TW200808270A - Radiation detector array - Google Patents

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TW200808270A
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TW
Taiwan
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detector
radiation detector
radiation
array
signal processing
Prior art date
Application number
TW096110579A
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Inventor
Randall P Luhta
Marc A Chappo
Brian E Harwood
Rodney A Mattson
Chris John Vrettos
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Koninkl Philips Electronics Nv
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Description

200808270 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明有關使用在電腦斷層掃描（„)“的料 器陣列。亦發現可應用到除7X輻射之外的輻射偵測、、及 在需要輪射靈敏偵測器陣列的其他醫學與非醫學應 【先前技術】 ^ ° ， 叫W /只〜巾木提供指 病人生理機能的影像與其他資訊。最近幾年已看到多排 CT的迅速採用，增加排或通道的數量可有許多優點，例如 改善掃描Λ體解剖的心臟及其他移動部分能力、較短掃描 時間、改善掃描器輸出、改善軸解析度與涵蓋範圍等。田
’描器在提供頁訊指示一物體内部組態已證明是益 價的。在醫學影像中’例如，CT掃描器係廣泛用來提供： 7TR症人4：不田输厶b ΛΑ似/Α人u · — 然而，此趨勢的一結果在於必要的又射線偵測器逐漸變 成複雜與昂貴。的確，如果不是CT掃描器的最貴組件，偵 測器時常會是最昂貴的組件之—。經由—範例，最新發展 的ct掃描器在一機架改革中係設計成要取得128個排，且 一示範性偵測器系統可能需要多達8〇,〇〇〇個別偵測器元件 或像素。 情況會由於在陣列中像素之間的間隙或空間對影像品質 造成有害影響之事實而更複雜。此需求係傾向限制可用於 發送偵測器信號與需要讀出電子的空間，且讀出電子係有 利地位在偵測器後面的空間。 適於使用在多排CT掃描器的二維（2D)偵測器系統是在美 國專利案號 6,51〇，195 名稱，，Solid State X-Radiation 118722.doc 200808270
Detector Modules and Mosaics Thereof，and an Imaging
Method and Apparatus for Employing Same”中揭示，其在 此疋以引用方式併入本文供參考。如在專利文件中的詳細 討論’此一系統的偵測器模組包括可光學連通於光二極體 陣列的一閃爍器。具有位在光二極體陣列的非照明側上的 複數個金屬觸點的金屬鍍層提供電接觸到各種不同的光二 極體。觸點符合光二極體的間距與間隔。因此，觸點依序 凸塊接合到一分開的承載基板。該承載基板依序包括複數 個導電層，其係配置在一電路圖案，並連接到在基板另一 侧的接觸觸點。接觸觸點可提供用於讀出電子的連接點。 在另一揭示的具體實施例中，具有輸入連接而與光二極體 的間距與間隔匹配的ASIC已直接連接到觸點。許多偵測器 模組組裝以形成一 2D並排陣列。 雖然此一债測器系統係的確有效，但是仍有改善的空 間。例如，仍需進一步減少偵測器的成本、簡化製程、並 改善"ί貞測器設計的彈性與可靠度。 【發明内容】 本發明的觀點係說明這些問題及其他問題。 根據本發明的一第一觀點，一輻射偵測器包括一閃爍 器、一光偵測器陣列、與信號處理電子元件。光偵測器陣 列包括一半導體基板，其包括可光學連通於該閃燦器的複 數個光偵測器兀件、與在該閃爍器相對的半導體基板的一 側上形成的一金屬鍍層。信號處理電子元件係安置在該閃 爍器相對的光偵測器陣列的一側上。金屬鍍層包括第一複 118722.doc 200808270 數個接點，其係電連接到該等光偵測器元件；盥第二複數 個接點’其電連通於該第一複數個接點及該等信號處理電 子元件。 根據本發明的另一觀點，一輻射偵測器包括：一半導體 基板，其具有-輻射接收面；及一輻射靈敏偵測器元件二 維陣列，其可偵測由該輻射接收面接收的輕射。债測器包 括在輻射接收面的相對半導體基板的一側上形成的金屬鍍 層，該金屬鍍層包括第一接點與第二接點。第一接點係電 連接到光偵測器元件陣列，且金屬鍍層經組態用以將電信 號從第一接點發送給第二接點。 根據另一觀點，一裝置包括一檢測區域；_物體支撐 件’其可支撐在該檢測區域中的物體；在二維陣列中放置 的複數個輻射偵測器模組。偵測器模組包含一光偵測器陣 列’其包括具有一輻射接收面的一半導體基板，且該輻射 接收面係面對該檢測區域與輻射靈敏偵測器陣列。偵測器 模組亦包括在輻射接收面相對的半導體基板的一側上使用 半導體製造技術形成的至少一第一電信號傳輸層、與透過 光偵測器陣列承載的信號處理電子元件（205)。至少一第一 #號傳輸層係實體上放置在半導體基板與信號處理電子元 件之間，且至少一第一電信號傳輸層係電連接到信號處理 電子元件。 熟諳此技術者只要閱讀及瞭解附圖與描述便可瞭解本發 明的其他觀點。 【實施方式】 118722.doc -9- 200808270 參考圖1 CT掃描器10包括—旋轉機架部分18，其係 圍繞-檢測區域14及-靜止機架部分19加以旋轉。旋轉機 架18可支樓例如一 X射線管的輻射源12。方走轉機架18亦支 樓-X射線靈敏❹mo，且其正對在檢測區域14的相反 側上的一弧 X射線源12產生的X射線會行經檢測區域 14，並藉由偵測器20偵測。一物體支撐件“可支撐例如在 檢測區域14病人的一物體。支撐16較佳係與機架18的旋轉 協調移動，以提供螺旋式掃描。 偵測斋20包括複數個偵測器模組22，且一 輕射靈敏制器像素之-陣列。複數㈣測賴組22= 置形成-通常拱形、二維（2D)並剔貞測器陣列，其中像素 在各種不同制器模組22中是鄰接，或是實質上與在一或 多個相鄰模組22中的像素相鄰。如下 模組22係有利地使用背部照明光二極體(BIp)陣： 且其具有-或多個金屬鍍層’且對應到在其非照明側上製 造的電接點。#由谓測器陣列承載及連接到接點的讀出電 子可提供多卫器、放大器、類比至數位轉換器？，以將光 偵測器產生的的相當低位準類比信號轉換成數位信號。 百 八（128)個或 在一實施方案中，偵測器20包括 \ ^ ^ J <ίΞ| 多個排。注意，偵測器模組22或在Α中句扛从处t 人你甲包括的偵測器像素 可配置，以至於偵測器陣列是不規則。 J那在一或多個 列或行中的像素可從彼此偏移。其中偵 τ艰列器20可跨越36〇 度之弧且當X射線源12旋轉時可保持靜止 所钢第四代 知描器組態、以及平面偵測器亦可實施。具有較大或較少 118722.doc -10- 200808270 排數量的偵測器同樣可實施。 較佳地透過徒轉機架18承載的―資料獲取系統24係接收 來自複數個㈣n模組22的輸出信號，並提供額外的多 工:資料通信等類似功能。_重建器26可將_器2〇獲得 的貝料予以重建，以形成指示在檢測下的物體體積影像資 料〇 一通用電腦係當作-操作員控制台44使用。控制台44包 括例如一監視器或顯示器的人類可讀輸出器件、與例如一 鍵盤與滑鼠的輸人器件。駐存在控制台上的軟體允許操作 2藉由下列方式來控制掃描器的操作：建立所需的掃描協 疋、起始及結束掃#;檢才見及以其他方式操縱體積影像資 料’及與掃描器互動。 、 一控制器28視需要協調運作各種不同掃描參數，以實施 一所需的掃描協定，包括X射線源12參數、病人椅“的移 動、其資料獲取系統26的操作。 一示範性偵測器模組22係顯示於圖2A、23與2(：。模組 22包括一閃爍器200、一光偵測器陣列2〇2、一蓋子2们、 項出或信號處理電子元件205、與一或多個連接器2〇9。 閃爍器200係光學連通於光偵測器陣列2〇2，以至於閃爍 器200響應入射輻射204所產生的光可被光偵測器陣列 的一光接收面207予以接收。 光偵測器陣列202包括一半導體基板2〇8與金屬鍍層 210。如圖2所示，基板208係形成一傳統BIp陣列，其中該 半導體208經摻雜，以提供陽極212及在陣列中的光二極體 118722.doc -11 - 200808270 的其他組件。 在基板208的非照明側上形成的金屬鍍層21〇可提供在光 一極體與讀出電子元件205中、及在讀出電子元件2〇5與連 接器209之間所需之電互連及信號發送。金屬鍍層21〇較佳 係使用已知的CMOS或如同一光偵測器陣列2〇2製造部分的 其他半導體處理技術形成。更明確而言，金屬鍵層210包 括父替的絕緣與金屬層，其係在如Bip陣列208製造的相同 乾淨室内環境中予以施用。金屬層一般係從例如鋁或銅的 導體製成，而絕緣體一般係從氧化石夕（Si〇)、二氧化石夕 (Si〇2)、聚亞醯胺、或其他適當絕緣體製成。在任何情況 施用，所需的金屬或絕緣體的一致性塗層，且使用微影法 來圖案化層，以形成一所需的電路圖案。重複程序直到提 i、想要的金屬鍍層數量。通道提供介於各種不同金屬層之 間的電連接。 如前述，金屬鍍層210包括第一金屬層21〇1、第二金屬 層21 〇2、與第二金屬層21 ο;。為了清楚緣故，所以絕緣層 未顯示。第一金屬鍍層21〇1包括連接觸點214，其係電連 接到在陣列中的光二極體與導電電路跡線221，該線路可 依需要發送光二極體輸出信號。第二金屬鍍層21〇2亦包括 可從光债測器陣列202的後面228接達的連接觸點216、 219、與電路跡線。第三金屬鍍層21〇3係當作一接地平面 使用。通道299可依需要在層間發送信號。如前述，例 如，通道可將信號從第一層21〇1發送給在第二層以心的線 路及/或觸點，以連接到讀出電子元件2〇5的輸入。關於這 118722.doc -12- 200808270 ”沾應5亥〉主意’第一層210!的觸點214與線路221係以不 同的平面或位準顯示，此有助於說明在其間的連接。第二 層21〇2是類似描述。實際上，每一層通常係實質上平面。 讀出電子元件205係安裝到連接觸點，其中該讀出電子 般包括例如一應用特定積體電路（ASIC) 206的組件、與 例如電阻器、電容器、或其他被動或主動電路的離散組件 209。如圖2A和2B所示，ASIC 206係經由焊線218而電連 接到觸點216，其符合ASIC 2〇6的幾何尺寸與插腳輸出。 儘官如此’其他觸點217仍符合組件209的幾何尺寸與插腳 輸出’且依序焊接或連接到其個別觸點2 17。如前述，連 接器209係經由焊點22〇而連接，或者連接到觸點219，其 係符合連接器209的幾何尺寸與插腳輸出。 此配置的一特別優點在於符合讀出電子元件205的佈局 與其他需求的電互接可相當便宜地應用。而且，金屬鍍層 21〇了減夕已用來提供各種不同互連的承載基板的複雜 度；或者，如圖2所示，將其整個取代。 從例如鎢、组或鉛的輻射衰減材料製成、及位於光偵測 器陣列202與ASIC 206之間的一輻射屏蔽層222可提供保護 ASIC 206避免不能由閃燦器200或光偵測器陣列202所吸收 的離子化輻射之有害影響。一靜電屏蔽224(為了簡化說 明，從圖2A省略）亦可提供，以保護一些或所有讀出電子 元件205不會受到從偵測器模組22後面入射的電場不利影 響。在屏蔽224與ASIC 206之間、及/或在屏蔽224與蓋子 203之間配置的一導熱環氧樹脂層226有助於散發由asic 118722.doc •13· 200808270 206所產生的熱。 蓋子2〇3係用來保護電路205與光谓測器陣列202的非昭 明側⑵。為進一步幫助由織所產生熱的散發，； 子加可從銘、一熱導陶究、或其他熱導材料製成。例如 在盍子2 0 3與光谓測器陣列2 〇 2之非照明側2 2 8之空間放置 的-環氧樹脂或類似複合物的囊封物23〇(為了簡化說明未 在圖2A顯示）可提供組態的健全性，及保護讀出電子元件 205避免受污染物。 口如前述，讀出電子元件2〇5與連接器2〇9係位在由光補測 器陣列的輻射接收面2〇7所界定的一邊界平面中。可瞭 解，此一組態有助於並排偵測器陣列的建構。 圖3A、3B、3C和3D係詳細描述光偵測器陣列2〇2與第一 金屬鍍層210!、第二金屬鍍層21〇2、與第三金屬鍍層以心 的不範性發送。參考圖3B，在第一金屬鍍層21〇】的線路可 將相當低位準的類比信號從各種不同光二極體接點214發 送給在第二金屬鍍層21 〇2的所需接觸觸點216附近。通道 係將在第一層的線路連接到在第二金屬鍍層2丨〇2的對應線 路，其線路係依序連接到觸點216。參考圖3 C，在第二金 屬鍍層21〇2的線路係在觸點216與連接觸點219之間發送通 常較高位準電源與數位讀出信號，且符合連接器209的幾 何尺寸與插腳輸出。至或自其他電路元件或組件的信號會 同樣發送。而且，信號亦在光二極體觸點214與連接器219 之間直接發送。參考圖3D，第三金屬鍍層21 〇3較佳係位在 第一金屬鍍層2101與第二金屬鍍層2102之間，且包括一接 118722.doc -14· 200808270 地平面或屏蔽316以電連接到接地。 可瞭解，將相當低位準偵測器信號從電源與數位信號分 離傾向於減少其間的不合需要之耦合。當此層2丨〇及其間 連接的數量與組態通常是所需之互連的密度與複雜度、各 種不同電信號特徵、以及其間所需之屏蔽的函數時，較大 或較少金屬鍍層210的數量（例如，一（1)、兩（2)、或四（4) 層）可實施。 雖然ASIC 206已描述為線接合至其對應觸點216，使用 如圖4所示的焊凸402，其亦可為覆晶或凸塊接合到適當配 置的連接觸點216。 偵測器模組22的製造現將參考圖5和6描述。 在步驟502，且參考圖6A，基板208可處理（例如）以產生 一傳統的BIP陣列。 在步驟504，且參考圖6B，所需的金屬鍍層21〇係施加在 基板208的非照明側，以形成光偵測器陣列2〇2。 在步驟506，且參考圖6C，讀出電子2〇8的各種不同組件 係例如藉由一回焊操作加以附接至光偵測器陣列2〇2的背 侧，其中讀出電子元件205與連接器2〇9係焊接到在金屬鍍 層210的後表面228上形成的對應觸點216、217、219。在 ASIC 206或其他組件經由線焊點218連接的情況，所需的 線焊點亦可應用。在利用的情況，輻射屏蔽222一般可在 焊接或線接合操作之前加以安裝。注意，需要時導電性環 氧樹脂或其他適當材料亦可取代焊接劑。 在步驟5G8 ’且參考圖6D，熱導黏著劑咖與靜電屏蔽 118722.doc •15- 200808270 224(如存在）可應用，且安裝蓋子203。 在步驟510，且參考圖6E，囊封物230係在蓋子203與陣 列202的背側之間的空間或_些空間中注入。 在步驟512,閃爍器200(如有的話）可附接至陣列202的 光接收面207 。 圖7A和7B係描述另 如圖7A所示，蓋 一替代蓋子配置。 子203係從一第一蓋子邦八 ^ 蓋于。卩分203a與一熱導蓋子部分2〇;3b形 成第蓋子邛刀203a係射出模製或從例如一塑膠或其他
聚口物的相备便宜的材料製成。熱導部分係從例如 銘或-熱導陶£的#交大熱導材料製《。第—部分與第 二部分204b係在第一部分2〇3a的製造之後接合。或者，第 一蓋子部分203a可成形或在熱導蓋子部分2〇3b的附近形 成在任何h形中，熱導部分203b最好配置成可提供幫助 散發由ASIC 206所產生熱的相當有效的熱導路徑、或讀出 電子元件205的其他所需部分。 參考圖7B，偵測器模組22具有一熱導部件7〇2，且其是 關於參考圖7A所述熱導蓋子部分2〇313的類似物。在導電部 件703a安裝之後，例如一聚合物或囊封物的一保護覆蓋物 7〇4然後成形或應用在偵測器模組22的後面。 其他變化例仍可能的。例如，光偵測器陣列2〇2可使用 别照明光二極體實施，其中光二極體電連接是在陣列的照 明側形成。在此一情況中，光偵測器陣列202可使用將光 二極體信號發送到光偵測器陣列202的非照明側的穿透孔 或通道而有利地提供。光偵測器陣列2〇2亦可使用適當的 118722.doc -16- 200808270 光偵測器或光二極體技術產生，例如以線性或單光子模式 操作的正本徵負（PIN)光二極體、互補式金氧半導體 (CMOS)光偵測器、或雪崩光電二極體。 亦瞭解，閃爍器2〇〇可係從例如氧硫化釓（(3〇8)或鎘鎢酸 鹽（CdW〇4)的傳統閃爍器材料製成，其通常係基於一特殊 應用的光4、響應時間、及其他需求加以選取。亦可省略 閃爍器200，特別是在偵測器模組22係用來偵測對應光偵 測器陣列202光譜響應的一波長之光輻射或輻射的應用 中。亦可考慮用以產生輸出以指示出一種以上能量光譜的 光譜轄射债測器。 亦可組裝偵測器模組22以形成一或多個偵測器子裝配 件’其依序組裝以形成一通常拱形偵測器陣列。轉向圖8 a 和8B ’ 一偵測器子裝配件8〇〇包括複數個偵測器模組22ι、 222…2n、一電路板802、與一支撐件8〇4。電路板8〇2包括 無材料區域806!、8062…806n與一連接器808。偵測器模 組22的連接器209係焊接或連接到電路板802的第一端。電 路板802承載傳導線路8 12，其係將偵測器模組22連接到連 接器808。描述的線路812組態係特別有效益，其中該偵測 器模組22可產生菊鏈的數位輸出。 可有利地從金屬或其他熱導材料製成的支撐件8〇4係從 電路板802的第二側加以附接。支撐件8〇4包括凸起物 810’其通過無材料區域與蓋子203進行熱接觸；更明確而 言，各種不同偵測器模組22具較大熱導蓋子部分。依序使 用支撐件804以安裝子裝配件800而作為使用在CT掃描器或 118722.doc -17- 200808270 其他所需應用中的通常拱形偵測器陣列之部分。 前面配置的一特別優點是在焊接操作之前，各種不同偵 測器模組22可彼此及與電路板802對齊。根據此一配置， 個別摘測器22的公差不是決定性，且電路板8〇2可當作多 重子裝配件800的註冊參考使用。 一偵測器子裝配件900的替代組態係顯示於圖9A、96與 9C。偵測器模組22係使用螺絲釘9〇4或其他適當緊固件加 以固疋到一支撐物902。各種不同偵測器模組22的連接器 209係依序焊接到電路板904a、904b。 另一偵測器子裝配件組態係顯示於圖1 〇A和10B。如圖 所示，一偵測器子裝配件1〇〇〇包括複數個偵測器模組 22!、222…22n、及第一電路板ι〇〇2與第二電路板1〇〇4。 偵測器模組22的連接器209係焊接或連接到第一電路板 1002。一或多個散熱器可放置在偵測器模組22與第一電路 板1002之間，並熱連通於蓋子203。在電路板1〇〇2、1〇〇4 之間的電連接1006係透過彈性電路或其他適當的連接而提 供。在電路板1002、1004之間的機械連接係藉由例如支架 808、黏著連接等的適當配置而提供。第二電路板1〇〇4亦 能夠作為一彈性電路實施，如此可避免連接1006的需要。 參考圖11，例如子裝配件90(^、9002、9003、9004、 9〇〇5的想要複數個偵測器子裝配件係依序組裝，以便形成 一通常所需角範圍的拱形偵測器陣列。 當然，只要閱讀及瞭解先前的描述可進行修改及變更。 本發明包括所有此修改及變更，而且是在文後申請專利範 118722.doc -18- 200808270 圍或相關的範轉内。 【圖式簡單說明】 相同參考數字係表示 本發明係經由非限制的附圖描述 類似元件，其中： 圖1描述一 CT掃描器。 圖2A、2B與2C描述一偵測器模組。 關的 圖3A、3B、3C與3D描述-光谓測器陣列與某些相 元件。 圖4描述一债測器模組。 圖5描述製造一偵測器模組的步驟。 圖6A、6B、6C、6D與紐描述在製造的各種不同階段期 間的一偵測器模組。 圖7A和7B描述一偵測器模組的蓋子配置。 圖8A、8B與8C描述一偵測器子裝配件。 圖9A、9B與9C描述一偵測器子裝配件。 圖10A和10B描述一 4貞測器子裝配件。 、、命卞瑕 圖11描述配置形成一拱形偵測器之一部分的债 配件。 【主要元件符號說明】 10 CT掃描器 12 X射線源 14 檢測區域 16 物體支撐件 18 旋轉機架部分 118722.doc • 19 - 200808270 19 20 22 ' 22ι > 222 ... 22n 24 26 28 44 1002 - IOO4、802、 904a、904b 200 202 203 203a 203b 204 205 206 207 208 209 210 21〇i 2102 21〇3 靜止機架部分 X射線靈敏偵測器 偵測器模組 資料獲取系統 重建器 控制器 操作員控制台 電路板 閃燦器 光偵測器陣列 蓋子 第一蓋子部分 第二蓋子部分 入射輻射 信號處理電子元件 ASIC 光接收面 半導體基板 電連接器 金屬鍍層 第一金屬鑛層 第二金屬鍍層 第三金屬锻層 -20- 118722.doc 200808270 212 陽極 214 、 216 、 217 、 219 觸點 218 焊線 220 焊點 221 線路 222 輻射屏蔽層 228 非照明側 230 囊封物 299 通道 316 接地平面或屏蔽 800 安裝子裝配件 804 、 902 支撐件 806] ν 8Ο62 、806n 無材料區域 808 連接器 812 傳導線路 900 、 1000 偵測器子裝配件 90〇i ^ 90〇2 、9003 、 子裝配件 9004 、 9005 904 螺絲釘 21 118722.doc

Claims (1)

  1. 200808270 十、申請專利範圍： 1. 一種輻射偵測器，其包含： 一閃爍器（200); 一光偵測器陣列（202)，其包含： 一半導體基板（208)，其包括光學連通於該閃爍器之 複數個光偵測器元件； 金屬鍍層（210) ’其係形成在與該閃爍器相對之該半 導體基板的一侧上； 信號處理電子元件（205)，其係安置在與該閃爍器相對 的該光偵測器陣列的一側上； 其中遠金屬鍍層包括··第一複數個接點（214)，其係電連 接到該等光偵測器元件；及第二複數個接點（216、217、 219)，其電連通於該第一複數個接點及該等信號處理電 子元件。 2·如睛求項1之輻射偵測器，其中該金屬鍍層包括第一與 第二金屬鍍層（210!、21〇2)。 3·如請求項2之輻射偵測器，其中該第一複數個接點係放 置在該第一層，且該第二複數個接點係放置在該第二 層。 4 ·如请求項1之輻射偵測器，其中該等信號處理電子元件 包括一積體電路（206)。 5·如請求項4之輻射偵測器，其中該積體電路係凸塊接合 到該第二複數個接點。 6·如請求項1之輻射偵測器，其中該金屬鍍層包括導電電 118722.doc 200808270 路跡線㈤），其形成介於該第—複數個接點與該第二複 數個接點之間的一導電路徑之至少一部分。 7. 如請求項丨之輻射偵測器，其進—步包含_電連接器 (209) ’其係調適成提供_至該輻射4貞測器外部的電連 接，其中該金屬鍍層形成介於該等信號處理電子元件與 該連接器之間的一導電路徑之至少一部分。 、 8. 如請求机輻射偵測器，其中該等光摘測器元件包括 背部照明光二極體。 f \ 9. 如請求項1之輻射偵測器，其包括一蓋子，該蓋子包 括：-第-部分（2〇3a、7〇4)，其係從—相對熱絕緣材: 製成；與-第二部分（203b、7〇2)，其係從一相對熱導材 料製成，其中該等信號處理電子元件包括一積體電路 (206)’而且其中該第二部分提供介於該積體電路與該輻 射偵測器的一外部之間的一熱導路徑。 10·如明求項9之輻射偵測器，其中該第一部分包括一射出 核製聚合物。 1 / 11 ·如明求項1之輻射偵測器，其中該複數個光偵測器元件 係配置在界定一邊界平面的陣列中，而且其中該等信號 處理電子元件係配置在該邊界平面。 12 · —種輻射偵測器，其包含： 一半導體基板（208)，其具有一輻射接收面（2〇7)，並 匕括偵/則该輕射接收面所接收輻射的一輻射靈敏偵測器 元件二維陣列； 金屬鑛層（210)，其係形成在與該輻射接收面相對的該 118722.doc -2 - 200808270 半導體基板的一側上，其中該金屬鍍層包括第一接點 (214)與第二接點（216、217、219)，該等第一接點係電 連接到該光4貞測器元件陣列’且該金屬鑛層經組態用以 在該等第一與第二接點之間發送電信號。 13 ·如請求項12之輻射偵測器，其中該輻射靈敏偵測器元件 陣列具有一第一實體佈局，其中該輻射偵測器係調適成 連同具有一第二實體佈局的信號處理電子元件一起使 用，該第二實體佈局不同於該第一實體佈局，而且其中 該等第二接點係符合該第二實體佈局。 14·如請求項13之輻射偵測器，其中該輻射偵測器係調適成 連同信號處理電子元件一起使用，該等信號處理電子元 件係線接合至該等第二接點。 1 5 ·如叫求項12之輪射偵測器，其中該金屬鍍層包括電導體 (221)’其提供介於該等第一與第二接點之間的導電路徑 之至少一部分。 16·如請求項15之輻射偵測器，其中該金屬鍍層包括第一金 屬鍍層（210〇與第二金屬鍍層（21〇2)。 17·如請求項12之輻射偵測器，其中該金屬鍍層包括接點， 其係調適成連接到一電連接器。 1 8 ·如明求項1 7之輻射偵測器，其進一步包括一電連接器 (209)與一電路板（8〇2)，其中該電連接器係連接到該等 接點，且該等接點係調適成連接到該電連接器與該電路 板’以便在其間提供一電連接。 19·如睛求項12之輻射偵測器，其中該等光偵測器是cM〇s 118722.doc 200808270 光偵測器。 2〇·如請求項12之輻射偵測器，其 、匕括k就處理電子元件 (205) ’該等電子元件連接到該等第二接點。 21. 如請求項20之輻射偵測器，其中 ° 4 L说處理電子元件 包括一積體電路（206)，其係與該等 寺弟一接點凸塊接合或 線接合之一。 22. 如請求項21之輻㈣測器，其包括一電連接器該 電連接器操作連接到該等信號處理電子元件，並電連接 到該金屬鍍層。 23·如請求項22之輻射偵測器，其包括一 閃爍器，該閃爍器 光學連通於該輪射接收面。 24·如請求項20之輻射偵測器，並句括 八包括一盍子，該蓋子係放 置在與該輻射接收面相對的該輻射偵測器的一側上，其 中該蓋子包括：-第-部分（2〇3a、7〇4)，其係從一第一 相對熱絕緣材料製成；及一第二部分（2〇3b、，其係 從一相對熱導材料製成，而且复中 ，、甲該第二部分熱連通於 該等信號處理電子元件。 25. -種裝置’其包含一檢測區域(14)與一物體支撐件 (16)，該支撐件在檢測區域中支揮一物體，複數個輻射 谓測器模組（22)放置於二維p車列中，其中該等偵測器模 組包含： 一光偵測器陣列（202)，其包括： 一半導體基板（208)，其具有面對該檢測區域的一輻 射接收面（207)，並包括一輻射靈敏偵測器陣列； 118722.doc 200808270 至少一第一電信號傳輸層（21〇丨、2102、21〇3)，其係 使用一半導體製造技術而在與該輻射接收面相對的該對 半導體基板的一側上形成； 信號處理電子元件（205)，其係藉由該光偵測器陣列承 載；
    其中該至少一第一信號傳輸層係實際上放置在該半導體 基板與該等信號處理電子元件之間，而且其中該至少一 第一電信號傳輸層係電連接到信號處理電子元件。 26·如請求項25之裝置，其包括一第二電信號傳輸層 (2102)。 27·如請求項26之裝置，其中該等第一與第二傳輸層係使用 一金屬鍍層技術形成。 28·如請求項26之裝置，其中該等信號處理電子元件包括一 ASIC。 29.如請求項28之裝置，其中該ASIC係凸塊接合到該光债測 器陣列。 3〇·如請求項25之裝置，其中該等偵測器模組係放置於一並 排陣列中。 •如請求項25之裳置，其中該等轄射偵測器模組係放置於 一拱形2D陣列中。 33.如請求項25之裴置，其中該等偵 1只…15杈組包括一電連接 器，其係藉由該光偵測器偵測器車 3丨干Μ承戟，並電連通於 32.:請求項25之裝置，其中該等偵測器模組包括一閃爍 器，其係放置在該輻射接收面與該檢測區域之間。 118722.doc 200808270 該等信號處理電子元件，而且其中該至少一第一傳輸層 形成介於該等信號處理電子元件與該電連接器之間的一 導電路徑之至少一部分。 34.如請求項33之裝置，其包括—電路板與—熱導部件，^ 中該等個別_器模組的該等連接器係電連接到該電路 板’而且其中該熱導部件係熱連接到—㈣器模組的一 側，且該側係與該輻射接收面相對。 35.如請求項34之裝置，其中該電路板包括-無材料區域， :亥熱導部件之—部分係透過該無材料區域突出。 Μ:::: 34之裝置’其中該光偵測器模組包括-蓋子， ΐ該埶、與該輻射接收面相對的模組-侧上，而且其 、、、、V部件係透過一機械緊固件加以固定到該蓋子。 118722.doc
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Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009189801A (ja) * 2008-01-18 2009-08-27 Toshiba Corp 放射線検出器、ｘ線ｃｔ装置、および放射線検出器の製造方法
WO2010038877A1 (ja) * 2008-10-03 2010-04-08 株式会社 東芝 放射線検出装置及び放射線撮影装置
EP2538244B1 (en) 2009-03-26 2016-12-14 Koninklijke Philips N.V. Data acquisition
US8735832B2 (en) 2009-03-26 2014-05-27 Koninklijke Philips N.V. Data acquisition
JP5281484B2 (ja) 2009-05-28 2013-09-04 浜松ホトニクス株式会社 放射線検出ユニット
US8766199B2 (en) 2009-12-15 2014-07-01 Koninklijke Philips N.V. Radiation dose based imaging detector tile parameter compensation
US8610079B2 (en) * 2009-12-28 2013-12-17 General Electric Company Robust radiation detector and method of forming the same
US8575558B2 (en) * 2010-11-30 2013-11-05 General Electric Company Detector array with a through-via interposer
CN103443652B (zh) 2011-03-24 2017-02-15 皇家飞利浦有限公司 谱成像探测器
JP5844580B2 (ja) 2011-09-05 2016-01-20 浜松ホトニクス株式会社 固体撮像素子及び固体撮像素子の実装構造
US9168008B2 (en) * 2011-11-03 2015-10-27 General Electric Company Coarse segmented detector architecture and method of making same
WO2013080105A2 (en) * 2011-11-29 2013-06-06 Koninklijke Philips Electronics N.V. Scintillator pack comprising an x-ray absorbing encapsulation and x-ray detector array comprising such scintillator pack
US8569711B2 (en) * 2011-12-21 2013-10-29 General Electric Company HE-3 tube array alignment mount
BR112014015663A8 (pt) * 2011-12-27 2017-07-04 Koninklijke Philips Nv módulo do detector de radiação, digitalizador de pet, e método de montagem de uma matriz do detector de radiação
JP6366573B2 (ja) 2012-04-30 2018-08-01 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． デカップリングにより毎ピクセル・アナログチャネルウェル絶縁された画像化検出器及び方法
WO2013164720A1 (en) 2012-04-30 2013-11-07 Koninklijke Philips N.V. Imaging detector with anti-aliasing filter in the readout electronics and/or photosensor
US9012857B2 (en) * 2012-05-07 2015-04-21 Koninklijke Philips N.V. Multi-layer horizontal computed tomography (CT) detector array with at least one thin photosensor array layer disposed between at least two scintillator array layers
EP2852851A1 (en) * 2012-05-22 2015-04-01 Analogic Corporation Detection system and detector array interconnect assemblies
JP6445978B2 (ja) 2012-12-03 2018-12-26 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． イメージング検出器
US20140321601A1 (en) * 2013-04-26 2014-10-30 Texas Instruments Incorporated Active shield for x-ray computed tomography machine
EP3570327A3 (en) * 2013-07-26 2020-02-19 Analogic Corporation Detector unit for detector array of radiation imaging modality
GB2516872A (en) 2013-08-02 2015-02-11 Ibm A method for a logging process in a data storage system
RU2549565C1 (ru) * 2013-12-02 2015-04-27 Закрытое акционерное общество "Научно-исследовательская производственная компания "Электрон" (ЗАО НИПК "Электрон") Способ изготовления матрицы фоточувствительных элементов плоскопанельного детектора рентгеновского изображения
CN105326523B (zh) * 2014-07-28 2020-07-28 Ge医疗系统环球技术有限公司 医疗用x射线探测器
US9526468B2 (en) * 2014-09-09 2016-12-27 General Electric Company Multiple frame acquisition for exposure control in X-ray medical imagers
US10488532B2 (en) * 2014-10-20 2019-11-26 Analogic Corporation Detector unit for detector array of radiation imaging modality
CN104605876A (zh) * 2014-12-12 2015-05-13 沈阳东软医疗系统有限公司 一种ct机检测器模块和检测器系统
JP6285577B2 (ja) * 2015-01-15 2018-02-28 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． 撮像検出器モジュールアセンブリ
US9835733B2 (en) * 2015-04-30 2017-12-05 Zhengrong Ying Apparatus for detecting X-rays
WO2017014798A1 (en) * 2015-07-17 2017-01-26 Analogic Corporation Detector unit for detector array of radiation imaging modality
US10261195B2 (en) * 2015-08-07 2019-04-16 Koninklijke Philips N.V. Imaging detector with improved spatial accuracy
US9599723B2 (en) 2015-08-18 2017-03-21 Carestream Health, Inc. Method and apparatus with tiled image sensors
US10192646B2 (en) * 2016-04-25 2019-01-29 General Electric Company Radiation shielding system
JP2019531464A (ja) 2016-08-03 2019-10-31 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェＫｏｎｉｎｋｌｉｊｋｅ Ｐｈｉｌｉｐｓ Ｎ．Ｖ． 三次元固体イメージング光検出器
JP6907054B2 (ja) * 2017-07-07 2021-07-21 キヤノン株式会社 放射線撮影装置
EP3462494B1 (en) * 2017-09-29 2021-03-24 Detection Technology OY Integrated radiation detector device
CN107874776A (zh) * 2017-12-05 2018-04-06 湖北锐世数字医学影像科技有限公司 一种pet晶体单元的挂接装置
CN108186040B (zh) * 2017-12-27 2021-05-14 上海联影医疗科技股份有限公司 Pet探测模块及具有该模块的pet探测设备
JP6555380B2 (ja) * 2018-04-09 2019-08-07 大日本印刷株式会社 ガス増幅を用いた放射線検出器
JP2021525289A (ja) 2018-05-28 2021-09-24 ボレアリス エージー 光起電（ｐｖ）モジュール用装置
JP7166833B2 (ja) * 2018-08-03 2022-11-08 キヤノンメディカルシステムズ株式会社 放射線検出器及び放射線検出器モジュール
CN113395936B (zh) * 2018-12-06 2024-10-15 美国亚德诺半导体公司 屏蔽的集成器件封装
US11688709B2 (en) 2018-12-06 2023-06-27 Analog Devices, Inc. Integrated device packages with passive device assemblies
US11282763B2 (en) * 2019-06-24 2022-03-22 Amkor Technology Singapore Holding Pte. Ltd. Semiconductor device having a lid with through-holes
CN110664422A (zh) * 2019-09-09 2020-01-10 东软医疗系统股份有限公司 探测器模块、探测器及医疗成像设备
CN112928106B (zh) * 2019-12-05 2024-05-17 同方威视技术股份有限公司 探测器装置和阵列面板
US11294079B2 (en) * 2019-12-18 2022-04-05 GE Precision Healthcare LLC Methods and systems for a layered imaging detector
US11664340B2 (en) 2020-07-13 2023-05-30 Analog Devices, Inc. Negative fillet for mounting an integrated device die to a carrier
CN113327952A (zh) * 2021-05-28 2021-08-31 北京京东方传感技术有限公司 一种平板探测装置和数字影像诊断设备

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6224174A (ja) * 1985-07-24 1987-02-02 Hitachi Medical Corp 放射線検出器
JPH01165983A (ja) * 1987-12-23 1989-06-29 Hitachi Medical Corp 放射線検出器
JPH02306639A (ja) * 1989-05-22 1990-12-20 Toshiba Corp 半導体装置の樹脂封入方法
DE4017697C2 (de) * 1990-06-01 2003-12-11 Bosch Gmbh Robert Elektronisches Bauelement, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung
US6426991B1 (en) * 2000-11-16 2002-07-30 Koninklijke Philips Electronics N.V. Back-illuminated photodiodes for computed tomography detectors
JP2003084066A (ja) 2001-04-11 2003-03-19 Nippon Kessho Kogaku Kk 放射線検出器用部品、放射線検出器および放射線検出装置
FR2824953B1 (fr) * 2001-05-18 2004-07-16 St Microelectronics Sa Boitier semi-conducteur optique a lentille incorporee et blindage
US6800947B2 (en) * 2001-06-27 2004-10-05 Intel Corporation Flexible tape electronics packaging
US6510195B1 (en) 2001-07-18 2003-01-21 Koninklijke Philips Electronics, N.V. Solid state x-radiation detector modules and mosaics thereof, and an imaging method and apparatus employing the same
DE10142531A1 (de) * 2001-08-30 2003-03-20 Philips Corp Intellectual Pty Sensoranordnung aus licht- und/oder röntgenstrahlungsempfindlichen Sensoren
KR100447867B1 (ko) * 2001-10-05 2004-09-08 삼성전자주식회사 반도체 패키지
JP4237966B2 (ja) * 2002-03-08 2009-03-11 浜松ホトニクス株式会社 検出器
US7230247B2 (en) * 2002-03-08 2007-06-12 Hamamatsu Photonics K.K. Detector
TWI243339B (en) * 2002-03-19 2005-11-11 Casio Computer Co Ltd Image reading apparatus and drive control method
US7117588B2 (en) 2002-04-23 2006-10-10 Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc Method for assembling tiled detectors for ionizing radiation based image detection
AU2003245383A1 (en) * 2002-06-03 2003-12-19 Mendolia, Greg, S. Combined emi shielding and internal antenna for mobile products
JP4364514B2 (ja) * 2003-01-08 2009-11-18 浜松ホトニクス株式会社 配線基板、及びそれを用いた放射線検出器
US6984816B2 (en) * 2003-08-13 2006-01-10 Motorola, Inc. Vertically integrated photosensor for CMOS imagers
US7170049B2 (en) 2003-12-30 2007-01-30 Dxray, Inc. Pixelated cadmium zinc telluride based photon counting mode detector
US7075091B2 (en) 2004-01-29 2006-07-11 Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc Apparatus for detecting ionizing radiation
US7224047B2 (en) * 2004-12-18 2007-05-29 Lsi Corporation Semiconductor device package with reduced leakage
JP4963349B2 (ja) * 2005-01-14 2012-06-27 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法

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