200932372 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關在彩色濾光片或有機EL( Organic Electro-Luminescence、OEL)顯示裝置等的製造中，在基 板上利用噴墨塗佈來形成塗佈膜之塗佈裝置。 【先前技術】 ❹ 例如，在彩色濾光片的製造中，是將紅、綠、藍的3 色、或加上黑色的4色的色彩阻劑塗佈成所定圖案，最近 將如此的複數材料塗佈於同一基板的技術有噴墨塗佈被檢 討（例如專利文獻1、2、3 )。所謂噴墨塗佈是將廣泛使 用於彩色印刷的噴墨印表機的噴墨方式的原理應用於彩色 濾光片等的塗佈者，具有可噴出每個噴嘴不同顏色的色彩 阻劑液來同時進行3色或4色的彩色濾光片薄膜的形成之 優點。 〇 利用噴墨塗佈來塗佈複數顏色的色彩阻劑時，恐會有 被塗佈於某區域的色彩阻劑流出至鄰接的區域之問題發生 ，爲了解除如此的問題，可採用設置隔開不同區域之所謂 隔壁的隔開構件，在被隔壁包圍的區域塗佈色彩阻劑液的 手法（專利文獻4)。 可是，對於噴墨塗佈而言原理上無法一定以充分的精 度來吐出色彩阻劑液至瞄準的位置。因此’由正確地供給 色彩阻劑液至被隔壁包圍的區域的觀點來看’在藉由CF4 氣體的電漿處理來全面進行撥水處理後’藉由〇2氣體電 -5- 200932372 漿來對基板面進行親水處理，而選擇性地只使隔壁的表面 形成撥水性，補正色彩阻劑液的滴下位置之技術被提案（ 專利文獻5)。 然而’即使是藉由如此的撥水處理也無法充分地補正 色彩阻劑液的滴下位置，若所欲在被隔壁包圍的區域全體 充塡色彩阻劑液，則會產生越過隔壁而流出至鄰接的區域 等的問題。又，若藉由撥液處理來使隔壁側面形成撥水性 〇 ，則色彩阻劑會被彈起而使得色彩阻劑不會被充分地充塡 ，恐有發生光漏之虞。 可以高效率進行不會產生如此的不良情況之高精度的 塗佈的塗佈裝置雖正被追求著，但如此的裝置尙未被實現 〇 [專利文獻1]特開平1 -2 1 7302號公報 [專利文獻2]特開平7-72325號公報 [專利文獻3]特開平7-146406號公報 Ο [專利文獻4]特開平10-133194號公報 [專利文獻5]特開2002-372921號公報 【發明內容】 (發明所欲解決的課題） 本發明是有鑑於上述情事而硏發者，其目的是在於提 供一種可利用噴墨方式來高精度且高效率形成所定圖案的 塗佈膜之塗佈裝置。 200932372 (用以解決課題的手段） 爲了解決上述課題，本發明的第1觀點之塗佈裝置， 係於基板上藉由噴墨方式來供給塗佈液至塗佈膜形成預定 區域而形成塗佈膜，然後使該塗佈膜軟化而令流動，藉此 使該塗佈膜充塡於上述薄膜形成預定區域之塗佈裝置，其 特徵係具備： 前處理單元群，其係對基板進行塗佈前的前處理； 〇 塗佈單元，其係對基板藉由噴墨方式來形成塗佈膜； 回流單元，其係對塗佈有塗佈膜的基板在有機溶劑環 境下使上述塗佈膜軟化而令回流；及 搬送機構，其係依處理的順序來將基板搬送至上述各 單元， 並且，上述各單元係依處理的順序來配列，上述搬送 機構係對所被配列的上述各單元依序搬送基板。 在上述第1觀點中，可更具備乾燥單元，其係設於上 © 述塗佈單元與上述回流單元之間，使上述塗佈膜乾燥。此 情況，上述乾燥單元可使用令上述塗佈膜乾燥於減壓環境 者。又’上述乾燥單元可使用具有令上述塗佈膜乾燥於減 壓環境的單元及對上述塗佈膜實施加熱處理的單元。 並且’上述前處理單元群可具有進行基板的洗淨處理 之單元。此情況，上述前處理單元群可具有：對基板實施 洗淨液的洗淨處理之單元、及藉由紫外線或電漿來實施基 板的清淨化處理之單元。 而且’在上述第1觀點中’上述前處理單元群可構成 -7- 200932372 具有：在上述塗佈單元的塗佈之前，實施基板表面的密著 性提升處理之單元。此情況，實施上述基板表面的密著性 提升處理之單元，可使用在上述塗佈單元的塗佈之前進行 將基板表面暴露於溶劑環境的處理之預濕單元，或可使用 在上述塗佈單元的塗佈之前對基板表面實施疏水化處理之 單元。 又，上述第1觀點中，可更具備：在上述回流處理之 © 後對基板實施烘烤處理的烘烤處理單元。此情況，可更具 備：設於上述回流處理單元與上述烘烤處理單元之間使上 述塗佈膜乾燥於減壓環境的單元。 本發明的第2觀點之塗佈裝置，係於基板上藉由噴墨 方式來供給塗佈液至塗佈膜形成預定區域而形成塗佈膜， 然後使該塗佈膜軟化而令流動，藉此使該塗佈膜充塡於上 述薄膜形成預定區域之塗佈裝置，其特徵係具備： 搬出入部，其係可載置收納有多數個基板的載體且進 © 行基板的搬出入；及 處理部，其係接收從上述搬出入部搬入的基板，而對 基板進行含塗佈處理的一連串處理， 上述處理部係具有： 前處理單元群，其係對基板進行塗佈前的前處理； 塗佈單元，其係對基板藉由噴墨方式來形成塗佈膜； 回流單元，其係對塗佈有塗佈膜的基板在有機溶劑環 境下使上述塗佈膜軟化而令回流；及 搬送機構，其係依處理的順序來將基板搬送至上述各 200932372 單元， 並且’上述各單元係依處理的順序來配列，上述搬送 機構係對所被配列的上述各單元依序搬送基板。 在上述第2觀點中’上述處理部可構成具有： 第1搬送路線’其係從上述搬出入部直線狀延伸，配 列有複數的單元；及 第2搬送路線’其係與上述第1搬送路線以連結部來 〇 連結，朝上述搬出入部直線狀延伸，配列有複數的單元。 此情況，上述處理部可構成沿著上述第1搬送路線來 配置上述前處理單元群，沿著上述第2搬送路線來配置上 述塗佈單元及上述回流單元。 [發明的效果] 若根據本發明，則藉由噴墨塗佈來形成塗佈膜之後， 利用回流處理來擴展塗佈膜，可精度佳地使塗佈膜充塡於 G 薄膜形成預定區域。又，由於依處理的順來配置進行塗佈 前的前處理之前處理單元群、塗佈單元、回流單元、及其 他的單元，然後對該等單元依序搬送基板而連續性地進行 處理，因此可極有效率地進行處理。又，由於進行噴墨塗 佈的塗佈單元31與回流單元近接，可不用取出基板來連 續地進行塗佈處理及回流處理，因此可使在塗佈單元塗佈 的塗佈膜儘可能不變形來搬送基板至回流單元，可進行極 高精度的塗佈。 200932372 【實施方式】 以下，參照圖面來詳細說明本發明的實施形態。 圖1是表示本發明的第1實施形態的塗佈裝置的槪略 平面圖。本實施形態的塗佈裝置100是在彩色濾光片用的 玻璃基板上利用噴墨塗佈來形成塗佈膜者。 此塗佈裝置100具有： 搬出入部1，其係載置收容複數個玻璃基板G的載體 〇 C，進行玻璃基板G的搬出入；及 處理部2，其係具備用以在玻璃基板G塗佈彩色墨水 的複數個處理單元。 搬出入部1具備： 載置台 Η，其係載置可收納複數個玻璃基板G來搬 送的載體C ;及 搬送裝置12，其係用以在載置台11上的載體C與處 理部2之間進行玻璃基板G的搬出入， © 在該搬出入部1對外部進行載體C的搬出入。 又，搬送裝置12具有搬送臂12a，可移動於沿著載體 C的配列方向而設置的搬送路（未圖示）上，藉由搬送臂 12a在載體C與處理部2之間進行玻璃基板G的搬出入。 處理部2基本上具有延伸於與載置台11上的載體C 的配列方向正交的方向之玻璃基板G搬送用的平行的2列 搬送路線A、B，沿著搬送路線A從卡匣站1側起依序配 列有擦洗（scrub )洗淨處理單元（SCR ) 21、烘烤單元（ Bake) 22、冷卻單元（Col) 23、調整用的搬送部（Conv -10- 200932372 )24、紫外線照射單元（UV ) 25、緩衝單元（Buf) 26。 並且，在緩衝單元（Buf) 26的後段設有連接搬送路線A 與搬送路線B之連結用的搬送部（Conv) 30。 而且，沿著搬送路線B從連結用的搬送部（Conv) 30 側往搬出入部1依序設有噴墨塗佈單元（InkJet ) 3 1、減 壓乾燥單元（DP ) 32、回流單元（Reflow ) 33、烘烤單元 (Bake) 34' 冷卻單元（Col) 35、緩衝單元(Buf) 36。 〇 在處理部2中該等單元是依處理的順序配列，處理部 2具有一搬送機構，其係沿著搬送路線A搬送，且經由連 結用的搬送部（Conv ) 30來沿著搬送路線B搬送，而使 從搬出入部1搬入的玻璃基板G能夠依序通過各單元。典 型的搬送機構是使用轉子搬送機構。轉子搬送機構是沿著 搬送方向來配列複數的轉子（未圖示），以其中的一部份 作爲驅動用轉子藉由搬送驅動部41來使驅動而使玻璃基 板G走行於其上搬送。另外，該等單元可在内部一邊轉子 © 搬送一邊進行所定的處理，或在内部停止玻璃基板G的狀 態下進行所定的處理。但，後者的情況是需要用以對單元 進行搬出入的輔助臂。 上述擦洗洗淨處理單元（SCR) 21可一面使玻璃基板 G大略水平搬送一面進行擦洗洗淨處理及乾燥處理。烘烤 單元（Bake) 22及冷卻單元（Col) 23是一體設置，在烘 烤單元（Bake ) 22是藉由熱板等來加熱玻璃基板G而進 行洗淨處理後的脫水，在冷卻單元（C ο 1 ) 23是利用冷卻 板來冷卻加熱後的玻璃基板G，該冷卻板是藉由水冷方式 -11 - 200932372 等來保持於所定的溫度。其次的調整用的搬送部（Conv ) 24是用以調整沿著搬送路線A來配列的單元的長度及沿 著搬送路線B來配列的單元的長度者’及用以進行玻璃基 板G的緩衝者，在此是僅轉子搬送玻璃基板G。 UV照射單元（UV) 25是在框體内設有紫外線燈，一 面轉子搬送擦洗洗淨後的玻璃基板G —面對該玻璃基板G 照射紫外線，藉此清淨化玻璃基板G的表面’藉由UV照 φ 射單元（UV) 25來對玻璃基板G照射紫外線而進行表面 的清淨化。另外，亦可取代如此的UV照射單元（UV ) 25 ，設置對玻璃基板G照射常壓電漿的單元，取得同様的機 tb ° 到目前爲止的單元是色彩阻劑的塗佈前的前處理單元 ，該等的單元是具有作爲前處理單元群的機能。 緩衝單元（Buf) 26是在往噴墨塗佈單元（InkJet) 31搬送玻璃基板G時，一旦保持玻璃基板G予以緩衝者 〇 ，例如具有1或2以上的玻璃基板G的待機部。亦可作爲 搬送困難時的緩衝用。連結用的搬送部（Conv) 30是用 以連結搬送路線A與搬送路線B者，可轉子搬送玻璃基板 G 〇 噴墨塗佈單元（InkJet) 31是藉由噴墨塗佈來從噴嘴 吐出所定顏色的色彩阻劑液作爲塗佈液至玻璃基板G的所 定區域，形成彩色濾光片層的色彩阻劑薄膜之單元。如上 述般，噴墨塗佈是將廣泛使用於彩色印刷的噴墨印表機的 原理應用於彩色瀘光片等的塗佈者。此噴墨塗佈單元（ -12- 200932372
InkJet ) 31是具有依照紅、綠、藍的3色、或加上黑色的 4色的色彩阻劑而不同的噴嘴’對於框體内藉由轉子搬送 等來搬送的玻璃基板G，從各噴嘴滴下色彩阻劑液至所定 位置，使相異顏色的色彩阻劑液能夠塗佈於鄰接的區域。 藉此，可一次進行3色或4色的彩色濾光片層的形成。另 外，此噴墨塗佈單元（InkJet) 31亦可將玻璃基板G載置 於載置台的狀態下不搬送地進行色彩阻劑的塗佈。 φ 減壓乾燥單元（DP) 32是用以在減壓環境下使藉由 噴墨塗佈單元（Ink Jet ) 31來形成於玻璃基板G上的塗佈 膜（色彩阻劑薄膜）乾燥者，藉此使塗佈膜（色彩阻劑薄 膜）中的溶劑揮發而令膜中的溶劑濃度形成均一，且使某 程度固化而至玻璃基板G到達其次的回流單元（Reflow) 33爲止防止塗佈膜（色彩阻劑薄膜）變形。此減壓乾燥單 元（DP) 32是在框體内的載置台上載置色彩阻劑塗佈後 的玻璃基板G之狀態下，將框體内排氣而進行。 ❹ 回流單元（Reflow) 33是將玻璃基板G上的塗佈膜 (色彩阻劑薄膜）暴露於稀釋劑（thinner )等的有機溶劑 的環境，而使軟化、流動（回流）者，例如使用在框體内 藉由氣泡溶解來導入稀釋劑等的溶劑蒸氣等的手法在框體 内形成有機溶劑的環境，使玻璃基板G搬送於該溶劑環境 中，藉此進行。在此回流單元（Reflow ) 33是使在噴墨塗 佈單元（InkJet ) 31所被塗佈的色彩阻劑薄膜流動化，而 令色彩阻劑薄膜適當地充塡於膜形成預定區域的隔壁内。 烘烤單元（Bake) 34及冷卻單元（Col) 35是一體設 -13- 200932372 置，在烘烤單元（Bake) 34是藉由熱板等來烘烤回流處 理後的色彩阻劑薄膜而使硬化，在冷卻單元（Col) 35是 利用冷卻板來冷卻烘烤後的玻璃基板G，該冷卻板是藉由 水冷方式等來保持於所定的溫度。 緩衝單元（Buf) 36是將玻璃基板G搬出至搬出入單 元1時，一旦保持玻璃基板G予以緩衝者，例如具有1或 2以上的玻璃基板G的待機部。 φ 上述減壓乾燥單元（DP) 32是使玻璃基板G在框體 内載置於載置台的狀態下處理，因此從噴墨塗佈單元（ InkJet) 31往減壓乾燥單元（DP) 32之玻璃基板G的搬 送、從減壓乾燥單元（DP) 32往回流單元（Reflow ) 33 之玻璃基板G的搬送，是需要使用轉子搬送機構以外的輔 助搬送機構。 如此的輔助搬送機構，可舉圖2及圖3所示者。就圖 2的例子而言，是設置具有基座43及基板支持臂44的穿 Q 梭手臂機構45的例子，該基座43是可往復移動於沿著搬 送路線B從噴墨塗佈單元（InkJet) 31的後段部經由減壓 乾燥單元（DP) 32到回流單元（Reflow) 33的前段部爲 止的部份的外側，該基板支持臂44是可進退設於基座43 上。就圖3的例子而言，是設置具有一對的導軌47及一 對的基板支持臂48之滑臂機構49，該一對的導軌47是從 噴墨塗佈單元（InkJet) 31的後段部經由減壓乾燥單元（ DP) 32到回流單元（Reflow) 33的前段部爲止的部份的 兩側沿著搬送路線B來設置，該一對的基板支持臂48是 -14- 200932372 設成可沿著導軌47來往復動且可移動於前後方向。 圖2的穿梭手臂機構45是在從噴墨塗佈單元（InkJet )31搬送至減壓乾燥單元（DP) 32時’從減壓乾燥單元 (DP) 32搬送至回流單元（Reflow) 33時，將基座43配 置於所定的位置，使支持臂44進出，而於支持臂44上受 取玻璃基板G來搬送。 圖3的滑臂機構49是在從噴墨塗佈單元（InkJet) 31 〇 搬送至減壓乾燥單元（DP) 32時，從減壓乾燥單元（DP )32搬送至回流單元（Reflow ) 33時，使一對的滑臂48 位於所定的位置，令該等進出於玻璃基板G側，在支持玻 璃基板G兩側的狀態下搬送。 另外，噴墨塗佈單元（InkJet) 31爲使玻璃基板G載 置於載置台來塗佈的型態時，上述圖2的支持臂44及圖3 的滑臂48是不需要從搬送部（Conv) 3 0搬送玻璃基板G 至噴墨塗佈單元（InkJet ) 31的動作。 〇 塗佈裝置1〇〇的各構成部是連接至具備微處理器（電 腦）的控制器50，可被控制。在控制器50連接有操作者 爲了管理塗佈裝置100而進行指令的輸入操作等的鍵盤、 或由使塗佈裝置1〇〇的操業狀況可視化顯示的顯示器等所 構成的使用者介面51。 並且’在控制器50連接記憶部52，該記憶部52是儲 存有控制用的程式或資料等。被儲存於記憶部52的程式 是包含：用以藉由控制器50的控制來實現在塗佈裝置100 所被實行的各種處理之程式、或用以按照處理條件來使處 -15- 200932372 理實行於塗佈裝置100的各構成裝置之程式亦即處方等。 處方是被記憶於記憶部52中的記憶媒體。記憶媒體可爲 硬碟等的固定者，或CDROM、DVD、快閃記億體等的可 搬性者。又，亦可從其他的裝置例如經由專用線路來使處 方適當傳送。 然後，因應所需，根據來自使用者介面51的指示等 ，從記憶部52叫出任意的處方，而使控制器50實行，藉 φ 此在製程控制器50的控制下，進行在塗佈裝置100的所 望處理。 其次，參照圖4來說明有關以上那樣構成的塗佈裝置 的處理動作。首先，如圖4(a)所示，在玻璃基體101上 藉由光蝕刻（Photolithography)來形成樹脂製的隔壁102 ，將規定複數個薄膜形成預定區域103的玻璃基板G予以 複數片收納於載體C，使該載體C載置於搬出入部1的載 置台11上。玻璃基板G的薄膜形成預定區域103是形成 〇 於應分別形成紅、綠、藍的3色、或加上黑色的4色的色 彩阻劑薄膜（塗佈膜）的位置。 其次，藉由搬送裝置12的搬送臂12a來從載體C取 出1片載體C的中的玻璃基板G，搬入至處理部2的擦洗 洗淨單元（SCR) 21。然後，一邊使玻璃基板G藉由轉子 搬送來沿著搬送路線A移動，一邊進行擦洗洗淨及乾燥處 理。然後，將玻璃基板G搬送至烘烤單元（Bake ) 22而 進行洗淨處理後的脫水，更搬送至冷卻單元（Col ) 23冷 卻至所定溫度。 -16- 200932372 然後，經由調整用的搬送部（Conv) 24來搬送至# 外線照射單元（UV ) 25，在該紫外線照射單元（UV ) 25 中’一邊搬送玻璃基板G’ 一邊對玻璃基板G照射紫外線 ，使玻璃基板G的表面清淨化。 到目前爲止的處理是色彩阻劑的塗佈前的前處理，如 前述般，以上的單元是具有作爲前處理單元群的機能。 然後，前處理後的玻璃基板G是經由緩衝單元（Buf e )26及連結用的搬送部（Conv) 30來利用輔助搬送機構 搬送至噴墨塗佈單元（InkJet) 31。 在噴墨塗佈單元（InkJet ) 31，如圖4 ( b )所示，藉 由噴墨塗佈來從噴嘴105吐出作爲塗佈液之所定顏色的色 彩阻劑液106至薄膜形成預定區域1〇3，形成彩色濾光片 層的色彩阻劑薄膜（塗佈膜）107。利用依照紅、綠、藍 的3色、或加上黑色的4色的色彩阻劑而不同的噴嘴來進 行如此的薄膜形成，在鄰接的薄膜形成預定區域103滴下 〇 彼此不同顏色的色彩阻劑液。藉此，一次進行3色或4色 的彩色濾光片層的形成。此情況，色彩阻劑液1 06是在薄 膜形成預定區域1〇3的全面未擴展，形成有間隙。 然後，藉由輔助搬送機構來將形成有色彩阻劑薄膜 107的玻璃基板G搬送至減壓乾燥單元（DP) 32，進行減 壓環境的乾燥處理（圖 4(c))。在噴墨塗佈單元（ InkJet) 31剛塗佈後，在色彩阻劑薄膜1〇7含多的溶劑， 形狀保持性低，且溶劑濃度的均一性不高，因此藉由如此 的減壓乾燥來使膜中的溶劑濃度形成均一，且使某程度固 -17- 200932372 化，令形狀保持性提升，至到達回流單元（Reflow) 33爲 止防止色彩阻劑薄膜的變形。 在如此的減壓乾燥處理之後，藉由輔助搬送機構來將 玻璃基板G搬送至回流單元（Reflow) 33，如圖4 ( d) 所示，使色彩阻劑薄膜1 07暴露於稀釋劑等的有機溶劑的 環境，而使軟化令流動（回流）。藉此，色彩阻劑薄膜 107會擴展於薄膜形成預定區域103的全面，被平坦化， 0 形成於薄膜形成預定區域103的間隙會被塡埋。 此回流處理是例如揭示於日本特開2002-334830號公 報那樣，爲了省略光蝕刻用的圖案形成工程，開發一使阻 劑圖案的形狀變化的技術。 如此’進行噴墨塗佈後，進行回流處理時，即使色彩 阻劑液的量少，還是可擴展於薄膜形成預定區域103的全 面，因此可減少噴墨塗佈時的色彩阻劑的供給量。此情況 ，色彩阻劑薄膜107的膜厚會變薄，但可藉由提高設定初 〇 期時的阻劑濃度，或加深色濃度來對應。 回流處理後是將玻璃基板G搬送至烘烤單元（Bake) 34，進行烘烤處理來使色彩阻劑薄膜1〇7硬化，其次將玻 璃基板G搬送至冷卻單元（Col) 35，在此使玻璃基板G 冷卻至所定溫度。 然後，將玻璃基板G搬送至緩衝單元（Buf) 36，搬 出入部1的搬送裝置12的搬送臂12a會接受該玻璃基板 G而收納於載置台11上的載體C。 針對1個載體C的複數個玻璃基板G連續進行以上的 -18- 200932372 處理，若1批完成，則會更連續進行次批載體C的處理。 藉由如此組合噴墨塗佈及回流處理之本實施形態的塗 佈裝置1〇〇，可取得以下那樣大的優點。 噴墨塗佈本質上無法充分對應於微細的圖案，所以如 圖5(a)所示，色彩阻劑液106的滴下位置會在薄膜形成 預定區域1 03之中偏倚，此情況，如圖5 ( b )所示，所被 形成的色彩阻劑薄膜107的位置也會移動而產生顏色變薄 φ 的部份（色薄部份）109。又，如圖6(a)所示，也會產 生滴下位置移動而一部份乘坐在隔壁102上的情況，此情 況如圖6(b)所示，色彩阻劑薄膜107的位置也會更移動 而產生顏色脫離的部份（脫色部份）110，因此產生光漏 。相對的，噴墨塗佈後，適用回流處理來使色彩阻劑薄膜 107流動，藉此可使圖5(b)或圖6(b)所示色彩阻劑薄 膜的偏倚如圖7(a) 、（b)那樣補正而防止色薄部 份或脫色部份的發生。 Θ 並且，在以往的噴墨塗佈中，即使色彩阻劑的滴下位 置稍微偏移，爲了使色彩阻劑能夠遍及薄膜形成預定區域 103的全面，不得不增多色彩阻劑液的吐出量'恐會有色 彩阻劑液越過隔壁102流出而發生混色之虞，但在噴墨塗 佈後適用回流處理時，利用噴墨的色彩阻劑吐出時，色彩 阻劑液不必擴展至薄膜形成預定區域103的全面，因此可 減少色彩阻劑液的吐出量而不易產生該流出。 又，由於噴墨塗佈是滴下液體來使液體充塡於被隔壁 102所包圍的區域者，因此藉由液體的表面張力，吐出形 -19- 200932372 狀容易變圓’被隔壁102所包圍的薄膜形成預定區域103 的形狀例如爲矩形狀時，色彩阻劑液6不會遍及角部，該 部份容易脫色。即使如此的情況，藉由在噴墨塗佈後適用 回流處理，還是可使色彩阻劑流動於角部而不易產生脫色 部份。 又，使用高黏度阻劑時，噴墨塗佈時的阻劑吐出量爲 少量即可，所以可削減阻劑使用量，可不易發生越過隔壁 0 1 02的混色，但由於高黏度阻劑流動性少，且少量滴下， 因此色彩阻劑液難遍及薄膜形成預定區域103的外周部， 外周部的脫色容易發生，但藉由適用回流處理，可使高黏 度阻劑流動來將薄膜107遍及薄膜形成預定區域103的外 周部而擴展於全體。 又，由於本實施形態的塗佈裝置100是依處理的順序 來依序配置：進行塗佈前的前處理之前處理單元群、噴墨 塗佈單元（InkJet) 31、回流單元（Reflow) 33、及其他 〇 的單元，而對該等單元依序搬送玻璃基板G，連續性地進 行處理，因此可極有效率地進行處理。又，由於噴墨塗佈 單元（InkJet) 31與回流單元（Reflow) 33近接，可不用 取出玻璃基板G來連續地進行噴墨塗佈單元（InkJet) 31 的塗佈處理、及回流單元（Reflow) 33的回流處理’因此 可不使在噴墨塗佈單元（InkJet) 31塗佈的塗佈膜儘可能 不變形來搬送玻璃基板G至回流單元（Reflow) 33’可進 行極高精度的塗佈。 又，由於在減壓乾燥單元（DP) 32某程度乾燥噴墨 -20- 200932372 塗佈後的塗佈膜’因此可使塗佈膜的形狀保持性更 行之後的回流處理。又’由於可藉由此減壓乾燥來 膜中的溶劑濃度形成均一，因此可使之後的回流處 地進行。所以，可以更高精度來進行回流處理。 其次，說明有關本發明的第2實施形態。 圖8是表示本發明的第2實施形態的塗佈裝置 平面圖。本實施形態的塗佈裝置l〇〇a是由圖1所矛 0 實施形態的裝置除去減壓乾燥單元（DP ) 3 2 ’該部 緩衝單元（Buf) 36的前段配置調整用的搬送部（ 61，其他的構成則是與圖1的塗佈裝置1〇〇相同， 於相同者附上同樣的符號，而省略說明。在圖8中 器50、使用者介面51、記憶部52是省略圖示。 在噴墨塗佈單元（InkJet) 31塗佈後的塗佈膜 安定性良好，且於回流單元（Reflow) 33在流動量 條件下回流時，不需要噴墨塗佈後的乾燥處理，本 φ 態的塗佈裝置是適用於如此的情況。 其次，說明有關本發明的第3實施形態。 圖9是表示本發明的第3實施形態的塗佈裝置 平面圖。本實施形態的塗佈裝置100b是取代圖1 第1實施形態的裝置的連結用的搬送部（Conv) 30 置預濕單元（PreWet) 62者，其他的構成則是與圖 佈裝置1〇〇相同，因此對於相同者附上同樣的符號 略說明。另外，圖9亦與圖8同樣，控制器50、使 面51、記憶部52是省略圖示。 良好進 使塗佈 理均一 的槪略 :的第1 份則在 Conv ) 因此對 ，控制 的形狀 飽和的 實施形 的槪略 所示的 ，而配 1的塗 ，而省 用者介 -21 - 200932372 預濕單元（PreWet) 62是與回流單元（Reflow) 33 同樣，在框體内形成稀釋劑等的有機溶劑的環境，構成可 使玻璃基板G搬送於該溶劑環境中。藉此，噴墨塗佈前的 玻璃基板G的表面會形成以溶劑潤濕的狀態，所以可使噴 墨塗佈時的塗佈膜的密著性形成良好。 其次，說明有關本發明的第4實施形態。 圖10是表示本發明的第3實施形態的塗佈裝置的槪 0 略平面圖。本實施形態的塗佈裝置100c是與圖1所示的 第1實施形態的裝置不同前處理單元群的構成。亦即，在 擦洗洗淨單元（SCR) 21之後緊接著設置紫外線照射單元 (UV ) 25，然後依序設置烘烤單元（Bake ) 63、附著（ adhesion)處理單元（AD) 64、冷卻單元（Col) 65，然 後配置緩衝單元（Buf) 26。其他的構成則是與圖1的塗 佈裝置100相同，因此對於相同者附上同樣的符號，而省 略說明。另外，圖9亦與圖8同樣，控制器50、使用者介 〇 面51'記憶部52是省略圖示。 附著處理單元（AD ) 64是在框體内導入疏水化劑的 HMDS (六甲基二砂院，Hexamethyldisilazane )的蒸氣， 疏水化處理轉子搬送的玻璃基板G的表面，可藉由此處理 來使噴墨塗佈時的塗佈膜的密著性形成良好。 其次，說明有關本發明的第5實施形態。 圖11是表示本發明的第5實施形態的塗佈裝置的槪 略平面圖。本實施形態的塗佈裝置100d是在圖1所示的 第1實施形態的裝置的回流單元（Reflow) 33與烘烤單元 -22- 200932372 (Bake ) 34之間追加別的減壓乾燥單元（DP ) 66者，其 他的構成則是與圖1的塗佈裝置100相同，因此對於相同 者附上同樣的符號，而省略說明。另外，圖 U亦與圖8 同樣，控制器50、使用者介面51、記憶部52是省略圖示 〇 根據在回流單元（Reflow ) 33的條件，有時在回流後 的塗佈膜含多的溶劑，在如此的情況直接以烘烤單元（ ❹ Bake ) 34來進行烘烤處理時，會產生溶劑的急劇乾燥而 對塗佈膜造成不良影響。於是，本實施形態爲了迴避如此 的不良情況，而於回流單元（Reflow) 33的後段設置別的 減壓乾燥單元（DP) 66，在此對於回流處理後的玻璃基板 G可在烘烤處理前進行緩和的乾燥。 其次，說明有關本發明的第6實施形態。 圖12是表示本發明的第6實施形態的塗佈裝置的槪 略平面圖。本實施形態的塗佈裝置100e是在圖1所示的 〇 第1實施形態的裝置的減壓乾燥單元（DP) 32與回流單 元（Reflow) 33之間配置烘烤單元（Bake) 67及冷卻單 元（Col) 68，在回流單元（Reflow) 33的後段配置緩衝 單元（Buf) 36，其他的構成則是與圖1的塗佈裝置100 相同，因此對於相同者賦予相同的符號而省略說明。另外 ，圖12亦與圖8同樣，控制器50、使用者介面5 1、記憶 部52是省略圖示。 噴墨塗佈後的塗佈膜的形狀安定性及溶劑量的均一性 ，有時只在減壓乾燥單元（DP)是無法充分地確保，如此 -23- 200932372 的情況，較理想是像本實施形態那樣在減壓乾燥單元（DP )32的後段設置烘烤單元（Bake ) 67，更增進噴墨塗佈 後的溶劑的揮發。另外，亦可在回流單元（Reflow) 33的 後段設置別的減壓乾燥單元。 另外，本發明並非限於上述實施形態，亦可爲各種的 變形。例如，在上述實施形態是將本發明的塗佈裝置適用 於作爲液晶顯示裝置等使用的彩色濾光片的濾光層用的色 φ 彩阻劑薄膜圖案的形成，但亦可適用於使用有機半導體膜 的EL元件用的色彩阻劑薄膜圖案的形成。又，亦可適用 於LED (發光二極體）元件等的顯示裝置的薄膜形成，甚 至各種的有機膜或無機膜的薄膜形成、例如銦錫氧化物（ ITO )膜或絶緣膜等的薄膜形成。 又，亦可將上述專利文獻5所揭示的技術適用於本發 明，該技術是藉由使用匚？4氣體的電漿處理來對含隔壁的 全面進行撥水處理之後，利用〇2氣體電漿來對基板面進 Q 行親水處理而選擇性地只使隔壁的表面形成撥水性，補正 色彩阻劑液的滴下位置。 【圖式簡單說明】 圖1是表示本發明的第1實施形態的塗佈裝置的槪略 平面圖。 圖2是表示使用於圖1的塗佈裝置的輔助搬送裝置之 一例的模式圖。 圖3是表示使用於圖1的塗佈裝置的輔助搬送裝置的 -24- 200932372 其他例的模式圖。 圖4是用以說明藉由圖1的塗佈裝置來形成塗佈膜的 方法的工程剖面圖。 圖5是表示噴墨塗佈之色彩阻劑液的滴下位置及所被 形成之薄膜（塗佈膜）的偏倚。 圖6是表示噴墨塗佈之色彩阻劑液的滴下位置的偏倚 及所被形成之薄膜（塗佈膜）的偏倚。 © 圖7是表示以回流處理來補正噴墨塗佈之薄膜的偏倚 的狀態。 圖8是表示本發明的第2實施形態的塗佈裝置的槪略 平面圖。 圖9是表示本發明的第3實施形態的塗佈裝置的槪略 平面圖。 圖10是表示本發明的第4實施形態的塗佈裝置的槪 略平面圖。 ® 圖11是表示本發明的第5實施形態的塗佈裝置的槪 略平面圖。 圖12是表示本發明的第6實施形態的塗佈裝置的槪 略平面圖。 【主要元件符號說明】 1 :搬出入部 2 :處理部 21 .擦洗洗淨單元 -25- 200932372 22、 34、 63、 67:烘烤單元 22、35、65、68:冷卻單元 25 :紫外線照射單元 3 1 :噴墨塗佈單元 32、66 :減壓乾燥單元 3 3 :回流單元 4 1 :驅動裝置 φ 6 2 :預濕單元 64 :附著單元 1 00e :塗佈裝置 100、 100a、 100b、 100c、 100d 、 101 :基體 1 0 2 :隔壁 103:薄膜形成預定區域 1 05 :噴嘴 106 :色彩阻劑液（塗佈液） 〇 1 07 :色彩阻劑薄膜（塗佈膜） A、Β :搬送路線 C :載體 G :玻璃基板 -26-