JP2003084066A - 放射線検出器用部品、放射線検出器および放射線検出装置 - Google Patents

放射線検出器用部品、放射線検出器および放射線検出装置

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JP2003084066A
JP2003084066A JP2002016677A JP2002016677A JP2003084066A JP 2003084066 A JP2003084066 A JP 2003084066A JP 2002016677 A JP2002016677 A JP 2002016677A JP 2002016677 A JP2002016677 A JP 2002016677A JP 2003084066 A JP2003084066 A JP 2003084066A
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photodiode
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Shigenori Sekine
重典 関根
Toshiichi Yanada
敏一 簗田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ワイヤボンディングに必要なスペースを最小
にし、放射線検出器の小型化および制作を容易にし、か
つ2次元検出装置の制作が容易になる放射線検出器用部
品を提供すること。 【解決手段】 MID基板1上面に設けられたパッド形
成用突起3の上端面がフォトダイオードアレイ2の上面
と同じ高さであり、フォトダイオードアレイ2上に配置
されたフォトダイオード素子の上面に第1パッド4、パ
ッド形成用突起3の上端面に第2パッド5が設けられ、
対応する第1パッド4と第2パッド5との間にはワイヤ
ボンディング6が設けられ、MID基板1上面上には配
線パターン7が設けられ、MID基板1下面には第2パ
ッド5の数と同数の第1端子8および1個の第2端子9
が設けられ、第2パッド5と第1端子8とが1対1の関
係で電気的に接続され、配線パターン7と第2端子9と
が電気的に接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上面の一部領
域上に配置されかつ受光面上に第1パッドを有する光電
素子を備え、この光電素子が受光する光の強度に基づく
電気信号を出力する技術に関し、光電素子が配置される
平面において、光電素子が占める面積の割合を高く維持
し、容易に製造することのできる放射線検出器用部品、
放射線検出器および放射線検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】医療機関などで使用されるX線CT装置
では、被検体に対してX線を照射することによって被検
体の内部構造を撮影する。具体的には、X線CT装置
は、X線照射源と、X線照射源と被検体を介して対抗配
置された、X線検出部が1次元アレイ状に配置された構
造の放射線検出器を有する。ここで、検出部は、受線し
たX線を電気信号に変換する機能を有し、X線を可視光
線に変換するシンチレータ素子と、可視光線を電気信号
に変換するフォトダイオードとを有する。この放射線検
出器によって被検体を通過したX線を受線し、受線した
X線に基づいて得られる電気信号を記録する。そして、
X線照射源と放射線検出器の位置関係を維持したまま、
X線を照射する角度を様々に変化させてX線の受線をく
り返す。その後、得られた電気信号に対してコンボルー
ション(畳み込み)やバックプロジェクション(逆投
影)等の処理をおこなうことで、X線が通過した被検体
の断面(以下、「スライス」と言う)の画像を再構成す
る。
【0003】特に近年、一回のX線照射によって、同時
に複数のスライスについて撮影することのできるマルチ
スライスX線CT装置の開発が盛んである。マルチスラ
イスX線CT装置は、複数のスライスに対応して、アレ
イ状のX線検出部を複数配置して、それぞれのスライス
を通過したX線を収集してスライス画像を再構成してい
る。したがって、マルチスライスX線CT装置において
は、検出部が1次元アレイ状ではなく、2次元アレイ状
に配置された、放射線検出装置を備える必要がある。こ
のため、検出部を構成するフォトダイオードについて
も、2次元的に配置されなければならない。
【0004】図24(a)に示す放射線検出器は、複数
の単一スライス用1次元フォトダイオードアレイ102
を並列に基板101上に並べてフォトダイオード素子1
03を2次元状に配列し、さらにその上に個々のフォト
ダイオードに対応したシンチレータ素子を有する2次元
シンチレータアレイを搭載して放射線検出器を形成する
(以下、「従来技術1」と言う)。個々のフォトダイオ
ード素子103は、基板101上に設けられた第2パッ
ド105とワイヤボンディング106によって電気的に
接続され、フォトダイオード素子103から出力される
電気信号は、基板101上に設けられた配線を伝わり、
基板101の外部に出力される。
【0005】また、マトリックス状に分布する複数のフ
ォトダイオードとそれに対応した配線を同一の半導体基
板上に一体的に形成した構造が知られている(以下、
「従来技術2」と言う)。そして、このようにフォトダ
イオードを作り込んだ半導体基板上に、個々のフォトダ
イオードに対応したシンチレータ素子を有する2次元シ
ンチレータアレイを搭載することで、放射線検出器を形
成する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来技術1に
は以下の問題がある。まず、従来技術1では、平板状の
基板101上に1次元フォトダイオードアレイ102を
配置している。したがって、基板101上の第2パッド
105と、フォトダイオード素子103との間でフォト
ダイオードアレイ102の厚みの分だけ段差が生じると
いう問題を有する。このような段差を生じた状態でワイ
ヤボンディング106を施す場合、図24(b)に示す
ように、第2パッド105の位置をフォトダイオード素
子103から水平方向に所定距離だけ離す必要がある。
しかし、第2パッド105の位置をフォトダイオード素
子103から離すことによって、フォトダイオードアレ
イ102相互の間隔が広くなる。その結果、放射線検出
器全体に対してフォトダイオードが占める面積が相対的
に小さくなり、X線受線感度が低下するという問題を有
する。
【0007】また、基板101上に1次元フォトダイオ
ードアレイ102を正確に配置する必要もある。したが
って、従来技術1のような放射線検出器を製造する際に
は、基板101上に1次元フォトダイオードアレイを固
定するための実装装置を新たに設けるか、特別な位置決
め治具が必要となるという問題を有する。
【0008】さらに、従来技術1は、複数配列した1次
元フォトダイオードアレイ102の上に2次元シンチレ
ータアレイを直接配置する構造を有するため、接触面積
が小さく、機械的強度が低下するという問題も有する。
【0009】一方、従来技術2にも問題がある。まず、
1枚の半導体基板上にすべてのフォトダイオードを作り
込むため、2次元フォトダイオードアレイを構成するフ
ォトダイオードのうち、不良素子が一つでも存在すれば
放射線検出器を構成することはできず、半導体基板上に
作り込まれた他のフォトダイオードについても破棄せざ
るを得ない。ここで、2次元フォトダイオードアレイを
構成する個々のフォトダイオードは、2次元状に配置さ
れている必要がある。したがって、DRAMで採用され
るような冗長回路を用いることもできず、従来技術2の
構造では歩留まりが非常に悪いという問題を有する。
【0010】また、従来技術2では、必要な配線につい
ても半導体基板上に作り込む構造となっている。ここ
で、これらの配線は個々のフォトダイオードに対応して
設けられることから、フォトダイオードの数が増大する
にしたがって、配線の数も増大する。特に、スライス数
を増大させた場合には外部に出力するために必要な配線
の数が増大する。ここで、半導体基板上においてフォト
ダイオードが占める面積の低下を抑制するためには、各
配線の幅を細くする必要があるが、配線を細くした場合
には電気抵抗が増大し、断線の可能性も高くなるという
問題を有する。
【0011】なお、上記した問題のいくつかは、マルチ
スライスの場合に限定されず、単一スライス用の放射線
検出器についても成立する。たとえば、基板上に1次元
フォトダイオードアレイを配置する構造とした場合に
は、従来技術1と同様にパッドとフォトダイオードとの
間の段差が問題となる。
【0012】また、以上述べた問題は、放射線検出器の
みならず、一般の光検出器についても成立する。一般
に、光検出器は、上記の放射線検出器の構造からシンチ
レータ素子を除外した構造を有し、2次元フォトダイオ
ードを配置する点では放射線検出器と同じである。受光
感度を向上させるためには、基板上においてフォトダイ
オードが占める面積が大きいことが望ましいが、同様の
問題により受光面積を狭めざるを得ないという問題を有
する。
【0013】この発明は上記従来技術の欠点に鑑みてな
されたものであって、放射線検出器用部品、放射線検出
器および放射線検出装置において、フォトダイオードが
配置される平面において、フォトダイオードの占める面
積の割合を高く維持でき、容易に製造することのできる
放射線検出器用部品、放射線検出器および放射線検出装
置を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明にかかる放射線検出器用部品は、基
板上面の一部領域上に配置されかつ受光面上に第1パッ
ドを有する光電素子を備え、該光電素子が受光する光の
強度に基づく電気信号を出力する放射線検出器用部品で
あって、前記基板の他の領域上に配置されたパッド形成
部と、該パッド形成部上に形成され、前記光電素子の受
光面上に配置された前記第1パッドと同一平面を形成す
るよう配置され、前記第1パッドと電気的に接続された
第2パッドとを備えることを特徴とする。
【0015】また、請求項2の発明にかかる放射線検出
器用部品は、請求項1に記載の発明において、前記第1
パッドと前記第2パッドとの間はワイヤボンディングに
より電気的に接続されていることを特徴とする。
【0016】また、請求項3の発明にかかる放射線検出
器用部品は、請求項1または2に記載の発明において、
前記基板裏面に配置された第3パッドと、前記第2パッ
ドと前記第3パッドとを電気的に接続する立体配線とを
さらに備えることを特徴とする。
【0017】また、請求項4の発明にかかる放射線検出
器用部品は、請求項1〜3のいずれか一つに記載の前記
基板はMID基板であって、前記立体配線は、前記MI
D基板によって形成されていることを特徴とする。
【0018】また、請求項5の発明にかかる放射線検出
器用部品は、請求項1〜3のいずれか一つに記載の発明
において、前記立体配線は、前記基板を貫通して形成さ
れるスルーホールを含むことを特徴とする。
【0019】また、請求項6の発明にかかる放射線検出
器用部品は、請求項1〜5のいずれか一つに記載の発明
において、前記基板および前記パッド形成部は、一体的
に形成されていることを特徴とする。
【0020】また、請求項7の発明にかかる放射線検出
器は、請求項1〜6に記載の放射線検出器用部品と、前
記光電素子の受光面上に配置され、受線した放射線を前
記光電素子が電気信号に変換可能な波長帯域の光に変換
する変換素子とを備えたことを特徴とする。
【0021】また、請求項8の発明にかかる放射線検出
器用部品は、MID基板およびそれに接触して設置され
たフォトダイオードアレイを有し、該フォトダイオード
アレイの下面と接触する側の該MID基板上面にパッド
形成用突起が設けられていて該パッド形成用突起の上端
面が該フォトダイオードアレイの上面と同じ高さであ
り、該フォトダイオードアレイの各々のフォトダイオー
ド素子の上面で該パッド形成用突起に隣接する部分にそ
れぞれ第1パッドが設けられており、該パッド形成用突
起の上端面で各々の第1パッドと隣接する部分にそれぞ
れ第2パッドが設けられており、対応する該第1パッド
と該第2パッドとの間にはワイヤボンディングが設けら
れており、該フォトダイオードアレイと接触する該MI
D基板上面上には配線パターンが設けられており、該M
ID基板下面には該第2パッドの数と同数の第1端子お
よび1個の第2端子が設けられており、該第2パッドと
該第1端子とが1対1の関係で電気的に接続されてお
り、該配線パターンと該第2端子とが電気的に接続され
ていることを特徴とする。
【0022】また、請求項9の発明にかかる放射線検出
器用部品は、請求項8に記載の発明において、前記MI
D基板上面に前記フォトダイオードアレイの位置決めの
ための溝または位置決め突起が設けられていることを特
徴とする。
【0023】また、請求項10の発明にかかる放射線検
出器用部品は、1個のMID基板およびそれに接触して
設置された複数個のフォトダイオード素子を有し、各々
の該フォトダイオード素子の下面と接触する側の該MI
D基板上面に各々の該フォトダイオード素子の位置決め
のための溝または位置決め突起が設けられており、ま
た、該MID基板上面にパッド形成用突起が設けられて
いて該パッド形成用突起の上端面が各々の該フォトダイ
オード素子の上面と同じ高さであり、各々の該フォトダ
イオード素子の上面で該パッド形成用突起に隣接する部
分にそれぞれ第1パッドが設けられており、該パッド形
成用突起の上端面で各々の第1パッドと隣接する部分に
それぞれ第2パッドが設けられており、対応する該第1
パッドと該第2パッドとの間にはワイヤボンディングが
設けられており、各々の該フォトダイオード素子と接触
する該MID基板上面上には配線パターンが設けられて
おり、該MID基板下面には該第2パッドの数と同数の
第1端子および1個の第2端子が設けられており、該第
2パッドと該第1端子とが1対1の関係で電気的に接続
されており、該配線パターンと該第2端子とが電気的に
接続されていることを特徴とする。
【0024】また、請求項11の発明にかかる放射線検
出器用部品は、請求項10に記載の発明において、位置
決め突起が土手状となっていて、隣接チャンネル間の仕
切板として機能することを特徴とする。
【0025】また、請求項12の発明にかかる放射線検
出器は、請求項8または9に記載の放射線検出器用部品
と、該放射線検出器用部品のフォトダイオードアレイの
上面の上に各々の素子が対応するように設置されたシン
チレータアレイとを有することを特徴とする。
【0026】また、請求項13の発明にかかる放射線検
出器は、請求項10または11に記載の放射線検出器用
部品と、該放射線検出器用部品の各々のフォトダイオー
ド素子の上面の上に各々の素子に対応するように設置さ
れたシンチレータ素子とを有することを特徴とする。
【0027】また、請求項14の発明にかかる放射線検
出装置は、所定数の請求項12または13に記載の放射
線検出器が縦横に配置されていることを特徴とする。
【0028】また、請求項15の発明にかかる放射線検
出器用部品は、シンチレータアレイと、該シンチレータ
アレイのアレイ整列方向の一方の側面に配置されたフォ
トダイオードアレイと、該フォトダイオードアレイの各
々のフォトダイオード素子に電気的に接続されていて該
フォトダイオードアレイの表面に配置されている各々の
配線とを有し、該各々の配線の末端が該シンチレータア
レイとの接触部分よりも受光方向下流側に存在している
ことを特徴とする。
【0029】また、請求項16の発明にかかる放射線検
出器用部品は、シンチレータアレイと、該シンチレータ
アレイのアレイ整列方向の一方の側面に配置されたフォ
トダイオードアレイと、該フォトダイオードアレイの各
々のフォトダイオード素子に電気的に接続されていて該
フォトダイオードアレイの表面に配置されている各々の
配線とを有し、該各々の配線が該シンチレータアレイと
の接触部分よりも受光方向下流側に延びた後、該シンチ
レータアレイのアレイ整列方向に延び、該各々の配線の
末端が該シンチレータアレイとの接触部分を越えた側方
位置に存在していることを特徴とする。
【0030】また、請求項17の発明にかかる放射線検
出器は、請求項15に記載の放射線検出器用部品と、該
放射線検出器用部品を支持する基板と、該基板に設けら
れた配線とを有し、該基板の配線が上記フォトダイオー
ドアレイの表面に配置されている各々の配線の末端に電
気的に連結されていることを特徴とする。
【0031】また、請求項18の発明にかかる放射線検
出器は、請求項16に記載の放射線検出器用部品と、該
放射線検出器用部品を支持する基板とを有することを特
徴とする。
【0032】また、請求項19の発明にかかる放射線検
出装置は、所定数の請求項17に記載の放射線検出器が
縦横に配置されていることを特徴とする。
【0033】また、請求項20の発明にかかる放射線検
出装置は、所定数の請求項18に記載の放射線検出器
が、シンチレータアレイのアレイ整列方向とは直角の方
向に配置されていることを特徴とする。
【0034】また、請求項21の発明にかかる放射線検
出器用部品は、基板の一部に設けられた埋め込み用溝部
と、1次元アレイ状に配列された複数の光電素子を備
え、前記埋め込み用溝部に埋め込まれた光電素子アレイ
と、前記光電素子の受光面上にそれぞれ配置された第1
パッドと、前記第1パッドに対応して前記基板にそれぞ
れ設けられ、前記第1パッドと電気的に接続された第2
パッドとを備えることを特徴とする。
【0035】また、請求項22の発明にかかる放射線検
出器用部品は、請求項21に記載の発明において、前記
光電素子アレイよりも受光方向上流側に、光導波路をさ
らに備えることを特徴とする。
【0036】また、請求項23の発明にかかる放射線検
出器用部品は、請求項22に記載の発明において、前記
光導波路は、基板上面上に設けられた受光部分に入射す
る光を、該受光部分よりも小さい受光面積を有する前記
光電素子の受光面まで導波することを特徴とする。
【0037】また、請求項24の発明にかかる放射線検
出器用部品は、請求項21〜23のいずれか一つに記載
の発明において、前記第2パッドは前記基板上面上に配
置され、前記光電素子アレイの厚みと前記溝部の深さと
は同一であって、前記光電素子アレイ上面と、前記基板
上面とが同一の平面を形成することを特徴とする。
【0038】また、請求項25の発明にかかる放射線検
出器用部品は、請求項21〜23のいずれか一つに記載
の発明において、前記溝部の深さと前記光電素子アレイ
の厚みとの差分値が1μm以上、100μm以下である
ことを特徴とする。
【0039】また、請求項26の発明にかかる放射線検
出器用部品は、請求項21〜25のいずれか一つに記載
の発明において、前記埋め込み用溝部を複数備え、複数
の前記光電素子アレイは、前記光電素子アレイのアレイ
整列方向とは直角の方向に配列されていることを特徴と
する。
【0040】また、請求項27の発明にかかる放射線検
出器用部品は、請求項21〜26のいずれか一つに記載
の発明において、前記基板の裏面に第3パッドをさらに
備え、該第3パッドと前記第2パッドとは前記基板を貫
通して形成されたスルーホールによって電気的に接続さ
れていることを特徴とする。
【0041】また、請求項28の発明にかかる放射線検
出装置は、請求項21〜27に記載の放射線検出器用部
品と、前記光電素子の受光面上に配置され、受線した放
射線を前記光電素子が電気信号に変換可能な波長帯域の
光に変換する変換素子とを備えたことを特徴とする。
【0042】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して、本発明の
実施の形態を説明する。図面の記載において同一あるい
は類似部分には同一あるいは類似な符号を付している。
ただし、図面は模式的なものであり、各部分の厚みと幅
との関係、それぞれの部分の厚みの比率などは現実のも
のとは異なることに留意すべきである。又、図面の相互
間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含
まれていることはもちろんである。
【0043】(実施の形態1)まず、本実施の形態1に
かかる放射線検出器用部品について説明する。図1は、
本実施の形態1にかかる放射線検出器用部品の、MID
(Molded Interconnected Device)基板1とフォトダイ
オードアレイとを分離した状態で示す概略斜視図であ
る。また、図2は、図1のI−I線での断面図であり、
図3(a)は、MID基板1とフォトダイオードアレイ
2とを組み立てた状態の実施の形態1にかかる放射線検
出器用部品の概略斜視図である。さらに、図3(b)
は、組み立てた状態におけるフォトダイオードアレイの
電気的接続について説明するための断面図である。
【0044】図1〜図3に示すように、実施の形態1に
かかる放射線検出器用部品は、立体成形および立体配線
を施したMID基板1およびそれに接触して設置された
フォトダイオードアレイ2を有している。フォトダイオ
ードアレイ2の下面と接触する側のMID基板上面には
パッド形成用突起3が設けられており、このパッド形成
用突起3の上端面はフォトダイオードアレイ2の上面と
同じ高さまたは実質的に同じ高さにしてある。なお、図
1〜図3には示されていないが、MID基板上面にはフ
ォトダイオードアレイの位置決めのための溝または位置
決めのための突起が設けられていても良い。位置決めの
ための溝または突起を設けることによって、放射線検出
器用部品の製造において、フォトダイオードアレイ2を
MID基板1上に配置する際に特別な位置決め治具を必
要としなくて済む。また、フォトダイオードアレイ2の
位置決めを容易におこなうことができ、製造工程を簡略
化することができる。
【0045】フォトダイオードアレイ2の各々のフォト
ダイオード素子の上面でパッド形成用突起3に隣接する
部分にそれぞれ第1パッド4が設けられており、また、
パッド形成用突起3の上端面で各々の第1パッド4が設
けられており、また、パッド形成用突起3の上端面で各
々の第1パッド4と隣接する部分にそれぞれ第2パッド
5が設けられており、これらの対応する第1パッド4と
第2パッド5との間にはワイヤボンディング6が設けら
れている。
【0046】第1パッド4と第2パッド5との間の電気
的接続について、図3(b)を参照して説明する。上述
したように、対応する第1パッド4と第2パッド5との
間は、ワイヤボンディング6によって電気的に接続され
ている。ここで、パッド形成用突起3の上端面とフォト
ダイオードアレイ2の上面の高さは、図3(b)にも示
すように、同じか実質的に同じである。したがって、ワ
イヤボンディング6を設けるにあたって、第1パッド4
と、第2パッド5との間の水平距離を大きく取る必要は
なく、パッド形成用突起3の幅を狭くすることができ
る。なお、第1パッド4と第2パッド5との間の水平距
離を小さくする観点からは、第1パッド4および第2パ
ッド5の高さが同じか実質的に同じであれば足りる。し
たがって、この条件が満たされてさえいれば、フォトダ
イオードアレイ2の上面とパッド形成用突起3の上端面
とが同じもしくは実質的に同じ高さである必要はない。
【0047】また、図3(a)からも分かるように、フ
ォトダイオードアレイ2と接触するMID基板1の上面
上には、配線パターン7、たとえばカソード配線パター
ン7が設けられており、MID基板下面には第2パッド
5の数と同数の、たとえばピン状の第1端子8、たとえ
ばアノード端子8および1個のたとえばピン状の第2端
子9、たとえばカソード端子9が設けられている。さら
に、第2パッド5と第1端子8、たとえばアノード端子
8とが1対1の関係で、MIDにより形成されている配
線10により電気的に接続されており、また、配線パタ
ーン7たとえばカソード配線パターン7と第2端子9、
たとえばカソード端子9とがたとえばMID基板1に設
けられた穴に配置した配線により電気的に接続されてい
る。これにより、フォトダイオードアレイ2を構成する
個々のフォトダイオード素子の第1パッド4は、ワイヤ
ボンディング6を介して第2パッド5と電気的に接続す
る。さらに、第2パッド5は、図2で示したように、配
線10を介して第1端子8に電気的に接続することか
ら、個々のフォトダイオード素子の第1パッド4は、第
1端子8と電気的に接続している。一方、個々のフォト
ダイオード素子は底面においてカソード電極を有し、そ
の電極は配線パターン7を介して第2端子9に電気的に
接続している。ここで、個々のフォトダイオード素子の
カソード電極は互いに短絡して共通の第2端子9に接続
されているが、個々のフォトダイオード素子の第1パッ
ド4は、互いに短絡することなく第1端子8に接続され
ている。したがって、個々のフォトダイオード素子から
出力される電気信号は、それぞれに対応した第1端子8
を介して個別に取り出すことができる構造となってい
る。なお、このアノードとカソードとが逆になっていて
も全く同様である。
【0048】このような構成で放射線検出装置を実現し
た場合、フォトダイオードアレイ2を構成する個々のフ
ォトダイオードから発生する電気信号を検出するための
配線に必要な領域が少なくてすむという特徴を有する。
すなわち、第2パッド5から出力される電気信号をMI
D基板1の下部に設けた第1端子8から取り出す立体配
線構造とすることで、従来のように基板表面に2次元的
な配線を施した場合と比べて、フォトダイオードアレイ
間の隙間領域を狭くすることが可能となる。従来のよう
に基板表面に2次元的な配線をした場合には、必要な配
線をすべてフォトダイオードアレイ間の隙間領域に平面
状に配置する構造となる。したがって、必要な配線を確
保するためには隙間領域を広くする必要があった。本実
施の形態1にかかる放射線検出装置は、従来と比較して
フォトダイオードの占有面積を相対的に大きく取ること
ができ、有効X線受線面積を最大にし、検出効率を増大
させることができる。
【0049】なお、図1〜図3においては、放射線検出
器用部品の上面のフォトダイオード素子の数、したがっ
て第2パッド5の数が8であり、放射線検出器用部品の
裏面のピン状端子の数が9である場合を例示しているの
で、各々の第2パッド5の間隔と、各々のピン状端子の
間隔、各々の穴の間隔とは一致していない。ここで、当
然のことながら図1〜図3で示すフォトダイオード素子
の数、第2パッド5の数、および第1端子8の数はあく
まで例示的なものである。したがって、フォトダイオー
ドの数が8よりも多い場合でも、少ない場合であっても
図1〜図3に示すような構造を実現することができる。
【0050】なお、実施の形態1にかかる放射線検出器
用部品では、MID基板1に配線10を施すことによっ
て立体配線を実現しているが、MID基板1およびパッ
ド形成用突起3を貫通したスルーホールによって立体配
線を形成しても良い。スルーホールを用いた場合、基板
についてもMID基板以外の基板を用いることが可能で
ある。
【0051】(変形例)次に、実施の形態1にかかる放
射線検出器用部品の変形例について説明する。この変形
例では、フォトダイオードアレイ2を用いるのではな
く、互いに分離した個々のフォトダイオード素子をMI
D基板1上に配列する構造を有する。
【0052】すなわち、変形例にかかる放射線検出器用
部品は、図1〜図3に示した実施の形態1にかかる放射
線検出器用部品で用いたフォトダイオードアレイ2を複
数個のフォトダイオード素子に変更し、MID基板1上
面に各々のフォトダイオード素子の位置決めのための溝
または位置決め突起を設けるように変更したものであ
る。この位置決め突起が土手状となっていて、隣接チャ
ンネル間の仕切板として機能するように構成することに
よりフォトダイオードとシンチレータとの間に用いる透
明接着剤層による光クロストークを低減できるので好ま
しい。
【0053】また、位置決め突起もしくは溝を有するこ
とで、個々のフォトダイオード素子をMID基板1上に
配置する際に特別な位置決め治具を要しないという利点
も有する。また、容易にフォトダイオード素子の位置決
めをおこなうことができるため、放射線検出器用部品の
製造を低コストで迅速におこなうことができる。
【0054】(実施の形態2)次に、実施の形態2にか
かる放射線検出器について説明する。図4は、実施の形
態1にかかる放射線検出器用部品とシンチレータアレイ
とを分離した状態で示す概略斜視図であり、図5は、上
記の実施の形態1にかかる放射線検出器用部品とシンチ
レータアレイを組み立てた状態の実施の形態2にかかる
放射線検出器の概略斜視図である。
【0055】図4および図5に示すように、実施の形態
2にかかる放射線検出器は、図3に示す上記の実施の形
態1にかかる放射線検出器用部品と、放射線検出器用部
品のフォトダイオードアレイの上面上に各々の素子が対
応するように設置されたシンチレータアレイ11とを有
している。このシンチレータアレイ11は、シンチレー
タ素子12とセパレータ13とからなるものである。ま
た、上記の放射線検出器用部品とシンチレータアレイ1
1とは光学接着剤で固定されている。
【0056】(変形例)実施の形態2の変形例にかかる
放射線検出器は、図1〜図3に示した実施の形態1にか
かる放射線検出器用部品で用いたフォトダイオードアレ
イ2を複数個のフォトダイオード素子に変更し、MID
基板1上面に各々のフォトダイオード素子の位置決めの
ための溝または位置決め突起を設けるように変更した実
施の形態1の変形例にかかる放射線検出器用部品と、放
射線検出器用部品の各々のフォトダイオード素子の上面
の上に各々の素子に対応する用に設置されたシンチレー
タ素子とを有するものであり、その他は図4および図5
に示した実施の形態2にかかる放射線検出器と実質的に
同一である。変形例にかかる放射線検出器においては、
この位置決め突起が土手状になっていて、隣接チャンネ
ル間の仕切板として機能するように構成することにより
フォトダイオードとシンチレータとの間に用いる透明接
着剤層による光クロストークを低減できるので好まし
い。
【0057】(実施の形態3)次に、実施の形態3にか
かる放射線検出装置について説明する。図6は、図5に
示した所定数の放射線検出器を縦横に配置して得た実施
の形態3にかかる放射線検出装置の概略斜視図であり、
図7は、さらにコリメータ14を組み込んだ放射線検出
装置の概略斜視図である。図6および図7で示すよう
に、放射線検出装置は、フォトダイオードとシンチレー
タ素子との組み合わせからなる放射線検出部が2次元的
に配列された構造を有する。このことから、単一スライ
スのみならず、マルチスライスX線CT装置における放
射線検出装置として使用することができる。
【0058】上で述べたように、実施の形態1〜3にお
いては、フォトダイオードの上面と一次基板の表面との
段差をなくしてワイヤボンディングに必要なスペースを
最小にし、出力端子を一次基板の下側に配置し、出力端
子とワイヤボンディングパッドとを立体配線で接続する
ことにより放射線検出器を小型化しているので、図6ま
たは図7に示すように、放射線検出器を隙間なく配置す
ることができ、したがって、たとえばX線CT装置の単
位面積あたりの有効X線受線面積を最大にし、検出効率
を増大させることができる。
【0059】(実施例)図1に示したフォトダイオード
アレイ2として、長さ13.6mm、幅1.35mm、
厚さ0.3mmのPIN型シリコンフォトダイオードを
用いた。また、図1に示したMID基板1として、基材
がポリプラスチック社製の液晶ポリマーであり、基板全
体の長さが13.6mm、厚さが1.5mm、幅が1.
5mm、突起部の長さが13.6mm、高さが0.3m
m、幅が0.14mm、ピン状出力端子の直径が0.4
6mmであり、配線がワイヤボンディングパッド部、垂
直配線部およびスルーホール部とも銅メッキ、ニッケル
メッキおよび金メッキを施したものを用いた。図4に示
したシンチレータとして、長さ13.6mm、幅1.5
mm、厚さ2mmのCdWO4を用いた。
【0060】上記のフォトダイオードおよびMID基板
1を組み立てて本発明の放射線検出器用部品を作製し、
さらにシンチレータを組み入れて本発明の放射線検出器
を作製した。また、所定数のこの放射線検出器を組み立
てて、二次元放射線検出装置を作製した。
【0061】なお、本発明においては、MID基板1に
ついて上記のポリプラスチック社製の液晶ポリマーの代
わりに、立体成形の可能な任意の樹脂を用いることがで
き、MID基板上の配線として上記のメッキの代わりに
導電性材料の印刷、銅箔の転写を採用することができ、
ピン状出力端子の代わりにスルーホールのままでも、は
んだバンプでも良い。また、シンチレータの材質につい
て、CsIやNaIでも良く、その他にもBi4Ge3
12、BaF2、Gd2SiO5、Lu2SiO5や、各種セ
ラミックシンチレータなどが代表的な材料として例示で
きるが、基本的には入射する放射線を光に変換すること
のできる素子であればよい。
【0062】(実施の形態4)次に、実施の形態4にか
かる放射線検出器用部品について説明する。図8(a)
は、実施の形態4にかかる放射線検出器用部品の構造を
示すため、フォトダイオードアレイ22とシンチレータ
アレイ21とを分離した状態で示す概略模式図である。
また、図8(b)は、フォトダイオードアレイ22とシ
ンチレータアレイ21とを接触させた放射線検出器用部
品の概略斜視図である。図8(b)に示すように、本実
施の形態4にかかる放射線検出器用部品においては、シ
ンチレータアレイ21のアレイ整列方向の一方の側面に
フォトダイオードアレイ22が配置され、シンチレータ
アレイ21とフォトダイオードアレイ22とは、光学接
着剤によって接着されている。シンチレータアレイ21
は、個々のシンチレータ素子23と、セパレータ24と
からなるものであり、このフォトダイオードアレイ22
には、図8(a)に示すように、個々のシンチレータ素
子23と対面する部分に各々のフォトダイオード素子2
2aが形成されている。また、各々のフォトダイオード
素子22aにはそれぞれ配線25が電気的に接続されて
おり、各々の配線25はフォトダイオードアレイの表面
に配置されていて、各々の配線25の末端は、フォトダ
イオードアレイ22とシンチレータアレイ21とが接触
する部分よりも受光方向下流側、すなわち図8(a)お
よび図8(b)における下側に存在していて、端子26
を形成している。
【0063】本実施の形態4においては、フォトダイオ
ードアレイ22は、シンチレータアレイ21に対して受
光方向下流側に位置しておらず、シンチレータアレイ2
1の整列方向の一方の側面に配置されている。しかし、
フォトダイオードアレイ22に含まれる各々のフォトダ
イオード素子22aは、X線を直接電気信号に変換する
のではない。具体的には、各々のフォトダイオード素子
22aは、シンチレータアレイ21に入射したX線に起
因して、シンチレータ素子23を構成する原子から放射
状に分散される可視光線を受光している。したがって、
X線についての受光方向下流側に位置していなくとも、
フォトダイオード素子22aは、問題なく可視光線を受
光することができる。
【0064】このように、シンチレータアレイ21に対
して、アレイ整列方向の一方の側面にフォトダイオード
アレイ22を配置することで、次の利点が生じる。すな
わち、フォトダイオードアレイ22の厚みは、厚くとも
せいぜい数百μm程度しかない。したがって、受光方向
から実施の形態4にかかる放射線検出器用部品を見た場
合、シンチレータアレイ21の占める面積と比較して、
フォトダイオードアレイ22が占める面積を非常に小さ
くすることができる。これにより、放射線検出器用部品
を複数配列して放射線検出器を構成した場合に、放射線
検出器用部品を隙間なく配置することができる。したが
って、たとえばX線CT装置に使用した場合、X線CT
装置の単位面積あたりの有効X線受線面積を大きくし、
検出効率を増大させることができるという利点を有す
る。
【0065】(実施の形態5)次に、実施の形態5にか
かる放射線検出器について説明する。図9は、実施の形
態4にかかる放射線検出器用部品を複数用いて、放射線
検出器を構成した場合の状態を示す概略断面図である。
図9に示すように、実施の形態5にかかる放射線検出器
は、図8(a)に示す放射線検出器用部品27が、基板
28の上に固定されることによって支持されている。こ
こで、基板28は、シンチレータアレイ21のアレイ整
列方向の長さに関してはシンチレータアレイ21とほぼ
同じ長さを有し、シンチレータアレイ整列方向と直角の
方向の幅に関しては、シンチレータアレイ21とほぼ同
じ幅を有する。なお、基板28の高さに関しては、特に
制限はない。基板28上には各々のフォトダイオード素
子に対応するように配線29が設けられている。
【0066】次に、図9に示した放射線検出器の組立方
法について、説明する。図9に示す構造に組み立てる場
合には、ワイヤボンディング操作が容易になるように、
基板28上に設けられた配線29は、隣接する放射線検
出器用部品27のフォトダイオードアレイ22の表面に
配置されている各々の配線の端子26にワイヤボンディ
ング30により電気的に連結されており、各基板28に
はワイヤボンディング30の位置に相当する部分に窪み
が設けられている。
【0067】ここで、図9に示した状態に組み立てるた
めは、水平方向に順次組み立てていくのではなく、図9
の左側を下にして垂直方向に置いて順次組み立てる。す
なわち、放射線検出器用部品(説明の便宜上、27Aと
する)と基板(説明の便宜上、28Aとする)とを横方
向に並べて配置させた後、放射線検出器用部品27Aの
上に放射線検出器用部品27Bを重ねて固定し、その重
ねた放射線検出器用部品27Bの端子26と基板28A
上に設けられた配線29とをワイヤボンディング30で
電気的に連結する。そして、基板28Aの上に基板28
Bを重ねて固定する。その後、放射線検出器用部品27
Cを重ねて固定し、放射線検出器用部品27Cの端子2
6と基板28Bの配線29とをワイヤボンディング30
で電気的に連結する。この操作をくり返して所定数の放
射線検出器用部品を用いた二次元放射線検出装置を形成
する。
【0068】さらに必要に応じて、このようにして組み
立てた二次元放射線検出装置がシンチレータアレイ21
のアレイ整列方向に2組以上配置された一層広い有効面
積の二次元放射線検出装置とすることもできる。
【0069】なお、基板28は、ガラスエポキシ基板、
セラミック基板、液晶ポリマー基板、エポキシ樹脂のモ
ールド品で構成する基板、その他のプラスチック基板等
の材料を用いることができる。
【0070】図9に示す放射線検出器においては、複数
個の放射線検出器用部品27とそれに対応した個数の基
板28とで構成されているが、図10に示すように、シ
ンチレータアレイのアレイ整列方向とは直角の方向に、
所定数の放射線検出器分の長さに渡って連続させた基板
31を用いることもできる。この場合には、基板31の
上面に、放射線検出器用部品27のフォトダイオードア
レイ22とシンチレータアレイ21との接触部分よりも
下に延伸しているフォトダイオードアレイ22の部分を
収容する溝を設け、また、基板31中に導電性ピン32
を埋め込んで、フォトダイオードアレイ22の表面に配
置されている各々の配線の端子26と電気的に連結でき
るようにする。
【0071】図11は、図9または図10に示した所定
数の放射線検出器を連結して配置して得た二次元放射線
検出装置から、基板28の部分を除いて図示した概略斜
視図である。
【0072】上で述べたように、放射線検出器用部品2
7および放射線検出器においては、フォトダイオードア
レイ22の各々のフォトダイオード素子に電気的に接続
している各々の配線25を放射線検出器の受光方向下流
側、すなわち下側で取り出しているので、図11に示す
ように、放射線検出器を隙間なく配置することができ、
したがって、たとえばX線CT装置の単位面積あたりの
有効X線受線面積を最大にし、検出効率を増大させるこ
とができる。
【0073】(実施の形態6)図12および図13は、
本発明の実施の形態6にかかる放射線検出器用部品およ
び放射線検出器を説明するための概略斜視図である。こ
こで、図12は、フォトダイオードアレイ33と、シン
チレータアレイ34とを分離した状態で示す概略斜視図
であり、図13は、フォトダイオードアレイ33と、シ
ンチレータアレイ34とを組み立てた状態を示す概略斜
視図である。
【0074】図12および図13からも明らかなよう
に、実施の形態6にかかる放射線検出器用部品および放
射線検出器においては、シンチレータアレイ34のアレ
イ整列方向の一方の側面にフォトダイオードアレイ33
が配置され、光学接着剤で固定される。このフォトダイ
オードアレイ33の各々のフォトダイオード素子にはそ
れぞれ配線35が電気的に接続されており、各々の配線
35は、シンチレータアレイ34との接触部分よりも受
光方向下流側に延伸した結果、シンチレータアレイ34
のアレイ整列方向にのび、各々の配線の末端は、シンチ
レータアレイ34との接触部分を超えた側方位置に存在
していて、端子36を形成している。基板37は、その
一部がフォトダイオードアレイ33の裏面に固着され、
他の部分において配線38を有し、配線38と端子36
とは、ワイヤボンディングによって電気的に接続されて
いる。
【0075】このように構成することで、フォトダイオ
ードアレイ33に含まれる各々のフォトダイオード素子
から引き出す配線35および端子36について、次の利
点を有する。すなわち、フォトダイオードアレイ33
は、シンチレータアレイ34の側面に配置されているた
め、フォトダイオードアレイ33の厚みのみが有効X線
受線面積に影響を与える。したがって、フォトダイオー
ドアレイ33のフォトダイオード素子が配置される面の
面積を大きくすることができる。このことから、フォト
ダイオードアレイ33を受光方向下流側に大きく延伸す
ることが可能となる。フォトダイオードアレイ33にお
いて、各々のフォトダイオード素子が配置された領域以
外については配線35を配置することが可能である。し
たがって、フォトダイオードアレイ33の面積を大きく
することで、配線35および端子36を配置する領域を
広くとれることとなり、配線35の幅および端子36の
面積を大きくすることができる。したがって、従来のよ
うに微細配線を施す必要はなく、断線や、高抵抗といっ
た問題を防止することができる。
【0076】実施の形態6にかかる放射線検出器用部品
を用いて放射線検出器を作製する際には、図12および
図13に示すように、シンチレータアレイ34と接触し
ていない部分のフォトダイオードアレイ33に基板37
を設けることができる。他の方法としては、放射線検出
器用部品の下に放射線検出器用部品を支持する基板を設
けても良く、この場合には、図9および図10に示した
場合のように、フォトダイオードアレイ33上の端子2
6を基板の配線29または導電性ピン32に電気的に連
結させる必要はない。
【0077】さらに、上記の放射線検出器を用いて二次
元放射線検出装置を作製する場合には、図14の概略斜
視図に示すように、シンチレータアレイ34のアレイ整
列方向とは直角の方向に任意の数の放射線検出器を連結
させることができる。また、端子36を両側に出すこと
によりシンチレータアレイ34のアレイ整列方向に2組
を配置させることができ、有効X線受線面積をさらに大
きくすることができる。
【0078】(実施例)図15(a)は、放射線検出器
のシンチレータアレイのアレイ整列方向で切断した状態
の二次元放射線検出装置の概略断面図であり、図15
(b)は、図15(a)に対して垂直の方向で切断した
状態の二次元放射線検出装置の概略断面図である。図1
5(a)および図15(b)に示すように、フォトダイ
オードアレイ39としては24チャンネルフォトダイオ
ードアレイ(長さ38.05mm、幅6.0mm、厚さ
0.3mm、受光部サイズ1.18mm×3.8mm、
チャンネルピッチ1.5875mm)のPIN型シリコ
ンフォトダイオードを用い、シンチレータアレイ40と
して、長さ38.05mm、幅5.0mm、厚さ2.1
9mm(チャンネルサイズ1.33mm×4.0mm×
2.0mm)のCdWO4を用いた。また、基板41と
して厚さ0.2mmのガラスエポキシ基板を用い、フォ
トダイオードと基板41の配線とはワイヤボンディング
42によって接続し、基板配線からの出力端子として、
1.27mmピッチ、25チャンネルコネクター43を
用いた。この25チャンネルのうち、24チャンネル
は、アノードピン44であり、1チャンネルはカソード
ピン45である。この24チャンネル検出器基板を5段
に積層し、その空間部分にはエポキシ樹脂46を充填
し、基板のない側には保護カバー板47を設けて120
チャンネルの二次元X線検出器を試作した。
【0079】なお、本発明においては、ピンのかわりに
BGA用のバンプを用いてもスルーホール端子を用いて
も良い。また、シンチレータの材質も、CdWO4の他
に、CsIやNaI、LSOでも良く、各種セラミック
シンチレータでも良い。
【0080】(実施の形態7)次に、実施の形態7にか
かる放射線検出器用部品ついて説明する。図16は、実
施の形態7にかかる放射線検出装置の概略斜視図であ
る。実施の形態7にかかる放射線検出器用部品は、図1
6に示すように、スライス方向に延伸した構造の溝部5
2を有する基板51と、溝部52に埋め込まれたフォト
ダイオードアレイ53とを有する。また、基板51およ
び基板の溝部52に埋め込まれたフォトダイオードアレ
イ53の上には、2次元シンチレータアレイ54が配置
されている。ここで、図16においては、2次元シンチ
レータアレイ54は、基板51から空間的に離間して配
置されている。これは実施の形態7にかかる放射線検出
装置の構造の理解を容易にするためであり、実際には2
次元シンチレータアレイ54と基板51とは透明接着剤
によって密着した状態で固定されている。また、基板5
1の下には、回路基板64が配置され、回路基板64上
に配置される電気回路は、フォトダイオードアレイ53
を構成する個々のフォトダイオード素子55と電気的に
導通している。
【0081】フォトダイオードアレイ53は、複数のフ
ォトダイオード素子55を有し、複数のフォトダイオー
ド素子55は、フォトダイオードアレイ53上におい
て、1次元アレイ状の配列を有するように配置されてい
る。本実施の形態7では、フォトダイオードアレイ53
は、長手方向がスライス方向となるように配置されてい
る。したがって、放射線検出装置は、図16で示すよう
に、チャンネル方向(スライス方向と直角の方向)に4
個のフォトダイオード素子55を有し、スライス方向に
3個のフォトダイオード素子55を有する構造となる。
【0082】2次元シンチレータアレイ54は、複数の
シンチレータ素子59とセパレータ60を有する。フォ
トダイオード素子55に対応して複数のシンチレータ素
子59が2次元状に配置されており、個々のシンチレー
タ素子59の境界にセパレータ60を挟み込む構造をし
ている。
【0083】シンチレータ素子59は、入射するX線を
可視光線に変換するためのものである。シンチレータ素
子59はCdWO4や、CsI、NaIなどで構成さ
れ、入射するX線の強度に応じた可視光線をフォトダイ
オード素子55に対して出力する機能を有する。また、
シンチレータ素子59の外表面には白色塗装が施されて
おり、シンチレータ素子59の内部で変換された可視光
線がシンチレータ素子59の外部に漏れ出すことを防止
している。なお、シンチレータ素子59を構成する材料
は、上記のもの以外でも良く、Bi4Ge312、BaF
2、Gd2SiO5、Lu2SiO5や、各種セラミックシ
ンチレータなどが代表的な材料として例示できるが、基
本的には入射する放射線を光に変換することのできる素
子であればよい。
【0084】セパレータ60は、X線および可視光線の
透過を防止するためのものである。セパレータ60は、
鉛(Pb)等を含み、X線および可視光線を反射もしく
は吸収する機能を有する。セパレータ60をシンチレー
タ素子59相互の間に挟み込むことで、シンチレータ素
子59の表面に対して斜め方向から入射した場合に、同
一のX線が複数のシンチレータ素子59に入射すること
によって生じるクロストークを防止する。このことはX
線から変換された可視光線についても同様である。すな
わち、セパレータ60を配置することで、あるシンチレ
ータ素子59内部で発生した可視光線が、隣接した他の
シンチレータ素子59に入射することで生じる光クロス
トークを防止することができる。
【0085】フォトダイオード素子55は、対応するシ
ンチレータ素子59の内部でX線から変換された可視光
線を受光して、受光した可視光線を電気信号に変換して
外部に出力するためのものである。フォトダイオード素
子55はPIN型フォトダイオードからなり、底部にn
型層を有し、フォトダイオードアレイ53の表面部分で
はp型層を形成している。さらに、上面の周端部にp型
層に接触したアノード電極56を有し、底部にn型層に
接触したカソード電極を有する。
【0086】次に、実施の形態7にかかる放射線検出装
置の構造のうち、フォトダイオード素子55と回路基板
64との電気的接続の態様について、図17を参照して
説明する。図17は、実施の形態7にかかる放射線検出
装置の断面構造の一部を表す。なお、図17では、理解
を容易にするために、2次元シンチレータアレイ54お
よび回路基板64を省略して表示している。
【0087】図16および図17に示すように、フォト
ダイオード素子55は基板51に設けられた溝部52に
埋め込まれている。ここで、図17から明らかなよう
に、溝部52はフォトダイオード素子55の厚みと同等
の深さを有する。そのため、フォトダイオード素子55
が埋め込まれた状態では、フォトダイオード素子55の
上面に配置されたアノード電極56と、基板51の上面
に配置されたパッド57とが同一の平面を形成してい
る。また、フォトダイオード素子55の上面に配置され
たアノード電極56と、基板51の上面に配置されたパ
ッド57との間はワイヤボンディング61によって接続
されている。さらに、図17における破線領域には、ス
ルーホール58が設けられており、スルーホール58と
パッド57とは電気的に接続している。
【0088】また、スルーホール58は、基板51の裏
面まで貫通し、基板51の裏面に配置されたパッド63
に電気的に接続している。したがって、アノード電極5
6から出力される電気信号はワイヤボンディング61、
パッド57、スルーホール58を経て、基板51の裏面
に配置されたパッド63にまで伝えられる。基板51の
裏面は、図16でも示したように、回路基板64が配置
されている。パッド63は、回路基板64上に設けられ
た電気回路と電気的に接続している。パッド63の下に
は、あらかじめ半田ボール62が配置されており、パッ
ド63と、回路基板64上に設けられた電気回路とは、
半田ボール62によって電気的に接続されている。具体
的には、回路基板64上に基板51を仮固定した状態で
熱を印加して半田ボール62を溶融し、パッド63と電
気回路との間の導通を確保している。上記のような構造
を有することで、実施の形態7にかかる放射線検出装置
は、フォトダイオード素子55からの電気信号を、回路
基板64上に設けられたパッド63から外部に出力する
ことができる。
【0089】次に、フォトダイオード素子55の裏面に
設けられているカソード電極と回路基板64との導通の
態様について説明する。図18は、実施の形態7にかか
る放射線検出装置を構成する基板51の端部についての
上面図である。なお、図18は、フォトダイオードアレ
イ53を埋め込む前の状態を示している。
【0090】基板51に設けられた溝部52の底面に
は、カソードパッド65が配置されている。カソードパ
ッド65は、フォトダイオードアレイ53上に配置され
たそれぞれのフォトダイオード素子55の底面に設けら
れたカソード電極のすべてと電気的に接触するように、
溝部52の底面全般に渡って配置されている。したがっ
て、個々のフォトダイオード素子55は、カソード電極
に関しては互いにショートした関係となっているが、ア
ノード電極がフォトダイオード素子55ごとに分かれて
いるため、電気信号を出力する際に互いの電気信号が合
成されてしまうことはない。
【0091】また、カソードパッド65の一部領域にお
いて、カソードスルーホール66が配置されている。カ
ソードスルーホール66は、溝部52の底面と、基板5
1の裏面とを電気的に接続するためのものである。図1
7に示したアノード電極と回路基板64上の電気回路と
の接続と同様に、カソードスルーホール66は、基板5
1の裏面に設けられたパッド63に電気的に接続されて
いる。また、裏面に設けられたパッド63と、回路基板
64上の電気回路との間は半田ボール62を介して接続
されている。以上により、実施の形態7にかかる放射線
検出装置は、フォトダイオード素子55から出力される
電気信号を外部に出力する構造を有する。
【0092】次に、実施の形態7にかかる放射線検出装
置の動作について説明する。図19は、実施の形態7に
かかる放射線検出装置にX線が入射する様子を示す模式
図である。
【0093】シンチレータ素子59の上面から入射した
X線は、シンチレータ素子59内部において、可視光線
に変換される。ここで、可視光線への変換効率はX線の
エネルギーに比例する。ここで、シンチレータ素子59
の上面に対して垂直以外の角度で入射したX線について
は、シンチレータ素子59の側面に到達する前に可視光
線にすべて変換されるか、X線のまま側面まで到達した
としても、セパレータ60によって大部分が吸収もしく
は反射されるため、隣接した他のシンチレータ素子に入
射することはほとんどない。このことは、X線から変換
された可視光線についても同様で、可視光線が他のシン
チレータ素子に入射することはない。
【0094】そして、X線から変換された可視光線は、
フォトダイオード素子55に入射する。フォトダイオー
ド素子55は、受光した可視光線を電気信号に変換す
る。具体的には、入射光によってフォトダイオード素子
55内部において電子・正孔のペアが発生することに基
づいて電気信号が発生する。ここで、電気信号の強度は
受光する可視光線が有するエネルギー値に比例する。可
視光線のエネルギー値は、上述したようにシンチレータ
素子59に入射するX線光線の強度に比例することか
ら、フォトダイオード素子55から出力される電気信号
の強度は、シンチレータ素子59に入射するX線光線の
強度に比例することは明らかである。フォトダイオード
素子55から出力される電気信号は、スルーホール58
およびカソードスルーホール66を介して基板51の裏
面に伝えられ、回路基板64を介して外部に出力され
る。なお、図19では電気信号の例として電流Iが出力
される態様を示しているが、これに限定されるものでは
なく、電圧の変化等の形で電気信号を出力しても良い。
【0095】以上述べたように、個々のシンチレータ素
子59に入射したX線についてその強度に応じた電気信
号を出力する構造を有することで、実施の形態7にかか
る放射線検出装置は、入射位置に関するX線の強度分布
を求めることができる。
【0096】本実施の形態7にかかる放射線検出装置
は、フォトダイオード素子55が列状に配列したフォト
ダイオードアレイ53を複数配列する構造を有する。し
たがって、製品としての歩留まりが向上するという利点
を有する。すなわち、図16で示したような2次元フォ
トダイオードアレイを同一基板上に形成した場合には、
12個のフォトダイオード素子のうち、1つでも欠陥を
有する素子が存在することで残りの11個のフォトダイ
オード素子についても放射線検出装置に使用することは
できない。
【0097】一方、本実施の形態7にかかる放射線検出
装置では、仮に1個のフォトダイオード素子55に欠陥
があっても、欠陥を有するフォトダイオード素子55を
有するフォトダイオードアレイ53を別のものと交換す
るのみで済み、残りの9個のフォトダイオード素子を有
効活用することができる。特に、近年のX線CTスキャ
ン装置に用いる放射線検出装置は、多チャンネルおよび
多スライス化が進んでいるため、配置するフォトダイオ
ード素子の数が増大する傾向にある。したがって、1次
元のフォトダイオードアレイ53を複数配列する本実施
の形態7にかかる放射線検出装置は、さらに高い歩留ま
りを有することが期待できる。
【0098】また、1次元の配列を有するフォトダイオ
ードアレイ53を溝部52に埋め込む構造を採用してい
る。このことにより、以下の利点を有する。まず、溝部
52の幅と、フォトダイオードアレイ53の幅が一致し
ているため、位置あわせを容易におこなうことができ
る。したがって、フォトダイオードアレイ53を基板5
1上に配置する際にはスライス方向に関してのみ位置決
めをおこなえばよい。さらに、スライス方向の位置決め
のために突起部もしくは溝部を新たに設けた場合には、
位置調整等の工程を一切経ることなく容易にフォトダイ
オードアレイ53を配置することができる。このため、
本実施の形態7にかかる放射線検出装置では、製造が容
易で、かつ、迅速に製造をおこなうことができる。
【0099】さらに、本実施の形態7においては、フォ
トダイオードアレイ53の厚みと、溝部52の深さはほ
ぼ同一の値をとる。このことにより、ワイヤボンディン
グ61に必要な領域を小さくできるという利点を有す
る。
【0100】フォトダイオードアレイ53上に配列する
個々のフォトダイオード素子55から電気信号を外部に
出力するためには、フォトダイオード素子55のアノー
ド電極56およびカソード電極を基板上に設けられた電
極と電気的に接続させることが必要である。ここで、フ
ォトダイオードアレイを平板上に配置した場合には、ア
ノード電極と、基板上に配置されたパッドとの段差が避
けられないという問題があった。段差を有する場合に
は、ワイヤボンディングに必要な水平距離を大きく取る
必要があった。しかし、本実施の形態7においては、ア
ノード電極56とパッド57との間に段差は全く生じな
いか、生じたとしてもごくわずかであるため、従来のよ
うに水平距離を大きく取る必要がない。
【0101】さらに、本実施の形態7においては、フォ
トダイオード素子55の上面に配置したアノード電極5
6を、スルーホール58を利用することで立体的に引き
出す構造を有する。このことにより、隣接するフォトダ
イオードアレイ53間に位置する基板51の土手部分の
幅を狭くすることができる。従来は、基板の上面に必要
な配線を施していたため、特に多チャンネルおよび多ス
ライス化するにしたがって、配線の幅を狭くするか、フ
ォトダイオードアレイ53相互の間の幅を大きくする必
要があった。
【0102】一方、本実施の形態7においては、アノー
ド電極56を立体的に引き出す構造としており、基板5
1の上面に配線を設ける必要がない。したがって、多チ
ャンネルおよび多スライス化によってフォトダイオード
素子55の数が増大する構造となっても、フォトダイオ
ードアレイ53の間隔を広く取る必要はなく、間隔を一
定に保つことができる。具体的には、フォトダイオード
アレイ53の間に位置する基板51の土手部分の幅は、
ワイヤボンディングに必要な幅およびスルーホールに必
要な幅さえ確保できればいくらでも狭くすることが可能
である。したがって、放射線検出装置においてX線入射
方向に対して垂直な面でのフォトダイオード素子55が
占める面積を広く取ることができ、高感度の放射線検出
装置を実現することができる。
【0103】また、本実施の形態7においては、基板5
1でアノード電極56を垂直方向に引き出して回路基板
64に接続した場合、回路基板64上の電気回路によっ
て電気信号を外部に出力する構造を有する。この場合、
回路基板64上であって、フォトダイオードアレイ53
の下部に位置する領域についても回路を構成することが
可能であるため、基板51の上面に電気回路を配置した
場合と比較して、回路に使用する面積を大きくすること
ができるという利点も有する。したがって、微細配線を
施す必要もなくなり、高抵抗化または断線の危険も回避
することができる。
【0104】さらに、本実施の形態7において、基板5
1上に溝部52を設けることは容易である。たとえば、
半導体チップの分離に使用するダイシングソーを用いて
基板51の表面を削ることで、溝部52を形成すること
ができる。したがって、本実施の形態7では、放射線検
出装置を容易に製造することができるという利点も有す
る。また、単純な構造でフォトダイオードアレイ53の
位置決めをおこなうことができるため、この点でも放射
線検出装置を容易に製造することができる。
【0105】また、本実施の形態7において、基板51
の裏面に設けられたパッド63と回路基板64とは、半
田ボール62を使って電気的に接続されている。このた
め、基板51と回路基板64との間を容易に固定するこ
とができ、放射線検出装置を容易に製造することができ
る。
【0106】なお、実施の形態7では、3スライスを有
し、1スライスあたり4個のチャンネルを有する構造と
しているが、所定のスライスの同一チャンネルについ
て、スライス方向に複数のフォトダイオード素子を用い
る構造としても良い。
【0107】また、実施の形態7では、フォトダイオー
ドアレイ53の長手方向をスライス方向、短手方向をチ
ャンネル方向としているが、それぞれの方向を逆にして
配置しても良い。すなわち、フォトダイオードアレイ5
3の長手方向がチャンネル方向と平行になるように配置
しても本実施の形態7にかかる放射線検出装置を構成す
ることが可能である。
【0108】また、図16および図17において、アノ
ード電極56とパッド57との間を接続するワイヤボン
ディング61は、アーチ状となっているが、直線状に接
続する構造としても良い。上述の通り、基板51の上面
とフォトダイオード素子55の上面との間に段差がない
ため、直線状にワイヤボンディングしても断線等のおそ
れがないためである。
【0109】さらに、スルーホール58およびカソード
スルーホール66について、水平断面形状は円形でなく
てもよい。たとえば、断面形状をフォトダイオードアレ
イ53の長手方向に長軸を有する楕円とした場合には外
周の長さを大きく取ることができるため、円形とした場
合と比較してスルーホールを通過する際の電気抵抗を抑
制することができる。
【0110】また、本実施の形態7においてはPIN型
フォトダイオードを上面にp型層が来るように配置し
て、アノード電極56が上面に露出する構造としている
が、n型層が上面となり、カソード電極が上面に露出す
る構造としても良い。このような構造としても、放射線
検出装置は同様の利点を得ることができる。
【0111】また、フォトダイオードアレイ53に含ま
れるフォトダイオード素子55について、本実施の形態
7ではPIN型フォトダイオードを用いているが、これ
に限定する必要はなく、PN接合からなるフォトダイオ
ードやショットキーフォトダイオード、ヘテロ接合フォ
トダイオードおよびアバランシ・フォトダイオードを使
用しても良い。また、光電変換がおこなえるものであれ
ば、フォトダイオード以外の回路素子を利用しても良
い。たとえば、照射される光の強度に応じて電気的抵抗
が変化する光抵抗をフォトダイオードの代わりに使用し
ても良い。
【0112】さらに、本実施の形態7においては、基板
51の下に回路基板64を配置する構造としているが、
回路基板64を省略することも可能である。たとえば、
基板51の裏面に回路パターンをあらかじめ形成してお
き、外部に出力するためのパッドを基板51の側面上に
配置する構造としても良い。この場合、回路基板64お
よび半田ボール62を省略することが可能である。
【0113】(実施の形態8)次に、実施の形態8にか
かる放射線検出装置について説明する。図20は、実施
の形態8にかかる放射線検出装置の構造を示す概略断面
図である。ここで、図20では理解を容易にするため、
基板79に配置される2次元シンチレータアレイおよび
基板79下部に配置される回路基板については省略して
いる。
【0114】実施の形態8にかかる放射線検出装置は、
基板79上面に設けられた溝部80が、実施の形態7よ
りも深く形成されている。その他の点については、特に
断らない限り、実施の形態7と同様の構造を有し、同等
の効果を発揮するものとする。
【0115】実施の形態8においては、溝部80の深さ
を、溝部80に埋め込むフォトダイオードアレイ69の
厚みよりも大きくしている。このことにより、以下の利
点が生じる。
【0116】一般に、溝部80に埋め込まれるフォトダ
イオードアレイ69は同一条件で製造されたものを用い
るため、厚みが相違することはないと想定されている。
しかし、現実には個々のフォトダイオードアレイ69に
よって厚みが相違する場合がある。特に、半導体基板上
にエピタキシャル成長をおこなうことでフォトダイオー
ド素子を形成する場合には、完全にエピタキシャル成長
をおこなうことは困難であり、厚みの違いが生じる場合
がある。
【0117】このようにフォトダイオードアレイ69の
厚みが互いに相違する場合、基板79および埋め込まれ
たフォトダイオードアレイ69によって形成される上面
は平滑な平面を形成することはできない。そのような上
面に2次元シンチレータアレイを配置した場合、2次元
シンチレータアレイの安定性が損なわれるおそれがあ
る。基板79と2次元シンチレータアレイとの間に生じ
る空隙を透明接着剤層で補填する構造も可能であるが、
その場合、透明接着剤層で補填された空隙部分において
生じる光リークによる光クロストークが問題となる。
【0118】したがって、本実施の形態8においては、
溝部80の深さを、フォトダイオードアレイ69の厚み
よりも大きくしている。そして、基板79の上面と2次
元シンチレータアレイとが透明接着剤を介して密着した
状態で固定される。ここで、フォトダイオードアレイ6
9の上面は、2次元シンチレータアレイとは接触してい
ない。基板79の上面は、溝部80を除いて同一平面上
を形成するため、上述したような平滑な平面を形成でき
ないという問題を防止することができる。また、基板7
9の上面と2次元シンチレータアレイとの間に空隙は生
じないため、光クロストークの問題も防止することがで
きる。
【0119】ここで、溝部80の深さとフォトダイオー
ドアレイ69の厚みとの差は、1μm以上、100μm
以下とすることが望ましい。1μm以上としたのは、あ
まり差が少ないと個々のフォトダイオードアレイ69の
厚みの相違を吸収できないおそれがあるためである。ま
た、100μm以下としたのは、100μmよりも大き
くした場合に、フォトダイオードアレイ69が有するフ
ォトダイオード素子のアノード電極56と、基板79の
上面に配置されたパッド68との段差が無視できなくな
り、ワイヤボンディングをおこなうためにフォトダイオ
ードアレイ69相互間の間隔を広くとる必要が生じるた
めである。
【0120】(実施の形態9)次に、実施の形態9につ
いて説明する。図21は、実施の形態9にかかる放射線
検出装置を構成する基板70および基板70に埋め込ん
だフォトダイオードアレイ73の態様を示す概略斜視図
である。実施の形態9にかかる放射線検出装置は、フォ
トダイオードアレイ73を埋め込むために設けられた第
1の溝部71の上部に第2の溝部72を有する。第2の
溝部72は、図21に示すように、上部においてチャン
ネル方向に広い開口部を形成し受光下流方向に下るに従
い幅が狭くなる構造を有する。一方、第1の溝部71
は、フォトダイオードアレイ73を埋め込むために形成
されるため、長手方向の断面は矩形形状からなる。な
お、特に言及しない点については、実施の形態7にかか
る放射線検出装置と同様とし、同等の機能を有するもの
とする。たとえば、実施の形態9において、基板70の
下には、回路基板が配置され回路基板と基板裏面に設け
られたパッド63とは、半田ボール62を介して電気的
に接続され、外部に出力される構造を有している。
【0121】図22は、実施の形態9にかかる放射線検
出装置の構造を示す概略断面図である。フォトダイオー
ドアレイ73は、基板70内に形成した溝部71に埋め
込まれ、フォトダイオードアレイ73上に配置されてい
る個々のフォトダイオード素子ごとにアノード電極74
が、第2の溝部を構成する斜面上に設けられたパッド7
5とワイヤボンディングを介して電気的に接続されてい
る。また、第2の溝部72から基板70を鉛直方向に貫
くスルーホール76が配置され、スルーホール76は、
パッド75と電気的に接続されている。さらに、基板7
0の裏面にはパッド63が設けられ、スルーホール76
と電気的に接続している。したがって、フォトダイオー
ドアレイ73に配置されている個々のフォトダイオード
素子から出力される電気信号は、パッド75、スルーホ
ール76、パッド63を通って基板70の裏面に出力さ
れる。
【0122】第2の溝部72は、シンチレータ素子59
においてX線から変換された可視光線をフォトダイオー
ドアレイ73に集める導波路としての機能を有する。す
なわち、第2の溝部72の存在により、シンチレータ素
子59でX線から変換された可視光線は、適宜第2の溝
部72を形成する斜面上を反射し、フォトダイオードア
レイ73に含まれるフォトダイオード素子に到達し、個
々のフォトダイオード素子によって受光される。ここ
で、第2の溝部72において可視光線の反射率を高める
ため、また、可視光線を効率良くフォトダイオード素子
に入射させるために、第2の溝部72に屈折率の異なる
複数の膜からなる多層構造を積層しても良い。
【0123】第2の溝部72を有することによる利点に
ついて説明する。実施の形態9にかかる放射線検出装置
は、第2の溝部72によって可視光線を集光する構造を
有する。したがって、シンチレータ素子59上面のX線
受線面積と比較して、フォトダイオード素子の受光部分
の面積を狭くできる。このため、放射線検出装置を構成
するためのフォトダイオード素子を小型化することがで
き、製造コストを低減することができる。1個あたりの
フォトダイオード素子が小さくなることで、1枚のウェ
ハーから製造することのできるフォトダイオード素子の
数を増加させることができるためである。
【0124】(変形例)次に、実施の形態9の変形例に
かかる放射線検出装置について説明する。図23は、変
形例にかかる放射線検出装置を構成する基板77および
基板77に配置されるフォトダイオード78を示す概略
上面図である。ここで、基板77の上部には2次元シン
チレータアレイが配置され、基板77の下部には回路基
板が配置されているのは実施の形態9と同様である。変
形例においては、基板にフォトダイオードアレイを配置
するのではなく、個々に分離したフォトダイオード78
を配置するものとする。ここで、フォトダイオード78
は、実施の形態9と同様に、基板77に設けられた第1
の溝部に埋め込まれている。また、フォトダイオード7
8が埋め込まれた第1の溝部の上部には、導波路として
の機能を有する第2の溝部が形成されている。
【0125】変形例において、第2の溝部は、スライス
方向のみならず、チャンネル方向についても斜面を有
し、入射してくる可視光線をフォトダイオード78に集
束させる導波路としての機能を有する。このため、さら
に可視光線を効率的にフォトダイオード78に集めるこ
とができ、フォトダイオード78をさらに小型化するこ
とができる。
【0126】以上、実施の形態1〜9にわたって本発明
を説明してきたが、本発明はこれら実施の形態に限定さ
れるのではなく、当業者ならばこれらの実施の形態を用
いて様々な変形例に相当することが可能である。たとえ
ば、実施の形態1〜3および実施の形態7〜9におい
て、シンチレータ素子もしくはシンチレータ素子アレイ
を除外した構成として、光検出器を得ることが可能であ
る。本発明によれば、フォトダイオード素子の占有面積
を増大させることができるため、本発明の構造を光検出
器に応用することで、受光面積が広く、感度の高い光検
出器を提供することができる。
【0127】また、実施の形態1〜9において、フォト
ダイオード素子上面に設けられたパッドと、基板との間
をワイヤボンディングによって電気的に接続している
が、これに限定する必要はない。たとえば、フリップチ
ップ方式によって接続しても良いし、TAB(Tape Auto
mated Bonding)方式によって接続しても良い。実施の形
態1〜9においてはフォトダイオード素子上面に設けら
れたパッドと基板上に設けられたパッドは、同一平面を
形成するため、このような方式によっても容易に電気的
に接続することができる。
【0128】また、実施の形態7〜9において、フォト
ダイオード素子は可視光線を電気信号に変換するものと
しているが、その他の波長の光をフォトダイオード素子
に照射する構造としても良い。具体的には、ショットキ
ーフォトダイオードを使用すれば可視光領域よりも短い
波長領域の光に対して光電変換をおこなうことが可能で
あり、InSbによってフォトダイオードを形成した場
合には、窒素温度まで下げることによって赤外線領域ま
で感度を有する光電素子を得ることが可能である。X線
をこのような波長の光に変換するシンチレータ素子と組
み合わせることで、上記の放射線検出器用部品、放射線
検出器、放射線検出装置を構成することができる。
【0129】さらに、実施の形態7〜9では、1個の溝
部に対して1個のフォトダイオードアレイが埋め込まれ
る構成としているが、スライス方向に並ぶ複数のフォト
ダイオードアレイを埋め込む構造としても良い。また、
1個の溝部に対して1個のフォトダイオードアレイでは
なく、個々のフォトダイオード素子を複数埋め込む構造
としても良い。その場合には、個々のフォトダイオード
素子の位置決め用の突起もしくは溝を溝部中に設けるこ
とが望ましい。
【0130】
【発明の効果】本発明の放射線検出器用部品および放射
線検出器においては、MID基板を採用してフォトダイ
オードの上面と一次基板の表面との段差をなくしてワイ
ヤボンディングに必要なスペースを最小にし、出力端子
を一次基板の下側に配置し、出力端子とワイヤボンディ
ングパッドとを立体配線で接続することにより放射線検
出器を小型化しているので、放射線検出器を隙間なく配
置することができ、したがって、たとえばX線CT装置
の単位面積あたりの有効X線受線面積を最大にし、検出
効率を増大させることができる。
【0131】また、本発明の放射線検出器用部品および
放射線検出器においては、フォトダイオードアレイの各
々のフォトダイオード素子に電気的に接続されている各
々の配線を放射線検出器の受光方向下流側、すなわち下
側で取り出しているので、単位放射線検出器の小型化お
よび制作が容易になり、かつ放射線検出装置の制作が容
易になり、放射線検出器を隙間なく配置することがで
き、したがって、たとえばX線CT装置の単位面積あた
りの有効X線受線面積を最大にし、検出効率を増大させ
ることができる。
【0132】さらに、本発明の放射線検出装置において
は、基板上面に溝部を形成し、その溝部にフォトダイオ
ードアレイを埋め込むことで、フォトダイオードアレイ
の位置決めを容易におこなうことができる。また、フォ
トダイオードアレイ上に配置される第1パッドと、基板
上に配置される第2パッドとが同一平面を形成するよう
に配置されているため、ワイヤボンディングに必要なス
ペースを最小にし、たとえばX線CT装置の単位面積あ
たりの有効X線受線面積を最大にし、検出効率を増大さ
せることができる。さらに、第2パッドは、基板裏面に
設けられた第3パッドとスルーホール等の立体配線によ
って電気的に接続され、第3パッドから電気信号を出力
する構造としたため、有効X線受線面積を最大にすると
ともに、配線のための領域を広く確保することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1にかかる放射線検出器用部品の、
MID基板とフォトダイオードアレイとを離した状態で
示す概略斜視図である。
【図2】図1のI−I線における断面図である。
【図3】(a)は、MID基板とフォトダイオードアレ
イとを組み立てた状態の実施の形態1にかかる放射線検
出器用部品の概略斜視図であり、(b)は、組み立てた
状態におけるフォトダイオードアレイの電気的接続の態
様を示す断面図である。
【図4】実施の形態2にかかる放射線検出器の、放射線
検出器用部品とシンチレータアレイとを離した状態で示
す概略斜視図である。
【図5】実施の形態2にかかる放射線検出器の、放射線
検出器用部品とシンチレータアレイとを組み立てた状態
の概略斜視図である。
【図6】実施の形態3にかかる放射線検出装置の構造を
示す概略斜視図である。
【図7】実施の形態3にかかる放射線検出装置におい
て、さらにコリメータを配置した場合の構造を示す概略
斜視図である。
【図8】(a)は、実施の形態4にかかる放射線検出器
用部品において、フォトダイオードアレイとシンチレー
タアレイとを分離した状態で示す概略斜視図であり、
(b)は、放射線検出器用部品を組み立てた状態を示す
概略斜視図である。
【図9】実施の形態5にかかる放射線検出器の構造を示
す概略断面図である。
【図10】実施の形態5にかかる放射線検出器の変形例
の構造を示す概略断面図である。
【図11】実施の形態5にかかる放射線検出装置の構造
を示す概略斜視図である。
【図12】実施の形態6にかかる放射線検出器におい
て、フォトダイオードアレイとシンチレータアレイとを
分離した状態で示す概略斜視図である。
【図13】実施の形態6にかかる放射線検出器の構造を
示す概略斜視図である。
【図14】実施の形態6にかかる放射線検出器を用いた
放射線検出装置の構造を示す概略斜視図である。
【図15】(a)、(b)は、実施例で得られる放射線
検出装置の概略断面図である。
【図16】実施の形態7にかかる放射線検出装置におい
て、2次元シンチレータアレイを分離した状態で示す概
略斜視図である。
【図17】実施の形態7にかかる放射線検出装置におい
て、電気的接続の概要を示す概略断面図である。
【図18】実施の形態7にかかる放射線検出装置におい
て、基板の構造を示す概略上面図である。
【図19】実施の形態7にかかる放射線検出装置の動作
を示す概略断面図である。
【図20】実施の形態8にかかる放射線検出装置の構造
を示す概略断面図である。
【図21】実施の形態9にかかる放射線検出装置の構造
を示す概略斜視図である。
【図22】実施の形態9にかかる放射線検出装置の動作
を示す概略断面図である。
【図23】実施の形態9の変形例にかかる放射線検出装
置の構造を示す概略上面図である。
【図24】(a)は、従来技術にかかる放射線検出装置
の構造を示す概略斜視図であり、(b)は、従来技術に
かかる放射線検出装置の電気的接続の態様について示す
概略断面図である。
【符号の説明】
1 MID基板 2、22、33、39、53、69、73 フォトダ
イオードアレイ 3 パッド形成用突起 4 第1パッド 5 第2パッド 6、30、42、61、67 ワイヤボンディング 7 配線パターン 8 ピン状の第1端子 9 ピン状の第2端子 10、25 配線 11、21、34、40 シンチレータアレイ 12、23 シンチレータ素子 13、24 セパレータ 14 コリメータ 26、36 端子 27 放射線検出器用部品 28、31、37、41、51、70、77、79
基板 29、35、38 配線 32 導電性ピン 43 25チャンネルコネクター 44 アノードピン 45 カソードピン 46 エポキシ樹脂 47 保護カバー板 52、80 溝部 54 2次元シンチレータアレイ 55 フォトダイオード素子 56 アノード電極 57、63、68、75 パッド 58、76 スルーホール 59 シンチレータ素子 60 セパレータ 62 半田ボール 64 回路基板 65 カソードパッド 66 カソードスルーホール 71 第1の溝部 72 第2の溝部 74 アノード電極 78 フォトダイオード素子
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 31/09 H01L 31/00 A H04N 5/32 27/14 K 5/335 D 25/04 A Fターム(参考) 2G088 EE02 FF02 GG19 GG20 JJ05 JJ09 JJ23 JJ24 JJ31 JJ33 JJ37 4M118 AA10 AB01 BA05 CA05 CB11 GA10 HA23 HA24 HA25 HA30 HA31 HA33 5C024 AX11 CY49 EX22 EX25 GX03 GX09 5F044 AA07 5F088 AA01 BA01 BA16 BB07 EA04 EA16 EA20 JA17 JA20 LA08

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上面の一部領域上に配置されかつ受
    光面上に第1パッドを有する光電素子を備え、該光電素
    子が受光する光の強度に基づく電気信号を出力する放射
    線検出器用部品であって、 前記基板の他の領域上に配置されたパッド形成部と、 該パッド形成部上に形成され、前記光電素子の受光面上
    に配置された前記第1パッドと同一平面を形成するよう
    配置され、前記第1パッドと電気的に接続された第2パ
    ッドと、 を備えることを特徴とする放射線検出器用部品。
  2. 【請求項2】 前記第1パッドと前記第2パッドとの間
    はワイヤボンディングにより電気的に接続されているこ
    とを特徴とする請求項1に記載の放射線検出器用部品。
  3. 【請求項3】 前記基板裏面に配置された第3パッド
    と、 前記第2パッドと前記第3パッドとを電気的に接続する
    立体配線と、 をさらに備えることを特徴とする請求項1または2に記
    載の放射線検出器用部品。
  4. 【請求項4】 前記基板はMID基板であって、前記立
    体配線は、前記MID基板によって形成されていること
    を特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の放射
    線検出器用部品。
  5. 【請求項5】 前記立体配線は、前記基板を貫通して形
    成されるスルーホールを含むことを特徴とする請求項1
    〜3のいずれか一つに記載の放射線検出器用部品。
  6. 【請求項6】 前記基板および前記パッド形成部は、一
    体的に形成されていることを特徴とする請求項1〜5の
    いずれか一つに記載の放射線検出器用部品。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6に記載の放射線検出器用部
    品と、 前記光電素子の受光面上に配置され、受線した放射線を
    前記光電素子が電気信号に変換可能な波長帯域の光に変
    換する変換素子と、 を備えたことを特徴とする放射線検出器。
  8. 【請求項8】 MID基板およびそれに接触して設置さ
    れたフォトダイオードアレイを有し、該フォトダイオー
    ドアレイの下面と接触する側の該MID基板上面にパッ
    ド形成用突起が設けられていて該パッド形成用突起の上
    端面が該フォトダイオードアレイの上面と同じ高さであ
    り、該フォトダイオードアレイの各々のフォトダイオー
    ド素子の上面で該パッド形成用突起に隣接する部分にそ
    れぞれ第1パッドが設けられており、該パッド形成用突
    起の上端面で各々の第1パッドと隣接する部分にそれぞ
    れ第2パッドが設けられており、対応する該第1パッド
    と該第2パッドとの間にはワイヤボンディングが設けら
    れており、該フォトダイオードアレイと接触する該MI
    D基板上面上には配線パターンが設けられており、該M
    ID基板下面には該第2パッドの数と同数の第1端子お
    よび1個の第2端子が設けられており、該第2パッドと
    該第1端子とが1対1の関係で電気的に接続されてお
    り、該配線パターンと該第2端子とが電気的に接続され
    ていることを特徴とする放射線検出器用部品。
  9. 【請求項9】 前記MID基板上面に前記フォトダイオ
    ードアレイの位置決めのための溝または位置決め突起が
    設けられていることを特徴とする請求項8に記載の放射
    線検出器用部品。
  10. 【請求項10】 1個のMID基板およびそれに接触し
    て設置された複数個のフォトダイオード素子を有し、各
    々の該フォトダイオード素子の下面と接触する側の該M
    ID基板上面に各々の該フォトダイオード素子の位置決
    めのための溝または位置決め突起が設けられており、ま
    た、該MID基板上面にパッド形成用突起が設けられて
    いて該パッド形成用突起の上端面が各々の該フォトダイ
    オード素子の上面と同じ高さであり、各々の該フォトダ
    イオード素子の上面で該パッド形成用突起に隣接する部
    分にそれぞれ第1パッドが設けられており、該パッド形
    成用突起の上端面で各々の第1パッドと隣接する部分に
    それぞれ第2パッドが設けられており、対応する該第1
    パッドと該第2パッドとの間にはワイヤボンディングが
    設けられており、各々の該フォトダイオード素子と接触
    する該MID基板上面上には配線パターンが設けられて
    おり、該MID基板下面には該第2パッドの数と同数の
    第1端子および1個の第2端子が設けられており、該第
    2パッドと該第1端子とが1対1の関係で電気的に接続
    されており、該配線パターンと該第2端子とが電気的に
    接続されていることを特徴とする放射線検出器用部品。
  11. 【請求項11】 位置決め突起が土手状となっていて、
    隣接チャンネル間の仕切板として機能することを特徴と
    する請求項10に記載の放射線検出器用部品。
  12. 【請求項12】 請求項8または9に記載の放射線検出
    器用部品と、該放射線検出器用部品のフォトダイオード
    アレイの上面の上に各々の素子が対応するように設置さ
    れたシンチレータアレイとを有することを特徴とする放
    射線検出器。
  13. 【請求項13】 請求項10または11に記載の放射線
    検出器用部品と、該放射線検出器用部品の各々のフォト
    ダイオード素子の上面の上に各々の素子に対応するよう
    に設置されたシンチレータ素子とを有することを特徴と
    する放射線検出器。
  14. 【請求項14】 所定数の請求項12または13に記載
    の放射線検出器が縦横に配置されていることを特徴とす
    る放射線検出装置。
  15. 【請求項15】 シンチレータアレイと、該シンチレー
    タアレイのアレイ整列方向の一方の側面に配置されたフ
    ォトダイオードアレイと、該フォトダイオードアレイの
    各々のフォトダイオード素子に電気的に接続されていて
    該フォトダイオードアレイの表面に配置されている各々
    の配線とを有し、該各々の配線の末端が該シンチレータ
    アレイとの接触部分よりも受光方向下流側に存在してい
    ることを特徴とする放射線検出器用部品。
  16. 【請求項16】 シンチレータアレイと、該シンチレー
    タアレイのアレイ整列方向の一方の側面に配置されたフ
    ォトダイオードアレイと、該フォトダイオードアレイの
    各々のフォトダイオード素子に電気的に接続されていて
    該フォトダイオードアレイの表面に配置されている各々
    の配線とを有し、該各々の配線が該シンチレータアレイ
    との接触部分よりも受光方向下流側に延びた後、該シン
    チレータアレイのアレイ整列方向に延び、該各々の配線
    の末端が該シンチレータアレイとの接触部分を越えた側
    方位置に存在していることを特徴とする放射線検出器用
    部品。
  17. 【請求項17】 請求項15に記載の放射線検出器用部
    品と、該放射線検出器用部品を支持する基板と、該基板
    に設けられた配線とを有し、該基板の配線が上記フォト
    ダイオードアレイの表面に配置されている各々の配線の
    末端に電気的に連結されていることを特徴とする放射線
    検出器。
  18. 【請求項18】 請求項16に記載の放射線検出器用部
    品と、該放射線検出器用部品を支持する基板とを有する
    ことを特徴とする放射線検出器。
  19. 【請求項19】 所定数の請求項17に記載の放射線検
    出器が縦横に配置されていることを特徴とする放射線検
    出装置。
  20. 【請求項20】 所定数の請求項18に記載の放射線検
    出器が、シンチレータアレイのアレイ整列方向とは直角
    の方向に配置されていることを特徴とする放射線検出装
    置。
  21. 【請求項21】 基板の一部に設けられた埋め込み用溝
    部と、 1次元アレイ状に配列された複数の光電素子を備え、前
    記埋め込み用溝部に埋め込まれた光電素子アレイと、 前記光電素子の受光面上にそれぞれ配置された第1パッ
    ドと、 前記第1パッドに対応して前記基板にそれぞれ設けら
    れ、前記第1パッドと電気的に接続された第2パッド
    と、 を備えることを特徴とする放射線検出器用部品。
  22. 【請求項22】 前記光電素子アレイよりも受光方向上
    流側に、光導波路をさらに備えることを特徴とする請求
    項21に記載の放射線検出器用部品。
  23. 【請求項23】 前記光導波路は、基板上面上に設けら
    れた受光部分に入射する光を、該受光部分よりも小さい
    受光面積を有する前記光電素子の受光面まで導波するこ
    とを特徴とする請求項22に記載の放射線検出器用部
    品。
  24. 【請求項24】 前記第2パッドは前記基板上面上に配
    置され、 前記第1パッドと前記第2パッドとが同一の平面を形成
    するよう前記溝部が形成されていることを特徴とする請
    求項21〜23のいずれか一つに記載の放射線検出器用
    部品。
  25. 【請求項25】 前記溝部の深さと前記光電素子アレイ
    の厚みとの差分値が1μm以上、100μm以下である
    ことを特徴とする請求項21〜23のいずれか一つに記
    載の放射線検出器用部品。
  26. 【請求項26】 前記埋め込み用溝部を複数備え、複数
    の前記光電素子アレイは、前記光電素子アレイのアレイ
    整列方向とは直角の方向に配列されていることを特徴と
    する請求項21〜25のいずれか一つに記載の放射線検
    出器用部品。
  27. 【請求項27】 前記基板の裏面に第3パッドをさらに
    備え、該第3パッドと前記第2パッドとは前記基板を貫
    通して形成されたスルーホールによって電気的に接続さ
    れていることを特徴とする請求項21〜26のいずれか
    一つに記載の放射線検出器用部品。
  28. 【請求項28】 請求項21〜27に記載の放射線検出
    器用部品と、 前記光電素子の受光面上に配置され、受線した放射線を
    前記光電素子が電気信号に変換可能な波長帯域の光に変
    換する変換素子と、 を備えたことを特徴とする放射線検出装置。
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005000573A (ja) * 2003-06-16 2005-01-06 Hitachi Medical Corp X線検出器及びこれを用いた装置
WO2005062073A1 (ja) * 2003-12-22 2005-07-07 Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. 放射線検出器
JP2005308600A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Shimadzu Corp 放射線異物検査装置
JP2006343247A (ja) * 2005-06-09 2006-12-21 Nippon Kessho Kogaku Kk 放射線検出器用部品および放射線検出器
JP2008134078A (ja) * 2006-11-27 2008-06-12 Nippon Kessho Kogaku Kk 放射線検出器用部品および放射線検出器
US7399972B2 (en) 2005-06-09 2008-07-15 Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. Component for radiation detector and radiation detector
JP2008263190A (ja) * 2001-04-11 2008-10-30 Nippon Kessho Kogaku Kk 光検出器および放射線検出装置
JP2008538966A (ja) * 2005-04-26 2008-11-13 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ スペクトルctのための検出器アレイ
EP2251680A2 (en) 2009-05-13 2010-11-17 Ishida Co., Ltd. X-ray inspection device
JP2011501118A (ja) * 2007-10-10 2011-01-06 コミサリヤ・ア・レネルジ・アトミク・エ・オ・エネルジ・アルテルナテイブ 撮像装置用シンチレータ、シンチレータモジュール、該シンチレータ付き撮像装置およびシンチレータ製造方法
JP2011224174A (ja) * 2010-04-20 2011-11-10 Toshiba Corp X線ct装置
JP2012018062A (ja) * 2010-07-07 2012-01-26 Nippon Kessho Kogaku Kk 放射線検出装置
WO2014084123A1 (ja) * 2012-11-27 2014-06-05 株式会社 東芝 X線ct装置及びx線ct装置用のデータ検出システム
JP2015503096A (ja) * 2011-11-29 2015-01-29 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ X線吸収封止部を含むシンチレータパックおよびかかるシンチレータパックを有するx線検出器アレイ
WO2015141045A1 (ja) * 2014-03-20 2015-09-24 株式会社東芝 光検出器、及び光検出器の製造方法
JP2016080656A (ja) * 2014-10-22 2016-05-16 株式会社島津製作所 放射線検出器
JP2017525938A (ja) * 2015-01-15 2017-09-07 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 撮像検出器モジュールアセンブリ

Families Citing this family (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3848210B2 (ja) * 2002-05-29 2006-11-22 キヤノン株式会社 電子回路基板
GB2392308B (en) * 2002-08-15 2006-10-25 Detection Technology Oy Packaging structure for imaging detectors
US7564125B2 (en) * 2002-12-06 2009-07-21 General Electric Company Electronic array and methods for fabricating same
US6792179B2 (en) * 2002-12-31 2004-09-14 Intel Corporation Optical thumbtack
JP2004273747A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Nippon Kessho Kogaku Kk 光検出器および放射線検出装置
JP2004271333A (ja) * 2003-03-07 2004-09-30 Hamamatsu Photonics Kk シンチレータパネル、イメージセンサ及びエネルギー弁別器
JP4220818B2 (ja) * 2003-03-27 2009-02-04 浜松ホトニクス株式会社 ホトダイオードアレイおよびその製造方法並びに放射線検出器
JP4247017B2 (ja) * 2003-03-10 2009-04-02 浜松ホトニクス株式会社 放射線検出器の製造方法
KR101029178B1 (ko) * 2003-03-10 2011-04-12 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 포토다이오드 어레이 및 그 제조방법 그리고 방사선 검출기
JP4421209B2 (ja) * 2003-04-11 2010-02-24 浜松ホトニクス株式会社 放射線検出器
US6967330B1 (en) * 2003-05-15 2005-11-22 Alem Associates High-density polycrystalline lutetium silicate materials activated with Ce
GB0311881D0 (en) * 2003-05-22 2003-06-25 Univ Aberdeen A detector module for detecting ionizing radiation
US7081414B2 (en) * 2003-05-23 2006-07-25 Applied Materials, Inc. Deposition-selective etch-deposition process for dielectric film gapfill
US20070096031A1 (en) * 2003-06-19 2007-05-03 Ideas As Modular radiation detector with scintillators and semiconductor photodiodes and integrated readout and method for assembly thereof
JP2005106692A (ja) * 2003-09-30 2005-04-21 Hitachi Ltd 半導体放射線検出器及び放射線撮像装置
US7405408B2 (en) * 2003-12-09 2008-07-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. Shielding for an x-ray detector
JP2008510131A (ja) * 2004-08-10 2008-04-03 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ シンチレータおよび抗散乱グリッドの配置
US20080258067A1 (en) * 2004-08-20 2008-10-23 Koninklijke Philips Electronics N.V. Microelectronic System with a Passivation Layer
US7535033B2 (en) * 2004-09-14 2009-05-19 Banpil Photonics, Inc. Multicolor photodiode array and method of manufacturing
JP2006145431A (ja) * 2004-11-22 2006-06-08 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc 放射線検出器、放射線撮像装置、放射線ct装置及び放射線検出器の製造方法
US7343579B2 (en) * 2004-11-30 2008-03-11 Physical Sciences Reconfigurable environmentally adaptive computing
US7375420B2 (en) * 2004-12-03 2008-05-20 General Electric Company Large area transducer array
DE102005010077B4 (de) * 2005-03-04 2007-09-20 Siemens Ag Detektor mit einem Szintillator und bildgebendes Gerät, aufweisend einen derartigen Detektor
CN101166469B (zh) * 2005-04-26 2015-05-06 皇家飞利浦电子股份有限公司 用于光谱ct的双层探测器
JP2007049018A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Sharp Corp 固体撮像素子および固体撮像素子の製造方法
GB0517742D0 (en) * 2005-08-31 2005-10-12 E2V Tech Uk Ltd Radiation sensor
US7582879B2 (en) * 2006-03-27 2009-09-01 Analogic Corporation Modular x-ray measurement system
CN101410983B (zh) * 2006-03-30 2011-11-09 皇家飞利浦电子股份有限公司 辐射检测器阵列
US20070272872A1 (en) * 2006-05-24 2007-11-29 Bruker Axs, Inc. X-ray detector with photodetector embedded in scintillator
US7504637B2 (en) * 2006-07-11 2009-03-17 Aeroflex Colorado Springs Inc. Two component photodiode detector
US8410449B2 (en) * 2007-09-04 2013-04-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Silicon photomultiplier energy resolution
JP2009147212A (ja) * 2007-12-17 2009-07-02 Nippon Kessho Kogaku Kk 光検出器および光検出器を用いた光検出装置
CN102144176B (zh) * 2008-09-08 2013-11-06 皇家飞利浦电子股份有限公司 具有转换片和互连层堆栈的辐射探测器的生产方法
CN105044758B (zh) * 2008-11-18 2022-06-14 皇家飞利浦电子股份有限公司 光谱成像检测器
DE102009004119A1 (de) * 2009-01-08 2010-07-15 Siemens Aktiengesellschaft Sensoreinheit für einen Röntgendetektor und zugehöriges Fertigungsverfahren
DE102009004120A1 (de) * 2009-01-08 2010-07-15 Siemens Aktiengesellschaft Herstellungsverfahren für eine Sensoreinheit eines Röntgendetektors
US8373132B2 (en) * 2009-02-06 2013-02-12 Koninklijke Philips Electronics N. V. Radiation detector with a stack of scintillator elements and photodiode arrays
DE102009011479A1 (de) * 2009-03-06 2010-09-09 Olympus Winter & Ibe Gmbh Chirurgisches Instrument
JP2011044717A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Icemos Technology Ltd 直接ウエハ接合貫通孔フォトダイオード
JP6010051B2 (ja) * 2011-02-03 2016-10-19 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. シングル又はマルチエネルギー縦型感放射線検出器アレイおよび放射線検出方法
DE102011012989B4 (de) * 2011-03-03 2019-05-02 Ketek Gmbh Sensorkopf für einen Röntgendetektor
WO2012127403A2 (en) * 2011-03-24 2012-09-27 Koninklijke Philips Electronics N.V. Spectral imaging detector
US8937285B2 (en) * 2012-06-18 2015-01-20 General Electric Company Methods and systems for signal communication in gamma ray detectors
JP6169922B2 (ja) * 2012-08-29 2017-07-26 東芝メディカルシステムズ株式会社 X線検出サブモジュール、x線検出モジュールおよびx線ct装置
CN102881702B (zh) * 2012-09-26 2014-12-31 浙江大学 一种阵列式x射线传感器及其制作方法
US9116022B2 (en) 2012-12-07 2015-08-25 Analog Devices, Inc. Compact sensor module
US9018108B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Applied Materials, Inc. Low shrinkage dielectric films
JP2014215135A (ja) * 2013-04-24 2014-11-17 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、その製造方法、及び放射線検査装置
US9159849B2 (en) * 2013-05-24 2015-10-13 Oxford Instruments Analytical Oy Semiconductor detector head and a method for manufacturing the same
DE102013011077A1 (de) * 2013-07-03 2015-01-08 Peter Koller Detektorplatte zur Strahlungsanalyse und Herstellungsverfahren derselben
JP6214031B2 (ja) * 2013-07-19 2017-10-18 国立研究開発法人理化学研究所 放射線検出器のための信号データ処理方法、信号データ処理装置、および放射線検出システム
JP6487619B2 (ja) * 2013-10-25 2019-03-20 浜松ホトニクス株式会社 検出器
RU2549565C1 (ru) * 2013-12-02 2015-04-27 Закрытое акционерное общество "Научно-исследовательская производственная компания "Электрон" (ЗАО НИПК "Электрон") Способ изготовления матрицы фоточувствительных элементов плоскопанельного детектора рентгеновского изображения
GB201322939D0 (en) * 2013-12-23 2014-02-12 Johnson Matthey Plc Radiation measurement apparatus and method
US9841510B2 (en) * 2014-04-17 2017-12-12 Koninklijke Philips N.V. Radiation detector with photosensitive elements that can have high aspect ratios
US9466638B2 (en) * 2014-10-07 2016-10-11 Terapede Systems Inc. Seemless tiling and high pixel density in a 3D high resolution x-ray sensor with integrated scintillator grid for low noise and high image quality
JP6548957B2 (ja) 2015-05-28 2019-07-24 株式会社東芝 放射線検出器および放射線検出装置ならびに放射線検出器の製造方法
US10036814B2 (en) * 2015-07-23 2018-07-31 General Electric Company X-ray detector with directly applied scintillator
US11156727B2 (en) * 2015-10-02 2021-10-26 Varian Medical Systems, Inc. High DQE imaging device
JP6776024B2 (ja) * 2016-06-30 2020-10-28 キヤノンメディカルシステムズ株式会社 X線検出器、x線検出器モジュール、支持部材及びx線ct装置
US10396117B2 (en) * 2016-10-14 2019-08-27 Waymo Llc Optical receiver systems and devices with detector array including a plurality of substrates disposed in an edge to edge array
JP7181194B2 (ja) 2016-10-28 2022-11-30 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ 視差効果補償を有するガンマ線検出器
US11313980B2 (en) * 2017-07-25 2022-04-26 Sony Semiconductor Solutions Corporation Radiation detection apparatus
WO2020118031A1 (en) 2018-12-06 2020-06-11 Analog Devices, Inc. Integrated device packages with passive device assemblies
US11664340B2 (en) 2020-07-13 2023-05-30 Analog Devices, Inc. Negative fillet for mounting an integrated device die to a carrier

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61256773A (ja) * 1985-05-10 1986-11-14 Nec Corp Led素子整列方法
JPH0680841B2 (ja) * 1986-04-07 1994-10-12 株式会社小糸製作所 照明装置
JPH01168079A (ja) * 1987-12-23 1989-07-03 Ibiden Co Ltd Led搭載用基板
JP2673808B2 (ja) 1988-01-27 1997-11-05 株式会社日立メディコ 多素子放射線検出器
US5252852A (en) * 1989-03-14 1993-10-12 Fujitsu Limited Semiconductor device having flip chip bonding pads matched with pin photodiodes in a symmetrical layout configuration
JPH0352273A (ja) 1989-07-19 1991-03-06 Shimadzu Corp 放射線検出素子アレイの実装構造
JPH0343750U (ja) * 1989-09-04 1991-04-24
JPH0487383A (ja) * 1990-07-31 1992-03-19 Eastman Kodak Japan Kk 発光ダイオードアレイチップ取り付け用基板および発光ダイオードアレイ
JPH04320988A (ja) 1991-04-22 1992-11-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 放射線検出器
US5534718A (en) * 1993-04-12 1996-07-09 Hsi-Huang Lin LED package structure of LED display
JPH07169989A (ja) 1993-10-20 1995-07-04 Japan Energy Corp 半導体放射線検出器およびその製造方法
JPH07333348A (ja) 1994-06-03 1995-12-22 Toshiba Corp 放射線検出器およびこれを用いたx線ct装置
DE19549818B4 (de) * 1995-09-29 2010-03-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Halbleiter-Bauelement
US6583444B2 (en) * 1997-02-18 2003-06-24 Tessera, Inc. Semiconductor packages having light-sensitive chips
US6114703A (en) * 1997-10-21 2000-09-05 The Regents Of The University Of California High resolution scintillation detector with semiconductor readout
JPH11298012A (ja) 1998-04-14 1999-10-29 Nippon Kessho Kogaku Kk 単チャンネルフォトダイオード用ステム
JP3595759B2 (ja) 1999-07-02 2004-12-02 キヤノン株式会社 撮像装置および撮像システム
JP3800880B2 (ja) 1999-08-26 2006-07-26 松下電工株式会社 受光ユニット
JP3668926B2 (ja) * 1999-08-27 2005-07-06 株式会社ルネサステクノロジ 光インタコネクション受信モジュール
JP2001318155A (ja) 2000-02-28 2001-11-16 Toshiba Corp 放射線検出器、およびx線ct装置
JP2001352094A (ja) 2000-04-06 2001-12-21 Hamamatsu Photonics Kk ホトダイオードアレイ
US6507049B1 (en) * 2000-09-01 2003-01-14 General Electric Company Encapsulants for solid state devices
US6531328B1 (en) * 2001-10-11 2003-03-11 Solidlite Corporation Packaging of light-emitting diode
US6599768B1 (en) * 2002-08-20 2003-07-29 United Epitaxy Co., Ltd. Surface mounting method for high power light emitting diode

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008263190A (ja) * 2001-04-11 2008-10-30 Nippon Kessho Kogaku Kk 光検出器および放射線検出装置
JP4500010B2 (ja) * 2003-06-16 2010-07-14 株式会社日立メディコ X線検出器及びこれを用いたx線ct装置
JP2005000573A (ja) * 2003-06-16 2005-01-06 Hitachi Medical Corp X線検出器及びこれを用いた装置
WO2005062073A1 (ja) * 2003-12-22 2005-07-07 Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. 放射線検出器
US7138632B2 (en) 2003-12-22 2006-11-21 Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. Radiation detector
JP4590915B2 (ja) * 2004-04-23 2010-12-01 株式会社島津製作所 放射線異物検査装置
JP2005308600A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Shimadzu Corp 放射線異物検査装置
JP2008538966A (ja) * 2005-04-26 2008-11-13 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ スペクトルctのための検出器アレイ
JP2006343247A (ja) * 2005-06-09 2006-12-21 Nippon Kessho Kogaku Kk 放射線検出器用部品および放射線検出器
US7399972B2 (en) 2005-06-09 2008-07-15 Nihon Kessho Kogaku Co., Ltd. Component for radiation detector and radiation detector
JP4603425B2 (ja) * 2005-06-09 2010-12-22 日本結晶光学株式会社 放射線検出器用部品および放射線検出器
JP2008134078A (ja) * 2006-11-27 2008-06-12 Nippon Kessho Kogaku Kk 放射線検出器用部品および放射線検出器
JP2011501118A (ja) * 2007-10-10 2011-01-06 コミサリヤ・ア・レネルジ・アトミク・エ・オ・エネルジ・アルテルナテイブ 撮像装置用シンチレータ、シンチレータモジュール、該シンチレータ付き撮像装置およびシンチレータ製造方法
EP2251680A2 (en) 2009-05-13 2010-11-17 Ishida Co., Ltd. X-ray inspection device
US8229065B2 (en) 2009-05-13 2012-07-24 Ishida Co., Ltd. X-ray inspection device
CN101887131B (zh) * 2009-05-13 2013-05-08 株式会社石田 X射线检查装置
CN101887131A (zh) * 2009-05-13 2010-11-17 株式会社石田 X射线检查装置
JP2011224174A (ja) * 2010-04-20 2011-11-10 Toshiba Corp X線ct装置
JP2012018062A (ja) * 2010-07-07 2012-01-26 Nippon Kessho Kogaku Kk 放射線検出装置
US8735838B2 (en) 2010-07-07 2014-05-27 Nihon Kessho Koogaku Co., Ltd. Radiation detecting apparatus
JP2015503096A (ja) * 2011-11-29 2015-01-29 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ X線吸収封止部を含むシンチレータパックおよびかかるシンチレータパックを有するx線検出器アレイ
US9599728B2 (en) 2011-11-29 2017-03-21 Koninklijke Philips N.V. Scintillator pack comprising an X-ray absorbing encapsulation and X-ray detector array comprising such scintillator pack
JP2014128584A (ja) * 2012-11-27 2014-07-10 Toshiba Corp X線ct装置及びx線ct装置用のデータ検出システム
WO2014084123A1 (ja) * 2012-11-27 2014-06-05 株式会社 東芝 X線ct装置及びx線ct装置用のデータ検出システム
US9810793B2 (en) 2012-11-27 2017-11-07 Toshiba Medical Systems Corporation X-ray CT apparatus and data detection system for X-ray CT apparatus
WO2015141045A1 (ja) * 2014-03-20 2015-09-24 株式会社東芝 光検出器、及び光検出器の製造方法
JP2015185604A (ja) * 2014-03-20 2015-10-22 株式会社東芝 光検出器、及び光検出器の製造方法
JP2016080656A (ja) * 2014-10-22 2016-05-16 株式会社島津製作所 放射線検出器
JP2017525938A (ja) * 2015-01-15 2017-09-07 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 撮像検出器モジュールアセンブリ

Also Published As

Publication number Publication date
US20070085088A1 (en) 2007-04-19
US7301214B2 (en) 2007-11-27
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US6876086B2 (en) 2005-04-05
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