之動作稱為重設(reset)動作。 141130.doc 201013678 /己隐胞MC係例如以高電阻狀態為安定狀態(重設狀態), 若為2值資料記憶,則藉由使重設狀態變化為低電阻狀態 之设置動作而進行資料之寫入。 »己隐胞MC之讀取(read)動作,係對於可變電阻元件 賦予0.4 V(右包含二極體〇1之電壓下降份實際上係為^ 4 v 左右)之電壓,且監控(m〇nit〇r)經由可變電阻元件vR所流 —1之電流。藉此,判定可變電阻元件賣糸處於低電阻狀 態還是高電阻狀態。 Ο 在圖2中係表示在記憶胞厘(:之設置動作時,施加於與記 憶胞陣列MA連接之位元線BL及字元線WL之電壓之狀態。 在此,以藉由設置動作寫入資料之選擇記憶胞Mc作為 MCI 1進行說明。 未與選擇記憶胞MC11連接之非選擇位元線bl〇〇、 BL02、BL03,係為「L」狀態(在本實施形態中漂浮狀態 V)。在設置動作時’與選擇記憶胞mc η連接之選擇 φ 位元線BL01係從「L」狀態(漂浮狀態与〇 v)驅動為r H」 狀態(在本實施形態中係電壓VSET)。此外,未與選擇記憶 胞MCI 1連接之非選擇字元線WL00、WL02、WL03,係為 「Η」狀態(在本實施形態中係為電壓VSET)。在設置動作 時,與選擇記憶胞MC11連接之選擇字元線WL01,係從此 「Η」狀態(電壓VSET)驅動為「L」狀態(在本實施形態中 係電壓Vss=0 V)。藉此’選擇記憶胞MC11之二極體Di成為 順向偏壓(bias)狀態,而使電流流通,選擇記憶胞MC 11之 可變電阻元件VR從高電阻狀態變化為低電阻狀態,設置 141130.doc 201013678 動作完成。 在本實施形態中,於與非選擇之記憶胞1^1(:連接之非選 擇之位元線BL,係設為於設置動作時不施加電壓保持漂 浮狀態。控制位元線BL之行控制電路,係於設置動作時對 特定之位元線BL(在本實施形態中係為位元線31^〇1)施加設 置電壓(在本實施形態中係為電壓VSET) ^然而,行控制電 路不需控制在設置動作時未被選擇之其他非選擇位元線 BL(位元線BL00、BL02、BL03)。因此,可省略將非選擇 位元線BL(位元線BL00、BL02、BL03)驅動為非選擇狀態 (例如Vss=0 V)之構成。亦即’可以更簡易之構成之行控 制電路而執行對於記憶胞陣列Μ A之設置動作。 [第2實施形態] 接著’參照圖3〜圖12說明本發明之電阻變化記憶體裝置 之第2實施形態。圖3係為表示電阻變化記憶體裝置之記憶 胞陣列MA之配線之圖。此外’圖4係為表示電阻變化記憶 體裝置之行/列控制電路之配置例之區塊圖。再者,圖5〜 囷12係為表示電阻變化記憶體裝置之行/列控制電路之構 成例之電路圖。在此,第2實施形態之電阻變化記憶體裝 置之基本構成,係與第1實施形態之電阻變化記憶體裝置 同樣。在第2實施形態之電阻變化記憶體裝置中,對於具 有與第1實施形態同等構成之位置,係藉由附上同等符號 而省略其說明。 如圖3所示,本實施形態之位元線BL及字元線^^^^係具有 階層化結構。一群位元線BLy<3 : 0>係由位元線BLy〇〜位 -10- 14113〇.cJ〇c 201013678 元線BLy3之4條配線所組成。此外,一群字元線WLx<7 : 0>係由字元線WLxO〜字元線WLx7之8條配線所組成。在 此,在圖3之記憶胞陣列MA之配線圖中,雖係省略配置於 位元線BL及字元線WL之各交叉部之記憶胞MC之記載,惟 此係設為與第1實施形態同樣在各交叉部配置單位記憶胞 MC。此外,與第1實施形態同樣,設置動作時所選擇之位 元線BL及字元線WL,係設為位元線BL01及字元線 WL01。 在電阻變化記憶體裝置之設置動作時,某位元線群 BLy<3 : 0>係藉由後述之行解碼器來選擇。在本實施形態 中係設為選擇有位元線群BL0<3 : 0>。所選擇之位元線群 BL0<3 : 0>之中,未與選擇記憶胞MC連接之非選擇位元 線BL00、BL02、BL03,係為「L」狀態(在本實施形態中 係為0 V)。在設置動作時,所選擇之位元線群BL0<3 : 0> 之中與選擇記憶胞MC連接之選擇位元線BL0 1,係為從 0 「L」狀態(0 V)驅動為「H」狀態(在本實施形態中係為電 壓VSET)。再者,未被選擇之其他位元線群BLy<3 : 0>所 含之所有位元線BLyO〜BLy3係為漂浮狀態(与0 V)。 此外,在電阻變化記憶體裝置之設置動作時,字元線群 WLx<7 : 0>係藉由後述之主歹ij解碼器(main row decorder) 選擇。在本實施形態中,係選擇有字元線群WL0<7 : 0>。 所選擇之字元線群WL0<7 : 0>之中,未與選擇記憶胞MC 連接之非選擇字元線WL00、WL02、WL03等,係為「Η」 狀態(在本實施形態中係為電壓VSET)。設置動作時,所選 141130.doc -11 - 201013678 擇之字元線群WL0<7 : 0>之中與選擇記憶胞MC連接之選 擇字元線WL01係從「H」狀態(電壓VSET)驅動為「L」狀 態(在本實施形態中係為電壓Vss = 0 V)。再者未被選擇之 其他字元線群WLx<7 : 0>所含之所有字元線WLxO~WLx7 係為「Η」狀態(在本實施形態係為電壓VSET)。 藉此,與選擇位元線BL01及選擇字元線WL01連接之選 擇記憶胞MC之二極體Di即成為順向偏壓狀態而使電流流 通,從選擇記憶胞MC之可變電阻元件VR從高電阻狀態變 化為低電阻狀態,設置動作完成。 在本實施形態中,具有階層化結構之位元線BL之中, 在不含與選擇記憶胞MC連接之選擇位元線BL01之位元線 群BLy<3 : 0>中,係設為於設置動作時不施加電壓,保持 漂浮狀態。控制位元線BL之行控制電路,係於設置動作時 對選擇位元線BL(位元線BL01)施加設置電壓(電壓 VSET)。此外,對於非選擇位元線BL(BL00、BL02、 BL03)係施加電壓Vss。然而,行控制電路不需控制在設置 動作時未被選擇之位元線群BLy<3 : 0>。因此,可省略將 位元線群BLy<3 : 0>驅動為非選擇狀態(例如Vss=0 V)之構 成,而可以作成更簡易之構成之行控制電路而執行對於記 憶胞陣列MA之設置動作。 [控制電路之構成] 接著說明用以對於位元線BL及字元線WL施加此種電壓 之行控制電路及列控制電路之構成。在此,亦以在字元線 方向排列2〖1^(=2048 1>^)、及在位元線方向排列512 1^ 141130.doc •12· 201013678 之記憶胞MC而構成1 Mbit之記憶胞陣列ΜΑ之情形為例進 行說明。圖4係為表示電阻變化記憶體裝置之行控制電路 及列控制電路之配置例之區塊圖。 如圖4所示,列控制電路係例如由列解碼器10、主列解 碼器11、寫入驅動線驅動器12、列電源線驅動器13及列系 ' 周邊電路14所構成。此外,行控制電路係例如由行開關 • 20、行解碼器21、感測放大器/寫入緩衝器(buffer) 22、行 電源線驅動器23及行系周邊電路24所構成。 本實施形態之字元線WL係具有階層化結構,主列解碼 器11係選擇驅動256對之主字元(main word)線MWLx、 MWLbx(x=<25 5 : 0>)之任一對。以一例而言,在所選擇之 主字元線MWLx、MWLbx中,係主字元線MWLx成為 「Η」狀態,而主字元線MWLbx成為「L」狀態。反之, 在非選擇之主字元線MWLx、MWLbx中,係主字元線 MWLx成為「L」狀態,而主字元線MWLbx成為「H」狀 _ 態。一對主字元線MWLx、MWLbx係連接於一個列解碼器 10 ° . 列解碼器10係選擇驅動由位於主字元線MWLx、MWLbx 之階層下之8條字元線WL所組成之字元線群WLx<7 : 0>之 中之1條。與由主列解碼器11選擇驅動之主字元線MWLx、 MWLbx連接之列解碼器1 0進一步藉由選擇驅動字元線 WL,而選擇驅動1條字元線WL。在寫入驅動線驅動器12 係連接有8條寫入驅動線WDRV<7 : 0>及列電源線VRow, 而於列電源線驅動器13係連接有列電源線VRow。對於此 141130.doc •13- 201013678 列電源線VRow係施加對於非選擇之主字元線MWL、 MWLbx之階層下之字元線WL、及供給至所選擇之主字元 線M WL、M WLbx之階層下之非選擇之字元線WL之電壓 (VSET)。 寫入驅動線WDRV<7 : 0>及列電源線VRow係連接於列 解碼器10。對於寫入驅動線WDRV<7 : 0>及列電源線 VRow,係施加列解碼器10用以驅動字元線WL之電壓。具 體而言,係在設置動作時對於8條寫入驅動線WDRV<7 : 〇>之中與選擇字元線WL對應之1條寫入驅動線WDRV供給 電壓Vss(=0 V),而對於其以外之7條則係供給電壓VSET。 列系周邊電路14係進行此電阻變化記憶體裝置整體之管 理,將來自外部之主機(host)裝置之控制訊號進行接受、 讀出、寫入、抹除、資料之輸出入管理等。 本實施形態之位元線BL亦具有階層化結構,而行解碼 器21係選擇驅動128條行選擇線CSLy(y=<127 : 0>)之任一 條。以一例而言,所選擇之行選擇線CSLy係成為「Η」狀 態。反之,非選擇之行選擇線CSLy係成為「L」狀態。一 條行選擇線CSLy係連接於一個行開關20。 行開關20係選擇驅動由位於行選擇線CSLy之階層下之4 條位元線BL所組成之位元線群BLy<3 : 0>之中之1條。藉 由與由行解碼器2 1所選擇驅動之行選擇線CSLy連接之行開 關20進一步選擇驅動位元線BL,而選擇驅動1條位元線 BL。感測放大器/寫入緩衝器22係偵測放大讀出於局域資 料(local data)線LDQ<3 : 0>之訊號,並且將從資料輸出入 141130.doc -14· 201013678 線IO<3 : 0>輸入之寫入資料經由行開關20而供給至記憶胞 MC。在感測放大器/寫入缓衝器22中,係連接有4條局域 資料線LDQ<3 : 0>及行電源線VCol 1,而於行電源線驅動 器23係連接有行電源線VColl。 局域資料線LDQ<3 : 0>係連接於行開關20,施加行開關 20用以驅動位元線BL之電壓。具體而言,係在設置動作時 ' 對於4條局域資料線LDQ<3 : 0>之中與選擇位元線BL對應 • 之1條局域資料線LDQ供給電壓VSET,而對於其以外之3 條係供給電壓Vss=0 V。此外,在設置動作時,未藉由行 選擇線CSLy所選擇之行開關20,係不執行位元線驅動動 作,而使位元線群BLy<3 : 0>為漂浮狀態。行系周邊電路 24係進行此電阻變化記憶體裝置整體之管理,將來自外部 之主機裝置之控制訊號進行接受、讀出、寫入、抹除、資 料之輸出入管理等。 接著參照圖5〜圖8詳細說明列控制電路之構成。圖5〜圖8 φ 係為表示電阻變化記憶體裝置之列控制電路之構成例之電 路圖。 • [列解碼器10之構成] 如圖4及圖5所示,在列解碼器10係連接有256對之主字 元線MWLx及MWLbx(x=<25 5 : 0>)之任一對、列電源線 VRow以及寫入驅動線WDRV<7 : 0>。此外,在列解碼器 10係連接有字元線群WLx<7 : 0>,而此字元線群WLx<7 : 〇>係連接於並排設成一行之複數個記憶胞MC。如前所述 與1個列解碼器10連接之字元線群WLx<7 : 0>係由字元線 141130.doc -15- 201013678 WLxO〜字元線WLx7之8條配線所組成。同樣地,寫入驅動 線WDRV<7 : 0>係為由WDRV0~WDRV7之8條配線所組成 之配線。 如圖5所示,列解碼器10係包括8個將2個NMOS電晶體 QN1及QN2之源極彼此連接而成之電晶體對而構成。在電 晶體QN1之閘極係連接有主字元線MWLbx,而於汲極則連 接有列電源線VRow。此外,在電晶體QN2之閘極係連接 有主字元線MWLx,而於汲極則連接有寫入驅動線 WDRV<7 : 0>之任1條。再者,電晶體QN1及QN2之源極均 係連接於字元線群WLx<7 : 0>之任1條。 [主列解碼器11之構成] 如圖4及圖6所示,在主列解碼器11係連接有256對之主 字元線MWLx 及 MWLbx(x=<255: 0>)、以及位址(address) 訊號線。本實施形態之電阻變化記憶體裝置之字元線WL 係具有階層化結構。主列解碼器11係為預解碼器(pre decorder),而一組主字元線MWLx、MWLbx係各自連接於 1個列解碼器10内之8個電晶體對(圖5之QN1、QN2),而1 個列解碼器10係可選擇8條字元線WLx<7 : 0>之任1條。主 列解碼器11係依1對主字元線MWLx、MWLbx具有如圖6所 示之電路。 如圖6所示,在1個主列解碼器11中,與主列解碼器11連 接之位址訊號線,係連接於邏輯閘極GATE 1。邏輯閘極 GATE 1之輸出訊號係經由位準移位器(level shifter)L/S而供 給至由PMOS電晶體QP1及NMOS電晶體QN3所組成之 141130.doc -16- 201013678 CMOS變換器(inverter)CMOSl之輸入端子。在電晶體QPl 之源極連接有電源VSETH,而電晶體QN3之源極係接地。 再者,電晶體QP1及QN3之汲極均係連接於主字元線 MWLx。 此外,主字元線MWLx係連接於由PMOS電晶體QP2及 NMOS電晶體QN4所組成之CMOS變換器CMOS2。在電晶 體QP2之源極亦連接有電源VSETH,而電晶體QN4之源極 係接地。再者,電晶體QP2及QN4之汲極係均連接於主字 元線MWLbx。 [寫入驅動線驅動器12之構成] 如圖4及圖7所示,在寫入驅動線驅動器12係連接有列電 源線VRow及位址訊號線。在此,寫入驅動線驅動器12亦 為預解碼器。 與寫入驅動線驅動器12連接之位址訊號線,係連接於邏 輯閘極GATE2。邏輯閘極GATE2之輸出訊號係經由位準移 位器L/S而供給至由PMOS電晶體QP3及NMOS電晶體QN5 所組成之CMOS變換器CMOS3之輸入端子。在電晶體QP3 之源極,係如後所述連接施加有電壓VSET之列電源線 VRow,而電晶體QN5之源極係接地。再者,電晶體QP3及 QN5之汲極均係連接於寫入驅動線WDRV<7 : 〇>。 [列電源線驅動器13之構成] 如圖4及圖8所示,在列電源線驅動器13係連接有列電源 線VRow及控制訊號線。在列電源線驅動器13中,電源 VREAD係經由PMOS電晶體QP4、而電源VRESET係經由 141130.doc •17- 201013678 PMOS電晶體QP5而各自連接於列電源線VRow。對於電晶 體QP4之閘極係供給控制訊號READon,而對於電晶體QP5 之閘極係供給控制訊號RESETon。控制訊號READon、 RESETon係各自於資料讀出時、及重設動作時從「Η」狀 態成為「L」狀態。 此外,在列電源線驅動器13係連接有電源VSETH。電源 VSETH係連接於NMOS電晶體QN6之汲極及閘極。電晶體 QN6之源極係經由PMOS電晶體QP6而連接於列電源線 VRow。對於電晶體QP6之閘極係供給控制訊號SETon。 接著參照圖9〜圖12詳細說明行控制電路之構成。圖9〜圖 12係為表示電阻變化記憶體裝置之行控制電路之構成例之 電路圖。 [行開關20之構成] 如圖4及圖9所示,在行開關20係連接有128條行選擇線 CSLy(y=<127 : 〇>)之任一條及局域資料線LDQ<3 : 0>。此 外,在行開關20係連接有位元線群BLy<3 : 0>,而此位元 線BL係連接於並排設成一行之複數個記憶胞MC。如前所 述’與1個行開關20連接之位元線群BLy<3 : 0>係由位元 線BLyO〜位元線BLy3之4條配線所組成。同樣地,局域資 料線LDQ<3 : 〇>係為由LDQ0-LDQ3之4條配線所組成之配 線。 如圖9所示’行開關2〇係由1個NMOS電晶體QN11所構 成’而1個行開關20係包括4個由此電晶體QN11所組成之 構成。在電晶體QN11之閘極連接有行選擇線CSLy,而於 141130.doc •18- 201013678 汲極則連接有局域資料線LDQ<3 : 0>之任1條。再者,電 晶體QN11之源極係連接於位元線群BLy<3 : 0>之任1條。 [行解碼器21之構成] 如圖4及圖10所示,在行解碼器21係連接有128條行選擇 線CSLy(y=< 127 : 0>)及位址訊號線。在本實施形態之電阻 變化記憶體裝置中,一條行選擇線CSLy係各自連接於1個 行開關20内之4個電晶體(圖9之QN11),而1個行開關20係 可選擇4條位元線群BLy<3 : 0>之任1條。行解碼器21係依 ❹ 一條行選擇線CSLy具有如圖10所示之電路。 如圖10所示,在1個行解碼器21中,與行解碼器21連接 之位址訊號線,係連接於邏輯閘極GATE3。邏輯閘極 GATE3之輸出訊號係經由位準移位器L/S而供給至由PMOS 電晶體QP11及NMOS電晶體QN13所組成之CMOS變換器 CMOS11之輸入端子。在電晶體QP11之源極係連接有電源 VSETH,而電晶體QN13之源極係接地。再者,電晶體 _ QP11及QN13之汲極係均連接於行選擇線CSLy。 [感測放大器/寫入緩衝器22之構成] 如圖4及圖11所示,在感測放大器/寫入緩衝器22中係連 接有行電源線VColl、局域資料線LDQ<3 : 0>及資料輸出 入線10<3 : 0>。首先,關於寫入缓衝器部分,說明其構 成。與感測放大器/寫入緩衝器22連接之資料輸出入線 10<3 : 0>,係經由位準移位器L/S而連接於由PMOS電晶體 QP13及NMOS電晶體QN15所組成之CMOS變換器 CMOS13。在電晶體QP13之源極係連接有行電源線 141130.doc -19- 201013678 VColl。對於行電源線VColl係如後所述施加有電壓 VSET。此外,電晶體QN15之源極係接地。再者,電晶體 QP13及QN15之汲極係均經由開關SW1而連接於局域資料 線 LDQ<3 : 0>。 接著關於感測放大器部分,說明其構成。與感測放大器/ 寫入緩衝器22連接之資料輸出入線IO<3 : 0>,係連接於感 測放大器S/A。以感測放大器S/A而言,係可使用單端 (single end)型、使用參照胞之差動型等各種型態。感測放 大器S/A之輸出端子係經由開關SW2而連接於局域資料線 LDQ<3 : 0>。 [行電源線驅動器23之構成] 如圖4及圖12所示,在行電源線驅動器23係連接有行電 源線VCol 1及控制訊號線。在行電源線驅動器23中,電源 VRESET係經由PMOS電晶體QP15而連接於行電源線 VColl。對於電晶體QP15之閘極係供給控制訊號 RESETon。此外,電源VSETH係連接於NMOS電晶體QN16 之汲極及閘極,而電晶體QN1 6之源極係經由PMOS電晶體 QP14而連接於行電源線VColl。對於電晶體QP14之閘極係 供給控制訊號SETon。 接著說明以此方式構成之電阻變化記憶體裝置之設置動 作。首先,參照圖4〜圖8說明設置動作時之電阻變化記憶 體裝置之列控制電路之動作。如圖4所示字元線WL係具有 階層化結構。在由主列解碼器11及列解碼器1 0所選擇驅動 之字元線群WLx<7 : 0>中,係施加有施加於寫入驅動線 141130.doc •20· 201013678 WDRV<7 : 〇>或列電源線VRow之電壓。首先,說明對於 輿列解碼器10連接之寫入驅動線WDRV<7 : 〇>及列電源線 VRow施加電壓之動作。 [列電源線驅動器13之動作] 在設置動作時,於列電源線驅動器13中,供給至電晶體 QP6之閘極之控制訊號(SETon訊號)係成為「L」狀態而導 通。電源VSETH之電壓VSETH係藉由NMOS電晶體QN6傳 ^ 送而成為電壓VSET。設置動作時,列電源線驅動器13係 將列電源線VRow驅動為電壓vsET。 [寫入驅動線驅動器12之動作] 對於寫入驅動線驅動器之邏輯閘極GATE2係輸入有位 址訊號。根據此位址訊號’邏輯閘極GATE2係關於與位址 訊號對應之一之寫入驅動線(例如WDRV1)將「H」訊號、 而關於未對應之其他寫入驅動線則將r L」訊號供給至 CMOS變換器CMOS3之輸入端子。與位址訊號對應之寫入 ❹ 驅動線(例如WDRV1)之情形下’對於CMOS變換器CMOS3 之輸入端子係供給「Η」訊號,經由導通之電晶體QN5而 將接地電壓Vss(例如0 V)施加於寫入驅動線WDRVi。未與 位址訊號對應之寫入驅動線之情形下,對於Cm〇§變換器 CMOS3之輸入端子係供給「L」訊號,經由導通之電晶體 QP3而將列電源線VRow之電壓(VSET)施加於寫入驅動線 WDRV。 接著說明藉由主列解碼器11及列解碼器10所為之主字元 線MWLx、MWLbx與字元線WLX<7 : 0>之選擇驅動動作。 141130.doc •21- 201013678 [主列解碼器11之動作] 對於主列解碼器11之邏輯閘極GATE1之輸入端子,亦供 給位址訊號。根據此位址訊號,邏輯閘極GATE1係關於 x=<255 : 0>之中被選擇之x(例如x=0)將「L」訊號、而關 於未被選擇之X則將「H」訊號供給至CMOS變換器CMOS1 之輸入端子。首先,說明被選擇之x(例如x=0)。被選擇之 x(例如x=0)之情形下,對於CMOS變換器CMOS1之輸入端 子係供給「L」訊號,且經由導通之電晶體QP1而將電源 VSETH之「H」訊號供給至主字元線MWL0。此外,主字 元線MWL0之「H」訊號係供給至CMOS變換器CMOS2之 輸入端子,且經由導通之電晶體QN4而將接地電壓Vss之 「L」訊號供給至主字元線MWLbO。亦即,被選擇之x(例 如x=0)之情形下,對於主字元線MWL0係供給「Η」訊 號,而對於主字元線MWLbO則供給「L」訊號。 接著說明未被選擇之X。未被選擇之X之情形下,對於 CMOS變換器CMOS 1之輸入端子係供給「H」訊號,且經 由導通之電晶體QN3而將接地電壓Vss之「L」訊號供給至 主字元線MWLx。此外,主字元線MWLx之「L」訊號係供 給至CMOS變換器CMOS2之輸入端子,且經由導通之電晶 體QP2而將電源VSETH之「Η」訊號供給至主字元線 MWLbx。亦即,未被選擇之X之情形下,對於主字元線 MWLx係供給「L」訊號,而對於主字元線MWLbx係供給 「Η」訊號。 [列解碼器10之動作] 141130.doc -22- 201013678 列解碼器10係根據供給至主字元線MWLx及MWLbx之訊 號,對字元線WL施加列電源線VRow或寫入驅動線WDRV 之電壓。被選擇之x(例如x=0)之情形下,對於主字元線 MWL0供給有「H」訊號,而對於主字元線MWLbO係供給 有「L」訊號。由於對列解碼器10之電晶體QN1之閘極供 給「L」訊號,且對電晶體QN2之閘極供給「H」訊號,因 此對於字元線群WL0<7 : 0>係經由導通之電晶體QN2而施 加寫入驅動線WDRV<7 : 0>之電壓。在此,對於與位址訊 號對應之寫入驅動線(例如WDRV1)係施加有接地電壓(例 如0 V),而對於未與位址訊號對應之其他寫入驅動線,則 係施加有列電源線VRow之電壓(例如VSET)。僅對於字元 線群WL0<7 : 0>之中,與位址訊號對應之字元線WL01之1 條施加接地電壓(例如0 V),而對於其他字元線WL則施加 電壓VSET。 此外,未被選擇之X之情形下,對於主字元線MWLx係 供給有「L」訊號,而對於主字元線MWLbx係供給有 「Η」訊號。由於對列解碼器10之電晶體QN1之閘極供給 「Η」訊號,且對電晶體QN2之閘極供給「L」訊號,因此 對於字元線群WLx<7 : 0>係經由導通之電晶體QN1而施加 列電源線VRow之電壓(VSET)。藉此,在設置動作時係僅 對由位址訊號所選擇之1條字元線WL0 1施加接地電壓(0 V),而對於其他所有字元線WL則係施加列電源線VRow之 電壓(VSET)。 接著參照圖4及圖9〜圖12說明設置動作時之電阻變化記 141130.doc -23- 201013678 憶體裝置之行控制電路之動作。對於由行解碼器2 1及行開 關20所選擇驅動之位元線群BLy<3 : 0>,係施加有施加於 局域資料線LDQ<3 : 0>之電壓。首先,說明對於與行開關 20連接之局域資料線LDQ<3 : 0>及行電源線VColl施加電 壓之動作。 [行電源線驅動器23之動作] 於設置動作時,在行電源線驅動器23中,供給至電晶體 QP14之閘極之控制訊號(SETon訊號)係成為「L」狀態而導 通。電源VSETH之電壓VSETH係藉由NMOS電晶體QN16傳 送而成為電壓VSET,而以電壓VSET驅動行電源線 VColl。 [感測放大器/寫入緩衝器22之動作] 在感測放大器/寫入緩衝器22中,於設置動作時寫入緩 衝器部之開關SW1係成為接通(on)而成為導通狀態,並且 感測放大器部之開關SW2係成為關斷(off)而成為非導通狀 態。對於感測放大器/寫入緩衝器22係從資料輸出入線 IO<3 : 0>供給寫入資料。此寫入資料係經由位準移位器 L/S而供給至CMOS變換器CMOS13之輸入端子。對於局域 資料線LDQ<3 : 0>係依據此資料而施加電壓VSET或接地 電壓(Vss=0 V)。 接著說明藉由行解碼器21及行開關20所為之行選擇線 CSLy與位元線群BLy<3 : 0>之選擇驅動動作。 [行解碼器21之動作] 對於行解碼器21之邏輯閘極GATE3之輸入端子,係供給 141130.doc •24- 201013678 位址訊號。根據此位址訊號,邏輯閘極GATE3係關於 y=<127 : 0>之中被選擇之y(例如y=0)將「L」訊號、而關 於未被選擇之y則將「Η」訊號供給至CMOS變換器 CMOS11之輸入端子。首先,說明被選擇之y(例如y=0)。 被選擇之y(例如y=〇)之情形下,對於CMOS變換器CMOS 11 之輸入端子係供給「L」訊號,且經由導通之電晶體QP11 而將電源VSETH之「H」訊號供給至行選擇線CSL0。接著 說明未被選擇之y。未被選擇之y之情形下,對於CMOS變 換器CMOS11之輸入端子係供給「Η」訊號,且經由導通 之電晶體QN13而將接地電壓Vss之「L」訊號供給至行選 擇線CSLy。 [行開關20之動作] 行開關20係根據供給至行選擇線CSLy之訊號,對位元 線BL施加局域資料線LDQ之電壓。被選擇之y(例如y=0)之 情形下,對於行選擇線CSL0係供給有「Η」訊號。由於對 行開關20之電晶體QN11之閘極供給「Η」訊號,因此對於 位元線群BL0<3 : 0>係經由導通之電晶體QN12而施加局域 資料線LDQ<3 : 0>之電壓。在此,對於與位址訊號對應之 局域資料線(例如LDQ1),係施加有行電源線VColl之電壓 (VSET),而對於未與位址訊號對應之其他局域資料線,係 施加有接地電壓Vss(=0 V)。僅對於位元線群BL0<3 : 0>之 中,與位址訊號對應之位元線BL01之1條施加行電源線 VColl之電壓(VSET),而對於其他位元線BL則施加接地電 壓 Vss(=0 V)。 141130.doc -25- 201013678 另一方面,未被選擇之y之情形下,對於行選擇線CSLy 係供給有「L」訊號。由於對行開關20之電晶體QN11之閘 極供給「L」訊號,因此不會導通,而對於位元線群 BLy<3 : 0>不施加電壓。因此,位元線群BLy<3 : 0>係成 為漂浮狀態。藉此,在設置動作時,對於由位址訊號所選 擇之1條位元線BL01施加電壓VSET,並且對於非選擇位元 線BL施加接地電壓Vss,並且其他位元線群BLy<3 : 0>係 設為漂浮狀態。 如此,依據本實施形態之行控制電路,僅對於在設置動 作時由位址訊號所選擇之1條位元線BL01施加行電源線 VColl之電壓(VSET)。此外,對於非選擇之位元線BL00、 BL02、BL03係施加接地電壓Vss。再者,其他位元線群 BLy<3 : 0>係設為漂浮狀態。 在本實施形態中,對於具有階層化結構之位元線群 BLy<3 : 0>之中,不包含與選擇記憶胞MC連接之選擇位元 線BL01之位元線群BLy<3 : 0>,係設為於設置動作時不施 加電壓,保持漂浮狀態。行控制電路不需控制在設置動作 時未被選擇之位元線群BLy<3 : 0>。因此,可省略將位元 線群BLy<3 : 0>驅動為非選擇狀態(例如Vss=0 V)之構成, 而以作成更簡易之構成之行控制電路而執行對於記憶胞陣 列MA之設置動作。 具體而言,係可將行開關20之構成設為由1個電晶體 QN11所組成之構成。依據此構成,由行選擇線CSLy所選 擇之行開關20,即可使位元線群BL0<3 : 0>驅動。與此同 141130.doc -26- 201013678 時未由行選擇線CSLy所選擇之行開關2〇,係可將位元線群 BLy<3 : 0>保持為漂浮狀態。不需如專利文獻2所記載之 配線驅動電路般,設為串聯連接2個電晶體,且藉由將此 切換而對配線施加驅動電壓或接地電塵之任一者之構成。 依據本實施形態之行開關20,即可減低電晶體之數量。在 本實施形態中,係在字元線方向排列2 Kbit、及在位元線 ' 方向排列512 之記憶胞MC而構成1 Mbit之記憶胞陣列 參 MA。行開關20係在行控制電路内設置與位元線BL之條數 同數(在本實施形態中係為512個)。因此,藉由削減行開關 20内之電晶體,即可將行控制電路作成更簡易之構成。 [第3實施形態] 接著參照圖13說明本發明之電阻變化記憶體裝置之第3 實施形態。圖13係為表示電阻變化記憶體裝置之行/列控 制電路之動作時序(timing)之時序圖。在此,第3實施形態 之電阻變化記憶體裝置之控制電路之構成,係與第1及第2 φ 實施形態之電阻變化記憶體裝置同樣。在第3實施形態之 電阻變化記憶體裝置中,於具有與第i及第2實施形態同等 • 構成之位置,係藉由附上同等符號而省略其說明。本實施 形癌之電阻變化§己憶體裝置’係在使執行設置動作之際對 字元線WL及位元線BL施加電壓之時序不同之點,與第1及 第2實施形態不同。 如圖13所示’對於選擇記憶胞MC執行設置動作之情形 下,首先,對於包含選擇字元線WL01及非選擇字元線WL 之所有字元線WL施加電壓VSET(時間tl)。在此,對所有 141130.doc •27· 201013678 字元線WL施加電壓VSET之期間,選擇位元線BL01及非選 擇位元線BL,係保持於接地電壓Vss。其後,僅對與選擇 記憶胞MC連接之選擇字元線WL01施加接地電壓Vss(時間 t2)。在時間t2中,於選擇字元線WL01降至電位Vss之後, 對選擇位元線BL01施加電壓VSET,並且使非選擇位元線 BL為漂浮狀態〇 0 V)。 其結果,與選擇位元線BL01及選擇字元線WL01連接之 選擇記憶胞MC之二極體Di即成為順向偏壓狀態而使電流 流通,選擇記憶胞MC之可變電阻元件VR從高電阻狀態變 化為低電阻狀態,設置動作完成。另一方面,對於與選擇 位元線BL0 1與非選擇字元線WL連接之非選擇記憶胞MC之 兩端係均施加電壓VSET,因此電流不流通。此外,對於 與非選擇位元線BL及選擇字元線WL01連接之非選擇記憶 胞MC之兩端係施加0 V,因此此等亦不流通電流。其後, 在時間t3中使選擇位元線BL0 1及非選擇字元線WL降至電 位V s s而使設置動作結束。 在此,從圖1 3所示之時間tl至時間t2之期間,為了要保 持選擇位元線BL01及非選擇位元線BL於電位Vss,係在圖 11所示之寫入緩衝器22中使局域資料線LDQ<3 : 0>全部為 接地電壓Vss。與此同時,在圖10所示之行解碼器21中使 行選擇線CSLy所有為「H」狀態。藉此,在圖9所示之所 有行開關20中,使NMOS電晶體QN11導通,且對位元線群 BLy<3 : 0>,施加局域資料線LDQ<3 : 0>之接地電壓 Vss。如此一來,在圖13所示之時間tl至時間t2之期間,即 141130.doc -28- 201013678 可將選擇位元線BL01及非選擇位元線BL之雙方保持於電 位 V s s。 於第2實施形態中之設置動作之際,若使非選擇之位元 線BL為漂浮狀態,而對非選擇之字元線WL施加電壓 VSET,則會有漂浮狀態之非選擇位元線BL之電位因為耦 ' 合(coupling)而上升之情形。此情形下,對於與非選擇位 ' 元線BL連接之非選擇記憶胞MC,會有誤執行設置動作之 虞。 參 然而,在本實施形態之電阻變化記憶體裝置中,係使施 加電壓於字元線WL及位元線BL之時序錯開。因此,在使 字元線WL啟動於電壓VSET之期間,非選擇位元線BL係保 持於接地電壓Vss。其後,即使設置動作時使非選擇位元 線BL為漂浮狀態,非選擇位元線BL之電位亦幾乎不會從 接地電壓Vss上升。依據本實施形態中之電阻變化記憶體 裝置,不會有對於非選擇記憶胞MC誤執行設置動作之情 _ 形。 本實施形態之電阻變化記憶體裝置亦可將行開關20之構 . 成設為由1個電晶體QN11所組成之構成。依據此構成,由 行選擇線CSLy所選擇之行開關20,係可使位元線群 BL0<3 : 0>驅動。與此同時,未由行選擇線CSLy所選擇之 行開關20,係可將位元線群BLy<3 : 0>保持於漂浮狀態。 依據本實施形態之行開關20,即可減低電晶體之數量,而 可將行控制電路作成更簡易之構成。 [第4實施形態] 141130.doc -29- 201013678 接著參照圖14〜圖16說明本發明之電阻變化記憶體裝置 之第4實施形態。圖14係為表示電阻變化記憶體裝置之行/ 列控制電路之配置例之區塊圖。再者,圖15〜圖16係為表 示電阻變化記憶體裝置之行控制電路之構成例之電路圖。 在圖1 4〜圖16所示之本實施形態之電阻變化記憶體裝置 中’對於具有與第1〜第3實施形態同等構成之位置,係藉 由附上同等符號而省略其說明。 本實施形態之電阻變化記憶體裝置,係在連接感測放大 器/寫入緩衝器22與行開關20之局域資料線LDQ<3 : 0>分 割為局域資料線LDQodd<3 : 0>&LDQeven<3 : 0>之2個之 點’與第1〜第3實施形態不同。以下,參照圖14〜圖16說明 行控制電路之構成。 如圖15所示,在行開關20係連接有128條行選擇線 CSLy(y=<127 : 0>)之任一條。此外,在行開關2〇係連接有 局域資料線LDQeven<3 : 0>或1^〇〇£1(1<3 : 0>之任一者。 在複數個並排之行開關20係交替連接有局域資料線 LDQeven<3 : 0>*LDQodd<3 : 0>。 此外’在行開關20係連接有位元線群BLy<3 : 0>,而此 位元線BL係連接於並排設成一行之複數個記憶胞MC。如 前所述,與1個行開關20連接之位元線群BLy<3 : 0>係由 位元線BLyO〜位元線BLy3之4條配線所組成。同樣地,局 域資料線LDQeven<3 : 0>及LDQodd<3 : 0>,係為由 LDQevenO 〜LDQeven3、LDQoddO〜LDQodd3 之 4條配線所組 成之配線。行開關20之構成係與圖9所示之第2實施形態同 141130.doc • 30· 201013678 樣。 於圖16係表示行開關20及局域資料線LDQeven<3 : 〇>及 LDQodd<3 : 0>之更詳細之構成。i個行開關2〇係包括4個 NMOS電晶體QN11。在此4個電晶體qni 1之閘極係各自連 接有行選擇線CSLy(y=<127 : 〇>)。在此,行開關2〇n係表 示設有128個之行開關20之中第n個。 行開關20内之4個電晶體qn 11之中,在汲極連接有局域 資料線LDQ〇dd<0>之電晶體之源極係連接有位元線 BLn<0>。同樣地’在汲極連接有局域資料線 LDQodd<l>、<2>、<3>之電晶體之源極係各自連接有位 元線BLn<l>、<2>、<3>。此外,各自在與行開關20η鄰接 之行開關20η+1、20η-1内之4個電晶體QN11之汲極連接有 局域資料線LDQeven<3 : 0>、及在源極連接有位元線 BLn+1、BLn-1。藉此,如上所述將連接局域資料線 LDQeven<3 : 0>之行開關20、與連接LDQodd<3 : 〇>之行 開關20交替設置。 說明圖14〜圖16所示之電阻變化記憶體裝置中之設置動 作。在此,執行設置動作之記憶胞MC係作為連接有位元 線BLn<0>、<3>之記憶胞MC進行說明。 如圖16所示,執行設置動作之際,藉由感測放大器/寫 入緩衝器22,對於局域資料線LDQodd<0>、<3>施加電歷 VSET。此外,對於局域資料線LDQodd<l>、<2>施加接地 電壓Vss。再者,對於局域資料線LDQeven<3 : 0>所有施 加接地電壓Vss。接著,藉由行解碼器21,使行選擇線 141130.doc -31- 201013678 CSLy之中,與選擇驅動執行設置動作之記憶胞MC之行開 關20η連接之行選擇線CSLn為接通狀態。此外,使與行開 關20η鄰接之行開關20n+l、20n-l所連接之行選擇線 CSLn+Ι、CSLn-Ι亦為接通狀態。藉此,使行開關20η及行 開關20η+1、20η-1之電晶體QN11導通。再者,與行開關 20η、20η+1、20η-1以外之行開關20連接之行選擇線CSLy 係設為關斷狀態。 對於行開關20η之中,與局域資料線LDQodd<0>、<3>連 接之位元線BLn<0>、<3>,係經由導通之電晶體QN11而 施加電壓VSET。此外,對於與局域資料線LDQodd<l>、 <2>連接之位元線BLn<l>、<2>係施加接地電壓Vss。此 外,在與行開關20η鄰接之行開關20n+l、20n-l中,係對 於與局域資料線LDQeven<3 : 0>連接之位元線BLn<3 : 0>,經由導通之電晶體QN11而施加接地電壓Vss。再者, 由於與行開關20η、20n+l、20n-l以外之行開關20連接之 行選擇線CSLy係為關斷狀態,因此不施加電壓而成為漂浮 狀態。 另一方面,與選擇記憶胞MC連接之字元線WL0 1係選擇 驅動於接地電壓Vss。藉此選擇記憶胞MC之二極體Di即成 為順向偏壓狀態而使電流流通,選擇記憶胞MC之可變電 阻元件VR從高電阻狀態變化為低電阻狀態,設置動作完 成。 進行位元線BL之選擇驅動之情形下,對選擇位元線 BL01施加電壓VSET之際,會有藉由耦合鄰接之漂浮狀態 141130.doc -32- 201013678 之非選擇位元線BL·之電位上升之情形。此情形下,對於與 非選擇位元線BL連接之非選擇記憶胞Mc,會有誤執行嗖 置動作之虞。 然而,在本實施形態之電阻變化記憶體裝置中,係對與 行開關2〇n鄰接之行開關20n+1、所連接之位元線群 BLn+l<3 : 〇>、BLn-l<3 : 〇>施加接地電壓Vss。因此可 將設置動作時與選擇位元線BL01鄰接之位元線bl之電壓 ❿ 確實地保持於接地電壓Vss。藉由與選擇位元線BL〇1鄰接 之位兀線BL之遮蔽(shield)效果,即使將其他非選擇位元 線BL設為漂浮狀態,非選擇位元線BL之電位亦幾乎不會 從接地電壓Vss上升。依據本實施形態之電阻變化記憶體 裝置,不會有對於非選擇記憶胞河(:誤執行設置動作之情 形。 Φ 本實施形態之電阻變化記憶體裝置,亦可將行開關2〇之 構成設為由!個電晶體咖所組成之構成。依據此構成, 由行選擇線CSLy所選擇之行開關2〇,係可使位元線群 BL0<3 . 〇>驅動。與此同時,未由行選擇線以以所選擇之 行開關20’係可將位元線群BLy<3: 〇>保持於漂浮狀態。 依據本實施形態之行開關2Q,即可減低電晶體之數量,而 可將行控制電路作成更簡易之構成。 以上’雖已說明本發明之實施形態,惟本發明並不限定 於此等,只要在不脫離發明之旨趣之範圍内,均可作各種 變更、追加、組合等。例如,在實施形態中雖說明電阻變 化》己隐體裝置之動作作為設置動作,惟此係、可設為藉由調 141130.doc -33 - 201013678 整施加於記憶胞MC之電壓或電流、電壓之施加時間等而 使選擇記憶胞MC從低電阻狀態變化為高電阻狀態之重設 動作或讀取動作。此外,在實施形態中,位元線群 BLy<3 : 0>係由4條配線所組成,而字元線群WLx<7 : 〇> 係由8條配線所組成。此位元線群及字元線群所含之位元 線BL之條數及字元線WL之條數係可藉由電阻變化記憶體 裝置之設計而變更。 【圖式簡單說明】 圖1係為表示第1實施形態之電阻變化記憶體裝置之構成 之立體圖; 圖2係為表示第丨實施形態之電阻變化記憶體裝置之記憶 胞陣列之等效電路之電路圖; 圖3係為表示第2實施形態之電阻變化記憶體裝置之記憶 胞陣列之配線之圖; 圖4係為表示第2實施形態之電阻變化記憶體裝置之行/ 列控制電路之配置例之區塊圖; 圖5係為表示第2實施形態之電阻變化記憶體裝置之列控 制電路之構成例之電路圖; 圖6係為表示第2實施形態之電阻變化記憶體裝置之列控 制電路之構成例之電路圖; 圖7係為表示第2實施形態之電阻變化記憶體裝置之列控 制電路之構成例之電路圖。 圖8係為表示第2實施形態之電阻變化記憶體裝置之列控 制電路之構成例之電路圖; 141130.doc -34, 201013678 圖9係為表示第2實施形態之電 制電路之構成例之 電路圖; 雙化記憶體震置之行控 圖10係為表示第2實施形態之電阻 控制電路之構成例之電路圖; §己憶體裝置之行 阻變化記憶體裝置之行 圖11係為表示第2實施形態之電 控制電路之構成例之電路圖; 圖12係為表示第2實施形態之電阻變化記憶體裝 控制電路之構成例之電路圖; 圖13係為表示第3實施形態之電阻變化記憶體裝置之行/ 列控制電路之動作時序之時序圖; 圖Μ係為表示第4實施形態之電阻變化記憶體裝置之行/ 列控制電路之配置例之區塊圖; 圖15係為表示第4實施形態之電阻變化記憶體裝置之行 控制電路之構成例之電路圖;及 圖16係為表示第4實施形態之電阻變化記憶體裝置之行 控制電路之構成例之電路圖。 【主要元件符號說明】 2 3 6 7 半導體基板 記憶體區塊 配線區域 位元線接觸窗區域 字元線接觸窗區域 位元線接觸窗 字元線接觸窗 141130.doc •35- 201013678 10 列解碼器 11 主列解碼器 12 寫入驅動線驅動器 13 列電源線驅動器 14 列系周邊電路 20 行開關 21 行解碼器 22 感測放大器/寫入緩衝器 23 行電源線驅動器 24 行系周邊電路 BL 位元線 CSL 行選擇線 Di 二極體 MA 記憶胞陣列 MC 記憶胞 MWL 主字元線 VR 可變電阻元件 WL 字元線 141130.doc 36-
Claims (1)
- 201013678 七、申請專利範圍: 1·—種半導體記憶裝置,其特徵為包括: s己憶胞陣列,其係於複數之第1配線與複數之第2配線 之交又部配置有記憶胞,該記憶胞係將整流元件與可變 電阻元件串聯連接而成者;及 控制電路’其係選擇驅動前述第1配線及前述第2配 線; 前述控制電路係 以對在所選擇之前述第1配線與所選擇之前述第2配線 之交叉部所配置之選擇記憶胞加以特定之電位差之方 式,施加第1電壓於所選擇之前述第丨配線、及施加第2 電壓於所選擇之前述第2配線; 並且使非選擇之前述第1配線之至少1條為漂浮狀態。 2·如請求項1之半導體記憶裝置,其中 前述控制電路係 於施加第2電壓至所選擇之前述第2配線之後, 施加第1電壓於所選擇之前述第丨配線,使非選擇之前 述第1配線為漂浮狀態。 3.如請求項1或2之半導體記憶裝置,其中 前述控制電路係 具有第1配線選擇部,其包含1個電晶體,該1個電晶 體連接於前述第1配線’於前述第丨配線被選擇時導通而 施加第1電壓於前述第丨配線,並且於前述第丨配線為非 選擇之時成為非導通狀態而使前述第1配線為漂浮狀 141130.doc 201013678 態。 4. 如請求項1或2之半導體記憶裝置,其中 進一步包括複數之第1配線群,其係包含特定條數之 前述第1配線; 前述控制電路係 對包含所選擇之前述第1配線之前述第1配線群内之所 選擇之前述第1配線施加第1電壓、對非選擇之前述第1 配線施加第2電壓; 不包含所選擇之前述第1配線之前述第1配線群之中; 對與包含所選擇之前述第丨配線之前述第丨配線群鄰接 之前述第1配線群内之前述第1配線施加第2電壓; 使與包含所選擇之前述第丨配線之前述第丨配線群不鄰 接之則述第1配線群内之前述第丨配線為漂浮狀態。 5. 如請求項丨或2之半導體記憶裝置,其中 前述控制電路係 施加前述第1電壓於非選擇之前述第2配線。 141130.doc
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CN110910929A (zh) * | 2018-09-14 | 2020-03-24 | 东芝存储器株式会社 | 非易失性存储装置 |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7768812B2 (en) | 2008-01-15 | 2010-08-03 | Micron Technology, Inc. | Memory cells, memory cell programming methods, memory cell reading methods, memory cell operating methods, and memory devices |
JP5049814B2 (ja) | 2008-02-14 | 2012-10-17 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置のデータ書き込み方法 |
US8034655B2 (en) | 2008-04-08 | 2011-10-11 | Micron Technology, Inc. | Non-volatile resistive oxide memory cells, non-volatile resistive oxide memory arrays, and methods of forming non-volatile resistive oxide memory cells and memory arrays |
US8211743B2 (en) | 2008-05-02 | 2012-07-03 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming non-volatile memory cells having multi-resistive state material between conductive electrodes |
US8134137B2 (en) | 2008-06-18 | 2012-03-13 | Micron Technology, Inc. | Memory device constructions, memory cell forming methods, and semiconductor construction forming methods |
US9343665B2 (en) | 2008-07-02 | 2016-05-17 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming a non-volatile resistive oxide memory cell and methods of forming a non-volatile resistive oxide memory array |
JP5100555B2 (ja) | 2008-07-30 | 2012-12-19 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
US8427859B2 (en) | 2010-04-22 | 2013-04-23 | Micron Technology, Inc. | Arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, methods of forming arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, and methods of reading a data value stored by an array of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells |
US8411477B2 (en) | 2010-04-22 | 2013-04-02 | Micron Technology, Inc. | Arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, methods of forming arrays of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells, and methods of reading a data value stored by an array of vertically stacked tiers of non-volatile cross point memory cells |
US8289763B2 (en) | 2010-06-07 | 2012-10-16 | Micron Technology, Inc. | Memory arrays |
US8351242B2 (en) | 2010-09-29 | 2013-01-08 | Micron Technology, Inc. | Electronic devices, memory devices and memory arrays |
US8759809B2 (en) | 2010-10-21 | 2014-06-24 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry comprising nonvolatile memory cells having platelike electrode and ion conductive material layer |
US8796661B2 (en) | 2010-11-01 | 2014-08-05 | Micron Technology, Inc. | Nonvolatile memory cells and methods of forming nonvolatile memory cell |
US8526213B2 (en) | 2010-11-01 | 2013-09-03 | Micron Technology, Inc. | Memory cells, methods of programming memory cells, and methods of forming memory cells |
US9454997B2 (en) | 2010-12-02 | 2016-09-27 | Micron Technology, Inc. | Array of nonvolatile memory cells having at least five memory cells per unit cell, having a plurality of the unit cells which individually comprise three elevational regions of programmable material, and/or having a continuous volume having a combination of a plurality of vertically oriented memory cells and a plurality of horizontally oriented memory cells; array of vertically stacked tiers of nonvolatile memory cells |
US8431458B2 (en) | 2010-12-27 | 2013-04-30 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming a nonvolatile memory cell and methods of forming an array of nonvolatile memory cells |
US8791447B2 (en) | 2011-01-20 | 2014-07-29 | Micron Technology, Inc. | Arrays of nonvolatile memory cells and methods of forming arrays of nonvolatile memory cells |
US8488365B2 (en) | 2011-02-24 | 2013-07-16 | Micron Technology, Inc. | Memory cells |
JP5404674B2 (ja) | 2011-03-02 | 2014-02-05 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2012203936A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US8537592B2 (en) | 2011-04-15 | 2013-09-17 | Micron Technology, Inc. | Arrays of nonvolatile memory cells and methods of forming arrays of nonvolatile memory cells |
JP5542742B2 (ja) | 2011-05-26 | 2014-07-09 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
KR20140044355A (ko) * | 2011-06-01 | 2014-04-14 | 가부시키가이샤 엔티티 도코모 | 소형 노드 디바이스들을 이용한 모바일 통신에서의 향상된 로컬 액세스 |
JP2013122985A (ja) * | 2011-12-12 | 2013-06-20 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JP5622715B2 (ja) | 2011-12-28 | 2014-11-12 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP2013200929A (ja) | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US8804402B2 (en) | 2012-08-31 | 2014-08-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device |
US9190146B2 (en) | 2013-02-28 | 2015-11-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Variable resistance memory system with redundancy lines and shielded bit lines |
US9230641B2 (en) * | 2013-03-15 | 2016-01-05 | Rambus Inc. | Fast read speed memory device |
US9123410B2 (en) | 2013-08-27 | 2015-09-01 | Intel Corporation | Memory controller for reducing capacitive coupling in a cross-point memory |
KR102261813B1 (ko) | 2014-11-26 | 2021-06-07 | 삼성전자주식회사 | 저항성 메모리 장치 및 저항성 메모리 장치의 동작 방법 |
TWI560714B (en) * | 2014-12-24 | 2016-12-01 | Winbond Electronics Corp | Resistance random access memory |
IT201600088225A1 (it) * | 2016-08-30 | 2018-03-02 | St Microelectronics Srl | Circuito traslatore di livello, in particolare per l'utilizzo in un dispositivo di memoria, e relativo dispositivo di memoria |
KR102471519B1 (ko) * | 2018-01-10 | 2022-11-28 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 저항 변화 메모리 장치 |
JP2020087493A (ja) * | 2018-11-26 | 2020-06-04 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2021144771A (ja) * | 2020-03-12 | 2021-09-24 | キオクシア株式会社 | 半導体記憶装置及びメモリシステム |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2003201760A1 (en) | 2002-04-04 | 2003-10-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Phase-change memory device |
US7767993B2 (en) * | 2002-04-04 | 2010-08-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resistance change memory device |
JP2006127583A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Elpida Memory Inc | 不揮発性半導体記憶装置及び相変化メモリ |
KR100674992B1 (ko) * | 2005-09-08 | 2007-01-29 | 삼성전자주식회사 | 구동전압 레벨을 변경할 수 있는 상 변화 메모리 장치 |
JP2008077697A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
KR100827697B1 (ko) * | 2006-11-10 | 2008-05-07 | 삼성전자주식회사 | 3차원 구조를 가지는 반도체 메모리 장치 및 셀 어레이구조 |
JP5100555B2 (ja) | 2008-07-30 | 2012-12-19 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
-
2008
- 2008-07-30 JP JP2008196366A patent/JP5100555B2/ja active Active
-
2009
- 2009-06-22 TW TW098120891A patent/TWI451419B/zh active
- 2009-07-28 US US12/510,798 patent/US8094477B2/en active Active
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-
2011
- 2011-12-01 US US13/309,334 patent/US8451681B2/en active Active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110910929A (zh) * | 2018-09-14 | 2020-03-24 | 东芝存储器株式会社 | 非易失性存储装置 |
US10861525B2 (en) | 2018-09-14 | 2020-12-08 | Toshiba Memory Corporation | Nonvolatile storage device |
TWI713030B (zh) * | 2018-09-14 | 2020-12-11 | 日商東芝記憶體股份有限公司 | 非揮發性記憶裝置及記憶胞之讀取動作方法 |
CN110910929B (zh) * | 2018-09-14 | 2023-10-10 | 铠侠股份有限公司 | 非易失性存储装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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