TW200632539A - Photomask for display device of active matrix type and manufacturing method thereof - Google Patents

Photomask for display device of active matrix type and manufacturing method thereof

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Yoichi Murayama
Hiroshi Mohri
Atsushi Tobita
Masami Kuniyoshi
Kiyohito Ban
Shusaku Kido
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Nec Lcd Technologies Ltd
Dainippon Printing Co Ltd
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007273827A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Tokyo Electron Ltd リフロー方法、パターン形成方法および液晶表示装置用tft素子の製造方法
JP5105407B2 (ja) * 2007-03-30 2012-12-26 Hoya株式会社 フォトマスクブランク、フォトマスク及びフォトマスクの製造方法
JP2008311250A (ja) * 2007-06-12 2008-12-25 Tokyo Electron Ltd リフローシステムおよびリフロー方法
JP5429590B2 (ja) * 2007-07-10 2014-02-26 Nltテクノロジー株式会社 ハーフトーンマスク
WO2009057660A1 (ja) 2007-11-01 2009-05-07 Ulvac Coating Corporation ハーフトーンマスク、ハーフトーンマスクブランクス、及びハーフトーンマスクの製造方法
WO2009130746A1 (ja) * 2008-04-22 2009-10-29 シャープ株式会社 薄膜トランジスタ基板の製造方法
WO2011086905A1 (ja) * 2010-01-13 2011-07-21 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板及びその製造方法
WO2013080900A1 (en) * 2011-12-02 2013-06-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the same
KR20200102620A (ko) 2019-02-21 2020-09-01 삼성디스플레이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0651492A (ja) * 1992-07-31 1994-02-25 Nec Corp 位相シフトマスク及びその製造方法
JPH0749410A (ja) * 1993-08-06 1995-02-21 Dainippon Printing Co Ltd 階調マスク及びその製造方法
JPH07134396A (ja) * 1993-11-08 1995-05-23 Fujitsu Ltd 露光用マスク及びその製造方法
JPH08123010A (ja) * 1994-10-28 1996-05-17 Toppan Printing Co Ltd 位相シフトマスクおよびそれに用いるマスクブランク
JPH11327121A (ja) * 1998-05-20 1999-11-26 Toppan Printing Co Ltd ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法およびハーフトーン型位相シフトマスクのブランク
JP3253590B2 (ja) * 1998-08-31 2002-02-04 シャープ株式会社 ハーフトーンマスクの製造方法
JP2000181048A (ja) * 1998-12-16 2000-06-30 Sharp Corp フォトマスクおよびその製造方法、並びにそれを用いた露光方法
JP4686006B2 (ja) * 2000-04-27 2011-05-18 大日本印刷株式会社 ハーフトーン位相シフトフォトマスクとハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス、及びハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法
JP3616584B2 (ja) * 2000-06-12 2005-02-02 鹿児島日本電気株式会社 パターン形成方法及びそれを用いた表示装置の製造方法
JP2002189281A (ja) * 2000-12-19 2002-07-05 Hoya Corp グレートーンマスク及びその製造方法
JP2004085759A (ja) * 2002-08-26 2004-03-18 Toppan Printing Co Ltd ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク
JP2004140239A (ja) * 2002-10-18 2004-05-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 薄膜除去装置および薄膜除去方法
JP4651929B2 (ja) * 2002-11-15 2011-03-16 Nec液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2006078727A (ja) * 2004-09-09 2006-03-23 Toppan Printing Co Ltd ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法

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