TW200922911A - Metal complexes of tridentate beta-ketoiminates - Google Patents
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/406—Oxides of iron group metals
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Description
200922911 六、發明說明: 對相關申請的交叉引用 本申明要求2007年11月27日提交的美國專利申請No. 1 1/945,678 的權益。 發明所屬之技術領域 本發明涉及含金屬的三彳β·銅基亞胺鹽(ketoiminates) 六夜^中一牙β_鲖基亞胺鹽在亞胺基中引入氮或氧官 能團。 ^ 先前技術 半導體製造卫業始終需要用於化學氣相沉積法,包括原 子層沉積法的新穎含金屬源的前驅物,該沉積法用於使用 廷些含金屬的前驅物在基材如發、金屬氮化物、全屬氧化 物和其他含金屬的層上製造共形的含金屬的膜。 發明内容 本發明涉及含金屬的三牙β_酮基亞胺鹽和溶液,其中 三牙β’基亞胺鹽在亞胺基中引入氮或氧官能團。該: β-酮基亞胺鹽選自下列結構: 一 200922911
結構A
M疋具有2至5的化合價的金屬。金屬的實例包括鈣' 鋰、鋇、钪、釔、鑭、鈦、錯、釩、鎢、錳、鈷、鐵、 其中 鎮、 釕、辞 鈀、鉑 金果 種有機基團,例如,其中R1選自具有1至10個碳原子, 優選含有1至6個碳原子的烷基、烷氧基烷基、氟烷基、
脂$哀族基團和关其.r> 2 BBL 基,R選自氳、烷基、烷氧基、脂環族基 自烷基、氟烷基、烷氧基烷基、脂環族基 團和方基1是具有至少—個手 或亞烷基橋,優選為含有3 山、的C3-1G支鏈烷基 造與金屬中心的5_戎6 5 4個敛原子的基團,由此製 _ 忒6-凡配位環; 6 氟境基、脂環族基團、芸 獨立地選自院基、 — 方暴,且它們可、 乳或氮原子的環。下標n是整數 以連接形成含有碳、 和”等於金屬Μ的化合價; 200922911
結構B
其中Μ是選自第4、5族金屬的金屬離子,包括鈦、锆和 給丄其中Rl;選自燒基、烧氧基烧基、氟院基、脂環族基團 和方基,優選為含有1至6個碳原子的基團;R2選自氯、 烧基、烧氧基、脂環族基團和芳基;r3選自燒基、烧氧基 烧基、氟縣、脂環族基團和芳基;^是具有至少_料 性礙原子的C3_1G支鏈院基或亞烧基橋,優選為含有3或* 個碳原子的基團,由此製造與金屬中心 m v 一入0 - το配位 壤U蜀立地選自縣、氟院基、脂環族基图、芳基, 且它們可以連接形成含有碳、氧或氮原子的環;R7選:烷 基、氟烷基、脂環族基團和芳基;其中n t 1且m+n的總和等於該金屬的化合價。 疋 ^ 通過廷些含金屬的三牙β,基亞胺鹽作為化學氣相沉 積或原子層沉積的前驅物,可以實現幾個優點,這此^ / · 以良好產率形成反應性錯合物的能力; —匕· 形成與一種配位基配位的單體錯合物, 合物的能力,由此能夠實現高蒸汽屋;’ 和錯錯 200922911 通過在兩個氮原子之間引入具有至少一個手性峻原子 的支鏈烧基或亞烧基橋,與在兩個氮原子之間不含手性中 心的那些相比顯著提高所得金屬錯合物的熱穩定性的能 力; ; 製造適用在多種電用途中的高度共形的金屬薄膜的能 力; 形成適用在微電子器件中的冑度共形的金屬氧化物薄 膜的能力; 由於該錯合物的高化學反應性而提高含金屬的三牙卜 酮基亞胺鹽與基材表面之間的表面反應的能力。 實施方式 本發明涉及含金屬的三牙β_酮基亞胺鹽前驅物及其溶 液,其可用於經由沉積法,例如化學氣相沉積(CVD)和原子 層沉積(ALD)在基材,如矽、金屬氮化物、金屬氧化物和其 他金屬層上製造共形的含金屬膜。這類共形的含金屬膜具 有從電腦晶片、光學器件、磁資訊儲存到塗布在載體材料 上的金屬催化劑的用途。與現有的三牙β_酮基亞胺鹽前驅 物不同’該三牙β -酮基亞胺鹽配位基引入至少一個胺基有 機亞胺基官能團,其與文獻中報導的作為給體配位基的烷 氧基不同’最重要地,它們在兩個氮原子之間含有具有至 少一個手性碳原子的支鏈烷基或亞烷基橋。 氣相沉積法所用的氧化劑包括氧、過氧化氫和臭氧,沉 積法所用的還原劑包括氫、肼、單烷基肼、二烷基肼和氨。 200922911 金屬前驅物中的一種類型的結禮海-> 中
稱顯不在下列結構1A ,其中金屬Μ具有化合價2,其具有下式: 1Α R2
其中Μ選自第2、8、9、ι〇竑厶麗丄 1〇族金屬原子。在這種前驅物中 優選地,當金屬是銷和ρ 领時R疋c4-6烷基,優選為第 丁基或弟二戍基,而當冬凰Μ + 2 屬疋鈷或鎳時,R是Cu烷基 R選自氣、Ci_6烧基和C ii. ^ · Τ» 3 土和C6_10方基,R3選自Ci6烧基、c 氟烷基、C6.10芳基;R5i〇 6 κ和R獨立地為低級d_3燒基,. 選為曱基;且R4是且右y ”有至少一個手性碳原子的C3_1Q支: 烧基或亞烧基橋,優潠主人 1愛k為含有3或4個碳原子的基團。 選金屬是鈣、锶、鋇、鐵、鈷和鎳。 第一類含三牙β_脑盆π 土亞胺鹽配位基的金屬錯合物中 另一類型的結構顯示在 列'、、〇構2Α中’其中金屬Μ呈 化合價3,其具有下式: ” 200922911
2A
其中Μ選自第3族金屬原子。在這種前驅物中,優選地, R1是C4_6烷基,優選為第三丁基和第三戊基;R2選自氫、 Cu烷基和C6_1Q芳基;R3選自Cu烷基、Cu氟烷基、C6_10 芳基;R5和R6獨立地為低級(^_3烷基,優選為曱基;且 R4是具有至少一個手性碳原子的C3_1()支鏈烷基或亞烷基 橋,優選為含有3或4個碳原子的基團。優選金屬是銃、 在乙和鋼。 ’ 第二類含金屬的前驅物包括如式B中所示的三牙β-酮 基亞胺鹽配位基: 10 200922911
B R5
R1 其中M是第4或5族金屬,如鈦、鍅或銓。如所示,該錯 合物由至少一個烷氧基配位基和具有至少一個胺基有機亞 胺基官能團的三牙β__基亞胺鹽配位基構成。優選的R!-6 基團與式Α中的相同。優選的R7基團是直鏈或支鏈烷基, 例如異丙基、正丁基、第二丁基和第三丁基,m和n是至 少1且m+n的總和等於該金屬的化合價。 該二牙β-酮基亞胺鹽配位基可以通過公知方法製備, 如大的(bulky)酮和乙酯在強鹼如胺基鈉或氫化鈉存在下的 Claisen縮合’然後是另一已知方法,如與烷基胺基烷基胺 的席夫(Schiff)驗縮合反應。配位基可以經由真空蒸德(對液 體而言)或結晶(對固體而言)純化。 作為形成高產率和熱穩定的三牙配位基的優選方法,優 選選擇大的R1基團,例如CM烷基,其中在連接到酮官能 團上的碳上沒有連接氫,最優選的R1基團是第三丁基或第 戍基。R基團防止在隨後的席夫縮合中發生的副反應並 隨後保護金屬中心避免分子間相互作用。存在競爭問題, 11 200922911 即三牙配位基中的R1·7基團應該盡可能小以降低所得含金 屬的錯合物的分子量並獲得具有高蒸汽壓的錯合物。優選 的R4是具有至少一個手性碳原子的支鏈烷基或亞烷基橋, 並且最優選含有3或4個碳原子的基團以便通過形成與金 屬中心的5-或6-元配位環來使所得錯合物更穩定。配位基 中的手性中心在降低熔點以及提高熱穩定性方面起到至關 重要的作用% 可以隨後通過所得三牙配位基與純金屬、金屬氨化物、 金屬氫化物和/或金屬醇鹽的反應製備含金屬的錯合物。含 金屬的錯合物也可以如下製備:使三牙配位基與烷基鋰或 氫化鉀反應以提供該配位基的鋰或鉀鹽,然後與金屬鹵化 物MXn (X=Cn、Br、I ; n=2、3)反應。第4和5族的混合配 位基錯合物可以通過改變金屬醇鹽與三牙配位基的比率來 製造。 含二牙β-酮基亞胺鹽配位基的這些含金屬的錯合物可 以用作潛在t驅物以經由在低於5〇〇〇c的溫度下的化學氣 相沉積(CVD)或原子層沉積(ALD)法製造金屬或金屬氧化 物薄膜。CVD法可以使用或不使用還原劑或氧化劑進行, 而ALD法通常包括使用另一反應物,如還原劑或氧化劑。 對於多組份金屬氡化物,這些錯合物如果具有相同的三 牙β-酮基亞胺鹽配位基,它們可以預混。含三牙卜酮基亞 胺鹽配位基的這些含金屬錯合物可以經由公知的鼓泡或蒸 汽吸入技術以氣相輸送到CVD或ALD反應器中。也可以 通過如下操作使用直接液體輸送法:將錯合物溶解在合適 12 200922911 的溶劑或溶制混合物中以製備根據所用的溶劑或混合溶劑 具有0.001至2M摩爾濃度的溶液。 用於溶解沉積法中所用的前驅物的溶劑可以包括任何 相容性溶劑或它們的混合物,包括脂族烴、芳烴、醚、醋、 亞硝酸鹽和醇。該溶液的溶劑組份優選包含選自下列的溶 具有1至20個乙氧基_(匚2札〇)_重複單元的甘醇二甲醚 溶劑;c^c!2鏈烷醇,選自包含Ci_C6烷基部分的二烷基 醚、C4_C8環醚的有機醚;Ci2_C6〇冠〇4_〇2〇醚,其中字首 4範圍為醚化合物中的碳原子數i且字尾01範圍為醚化合 物中的氧原冬數i ; CVCu脂族烴;C6_C"芳烴,·有機酯; 有機胺、聚胺和有機醯胺。 提供優點的另一類溶劑是RC0NR,R,,形式的有機醯胺 類,复, >、R和R疋具有1-1〇個碳原子的烧基且它們可以連 接形成環狀基團(CH2)n,其中n為4_6,優選5,且R"選自 ”有1至4個碳原子的烷基和環烷基。N-曱基和N_環己基 ** 2 呪咯烷酮、MTV-二乙基乙醯胺和见#_二乙基曱醯胺是實 例。 下列實施例舉例說明了含三牙β_酮基亞胺鹽配位基的 ”屬的錯合物的製備及其在含金屬的膜沉積法中作為前 驅物的用途。 實施例1 2,2- 向 甲基-5-(1-二曱基胺基_2_丙基亞胺基)_3_己_的合成 13·55 g (95.29 mmol) 2,2-二甲基-3,5-己二 _ 在 150 13 200922911 mL四氫〇夫喃(THF)中的含有20 g (140.8 1 mmol)硫酸納的溶 液中加入11.68 g (114_34 mmol) l二甲基胺基_2_丙胺。將 反應混合物加熱至65t 72小時。在完成後,在真空下蒸發 THF,並通通將該混合物在8〇它和14〇毫托真空下加熱! 小時來瘵餾過罝的卜二甲基胺基_2_丙胺。在11〇。〇和 毫托真空下對殘油施以真空轉移加熱。獲得i 8 · 7 5 g石灰綠 角色油且GC分析表明99%純度。產率為87〇//〇。 H NMR (500 MHz, C6D6): δ= Π.51 (s, 1Η), 5.20 (s, 1H), 3-24 (m, 1H), 1.91 (m, 2H), 1.91 (s, 6H), 1.60 (s, 3H), 1.32 (s, 9H),0.94 (d, 3H)。 實施例2 雙(2,2-二甲基_5_(1_二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_3· 己酮根合-Ν,0,Ν,)鏍的合成 在至'皿下向 1 g (1.81 mmo1) Sr(N(SiMe3)2)2.(THF)2 在 1 〇 THF中的溶液中逐滴加入在丨〇 m]L THF中的〇 82笆 (3·62 _〇i) 2,2_二甲基_5_(1_二曱基胺基-2_丙基亞胺 基)3己酮在至溫下攪拌丨6小時後。在真空下蒸發掉『HP 以提供灰白色固體,將其以溶液形式吸收在己烷中。蒸發 掉己烧並將乾燥的@體在室溫下在^中重结曰曰曰。獲得 〇·48 g透明的針狀晶體(基於Sr,50。/。產率)。 兀素分析’:對C26H5〇N402Sr的計算值:C,58·〇1; N, 10.40; H,9.36。實測值:c,56 〇7; Ν,ι〇 ι〇; h,8 86。咕 n騰 (500 MHz, C6D6): δ= 5.12 (s, 1H), 3.42 (m, 1H), 3.32 (t, 1H), 14 200922911 196 (b,2H),1.83 (s,6H),1_72 (b,2H),1.41 (s, 9H), 0.94 (d, 3H)。 通過單晶分析在結構上證明無色晶體。該結構表明,鳃 在變形八面體環境中與來自兩個三牙酮基亞胺鹽配位基的 兩個氧和四個氮原子配位。 &顯不在圖1中’其中對於R4在亞胺基官能團的兩個 » 氣原子之間存在2-丙基橋’顯示為c4、C5和C18、C17。 C4和C 1 7是手性原子’因為它們與四個不同取代基(即對 C4而5的H、N1、C11* C5及對匸17而言的h、n3、ci8 和C24)相連。 圖2顯不了與其中R4為不含手性中心的乙基橋的類似 化口物相對照’對於R4在亞胺基官能團的兩個氮原子之間 具有3手性中心的2-丙基橋的實施例2的化合物的TGA。 用實線表示實施例2的化合物,而用虛線表示其中R4是乙 基橋的類似化合物。TGA分析中的較大殘留代表具有較低 、穩定性的化合物。因此,實施例2的化合物具有少於1%的 殘留物而不3手性中心的類似化合物具有超過i 的殘 留物表明在半‘體製造中的沉積中作為沉積含金屬膜用 的前驅物使用時所必需的熱穩定性顯著提高。 實施例3 又(2,2 -甲基5 (1-一甲基胺基_2_丙基亞胺基)_3·己嗣根 合_N,〇,N,)鎳的合成 在乾冰卞酮浴中在_7代下向3.49 g (15_43匪〇1) 2,2- 15 200922911 二甲基-5-(1-二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_3_己酮在i〇 己 烷中的溶液中逐滴加入6 17 mL (15 43 mm〇1)在己烷中的 2.5 Μ正丁基鋰。將溶液升溫至室溫並攪拌丨小時。在真空 下從溶液中蒸發己烷並獲得殘留的粘稠黃色油。將2〇 THF添加到殘留物中並在室溫下將該溶液添加到在 THF中的i.oo g (7 72 _〇1) Nicl2中。在6〇。〇氯氣加熱下 授摔96小時。在真空下蒸發掉THF並將殘留深綠色固體 吸收在己烷中,加熱並過濾。在真空下蒸發己烷並獲得3.5 g粘稠深綠今固體,將其在1〇〇。〇 65毫托真空下昇華48小 時’產生2.8 g綠色固體(7〇%產率)。料的材料通過在室 溫下緩慢蒸發戊院來重結晶。 兀素分析:對C26H5〇N4Ni02的計算值:C,61 3〇; H, 9_89; N,ll.oo。實測值:c,5918; Η,9 〇9; ν,ι〇 84。 通過單晶分析在結構上證明該深綠色晶體^該結構表 明,鎳在變形八面體環境中與來自兩個三牙酮基亞胺鹽配 位基的兩個氧和四個氮原子配位。這顯示在圖3中,其中 對於R在亞胺基官能團的兩個氮原子之間存在丙基橋, 顯:為C9'CU和C22、C24。C9和C22是手性原子,因 為匕們與四個不同取代基(即對C9而言的η、Nl、ci〇和 C11及對C22而言的η、N3、C23和C24)相連。 —圖4顯示了與其中r4為不含手性中心的乙基橋的類似 化口物相對照,對於R4在亞胺基官能團的兩個氮原子之間 ” 3手J·生中〜的2-丙基橋的實施例3的化合物的。 用實線表示實施例3的化合物,而用虛線表示其中r4是不 16 200922911 含手性中心的乙基橋的類似化合物。TGA分析中的較大殘 留代表具有較低穩定性的化合物。因此,實施例3的化合 勿/、有大約/於3 %的殘留物,而類似化合物具有超過1 3 % 的殘邊,表明在半導體製造中的沉積中作為沉積含金屬膜 用的前驅物使用時所必需的熱穩定性顯著提高。 實施例4 (2,2-二甲基_5_(1_二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_3—己酮根合 TKO-iprh的合成 向1 g(3.52mm〇l)異丙醇鈦(1¥)在15mL己烷中的溶液 中加入 0.80 g (3.52 mmol) 2,2_二甲基_5 (1_二甲基胺基-2_ 丙基亞胺基)Γ3-己酮並將反應混合物加熱至6〇〇c 16小時。 在真空下瘵發掉所有揮發物以提供丨59 g粗製粒狀油。 !H NMR (500 MHz, C6D6): δ= 5.32 (s, 1Η), 5.10 (b, 3H), 3.20 (m, 1H), 2.40 (b, 2H), 2.40 (b, 6H), 1.64 (s, 3H), 1.39 (d, 18H), 1.36 (s,9H),1.27 (b,3H)。 實施例5 4-(1-二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_2_戊酮的合成 在室溫下向10 g (199.76 mmol)乙醯丙酮在THF中的含 有 20gNa2Sp4 的溶液中加入 24 49 g(239 7i _〇1) i-二甲 基胺基-2-丙胺。將該漿料在室溫下攪拌16小時並通過 GC/MS判斷反應完成。在真空下蒸發掉所有揮發物並通過 在60°C和⑽毫托真空下加熱2小時來去除未反應的乙酿 17 200922911 下的真空轉移加 g作為純淨產物 丙酮和二胺。通過在not:和100毫托真空 熱來純化黃色殘油。以74%產率獲得i 3.5 的淺黃色油。 4.9〇 (s, 1H) s,6H), I.54 JH NMR (500 MHz, C6D6): δ= 11.25 (s, 1Η), 3.22 (m, 1H), 2.06 (s, 3H), 1.96 (m, 2H), I.93 ( (s,3H),0.9'(d, 3H)。 實施例6 雙(4-(1 -二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_2_戊酮根合)鳃的合成 在室溫下向 1.0 g (l.81 mmol) Sr(N(SiMe3)2)2(THF)2 在 15 ml THF辛的溶液中加入0 66 g (3 62 mm〇1) 4 ^二甲美 胺基-2-丙基亞胺基)_2_戊酮。將反應混合物攪拌16小時。 在真空下蒸發所有揮發物以產生泡沫狀固體,將其溶解在 己烷中並再蒸發成0.76 g重的灰白色固體。揮發物表明, 由於存在二f基甲矽烷基二胺,已經發生反應。將粗製固 體溶解在熱己烷中並過濾以提供淺黃色溶液,其在室溫下 進行己烧的緩慢蒸發以產生透明晶體。 通過單晶分析在結構上證明無色晶體。該結構由兩個锶 原子以及四個三牙酮基亞胺鹽配位基構成,其中各個鋇原 子與四個氮原子和三個氧原子配位。 實施例7 雙(4-(1-二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_2_戊酮根合)鎳 在-78°C 下向〖.41 g (7.72 mmol) 4-(1-二曱基胺基-2-丙 18 200922911 基亞胺基)_2·相在15 ml己^的溶液中逐滴加人㈣ “ m〇1) nBU_Ll。將該溶液升溫至室溫並授拌30分 鐘。-發掉所有揮發物,產生枯稠黃色油,將其吸收在ι〇 ml™F 中。將在 l〇mlTHF 中的 G_5g(3.86mmQi)Nici2 紅由套官添加到所得溶液中。該米色啊懸浮液在大約 =分鐘後變深。將該懸浮液在5(TC下加熱48小時。在真 空下蒸發掉所有揮發物以提供U g灰色固體,將其在 1 〇〇 C和65毫托真空下加熱i周昇華。收集綠色固體並通 過在戊烷中緣慢蒸發來重結晶以產生綠色晶體。 凡素分析:對C20H38N4NiO2的計算值n 49; N, 13-18; Η,9·〇ΐ。實測值:c,56 % N,13 19; & 9 13。 X-射線單晶分析證實,其是單體,其中Ni原子在八面 體J衣境中與兩個三牙酮基亞胺鹽配位基配位。這顯示在圖 5中’其中鎳原子與四個氮原子(N1、N2、N3、N4)及兩個 一原子(01、〇2)配位。在本實施例中,= ,r2=h,
Me ’ R =R6 = Me ’並且R4是2_丙基橋,對於一個配位基 I為C3、C4,而對於另一個配位基標為C13、C14。C4和 C 14是手性原子,因為它們與四個不同取代基(即在c4情 況下的Η (圖中省略)、N2、C3和C5及在C14情況下的η (圖 中省略)、Ν4、C13和C15)相連。 圖6顯示了實施例7的化合物的熱重分析(Tga)和差示 择插量熱(DSC)圖,表明該具有手性中心的錯合物是揮發性 的並具有低殘留以及較低的熔點(〜1 0 01:);並且該錯合物 可以用作在CVD或ALD法中沉積含鎳膜的前驅物。 19 200922911 雙甲基胺基_2_丙基亞胺基)—2_戍_根合)姑 在-tc下向1.41§(7.70随〇1)4_(1_二甲基胺口基_2_丙 基亞胺基)-2-戊酮在THF中的溶液中逐滴加入3 μ (7.70〇1则1)在己烷中的2.別』1^。將所得漿料升溫至= 溫並攪拌2小時,然後經由套管添加到裝有〇 5〇呂(3 85 mm〇1)在THF中的C0Cl2的燒瓶中。反應混合物立即變成 咖啡棕色,其在5(TC下保持2天。去除所有揮發物,產生 深棕色泡沫,將其吸收在己烷中並蒸發成2·2 g深棕色固 體。 實施例9 二(異丙氧基)(4-(1-二甲基胺基-2-丙基亞胺基)_2_戊酮根合) 鈦 向1.00 g (3.52 mmol)異丙醇鈦(IV)在15 ml THF中的溶 液中加入0.65 g (3.52 mmol) 4-(1-二甲基胺基_2_丙基亞胺 基)-2-戍酮。將反應混合物在室溫下攪拌16小時,然後在 真空下蒸發THF。在後處理後,以99%產率獲得1.42 g粒 狀油。 實施例1〇 2,2-二甲基-5-(1-二乙基胺基-2-丙基亞胺基)-3-己酮的合成 向 8_54 g (60.06 mmol) 2,2-二甲基-3,5-己二 _ 在 1〇〇 20 200922911 mlTHF中的溶液中加入8.60g(6〇 〇6mm〇1)丄二乙基胺基 -2-丙胺和12 g (84.48 mmol)硫酸鈉。將反應混合物加熱至 60°C—周。去除所有固體並通過在751:和1〇()毫托真空下 加熱幾小時來蒸餾掉未反應的原材料。短程蒸餾以86%產 率提供1 3.1 6 g石灰綠色油。GC測量表明其純度>99%。 'HNMR^SOO MHz, C6D6): 5=11.51 (s, 1H), 5.20 (s, 1H), 3.24 (m, 1H), 2.24 (m, 4H), 2.15 (dd, 1H), 2.01 (dd, 1H), 1.64 (s, 3H), 1.33 (s, 9H),0.95 (d, 3H), 0.82 (t, 6H)。 實施例11 雙(2,2-二甲基_5_(1_二乙基胺基_2_丙基亞胺基)_3_ 己酮根合-N,0,Ν')錄的合成 在室溫下向1.00 g (4.86 mmol)異丙醇鳃在15 ml THF 中的懸浮液中加入在15 ml THF中的2.60 g (10.20 mm〇1) 配位基P。懸浮液在10分鐘攪拌後變成溶液狀。在室溫下 攪拌16小時後,將該黃綠色固體置於真空下並蒸發掉thf 以產生油。將該油以溶液形式吸收在己烷中並再蒸發產生 3 _03 g重的油。在輕微加熱後,固體開始從油中出來。加 熱到己烧中並通過注射過濾器過濾。收集1 ·2〇 g透明晶體 以得到42%產率。
元素分析:對 Sr(Me3CCOCHCNMeCHCH2NEt2)2 的計算 值:C, 60.62; Ν,9·42; H, 9.83。實測值:C,60.26; N, 9.47; H 9.28。 b NMM500 MHz,C6D6): δ= 5.14 (S, 1H), 3.61 (m,1H), 21 200922911 * 3.26 (t, 1H), 2.52 (m, 2H), 2.39 (b, 2H), 2.23 (dd, 1H), 1.87 (s,3H),1.41 (s,9H),1.02 (d, 3H),0.76 (b, 6H)。 通過單晶分析在結構上證明無色晶體。該結構表明,锶 原子在變形八面體環境中與兩個2,2_二乙基_5_(1_二乙基 胺基-2-丙基亞胺基)-3 -己酮根合配位基配位。這顯示在圖7 中,其中勰原子與四個氮原子(N1、N2、N3、N4)及兩個氧 原子(ΟΙ、02)配位。在本實施例中,Ri=But,r2=h,, R5=R6 = Et’並且R4是2-丙基橋,對於一個配位基標為ei、 C2,而對於另一個配位基標為^丨6、c 1 7。C2和C 1 7是手 性原子,因為它們與四個不同取代基(即在C2情況下的h (圖中省略)、N2、Cl和CIO及在C17情況下的H(圖中省 略)、N4、C16 和 C25)相連。 實施例1 2 2,2-二甲基_5_(1_甲基乙基胺基_2_丙基亞胺基)_3_己酮的合 成 向 6.00 g (42.19 mm〇i) 2,2-二甲基_3,5_己二輞在 75 ml thf中的溶叙中加入5 88 g (5〇 63 mm〇l) i曱基乙基胺基 2_丙胺,然後是1 0.00 g硫酸鈉。將反應混合物加熱至72°c 48小時。GC表明反應完成。在真空下蒸發THF。在75ε 牙1 5 〇毫托真空下加熱1小時以蒸發掉未反應二胺。殘留 物通過在120。〇和1〇〇毫托真空下的真空轉移加熱來純 化。分離出9_2 1 g重的石灰綠色油。GC表明是純淨化合物。 91°/。產率。 22 200922911 4 NMR (500 MHz,C6D6): δ= 11.51 (s,1H), 5.20 (s,1H) 3.26 (m,1H),2.10 (m, 2H), 2.04 (dd,1H),1.97 (dd,1H), 1_95 (s,3H),’1.62 (s,3H), 1.32 (s, 9H),0.95 (d,3H), 0.84 (t, 3H)。 實施例13 雙(2,2-二甲基-5-(1-曱基乙基胺基-2-丙基亞胺基)_3_己_ 根合-Ν,Ο,Ν1)鰓的合成 向1.00 g (4.86 mmol)異丙醇Sr在45 ml THF中的溶液 中加入在5 ml THF中的2.45 g (10_20 mmol)配位基q。在 大約20分鐘後,懸浮液變成溶液。在室溫下攪拌1 6小時, 此後THF在真空下蒸發成2·87 g重的黃色油。在i4〇°C和 1 〇〇毫托真空下對粗油施以真空轉移加熱2小時以去除任 何游離配位基。將冰狀殘留物吸收在己燒中並通過將其在 -4 0 °c下弄碎來回收固體。將固體通過加熱到十二院中來重 結晶並產生1.1 0 g無色晶體,40%產率。 *H NMR (500 MHz, C6D6): δ= 5.14 (s, 1Η), 3.51 (m, 1H), 3.31 (b, 1H), 2.49 (b, 1H), 2.15 (b, 1H), 1.85 (s, 3H), 1.79 (b, 1H), 1.41 (s, 9H),1.30 (s,3H), 0.98 (d, 3H), 0.80 (b, 3H)。 通過單晶分析在結構上證明無色晶體。該結構表明,锶 原子在變形乂面體環境中與兩個2,2-二甲基-5-(1-甲基乙 基胺基-2-丙基亞胺基)-己酮根合配位基配位。這顯示在圖8 中,其中锶原子與四個氮原子(Nl、N2、N3、N4)及兩個氧 原子(CM、02)配位。在本實施例中,Ri=But,rLh,R3=Me, 23 200922911 R5=R6=Et,並且R4是2-丙基橋,對於一個配位基標為C5、 C6,而對於另一個配位基標為C19、C20。C5和C19是手 性原子,因為它們與四個不同取代基(即對於C5的H (圖中 省略)、Nl、C6和C11及對於C19的Η (圖中省略)、N3、 C20和C25)相連。 圖9顯杀了實施例1 3的化合物的熱重分析(TGA)和差 示掃描量熱(DSC)圖。該新穎Sr錯合物具有手性中心和在 胺基官能團上的不對稱取代基。TGA分析中的較大殘留代 表具有較低穩定性的化合物。因此,實施例13的化合物具 有大約少於5 %的殘留物, 為沉積 提 ° 表明在半導體製造中的沉積中作 含金屬膜用的前驅物使用時所必需的熱穩定性顯著 DSC表明在迄今為止合成的三牙p,基亞胺鹽認錯 合物中,肖化合物*有最低的熔點(〜133。。)。提高的熱穩 定性和最低的熔點很可能是源於手性中心以及胺基官能團 上的不對稱叙代基。 二(4-(1-二甲基胺基-2_丙基亞 应妝基)_2-戊酮根合)鑭的合成 〜向0.52 g (1.64 _〇1)異丙醇鑭(111)在15…中的 溶液中加入在5 ml THF中的〇 J g (4·93 mmol) 4-(1-二曱 私基-2-丙基亞胺基)_2_丙明。將所尸、汝* λ > ^ J时所侍淺黃色溶液在室溫 "j $在真二下去除所有揮發物,以88%產率產 生大約1.00 g黃色固體。 24 200922911 實施例1 5 三(2,2_二甲基-5-(1-二甲基胺基-2-丙基亞胺基)-3-己酮根 合)鑭的合成 向 0.52 g (ι·64 111111〇1)異丙醇鑭(III)在 15 ml THF 中的 溶液中加入在5 mi THF中的1.12 g (4.93 mmol)2,2-二甲基 -5-(1-二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_3_己酮。將所得淺黃色溶 液在室溫下攪拌3天。在真空下去除所有揮發物,以.90% 產率產生大約l.2〇g黃色固體。 實施例1 6 三(2,2-二甲基_5_(1_二曱基胺基_2•丙基亞胺基)_3_己酮根 合)紀的合成 向1.00 g (3.76 mmol)異丙醇γ在20 ml THF中的混濁 懸浮液中加入在5mlTHF中的2.55g(U 27mm()1)2,2_: 曱基5 (1 一曱基胺基_2-丙基亞胺基)_3 _己酮。將所得混濁 的黃色溶液迴流3小時。在真空下去除所有揮發物,以87% 產率產生大約2.50 g黃色固體。 i 用於化學氣相沉積和原子層沉籍沾今sr_ w π τ 了、丁嘈/儿槓的刖驅物的關鍵要求 之一在於前驅物在輸送溫度,通常4〇至15〇t:T必須穩 定。熱重分析(TGA)已廣泛用判選化合物的u = 乾燥箱内在開放鋁坩鍋中以1 〇至20 媒σ θ g像°°置進行。升溫 速率通常為l〇°C/min。隨著溫度升高 化U物開始發生氣
化或分解或兩者。純氣化幾乎不造成殘留物,而氣化+ L 解產生-定的殘㈣。-般而言,TGA : +刀 圓甲孕又少的殘留物 25 200922911 表明’該化合物更熱穩定,因此更適合作為製造薄膜的前 驅物。如圖2和4中所示,本發明中所示的化合物具有比 其現有技術的類似物低得多的殘留物,表明它們更加熱穩 定並將用作更好的前驅物。 引入手性中心是提高熱穩定性以及降低所得金屬化合 物熔點的一種方式。一個分子如果不能重疊在其鏡像上, 則該分子是手性的,這種分子的兩個鏡像被稱作對映體。 如果碳原子具有四個連接到其上的不同取代基,則其是手 性的。對於實施例2和3中的化合物,存在兩個手性碳原 子,思味著存在三種盤繞(scramble around)的對映體以固態 共存,削弱$子間相互作用,由此提高化合物的揮發性。 例如,如圖10所示,雙(2,2_二甲基_5_(二甲基胺基乙基_ 亞胺基)-3-己酮根合—ν,ο,ν,)锶的揮發性低於雙(2,2-二甲 基5 (1- 一甲基胺基_2_丙基亞胺基)_3_己酮根合 錯’儘官雙(2,2-二甲基·5_(1_:曱基胺基丄丙基亞胺基)_3_ 己酮根σ -Ν,〇,Ν’)勰較大並且因此可能被預期揮發性低於 雙(2,2_二甲基_5_(二甲基胺基乙基-亞胺基)-3-己酮根合 -Ν,0,Ν')鰓。 圖式簡單說明 1 圖1是雙(2,2-二甲基_5_(1_二曱基_5_(1_二甲基胺基_2_ 丙基亞胺基)_3_己酮根合_N,〇,N,)锶的晶體結構的示意圖。 圖2疋雙(2,2_二甲基^-(丨-二曱基胺基丙基亞胺 基)-3-己酮根合_队〇3,)鳃(實線)與雙(2,2_二甲基_5_(二甲 26 200922911 基胺基乙基-变胺基)_3_己酮根合-N,0,N')銷(虛線)的熱重 分析(TGA)圖,表明該具有手性中心的新穎Sr錯合物(實線) 比在兩個氮原子之間不含手性中心者(虛線)穩定得多,因 此幾乎未留下殘留物。 圖3是雙(2,2_二甲基巧-(卜二甲基胺基-2-丙基亞胺 基)-3-己酮根合-N,〇,N')鎳的晶體結構的示意圖。 圖4是雙(2,2 - —甲基- 5-(1-二甲基胺基-2 -丙基亞胺 基)-3-己酮根合-N,〇,N')鎳(實線)與雙(2,2-二甲基_5-(二甲 基胺基乙基-亞胺基)-3-己酮根合-N,〇,N,)鎳(虛線)的熱重 分析(TGA)圖,表明該具有手性中心的新穎Ni錯合物(實線) 比在兩個氮原子之間不含手性中心者(虛線)穩定得多,因 此留下少於3 %的殘留物。 圖5是雙(4-(1-二甲基胺基-2-丙基亞胺基)_2_戊酮根合) 錄的晶體結構的示意圖。 i 圖6是雙(4-(1-二甲基胺基_2_丙基亞胺基)_2_戍嗣根合) 鎳的熱重分析(TGA)和差示掃描量熱(DSC)圖,表明該具有 手性中心的新穎Ni錯合物是揮發性的並具有低殘留:及 較低的溶點(〜1 〇 〇 °C )。 圖7是雙(2,2-二甲基二乙基胺基_2_丙基亞胺 基)-3-己酮根合_N,〇,N,)锶的晶體結構的示意圖。 圖8是雙(2,2_二曱基_5-(1_甲基乙基胺基I两基亞胺 基)-3-己酮根合_队〇,^)锶的晶體結構的示意圖。 圖9是,(2,2_二甲基_5_(1_曱基乙基胺基_2_丙基亞胺 基)-3-己酮根合_N,〇,NI)锶的熱重分析(TGA)和差示掃描量 27 200922911 熱(DSC)圖’表明該具有手性中心和在胺基官能團上的不對 稱取代基的新穎Sr錯合物具有少於5%的殘留物以及較低 的熔點(〜13 3 °C )。 圖10是雙(2,2_二曱基二甲基胺基_2_丙基亞胺 基)3己酮根合-Ν,Ο,Ν,)锶(實線)與雙(2,2_二甲基_5_(二曱 基胺基乙基-亞胺基)-3_己酮根合-ν,ο,ν,)鳃(虛線)的蒸汽 壓比較’表明該具有手性中心的新穎心錯合物 (22二甲/間不έ手性中心者(虛線)更易揮發,儘管雙 ,基、5_(二甲基胺基乙基·亞胺基)_3_已 部3,)銷的分子量比雙(2,2_二甲基_5仆二闲根口 丙基亞胺基)_3_已陳合部,N,成的小。4基-2_ 28
Claims (1)
- 200922911 七、 1 申請專利範圍: 種申選自下列結構的結構所㈣含金眉錯合物 結構A R5 r6其中 有1 基團 基; 基;I 基橋 和含 數; Μ是具有2至5的化合價的金屬基團,其中Rl選自具 至10個碳原子的烷基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族 和芳基;R2選自氫、烷基、烷氧基、脂環族基團和芳 R選自貌基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族基團和芳 '是具有至少一個手性碳原子的C3-1G支鏈烷基或亞烷 ’汉獨立地選自燒基、氟炫基、脂環族基團、芳基 有氣或氬原子的雜環;n是等於金屬]VI的化合價的整 和 29 200922911 結構B R5八中M疋選自第4和5族金屬的金屬離子;其中…選自具 有1至10個碳原子的烷基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族 基團和芳基,R2選自氫、烷基、烷氧基、脂環族基團和芳 土,逛自烷基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族基團和芳 基’ R疋具有至少—個手性碳原子的支鏈烷基或亞烷 基橋’ R _立地選自燒基、敦烧基、月旨環族基團、芳基 或3有氧或氮原子的雜環;R7選自烷基、氟烷基、脂環族 基團和芳某 ’亚且其中m和η是至少1且m+n的總和等於 金屬Μ的化合價。 2·如申請專利範圍第1項的含金屬錯合物,其由結構 斤示纟_ Μ選自鈣、锶、鋇、銃、釔、鑭、鈦、鍅、 飢鶴、猛、姑、鐵、鎳、釕、鋅、銅、le、翻、銀、銖 和餓。 3_如申請專利範圍第2項的含金屬錯合物,其中Rl 30 200922911 * 選自第三丁基和第三戊基,R2選自氫、甲基和乙基,R3選 自甲基和乙基,R4是含手性中心的C3烷基或亞烷基橋,並 且R5和R6獨立地選自甲基和乙基。 4. 如申請專利範圍第3項的含金屬錯合物,其中Μ是 锶,R1是第三丁基,R2是氫,R3是甲基,R4是2-丙基, 並且R5和R6是乙基。 i 5. 如申請專利範圍第3項的含金屬錯合物,其中Μ是 锶,R1是第三丁基,R2是氫,R3是曱基,R4是2-丙基, R5是曱基,和R6是乙基。 6. 如申請專利範圍第3項的含金屬錯合物,其中Μ是 鈷,R1是曱基,R2是氫,R3是甲基,R4是2-丙基,並且 R5和R6是曱基。 7. 如申請專利範圍第3項的含金屬錯合物,其中Μ是 鎳,R1是甲基,R2是氫,R3是曱基,R4是2-丙基,並且 R5和R6是曱基。 8. 如申請專利範圍第1項的含金屬錯合物,其由結構 Β所示,其中Μ選自鈦、錯、給、飢、銳和组。 9. 如申請專利範圍第8項的含金屬錯合物,其中R1 31 200922911 選自Cm烷基,R2選自氫、曱基和乙基,R3選自甲基和乙 基,R4是含至少一個手性中心的C3_4烷基或亞烷基橋,R5 和R6獨立地選自曱基和乙基,並且R7選自曱基、乙基、 丙基、異丙基、正丁基、第二丁基和第三丁基。 I 〇.如申請專利範圍第8項的含金屬錯合物,其中Μ 是Ti,R1是甲基,R2是氳,R3是曱基,R4是含一個手性 中心的C3烷基或亞烷基橋,並且R5和R6是曱基。 II ·如申請專利範圍第8項的含金屬錯合物,其中Μ 是Hf,R1是曱基,R2是氳,R3是曱基,R4是含一個手性 中心的C3烷基或亞烷基橋,並且R5和R6是曱基。 12.如申請專利範圍第8項的含金屬錯合物,其中Μ 是Zr,R1是甲基,R2是氫,R3是甲基,R4是含一個手性 中心的C3烷基或亞烷基橋,並且R5和R6是甲基。 1 3 ·如申請專利範圍第8項的含金屬錯合物,其中Μ 是Ti,R1是第三丁基,R2是氫,R3是曱基,R4是C3烷基 或亞烷基橋*,並且R5和R6是曱基。 14.如申請專利範圍第8項的含金屬錯合物,其中Μ 是Hf,R1是第三丁基,R2是氫,R3是甲基,R4是含一個 手性中心的C3烷基或亞烷基橋,並且R5和R6是曱基。 32 200922911 15·如申請專利範圍第8項的含金屬錯合物,其中M 疋Zr’ R疋第二丁基,r2是氫,r3是甲基,r4是含一個 手性中心的C3烧基或亞烧基橋,並且R5和r6是甲基。 i 16.如申請專利範圍第1項的含金屬錯合物,其溶解在 選自下列的溶劑中:具有i至20個乙氧基_((:2114〇)_重複單 元的甘醇二甲醚溶劑;鏈烷醇,選自包含C「C6烷基 部分的二烷基醚、c4_c8環醚的有機醚;Ci2_Cw冠 越其中子首Ci範圍為醚化合物中的碳原子數i且字尾 範圍為醚化合物中的氧原子數i; CpCu脂族烴;c6_Ci8芳 烴;有機酯;有機胺;及聚胺和有機醯胺。 17·如申;請專利範圍第16項的含金屬錯合物,其中溶 劑是選自N-曱基吡咯烷酮、N_乙基_2_吡咯烷酮、N—環 己基各烧酮u二乙基乙酿胺和#具二乙基甲酸胺 的有機醯胺。 、、 種在基材上形成共形金屬氧化物薄膜的氣相 去,其中將前驅物源和含氧試劑弓^入沉積室並在某材 積金屬氧化物薄膜,其中所述前驅物源是由選^列 的結構所示的含金屬的錯合物 33 200922911 結構A R5 〇6其中M是具有2至5的化合價的金屬基團,其中R1選自具 有1至1 0個碳原子的烷基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族 基團和芳基;R2選自氳、烷基、烷氧基、脂環族基團和芳 基;R3選自烷基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族基團和芳 基;R4是具有至少一個手性碳原子的C3_1()支鏈烷基或亞烷 基橋;R5_6獨立地選自烷基、氟烷基、脂環族基團、芳基 和含有氧或氮原子的雜環;η是等於金屬Μ的化合價的整 數;和 # 34 200922911 結構B/、中Μ疋選自弟4和5族金屬的金屬離子;其中r丨選自呈 有1至10個碳原子的烧基、院氧基烧基、氟&基、脂環族 基團和3芳基)r2選自氫、烷基、烷氧基、脂環族基團和芳 基^選自燒基、烧氧基烧基、i烧基、脂環族基團和芳 基’R是具有至少—個手性礙原子的c3.1G支鏈烧基或亞烧 二:R獨立地選自烷基、氟烷基、脂環族基團、芳基 或含有氧或11原子的雜環;R7選自烧基、氟縣、脂環族 基團和芳基;並且其 入m 丹是至少1且m+n的總和等於 金屬Μ的化合價。 相沉積法選圍第18項的氣相沉積法,其中該氣 原子層^錯 予乳相沉積、電漿增強的化學氣相沉積、 々于^積和電漿增 * 97原子層沉積。 20·如申請專利範 氧試劑選ό , 罘18項的氣相沉積法’其中的含 、目水、〇2、Η 〇 . 2 2'六、氧、〇2電漿、η2ο電漿及其 35 200922911 混合物。 21. —種在基材上形成共形金屬薄膜的氣相沉積法,其 中將前驅物源#還原劑引入沉積$並在基材JL沉積金屬 膜,其中所i前驅物源是由選自下列結構的結構所示的含 金屬的錯合物: R5 結構A R6 Nη 、R1 ’、中Μ疋具有2至5的化合價的金屬基團,其中Rl選自具 有1至10個碳原子的烷基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族 :團和二基;R2選自氫、烷基、烷氧基、脂環族基團和芳 基’ R3選自烧基、烧氧基烧基、氟烧基、脂環族基團和芳 基·,R 是^且右姿j、 5 夕個手性碳原子的C 3_ 10支鏈院基或亞院 土: ’ R、獨立地選自烷基、氟烷基、脂環族基團、芳基 和3有乳或氮原子的雜環;η是等於金屬Μ的化合價的整 數;和 ’ 36 200922911 結構BRi 其中M疋選自兹 弟4和5族金屬的金屬離子;其中R1選* 有1至1 0個;5山s ^ 反,、子的烷基、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族 基團和芳基;R2i ' 込自氫、烷基、烷氧基、脂環族基團和芳 基;R3選自泸 万 70 土、烷氧基烷基、氟烷基、脂環族基團 基;R4是具右5 ,丨、 方 .:'6 ^、—個手性碳原子的C3-1Q支鏈烷基或亞烷 α、 、獨立地選自院基、氟炫基、脂環族基團、芳基 或含有氧或氮原子的雜環;R7選自院m基、脂環i 基團和芳基:並且其中⑽n是至少Um+n的總和等於 金屬Μ的化合價。 22.如申4專利範圍第2丨項的氣相沉積法,其中的還 原劑選自H單烧基肼、二炫基肼、氨及其混合物。 23 _ —種在基材上形成共形金屬氧化物薄膜的氣相沉 積法’其中將前驅物源的溶液和含氧試劑引人沉積室並在 基材上沉積金屬氧化物膜’其中該方法包括使用由溶解在 37 200922911 溶劑中的申請專利範圍第1 8 & * 貝所述的含金屬錯合物構成 的溶液,所述溶劑選自具有】$ 1 20個乙氧基-(C2H40)-重複 單元的甘醇二甲醚溶劑;r r 鏈烷醇,選自包含Cl_C6 烷基部分的二烷基醚、Lr 8 %鍵的有機醚;C12-c60冠 〇4-〇20醚,其中字首C.誌 1圍為_化合物中的碳原子數i且 字尾〇i範圍為醚化合物中的_ 物τ的乳原子數i; C6_Ci2脂族烴; C6_C18芳煙;有機醋;有機胺;及聚胺和有機醯胺。 24·——種在基材上形成共形金屬薄膜的氣相沉積法, 其中將前驅物源的溶液和還原㈣人沉積室並在基材上沉 積:屬臈’其中該方法包括使用由溶解在溶劑中的申請專 利犯圍第21項所述的含合屬扭人&讲, ’’屬錯5物構成的溶液,所述溶劑 選自具有1至20個乙氧基_(c η⑴ ^ (U2H4〇)-重稷單兀的甘醇二甲醚 溶劑;CVC!2鏈烷醇,選自包含 <曰匕3 q-C6烷基部分的二烷基 鱗、匚4-(^8環謎的有機醚;匕Γ ^ 巧饵,L12_C60訄〇4-〇20醚,其中字首 C i範圍為醚化合物中的碳 τ j厌屌于數1且子尾〇i鲍圍為醚化合 物中的氧原子數i ; C6-C12脂族炉· Γ Γ —卜 6 12 Λ缺L,C6-C18方烴;有機酯; 有機胺;及聚胺和有機醯胺。 38
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