TW200531985A - Shape memory polybutylene terephthalate laminate film and its production method and use, and method for producing polybutylene terephthalate film - Google Patents

Description

200531985 玖、發明說明 一、 發明所屬之技術領域 、 本發明係關於一種可用作爲包裝材料之形狀記憶性聚對 苯二甲酸丁二酯積層薄膜及其製造方法和用途，具有優越 的膜厚均勻性和耐熱收縮性之聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之 製造方法、以及具有優越的易撕裂性或扭轉性，且可用作 爲包裝材料等之機能性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜。 二、 先前技術 以往’用以密封方便食品用容器的開口部之蓋材，係以 _ 例如在速食麵用容器之情形下，則有一種依序將易剝離性 密封膠膜、鋁箔、紙，加以積層所製得已爲眾所皆知者。 具有鋁箔層之蓋材係具有優越的水蒸汽等之障壁性、對 於熱等的尺寸安定性、充塡機適性（在容器裝入內容物， 作密封時之蓋材不會捲曲）、遮光性等。再加上具有鋁箔 層之蓋材又具有在從容器大致剝拉打開至中心部時，可維 持其剝拉狀態之性質（靜保持性）。藉由靜保持性，例如 在速食麵等，則仍在剝拉成半開之狀態下可容易地澆入熱 開水，然後再將蓋體加以封蓋使速食麵保持至可食用之狀 態後，再開封即可食用。 然而，具有鋁箔之蓋體在使用後之焚化處理中，鋁箔卻 有在焚化爐中會變成錠鐵而纏住且會損壞焚化爐，進而導 致焚化效率下降之問題。因此，從環境保護之觀點來考量 ，則應以儘可能不使用具有鋁箔之蓋材爲宜。另外’在例 200531985 如杯裝拉麵的方便食品之情形下，從食品安全性之觀點來 考量，則有必要檢驗有無金屬系異物混入在容器內，但是 由於具有鋁箔之蓋體一旦經熱密封後則不可能實施利用金 屬探測機的檢驗，因此目前只能在熱密封蓋體之前實施檢 驗。另外，蓋體使用鋁箔時，也有蓋體會變重之問題。 未含有鋁箔之蓋體，則已有一種例如依序具有紙層/黏合 樹脂層/聚對苯二甲酸乙二酯薄膜層/易剝離樹脂層之積層 薄膜的提案。聚對苯二甲酸乙二酯（PET )薄膜是由於其 具有優越的水蒸汽障壁性、耐熱尺寸安定性、充塡機適性 (無捲曲）等之特性。然而，PET薄膜由於其硬挺強度大 ，因此缺乏將蓋體維持於開封狀態之性質（靜保持性）， 因此蓋體經打開後就很容易再閉住，以致不便於注入熱開 水之問題。 對於構成用作爲速食麵用容器等之蓋材料的積層薄膜， 係要求在密封於容器時並未呈捲曲，且從容器剝離時必須 維持捲曲狀態（具有靜保持性）。通常蓋材料係以熱密封 於容器，因此如能使其具有施加熱密封之前並未呈捲曲， 但是可因進行熱密封時之熱而捲曲的形狀記憶性，則將成 爲非常有用者。 但是由具有形狀記憶性之積層薄膜所構成的包裝材料， 直到現在並未爲眾所皆知。一般而言’具有形狀記憶性之 樹脂係在玻璃轉移點前後之彈性模數變化大。「形狀記憶 性」之機構就是例如：（1 )首先成型爲任意形狀Μ，並在 200531985 其形狀Μ之狀態下加熱以使其結晶化（使結晶部份互相纏 絡）或藉由分子間交聯來產生固定點，以使其記憶形狀； (2 )然後，當在高於玻璃轉移點且低於該加熱溫度的溫度 施加外力以使其變形成形狀Ν，然後就在維持其狀態下改 成爲低於玻璃轉移點的溫度以固定於形狀Ν時；及（3 )加 以加熱至局於玻璃轉移點，則可在不施加外力下回復到形 狀Μ ° Ρ Ε Τ雖然具有形狀記憶性，但是由於其玻璃轉移溫 度爲介於約70°C與8(TC之間，因此回復形狀所需要的溫度 是偏高。 與此相對’聚對苯二甲酸丁二酯薄膜樹脂（PBT )係具 有介於約20 °C與45°C之間的玻璃轉移溫度，因此若用作爲 包裝材料，則可利用其在實用性溫度下的形狀記憶性。例 如’在日本國專利特開平第2 - 1 2 3 1 2 9號公報已記載一種 由PBT與脂肪族聚內酯之嵌段共聚物所構成的形狀記憶性 樹脂。另外，在特開平第2 - 26973 5號公報已記載一種由 以能使結晶熔化熵成爲低於3卡/克之方式，與第三成份共 聚合所製得之聚對苯二甲酸丁二酯所構成的形狀記憶性共 聚酯成型體。此外，在特開平第2 - 240 1 3 5號公報已記載 一種由PBT與聚乙二醇之嵌段共聚物所構成的形狀記憶性 樹脂。然而，該等文獻皆並未將PBT系形狀記憶性樹脂加 以薄膜化。 在日本國專利特公平第7 - 33 04 8號公報已提案一種將固 有黏度爲大於1.0之PBT樹脂以擠壓樹脂溫度以能符合下 200531985 式： 熔點（°C ) <擠壓樹脂溫度（它）〈熔點-2 6 + 5 3 X 固有黏度（°C ) 之方式，以吹塑製膜成型法加以薄膜化之方法。然而，該 方法之吹脹比、擠壓樹脂溫度和擠壓樹脂壓力的組合並未 達到最適化，因此所製得之PBT薄膜則具有較大的熱收縮 率。 關於包裝材料之機能，由於PBT薄膜具有優越的氣體障 壁性或保香性，因此若能賦予易撕裂性、扭轉性等之機能 _ ’則將變成非常有用者。易撕裂性聚酯薄膜，在日本國專 利特開第2002 - 8 07〇5號已揭示一種由80至95質量％之 聚對苯二甲酸乙二酯（PET)與20至5質量％之改質PBT (改質PBT )所構成的雙軸向拉伸聚酯薄膜。然而，該雙 軸向拉伸聚酯薄膜之易撕裂性是不足夠。 在日本國專利特開平第5 - 1 046 1 8號公報已記載一種具 有良好扭轉性的聚酯薄膜之製造方法，其係在聚酯樹脂層 0 (A )之至少一面將具有比（A )之熔點高1 (TC的熔點之樹 月旨（B )，以相對於薄膜的總厚度（B )爲5 %至60 %之方 式加以積層，並經施加單軸向拉伸後，在介於高於比（A ) 之熔點低1 〇 °C與低於（B )之熔點之間的溫度加以熱處理 之方法。然而，該具有扭轉性的聚酯薄膜之製造方法的製 程複雜且成本也高。 三、發明內容 200531985 發明目的 有鑒於此，本發明之目的係提供一種具有優越的形狀記 憶性和耐熱尺寸安定性之聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜， 及其製造方法和用途。 本發明之另一目的係提供一種雖然其爲薄膜但是仍然具 有優越的膜厚均勻性和耐熱收縮性之聚對苯二甲酸丁二醋 薄膜之製造方法。 本發明之再一目的係提供一種具有優越的易撕裂性之聚 對苯二甲酸丁二酯薄膜。 本發明之另一目的係提供一種具有優越的扭轉性，且可 以低成本製造之聚對苯二甲酸丁二酯薄膜。 發明槪沭 有鑑於如上所述之目的，本發明人發現如下所述各項： (A) ( 1)將該PBT薄膜與其他薄膜或薄膜積層體積層 所獲得之積層薄膜，邊保持在第一形狀、邊在低於 PBT薄膜之玻璃轉移溫度Tg的溫度L實施賦形處 理；（2 )將所獲得之賦形積層體在高於Tg的溫度 T2加以變形加工成第二形狀；及（3 )然後冷卻至低 於Tg的溫度Τ3，藉此則可製得具有優越的形狀記 憶性和耐熱尺寸安定性之ΡΒΤ積層薄膜。 (Β) (1) (i)預先製造該ΡΒΤ薄膜與其他薄膜或薄膜 積層體之積層薄膜，然後將此邊保持在第一形狀、 邊在介於高於Tg與低於熔點之間的溫度T4實施賦 200531985 形處理，或（Π)將該PBT薄膜邊保持在第一形狀 、邊在該溫度T 4實施賦形處理後’與其他薄膜或薄 膜積層體積層，以製得具有第一形狀之積層薄膜； (2 )將所製得之賦形積層體冷卻至低於Tg的溫度 丁5以固定於第一形狀；（3 )然後將該賦形積層體在 介於高於Tg與低於該溫度Τ4之間的溫度Τ6加以變 形加工成第二形狀後；及（4 )冷卻至低於Tg的溫 度T7以固定於第二形狀，藉此則可製得具有優越的 形狀記憶性和耐熱收縮性之ΡΒΤ積層薄膜。 (C ) 在藉由空氣冷卻式吹塑製膜成型法使聚對苯二甲酸 丁二酯（ΡΒΤ )樹脂薄膜化之製造方法中，由設置 在環狀模附近之第一冷卻環噴出加濕空氣以冷卻泡 膜體之頸部，將吹脹比設定在1.5至2.8，將擠壓樹 脂溫度設定在介於210°C與250°C之間，將擠壓樹脂 壓力設定在 9.8 至 13.7 MPa ( 100 至 140 kgf/cm2) ，藉此則可製得雖然爲薄膜，但是具有優越的膜厚 均勻性和耐熱收縮性之聚對苯二甲酸丁二酯薄膜。 (D ) 在聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之至少一面上全面性地 形成許多實質上平行的線狀痕，藉此則可賦予可從 任意位置沿該線狀痕實質地呈直線撕裂之直線易撕 裂性。 (E ) 在聚對苯二甲酸丁二酯薄膜均勻地形成許多微細的 穿通孔和/或未穿通孔，藉此則可賦予易撕裂性和扭 200531985 轉性。 本發明係根據如此之發明所達成者。 亦即，本發明之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄 膜，其特徵爲具有：（1 )聚對苯二甲酸丁二酯薄膜；及（ 2)由選自紙片、其他樹脂薄膜和金屬箔所組成之族群中之 至少一種所構成的其他薄膜或薄膜積層體；且在特定溫度 領域使其記憶第一形狀。 本發明之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，係 即使在與該特定溫度領域不同的溫度領域下加以變形加工 修 成第二形狀，當暴露在高於用以記憶該第一形狀的溫度時 ，實質上也會回復到該第一形狀。 形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之較佳實例， 其回復到該第一形狀的溫度爲低於該聚對苯二甲酸丁二酯 之玻璃轉移溫度。回復到該第一形狀的溫度較佳爲3 5 t。 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜回復到該第一形狀的溫度 爲介於高於該聚對苯二甲酸丁二酯之Tg與低於其熔點之間 0 。回復到該第一形狀的溫度更佳爲介於75°C與l〇〇°C之間 〇 該第一形狀較佳爲捲曲形狀，該第二形狀較佳爲大致平 坦的形狀或倒捲曲形狀。 較佳爲在該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之至少一面上全面 性地形成許多實質上平行的線狀痕，藉此則可使形狀記憶 性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜沿該線狀痕實質地呈直線 -11- 200531985 撕裂。該線狀痕之深度較佳爲該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜 厚度之1 %至4〇 %。具體而言，較佳的是該線狀痕之深度 爲0.1至10微米，該線狀痕之寬度爲0.1至10微米，且該 線狀痕彼此之間隔爲1 0至200微米。也可在該聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜之至少一面上蒸鍍陶瓷或金屬。 本發明之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之較 佳的層結構之實例爲：依序具有該聚對苯二甲酸丁二酯薄 膜、該紙片和密封膠膜。本發明之形狀記憶性聚對苯二甲 酸丁二酯積層薄膜之較佳的層結構之其他實例爲：依序具 有該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、該紙片、剛性薄膜和密封 膠膜。本發明之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜 之較佳的層結構之另一實例爲：依序具有該聚對苯二甲酸 丁二酯薄膜、剛性薄膜和密封膠膜。在該剛性薄膜之該密 封膠膜側之面上也可設置遮光性油墨層。 在該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之該紙片側之面，或在該 剛性薄膜之該密封膠膜側之面也可設置遮光性油墨層。 本發明之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，係 可用作爲包裝材料，特別是可用作爲構成容器用蓋體之包 裝材料。 本發明之第一形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜 之製造方法，其特徵爲：其係用以製造具有（a)聚對苯二 甲酸丁二酯薄膜，及（b )由選自紙片、其他樹脂薄膜和金 屬箔所組成之族群中之至少一種所構成的其他薄膜或薄膜 -12- 200531985 積層體的形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜；其中 (1)將該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與其他薄膜或薄膜積層 體積層所構成之積層薄膜，邊保持在第一形狀、邊在低於 該聚對苯二甲酸丁二酯之Tg的溫度L實施賦形處理，（2 )將所獲得之賦形積層薄膜在高於該Tg的溫度T2加以變 形加工成第二形狀，及（3 )然後加以冷卻至低於該Tg的 溫度T3以固定在該第二形狀。 較佳的是該第一形狀爲捲曲形狀，該第二形狀爲大致平 坦的形狀或倒捲曲形狀。較佳的是將該聚對苯二甲酸丁二 鲁 酯薄膜與該其他薄膜或薄膜積層體黏合所獲得之積層薄膜 以輥搬送，以沿該輥之周面在該溫度L加以處理，藉以製 得具有賦形捲曲形狀之積層薄膜。在該溫度T2實施之變形 加工較佳爲實施3 0至6 0秒鐘。較佳的是該溫度T i爲低於 35°C .，該溫度T2爲介於45°C與65°C之間，該溫度T3則爲 介於1 5 °C與2 5 °C之間。該溫度Τ ,更佳爲介於1 5 °C與2 5 t 之間。較佳爲經賦形該捲曲形狀之積層薄膜冷卻至該溫度 丁3後，朝其倒捲曲方向加以捲取。較佳爲邊對於該聚對苯 二甲酸丁二酯薄膜施加大於4 kgf/m寬度之張力、邊將該 聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與該其他薄膜或薄膜積層體黏合 。該張力更佳爲10至20 kgf/m寬度。 本發明之第二形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜 之製造方法，其特徵爲：其係用以製造具有（a)聚對苯二 甲酸丁二酯薄膜，及（b )由選自紙片、其他樹脂薄膜和金 200531985 屬箔所組成之族群中之至少一種所構成的其他薄膜或薄膜 積層體的形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜；其中 (1) (i)預先製造該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與其他薄 膜或薄膜積層體之積層薄膜，然後將此邊保持在第一形狀 '邊在該溫度T4實施賦形處理，或是（ii)製造將該聚對 苯二甲酸丁二酯薄膜邊保持在第一形狀、邊在介於高於該 聚對苯二甲酸丁二酯之Tg與低於其熔點之間的溫度丁4實 施賦形處理後，與其他薄膜或薄膜積層體積層，以製得具 有第一形狀之積層薄膜，（2 )將所獲得之賦形積層體薄膜 鲁 冷卻至低於該Tg的溫度T5以固定於該第一形狀，（3 )然 後將該賦形積層體在介於高於該Tg與低於該溫度Τ4之間 的溫度Τ6加以變形加工成第二形狀後，及（4 )冷卻至低 於該Tg的溫度Τ7以固定於該第二形狀。 較佳的是該第一形狀爲捲曲形狀，該第二形狀爲大致平 坦的形狀或倒捲曲形狀。較佳的是該溫度Τ4爲介於7 5 °C與 l〇〇°C之間，該溫度T5爲低於40°C，該溫度T6爲介於45 $ °C與65°C之間，該溫度Τ7爲低於40°C。 藉由將該賦形聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與該其他薄膜或 薄膜積層體黏合以製造該賦形積層薄膜時，較爲理想的是 以將該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜邊與一對加熱輥之一方的 周面上相接觸、邊搬送，並沿該加熱輥之周面在該溫度T4 加熱處理，以對於該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜賦予捲曲形 狀，然後使所獲得之捲曲性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與該 -14- 200531985 其他薄膜或薄膜積層體通過該一對加熱輥之間以連續地黏 合爲佳。 將該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與該其他薄膜或薄膜積層 體黏合所獲得之該聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜實施賦形 處理時，較爲理想的是以加熱輥搬送該聚對苯二甲酸丁二 酯積層薄膜，以沿該加熱輥周面且在該溫度τ4進行處理以 賦予捲曲形狀爲佳。 此外，較爲理想的是邊對於該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜 施加4 kgf/m寬度之張力、邊將該聚對苯二甲酸丁二酯薄 鲁 膜與該其他薄膜或薄膜積層體加以黏合。該張力較佳爲i 〇 至20 kgf/m寬度。並且，較佳爲將該經賦形之積層薄膜冷 卻至該溫度T 5後，朝其倒捲曲方向加以捲取，並以在該溫 度T6和該溫度T7處理。 具有本發明之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜 製蓋體之容器之製造方法，其特徵爲：其係用以製造具有 將由形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜所構成的蓋 0 體以熱幣封在谷窃上所製造之容器’其中在局於該聚對苯 二甲酸丁二酯之Tg的溫度τ8，將該形狀記億性聚對苯二 甲酸丁二酯積層薄膜邊保持在平坦、邊加以徐冷處理，將 所獲得之平坦的形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜 ’以蓋材密封裝置進行沖孔加工同時進行熱密封，以使由 該形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜所構成的蓋體 與容器黏合。 -15- 200531985 該徐冷處理較佳爲實施3 〇至60秒鐘。該溫度Τ8較佳爲 介於8 0 °C與1 2 0 °C之間。 本發明之聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之製造方法，其係用 以藉由空氣冷卻式吹塑製膜成型法使聚對苯二甲酸丁二酯 薄膜樹脂薄膜化，其特徵爲：由設置在環狀模附近之第一 冷卻環噴出加濕空氣以冷卻泡膜體之頸部，並設定吹脹比 爲1 · 5至2 · 8，設定擠壓樹脂溫度爲介於2 1 (TC與2 5 0 °C之 間，設定擠壓樹脂壓力爲9.8至13.7 MPa。 較爲理想的是以由設置在比該泡膜體之冷卻線稍偏於上 鲁 方的第二冷卻環所噴出之冷卻空氣，再進一步冷卻該泡膜 體，同時使設置在該第一冷卻環與該第二冷卻環之間的圓 筒狀網之周圍溫度冷卻成爲恆定，以使藉由該第一冷卻環 和該第二冷卻環之泡膜體冷卻溫度趨於安定化。 較爲理想的是使由設置在該網之下部的冷卻空氣吹出裝 置所噴出之加濕空氣，沿該圓筒狀網之外面朝上吹，以冷 卻該網之周圍。並且，以設置在比該第二冷卻環稍偏於上 φ 方的第三冷卻環，再進一步冷卻該泡膜體爲佳。而且，該 第二冷卻環和該第三冷卻環之冷卻空氣，較佳爲使用加濕 空氣。該加濕空氣溫度較佳爲介於1 5 °C與2 5 °C之間。 本發明之直線易撕裂性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其特 徵爲：在聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之至少一方的面上全面 性形成許多實質上平行的線狀痕，使其可從任意位置沿線 狀痕呈直線撕裂。 -16- 200531985 該線狀痕之深度較佳爲薄膜厚度之1 %至4 0 °/〇。較佳的 是該線狀痕之深度爲0 . 1至]〇微米，該線狀痕之寬度爲 〇·1至10微米，該線狀痕彼此之間的間隔爲10至200微米 〇 該直線易撕裂性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜係也可製成爲 單層薄膜或積層薄膜中任一形態。當製成爲積層薄膜時， 則較佳爲以具有至少一由具有該線狀痕的薄膜所構成之層 ，與由熱密封性薄膜所構成之層。本發明之直線易撕裂性 聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，也可加以蒸鍍陶瓷或金屬，藉鲁 此可提高氣體障壁性。由本發明之直線易撕裂性聚對苯二 甲酸丁二酯薄膜所構成的包裝材料和包裝袋係適合於需要 易撕裂性之用途。 本發明之多孔質聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其特徵爲： 均勻地形成許多微細的穿通孔和/或未穿通孔，致使其可賦 予易撕裂性和扭轉性。 較爲理想的是該微細孔之平均開口徑0.5至100微米， 且其密度爲高於約500個/cm2。本發明之由多孔質聚對苯 二甲酸丁二酯薄膜薄膜所構成的包裝材料係適合於需要扭 轉性之用途。 四、實施方式 本發明之最佳實施形態 〔1〕形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之層結構 本發明之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯（PBT )積層 -17 - 200531985 薄膜，係具有（a) 「PBT薄膜」，及（b)選自由紙片、 其他樹脂薄膜和金屬箔所組成之族群中之至少一種（以下 簡稱爲「其他薄膜或薄膜積層體」）。 (I) 聚對苯二甲酸丁二酯樹脂薄膜 「PBT薄膜」，基本上是由1，4 - 丁二醇與對苯二甲酸 所構成的聚酯薄膜。但是也可在不致於損害耐熱收縮性等 之物理性質範圍內含有1，4 - 丁二醇以外之二醇成份，或 對苯二甲酸以外之羧酸成份作爲共聚合成份。此等二醇成 份係包括例如：乙二醇、二伸乙甘醇、新戊二醇、1，4 -環己烷甲醇等。二羧酸成份係包括例如：間苯二甲酸、癸 二酸、己二酸、壬二酸、琥珀酸等。較佳的PBT樹脂之具 體實例則爲例如售自東麗（Toray )公司，商品名爲「 Torecon」之PBT同元聚合物樹脂。 PBT樹脂係不限定於只由PBT所製成之情況，也可在不 致於抑制本發明效果之範圍內根據目的而含有其他之熱塑 性樹脂。其他之熱塑性樹脂係包括：聚對苯二甲酸乙二酯 (PET)、聚萘二甲酸乙二酯（pEN)等之聚酯；聚苯硫醚 (PPS );聚醯亞胺（PI );聚醯胺-醯亞胺（PAI);聚醚 (PES);聚醚醚酮（PEEK);聚碳酸酯；聚胺甲酸醋 ;氟樹脂；聚乙烯、聚丙烯等之聚烯烴；聚氯乙烯；彈性 體等。若含有其他之熱塑性樹脂時，則其比率係以樹脂全 體爲1 0 0質量％爲基準時，則較佳爲5至1 5質量。/〇，更佳 爲5至1 0質量％。因此，除非另外有特別註明，在本說明 200531985 書中所使用之術語「p Bτ樹脂」，係包括ρ Β Τ單體、及 Ρ Β Τ +其修之熱塑性樹脂的組成物兩者。 ΡΒΤ樹脂也可根據形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層 薄膜之用途，添加塑化劑、抗氧化劑或紫外線吸收劑等之 安定劑、抗靜電劑、界面活性劑、染料或顏料等之著色劑 、用以改善流動性之潤滑劑、結晶化促進劑（成核結晶劑 )和無機塡充劑等。 ΡΒΤ薄膜之厚度雖然並無特殊限制，但是實用上應以設 定較佳爲約5至50微米，如欲使ΡΒΤ薄膜之厚度爲低於 約5微米，在技術上則有困難，將會導致成本增加。反之 ，若使ΡΒΤ薄膜之厚度爲高於約50微米，則將導致薄膜 價格提高，因此所製得之形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜的用途 將受到限制。 ΡΒΤ薄膜之製造方法並無特殊限制，可爲藉由吹塑製膜 成型法或流延法中之任一種來製造。較佳爲藉由如下所述 之吹塑製膜成型法或流延法之任一種來製造。 (2 ) 其他薄膜或薄膜積層體 (a ) 紙片 若將形狀記憶性PBT薄膜適用於方便食品用容器之 蓋體時，則其靜保持性賦予層較佳爲也具有由「紙 片」所構成之層。紙片層的紙之種類並無限制，也 包括合成紙。紙片層之厚度係以設定較佳爲約60至 110 g/m2，更佳爲約75至90 g/m2。紙片厚度若爲 200531985 小於約60 g/m2時’則紙片之硬挺度太弱，以致不能 賦予足夠的靜保持性。反之，即使紙片厚度改用大 於約1 1 G g/m2者，充其量僅使成本提高而已，對於 更進一步地改善靜保持性上並無法觀察到任何正面 的效果。 (b )密封膠膜 將形狀記憶性PBT薄膜適用於方便食品用容器之蓋 體時’則必須在容器本體之上端突緣部設置用作爲 熱密封用之「密封膠膜」。密封膠膜係可由聚乙烯 _ 膜、無拉伸聚丙烯膜、含離子鍵之聚合物樹脂膜、 聚苯乙烯膜等所構成。並且，密封膠膜較佳爲應具 有易剝離性，使其可容易地從容器本身將蓋體剝離 。因此，密封膠膜較佳爲應具有比較差的熱黏著性 者。另外，熱密封材料也可使用習知的熱熔膠。 密封膠膜也可使用例如紙片側的聚乙烯基材薄膜， 與容器本身之上端突緣部側的低分子量聚乙烯薄膜 _ 之積層薄膜。該聚乙烯基材薄膜之厚度較佳爲約10 至40微米，更佳爲約20至30微米。另外，低分子 量聚乙烯薄膜之厚度較佳爲約5至20微米，更佳爲 約7至1 5微米。此等積層聚乙烯薄膜，市售商品級 爲7 60 FD (東麗合成膜公司製）。另外，密封膠膜 也可使用由乙烯-醋酸乙烯酯共聚物（EVA )與聚乙 烯之混合物所構成的薄膜。藉由此等混合物所構成 -20- 200531985 的薄膜中，較佳的聚乙烯是線性低密度聚乙烯（ LLDPE )。藉由此等混合物所構成的薄膜之厚度較 佳爲約10至40微米，更佳爲約20至30微米。另 外，熱熔層之厚度較佳爲10至50微米，更佳爲20 至4 0微米。 另外，密封膠膜也可使用在日本國專利特願第2 0 0 2 -1 8 3 1 9 7號公報所揭示者。在特願第2 0 0 2 - 1 8 3 1 9 7 號公報所揭示之密封膠膜，係將乙烯與碳原子數爲 3至18之α -烯烴加以共聚合所製得，及由密度 _ (JIS Κ - 6922 )爲 0·8 70 至 0.910 g/cm3、MFR ( JIS K - 6921、190 °C、2.16 公斤荷重）爲 1 至 1〇〇 克/10分鐘之直鏈狀乙嫌· α -儲烴共聚物及含有 聚苯乙烯之樹脂組成物所構成者。藉此，容器本身 的密封面即使爲聚乙烯或聚苯乙烯之任一者，也可 將本發明之蓋體加以熱密封，亦即可同時獲得包括 密封性和易開封性兩者。 (c ) 剛性薄膜 ® 爲提高形狀記憶性Ρ Β Τ積層薄膜的剛性，可設置r 剛性薄膜」。可使用之剛性薄膜係包括：ρ Ε Τ薄膜 、雙軸向拉伸聚丙烯薄膜（ΟΡΡ薄膜）、耐綸薄膜 等。PET薄膜若使用單軸向配向或配向度不同的雙 軸向配向之PET薄膜時，對於形狀記憶性pbt積層 薄膜需要易剝離性時則有利。單軸向配向或配向度 -21 - 200531985 不同的雙軸向配向之 PET薄膜，可使用例如「 Embread PC」（Yunichica 公司製）。 (d ) 遮光性油墨層 若形狀記憶性PBT積層薄膜需要遮光性時，則加以 設置「遮光性油墨層」或「金屬箔層」。遮光性油 墨，只要是含有例如碳黑般之黑色或暗色之顏料或 染料之油墨，則並無特殊限制。使用遮光性油墨層 時，不僅能避免施加焚燒處理時對於環境之不良影 響’將形狀記億性PBT積層薄膜適用於方便食品用 鲁 容器之蓋體時，經密封後也可實施利用金屬探測機 以探測金屬系異物之存在。藉此不但可進一步提高 方便食品之安全性，同時也可利用金屬探測機以顯 著地降低檢查成本。若將具有金屬箔層的形狀記憶 性PBT積層薄膜用作爲方便食品用容器之蓋體時， 金屬箔則較佳爲鋁箔。使用鋁箔層時，除具有優越 的遮光性外，也可獲得氣體障壁性和保香性。 春 遮光性油墨層之厚度，雖然需視油墨中黑色顏料或 染料之濃度而定.，但是一般而言只要是具有能充分 遮斷紫外線和可見光線之程度即可。至於鋁箔之厚 度則較佳爲3至15微米，更佳爲7至12微米。 (3 ) 層結構例 第1至4圖係例示將形狀記憶性p B τ積層薄膜用作爲方 便食品用容器之蓋體用包裝材料時之層結構。第1圖所展 -22· 200531985 亦之積層薄膜1係展示具有作爲基本結構之PBT薄膜層2 、紙片3和密封膠膜4之層結構。其PBT薄膜層2與紙片 3之間則有由黏合劑層6與經擠壓積層之聚乙烯層（I ) 5 所構成之黏合層（I )，在紙片3與密封膠膜4之間則有由 黏合劑層6’與經擠壓積層之聚乙烯層（Π) 5’所構成之黏 合層（Π )。若爲在第1圖所展示層結構例之情形下，則 由PBT薄膜2和黏合層（I ) ( 5和6 )所構成之外側層， 與由黏合層（II ) ( 5’和6’）和由密封膠膜4所構成之內 側層之層厚比，較佳爲外側層/內側層=1 00/35至1 00/1 00 · 。藉此則可使PBT薄膜2有效地發揮捲曲性和靜保持性之 機能。該「外側」和「內側」係意謂著將形狀記憶性PBT 積層薄膜用作爲方便食品用容器等之蓋體使用時爲相對於 容器之外側和內側。 第2圖係展示爲提高形狀記憶性PBT積層薄膜的剛性而 在紙片3與密封膠膜4之間設置剛性薄膜7之實例。另外 ，第2圖中5”是表示經擠壓積層的聚乙烯層（III )，6”是 0 表示黏合劑層（III)。 第3圖係展示爲賦予良好的遮光性而在聚對苯二甲酸乙 二酯層7之內側面設置遮光性油墨層8之實例。遮光性油 墨層8較佳爲預先印刷在聚對苯二甲酸乙二酯（PET )薄 膜。另外，也可將遮光性油墨層8設置在PBT薄膜層2之 內側，或設置在紙片層3之一面上（例如紙片層3之內側 )。第4圖所展示之積層薄膜係具有金屬箔層9以用作爲 -23- 200531985 賦予遮光性之層。 第5和6圖係例示將形狀記憶性PBT積層薄膜用作爲收 容果子凍、布丁等半固態食品之容器的蓋體用包裝材料時 之層結構。第5圖所展不之積層薄膜係具有用作爲基本糸士 構之PBT薄膜層2、剛性薄膜7和密封膠膜4。在pBT薄 膜層2與剛性薄膜7之間則有黏合劑層（例如熱熔層）6， 在紙片3與幣;膠膜4之間則有黏合劑層（例如熱熔層） 6 ’。第6圖係展不爲賦予良好的遮光性而在剛性薄膜7之 內側面設置遮光性油墨層8之實例。 鲁 用作爲收容半固態食品的容器所使用之蓋體，由於其係 並未被要求如用作爲方便食品用容器之蓋體般的注入開水 後之再封性，因此大部份是並未具有強烈的靜保持性之紙 片或鋁箔。但是，若僅將P E T薄膜與聚乙烯薄膜之二層加 以黏合以構成積層薄膜時，則即使PET薄膜欲回復到第一 形狀，但是因變形易爲聚乙烯薄膜所吸收，因此回復形狀 能有可能變得不足。因此，欲製造具有PET薄膜與聚乙烯 0 薄膜的形狀記億性PBT積層薄膜時，則較佳爲在PET薄膜 與聚乙烯薄膜之間設置該剛性薄膜。 〔2〕 形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方 法 茲就形狀記億性PBT積層薄膜之製造方法參照圖式詳加 說明如下。 (1 ) 第一製造方法 -24- 200531985 形狀記憶性PBT積層薄膜之第一製造方法，係包括： (a ) 將ΡΒΤ薄膜與該其他薄膜或薄膜積層體加以黏合， 將經積層該P B T薄膜與其他薄膜或薄膜積層體所獲 得之積層薄膜，邊保持在第一形狀、邊在低於該 PBT之Tg的溫度T!施加賦形處理（冷加工）； (b) 將所獲得之賦形積層薄膜在高於該玻璃轉移溫度Tg 的溫度T2加以變形加工成第二形狀；及 (c) 冷卻至低於玻璃轉移溫度Tg的溫度T3以固定成第 二形狀之步驟。 _ 以下，以第一形狀爲「捲曲形狀」，第二形狀爲「平坦 形狀」之情形爲例說明如下。第7圖係展示用作爲製造形 狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜的裝置之一實例示意側視圖。從捲 繞ΡΒΤ薄膜原材之捲筒20退捲之ΡΒΤ薄膜2，係藉由導 向輥1 〇〇，並以凹版印刷輥1 0 1、1 0 1在一方的面上塗佈黏 合劑（例如熱熔膠）6，然後以乾燥爐1 02乾燥黏合劑層。 其後，則藉由壓力調整輥1 0 3，並隔著由擠壓模頭1 04所 | 擠壓出之熔融聚乙烯5,邊將藉由捲筒12所退捲之其他薄 膜或薄膜積層體1 3疊在黏合劑層、邊使其等通過冷卻輥 105與橡膠輥105’之間（擠壓積層）。將所獲得之積層薄 膜邊以冷加工輥106搬送、邊以低於該ΡΒΤ之Tg的溫度 L施加賦形處理。藉此則可對於積層薄膜之PBT薄膜賦予 捲曲性。將經賦予捲曲性之積層薄膜（捲曲性積層薄膜） 1 〇以加熱器1 08邊在高於Tg的溫度T2快速地施加徐冷處 -25 - 200531985 理、邊在二夾輥107、1〇7,之間加以變形加工成平坦狀，然 後使其與冷卻輥1 0 9相接觸以冷卻至低於該T g的溫度τ 。藉此則將可加以固定成平坦的形狀。其後則將捲曲性積 層薄膜以捲筒朝反捲曲方向捲取，以製成捲裝薄膜i i (形 狀記憶性PBT積層薄膜1 )。在本說明書中，「捲曲性」 係與使形狀記憶性PBT積層薄膜1彎曲時能維持其狀態的 「靜保持性」不相同，而是意謂著會由使形狀記憶性PBT 積層薄膜1暴露在局於賦予捲曲性之溫度下，以賦予捲曲 性後所獲得之第二形狀（平坦形狀、反捲曲形狀等）回復 春 到（可使得形狀記憶性PBT積層薄膜1彎曲）捲曲形狀之 性質。 冷加工溫度T!雖然係以低於PBT之Tg爲必要條件，但 是較佳爲低於3 5 °C，更佳爲介於1 5 t與25 °C之間。用以 冷卻徐冷處理後的積層薄膜1 0的溫度T3雖然係以低於該 Tg爲必要條件，但是較佳爲介於15°C與25°C之間。ΡΒΤ 薄膜通常具有Tg爲介於約2(TC與45°C之間。Tg係根據 0 JIS K - 7121 所測得。 在高於Tg的溫度T2，使捲曲性積層薄膜加以變形加工 成平坦狀之徐冷處理，係需要進行至不致於使得以冷加工 所賦予的捲曲性消失之程度。因此，溫度Τ2較佳爲介於45 °C與65°C之間，且宜快速加熱至該溫度之範圍後加以變形 加工，並施加30至60秒鐘之徐冷處理。在二夾輥107、 107’之間爲保持平坦所施加之張力，較佳爲設定在5至10 -26- 200531985 k g f / m寬度。另外，經實施在溫度T 2之徐冷處理後，較佳 爲加以驟冷至溫度T3。在第7圖中，係使用加熱器1 08、 1 〇 8在捲曲性積層薄膜1 〇之兩面進行加熱，但是也可僅在 捲曲性積層薄膜1〇之ΡΒΤ薄膜側設置加熱器108。也可用 噴嘴朝捲曲性積層薄膜1〇之ΡΒΤ薄膜吹噴來自加熱器108 之加熱空氣。 第7圖所展示之實例雖然係將捲曲性積層薄膜1 〇冷卻至 溫度Τ3後，則朝其反捲曲方向（使其他薄膜或薄膜積層體 位於內側）加以捲取，但是爲使經冷加工所賦予之捲曲性 不致於消失，且爲極力抑制捲曲形狀之回復，則其捲取溫 度及以捲取狀態保管之溫度，較佳爲八附近之溫度。藉此 則可使形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜1保持在平坦狀態，因此 將捲裝薄膜1 1 (形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜1 )加以退捲時 之捲曲性積層薄膜1 〇係大致爲平坦。 將形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜用作爲收容食品用容器或半 固態食品用容器之蓋體時，供積層於ΡΒΤ薄膜之其他薄膜 或薄膜積層體，係應事先製成爲形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜 能符合在如上所述之〔1〕 （ 3 )所述之層結構。其他薄膜 或薄膜積層體13，雖然也可由擠壓積層法或乾式積層法中 任一種所形成，但是較佳爲以擠壓積層法所形成。 關於對於冷加工輥1 06繞掛積層薄膜之方法，較佳爲如 第7圖所展示將積層薄膜之捲繞方向與退繞方向所形成之 角度0 !設定在45至60度之範圍。藉此則可對於ΡΒΤ薄 200531985 膜2賦予足夠的捲曲性。如欲使角度0 !符合吾所欲之値， 則適當地調整冷加工輥106與壓力調整輥103’之位置關係 即可。冷加工輥1 〇 6之直徑較佳爲2 0至8 0公分。藉此則 可對於P B T薄膜2賦予足夠的捲曲性。通常冷加工輥1 〇 6 之周速係設定在30至100公尺/分鐘。 使PBT薄膜2與其他薄膜或薄膜積層體13通過冷卻輥 1 0 5、橡膠輥1 〇 5 ’之間以使其黏合時，則以壓力調整輥1 〇 3 對於PBT薄膜2邊施加通常高於4 kgf/m寬度之張力、邊 進行黏合。尤其是對於PBT薄膜2施加10至20 kgf/m寬 度之張力，藉此則可使PBT薄膜2邊朝長度方向延伸成可 彈性伸縮的伸度下、邊使其與其他薄膜或薄膜積層體1 3黏 合。藉此則可使P B T薄膜2在保持著彈性回復力之伸長狀 態下與其他薄膜或薄膜積層體1 3黏合。所謂「保持著彈性 回復力之伸長狀態」，係指解除用以固定PBT薄膜2的拉 伸之力時，PBT薄膜2仍保持著將收縮成原型之力的狀態 。因此，可進一步提高形狀記憶性PBT積層薄膜1之捲曲 性。該可彈性伸縮的伸度，係指一般以不致於因拉伸而在 PBT薄膜產生外觀上的皺紋之程度，加以拉伸約1 %至3 % 時之伸度。 在第7圖所展示之實例，係僅在PBT薄膜2之單面上黏 合其他薄膜或薄膜積層體13，但是也可在PBT薄膜2之兩 面上與其他薄膜或薄膜積層體1 3黏合後，再賦予捲曲性。 第8圖係展示製造形狀記憶性PBT積層薄膜之裝置的其 200531985 他實例。其中與第7圖所展示實例相同構件或部份係以相 同元件代表符號加以附註。在本實例中，除將PBT薄膜2 與其他薄膜或薄膜積層體1 3以乾積層法加以黏合之外’其 餘則與第7圖所展示之實例相同。設置黏合劑層之P B T薄 膜2，係藉由壓力調整輥1 〇3邊將其他薄膜或薄膜積層體 1 3疊合於黏合劑層、邊通過一對加熱輥11 0、1 1 0之間。 但是若需要強烈的黏合強度時，則較佳爲以第7圖所展示 擠壓積層法，將PBT薄膜2與其他薄膜或薄膜積層體13 黏合。 * 其次，說明在形狀記憶性PBT積層薄膜之第一形狀爲「 托盤形狀」，第二形狀爲「平坦形狀」之情形下的實例。 第9圖係展示用以製造此種形狀記憶性PBT薄膜的裝置之 一實例。圖中對於與第7圖所展示實例相同構件或部份則 以相同的元件代表符號加以附註。首先以擠壓積層法或乾 積層法將PBT薄膜與其他薄膜或薄膜積層體黏合，以形成 在PBT薄膜之單面或兩面具有其他薄膜或薄膜積層體之積 φ 層薄膜。將所獲得之積層薄膜14以壓力調整輥103、103 送出，邊按壓用以賦予托盤形狀之按壓模1 1 1、邊以該溫 度作冷加工，以斷斷續續地賦予根據按壓模111的外形 之形狀。使所獲得之賦形積層體1 5通過一對徐冷用輥1 1 2 、1 1 2，以該溫度T2施加徐冷處理則可大致平坦化，然後 以冷卻裝置1 1 3、1 1 3冷卻至該溫度Τ3。邊使大致平坦化 之變形積層薄膜15,與由捲筒16退捲之被覆用薄膜17加 -29- 200531985 以積層化、邊以與按壓模1 1 1同型之捲取輥i i 4加以捲取 ’以製成捲裝薄膜。藉此根據按壓模111之外形的變形將 被隱藏潛在化而變成外觀上無變形之積層薄膜。對於PBT 薄膜2邊按壓按壓模1 1 1、邊進行溫度Τι的冷加工係實施 1 0至6 0秒鐘即可。此外，第9圖所展示之實例雖然係使 用托盤狀之按壓模111，但是也可適當地選用吾所欲記憶 形狀的形狀之按壓模。 (2 ) 第二製造方法 形狀記憶性PBT積層薄膜之第二製造方法，係包括： (a) (i)預先製造該PBT薄膜與其他薄膜或薄膜積層體 之積層薄膜，然後將此邊保持在第一形狀、邊在介 於高於T g與低於熔點之間的溫度τ 4實施賦形處理 ，或是（π )將該PBT薄膜邊保持在第一形狀、邊 在溫度T4實施賦形處理後，與其他薄膜或薄膜積層 體黏合，以製得具有第一形狀之積層薄膜； (b) 將所製得之賦形積層薄膜冷卻至低於Tg的溫度丁5 以固定成爲第一形狀； (c) 然後將該賦形積層薄膜在介於高於Tg與低於溫度 τ4之間的溫度τ6加以變形加工成第二形狀後； (d ) 冷卻至低於T g的溫度Τ 7以固定成弟—形狀之步，驟 〇 PBT樹脂之Tg爲介於22t與45t之間’接近於室溫， 因此可容易地加熱至高於Tg、冷卻至低於Tg。而且，熔點 -30- 200531985 爲高達2 3 0 °C，因此從Tg至熔點之間的溫度之範圍廣闊， 可拉大溫度T4與溫度T5之差距。因此，可容易地實施如 上所述之（Α)至（D)之操作。 以下則以第一形狀爲捲曲形狀，第二形狀爲平坦形狀之 情形爲例加以說明。 第10圖係展示以第二製造方法製造形狀記憶性ΡΒΤ積 層薄膜的裝置之一實例。在本實例則將其他薄膜或薄膜積 層體黏合在經預先賦予捲曲性之賦形ΡΒΤ薄膜上。ΡΒΤ薄 膜2之一面以黏合劑6加以塗佈，直至在乾燥爐1 02乾燥 鲁 黏合劑層爲止之步驟，係與第7圖所展示之實例相同。如 第1 〇圖所展示，以壓力調整輥1 03送出經乾燥黏合劑層後 之ΡΒΤ薄膜2，並以未具有黏合層之面爲接觸面，以賦形 用之加熱輥1 1 5邊搬送、邊以該溫度Τ4處理以賦予捲曲性 。其後則邊在ΡΒΤ薄膜2之黏合層疊上其他薄膜或薄膜積 層體1 3、邊使其通過加熱輥1 1 5與抵接輥1 1 5 ’之間，以使 兩者黏合。然後使所製得之捲曲性積層薄膜1 0與冷卻輥 _ 109接觸以冷卻至低於該Tg的溫度Τ5，然後以反捲曲方向 捲取在捲筒上’以製成捲裝薄膜11。將所獲得之捲裝薄膜 1 1在介於高於Tg與低於溫度Τ4之間的溫度Τ6進行加熱處 理，然後加以冷卻至低於該Tg的溫度Τ7以製得形狀記憶 性Ρ Β Τ積層薄膜1。經製成爲捲裝薄膜1 1後，以溫度τ 6 進行加熱處理，然後加以冷卻至溫度Τ7以使該積層薄膜之 捲曲形狀加以潛在化，以使其成爲表觀上大致爲平坦的積 -31 - 200531985 層薄膜。加熱或冷卻捲裝薄膜1 1之方法並無限定，例如可 採取將捲裝薄膜1 1放入槽中，並以加熱器加熱槽之周圍， 或以冷卻裝置冷卻之方法。 在加熱輥1 1 5之加熱溫度T4，雖然必須爲介於高於PBT 之Tg與低於熔點之間的溫度，但是較佳爲介於75 °C與100 °C之間，更佳爲介於90°C與l〇〇°C之間。在冷卻輥1〇9之 冷卻溫度T5，雖然必須爲低於該Tg之溫度，但是較佳爲 低於4(TC。捲曲性積層薄膜10之冷卻也可爲使用冷卻空 氣以取代冷卻輥109者。捲裝薄膜1 1之加熱溫度T6，雖 鲁 然必須爲介於高於該Tg與低於溫度Τ4，但是較佳爲介於 45°C與65°C之間，更佳爲介於45°C與5〇Χ：之間。另外， 在溫度T6之加熱處理較佳爲實施約24小時。加熱處理捲 裝薄膜1 1後之冷卻溫度Τ7，雖然必須爲低於該Tg，但是 較佳爲低於40 °C。第10圖所展示實例，雖然製成爲第二 形狀之大致平坦的形狀而朝捲曲性積層薄膜之反捲曲方向 (使其他薄膜或薄膜積層體位於內側）加以捲取，但是藉 0 此則可有效地使薄膜變成爲平坦。 關於對於加熱輥1 1 5繞掛積層薄膜之方法，較佳爲如第 1 〇圖所展示將積層薄膜1 1 2之捲繞方向與退繞方向所形成 之角度0 2設定在45至60度之範圍。藉此則可對於PBT 薄膜2賦予足夠的捲曲性。如欲使角度0 2符合所希望之値 ，則適當地調整加熱輥115與壓力調整輥103、103之位置 關係即可。加熱輥115之直徑較佳爲60至80公分。藉此 -32- 200531985 則可對於PBT薄膜2賦予足夠的捲曲性。通常加熱輥115 之周速係設定在30至100公尺/分鐘。 如上所述之（1 )第一製造方法所說明，使ΡΒΤ薄膜2 與其他薄膜或薄膜積層體1 3通過加熱輥1 1 5與抵接輥1 1 5 ’ 之間以使其黏合時，則以一對壓力調整輥1 03、1 03對於 ΡΒΤ薄膜2邊施加通常高於4 kgf/m寬度之張力、邊進行 黏合。較佳爲與第一製造方法同樣地對於PBT薄膜2施加 10至20 kgf/m寬度之張力。 第1 1圖係展示以第二製造方法製造形狀記憶性PBT積 籲 層薄膜之裝置的其他實例。其中，與第7圖所展示實例相 同構件或部份係以相同元件代表符號加以附註。在本實例 則預先製造含有PBT薄膜之積層薄膜後，就對其PBT薄膜 層賦予捲曲性。其中，直至以一對加熱輥1 1 0、1 1 0將PBT 薄膜2與其他薄膜或薄膜積層體1 3黏合爲止之步驟，係與 第8圖所展示之實例相同。將所獲得之積層薄膜以加熱輥 115邊搬送、邊在介於高於PBT之Tg與低於熔點之間的溫 度T4進行賦形。藉此則可對於積層薄膜之PBT薄膜層賦予 捲曲性。然後使所製得之捲曲性積層薄膜1 0與冷卻輥1 09 接觸以冷卻至低於該Tg的溫度Τ5，然後以反捲曲方向捲 取在捲筒上，以製成捲裝薄膜11。將所獲得之捲裝薄膜11 如上所述在介於高於Tg與低於溫度Τ4之間的溫度Τ6進行 加熱處理，然後加以冷卻至低於該Tg的溫度Τ7，以製得 形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜1。 -33- 200531985 第11圖所展示之實施例中，關於溫度τ4至τ7.之條件係 與第10圖所展示之實施例相同。積層薄膜10之捲繞方向 與退繞方向所形成之角度0 3較佳爲45至60度之範圍。在 第1 1圖所展示實例，其係僅在ΡΒΤ薄膜2之單面黏合其 他薄膜或薄膜積層體13,但是也可在ΡΒΤ薄膜2之兩面黏 合其他薄膜或薄膜積層體1 3後，再賦予捲曲性。 根據第二製造方法，也可製造第一形狀爲托盤形狀，第 二形狀爲平坦形狀之形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜。此種情形 時之製造裝置係可使用與第9圖所展示者相同，因此使用 鲁 第9圖來加以說明。首先黏合ΡΒΤ薄膜與其他薄膜或薄膜 積層體，以形成在ΡΒΤ薄膜之單面或兩面具有其他薄膜或 薄膜積層體之ΡΒΤ積層薄膜。所獲得之積層薄膜14係經 過一對壓力調整輥1 03、1 03後，邊按壓用以賦予托盤形狀 之按壓模Π 1、邊在介於高於ΡΒΤ之Tg與低於熔點之間的 溫度T4進行加熱處理，以斷斷續續地賦予根據按壓模1 1 1 的外形之形狀。使所獲得之賦形積層體1 5，與設置在按壓 | 模1 1 1之後段的冷卻用托盤狀按壓模或冷卻空氣接觸，力口 以冷卻至低於該Tg的溫度Τ5，然後使其通過一對加熱輥 112、112之間，以在介於高於該Tg與低於該Τ4之溫度Τ6 進行加熱處理，然後以冷卻裝置1 1 3、1 1 3加以冷卻至低於 該Tg之溫度Τ7，藉此則可使其平坦化。對於薄膜積層體 1 4邊按壓按壓模1 1 1、邊進行在溫度Τ4的加熱處理係實施 1 0至6 0秒鐘即可。 -34- 200531985 〔3〕 形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜 藉由如上所述之第一方法所製得之形狀記憶性PBT積層 薄膜，係在高於之溫度因形狀回復能而會實質性地回復 到第一形狀。PB T薄膜之所以即使在該徐冷處理和冷卻步 驟被固定於第二形狀之後，也能在高於T,之溫度回復到第 一形狀的理由，雖然並未明暸，但是可認爲應變將在溫度 L之冷加工爲高分子鏈之互相纒絡所保持，且該應變之大 部份也不會因受到在溫度T2之短時間徐冷處理而受到緩和 ，因此在高於之溫度就會回復到第一形狀。 籲 藉由如上所述之第二方法所製得之形狀記億性ΡΒΤ積層 薄膜，係在高於Τ4之溫度因形狀回復能而會實質性地回復 到第一形狀。ΡΒΤ薄膜之所以即使在該加熱變形加工和冷 卻步驟被固定於第二形狀之後，也能在高於Τ4之溫度回復 到第一形狀的理由，雖然並未明暸，但是可認爲例如在高 於溫度Τ4由於其爲橡膠狀領域，因此容易受到加熱賦形處 理’在溫度Τ5則爲玻璃狀領域，因此變形被固定，在溫度 τ6之加熱變形加工，在溫度Τ4的變形之一部份雖然受到緩 和而變成第二形狀，但是大部份分子鏈之配向也不會變化 ，因此在高於τ4之溫度就會回復到第一形狀。 具有能回復到第一形狀的形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜係可 用作爲各種包裝材料。特別是藉由如上所述〔2〕之方法所 製得記憶捲曲形狀之形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜，係即使不 使用鋁箔等之金屬也能使蓋體充分捲曲，因此適合用作爲 •35- 200531985 方便食品用容器的蓋體之包裝材料。製造方便食品用容器 時，則將形狀記憶性PBT積層薄膜以蓋材密封裝置進行沖 孔加工，並立刻將所獲得之蓋體熱密封於容器。進行熱密 封時，蓋體密封部係由蓋材密封裝置之密封頭通常加熱至 介於120°C與160°C之間，但是其時對於蓋體密封部以外之 部份也會受到熱，因此蓋體將在高於Tl或T4之溫度條件 下受到處理。因此，蓋體會回復捲曲形狀，使得尙被密封 在容器之期間雖然爲平坦，但是一經剝離即將呈捲曲形狀 。尤其是當如上所述般在仍保持著ΡΒΤ薄膜之彈性回復力 的伸長狀態下黏合於紙片時，捲曲性將進一步提高。 〔4〕 具備形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜製蓋 體的容器之製造方法 以下說明具備形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜製蓋體的容器之 製造方法。藉由如上所述之〔2〕所記載之方法所獲得之形 狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜1，由於其係在其製程中即製成爲 表觀上大致呈平坦，而且製成爲捲裝薄膜11來保管，因此 在退捲時表觀上是大致呈平坦。但是形狀回復溫度較低時 、保管期間過長時、在夏天之高溫期間暴露於室溫時等， 則有可能造成在保管時會緩慢地回復捲曲形狀，或因保管 時之捲繞而朝與所記憶的捲曲形狀相反側彎曲之缺點。 具備形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜製蓋體的容器，係藉由將 記憶捲曲形狀之形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜加以沖孔加工後 ，熱密封於容器所製得，但是將形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜 200531985 退捲時’若非爲大致呈平坦，則將導致不能對於容器進行 熱密封’或即使能進行，但是必定會造成蓋體彎曲之不良 品。因此，在製造附有蓋體之容器時，則將退捲時非爲平 坦的形狀記憶性P B T積層薄膜，在即將進行熱密封之前， 則必須使其大致變成爲平坦。 第1 2圖係展示用作爲製造具備形狀記憶性PBT積層薄 膜製蓋體的容器之裝置之一實例。其係將藉由捲裝薄膜n 退捲之形狀記憶性PB T積層薄膜1，以加熱器1 1 7、1 1 7在 高於PBT之Tg的溫度T8邊在二夾輥1 16、1 16,之間保持 在平坦、邊進行徐冷處理，以製成表觀上大致呈平坦。然 後將所製得大致呈平坦之形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜1，以 密封頭1 2 1會上下活動的蓋材密封裝置〗2 〇施加沖孔加工 ，並立刻進行熱密封於容器本體1 40上。另外，必要時也 可對於容器內吹入惰性氣體。 但是在溫度Τ8之徐冷處理程度，則必須限於不致於導致 形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜消失其所記憶之捲曲性。因此， 溫度Τ8較佳爲介於80°C與120°C之間，更佳爲介於90°C與 1 〇〇°C之間。將形狀記憶性PBT積層薄膜快速加熱至溫度 T8，並保持成平坦後施加30至60秒鐘之徐冷處理。爲在 二夾輥116、116’保持成平坦所需要施加之張力係應設定在 5至10 kgf/m寬度。通常形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜1之行 進速度係設定在30至10 0公尺/分鐘。在第12圖，係以加 熱器1 1 7、1 1 7在形狀記憶性PBT積層薄膜1之兩面加熱 200531985 ，但是若形狀記憶性PBT積層薄膜1僅在單面具有PBT薄 膜時，則也可僅在其ΡΒΤ薄膜側設置加熱器1 1 7。也可將 來自加熱器1 1 7之加熱空氣吹噴在形狀記憶性ΡΒΤ積層薄 膜1之ΡΒΤ薄膜上。 由於蓋體之沖孔加工與對於容器本體1 40的熱密封係必 須間歇性地進行，因此較佳爲設置如第1 2圖所展示之可自 由上下活動的防止彎曲用輥1 1 8，以使形狀記憶性ΡΒΤ積 層薄膜1能在導向輥1 1 9與抵接輥1 22之間不致於撓曲而 保持著一定張力。另外，第1 2圖中1 8是表示經沖壓加工 出蓋體後之由形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜1所構成之捲裝薄 膜。 進行熱密封時，蓋體密封部係由蓋材密封裝置之密封頭 121，通常加熱至介於120 °C與160 °C之間，但是其時對於 蓋體密封部以外之部份也會受到熱，因此蓋體將在高於T! 或T4之溫度條件下受到處理。因此，蓋體會回復捲曲形狀 ，使得尙被密封在容器之期間雖然爲平坦，但是一經剝離 即將呈捲曲形狀。 〔5〕 食品用容器 藉由如上所述〔4〕之製造方法所獲得的容器之蓋體，一 旦從容器剝離，則可顯現經記憶的形狀之捲曲形狀。例如 ，將形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜適用於方便食品用容器之蓋 體時，如第1 3圖所展示，抓住蓋體1之捏翼部1 3 0從容器 本體1 4 0將蓋體1剝離至標記1 3 1時，因開封所形成之活 -38- 200531985 頁部，即使並未具有鋁層也能將其保持在呈充分被捲曲之 狀態。尤其是如上所述若爲仍在保持著PBT薄膜之彈性回 復力的伸長狀態下黏合於紙片時，捲曲性則將進一步提高 。將形狀記憶性PBT積層薄膜適用於方便食品用容器之蓋 體時，其層結構則較佳爲以如上所述之〔1〕 （ 3 )所展示 於第1至4圖者。 將具有經形成後述線狀痕的PBT薄膜之形狀記憶性PBT 積層薄膜，適用於方便食品用容器之蓋體時，如第1 4圖所 展示，在捏翼部1 3 0之兩側設置切口 1 3 2、1 3 2，則可容易 地將蓋體7加以局部性開封。亦即，以手指抓住蓋體1之 捏翼部1 30並朝蓋體1之相反側拉開時，蓋體1就會被直 線撕裂並在蓋體1形成出開口部1 33。藉由撕裂所形成之 活頁部1 34，可將其保持在經被充分捲曲之狀態。因此直 接對於開口部1 33加入熱開水即可。 加入熱開水後，使活頁部1 34蓋回原先位置時，由於在 活頁部1 3 4之單側或兩側之外緣設有紙的鋸齒狀之破裂部 l34a、134a，因此其將與開口部133之紙的鋸齒狀133a、 133a之破裂部相扣合，使得活頁部134不能掀起來。另外 ’此種情形下’不僅是開口部1 3 3之面積比傳統全面開封 式之開口部爲小，且活頁部134係被扣止於開口部133之 狀態，因此即使誤使容器本體1 40翻倒，也能減少熱開水 漏出量。此外，第1 4圖中1 5 0是表示乾燥麵條。 容器本體1 40係可由例如紙、苯乙烯發泡體等之合成樹 200531985 脂所形成。在紙製容器本體之情形下，不僅是可容易地作 焚燒處理，且具有在焚燒時不會產生對於環保上有不良影 響的氣體之優點。在苯乙烯發泡體製容器本體之情形下， 則具有優越的保溫性之優點。容器本體1 40之形狀並非局 限於圖示者，可根據內容物種類而加以適當地選擇。 第1 5和1 6圖係展示將形狀記憶性PBT積層薄膜用作爲 收容果子凍、布丁等半固態食品的容器之蓋體之實例。將 形狀記憶性PBT積層薄膜適用於半固態狀食品用容器之蓋 體時，其層結構較具代表性的是展示在如上所述之〔1〕（ 春 3 )之第5和6圖所展示者。如第15圖所展示，在密封狀 態下，密封在容器本體140上之蓋體1係呈平坦。然而， 由於蓋體1係在被熱密封在容器本體1 40上時，則已回復 捲曲形狀（但是表觀上仍是呈平坦），因此由並未具有紙 片或鋁箔的形狀記憶性PBT積層薄膜所構成之蓋體1，由 容器本體1 40加以剝離時，如第1 6圖所展示，即因記憶形 狀而會呈強烈的捲曲。容器本體1 40係可以例如聚丙烯、 聚乙烯等之合成樹脂所構成。容器本體1 40之形狀並非局 限於圖示者，可根據內容物種類而加以適當地選擇。如此 之具有強烈捲曲性之蓋體是也適合於咖啡、牛乳等之一客 份包裝用之蓋體等用途。 將記憶在如上所述〔2〕之托盤形狀的形狀記憶性pBT 積層薄膜，仍在平坦狀態下按各托盤形狀單位加以切成時 ，則可用作爲食品用托盤。例如如第1 7圖所展示，在所製 -40- 200531985 得之食品用托盤123上放置速食冷凍食品124後，用包裝 用薄膜125包裝以作爲包裝商品126。如第17圖所展示， 包裝商品1 2 6係將藉由微波爐1 2 7等加熱後供食，惟此時 以該高於T!或T 4之溫度並以適當時間加以加熱處理，食 品用托盤1 2 3將回復到藉由按壓模U 1所形成之托盤形狀 。如此將形狀記憶性PBT積層薄膜適用於食品用托盤1 23 時，在包裝商品1 26之狀態時，由於大致呈平坦，容積小 ，方便於供輸送或陳列，且具有一經加熱處理即回復托盤 形狀，變成易於供食的狀態之方便性。 在食品.用托盤123之包裝用薄膜125，較佳爲以後述方 法，至少在其一方的面上形成實質上平行的許多線狀痕。 藉此，包裝用薄膜1 25則無論其配向性將具有朝單一方向 的直線性易撕裂性，可由任意位置沿線狀痕加以直線撕開 。因此供食時，則可容易地作包裝用薄膜1 25之局部性開 封。如此之線狀痕，由於並未穿通薄膜，經形成線狀痕後 之包裝用薄膜1 25仍然具有優越的氣體障壁性。 〔6〕 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法 可用作爲本發明之形狀記憶性PBT積層薄膜之PBT薄膜 ’較佳爲藉由如下所述之吹塑製膜成型法或單軸向拉伸法 所製得者。只要是使用藉由該製造方法所獲得之PBT薄膜 ’則可獲得可將經賦予之形狀穩定地回復之形狀記憶性 PBT積層薄膜。 (1 ) 原料聚對苯二甲酸丁二酯樹脂 -41 - 200531985 關於原料PBT樹脂，由於其爲如上所述之〔1〕 （ 1 )所 述者’因此說明省略。 (2 ) 吹塑製膜成型法 第1 8圖係展示根據空氣冷卻式吹塑製膜成型法製造PBT 薄膜之方法流程圖。藉由裝設在擠壓機2 1 2之環狀模20 1 所擠壓出之管狀薄膜，係將空氣朝內部送入，使其膨脹成 特定寬度之薄膜，並以捲取機夾輥213夾住且進行牽引， 然後以捲取筒2 1 4加以捲取。 在製造PBT薄膜時，則首先必須將PBT樹脂及吾所欲之 _ 添加劑等在擠壓樹脂溫度爲介於240°C與260 °C之間進行揑 合。揑合溫度若高於260°C時，則有可能會導致樹脂之熱 降解。因此，若在例如雙螺桿擠壓機的擠壓機中實施揑合 時，則應使用例如具有不會發熱的螺桿結構者，或具有適 當的冷卻裝置者。相對地，揑合溫度之下限若低於240 °C 時，擠出量將變成不穩定，因此不可取。 由吹塑製膜成型用環狀模201擠壓樹脂溫度應設定在介 於21 (TC與25 (TC之間。由環狀模20 1所擠壓出的樹脂溫度 若高於25 0°C時，則不能藉由第一冷卻環202來使得泡膜 體207充分冷卻。較爲理想的由環狀模201擠壓出的樹脂 溫度爲介於220°C與23 0°C之間。另外，由吹塑製膜成型用 環狀模201擠壓出的擠壓樹脂壓力爲9.8至13·7 MPa ( 100 至140 kgf/cm2)。擠壓樹脂壓力較佳爲設定在9.8至11.8 · MPa(100至120 kgf/cm2 )。吹塑製膜成型環狀模201之 -42- 200531985 直徑較佳爲120至300毫米。 由環狀模2〇1所擠壓出之泡膜體207，係邊以冷卻裝置 進行緩慢冷卻，不僅是朝MD方向（長度方向），同時也 朝T D (橫方向）加以拉伸。將其情形示意地表示於第1 9 圖。 第1 9圖中，泡膜體冷卻裝置係具有：設置在環狀模20 1 附近之第一冷卻環2 0 2 ;設置在第一冷卻環2 0 2的上方之 第二冷卻環203 ;設置在第二冷卻環203的稍偏於上方的 第三冷卻環204;設置在第一冷卻環202與第二冷卻環203 之間的圓筒狀網205，以及設置在網205之下部的冷卻空 氣吹出裝置2 06。 在該結構之裝置中，各冷卻環之佈置係取決於藉由空氣 冷卻式吹塑製膜成型法所形成之泡膜體207的溫度控制模 式，因此以下則就泡膜體207之形狀和溫度分佈加以說明 〇 其係將由環狀模201之環狀流孔211擠壓出熔融的PBT 樹脂或PBT樹脂組成物，以形成泡膜體207，惟剛被擠壓 出的泡膜體207由於熔融張力低，因此將成爲細徑狀以形 成所謂之頸部271。在頸部271中之泡膜體207，主要是朝 MD方向加以拉伸。然後使泡膜體207急劇地膨脹，以形 成特定之泡膜體徑。在該膨脹部272，泡膜體2 07不僅是 朝MD方向，也朝TD同時加以拉伸。冷卻線274係位於膨 脹部272之大致上方附近，PBT樹脂將在此處成爲冷卻固 200531985 化狀態。泡膜體207將再藉由設置在比冷卻線2 74爲上方 的泡膜體區273之第二冷卻環203和第三冷卻環2〇4而進 一步加以冷卻。 欲能以如本發明之空氣冷卻式吹塑製膜成型法製造PBT 薄膜，則必須將泡膜體207之各部份溫度控制成如下所述 (a) 剛由環狀模201擠壓出的溫度爲低於17〇°C， (b) 在頸部271則冷卻至低於130°C， (c) 在冷卻線274則冷卻至低於100 °C， (d) 以第二冷卻環203冷卻至80°C。 關於如上所述之條件（a )，雖然爲如上所述，但是關於 條件（b)，則若在頸部271未冷卻至低於熔點130°C時， 則在其次之膨脹部272就不能順利達成朝TD方向之拉伸 。換言之，在頸部271若不能冷卻至低於130 °C時，則將 導致在膨脹部272未具有足夠的熔融張力，以致變成以 MD方向爲主之拉伸。 爲符合如此的溫度條件，則應將吹脹比設定在1 .5至 2.84，較佳爲設定在2.0至2.8。 關於條件（c )，使冷卻線274的泡膜體溫度緩抑低至低 於100 °C，則可達成泡膜體207冷拉伸。因此，在冷卻線 274泡膜體溫度若爲高於100 °C時，則將導致泡膜體207在 膨脹部272朝MD方向和TD方向之拉伸變得不足。 關於條件（d )’在冷卻線2 74之上方使泡膜體2 0 7冷卻 -44- 200531985 至8 0°C，則可使均勻且薄的泡膜體207之形成趨於安定化 。若不予設置第二冷卻環203，而使泡膜體2 07的溫度保 持在高於80°C之狀態時，則有可能產生不均勻的拉伸，致 使泡膜體207全體變得不穩定。 經藉由第二冷卻環之冷卻後，較佳爲實施條件（e )的藉 由第三冷卻環204加以冷卻至低於5 0 °C。因爲如欲僅依賴 第二冷卻環203來完全冷卻泡膜體207時，則有可能造成 不均勻冷卻。因此，較佳爲應以第三冷卻環204冷卻至介 於3 0°C與4〇°C之間。經藉由該等第二冷卻環203和第三冷 卻環204，則在位於比其爲上方的泡膜體就不會產生拉伸 作用。 爲實施如上所述泡膜體207的溫度控制，第一冷卻環 2 02、第二冷卻環203、第三冷卻環204、網205和冷卻空 氣吹出裝置206應配置成如下所述。 (A) 第一冷卻環202 設置在環狀模201之跟前，以能使頸部271的溫度 降低至130 °C之方式噴出冷卻空氣。藉此在膨脹部 272以後之冷卻線274，則可使泡膜體207之溫度變 得低於l〇〇°C。 (B ) 第二冷卻環203 只以環狀模201的口徑之5至10倍距離比配置在 環狀模201之上方位置，以使泡膜體207的溫度能 變成80t之方式噴出冷卻空氣。 200531985 (C ) 第三冷卻環204 只以環狀模201的口徑之0.5至5倍距離H2配置在 第二冷卻環203之上方位置，以使泡膜體207的溫 度能變成5 0°C之方式噴出冷卻空氣。 (D )網 205 具有圓筒狀之形狀，位於第一冷卻環202與第二冷 卻環203之間，以包圍泡膜體207。網2 05係受到 後述冷卻空氣吹出裝置206之冷卻，用以使泡膜體 207之周圍保持成均勻，使得藉由第一冷卻環202 # 和第二冷卻環203之冷卻能在不受到外部環域（氣 溫-溫度等）之影響下經常在同一條件下進行，以使 泡膜體2 0 7之溫度維持在如上所述之條件（b )至（ d ) 〇 (E) 冷卻空氣吹出裝置206 設置在網205之下部外側，沿網205之下端部具有 圓狀冷卻空氣噴出口，以朝斜上方噴出冷卻空氣， 0 使得網205之周圍溫度爲介於3〇°C與40°C之間，較 佳爲介於30°C與35°C之範圍內成爲安定的溫度。朝 斜上方噴出之冷卻空氣係沿網205朝上吹，以冷卻 網全體（第19圖中之箭頭標記）。 以上之方法中，由第一冷卻環202對於泡膜體207噴射 之冷卻空氣，較佳爲使用加濕空氣。加濕空氣是以冷水加 濕冷卻所獲得之空氣，大約含有飽和狀態之水份，具有比 -46- 200531985 單純的冷卻空氣約高5 °c之冷卻效果。並且從冷卻效果之 觀點來考量，則由第二和第三冷卻環203、204對於泡膜體 207噴射的冷卻空氣，較佳爲也使用加濕空氣。若不能獲 得安定的冷卻效果時，泡膜體2 0 7則將變得不穩定，故冷 卻空氣之溫度和濕度應儘可能控制成不致於變化。 另外，由冷卻空氣吹出裝置206對於網205噴射之冷卻 空氣，係與如上所述之第一至第三冷卻環2〇2至2〇4之情 形相同，可使用加濕空氣，也可使用經將通常室內空氣調 節成吾所欲之溫度者。 第2 1圖係展示供應加濕空氣之系統。由鼓風機B供應之 空氣係在具備冷水器R和冷水循環泵P之加濕機2 1 5進行 加濕冷卻後，分別供應到第一至第三冷卻環202至204及 冷卻空氣吹出裝置206。 再者，網2 05雖然可使用耐綸、聚丙烯、聚酯等之塑膠 製者，或不銹鋼、銅 '黃銅、鎳等之金屬製者等，但是其 網目則較佳爲具有5至2G網眼，特佳爲具有8至〗〇網眼 〇 此外，如第1 9圖所展示，也可在網205之外側以包圍泡 膜體區2 7 3之狀態下設置隔壁2 2 0。藉由設置隔壁2 2 0，則 可使泡膜體區273將來自外部環境氣氛（氣溫、溫度等） 之影響加以遮斷’藉此均勻地保持泡膜體2 0 7之周圍溫度 ’使得藉由第一冷卻環202、第二冷卻環203、第三冷卻環 2〇4及冷卻空氣吹出裝置206之冷卻能經常在同一條件下 200531985 進行，以使.泡膜體207之溫度維持在如上所述之條件（b ) 至（d)。 隔壁2 2 0之材料雖然並無特殊限制，但是較佳爲採用丙 烯酸系樹脂，使其能觀察到由隔壁2 2 0所包圍的泡膜體區 273。隔壁220之形狀係只要是能由四方包圍泡膜體區273 ’則並無特殊限制，例如可使用圓筒型結構、或立方體型 結構，但是較佳爲圓筒型結構。 必要時’也可在隔壁2 2 0之內側設置加熱裝置2 3 0。加 熱裝置230可使用例如棒狀或帶狀之電熱式加熱器。棒狀 _ 之電熱式加熱器應設置數個。也可採取在隔壁220之內面 貼附鋁箔之結構，以切斷熱放射。必要時也可在隔壁220 之下部（冷卻空氣吹出裝置2 06之正上方），設置用以吹 噴約室溫附近的冷風之裝置。藉此不僅是可使隔壁220內 側的溫度調整變得容易，也可使隔壁220內側之空氣流量 調整變得容易。 較佳爲如第1 9圖所展示在隔壁220之內側上部設置冷卻 0 空氣排出口 22 1。藉由設置冷卻空氣排出口 22 1，則可整流 藉由第一冷卻環202、第二冷卻環203、第三冷卻環204及 冷卻空氣吹出裝置206所噴出之冷卻空氣。因此，可防止 由冷卻空氣所造成的泡膜體207之左右搖晃。冷卻空氣排 出口 230較佳爲設置2處以上，更佳爲2至4處。在第19 圖所展示實例，雖然在隔壁220之側面222的上部設置冷 卻空氣排出口 221，但是也可設置在隔壁220之上面223。 -48- 200531985 惟冷卻空氣排出口 22 1之個數和口徑，應設定在不致於損 及隔壁220的保溫性之程度。 如第1 9圖所展示，較爲理想的是在隔壁220之內側上部 設置環狀之整流板240。經設置整流板240，則可提高將藉 由第一冷卻環202、第二冷卻環203、第三冷卻環204及冷 卻空氣吹出裝置206所噴出之冷卻空氣加以整流之能力， 以進一步提高泡膜體207之左右搖晃防止性。整流板240 較佳爲由圓筒狀之網205附近延伸至隔壁220之內側面附 近。整流板2 4 0之結構並無限制，可使用：如第1 9和2 0 (a )圖所展示之由排成一方向的板材所隔開之結構；如第 20(b)圖所展示之隔成格子狀之結構；如第20 ( c )圖所 展示之設置數個圓孔的沖孔板狀；以及網狀等。整流板 240之開孔率較佳爲40 %至60 %。可用以構成整流板240 之材料並無特殊限制，可使用鋁、合成樹脂等。整流板 240之設置個數也無限制，通常設置一片即可。 PBT樹脂之根據空氣冷卻式吹塑製膜成型法的製膜方法 ，係保持如上所述之必要條件則可實現，至於其他條件則 也可適用吹塑製膜成型法之一般性條件，即使用直角接套 機頭，使管狀熔融PBT樹脂朝上方或下方擠壓出，以夾輥 夾住其端部並邊在其中送入空氣以使其膨脹成特定大小、 邊連續地捲取，在此期間內也可使模頭回轉或反轉，藉以 防止膜厚不勻現象。 根據如上所述方法所製得之PBT薄膜的熱收縮率値爲直 -49- 200531985 至200°C時大致爲〇 %，因此直至200°C爲止實質上不會發 生熱收縮。因此，在進行熱密封、印刷等之二次加工中薄 膜尺寸之變化少。而且拉伸是可實施加熱或非加熱兩者， 例如在約130°C可容易地拉伸3.2倍左右，可獲得從乳白色 至半透明之拉伸薄膜。以非加熱方式拉伸時，可獲得透明 薄膜。根據如上所說明之製造方法，則可製得厚度爲大於 10微米、薄膜寬度爲400至1，200毫米之PBT薄膜。 若根據如上所說明之製造方法，則由於經常可使泡膜體 各部（剛擠壓出後、頸部、膨脹部、冷卻線）分別維持在 吾所欲之溫度，因此品質經常是均勻。此外，由於可進一 步提高冷卻速度，因此可實施高速製膜。 (3) 單軸向拉伸法 第22圖係展示根據單軸向拉伸法之PBT薄膜製程。藉 由薄片用模頭（T型模頭）3 07所擠壓出之熔融樹脂3 05係 藉由加熱流延輥3 0 1牽引並緩慢冷卻則可形成結晶化薄片 3 06。所製得之結晶化薄片306係在加熱流延輥301和與其 平行設置的第二輥3 02之間進行拉伸，則可製成拉伸薄膜 〇 (a ) 結晶化片形成步驟 首先將PBT樹脂，與如上所述〔〗〕（〗）所述添加劑、 其他樹脂熔融捏合，以調製熔融樹脂3 05。熔融捏合之方 法並無特殊限制，但是通常係在雙螺桿擠壓機中均勻地進 行捏合。捏合溫度較佳爲介於23 0它與26CTC之間。捏合溫 200531985 度若高於260°C時，則有樹脂會發生熱降解之顧慮。因此 ，若在如同雙螺桿擠壓機般之擠壓機中進行捏合時，則應 使用具有不會發熱的螺桿結構，或是具有適當的冷卻裝置 。另外，捏合溫度之下限値降低至230°C時，擠出量將趨 於不穩定，因此不可取。 然後將經熔融捏合的熔融樹脂3 0 5以直接或藉由其他擠 壓機，或一旦加以冷卻使其酯粒化後再藉由擠壓機從薄片 用模頭3 07擠壓出。薄片用模頭3 07之間隙通常設定爲小 於5毫米。從薄片用模頭3 0 7擠壓出的樹脂溫度較佳爲介 鲁 於2 10°C與25 0°C之間，更佳爲介於220°C與2 3 0 °C之間。 將藉由如上所述之方法從薄片用模頭3 07所擠壓出之熔 融樹脂3 0 5，以加熱流延輥301加以牽引，並使其緩慢冷 卻以形成結晶化薄片3 06。由於藉由形成結晶化薄片306 即能提高對於拉伸之加工性，因此高拉伸化且薄膜化將變 得容易。較佳的是將薄片用模頭307與加熱流延輥30 1之 間的距離設定爲小於20公分，使得經擠壓出之熔融樹脂溫 0 度，在與加熱流延輥30 1進行接觸之前，其溫度不致於降 低至低於20(TC。加熱流延輥301較佳爲將溫度調整爲介 於150°C與2 00 °C之間。若使加熱流延輥301之溫度設定在 高於200t時，則由於熔融張力會變低，形成結晶化薄片 3 06將變得困難。相對地，若使加熱流延輥301之溫度設 定在低於150°C時，則由於所獲得之結晶化薄片3 06之結 晶化度會變低，因此對於後續的拉伸之加工性會降低。 -51 - 200531985 結晶化薄片3 0 6之厚度較佳爲5 0至1 0 0微米。藉此藉由 後續的拉伸步驟之薄膜化將變得容易。將結晶化薄片3 〇 6 之厚度設定爲50至1 00微米，且儘可能地抑制在形成結晶 化薄片3 0 6時之頸縮現象〔亦即，藉由模頭擠壓流延出之 薄片將變得比模頭之有效寬度爲窄之現象〕，則應設定加 熱流延輥3 0 1之周速爲5至1 5公尺/分鐘。加熱流延輥3 〇 i 之外徑較佳爲35至70公分。 (b ) 拉伸步驟. (i ) 一次拉伸 · 然後如第22圖所展示，將所獲得之結晶化薄片3〇6 在加熱流延輥301與第二輥302之間，利用兩輥之 周速差來朝機械方向進行拉伸（一次拉伸）。此時 ，較佳爲將加熱流延輥3 0 1之溫度以如上所述之（a )所述，加以調整爲介於150°C與200°C之間，同時 將加熱流延輥3 0 1與第二輥3 02之輥間距離（兩輥 之間的共同切線間距離）設定爲小於1 0公分。以如 φ 此之條件下進行一次拉伸，則可使供拉伸結晶化薄 片3 06的區域（拉伸區域）變得比較窄，且可使拉 伸區域之溫度控制在介於1 3 0 °C與1 5 0 °C之間。將拉 伸區域之溫度控制在介於13CTC與150°C之間，則可 使熔融張力控制成適合較高倍率之拉伸範圍，因此 可實現膜厚變動率較少之均勻拉伸。而且，隨著將 拉伸區域變窄，則可提高頸縮現象之抑制效果。另 -52- 200531985 外，爲使拉伸區域之溫度保持恆定，也可使用熱線 加熱器等來加熱兩輥之間的薄膜。此外，在第2 2圖 中309是表示導向輥，308是表示捲取筒。 拉伸倍率係視結晶化薄片3 0 6之厚度而有所不同， 但是較佳爲設定在大於1 . 5倍，更佳爲設定在2至4 倍。拉伸倍率愈高，則透明性愈高。適當地設定加 熱流延輥301與第二輥3 02之周速比，藉此則可拉 伸成吾所欲之倍率。第二輥3 02之外徑並無特殊限 制，設定在與加熱流延輥3 0 1相同的3 5至7 0公分 _ 即可。 經施加一次拉伸後，若也要施加後述的再拉伸（二 次拉伸）時，則宜將第二輥3 02之溫度調整爲介於 l〇〇°C與150°C之間。與此相對，拉伸步驟僅施加一 次拉伸時，則將第二輥302之溫度調整爲低於40°C ’則可對於施加一次拉伸的薄膜施加冷卻固定處理 。在本說明書中所謂「冷卻固定處理」係意謂著在 _ 低於PBT之Tg ( 2〇°C至45t：)之溫度進行處理薄 膜。經施加冷卻固定處理則可使被拉伸之狀態安定 化。另外，如欲更加以延長冷卻固定處理時，則如 第23圖所展示與第二輥302平行設置第三輥303， 並將其溫度調整爲低於4(TC，同時使其在與第二輥 3〇2相同周速下回轉，以牽引經施加一次拉伸的薄 膜即可。另外，在第23圖中，與第22圖所展示製 -53- 200531985 造裝置相同部份係以相同元件代表符號加以附註。 第三輥3 0 3之外徑係與第二輥3 0 2同樣地設定爲3 5 至70公分即可。另外，在第23圖中，310是表示 夾輥。 若欲以第三輥3 0 3施加冷卻固定處理時，也可將第 二輥3 0 2之溫度調整爲介於高於P B T之T g與低於 熔點-5 0 °C之間，藉此薄膜之熱收縮率將變得更低 〇 (i i ) 二次拉伸 較爲理想的是將藉由一次拉伸所獲得之拉伸薄膜再 進一步朝機械方向施加拉伸（二次拉伸）。藉由二 次拉伸則可使透明性更佳提高，同時可更加薄膜化 。也要施加二次拉伸時，則在第23圖所展示第二輥 3 02與第三輥3 03之間設定周速差，以朝機械方向 拉伸。此時，較佳爲將第二輥302之溫度調整爲介 於l〇〇°C與150°C之間，同時將第二輥3 02與第三輥 3 03之輥間距離設定爲小於1 0公分。藉由將輥間距 離調整爲小於1 〇公分則可抑制頸縮現象之理由，仍 同如上所述之（i )所述者。 經施加二次拉伸後，若也要施加後述的又再拉伸（ 三次拉伸）時，則宜將第三輥303之溫度調整爲介 於40°C與l〇(TC之間。與此相對，不施加三次拉伸 時，則將第三輥3 0 3之溫度調整爲低於40°C，則可 -54- 200531985 對於經施加二次拉伸的薄膜施加冷卻固定處理。另 外，如欲更加以延長冷卻固定處理時，則如第2 7圖 所展示與第三輥3 03平行設置第四輥3 04，並將其 溫度調整爲低於4 0 °C，同時使其在與第三輥3 0 3相 同周速下回轉，以牽引經施加二次拉伸的薄膜即可 。另外，在第27圖中，與第22圖所展示製造裝置 相同部份係附註以相同元件代表符號。第四輥304 之外徑係與第三輥303同樣地設定在35至70公分 即可。 若欲以第四輥3 04施加冷卻固定處理時，爲使薄膜 之熱收縮率變得更低，則也可將第三輥3 03之溫度 調整爲介於高於PBT之Tg與低於熔點-50°C之間 〇 (iii) 三次拉伸 也可將藉由二次拉伸所獲得之拉伸薄膜再進一步朝 機械方向拉伸（三次拉伸）。也要施加三次拉伸時 ，則在第24圖所展示第三輥303與第四輥3 04之間 設定周速差，以朝機械方向拉伸。此時，較佳爲將 第三輥3〇3之溫度調整爲介於4〇°C與100°C之間， 同時根據與如上所述之（i )所述相同理由將第三輥 3 03與第四輥3 04之輥間距離設定爲小於10公分。 經實施如此之冷拉伸，則可進一步提高薄膜之透明 性。另外，第四輥304之溫度較佳爲加以調整爲低 200531985 於4 0 °C，藉此則可對於經施加三次拉伸的薄膜施加 冷卻固定處理。 (iv)橫拉伸 對於藉由如上所述之（i )至（iii )中任一方法所製 得之PBT薄膜，則可緊接著施加朝TD (橫方向） 之橫拉伸。施加橫拉伸之方法可使用拉幅法等之習 知的方法。 (v ) 熱處理 藉由如上所述所製得之PBT薄膜係具有優越的尺寸 · 安定性，但是爲進一步提高熱收縮率，也可再進一 步施加熱處理。熱處理方法可使用「熱固定處理」 或「熱收縮處理」中任一者。該等熱處理較佳爲在 介於高於PBT之Tg與低於熔點-50°C之間。 「熱固定處理」係以拉幅方法、輥方法或以輥壓方 法實施。至於「熱收縮處理」係以拉幅方法、輥方 法或也可以輥壓方法實施，或是使用皮帶輸送機或 $ 浮動機。也可組合實施熱固定處理或熱收縮處理。 藉由如上所述所製得之PBT薄膜，係呈半透明至透 明，且與先前之單軸向拉伸薄膜相較，也具有優越 的膜厚均勻性同時熱收縮率又低。具體而言，平均 膜厚爲8至20微米之薄膜的膜厚差爲1至2微米， 熱收縮率在MD (機械方向）爲低於〇.1 %，在TD (橫方向）爲低於0.2 %〔在本說明書中，所謂「膜 -56- 200531985 厚差」係將PBT薄膜寬度方向之中心部和兩端部之 厚度分別測定2處，總共6處，然後計算得其中最 大値與最小値之差値。此値愈小，則愈能獲得良好 結果。又所謂「熱收縮率」係將ΡΒΤ薄膜在150°C 暴露爲期1 〇分鐘後，分別測定其MD和TD之收縮 率所測得之値.。〕。因此，可形成不勻度較少的印 刷層或金屬蒸鍍層。而且，在進行熱密封、印刷等 二次加工時，薄膜尺寸之變化又少。 根據以上所說明之製造方法，由於可使加熱流延輥和第 一至第四輥經常分別維持在吾所欲之溫度，品質經常是均 勻。而且，製造未拉伸薄膜時不必暫時加以冷卻，因此可 實現高速製膜。 〔7〕 對於薄膜形成線狀痕 爲對於形狀記憶性PBT積層薄膜賦予直線性易撕裂性， 較佳爲對於PBT薄膜、剛性薄膜和密封膠膜中之至少一者 之全面預先以如下所述之方法形成數個實質上平行的線狀 痕。藉此可容易地將形狀記憶性PBT積層薄膜呈直線撕裂 。因此，例如將形狀記憶性PBT積層薄膜用作爲速食食品 用容器之蓋體用包裝材料時，則可對蓋體作局部性開封。 此種線狀痕’特佳爲形成在PB T薄膜上。線狀痕係將連續 行進的薄膜滑接在具有許多微細突起之線狀痕形成裝置上 即可形成。以下參照圖式詳加說明線狀痕之形成方法。 (1 )在薄膜形成行進方向線狀痕之情形 200531985 弟2 5圖係展不在薄膜4 0 1形成彳了進方向線狀痕之裝置的 一實例。第2 5圖係展示以表面具有許多微細突起之輥（下 稱爲「圖型輥」）4〇2用作爲線狀痕形成裝置，且以可噴 空氣之噴嘴403用作爲薄膜按壓裝置之實例。將由捲繞薄 膜原材之捲筒4 1 1所退捲之薄膜40 1，藉由夾輥4 1 2滑接 於圖型輥402以形成線狀痕，然後所獲得之直線性易撕裂 性薄膜係藉由夾輥4 1 3、導向輥4 1 4和4 1 5，以捲取筒4 1 6 加以捲取。 圖型輥402係如第26圖所展示在固定位置固定成使其回 轉軸與薄膜40 1之寬度方向成平行，且軸線方向長度係比 薄膜4〇1之寬度爲長，致使薄膜401之寬度全部能滑接於 圖型輥上。 並且，在圖型輥402之前後設置夾輥412和413以用作 爲張力調整輥，使其對於行進圖型輥402的薄膜401賦予 張力。另外，如第26圖所展示在薄膜401會滑接到圖型輥 402之位置，由圖型輥402之相反側以噴嘴403噴上具有 特定風壓之空氣，藉此則可對於薄膜401之滑接於圖型輥 402之面（除非有特別加註之外，以下則稱爲「輥滑接面 」）施加均勻的接觸力。因此，能在薄膜面上形成均勻的 線狀痕。使用噴嘴403使薄膜401按壓於圖型輥402，藉 此則可緩和在輥滑接面因薄膜40 1之厚度不勻所引起之接 觸不均勻性。 圖型輥402較佳爲在比薄膜401之行進速度爲慢之周速 -58- 200531985 下使其朝與薄膜40 1之行進方向成相反方向回轉。藉此則 可防止薄膜產生皸紋’同時也能防止伴隨線狀痕之形成所 產生的刮屑積留在圖型輥402之表面，因此能形成適當的 長度和深度之線狀痕。在本發明中，薄膜40 1之行進速度 較佳爲設定在10至5 00公尺/分鐘。另外，圖型輥402之 周速較佳爲設定在1至50公尺/分鐘。 圖型輥402可使用例如在日本國專利特開第2002 _ 5 94 8 7號公報所記載者。其係具有在金屬製輥本體表面將 許多莫氏硬度大於5之微粒以電解法，或是以有機系或無 _ 機系之黏合劑加以附著的結構。金屬製輥本體例如由鐵、 鐵合金等所構成。較佳爲以鍍鎳層或鍍鉻層被覆金屬製輥 本體之表面。莫氏硬度爲5以上之微粒係包括例如：碳化 鎢等之超硬合金粒、碳化矽粒、碳化硼粒、藍寶石粒、立 方晶碳化硼（CBN )粒、天然或合成之金剛石微粒等。其 特佳爲硬度、強度等較大的合成金剛石微粒。微粒之粒徑 係應根據欲形成的線狀痕之深度或寬度而加以適當地選擇 φ 。在本發明中，微粒之粒徑較佳爲1 0至1 00微米，且粒徑 之波動度較佳爲低於5 %。使微粒附著於輥本體表面之程 度，係應以欲形成的線狀痕彼此之間隔能成爲吾所欲程度 之方法而加以適當地選擇。爲能獲得均勻的線狀痕，較佳 爲應該使得微粒在輥本體表面附著高於50 %。圖型輥402 之具體例係包括將許多合成金剛石微粒以高於5 0 %之面積 率下透過鎳系電解層加以結合固定在鐵製之輥本體表面者 -59- 200531985 。圖型輥402之外徑較佳爲2至20公分，更佳爲3至10 公分。 圖型輥402也可使用以微小間隔將金屬製針有規則的朝 縱橫埋設在金屬製輥本體之表面所獲得之植針輥。另外’ 線狀痕形成裝置係除圖型輥402之外，也可使用在板狀本 體之表面具有許多莫氏硬度爲高於5之微粒的圖型板。 第27圖係展示薄膜401正在與圖型輥402滑接而形成線 狀痕之情形。例如，圖型輥402表面上之微粒404中至少 一微粒之角部將切入於輥滑接面，然而如上所述由於薄膜 401之行進速度係比圖型輥402之逆轉周速爲快，因此直 至微粒404之角部離開輥滑接面爲止可形成出一條長的線 狀痕。 噴空氣裝置也可使用如第28(b)圖所展示具有數個噴 出口 431之噴嘴，以取代如第28 ( a)圖所展示具有帶狀 的噴出口 431之噴嘴（與第25至26圖所展示者相同）。 另外，若使用如第28 ( c)圖所展示具有氣罩43 2之噴嘴 而以覆蓋圖型輥4〇2之狀態噴出壓縮空氣時，由於從噴出 口 431所噴出之壓縮空氣在到達薄膜401與圖型輥402的 滑接位置之前就不容易擴散，因此可使在輥滑接面的薄膜 401與圖型輥402之接觸力變得更加均等。以此種噴空氣 裝置所噴出壓縮空氣流之壓力較佳爲4.9至490 kPa( 0.05 至50 kgf/cm2)。藉此便可使在輥滑接面的薄膜401與圖 型輥402之接觸力變得均勻。壓縮空氣流壓力更佳爲9.8 -60- 200531985 至196kPa(0.1至2kgf/cm2)。另外，從噴出口 431至輥 滑接面之距離較佳爲1〇至50公分。壓縮空氣係使其均勻 噴在至少能涵蓋輥滑接面之範圍即可。但是非必要的擴大 鼓風機或噴嘴之噴出口 43 1時，將導致爲獲得適當風壓所 需壓縮空氣量增多，因此不佳。 對於固定在固定位置的圖型輥402繞掛薄膜401之方法 ，則以將第2 8 ( c )圖所展示薄膜4 0 1之捲繞方向與退繞 方向所形成之角度0較佳爲設定在60至170度之範圍。藉 此則可容易地調整線狀痕之長度和深度。較佳爲將角度0 設定在9 0至1 5 0度之範圍。如欲使角度0達成吾所欲之値 時，則以改變圖型輥402之高度位置等加以適當地調整圖 型輥402與夾輥412和413之位置關係即可。並且，應因 應對於圖型輥4 0 2的薄膜4 0 1之繞掛方法和外徑，適當地 調整由夾輥4 1 2和4 1 3對於薄膜40 1所施加之張力與由噴 嘴4 03所施加之風壓，使其能獲得所希望的長度和深度之 線狀痕。在本發明中，關於以夾輥4 1 2和4 1 3施加於薄膜 之張力（單位寬度之張力），較佳爲設定在0.01至5 kgf/cm寬度之範圍。 也可取代噴空氣裝置而使刷子滑接於輥滑接面之相反側 的面上’以對於輥滑接面施加均勻的接觸力。刷子之毛材 較佳爲採取在刷子與薄膜4 0 1之滑接面（除非有特別加註 之外’以下則稱爲「刷子滑接面」）可以比薄膜401之行 進速度爲慢的速度下朝與薄膜401之行進方向相反方向移 200531985 動者。爲此則應使用如第2 9圖所展示，在刷子軸（回轉軸 )周圍佈植多數毛材的回轉輥刷4 0 5，並將其在固定位置 固定成使其回轉軸與薄膜4〇 1之寬度方向成平行，且使軸 線方向長度比較薄膜4〇1之寬度爲長，以使薄膜401之全 部寬度能滑接於刷子。 回轉輥刷405之外徑較佳爲5至1 0公分。關於回轉輥刷 405之毛材451’其折曲回復率較佳爲大於70 %，直徑較 佳爲0 · 1至1 · 8晕米，長度較佳爲1至5公分。回轉輥刷 405在毛材451的刷子滑接面之密度較佳爲1()〇至5〇〇支 鲁 /cm2。在本說明書中所謂「折曲回復率」係製作使長度爲 約26公分之毛材纖維交叉所獲得之兩條爲一組之鏈條狀線 圈’然後將上方線圈固定在扣具，並對於下方線圈施加3 分鐘之荷重〔毛材纖維之纖度（旦尼）之1 /2荷重（克） 之重錘〕，藉以在線圈交叉點所形成之一對折曲成松葉狀 之試料，加以切成爲約3公分之長度而採取，並由經放置 6〇分鐘後所測得開角度（0 4)根據通式：0 4/180 x 1〇〇 ( _ % )所計算得者。毛材45 1之前端形狀雖然並無特殊限制 ’但是較佳爲略U字形狀或錐形形狀。毛材4 5 1之材質也 並無特殊限制，但是較佳爲聚丙烯、耐綸、丙烯酸系、聚 乙嫌等之合成樹脂。 回轉輥刷405較佳爲以能使在刷子滑接面之壓力成爲1 至490 kPa(0.01至5 kgf/cm2)之方式而滑接於薄膜401 。回$專輕刷4 〇 5之周速（朝與薄膜4 0 1之進行方向相反方 -62- 200531985 向回轉之速度）較佳爲設定在1至50公尺/分鐘。 線狀痕之長度和深度是以能符合吾所欲之直線性易撕裂 性的程度之方式，藉由適當地設定薄膜4 0 1之行進速度、 圖型輥4 0 2之周速、金剛石微粒4 0 4之粒徑、圖型輥之外 徑、噴嘴403之風壓、回轉輥刷405之壓力、夾輥412和 4 1 3所施加之張力等加以調整。 (2) 在薄膜形成斜向線狀痕之情形 第3 0圖係展示用以形成對於薄膜4 0 1之行進方向成斜向 的線狀痕之裝置一實例。圖中與第2 5圖相同構件或部份係 _ 以相同元件代表符號加以附註。第3 0圖所展示裝置係具備 連接數個小圖型輥42 1所獲得之圖型無端環皮帶406以作 爲線狀痕形成裝置，同時具備在無端皮帶配設許多毛材 471所製成之無端環刷407以作爲薄膜按壓裝置。第31 ( a )圖係展示在第30圖所展示裝置中，使圖型無端環皮帶 406朝薄膜4〇 1之寬度方向回轉的情形之局部放大俯視圖 ，第31(b)圖係在第31(a)圖中從D方向所看之示意剖 · 面圖。 如第31 ( a)和31 ( b)圖般使圖型無端環皮帶406朝薄 膜4〇1之寬度方向回轉，以使小圖型輥421連續地滑接於 薄膜40 1，藉此則可形成對於薄膜40〗之進行方向傾斜之 線狀痕。此時，較佳爲將構成圖型無端環皮帶4 0 6的小圖 型輥42 1之數目增多，以增高圖型輥421之密度。小圖型 輥42 1之軸線方向長度和外徑較佳爲5至1 0公分。 -63- 200531985 斜向線狀痕對於薄膜行進方向所形成之角度，係藉由適 當地調整圖型無端環皮帶4〇6之周速與薄膜401之行進速 度則可加以變更。通常圖型無端環皮帶406之周速係設定 在1至1 0 0公尺/分鐘。小圖型輥4 2 1係在輥滑接面使其對 於圖型無端環皮帶406之行進方向朝相反方向回轉。其周 速係與如上所述之（1 )所述圖型輥4 0 2之情形同樣地爲1 至50公尺/分鐘。 無端環刷4 0 7較佳爲以使其毛材4 7 1邊滑接於薄膜4 0 1 、邊移動的方向，與圖型無端環皮帶406邊滑接於薄膜 401、邊移動的方向成爲相反之方式而回轉。因此，關於回 轉方向，則將無端環刷4 0 7和圖型無端環皮帶4 0 6設定爲 相同。無端環刷407的毛材471之長度較佳爲4至8公分 。關於無端環刷407的毛材471之折曲回復率、直徑、在 刷子滑接面密度、前端之形狀和材質方面之較佳的條件， 係與如上所述之（1 )所述回轉輥刷4 0 5之情形相同。無端 環刷4 0 7在刷子滑接面之壓力，係與如上所述之（1 )所述 回轉輥刷405之情形相同爲1至490 kPa ( 0.01至 5 kgf/cm2)。使無端環刷407滑接於薄膜401之壓力，係以 轉動高度調節把手473，適當地設定無端環刷407之上下 位置則可加以調節。無端環刷407之周速較佳爲設定在1 至50公尺/分鐘。無端環刷407之周逮係適當地設定馬達 4 7 4之回轉速度則可加以調節。 圖型無端環皮帶406和無端環刷407，較佳爲以使行進 -64- 200531985 方向之長度設定爲比薄膜40 1之寬度爲長，且使薄膜40 1 之全部寬度能滑接於圖型無端環皮帶406和無端環刷40 7 〇 第3 2圖係展示用以形成對於薄膜4 0 1之行進方向成斜向 的線狀痕之裝置的其他實例。圖中與第25圖相同構件或部 .份係以相同元件代表符號加以附註。第32圖所展示裝置係 具備如第33圖所展示在導軌48 la (支撐體）並排安裝數 個小圖型輥422a所獲得之輥群組車408a，及在導軌481b (支撐體）並排安裝數個小圖型輥422b所獲得之輥群組車 鲁 4〇8b以作爲線狀痕形成裝置。 用以支撐圖型輥4 2 2 a和4 2 2b之支撐軸4 9 1 a和4 9 1 b係 可自由升降，且輥群組車408a和408b係可朝薄膜401之 寬度方向分別沿導軌481a和481b呈直線移動。藉由可自 由升降之支撐軸491a和491b以及導軌481a和481b所構 成之導向裝置，輥群組車408a和408b就可朝薄膜401之 寬度方向作獨立移動。因此，反復進行使輥群組車408a和 _ 4〇8b從薄膜401之一端側朝另一端側邊與薄膜401滑接、 邊移動，並在朝另一端側移動完後即以由薄膜401離開隔 離之狀態返回至原先位置之循環，其時將輥群組車408a和 4〇8b之移動控制成任何輥群組車均能經常滑接於薄膜401 之全部寬度，藉此則可形成對於薄膜行進方向傾斜之線狀 痕。導向裝置也可取代使支撐軸491a和491b對於導軌 481a和481b不能升降之方式而採取使導軌481a和481b -65- 200531985 成爲可自由升降之結構。 圖型輥422a和422b之軸線方向長度和外徑可爲約5至 10公分。圖型輥422a和422b之圖型輥彼此之間隙，較佳 爲至少設定在比圖型輥之輥寬度爲窄，以提高圖型輥密度 。輥群組車408a和408b之各個長度應設定在比薄膜401 之寬度爲長。 在第32圖所展示之裝置中，係將與第30圖所展示裝置 所具有者相同之無端環刷407a和407b，隔著薄膜401而 對於輥群組車408a和408b分別平行設置。但是用以支撐 · 無端環刷407a和407b之支撐構件472、472係可自由升降 。因此，以使無端環刷407a能與輥群組車408 a同時滑接 於薄膜401之方式控制其升降，且以使無端環刷40 7b能與 輥群組車40 8b同時滑接於薄膜401之方式控制其升降，則 可對於輥滑接面經常施加一定的接觸力。 無端環刷407a和407b較佳爲以使其毛材邊滑接於薄膜 401、邊移動方向，與輥群組車408a和408b邊滑接於薄膜 # 401、邊移動的方向能成爲相反之方式而回轉。關於無端環 刷407a和4〇7b之毛材的折曲回復率、直徑、長度、在刷 子滑接面之密度、前端形狀和材質之較佳條伴，以及在無 端環刷407a和407b之刷子滑接面的壓力、無端環刷407a 和407b之周速，係與第30圖所展示裝置所具有的無端環 刷407之情形相同。 傾斜的線狀痕對於薄膜行進方向之角度，係適當地調整 -66- 200531985 使輥群組車408 a和4〇 8b滑接之速度與薄膜401之行進速 度則可加以變更。另外，圖型輥422a和422b係使其在輥 滑接面朝對於輥群組車408 a和408b之行進相反方向回轉 。其周速可與如上所述之（1 )所述圖型輥4 0 2之情形相同 〇 第34(a)和34(b)圖係展示用以形成對於薄膜401之 行進方向傾斜的線狀痕之裝置的其他實例。在本實例中， 則在薄膜40 1之行進方向之前後，平行設置軸線方向長度 係比薄膜401之寬度爲長之二圖型輥423a和423b。圖型 鲁 輥423a和423b之軸線方向長度較佳爲大於薄膜401之寬 度的2倍。 用以支撐圖型輥423a和423b之支撐軸492a和492b係 升降自如，且圖型輥42 3 a和423b係各自可沿導軌3 82a和 3 8 2b而朝薄膜401之寬度方向呈直線移動。藉由由升降自 如之支撐軸492a和492b以及導軌482a和482b所構成之 導向裝置，圖型輥42 3 a和423b則可朝薄膜401之寬度方 向獨立移動。因此使圖型輥423a和423b反復進行由薄膜 4〇1之一端側朝另一端側邊與薄膜401滑接、邊移動，並 在經朝另一端側移動完後即以由薄膜40 1離開隔離之狀態 返回至原先位置之循環，其時將輥群組車423a和423b之 移動加以控制成任何輥群組車均能經常滑接到薄膜40 1之 全部寬度，藉此則可形成對於薄膜行進方向傾斜之線狀痕 。傾斜方向之線狀痕對於薄膜行進方向所形成之角度，係 -67- 200531985 適當地調整使圖型輥4〗3a和423b滑接之速度與薄膜401 之行進速度則可加以變更。 在第34圖所展示裝置中，薄膜按壓裝置則將與第32圖 所展示裝置所具有者相同的升降自如之無端環刷407a和 407b ’隔著薄膜4()1而分別對於圖型輥423 &和42 3b平行 設置。 另外’在第30至34圖所展示裝置中，薄膜按壓裝置雖 然具備無端環刷，但是也可具備如上所述之（1 )所述之噴 空氣裝置。 (3 ) 在薄膜形成寬度方向線狀痕之情形 第35圖係展示用以在薄膜401形成寬度方向線狀痕之裝 置的一實例。圖中對於與第30圖相同構件或部份係附註以 相同元件代表符號。第3 5圖所展示裝置，係除將圖型無端 環皮帶406設置成對於薄膜之行進方向成傾斜之外，其餘 則與第30和3 1圖所展示裝置相同（未屬示無端環刷）。 使用第35圖所展示結構之裝置，並適當地設定薄膜40 1之 行進速度、對於薄膜401之行進方向的圖型無端環皮帶 4〇6之角度、圖型無端環皮帶406之周速等之運轉條件， 則可形成薄膜40 1的朝寬度方向之線狀痕。 第36圖係展示用以在薄膜4〇1形成寬度方向線狀痕之裝 置的其他實例。在本實例中，連接數個小圖型輥42 1 a所獲 得之圖型無端環皮帶4 0 6a，及數個連接小圖型輥421b所 獲得之圖型無端環皮帶4〇6b，係設置成爲以薄膜4〇1之中 200531985 心線4 1 7爲對稱軸，且對於薄膜之行進方向傾斜。薄膜按 壓裝置，較佳爲將與第30圖所展示裝置所具有者相同之無 端環刷，隔著薄膜40 1而分別與圖型無端環皮帶406a和 4〇6b平彳了設置（未圖不）。 使用第36圖所展示結構之裝置，並適當地設定薄膜401 之行進速度、對於薄膜401之中心線417的圖型輥423 a和 423b之角度、圖型無端環皮帶406a和406b之周速等之運 轉條件，則可形成.薄膜401的朝寬度方向之線狀痕。 第3 7圖係展示用以在薄膜40 1形成寬度方向線狀痕之裝 置的其他實例。第37圖所展示之裝置，除將第33圖所展 示之輥群組車40 8a和408b設置成對於薄膜401之寬度方 向成傾斜之外，其餘則與第3 3圖所展示之裝置相同（未圖 示無端環刷）。使用第3 7圖所展示結構之裝置，並適當地 設定薄膜40 1之行進速度、對於薄膜401之中心線417的 輥群組車408a和408b之角度、輥群組車408a和408b之 滑接速度等之運轉條件，則可形成薄膜40 1的朝寬度方向 φ 之線狀痕。 第38 ( a)和38 ( b)圖係展示用以在薄膜401形成寬度 方向線狀痕之裝置的其他實例。第3 8 ( b )圖係展示第3 8 (a)圖所展不裝置之左側面〔由第38(a)圖中F方向所 看之圖〕。在本實例係具備具有對於薄膜401之行進方向 傾斜的軸線方向之二圖型輥424a和424b。圖型輥424a和 4 2 4b之軸線方向長度較佳爲至少爲大於薄膜401之寬度的 -69- 200531985 2倍。 用以支撐圖型輥424a和424b之支撐軸493 a和493b係 可自由升降，且圖型輥424a和424b係可分別沿導軌483a 和48 3b對於薄膜401之中心線417邊保持著特定角度、邊 呈直線移動。藉由由可自由升降之493a和493b以及導軌 48 3 a和483b所構成之導向裝置，圖型輥424a和424b則 可對於薄膜401之中心線417邊保持著特定角度、邊作獨 立移動。關於軸線方向長度，圖型輥424b係比圖型輥 424a爲長，因此圖型輥424a和424b在互相朝逆方向行進 時會交錯。因此，使圖型輥424a和424b反復進行由薄膜 401之一端側朝另一端側邊與薄膜401滑接、邊移動，並 在經朝另一端側移動完後即以由薄膜40 1離開隔離之狀態 返回至原先位置之循環，其時將圖型輥424a和424b之移 動加以控制成任何輥群組車均能經常滑接到薄膜401之全 部寬度，藉此則可形成對於薄膜行進方向傾斜之線狀痕。 作爲薄膜按壓裝置，如第3 8 ( b )圖所展示係設置升降 自如且可呈直線移動的支撐軸45 2a和452b所支撐之回轉 輥刷405a和40 5b，並使其能與圖型輥483a和483b之薄 膜40 1的輥滑接面之移動同時移動。另外，關於軸線方向 長度，使回轉輥刷405 a和405b之一方成爲比另一方爲長 ，藉此回轉輥刷405 a和405b在互相朝逆方向行進時會交 錯。因此可對於圖型輥483 a或483b之與薄膜401的輥滑 接面，經常施加接觸力。關於回轉輥刷405a和405b之毛 200531985 材的折曲回復率、直徑、長度、在刷子滑接面之密度、前 端形狀和材質之較佳條伴，以及在如上所述之〔1〕所述回 轉輥刷4 0 5之情形相同。 另外，在第35至38圖所展示裝置，若適當地變更運轉 條件等之設定時，藉此也可形成對於薄膜40 1之行進方向 傾斜之線狀痕。另外，關於在第3 5至3 8圖所展示裝置， 其薄膜按壓裝置係說明具備無端環刷者，但是也可具備如 上所述之（1)所述之噴空氣裝置。 藉由如上所述之方法所製得之具有直線性易撕裂性的薄 ® 膜，其中該線狀痕之深度較佳爲薄膜厚度之1 %至40 %。 藉此則可使薄膜強度與良好的直線性易撕裂性之雙方相調 和。線狀痕之深度較佳爲0.1至1 0微米，其寬度則較佳爲 0.1至10微米、線狀痕彼此之間隔較佳爲10至200微米。 〔8〕 對於薄膜之微細孔加工 爲對於形狀記憶性PBT積層薄膜賦予直線性易撕裂性， 也可對於PBT薄膜、剛性薄膜和密封膠膜中至少一者之全 _ 面形成微細的穿通孔。微細的穿通孔特佳爲形成在密封膠 膜上。微細孔之平均開口徑較佳爲0.5至100微米，且分 佈密度爲高於約5 00個/cm2。微細孔之分佈密度若爲低於 約500個/cm2，則其易撕裂性不足。另外，微細孔密度之 上限，只要是技術上有可能，則並無特殊限制，任何値均 可。 欲在薄膜上形成時，可採用例如在日本國專利第 -71 - 200531985 2〇7 1 842號公報或特開第2〇〇2 - 05 948 7號公報所揭示之方 法。例如若利用日本國專利第2 0 7 1 8 4 2號公報所揭示之方 法時’使薄膜通過使具有尖銳的角部之多數莫氏硬度高於 5的粒子附著所獲得之第一輥（與如上所述之〔7〕所述圖 型輥4 02相同者），與表面平滑之第二輥之間，同時將對 於通過各輥之間的薄膜之按壓力，調節成爲與各輥接觸的 薄膜面之全部能成爲均等，藉此則可以第一輥表面之許多 粒子的尖銳角部在薄膜形成許多該微細孔。第二輥可使用 例如：鐵系輥’在表面施加Ni電鍍、Cr電鍍等之鐵系輥 _ ，不錄鋼系輥、特殊鋼f昆等。 〔9〕 蒸鍍陶瓷或金屬 欲能提高形狀記憶性PBT積層薄膜之氣體障壁性爲目的 ，則P B T薄膜也可蒸鍍金屬、陶瓷等，或被覆樹脂。可供 蒸鍍的陶瓷具體例有矽石、氧化鋁等。金屬、陶瓷等之蒸 鍍可以傳統方法實施。 〔1〇〕 機能性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜 _ (1 ) 直線易撕裂性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜 本發明之直線易撕裂性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，係根 據如上所述之〔7〕所述之方法，在PBT薄膜之至少一面 上形成許多實質上爲平行的線狀痕所製得者。因此，無論 原料薄膜之配向性具有朝單方向之直線易撕裂性，可從任 意位置沿線狀痕呈直線性撕裂。若使用直線易撕裂性PBT 薄膜以製造包裝袋時，則可邊維持一定寬度、邊加以開封 -72- 200531985 成並無尖端越來越細的帶狀。而且，直線易撕裂性PBT薄 膜係線狀痕並未穿通，因此具有優越的氣體障壁性。 可用以製造直線易撕裂性ΡΒΤ薄膜之ΡΒΤ薄膜雖然並無 特殊限制，但是較佳爲藉由如上所述之〔6〕所述製造方法 所製得者。根據如上所述之〔6〕所述製造方法所製得之 ΡΒΤ薄膜，由於其熱收縮率小，在形成蒸鍍層之情形下其 蒸鍍層是安定的。 直線易撕裂性ΡΒΤ薄膜之線狀痕深度較佳爲薄膜厚度之 1 %至40 %。藉此則可使薄膜強度與良好的直線易撕裂性 _ 兩者相輔相成。線狀痕之深度較佳爲0 · 1至1 0微米，其寬 度則較佳爲ο · 1至1 〇微米、線狀痕彼此之間隔較佳爲1 〇 至200微米。 直線易撕裂性ΡΒΤ薄膜之厚度較佳爲約5至50微米， 更佳爲約1 〇至2 0微米，例如爲約1 2微米。厚度只要是爲 約5至5 0微米，則可具有足夠的保香性和氣體障壁性，同 時光澤性和印刷特性也是良好。 此外，也可在直線易撕裂性ΡΒΤ薄膜蒸鍍陶瓷等，或被 覆樹脂。具體而言，可蒸鍍矽石、氧化鋁等。蒸鍍此等之 陶瓷時，則可進一步提高直線易撕裂性Ρ Β Τ薄膜之氣體障 壁性。金屬、陶瓷等之蒸鍍係可以傳統習知的方法實施。 金屬、陶瓷等係可蒸鍍在薄之線狀痕形成面上或非形成面 上之任一方。 另外，直線易撕裂性ΡΒΤ薄膜，也可作爲具有由泛用聚 -73- 200531985 烯烴及特殊聚烯烴所構成之層的積層薄膜。具體而言，就 是低密度聚乙烯（LDPE )、中密度聚乙烯（MDPE )、高 密度聚乙烯（HDPE )、未經拉伸聚丙烯（CPP )、直鏈狀 低密度聚乙烯（LLDPE )、超低密度聚乙烯（VLDPE )、 乙烯-乙酸乙烯酯共聚物（EVA )、乙烯-丙烯酸共聚物（ EAA)、乙烯-甲基丙烯酸共聚物（EMAA)、乙烯-丙烯酸 乙酯共聚物（EEA )、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物（ EMMA )、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物（EMM )、含離子鍵之 聚合物（10 )等。並且進一步爲提高氣體障壁性爲目的， _ 較佳爲在中間層具備鋁箔、矽蒸鍍聚對苯二甲酸乙二酯薄 膜、鋁蒸鍍聚對苯二甲酸乙二酯薄膜等者。 另外，如欲製成爲積層薄膜時，則也可經在PBT薄膜施 加設置後述線狀痕之加工後，與其他薄膜作積層化，或藉 由該中間層與其他薄膜作積層化所製得。積層化係在各層 間設置黏合層，然後以擠壓積層法實施。黏合層較佳爲使 用聚乙烯層。 $ 在薄膜之行進方向（長度方向）形成線狀痕所獲得之直 線易撕裂性PBT薄膜之用途，則有棒狀點心用之包裝袋。 若其使用具有長度方向線狀痕之直線易撕裂性PBT薄膜時 ，即由於可在維持著一定寬度下加以開封成並無尖端越來 越細帶狀，因此點心不會破損。另外，如攥壽司等使用 OPP薄膜之包裝，通常其係因應配合開封寬度而以貼合設 置切斷帶（撕開帶），但是朝長度方向形成線狀痕之直線 -74- 200531985 易撕裂性P B T薄膜，係可在維持開口寬度下開封，故不再 需要撕開帶。 對於薄膜之行進方向形成傾斜的線狀痕之直線易撕裂性 ΡΒΤ薄膜之用途，則有粉末狀之藥材用、便當用調味料等 之包裝袋。若其使用具有傾斜方向的線狀痕之直線易撕裂 性Ρ Β Τ薄膜時’則可容易地將該包裝袋之角部傾斜撕開。 在薄膜之寬度方向（橫方向）形成線狀痕所製得之直線 易撕裂性ΡΒΤ薄膜之用途，則有粉末狀速食食品之棒狀包 裝袋。若其使用具有橫方向線狀痕之直線易撕裂性ρ Β Τ薄 籲 膜時，則可在低成本下製造需求正在擴大中的棒狀包裝袋 〇 在直線易撕裂性ΡΒΤ薄膜，根據如上所述之〔8〕所記 載之方法，可進一步均勻地形成許多微細穿通孔和/或未穿 通孔。藉此不僅是能進一步提高直線易撕裂性，同時對於 線狀痕方向以外也可賦予易撕裂性。

(2) 多孔質聚對苯二甲酸丁二酯薄膜 I 多孔質ΡΒΤ薄膜係根據如上所述之〔8〕所記載之方法 在ΡΒΤ薄膜形成許多微細的穿通孔和/或未穿通孔所製得者 。因此，多孔質Ρ Β Τ薄膜係具有高的扭轉保持性，扭轉時 也不會裂開，扭轉性良好，且具有易撕裂性。微細孔之平 均開口徑較佳爲0.5至1 00微米，且密度較佳爲高於約500 個/cm2。微細孔之密度若低於約500個/cm2時’則其扭轉 保持性將會不足夠。 -75- 200531985 可用以製造多孔質PBT薄膜之PBT薄膜雖然並無特殊限 制，但是較佳爲藉由在如上所述之〔6〕所述製造方法所製 得者。 本發明之多孔質ρ Β τ薄膜係可用作爲在不致於喪失Ρ Β Τ 薄膜的優異特性之耐熱性、保香性、耐水性等條件下維持 實務應用面上之特性，且具備良好撕裂性與扭轉性之包裝 材料。惟若對於由多孔質ρ Β Τ薄膜所構成之包裝材料要求 氣體障壁性時，則應使用微細孔並未穿通者。 如前所述，經參照圖式詳加說明本發明，但並非用以局 ® 限本發明，在不脫離本發明精神範圍內，可作各種變化。 茲將本發明以下述實施例更詳加說明，惟本發明非局限 於該等實施例。 實施例1 使用兩種ΡΒΤ樹脂（商品名稱「Torecon 1 209Χ - 01」 和「Torecon 1200S」，兩者皆爲東麗公司製），裝上模脣 外徑爲ISO毫米之模頭，設定擠壓樹脂溫度爲23(rc，設 · 定擠壓樹脂壓力爲1 1 .8 MPa ( 120 kgf/cm2 )，並以1·5至 2.5的吹脹比擠壓出管狀薄膜，並由第一至第三冷卻環和冷 卻空氣吹出裝置噴出加濕空氣以邊冷卻、邊牽引以製得薄 膜。然後根據如下所述方法進行測定所製得薄膜之物理性 質，其結果展示於表1 : 平均厚度： 以針盤計測定； 平均單位重量·· 以精密秤稱量1 0 X 1 0公分的長條詩籤 -76- 200531985 抗張斷裂強度： 狀試驗片之重量； 根據ASTM D-S82測定1〇毫米寬度之長 條詩籤狀試驗片之抗張斷裂強度； 抗張斷裂伸度： 根據ASTM D-8 82測定10毫米寬度之長 條詩籤狀試驗片之抗張斷裂伸度； 熱收縮率： 分別測定使薄膜在1 0 0、1 3 0、1 6 0、1 7 5 、20〇°C各暴露10分鐘時之機械方向（ MD )、垂直方向（TD )之收縮率。 -77- 200531985 表1 製造條件 1 2 3 4 PBT樹脂（1)(等級） 1209X- 01 1209X-01 1209X- 01 1200S 吹脹比 2.5 1.5 2.1 2.1 擠壓樹脂溫度（°C) 230 230 230 230 擠壓樹脂壓力(kg/cm2) 120 120 120 120 物理性質 平均膜厚（微米） 19.8 18.0 19.5 18.8 平均單位面積重量（g/m2) 19.6 21.5 19.8 20.7 抗張斷裂強度（gf/25 mm) MD 1,687 1,568 1,545 1,828 TD 1,540 1,191 1,377 1,471 抗張斷裂伸度（％) MD - - - 4 TD - - - - 熱收縮率（％) 在100°C X 10分鐘 MD 0.17 0.1 0.17 0.17 TD 0 0 0 0 在130°Cxl〇分鐘 MD 0.1 0 0.2 0.25 TD 0 0 0 0 在160°C x 10分鐘 200531985

MD 0.1 0.1 0.1 0.25 TD 0 0 0 0 在175°C X 10分鐘 MD 0 0 0.1 0.1 TD 0 0 0 0 在200°C X 10分鐘 MD • - 0 0 TD - - 0 0.1 附註： (1) 東麗公司製，商品名：「Torecon」。 如表1所示，根據本發明之製造方法所製得之PBT薄膜 ，即使加熱至200 °C，其熱收縮率是大致爲〇，具有非常優 越的耐熱收縮性。 五、圖式簡單說明 第1圖係展示形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯（PBT ) 積層薄膜之層結構例剖面圖。 第2圖係展示形狀記憶性PBT積層薄膜之另一層結構例 剖面圖。 第3圖係展示形狀記億性P B T積層薄膜之另一層結構例 剖面圖。 第4圖係展示形狀記憶性PBT積層薄膜之另一層結構例 剖面圖。 第5圖係展示形狀記憶性PBT積層薄膜之另一層結構例 -79- 200531985 剖面圖。 第6圖係展示形狀記憶性PBT積層薄膜之另一層結構例 剖面圖。 第7圖係展示製造形狀記憶性ρ ΒΊΓ積層薄膜的裝置之一 實例示意圖。 第8圖係展示製造形狀記憶性PBτ積層薄膜的裝置之另 一實例示意圖。 第9圖係展示製造形狀記憶性ΡΒΊΓ積層薄膜的裝置之另 一實例示意圖。 第10圖係展示製造形狀記憶性ΡΒΤ積層薄膜的裝置之 另一實例示意圖。 第11圖係展示製造形狀記憶性ΡΒΤ積靥薄膜的裝置之 另一實例示意圖。 第12圖係展示本發明之製造附有蓋體的裝置之一實例示 意圖。 第1 3圖係展不爲注入熱開水而打開由本發明之形狀記憶 性Ρ Β Τ積層薄膜所構成之蓋體的速食食品用容器立體圖。 第1 4圖係展示爲注入熱開水而將由本發明之形狀記憶性 ΡΒΤ積層薄膜所構成之蓋體局部性地加以破斷開封的速食 食品用容器立體圖。 第1 5圖係展示將本發明之附有蓋體之容器用作爲半固態 食品用容器之實例立體圖。 第1 6圖係展示將第1 5圖之附有蓋體之容器加以開封的 -80- 200531985 狀態立體圖。 第1 7圖係展示用作爲食品用托盤的形狀記憶性P B T積 層薄膜將回復形狀之情形不意圖。 第18圖係展示以吹塑製膜成型法製造PBT薄膜之方法 的製程示意圖。 第1 9圖係展示用以冷卻泡膜體的裝置之一實例示意剖面 圖。 第20 ( a )圖係展示整流板之一實例俯視圖。 第20 ( b )圖係展示整流板之另一實例俯視圖。 第20 ( c )圖係展示整流板之另一實例俯視圖。 第2 1圖係展示供應加濕空氣之系統的示意圖。 第22圖係展示以單軸向拉伸法製造PBT薄膜的製程之 實例示意圖。 第23圖係展示以單軸向拉伸法製造PBT薄膜的製程之 另一實例示意圖。 第24圖係展示以單軸向拉伸法製造PBT薄膜的製程之 另一實例示意圖。 第25圖係展示朝薄膜行進方向形成線狀痕的裝置之一實 例示意圖。 第26圖係展示在第25圖所展示裝置中對於薄膜與圖型 輥滑接之面噴壓縮空氣之情形局部放大圖。 第27圖係展示在第25圖所展示裝置中薄膜與圖型輥滑 接之情形的局部放大橫剖面圖。 -81 - 200531985 第2 8 ( a )圖係展示噴嘴之一實例正視圖和右側視圖。 第2 8 ( b )圖係展示噴嘴之另一實例正視圖和右側視圖 〇 第2 8 ( c )圖係展示使用具有氣罩之噴嘴對於圖型輥噴 壓縮空氣之情形示意圖。 .第2 9圖係展示朝薄膜之行進方向形成線狀痕的裝置之另 一實例示意圖。 第3 0圖係展示用以形成對於薄膜之行進方向傾斜的線狀 痕的裝置之一實例立體圖。 第31 (a)圖係展示在第30圖所展示裝置中薄膜與圖型 無端環皮帶滑接之情形局部放大俯視圖。 第31 (b)圖係在第31 (a)圖中從D方向所看的示意剖 面圖。 第3 2圖係展示用以形成對於薄膜之行進方向傾斜的線狀 痕之裝置的其他實例示意圖。 桌33圖係展不在第32圖所展不裝置中薄膜與輥群組車 滑接之情形局部放大俯視圖。 第34 ( a )圖係展示用以形成對於薄膜之行進方向傾斜 的線狀痕的裝置之另一實例局部放大俯視圖。 第34(b)圖係在第33(a)圖中從e方向所看的示意圖 〇 第3 5圖係展示用以形成對於薄膜之行進方向爲寬度方向 之線狀痕的裝置之一實例局部放大俯視圖。 200531985 第36圖係展示用以形成對於薄膜之行進方向爲寬度方向 之線狀痕的裝置另一實例局部放大俯視圖。 第37圖係展示用以形成對於薄膜之行進方向爲寬度方向 之線狀痕的裝置之另一實例局部放大俯視圖。 第3 8 ( a )圖係展示用以形成對於薄膜之行進方向爲寬 度方向之線狀痕的裝置另一實例局部放大俯視圖。 第38(b)圖係在第38(a)圖中從F方向所看的示意圖 〇 孟件代表符號說明 1積層薄膜〔第1至6圖〕； 形狀記憶性PBT積層薄膜〔第7、8、1〇、11圖〕 2 PBT薄膜 3紙片 4密封膠膜 5聚乙烯層（I)〔第1至6圖〕；熔融聚乙烯〔第7圖〕 5’聚乙烯層（II)〔第1至6圖〕 5’’聚乙烯層（III)〔第1至6圖〕 5、6黏合劑層（I )〔第1至6圖〕 5’、6’黏合劑層（II )〔第1至6圖〕 6黏合劑層〔第1至6圖〕·， 黏合劑〔第7、8、1 0、1 1圖〕 6 ’黏合劑層〔第1至6圖〕 6’’黏合劑層（III)〔第1至6圖〕 -83- 200531985 7剛性薄膜〔第2、5圖〕； 聚對苯二甲酸乙二酯層〔第3圖〕 8遮光性油墨層 1 〇捲曲性積層薄膜 11捲裝薄膜〔第7、8、10、11、12圖〕 12 、 16 捲筒 13薄膜積層體〔第7、8、10、11圖〕 14積層薄膜〔第9圖〕 15變形積層薄膜（賦形積層薄膜）〔第9圖〕 17塗佈用薄膜〔第9圖〕 20捲筒 100 、 119、 309 、 4 1 4、4 1 5 導向輥 1 0 1凹版印刷輥 102乾燥爐 1 0 3、1 0 3 ’壓力調整輥 1 〇 4擠壓模頭 105、109冷卻輥 105’橡膠輥 106冷加工輥 107、107’、116、116’、213、310、412、413 夾輥 1 0 8、1 1 7加熱器 109冷卻輥 -84- 200531985 1 1 ο、1 1 5加熱輥；加熱輥（賦形處理用）〔第1 〇圖〕 1 1 1按壓模 1 1 2徐冷用車昆 113冷卻裝置 114捲取輥 1 1 5 ’、1 2 2抵接輥 120蓋材密封裝置 1 2 1密封頭 1 2 3食品用托盤 125包裝用薄膜 1 2 6包裝商品 1 3 0捏翼部 1 3 2 切口 134活頁部 1 3 4 a破裂部 140容器本體 1 5 0乾燥麵條 201環狀模 202第一冷卻環 203第二冷卻環 204第三冷卻環 205網 206冷卻空氣吹出裝置 -85 - 200531985 2 0 7泡膜體 2 1 2擠壓機 2 1 4捲取筒 2 1 5加濕機 2 2 0隔壁 221冷卻空氣排出口 222隔壁220之側面 223 隔壁220之上面 2 3 0加熱裝置 240整流板 2 7 1頸部 272膨脹部 2 7 3泡膜體區 2 74冷卻線 3 0 1加熱流延輥 3 02第二輥 303第三輥 304第四輥 305熔融樹脂 306結晶化薄片 307薄片用模頭 3 0 8捲取筒 401薄膜 -86- 200531985 423b 、 424a 、 402、 421、 421a、 421b、 422a、 422b、 423a、 424b、 483a、 483b 圖型輥 403 噴嘴 404微粒 405、 405a、405b 回轉輥刷 406、 406a、406a 圖型無端環皮帶 40 7、407a、407b 無端環刷 4 0 8 a、4 0 8 b 輥群組車 41 1 捲筒 416捲取筒 4 1 7 中心線 43 1 噴出口 43 2氣罩 493b支撐軸 45 1、47 1 毛材 47 2支撐構件 47 3高度調節把手 481a、 481b、 482a、 482b、 483a、 483b 導軌 452a、 452b、 491a、 491b、 492a、 492b、 493a、 B鼓風機 P冷水循環泵 R冷水器 (配置在環狀 H,以環狀模201的口徑之5至10倍距離比 模201之上方位置） -87- 200531985 H2以環狀模201的口徑之0.5至5倍距離H2 (配置在第二 冷卻環203之上方位置） Θ!積層薄膜10之捲繞方向與退繞方向所形成之角度 〔第7、8圖〕 $2積層薄膜10之捲繞方向與退繞方向所形成之角度 〔第10圖〕 積層薄膜10之捲繞方向與退繞方向所形成之角度 〔第1 1圖〕. Θ 薄膜40 1之捲繞方向與退繞方向所形成之角度 _ 〔第 28 ( c )圖〕

•88-

Claims (1)

1. 200531985 拾、申請專利範圍 1 · 一種形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其特 徵爲具有：聚對苯二甲酸丁二酯薄膜；及由選自紙片 、其他樹脂薄膜和金屬箔所組成之族群中之至少一種 所構成的其他薄膜或薄膜積層體；且在特定溫度領域 使其記憶第一形狀。 2 · 如申請專利範圍第1項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜，其中在與該特定溫度領域不同的溫度 領域加以固定成第二形狀。 3 · 如申請專利範圍第2項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 參 二酯積層薄膜，其中藉由暴露在高於記憶該第一形狀 之溫度，即會實質上由該第二形狀回復到該第一形狀 〇 4 .如申請專利範圍第3項之形狀記憶性聚對.苯二甲酸丁 二酯積層薄膜，其中回復到該第一形狀的溫度爲低於 該聚對苯二甲酸丁二酯之玻璃轉移溫度。 5 ·如申請專利範圍第4項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜，其中回復到該第一形狀之溫度爲低於 3 5 °C。 籲 6.如申請專利範圍第3項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜，其中回復到該第一形狀的溫度爲介於 高於該聚對苯二甲酸丁二酯之玻璃轉移溫度與低於熔 點之間。 7 ·如申請專利範圍第6項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜，其中回復到該第一形狀的溫度爲介於 75^：與 100°C 之間。 8 ·如申請專利範圍第2至7項中任一項之形狀記憶性聚 -89- 200531985 對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其中該第一形狀爲捲曲 形狀，該第二形狀係以大致平坦的形狀或倒捲曲形狀 0 9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項之形狀記憶性聚 對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其中在該聚對苯二甲酸 丁二酯薄膜之至少一面上全面性地形成許多實質上平 行的線狀痕，藉此則可從任意位置沿該線狀痕實質地 呈直線撕裂。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜，其中該線狀痕之深度爲該聚對苯二甲 · 酸丁二酯薄膜厚度之1 %至40 %。 1 1 ·如申請專利範圍第9或1 0項之形狀記憶性聚對苯二甲 酸丁二酯積層薄膜，其中該線狀痕之深度爲0.1至10 微米，該線狀痕之寬度爲〇. 1至1 〇微米，且該線狀痕 彼此之間隔爲10至200微米。 1 2 .如申請專利範圍第9至1 1項中任一項之形狀記憶性聚 對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其中在該聚對苯二甲酸 丁二酯薄膜之至少一面上蒸鍍陶瓷或金屬。 13 如申請專利範圍第1至1 2項中任一項之形狀記憶性聚 · 對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其中依序具有該聚對苯 二甲酸丁二酯薄膜、該紙片和密封膠膜之層結構。 1 4 ·如申請專利範圍第1至1 2項中任一項之形狀g己憶性聚 對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其中依序具有該聚對苯 二甲酸丁二酯薄膜、該紙片、剛性薄膜和密封膠膜之 層結構。 1 5 ·如申請專利範圍第1至1 2項中任一項之形狀記憶性聚 對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其中依序具有該聚對苯 -90- 200531985 二甲酸丁二酯薄膜、剛性薄膜和密封膠膜之層結構。 1 6 ·如申請專利範圍第1 3至1 5項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，其中在該聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜之該紙片側之面，或在該剛性薄膜之該 密封膠膜側之面具有遮光性油墨層。 1 7 · —種包裝材料，其特徵爲：其係由如申請專利範圍第 1至1 6項中任一項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯 積層薄膜所構成。 18· —種包裝用蓋體，其特徵爲：其係由如申請專利範圔 第i至1 6項中任一項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二 酯積層薄膜所構成。 1 9· 一種形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造 方法，其特徵爲：其係用以製造具有（a)聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜，及（b )由選自紙片、，其他樹脂薄膜和 金屬箔所組成之族群中之至少一種所構成的其他薄膜 或薄膜積層體之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層 薄膜者；其中（1)將該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與其 他薄膜或薄膜積層體積層所構成之積層薄膜，邊保持 在第一形狀、邊在低於該聚對苯二甲酸丁二酯之玻璃 轉移溫度的溫度I實,施賦形處理，（2)將所獲得之 賦形積層體在高於該玻璃轉移溫度的溫度Τ2加以變形 加工成第二形狀，及（3 )然後冷卻至低於該玻璃轉移 溫度的溫度Τ3以固定在該第二形狀。 20·如申請專利範圍第19項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜之製造方法，其中該第一形狀爲捲曲形 狀，該第二形狀爲大致平坦的形狀或倒捲曲形狀。 2 1 ·如申請專利範圍第20項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 -91 - 200531985 二酯積層薄膜之製造方法，其中將黏合該聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜與該其他薄膜或薄膜積層體所獲得之積 層薄膜以輥搬送，以沿該輥之周面在該溫度τ ^加以處 理，藉以製造賦形捲曲形狀之積層薄膜。 22·如申請專利範圍第19至21項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中將在 該溫度T2實施之變形加工實施30至60秒鐘。 23 .如申請專利範圍第1 9至22項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中該溫 度L爲低於35°C，該溫度Τ2爲介於高於45°C與低於 籲 6 5°C之間，該溫度T3爲介於15°C與25¾之間。 2 4 ·如申請專利範圍第1 9至2 3項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中該溫 度八爲介於15°C與25°C之間。 2 5 ·如申請專利範圍第2 0至24項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中將經 賦形該捲曲形狀之積層薄膜加以冷卻至該溫度T3後， 朝其倒捲曲方向加以捲取。 2 6.如申請專利範圍第1 9至25項中任一項之形狀記憶性 _ 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中在黏 合該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與該其他薄膜或薄膜積 層體時，邊對於該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜施加大於 4 kgf/m寬度之張力、邊黏合於該其他薄膜或薄膜積層 體。 27·如申請專利範圍第26項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜之製造方法，其中該張力爲10至20 kgf/m寬度。 -92- 200531985 2 8 · —種形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造 方法，其特徵爲：其係用以製造具有（a )聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜，及（b )由選自紙片、其他樹脂薄膜和 金屬箔所組成之族群中之至少一種所構成其他薄膜或 薄膜積層體的形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄 膜；其中（1) (i)將該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜邊 保持在第一形狀、邊在介於高於該聚對苯二甲酸丁二 酯之玻璃轉移溫度與低於其熔點之間的溫度T4實施賦 形處理後與其他薄膜或薄膜積層體積層，或是（ii ) 預先製造該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與其他薄膜或薄 _ 膜積層體之積層薄膜，然後將此邊保持在第一形狀、 邊在該溫度T4實施賦形處理以製造具有第一形狀之積 層薄膜.，（2 )將所獲得之賦形積層體冷卻至低於該玻 璃轉移溫度的溫度Τ5以固定於該第一形狀，（3 )然 後將該賦形積層體薄膜在介於高於該玻璃轉移溫度與 低於該溫度Τ4之間的溫度丁6加以變形加工成第二形 狀後，及（4 )冷卻至該低於該玻璃轉移溫度的溫度 Τ7以固定於該第二形狀。 29·如申請專利範圍第28項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 _ 二酯積層薄膜之製造方法，其中該第一形狀爲捲曲形 狀，該第二形狀爲大致平坦的形狀或倒捲曲形狀。 30·如申請專利範圍第28或29項之形狀記憶性聚對苯二 甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中溫度τ4爲介於 7 5 °C與1 〇 〇 °C之間’該溫度Τ 5爲低於4 0 °C，該溫度Τ 6 爲介於45°C與65°C之間，該溫度T7爲低於40°C。 3 1 ·如申|靑專利軺圍弟2 9至3 0項中任—'項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中將該 -93- 200531985 聚對苯二甲酸丁二酯薄膜邊接觸於一對加熱輥之一方 的周面上、邊搬送，並沿該加熱輥之周面以該溫度τ4 加熱處理以對於該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜賦予捲曲 形狀，然後使所獲得之捲曲性聚對苯二甲酸丁二酯薄 膜與該其他薄膜或薄膜積層體通過該一對加熱輥之間 以連續地黏合以製造賦形捲曲形狀之積層薄膜。 32.如申請專利範圍第29或30項之形狀記憶性聚對苯二 甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中以加熱輥搬送 該聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜，以沿該加熱輥周面 並在該溫度Τ4加以處理以賦予捲曲形狀。 3 3 ·如申請專利範圍第28至.32項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中在黏 合聚對苯二甲酸丁二酯薄膜與該其他薄膜或薄膜積層 體時，邊對於該聚對苯二甲酸丁二酯薄膜施加大於4 kg f/m寬度之張力、邊黏合於該其他薄膜或薄膜積層 體。 34·如申請專利範圍第33項之形狀記憶性聚對苯二甲酸丁 二酯積層薄膜之製造方法，其中該張力爲10至20 kgf/m寬度。 3 5 ·如申請專利範圍第2 9至3 4項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜之製造方法，其中將該 經實施賦形捲曲形狀之積層薄膜，冷卻至該溫度T5後 ，朝其倒捲曲方向加以捲取，並以在該溫度τ6和該溫 度Τ7處理。 3 6 · —種具有由如申請專利範圍第1至1 6項中任一項之形 狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜所構成蓋體的 容器之製造方法’其特徵爲··該容器係將由形狀記億 -94· 200531985 性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄膜所構成蓋體熱密封於 容器所獲得者，其中在高於該聚對苯二甲酸丁二醋之 玻璃轉移溫度的溫度Tg ’將該形狀記憶性聚對苯二甲 酸丁二酯積層薄膜邊保持在平坦、邊加以徐冷處理， 將所獲得之平坦的形狀記憶性聚對苯二·甲酸丁二醋積 層薄膜，以蓋材密封裝置進行沖孔加工同時進行熱密 封，以使.由該形狀記憶性聚對苯二甲酸丁二酯積層薄 膜所構成之容器黏合於容器。 3 7 ·如申請專利範圍第3 6項之具有由形狀記憶性聚對苯二 甲酸丁二酯積層薄膜所構成蓋體之容器之製造方法， 其中將該徐冷處理實施30至60秒鐘。 3 8 ·如申請專利範圍第3 6或3 7項之具有形狀記憶性聚對 苯二甲酸丁二酯積層薄膜製蓋體之容器之製造方法， 其中該溫度T8爲介於80°C與120°C之間。 39. 一種聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之製造方法，其係用以 藉由空氣冷卻式吹塑製膜成型法使聚對苯二甲酸丁二 酯樹脂薄膜化，其特徵爲：由設置在環狀模附近之第 一冷卻環噴出加濕空氣以冷卻泡膜體之頸部，並設定 吹脹比爲1 .5至2.8，設定擠壓樹脂溫度爲介於2 1 0與 2 5 0°C之間，.設定擠壓樹脂壓力爲9.8至13.7 MPa。 40. 如申請專利範圍第39項之聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之 製造方法，其中由設置在比該泡膜體之冷卻線稍偏於 上方的第二冷卻環所噴出之冷卻空氣.，再進一步冷卻 該泡膜體，同時使設置在該第一冷卻環與該第二冷卻 環之間的圓筒狀網之周圍溫度冷卻成爲一定，以使藉 由該第一冷卻環及該第二冷卻環的泡膜體之冷卻溫度 趨於安定化。 -95- 200531985 4 1 ·如申請專利範圍第3 9或40項之聚對苯二甲酸丁二酯 薄膜之製造方法，其中將由設置在該網之下部的冷卻 空氣吹出裝置所噴出之加濕空氣，沿該圓筒狀網之外 面朝上吹，以冷卻該網之周圍。 42·如申請專利範圍第39.至41項中任一項之聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜之製造方法，其中以設置在比該第二冷 卻環稍偏於上方的第三冷卻環，再進一步冷卻該泡膜 體。 43·如申請專利範圍第39至42項中任一項之聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜之製造方法，其中該第二冷卻環及該第 三冷卻環之冷卻空氣係使用加濕空氣。 4 4 ·如申請專利範圍第3 9至4 3項中任一項之形狀記憶性 聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之製造方法，其中將該加濕 空氣溫度設定在介於1 5 t與25 t之間。 4 5 —種直線易撕裂性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其特徵 爲：在聚對苯二甲酸丁二酯薄膜之至少一方的面上全 面性形成許多實質上平行的線狀痕，以可從任意位置 沿線狀痕呈直線撕裂。 46·如申請專利範圍第45項之直線易撕裂性聚對苯二甲酸 丁二酯薄膜，其中該線狀痕之深度爲薄膜厚度之1 % 至 4 0 % 〇 47♦如申請專利範圍第45或46項之直線易撕裂性聚對苯 二甲酸丁二酯薄膜，其中該線狀痕之深度爲〇. 1至1 〇 微米。 4 8 .如申請專利範圍第4 5至4 7項中任一項之直線易撕裂 性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其中該線狀痕之寬度爲 0.1至10微米。 -96- 200531985 49. 50. 5 1 · 52. 53· 54. 55. 56· 57. 如申請專利範圍第45至48項中任一項之直線易撕裂 性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其中該線狀痕彼此之間 隔爲10至200微米。 如申請專利範圍第45至49項中任一項之直線易撕裂 性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其中均勻地形成許多微 細的穿通孔和/或未穿通孔。 如申S靑專利範圍第4 5至5 〇項中任一項之直線易撕裂 性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其中該直線易撕裂性聚 對苯二甲酸丁二酯薄膜爲單層薄膜或積層薄膜。 如申請專利範圍第5 1項之直線易撕裂性聚對苯二甲酸 _ 丁二酯薄膜，其中該積層薄膜具有至少一個由具有該 線狀痕的薄膜所構成之層，與由密封膠膜所構成之層 〇 如申請專利範圍第45至52項中任一項之直線易撕裂 性聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其又蒸鍍陶瓷或金屬。 一種包裝材料，其特徵爲其係由如申請專利範圍第45 至5 3項中任一項之直線易撕裂性聚對苯二甲酸丁二酯 薄膜所構成。 〜種多孔質聚對苯二甲酸丁二酯薄膜，其特徵爲在聚 _ 對苯二甲酸丁二酯薄膜均勻地形成許多微細的穿通孔 和/或未穿通孔，以具有扭轉性。 如申請專利範圔第55項之多孔質聚對苯二甲酸丁二酯 薄膜，其中該微細孔具有0.5至100微米的平均開口 徑，且其密度爲高於約5 00個/cm2。 一種包裝材料，其特徵爲其係由如申請專利範圍第5 5 或56項之聚對苯二甲酸丁二酯薄膜所構成。 -97-