TW200813174A - A paint composition - Google Patents
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Description
200813174 九、發明說明·· 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於塗料組合物,尤其係關於水性塗料組合 物。 、口 【先前技術】 塗料組合物可用於塗佈各種表面,並且用於多種使用目 的,例如保護及/或裝飾。結果,表面上覆蓋有乾燥層, 該乾燥層稱為塗料層,但更準確的名稱應為塗佈層。塗料 組合物廣義上可視為包含三種成份··黏合劑、溶劑:顏 料。一般而言,黏合劑為成膜組份,其與溶劑-起形成媒 將顏料遞送至所選基材。業内普遍認為,塗料中黏合 劑之選擇如同許多其他塗佈組合物一樣可決定塗料組合: 之許多性質。 裝飾性塗料可係基於溶劑或基於水;在後一種情況下, 使用基於水之矽烷及矽乳液來保護諸如混凝土或牆體等戶 外表面免受雨水及大氣損害的破壞。用於該等目的之塗料 包括長效防水塗料、耐髒塗料、抗塗抹塗料及諸如此類。 抗蝕塗料用於多種應用中來保護基材免受腐蝕。此一塗 料亦稱為工廠底料。工廠底料或預製底料通常以薄的保護 性塗佈層形式施加至基材。舉例而言,用於重鋼建築工業 (例如造船工業)之熱軋鋼通常使用自動程序在線鼓風,並 且立即塗佈以工廠底料薄層。 有效的工廠底料應具有以下品質: 具有適且之存架辱命及適用壽命; 121965.doc 200813174 -容易喷灑,尤其在薄層中; -在喷灑程序末經物理乾燥以加以處理; -向基材提供較佳抗腐飯保護; -提供較佳機械阻力; -不干擾基材可能經受之銲接及切割作業· 得住歸可能經受之銲接及㈣作用之熱及及 -=接作業期間不會帶來健康危害,例如釋放有害趋 -可與可能施加於盆 塗性”。 u之其他塗層相容’稱為,,可4 類業内白知黏合劑為矽酸鹽型黏合劑。舉 EP-A-3463 85揭示一錄勺人话 5 種G 3基於矽酸鹽之黏合劑 …而要使用揮發性溶劑。通常,自環境角度來 看’應避免於塗料組合物中使用揮發性溶劑。 ερ-α-ιι9Η)75^_#μ — μ& 組合物,該黏合南丨白八s , 1工廢底枓 “占“包含至少-①-胺基烷基三烷氧基矽烷、 至少一強酸及至少一呈古一 产葡其園/、有二烷乳基或烷基二烷氧基矽烷及 衣氧基團作為端基之I入4 八/ 口物之反應產物。此黏合劑用於一 腐蝕劑。 …中’該弟二組份包含微細鋅作為抗 、儘管使用該等習知黏合劑使得該組合物能基於水,從而 避免使用揮發性溶劑’ <旦已發現此等底料長期性能差並且 於該工廠底料上I、冷,、,^ 再塗以適於浸潰服務之塗料系統並浸入水 中後易於起泡。此係嚴重困擾造船工業之問題。 121965.doc 200813174 本發明實施例之目的之一係解決上述問題並提供一種塗 料組合物,該塗料組合物含有少量或不含揮發性溶劑並使 當再塗覆並浸入水中時起泡之發生最小化。 【發明内容】 根據本發明的一第一態樣,提供一種兩組份塗料組合 物,其於混合後於水溶液中包含以下組份: a)來自第一組份之組份:
/立水性黏合劑,該水性黏合劑包含寡聚或聚合化合物, 该养聚或聚合化合物係自以下形成:至少一通之 體:
si(〇R1)4 I 炔基、芳烷 、方烧基或 其=各R1係獨立選自氫或任一烷基、烯基、 基、芳基或-(〇0)R4基團,且 各尺4係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基 六负逋式II之單體: (R2)4.mSi(OR3)m π 基或獨立選自氫或任—絲、稀基、块基、突
,=其:至少…R2基團包含基團-RXQR 係選自5十,、中R係任何C】iCl〇雙價有機橋接基團
羊或硫基並且Rz包含H、烷基、烯基、 A 基或芳基,* 土狹暴、2 之定義。.各RW係經獨立選擇並且係如上文針豐 基其二:二係獨立選自灸或任一烧基、缚基、块基、彡 土或-(C = 〇)R5基團,其中R5係如上文針對 121965.doc 200813174 義, 並且m=l至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化矽; b)來自第二組份之組份 i)至少一反應性填充材料。 較佳地,該塗料組合物制纽塗料組合物,更 言係耐腐蝕底料塗料組合物。較佳地,該塗料組; 性塗料組合物。 #
較佳地,該塗料組合物係裝飾,佳塗料組合物。更佳地 該塗料組合物係保護性塗料組合物。或者,該塗料:: 係抗水性浸潰劑組合物,較仙於織物或牆壁應用。D 有利的是’根據該第-態樣之塗料組合物敎、可 水並且不需要存在極性有機溶劑便可達成足夠高之:二 性。 心疋 較佳地’該塗料包含20%以下(以總塗料之重量言"之有 機溶劑,更佳地為1〇%以下並且最佳地為5%以下。 適宜反應性填充劑之實例包括但不限於以下中的一或多 種:氧化鐵(包括雲母質氧化鐵);天然及沈澱硫酸鋇、重 晶石、鋇白;石夕酸銘、高嶺土、高嶺石、竟土;石夕酸鎮及 水合矽酸鎂、雲母、滑石粉、綠泥石、透閃石;二氧化 石夕、經表面處理之二氧化石夕、非晶形石英、結晶石英、發 .煙-氧化矽;氧化鋁及氫氧化鋁'礬土、煆燒礬土;碳酸 鈣鎂白雲石,天然及沈澱碳酸鈣;矽酸鋁、長石丨霞石 正長石’矽酸鈣、矽灰石;氧化鋅;磷酸鋅;石墨、釩酸 121965.doc -10- 200813174 鉍,鉻酸鉛;碳化矽;沸石;葉臘石;玻璃碎片;磷化 鐵,磷化鎳;空心球體;及鋁。亦可使用天然纖維及其他 種類之硫酸鹽、碳酸鹽、矽酸鹽、氧化物及釩酸鹽。 較t地,该反應性填充劑係驗性填充劑。舉例而言,該 反應性填充劑依照ISO 787/9或ASTM D821方法具有大於7 之pH 〇 較佳地,該反應性填充劑應能在介於〇_4〇〇c之間、更佳 1 0-25 C之間之溫度下與任何包含於該第一組份中之材料 在酸鹼反應或氧化還原反應中自發反應。 較佳地,該第一組份包含水。較佳地,該第一組份依照 ISO 787/9或ASTM D821方法具有小於7之阳。因此,該寡 聚或聚合化合物較佳係基於水之酸性化合物。 較佳地,該第一組份包含約10%以下之有機溶劑,更佳 約5%以下之有機溶劑,更佳3%以下之有機溶劑並且最佳 約1 %以下之有機溶劑。 較佳地,該反應填充劑包含任何含有鹼離子(例如鈣、 納、鎭、鉀、I孟或鐵)。 適宜反應性填充劑之另外實例包括但不限於以下中的— 或多種:碳酸鈣'透閃石質滑石粉、滑石S、矽灰石、重 晶石、矽藻土、長S、葉臘石、霞石正長岩、白雲石、方 英石、白雲母、金雲母、明礬石、膨澗土、碳酸岩、黏 土、剛玉'氰石、漂白土、石膏、雲母、橄欖石、珍珠 岩、石英、矽砂、蛭石、沸石、氧化鋅及氧化鋁。 較佳地,該至少-反應性填充劑於該塗料組合物中之含 12l965.doc -11 · 200813174 量係介於1%至99%之間(以重量計),更佳係介於5%至6〇% 之間。 車乂 ‘地,该券聚或聚合化合物係自至少兩個通式II之單 體形成。 較佳地,該聚合或寡聚物質係自至少一通式π之單體及 至少一膠質二氧化矽形成。
於一較佳實施例中,該募聚或聚合化合物係自以下物質 形成:至少一通式I之單體: ' 其中各R1係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 基、芳基或-(〇〇)R4基團,且 一各R係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷基或 芳基, 及視情況至少一膠質二氧化矽; 及至少一具有通式Π之單體:
II ^ j4.mSi(〇RJ)m 其:各R2係獨立選自氣或任一烧基、烯基、炔基、芳燒 土 芳基並且其中至少一 _R2基團包含基團_RXqrZ或 -R N(RW),,盆由 一
,' /、係任何Cl至Cl〇雙價有機橋接基團,Q 係選自氧或硫基並且RZ包含Η、院基、稀基、炔基、芳产 基或芳基,並且久在 70 谷R係經獨立選擇並且係如上文RZ之定 義。 ^ 芳烷 其中各R3係獨立選自氫 基、芳基或-(〇0)R5基團 或任一烷基、烯基、炔基、 ’其中R5係如上文R4之定義 121965.doc -12- 200813174 並且111== 1至3。 因此,根據本發明一第二態樣,提供一種包含水性黏入 劑之塗料組合物,該水性黏合劑包含一寡聚或聚合化八 物’遠养聚或聚合化合物係自以下物質形成:至 一 I之单體:
Si(OR〗)4 I 其中各R1係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳浐 基、芳基或-(〇〇)R4基團,及 。R係獨立選自氫或任一烧基、稀基、炔基、芳烧義 芳基, ° 及視情況至少一膠質二氧化矽; 及至少一具有通式II之單體:
(R2)4-mSi(OR3)m II 其中各係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 基或芳基,並且其中至少一 基團包含基團_RXQRZ或
R N(R )2 ’其中R係任何Cl至雙價有機橋接基團,Q 係選自氧或硫基並且Rz包含H、烷基、烯基、炔基、芳烷 基或芳基,並且各Rw係經獨立選擇並且係如上文”之^ 義; & 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 基、芳基或-(C = 〇)R5基團,其中R5係如上文反4之定義, 並且m=l至3 ;及 該塗料組合物另外包含至少一反應性填充材料。 較佳地,該至少一通式;[之單體:該至少一通式n之單體 121965.doc -13 - 200813174 之比率(以重量計)係、在199:99」之間。更佳地,該至少一 通式1之單體:該至少—通式II之單體之比率(以f量計)係 在 5 1-99:49-1之間。 較佳地,單體1:11之比率(以重量計)係在51_95:49_5之 間。較佳地’單體⑸之比率(以重量計)係在51_85:体15之 .間。較隹地,| _ γ.Τϊ > 1^ ^ 早體Ι.Π之比率(以重量計)係在5 1車乂 U ’單體1:11之比率(以重量計)係在5 1-66:49·34之
間。較佳地,單體1:11之比率(以重量計)係在55_65:45_35之 間。最佳地,單體1:11之比率(以重量計)係約60:40。 於t合過程期間’通式!之單體(若存在)、膠質二氧化石夕 (若存在)與通式Π之單體聚合,即烴氧基或乙醯氧基石夕燒 水解,所形成之㈣醇凝結,釋放出燒醇。可自反應混合 物分離(通常蒸館)出烧醇,留下通常具有[_〇_仏〇_叫主 鏈之寡聚或聚合產物。因此,應根㈣及…之化學性質以 及空間排列性質等因素將RjR3選擇成為可使此聚合能以 有利速率進行之任何適宜部分。術語化學性質不僅指以_ 〇msi-〇.受水解並且因此聚合並釋放烧醇之潛力,
而且亦應考慮到反應系統中存在之其他化學物質,及V 基團應選擇成於反隸件下殘先與料其他基圓反應, 從而避免聚合。 "
毕父佳地,選擇R ’、 雕去基團。W ¥#較佳 離去基圓意指,Ri〇基團在已與其所結合之紗原子分㈣ 仍具有較高能量穩定性。 ^ 較佳地,選擇R3 ’以便R3〇係較佳離去基團。術語較佳 I21965.doc 14 200813174 離去基團意指,R3〇基團在已金i /、異所結合之矽原子分離時 仍具有較高能量穩定性。 PKa小於或等於! 6、更佳小 尺仏彳、於或專於!5、最佳小於或等 於14(於298 K處於HA中量測八、 j )之刀子可視作較佳離去基 團0 較佳地,Rx係獨立選自任一 呷烷基、伸烯基、伸炔基、 方燒基或伸芳基或其任—組合。較佳地,rX係任一^至
c6雙價有機祕㈣。較佳地,RX係選 或伸丁基。 f ^ 較佳地,Q係氧基。 較佳地,Rz包含Η、惊| ^ ^ 、 烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳 其’視情況經一或多個氣劣* 乳$ ^原子取代。較佳地,Rz包含 至少一環氧官能基。較佳地,z 权1土地,R包含至少一羰基官能基。 較佳地,每一 rW係獨 询立、自H、烷基、烯基、炔基、芳 烷基或芳基。較佳地,每一 w勺人一 1 匕S — Η基’因此較佳地, 基團-N(RW)2可係胺基。# 季乂佺地,至少一 R2基團包含末端 NH2基團。 ^ m也’至少~R2基圓包含末端環氧基團。較佳地,至 少-R2基團包含末端丙烯酸根基團。 除非另有說明,否則士 — ^扣 、本文所用術語”烧基(alk或alkyl)"係 指係直鏈、具支鏈、# 衣狀或夕ϊ哀部分或其組合之餘和烴基 並且含有1至2〇個碳历工仏仏 九原子’較佳1至i 〇個碳原子,更佳1至8 個碳原子,仍夢社*! 仏1至6個碳原子,甚至更佳1至4個碳原 子。该等基團可;^ ^主、 視h況經以下基團取代··氯、溴、碘、氰 121965.doc 200813174 基、石肖基、OR”、〇C(〇)r2〇、c(〇)r21、c(〇)〇r22、 NR R . C(〇)NR25R26 > SR27- C(0)SR27 ' C(S)NR25R26 > 方基或Het’其中至r27各自獨立表示氫、芳基或烷基, 及/或由或多個氧或硫原子或由石夕烧基或二烧基石夕氧燒 基中斷。此等基團之實例可係獨立選自甲基、乙基、正丙 基、異丙基、正丁基、異丁基、第二丁基、第三丁基、2_ 曱基丁基、戊基、異戊基、己基、環己基、3_甲基戊基、 辛基及諸如此類。本文所用術語,,伸烷基"係指如上所定義 雙價烧基基團。i基例如由偶表,之甲基在表示為伸院 基時,變成亞甲基-CH2—。其他伸烷基應如此理解。 本文所用術語”浠基"係指具有一或數個、較佳至多4.個 雙鍵之煙基’其係直鏈、具支鏈、環狀或多環部分或其組 合並含有2至18個碳原子,較佳2至1〇個碳原子,更佳^至8 個奴原子,仍更佳2至6個碳原子,甚至更佳2至4個碳原 子。該等基團可視情況經以下基團取 -〇R- 〇C(0)R^ C(〇)^ C⑼OR22、NW、c(〇)nr25r26、sr27、c(〇)sR27、 c⑻nr25r26、芳基或Het ’其中Rl9至r27各自獨立表示 氫:芳基或烷基’及/或由一或多個氧或硫原子或由矽烷 基或二烧基梦氧燒基中斷。此等基團之實例可係獨立選自 包括下列之烯基:乙烯基、烯丙基、4丙烯基、戊烯基、 己稀基、庚稀基、環丙稀基、環丁婦基、環戍稀基、二己 烯基、1-丙稀基、2-丁烯基、2_甲基_2•丁烯基、異戊烯 基、法呢基、香葉基、香葉基香葉基及諸如此類。本文所 121965.doc -16- 200813174 用術語”伸烯基”係指如上 ^ ^ 所疋義雙彳貝烯基基團。舉例而 吕’稀基例如由-CH^rw主-丄 X ^ CH2表不之乙烯基在表示為伸稀基 %,變成伸乙烯基_CH = CH_。盆 ,、他伸細基應如此理解。
本文所用術語,,块基”係指具有一或數個、較佳至多4個 :鍵之經基,其係直鏈、具支鏈、環狀或多環部分或直组 S並含有2至18個碳原子’較佳2至⑼固碳原子,更佳:至8 =碳原子’仍更佳2至6個碳原子,甚至更佳…個碳原 基團可視情況經以下基團取代:經基、氯、漠、 NR23R^ ^ 〇C(〇)R20 ^ C(〇)R21 ' C(〇)〇R22 '
(Q)NR R26、SR”、C(0)SR”、C(S)NRH 方基或Het,其中Ri^R27 一 某,. 自獨立表不虱、芳基或低碳烷 基及/或由一或多個氧或硫原子或由矽^ ^ S ^ A . 矽烷基或二烷基矽 虱k基中斷。此等基團 Α Γ ^ ^ 貝例了係獨立選自包括下列之炔 基·乙炔基、丙炔基、炔 及嗜如if搞, 丁炔基、戊炔基、己炔基 及渚如此類。本文所用術語” 炔美美圚.. 1甲炔基係指如上所定義雙價 、土 土團。块基使如由表示 A ^ ^ ^ ’、乙快基在表示為伸炔 ^為伸乙炔基掷_。其他伸炔基應如此理解。 本文所用術語”芳基,,藉由去 有機s β ^ ,、個虱而自方族烴獲得之 名钱暴團亚且包含於每一環 環、雔夕 衣中具有至多7個成員之任一單 % 雙%或多環碳環,盆中$ /丨、—- 團可視$、F /、 ^ ^係芳族環。該等基 團了視丨月况經以下基團取代:羥基、氯、漠、班 硝基、OR19、〇 20 _ 、’、氰 土、 ) lU风、C(〇)〇R22、NR23只24、
C(0)NR25r26 27 NR R K C(0)SR 、(:(s)nr25r26
Het,其中反丨9至r27 * 方基或 表不虱、芳基或低碳烷基, 121965.doc 200813174 及/或由-或多個氧或琉原子或由石夕炫基或二烧基石夕氧燒 基中斷。此等基團之實例可係獨立選自苯基、對曱苯基' 4-甲氧基苯基、4-(第三丁氧基)苯基、3_曱基曱氧基苯 基、4-1苯基、4-乳苯基、3_硝基苯基、%胺基苯基、 乙醯胺基苯基、4-乙醯胺基苯基、2_甲基冬乙釀胺基苯 基、2-曱基-3-胺基苯基、3·甲基_4_胺基苯基、2_胺基、3_ 甲基苯基、2,4-二曱基_3_胺基苯基、4_羥基苯基、%曱基-4·經基苯基、卜萘基、2·萘基、3-胺基小萘基、2_甲基_3_ 胺基小萘基、6-胺基-2_萘基、4,6_二甲氧基·孓萘基、四氫 萘基、二氫節基、聯苯基、菲基、蒽基或二氫危基及諸如 此類。本文所用術語"伸芳基”係指如上所定義雙價芳基基 團。舉例而言,諸如由、Ph所表示苯基之芳基在以伸芳基 形式表示時變成伸苯基·Ph_。其他伸芳基應如此理解。土 本文所用術語”芳烷基”係指式烷基-芳基基團,其中烷基 及芳基具有與上文所定義相同之含義並且可經由其烧基二 芳基部分結合至相鄰基團。此等基團之實例可係獨立選自 节基、苯乙基、二节基甲基、甲基苯基甲基、3_(2_蔡基)_ 丁基及諸如此類。本文所用術語”伸芳烷基”係指如上所土定 *義雙價芳烧基基團。舉例而言’諸如由所表示节基之 芳烷基在以伸芳烷基形式表示時變成伸苄基。並2 芳烷基應如此理解。八他伸 本文所用術語”Het"包括4至12員、較佳4至广/ :子該等環含有-或多個選自氮、氧、硫及其混合物I; 原子’並且該等環可含有-或多個雙鍵或具有非芳族、部 I2l965.doc -】8- 200813174 分芳族或完全芳族環之性質。該等環系統可係單環、雙環 或稠合環。本文中標示出之每— ”Het”基團視情況經一或 多個選自鹵素、氰基、硝基、氧代、低碳烷基(該烷基本 身可視情況如下所述經取代或封端)、OR”、 f、舰^、c⑼獵^ C⑼smc(s)NR¥,其中Rl9至r27各自獨立表示氮、 ' 芳基或低碳烷基(該烷基本身可視情況如上所述經取代或 • 肖端。因此術語"Het"包括以下基團,例如視情況經取代 之氮雜環丁基、吡咯啶基、咪唑基、吲哚基、呋喃基、噁 唑基、異噁唑基、噁二唑基、噻唑基、噻二唑基、三唑 基、氧雜三唑基、噻三唑基、嗒嗪基、嗎啉基、嘧啶基、 。比嗪基、喧琳基、異喹琳基、六氯D比口定基…比口坐基及六氯 吡嗪基。Het處之取代可係位於Het環上之碳原子處,適宜 時,位於一或多値雜原子處。 ’’Het”基團亦可呈氮氧化物形式。 • 為避免疑惑,在本文複合基團中提及之烷基、烯基、炔 基、芳基或芳烷基應相應地解釋,舉例而言,提及之胺基 烷基中之烷基(alkyl)或烷氧基中之烷基(alk)應解釋為上述 • 烷基(alk或alkyl)等。 - 較佳地,每一Rl基團係獨立選自氫或任何〇1至〇:6烷基。 適宜R1基團之實例包括但不限於任一以下基團:氫、甲 基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基、第 一丁基、戊基、2-曱基-戊基、3_曱基_戊基、4_曱基_戊 基、環戊基、甲基-環戊基、己基、環己基、甲酿基、乙 121965.doc -19- 200813174 酿基、丙醯基、丁醢基、三1乙醯基。較佳地,每-R】基 團係獨立選自氫或任何c]iC4烧基。更佳地,每—r1係獨 立遥自氫、甲基、乙基、丙基或丁基。最佳地,每一心 獨立選自甲基或乙基。
軏仏地,每一 R基團係獨立選自下列中之任一基團: 氫r =基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁 基或弟三丁基。在一特別佳實施例中,每一 R33基圓係獨 立選自氫、甲基或乙基。 产較佳地,每一 R5基團係獨立選自下列中之任一基團: 氫、、甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁 基或第二丁基。在一特別佳實施例中,每一 r33 立選自氫、甲基或乙基。 獨
較佳地,每一 R3基團係獨立選自 氫或任何<^至(:6烷基。 適宜R3基團之實例包括但不限於氫、甲基、乙基、丙基、 異丙基、丁基、異丁基、2甲基丁基、3甲基丁基、第三丁 基、戊基、2甲基戊基、3甲基戊基、4甲基戍基、環戊 基、甲基環戊基、己基、環己基。更佳地,每一 r3基團係 獨立選自氫或任何CjC4院基。更佳地,每一上3基團係獨 立選自氫、甲&、乙基、丙基或丁基或其具支鏈變體。最 佳地,每一 R3基團係獨立選自▼基或乙基 適宜R2基團之實例包括但不限於:氫、 基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、 甲基、乙基、 戊基、壤戊基 丙 己基、環己基、庚基、辛基、乙烯基 基氧基丙基、3,4-環氧基環己基-乙基 苯基、3 -縮水甘油 3 -甲基丙烯醯氧基 121965.doc -20· 200813174 丙基、乙醯氧基乙基、乙醯氧基曱基、巯基丙基、烷基胺 基。 較佳地,m=2或3。最佳地,m=3。 具有通用結構I之適宜化合物之實例包括但不限於下列 中之任一個:矽酸θ甲酯、矽酸四乙酯、矽酸四丙酯、石夕 酸四丁酯、矽酸四戊酯、矽酸四己酯、石夕酸四異丙酯。 可使用的具有通用結構Π之適宜化合物之實例包括但不 限於下列中之任一個:3-(縮水甘油基氧基丙基 >三曱氧基 矽烷(CAS RN: [2530-83-8])、3-(縮水甘油基氧基丙基)_三 乙氧基矽烷(CAS RN: [2602-34-8])、3-(縮水甘油基氧基丙 基)-曱基二乙氧基矽烷(CAS RN: [2897-60-1]、2-(3,4-環氧 基環己基)-乙基三曱氧基矽烷(CAS RN: [3388-04-3])、2-(3,4-環氧基環己基卜乙基三乙氧基矽烷(CAs rn: [10217- 34-2])、3-(甲基丙烯醯氧基丙基 > 三曱氧基矽烷(cas rn: [2 5 3 0-8 5-0])、3-(曱基丙烯醯氧基丙基)_三乙氧基矽烷 (CAS RN: [21 142-229-0])、3-(曱基丙烯醯氧基丙基)-甲基 二乙氧基矽烷(CAS RN: [65 100-04-1])、3-(丙烯醯氧基丙 基)-三乙氧基矽烷(CAS RN: [21142-29-0])、乙醯氧基曱基 二乙氧基石夕烷(CAS RN: 5630-83-1)、3-巯基丙基三乙氧基 石夕院(CAS RN: 14814-09-6)、3-胺基丙基三乙氧基矽烷 (CAS 919-30-2) 〇 在一特別佳實施例中,該寡聚或聚合物質係自至少一通 式I之單體及至少一通式Π之單體形成,至少一通式n之單 月豆包含一末端環氧基或丙稀酸根基。 I21965.doc -21 - 200813174 車乂仏地’絲聚或聚合物質係自5〇至,以用於生成該 募聚或聚合物質之總單體重量計)之至少—通式^單體形 成—車乂H δ亥养聚或聚合物質係自55至(以用於生成 該寡聚或聚合物質之物置辦 ^ 貝急…早體重量計)之至少一通式I之單體 形成。較隹地,該寡聚或聲人 A I合物質係自約60%(以用於生成 該寡聚或聚合物質之總單體重量計)之至少一通式比 形成。 較佳地,該寡聚或聚合物質係自30至5〇%(以用於生成該 寡聚或聚合物質之總單體重量計)之至少—通式此單體护 成。較:地該募聚或聚合物質係另外自35至45%(以用於 生成邊券聚或聚合物質之總單體重量計)之至少 單體形成。較佳地,該寡聚或 " X承σ吻貝係另外自約40〇/〇(以 用於生成該募聚或聚合物質之總單體重量計至+ 式II之單體形成。 夕 通 較佳地,該聚合或寡聚物質係自至少一通式 至少一膠質二氧化矽形成。 早體及 為避免疑惑,本文所用術語,,勝質二氧化石 … 乳化矽之膠質懸浮液。舉例而 吕’该一或多種金屬可係1^+或1^+〇 較佳地,該膠質二氧化石夕以水分散液形式存在。 較佳地,單體r:n:Si02(呈膠質二氧 。 去旦4α A ^ 〜)之比率Γ以 重里计)係4 50-70:50_30:0•卜5。較佳地, (呈膠質二氧化矽形式)之比率(以重 JLSi〇2 35:1-4。最佳地,單體I:n:Si〇2 (呈膠 一 -5:45- 〃為—氣化矽形式)之 121965.doc •22· 200813174 比率(以重量計)係約58.5:39:2.5。 適宜膠質二氧化矽之實例包括Bidzil (RTM) CC3 0 (購自 Eka Chemicals)、Kostrosol 0820 BS (講自 Chemiewerke Bad Kostritz) 〇 較佳地’該寡聚或聚合物質在該水性黏合劑組合物中以 該黏合劑組合物之乾重量計以在1%與99%之間、更佳在 1 /〇與70°/。間之量存在。較佳地,該募聚或聚合物質在該水 性黏合劑組合物中以該黏合劑組合物之乾重量計以在5% 與60%之間之量存在。更佳地,該寡聚或聚合物質在該水 ^生黏合劑組合物中以該黏合劑組合物之乾重量計以在5 % 與50°/。之間之量存在,更佳地,該募聚或聚合物質在該水 性黏合劑組合物中以該黏合劑組合物之乾重量計以在6% 與40%之間之量存在,更佳地,該募聚或聚合物質在該水 性黏合劑組合物中以該黏合劑組合物之乾重量計以在8% 與30%之間之量存在,並且最佳地,該寡聚或聚合物質在 忒水性黏合劑組合物中以該黏合劑組合物之乾重量計以在 I5%與2〇%之間之量存在。 根據本發明一第三態樣,提供一種製備塗料組合物之方 法,該方法包括使一第一組份與一第二組份接觸,該第一 組份包含一水性黏合劑,該水性黏合劑包含一寡聚或聚合 化合物,該寡聚或聚合化合物係自以下形成:至少一通式 1之單體:
Si(〇R1)4 I 其中各R1係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 121965.doc -23- 200813174 基、芳基或-(O0)R4基團,及 分獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷基或 芳基, 及至少一具有通式II之單體:
(R2)4.mSi(OR3)m II 〃中π R係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 基或方基,並且其中至少一小2基團包含基團或
2,/、中RX係任何(:!至Ci〇雙價有機橋接基團,Q 2選自氧或硫自由基並且化2包含H、烷基、烯基、炔基、 方烷基或芳基,並且各Rw係經獨立選擇並且係如上文rZ 之定義; 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 基、芳基或-(C=〇)R5基團,其中R5係如上文以4之定義, 並且m= 1至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化矽; 該第二組份包含一反應性填充材料。 較佳地,該聚合或寡聚物質係自至少一通式II之單體及 至少一膠質二氧化矽形成。 根據本發明一第四態樣,提供一種塗料組合物,該塗料 組合物包含至少一反應性填充材料及一黏合劑,該黏合劑 包含一募聚或聚合材料,該寡聚或聚合材料係由以下方法 形成: ' 0形成一包含下列之反應相:至少一通式^之單體:
Si(〇R1)4 I 121965.doc -24- 200813174 /、 係獨立選自氫或任一烧基、烯基、炔基、芳烧 基、芳基或-(〇〇)R4基團,及 各反係獨立選自氫或任_烧基、烯基、炔基、芳烧基或 芳基, 及至少一具有通式II之單體:
(R )4-mSi(〇R3)m II 其中各R係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷
基X或芳^,並且其中至少一_R2基團包含基團-RXQRZ或 R ^(R )2 ’其中Rx係任何Ci〇雙價有機橋接基團,〇 1系選自氧或硫自由基並且!^包含H、烷基、烯基、炔基、 芳烷基或芳基,並且各尺财係經獨立選擇並且係如上文RZ 之定義; 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 基、芳基或-(C==0)R5基團,其中R5係如上文R4之定義, 並且m=l至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化矽; ii)使該反應相之各組份與r3〇_去除劑接觸; ni)使該反應相之各組份反應,以形成一寡聚物或聚合 物0 較佳地,該聚合或寡聚物質係自至少一 ^ 通式II之早體及 至少一膠質二氧化矽形成。 根據本發明一第五態樣,提供一種製備塗料組合物之方 法,該方法包括使至少-反應性填充材料與^合^ 觸,該黏合劑包含-募聚或聚合材料,該募聚或聚合材料 121965.doc -25- 200813174 係由以下方法形成: 〇形成一包含下列之反應相:至少一通式I之單體:
Si(〇R])4 I /、中各R係獨立選自氫或任一烧基、烯基、炔基、芳烧 基、芳基或-(〇〇)R4基圏,及 各R4係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷基 芳基, 及至少一具有通式Π之單體:
(R2)4-mSi(〇R3)m II 其中各R2係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷 基或芳基,並且其中至少一 _R2基團包含基團_rxqrz或 N(R )2 ’其中RX係任何至c】〇雙價有機橋接基團,Q 係選自氧或硫自由基並且Rz包含H、烷基、烯基、炔基、 芳烷基或芳基,並且各Rw係經獨立選擇並且係如上文rZ 之定義; 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳院 基、芳基或-(C = 0)R5基團,其中R5係如上文R4之定義5 並且m=l至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化石夕; Π)使該反應相之各組份與R3〇_去除劑接觸; iii)使該反應相之各組份反應,以形成一寡聚物或聚合 物0 較佳地’該聚合或募聚物質係自至少一通式Π之單體及 至少一膠質二氧化矽形成。 121965.doc -26- 200813174 在一較佳實施例中,形成該寡聚或聚合材料之方法之I 驟i)可係如下: / 步 0形成一包含下列之反應相:至少一通式I之單體:
SiCOR1)^ I /、中各R係獨立選自氫或任一烧基、晞基、块基、芳产 基、芳基或K〇0)R4基團,及 各R4係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷美 芳基, 凡土驭 及視情況至少一膠質二氧化矽; 及至少一具有通式π之單體:
(R2)4-mSi(OR3)m II 其中各R2係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烧 基或芳基,並且其中至少一 _R2基團包含基團-rxqrz或 _R N(RW)2,其中RX係任何Ci至Cio雙價有機橋接基圈,.q 心4自氧或硫自由基並且Rz包含Η、烷基、烯基、炔基、 芳燒基或芳基,並且各Rw係經獨立選擇並且係如上文Rz 之定義; 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烤基、炔基、芳烷 基、芳基或气C==0)R5基團,其中R5係如上文尺4之定義, 並且111=1至3〇 六^也""亥聚合或寡聚物質係自至少一通式I之單體及 至少一膠質二氧化矽形成。 叙仏地’該至少一通式I之單體:該至少一通式π之單體 之比率(以重量計)係在1-99:99-1之間。更佳地,該至少一 121965.doc -27. 200813174 通式i之單體:該至少一通式„之單體之比率(以重量計)係在 5 1-99:49-1之間。 幸乂仏地,單體ι:ιι之比率(以重量計)係在51_95••的之 間。較佳地,單體1:„之比率(以重量計)係在51_85:49_15之 ^ 間权仏地單體ϊ:η之比率(以重量計)係在5 1-75:49-25之 間。較佳地,單體1:11之比率(以重量計)係在51_66:的_34之 間。較佳地,單體Ι:ΙΪ之比率(以重量計)係在55_65:45_35之 馨間。取佳地,單體1:11之比率(以重量計)係約6〇:4〇。 在一較佳實施例中,步驟可係如下: η)使該反應相之各組份與Ri〇_去除劑及/或R3心去除劑 接觸。 較佳地,該製備募聚或聚合物質之方法包含去除所釋放 烷醇、R4C〇OH、R5C00H& /或水之另一步驟。 車乂仫地,所釋放烷醇、r4C〇OH、R5COOH及/或水可藉 由任何方法(例如蒸餾)去除。 • 在一較佳實施例中’所釋放烷醇、r4cooh、r5c〇〇h 及/或水於該方法之步驟(iii)期間去除。舉例而言,所釋放 院醇、R4C〇〇H、R5C00H及/或水可於在反應中生成時去 ' 除(藉由蒸鶴,舉例而言)。 - 所去除之烷醇、R4c〇〇H、R5C〇〇H及/或水可由其他組 份(例如,舉例而言,至少一酸)替代。 較佺地,該Rl〇e去除劑包含水。較佳地該R]〇〜去除劑另 外包含至少一烷醇。較佳地該R10_去除劑包含水與至少— 烷醇之混合物。較佳地,該至少一烧醇具有低於loot之 121965.doc -28- 200813174 彿點(於1 〇5 Pa壓力下量測)。較佳地,該至少一烧醇係任 一 <^至C8醇。較佳地,該至少一烷醇係任一(^至(:6醇。適 宜至少一烷醇之實例包括但不限於甲醇、乙醇、異丙醇、 丁醇及諸如此類。 較佳地,該至少一烷醇與該至少一通式I之單體及該至 乂 一具有通式ΪΪ之單體一起添加,或另一選擇為,可向該 至少一通式I之單體及該至少一具有通式^之單體中添加至 少一院醇/水之混合物。較佳地,該至少一烧醇在該反應 混合物中以該至少一通式I之單體及該至少一具有通式^之 單體之總重量之1至40重量%之量存在。更佳地,該至少 一烧醇在該反應混‘合物中以該至少一通式I之單體及該至 少一具有通式II之單體之總重量之5至25重量%之量存在。 熟習此項技術者應瞭解,關於去除劑之上述較隹特 徵同樣地適用於該r3〇_去除劑。 較佳地’步驟(Π)在〇它與70°c間之溫度下實施。更佳 地’步驟(ii)在1〇。〇與60°C間之溫度下實施。更佳地,步 驟(ii)在20°C與50°C間之溫度下實施。最佳地,步驟(Π)在 3〇°C與4〇。〇間之溫度下實施。 較佳地,步驟(iii)之反應在〇它與9〇°c間之溫度下發生。 更佳地’該反應在1 〇它與9〇。(:間之溫度下發生。更佳地, 該反應在40°C與90。(:間之溫度下發生。最佳地,該反應在 80°C與9(TC間之溫度下發生。較佳地,步驟(iii)之反應在 至少一觸媒之存在下實施。 較佳地’該觸媒包含任何適宜觸媒。較佳地,該觸媒包 I21965.doc -29- 200813174 含-過渡金屬或基團14或15整合化合物。較佳地, 包含-過渡金屬或基團14或15有機聲合化合物。較佳、 該觸媒包含-過渡金屬或基團14或㈣氧基螯合^物’ 較佳地’該觸媒可溶於水。更佳地,該觸媒包含―二 屬或基團!4或15多烧氡基螯合化合物。該_^@ = 衍生物加以穩定。較佳地’該觸媒係選自任一以下化入 物:欽、錯、給、錫、銻或鍺。在—特別佳實施例中,;
觸媒包含由㈣胺衍生物穩定之水溶性烧氧基鈦酸鹽、= 酸鹽或錫酸鹽化合物。最佳地’該觸媒包含燒氧基欽酸鹽 化合物。 適宜觸媒之實例包含講自DuP〇nt2 TYZ〇R (rtm)及靖 自 Johnson Matthey之 VERTEC (RTM) 〇 較佳地,該反應於fe圍適合該黏合劑之穩定性之適宜pH 下發生。 較佳地,該反應於能夠調節該反應混合物<pH2pH調 節劑存在下進行。較佳地,該pH調節劑包含至少一酸。 較佳地,該pH調節劑在反應中以足以調節該反應混合物 之pH至6與1之間、更佳5與1之間且最佳4與15之間之量存 在。 在一實施例中,該pH調節劑可包含於反應期間產生之酸 R4COOH 〇 另一選擇為或另外地’該pH調節劑可包含於反應期間產 生之酸r5cooh。 較佳地,該至少一酸係任何適宜有機或無機酸。較佳 121965.doc -30- 200813174 地’該至少一酸在298 K之水溶液中具有小於5、更佳小於 4 之 pKa 〇 較佳地,該pH調節劑係強Br0ensted酸。強Br0ensted酸 意指pKa(在298 K之水溶液中)在]2與-5之間並且較佳地-10與-6之間之Br0ensted酸。 另一選擇為或另外地,該PH調節劑可係弱Br0ensted 酸。弱Br0ensted酸意指pKa(在298 K之水溶液中)在巧與 + 10之間並且較佳地+3與+5之間之Br0ensted酸。 較佳地,該至少一酸可溶於水。 較佳地,該至少一酸包含任一 C^Cla有機酸,更佳任一
Cl-C:6有機酸。較佳地,該至少一酸包含任一低碳烧基 酸。 適宜至少一酸之實例包括但不限於單獨或呈組合形式之 任一下列酸:甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、草酸、丙二酸、 號ίό酸、戊二酸、己二酸、擰檬酸、氫氯酸、硫酸、鱗 酸、硝酸、硼酸、三氟乙酸、曱烷磺酸、三氟曱烷績酸。 另一選擇為或另外地,該至少一酸包含至少一對水穩定 之路易士酸。適宜路易士酸之實例包括但不限於uci、 FeCl3、ZnCl2、CaCl2及諸如此類。 本文提及之pH應視為於298 K下於水溶液中量測之pH。 本發明第三及第四態樣之組份可以任何順序接觸。舉例 而言,可首先將該至少一酸加至該等矽烷中,稍後加至水 或該水/至少一烷醇混合物,或另一選擇為,該等矽烷、 該至少一酸及該水或水/至少一烷醇混合物可同時添加。 121965.doc -31 - 200813174 於聚合反應之不同階段添加不同量之該至少一酸可達成有 益結果。 亦可於該黏合劑之製備期間加入添加劑或穩定劑。此等 之Λ例包括但不限於膠質二氡化矽、矽溶膠、消泡劑或緩 衝劑。 邊方法貫施例包括向其他成份中添加該R1〇及/或r3〇 去除劑。於一替代實施例中,將該反應相及其他試劑(若 使用)添加至該R〗0-及/或…仏去除劑。在另一替代實施例 中,使該反應相之一部分與該Rl〇及/或R3〇去除劑去除劑 混合,然後添加剩餘之該等成份。 烧醇、R4C00H、R5C00H及/或水之去除可於大氣壓力 下或於真空中實施。該去除可於該混合階段以及於該等石夕 院之水解結束後開始。可藉由任何f用分析方法來監控0 烷水解之進展,例如氣相層析、紅外光譜法、拉曼 (Raman)光譜法或核磁共振法。 人 所去除之烷醇、R4c〇OH、R5c〇〇H& /或水之量可藉由 任何適宜分析方法測定。 9 I:對該聚合反應中所用^及/或^去除劑之量加以 凋即,以便在瘵餾處理後達成期望之最終固體量。於該声 理期間或較佳地實質上於該處理結束後,該等烷醇之重旦 可能由相同重量之Rl〇及/或r30去除劑替代。 里 邊塗料可係任何基於水之聚石夕氧裝飾性或保護性 例如用於混凝土及騰體之防水财髒塗料、用於戶二 牆壁之浸泡劑、用於織物之防水劑。較佳地,該 丄 121965.doc •>32- 200813174 腐餘塗料二較佳地,該塗料係底料,更佳為工廠底料。在 一特別佳實施例中,該塗料係可銲接工廠底料。 柜據本Ίχ月第六恶樣,提供一種包含下列之兩組份塗 料組合物: . )L 3如任一本發明上述態樣中所定義之水性黏合 組合物的一第一、纟且份;及 - Π)包含至少一反應性填充劑的一第二組份。 • 、該兩組份塗料組合物可另夕卜包含—或更多以下任一組 份.不導電顏料、增稠劑、流變添加劑、膠質二氧化石夕、 、經塗佈膠質二氧化石夕及/或至少一,溶膠。較佳地,該第 ^ &另外包合—或更多以下物f :不導電顏料、增稠 劑、流變添加劑、膠質二氧化石夕、經塗佈膠質二氧化石夕或 矽溶膠。 適宜不導電顏料之實例包括二氧化鈦、氧化鐵紅、碳酸 鈣、滑石粉、矽酸鋁及氧化鐵黃。 • 較佳地,該兩組份塗料組合物包含至少一填充劑。較佳 地,該第二組份係粉末。較佳地’該至少一填充劑以該第 -組份乾重量之_/0間之量存在於該第二組份中。更 仏地。亥至少-填充劑以該第二組份乾重量之π盘祕間 • _在於該第二組份中。更佳地,該至少一填充劑以該 ^一組份乾重量之30與㈣間之量存在於該第二組份中。 取L地’ 4至少-填充劑以該第二組份乾重量之糾與週 間之量存在於該第二組份中。 /、 較佳地,該至少-填充劑包含石廣物質填充劑。 121965.doc -33 - 200813174 較佳地,該至少—埴古卞 '填充劑包含一或更多以下物f: 鐵(不包括雲母質氧仆错、·工μ 、 I化 、虱化鐵),天然及沈澱硫酸鋇、 鋇白;矽酸鋁、高屌屯、古山 日日石 酸m、# 7、㈤領石、免土;料鎂及水合石夕 ♦ \ /石粉、綠泥石、透閃石;二氡化石夕、經表 面處理之二氧化石夕、非晶形石英、6士曰义陆 石夕;氧化銘及氫氧仙#+ Ββ石夬、發煙二氧化 飞軋化紹、戴土、煆燒礬土;碳酸辦鎂、白 雲石’天然及沈澱碳_ ;矽酸銘 '長石;霞石正長岩;
石夕酸好、石夕灰石;氧化鋅 · 1 T H S夂鲜,石墨,飢酸鉍;絡 錯,石反化碎;沸石·甚腺 弗,葉馭石;玻璃碎片;磷化鐵;磷化 鎳,工心球體;及銘。亦^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 刀J便用具他種類之硫酸鹽、碳酸 鹽、矽酸鹽、氧化物及釩酸鹽。 較佳地,該第二組份包含鋅。較佳地,鋅以微細鋅、薄 鋅片:辞粉或鋅粉塵形式存在。較佳地,鋅以該第二組份 乾重I之1與99%間之量存在於該第二組份中。更佳地, ^以該第二組份乾重量之2〇與祕間之量存在於該第二組 伤中更彳土地鋅以该第二組份乾重量之3〇與6〇。/0間之量 存在於Α第—組份I最佳地,鋅以該第三組份乾重量之 40與50%間之量存在於該第二組份中。 較佳地,該兩組份塗料組合物包含彩色顏料。較佳地, 該彩色顏料以0.1至50%之包含其之組份之乾重量之量存在 於忒第一或第二組份中。更佳地,該彩色顏料以丨至〗5% 之包含其之組份之乾重量之量存在於該第一或第二組份 中。 較佳地,該第二組份包含導電顏料。已知導電顏料可改 121965.doc -34- 200813174 進抗腐钕性(藉由電連接鋅顆粒與基材達成)以及電 性。較佳地,該導電顏料係選自去母質氧化鐵、鐵合金、 -磷化二鐵、薄銅片、薄鎳片、薄不銹鋼片、薄鋁片及諸 如此類。較佳地’該導電顏料以該第二組份乾重量之㈣ 20。/。間之量存在於該第二㈣中。更佳地,該導電顏料以 該第二組份乾重量之4〇與25%間之量存在於該第二組份 中。 視情況,該兩組份塗料組合物可另外包含適宜添加劑, 例如抗沈降劑、消泡劑、增稠劑、防銹劑或潤濕劑。 常用增稠劑係丙烯酸聚合物或羥乙基纖維素聚合物;當 使用時其較佳以該兩組份塗料組合物乾重量之至多2% 之1添加,更佳以該兩組份塗料組合物乾重量之至多 W/W之量添加。常用抗沈降劑係黏土型材料,例如膨潤 土、甘油三羥基硬脂酸酯、聚醯胺或聚乙烯蠟;當使甩時 其較佳以該兩組份塗料組合物乾重量之至多4% w/w之量添 加,更佳以該兩組份塗料組合物乾重量之至多i % 之量 添加。常用潤濕劑係乙氧基化烷醇(例如產品CAS RN=68439“45-2) 〇 視情況,該兩組份塗料組合物可另外包含適宜抗腐蝕顏 料,例如鉬酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽或氧化鋅。 視炀况,该兩組份塗料組合物可另外包含適宜觸媒。較 佳地,該觸媒包含一過渡金屬或基團14或15螯合化合物。 較佳地,該觸媒包含一過渡金屬或基團丨4或丨5有機螯合化 合物。杈佳地,該觸媒包含一過渡金屬或基團14或丨5烷氧 i21965.doc -35- 200813174 基螯合化合物。較佳地,該觸.媒可溶於水。更佳地,該觸 媒包含一過渡金屬或基團14或1 5多烷氧基螯合化合物。該 觸媒可由烧醇胺衍生物加以穩定。較佳地,該觸媒係選自 任一以下化合物:鈦、鍅、給、錫、銻或鍺。在一特別佳 實施例中,該觸媒包含由烷醇胺衍生物穩定之水溶性烷氡 基鈦酸鹽、锆酸鹽或錫酸鹽化合物。最隹地,該觸媒包含 ” 烷氧基鈦酸鹽化合物。 馨適宜觸媒之實例包含購自DuP〇m之TYZ〇R (RTM)及 購自 Johnson Matthey之 VERTEC XL175 (RTM)。 較佳地,以組份重量計,該第一與該第二組份間之混合 比率係在1:20與1··〇·〇5之間,更佳係在1:1〇與1:〇1之間, 最佳係在I:2與1:〇·1之間。 該兩組份塗料組合物之兩組份較佳實質上在該塗料組合 物施加至基材之前一刻彼此添加在一起;較佳係在施加前 不到2小時,更佳係在施加前不到丨小時,最佳係在施加前 φ 不到30分鐘。該兩種組份較佳於使用前混合在一起。 lx佳地,该兩組份塗料組合物之w/w固體百分率係在 70/❶與10%之間,更佳係在4〇%與2〇%之間,並且最佳係在 v 35%與25%之間。 • 較佳地’於該兩組份塗料組合物施加至基材後,其固化 形成乾燥薄膜。較佳地,鋅粉塵以該乾燥薄膜之8〇〇/❶與1〇/〇 之間、更佳60%與20%之間、並且最佳地5〇%與3〇%之間之 量存在於該乾燥薄膜中。 根據本發明之第七態樣,提供一種自該第一、第二、第 121965.doc -36- 200813174 四或弟六悲樣中之往一 At ^ ^ 心樣之塗料組合物形成之冷屏 根據本發明之第八態樣’提供-種包含至塗層。 基材,該塗佈層係自該第一、第二、外〔—塗佈層之 任-態樣之塗料組合物形成。 《四或第六態樣中之 本文所揭示之所有特徵皆可與任 相組合。 上述恶樣以任一組合 【實施方式】 實例 黏合劑1 對91克3-縮水甘油基氧基 酸四乙醋加以攪拌。,… 基矽烷、136.6克矽 、後經30分鐘之時間滴加含2.3克甲 = 662.5克水’同時使溫度維持在饥以下。在添加姓 升高到85t並保持15分鐘,然後升高以維持 . .. ^ 田/皿度達"c時停止蒸餾。表 旦条拼中收集到約267毫升之體積,產生約17灣 里之黏合劑固體。 黏合劑2 對8〇.2克3·縮水甘油基氧基丙基三甲氧基石夕燒、12〇.3克 石夕酸四乙醋加以㈣。然後經3〇分鐘之時間滴加含Μ克 甲酸,629·8克水及171_indziicc3〇,同時使溫度維持 =^5(:以下。在添加結束時,使溫度升高到85<t並保持45 刀釦,然後升高直至甲醇與乙醇混合物之蒸餾,當反應器 溫度達KKTC時停止蒸館。表明’在蒸㈣中收集到約24】 宅升之體積,產生約170%重量之黏合劑固體。 121965.doc -37- 200813174 所用石夕烧購自Degussa AG。 以下實例係塗料調配物實例。該等塗料調配物藉由向該 水性黏合劑添加該填充劑混合物並然後手動攪拌來製備。 實例 黏合_ 編號 黏合劑 重量/r* Westmin D30E* Nyad M1250* 鋅粉塵Larvik 標準級7* Miox* 氧化鋅LF* 1 ο ~r- ΐ —- 40.9 - 13.1 28.2 11.8 6 2 α 1 \—— 44.4 50.2 - - - 5.4 j Λ 1 55,5 - 37,7 • 6.8 Η c 2 40.9 - 13.1 28.2 ll.S 6 J 2 44.4 50.2 _ 驗 • 5.4 〇 L L 55.5 - 37.7 - - 6.8 *以克表示之相對重量
Westmin D30E購自 Mondo Minerals,Nyad M1250購自
NyeG Minexals ’鋅粉塵標準品7及氧化鋅LF購自Umicore而 Μιοχ係自Kartner得到之雲母質氧化鐵之常用縮寫σ 薄膜性質 fiT~— 水雙擦試 罐壽命(小時)* 1 ? —'— 於24小時後>200 6 z 於24小時後60 ........... >7 ^— 於6小時後>200 3 4 ^^-- 一 於24小時後>200 -_ 6 Γ 於24小時後90 > 7 6 — 於6小時後>200 -——-~~~---- 1 …___3 罐奸卩^魏度保持在低至足以允許借助無空氣喷塗施加之時間段。 水又扒4籍由利用輕壓力於該塗層上前後擦試濕棉布來 量測。若莽^ ”、 f 〇 〇次擦試,則可以認為該塗層經適當固 化田可幸二易將塗層自基材擦試掉時,可以認為該塗層未 纹固化(麥考測試方法ASTM D4752,其中使用甲基乙基酮 心 斤有與本說明書連同本申請案同時提出並與本說 121965.doc -38- 200813174 明書一起供大衆檢閱之所有 、, π韦順文及文件,亚且所有此等 文及文件之内容以引用方式併入本文中。 本說明書(包括任何附隨申請專利範圍、摘要及附圖)是 所揭示之所有特徵及/或如此所揭示之任-方法或過程 之所有步驟可以任何έ且人如知人 怔 步驟中之至少竿此相其中此等特徵及/或 乂 τ 杲些相互排斥之組合除外。 除非另有明讀說明,不目| j 則本說明書(包括任何附隨申士主 專利範圍、摘要及附圖 寸奴申印 因沾“ 所揭不之母一特徵可由用於相 古 的或類*目似之備擇特徵替代。因此,除非另 徵的-實例。”揭不特徵僅係-類相當或類似特 本發明並不限於上述實 說明金r勺扛, '也例之細節。本發明可擴展至本 :特附隨申請專利範圍、摘要及附圖)中所揭 不之任何方法或過程之 揭 合。 μ任何新穎步驟或任何新穎組 I21965.doc -39-
Claims (1)
- 200813174 十、申請專利範圍: 1. 一種兩組份塗料組合物,其於混合後於水溶液中包含以 下組份: a)來自第一組份之組份: β)火丨生黏合劑,該水性黏合劑包含募聚或聚合化合 物,違养聚或聚合化合物係自以下形成:至少一通式工之 單體:Si(〇R!)4 I ζ、 σ R a獨立選自氫或任一烧基、烯基、快基、芳 烷基、芳基或气C==0)R4基團,且 口 R係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷基 或芳基, 及至少一具有通式n之單體: (R2)4-mSi(〇R3)m II 、其中:R2係獨立選自氫或任“烷基、烯基、炔基、芳 、-土 ^芳基並且其中至少一個_R2基團包含基團_RXqrZ 或-R N(Rw、,廿丄 y p 2 ,、中R係任何ci至C10雙價有機橋接基 某Q—遥自氧或硫自由基並且rZ包含Η、烷基、烯基、炔 土、芳烷基或芳基,並且各1^係經獨立選擇並且係如上 文針對Rk定義; ^ R係獨立選自氫或任-烧基、稀基、快基、芳 $基或.0)R5基團,其中R5係如上文針對R4之 定義, 並且m=i至3 ; 121965.doc 200813174 及視情況至少一膠質二氧化矽; b)來自弟二組份之組份 0至少一反應性填充材料。 2· —種塗料組合物,其包含_水性黏合劑,該水性黏合劑 • 包含秦聚或聚合化合物,該寡聚或聚合化合物係自以下 形成··至少一通式I之單體: Si(〇R1)4 I 瞻 其中各Rl係獨立選自氫或任一烧基、烯基、炔基、芳 烷基、芳基或-(〇〇)R4基團,且 各R係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷基 或芳基, ^ 及至少一具有通式II之單體·· (R2)4.mSi(〇R3)m II 其中各R2係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳 烷基或芳基,並且其中至少一個-R2基團包含基團-RxQRz· • 4-RXN(RW)2,其中RX係任何Cl至C1G雙價有機橋接基 團,Q係選自氧或硫自由基並且RZ包含H、烷基、烯基、 炔基、芳烷基或芳基,並且各以⑺係經獨立選擇並且係如 ‘ 上文針對Rzi定義; , 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳 烷基、芳基或-(C=〇)R5基團,其中R5係如上文針對R4之 定義, 並且m=l至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化矽; 121965.doc 200813174 並且该塗料組合你2 另外包含至少一反應性埴右 3.如請求項1或請求項24^ 〜丨真充材料。 .c ^ f任一項之塗料組合物,i中$ $ > 一反應性填充劑孫 ’、宁4至 、 ,、兄W係鹼性填充材料。 4 ·如凊求項1或請求項2 φ ^ 、 2 、中任一項之塗料組合物,J: φ石丨、 一個R2基團包含一古^ 册”中至少 、W ^ 5 末端環氧基團。 5 ·如請求項1或請求 中任一項之塗料組合物,苴中$ ,卜 一個R基團包含一束 κ /、宁至y 6. 木%丙烯酸根基團。 如凊求項1或請求項2中 .ττ 中任一項之塗料組合物,J:中兮、畜 式Η之單體係選自以下物質 .,、 A 4 A a 、 、 或夕種· 3-縮水甘油 I虱基丙基三甲氣其 ㈡ 土夕垸、3-縮水甘油基氣某 一 氧基-燒、”基丙稀醯氧基丙基三二:基二 基丙稀酿氧基丙基三乙氧基钱。甲乳基石夕广兀、3_甲 塗料組合物,當與請求項2相關時,其中該 二選1四(曱氧基拎烧或四(乙氧難。 8 ·如明求項1或請求項2中杯—@ 1 、 、 員之塗料組合物,其中該寡 聚或聚合物質於該水性黏合二 Λ, ^ ^ Τ之3 Ϊ以該黏合劑組合 物之乾重!計係在99%與1%之間。 9 · 一種製備塗料組合物之方牛,甘 “其包括使第-組份與第二 組份接觸,該第一組份包含 ~入t ^ 扒改黏合劑,該水性黏合劑 匕3养聚或聚合化合物,哕寘 $ # · 該养聚或聚合化合物係自以下 形成·至少一通式I之單體: Si(OR])4 其中各R1係獨立選自氫或任一 1 ^ i 沉基、烯基、炔基、芳 烷基方基或_(〇0)R4基團,且 121965.doc 200813174 各R4係獨立選自氫或任一烧基、稀基、块基、芳烧基 或芳基, 及至少一具有通式II之單體: (R2)4、mSi(〇R3)m II 其中各R係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳 烷基或芳基,並且其中至少一 -R2基團包含基團 或-R N(Rwh,其中Rx係任何a至a◦雙價有機橋接基 團’ Q係選自氧或硫自由基並且Rz包含H、烧基、烯基、 炔基、芳烷基或芳基,並且各^^係經獨立選擇並且係如 上文針對112之定義; 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳 烷基、芳基或-(C=0)R5基團,其中r5係如上文針對R4之 定義, 並且m=l至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化矽; 该第二組份包含一反應性填充材料。 1 〇· —種塗料組合物,該塗料組合物包含至少一反應性填充 材料及一黏合劑,該黏合劑包含募聚或聚合材料,該寡 聚或聚合材料藉由以下製程形成: i)形成一包含下列之反應相:至少一通式Σ之單體: Si(〇R1)4 i 其中各R1係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳 烧基、芳基或_(C=〇)R4基團,且 各R4係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳烷基 121965.doc 200813174 或芳基, 及至少一具有通式Η之單體: (R2)4-mSi(〇R3)m π 其中各R2係獨立選自氫或任一院基、稀基、快基、芳 烷基或芳基,並且其中至少一個_R2基團包含基團· R QR或-RXN(RW)2,其中Rx係任何c】至雙價有機橋 接基團,Q係選自氧或硫自由基並且RZ包含H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基,並且各汉〜係經獨立選擇並且 係如上文針對1^之定義; 其中各R3係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳 烷基、芳基或-(C=0)R5基團,其中R5係如上文針對汉4之 定義, 並且m=l至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化矽; ii)使該反應相之各組份與R30-去除劑接觸; in)使該反應相之各組份反應,以形成寡聚物或聚合 物。 Π · —種製備塗料組合物之方法,其包括使至少一反應性填 充材料與一黏合劑接觸,該黏合劑包含募聚或聚合材 料,該募聚或聚合材料藉由以下製程形成·· i)形.成一包含下列之反應相:至少一通式I之單體· Si(〇R1)4 I 其中各R1係獨立選自氫或任一烷基、烯基、炔基、芳 烷基、芳基或_(〇〇)R4基團,且 121965.doc 200813174 各R4係獨立選自氫吱乜 β # 次任—烷基、烯基、炔基、芳烷基或 方基, 及至少一具有通式II之單體: (R )4-mSi(〇R3)m Η • :中各R2係獨立選自氫或任-烷基、烯基、炔基、芳 =芳t,並·"其中至少-個π基團包含基圏_ ' R QR 或-R N(RW)2, 在㈠ 接美園,〇技、担 /、中尺係任何C^C】0雙價有機橋 • 豆土 ’二"自虱或硫自由基並且Rz包含Η、烷基、烯 土、炔基、芳烷基或芳基,並且jRW係經獨立選擇並且 係如上文針對RZ之定義; 其中各R係獨立選自氫或任一燒基、稀基、快基、芳 烧基*基或-(C = 〇)R5基團,其中r5係如上文針對尺4之 定義, 並且m= 1至3 ; 及視情況至少一膠質二氧化矽; _ Η)使該反應相之各組份與r3〇-去除劑接觸; 叫使該反應相之各組份反應,以形成寡聚物或聚合 物。 ‘ 12.如請求項11之方法,其中㈣於形成該S聚或聚合材料 - 之製程包含去除所釋放烧醇、R4cooh、R5COOH及/或 水之另外步驟。 1 3 ·如請求項1 1或請求項】9 古土 甘 *月尺項12之方法,其中該反應於能夠調節 該反應混合物之pH至6與丨之間之pH調節劑存在下發生。 Μ•如請求項13之方法’ #附屬於請求項12時,其中軸調 I2I965.doc 200813174 節蜊包括產生於該 ^ U 間之酸R4COOH或 R5COOH。 ^ 11 2及10中任—項之塗料組合物,其中該塗料 組合物係可銲接工廒底料。 16. —種自如請求 月 到之塗層。 1G及丨5中任-項之塗料組合物得 17. -種包含至少—塗佈層之基材,冑塗佈層係自如請 1至8、10及15中任一項之塗料組合物所衍生。 、121965.doc 200813174 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:(無) (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: • Si(OR])4 I (R2)4-mSi(OR3)m II 12I965.doc
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