TW200417421A - Method for drying coating film and optical film - Google Patents

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TW200417421A TW093105670A TW93105670A TW200417421A TW 200417421 A TW200417421 A TW 200417421A TW 093105670 A TW093105670 A TW 093105670A TW 93105670 A TW93105670 A TW 93105670A TW 200417421 A TW200417421 A TW 200417421A
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Makoto Komatsubara
Ryuuichi Inoue
Mie Oota
Kazuki Tsuchimoto
Seiji Kondou
Tomoaki Masuda
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Nitto Denko Corp
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    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B13/00Machines and apparatus for drying fabrics, fibres, yarns, or other materials in long lengths, with progressive movement
    • F26B13/10Arrangements for feeding, heating or supporting materials; Controlling movement, tension or position of materials
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Description

200417421 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種用來使塗佈於行進中 的塗佈液連續乾燥的技術,特別是關於該 牙_ 乾燥方法所形成之光學機能層積層 =法將°亥 再成之光學簿膜、另 有該光學薄膜之偏光板、及具有該 、'、 。 九板之影像顯示裝置 【先前技術】 用來使塗佈於行進中之長形支撑體的塗佈液連續乾燥 勺方法,有從單方向對塗佈面吹入經空、 ,S *牡日日mm 〜风的方法(例如 焊4Γ 70547號公報)。其他亦有於塗佈後之乾 方=置内’將熱風吹送至塗佈面或以遠紅外線照射等乾燥 但,近年來於液晶顯示裝置等光學用途用的薄 因使用用途之不同,對塗佈後的外觀要求變的嚴格起 不均是薄膜塗佈在10…下的商品,由於塗佈膜的 ^句而產生之外觀不均非常明顯,故希望減少該外觀不均 【發明内容】 ,然而’習知的乾燥方法中,在塗佈裝置於行進中之 形支㈣㈣塗佈液之後到在乾燥裝置進行乾燥為止之^ ’存在有暴露於裝置周邊之環境下的區間,例 周圍環境之呈不規則速度及方向之風等所造成之干擾因素 之影響’而使乾燥速度不均勻。這樣便使塗佈膜之表面張 200417421 使塗佈膜的厚度產生偏差 力產生差異而導致塗佈液流動 ’而有產生外觀不均的問題。 發明之褐彔 本發明係有鑑於上述問題而創作’目的為提供一種塗 :嶋方法,其可安定製造厚度偏差少的塗佈膜,並 提供將該乾燥方法所形成之光學機能層積層而構成之光學 具有該光學薄膜之偏光板、及具有該偏光板之影像 顯不*裝置。 本發明者等發現,將塗佈膜(於行進中之長形支標體塗 佈塗佈液而形成)乾燥時,使剛塗佈上之塗佈液之蒸發速度 (乾燥速度)在0 1 2/m2 · 冰〜t 作Mg/m s以下,便可均勻地將塗佈膜乾燥 ’形成厚度均勻的塗佈膜。 因此,本發明為一種塗佈膜的乾燥方法,係於行進中 之長形支撐體塗佈塗佈液所形成之塗佈膜之乾燥方法;且 於該長形支撐體塗佈塗佈液後,立刻將溶劑之蒸發速 度(乾燥速度)保持在G.lg/m2 . s以下來進行乾燥。藉此, 可均勻地將塗佈膜乾燥,而安定製造厚度偏差少的塗佈膜 。因此,可得到形成有塗佈膜之外觀良好的製品。 又,使瘵發速度為〇.lg/m2 . S以下之乾燥,係以在塗 佈有塗佈液之長形支撐體進入乾燥裝置之前來進行更佳。 惟’亦可僅進行使蒸發速度為G lg/m2. s以下之乾燥過程 便結束乾燥,而不另外設置乾燥裝置。 又’本發明為了使蒸發速度在〇 lg/m2 · S以下,較佳 者為將與剛塗佈上塗佈液之該長形支撐體平行的板,配置 200417421 成〜佈膜隔有空隙。藉此,可防止風從周邊環境進入板 與塗佈膜間的空隙,使空隙大致充滿溶劑之蒸氣,而使蒸 發速度在〇.ig/m2 · s以下。 又,較佳者為將該板的溫度控制於塗佈液之蒸氣之露 點以上。雜a ' 曰b,可將蒸發速度控制於〇 ·丨g/m2 · s以下之範 且可防止蒸氣之結露,進行安定的乾燥過程。 ^又,較佳者為於該板之長形支撐體側之面設置鰭片。 可防止伴隨長形支撐體行進而產生的空氣流動影響 狀態的塗佈臈,而得到厚度均-的塗佈膜。 右k佈膜的黏度為3〇〇mPa · s以 安定的乾燥。又,Μ p ^進仃更 定的乾燥。右為5〇〇mPa.S以下,便可進行更加安 層。作具有光學機能之光學機能 « 年來對外觀嚴格要求 ,亦可得到外觀均-的塗佈物。 佈物 又,以士口上的乾燥方法製造將光 之光學薄膜,便可得到適用於外觀均—之光;=構; 者,將該種光學薄膣接麻+ 尤予用溥Μ。再 外觀均一之光學用偏心來形成偏光板,便可得到適用於 外觀來製造影像_置,則可實現 本t月亦為—種塗佈膜之乾燥方法,係於行谁 且將見度車父長形支撐體寬度為寬之板,沿塗佈液之^裝 200417421 置之下游側之長形支撐體之行進路徑配置;使剛藉塗佈裝 置形成有塗佈膜之長形支撐體,在塗佈膜與板之板面隔有 既定間隙之狀態了沿行進路徑行進,冑以於該間隱:進行塗 佈膜之乾燥之至少一部分。藉此可在降低來自周圍環境之 風等影響下進行!乞燥,i可安定製造厚度偏差少之塗佈膜 藉由以下之詳細說明及附圖,將可更明白本發明之目 的、特徵、態樣及優點。 【實施方式】 复羞L發明之最佳形態 以下,參照圖式詳細說明本發明之可適用於影像顯示 裝置之偏光板等製程的實施形態。 圖1表示於長形支撐體之塗佈膜形成側設有板之構成 圖。長形支《 10,係塗佈膜形成之基材,例如在偏光板 之製造中,為網狀之薄膜或薄片等所構成之平坦的長形可 撓性之面狀基材,能在由複數個輥子35等支撐的狀態下 往紙面右方以大致一定之速度行進。在長形支撐體10“之 行進路徑中長形支撐體10之至少一面側(圖"系上面側, 其他圖亦同),設置有用以塗佈塗佈液之模塗機(die co㈣ 寺塗佈裝置30’當長形支撐體10行進於塗佈裝置3〇時, 塗佈液會均勻地塗佈在長形支撐體1〇之上面側而形成塗 佈膜11。塗佈液,係用來形成例如偏光板之㈣片或光學 機1能*層(具體例後述)。 在長形支撐體1〇之行進路徑中緊隨塗佈裝置3〇之後( 10 200417421 製程上之下游側),將大致平行於長形支撐體ίο主面(被塗 佈面)之板20設置成與塗佈於長形支撐體1〇之塗佈膜n 對向’且於板20與塗佈膜之間設有一定之空隙〇。板2〇 之與塗佈膜11對向之面2〇s側儘可能加工成光滑狀態,板 20,係具有可在長形支撐體1〇之寬度方向(垂直紙面之方 向)完全覆蓋塗佈膜11的寬度,且沿長形支撐體10之行進 路仏配置。又’板1 0係主要用來抑制形成於長形支撐體 之k佈膜11在未乾燥狀態下受到來自行進路徑周邊環 、風等衫響,故板20與塗佈膜11間之空隙G以丨〇mm 以下為佳。其結果,板2〇與塗佈膜1丨間之空隙會大致充 滿岭Μ之蒸氣,可將溶劑之蒸發速度減低至〇1咖2 · $以 下,均勻地將塗佈膜乾燥,而形成厚度均一之塗佈膜。 士因此,板20,係用來防止塗佈膜11暴露於外部之氣 :&同日夺具有蒸發環境控制板的機能,能藉著從塗佈膜η 膜I之心劑之蒸氣壓本身自律且均勻地控制間隙G内塗佈
+、 之,谷劑蒸發環境(並非如日本特開2001-170547 f卢八 報般的強制送風等)。 一埶I:為了控制溶劑之蒸發速度,可將板20形成為呈均 溫;、導性,且以含有熱源之溫度控制部25來使板2〇的 以^之別是與塗佈面對向之面2〇S之溫度)為溶劑之露點 速度在:度。惟,該情形中仍將溫度調整為使溶劑之蒸發 之空隙.lg/m2·8以下。藉此,可在板20與塗佈膜11間 / 2G防止溶劑m結露,並將賴之蒸發速度在 • g m · s以下之範圍内任意調整。 11 200417421 板20例如可為以金屬板或金屬層覆蓋下面20s而構成 之板材,/皿度控制部25例如可具有電子加熱器作為熱源 。較佳者為設置用來檢測板材2()或空隙g之溫度的溫度 感測器26,使用該溫度感測器^之溫度檢測值來進行溫 度控制部25之回饋控制’便可更加精確地進行板20之溫 度调整。 使用如上述板20之乾燥過程,以在剛塗佈完塗佈液之 後、且在長形支撐體H)進人乾燥裝置4Q之前來進行為佳 ’利用該時機來進行乾燥,便可有效防止未乾燥狀態之塗 佈液在進入乾燥裝置40前受到來自周圍環境之風等影響 然後,形成塗佈膜U、且通過板2〇下方的長形支撑 體10 ’係進入習知之齡操驻 紅各破置40,進行加熱或紫外線昭 射而將塗佈膜U完全乾燥或硬化…淮,設置於緊隨塗: 裝置30之後的板20之溫度係受調整故板2"方之空 隙g,溢度比室溫高而有加速塗佈膜u乾燥之作用。因2 ,亦可利驗20的作料塗佈膜u完全㈣,此 不必設置乾燥裝置40。 又’若長形支樓體10通過板20之下方後,以乾燥裝 置作別的乾燥處理時,亦可使溶劑之蒸發速度為〇g/mrs 。在此情形,形成有塗佈膜n之長形支樓體10在因周圍 ,境而完全未乾燥的狀態下引導至乾燥裝i 40,故形成良 好、均一膜厚之塗佈膜。相對於. 相對於此,在未設置乾燥裝置40 、形下,㈣支撐體1G必須在通過板2G下方時進行完 12 200417421 全的乾燥,故將溶劑之蒸發速度控制在高於0g/m2. S之值 、。此情形下之具體之蒸發速度下限值,係根據板別沿行 進方向之長度或長形支擔辨 又保體10之移動速度等取決於可完 全乾燥之速度。 為了以上述方法生成均一之安定塗佈冑η,所使用之 塗佈液之黏度以300mPa. s以下為佳。又更佳為使塗佈液 之#度為5GmPa· s以下’便可進行更加安定的乾燥。 其次’圖2係表示與圖1不同之構成,表示於長形支 擇體之塗佈膜形成側與非形成侧兩者設置有板之構成。在 長形支撐體ίο之行進路徑中緊隨塗佈裝置3〇之後,將與 長I支撐體10大致平行之第lfe2〇a設置成在長形支樓體 10之塗佈膜形成側與塗佈膜11對向,又,將與長形支樓 體10大致平行之第2板鳥設置成在長形支撐體10之塗 ㈣非形成側與長形支撐體10對向。此情形下,同樣地 方i弟1板20a與塗你膜*11 pq 也咕 仰胰i i間、及弟2板20b與長形支撐體 ίο間分別設有一定之空隙G1、G2。 "由於在與塗佈膜11對向之-側設置第1板20a,故使 第1板20a與塗佈膜u間之空隙⑴大致充滿溶劑之蒸氣 ’能使溶劑之蒸發速度減低至〇lg/m2 · s以下 句地乾燥,而形成厚度均一之塗佈膜。 布㈣ 又,由於在長形支撐體之塗佈膜形成側與非形成侧兩 者設置板20a、,从π,办 .^ " 故可進一步有效避免來自周圍環 風等的影響。 % < 又’為了控制溶劑之蒸發速度’將板20a、20b分別形 13 200417421 成為呈均一熱傳導性,且以含熱源之溫度控制部、2化 來使板20a、20b的溫度(特別是與塗佈面或支撐體表面對 向之面的溫度)分別在溶劑之露點以上之溫度。由於將控制 板20a及20b分別控制,故可在控制溶劑之蒸發速度時作 微妙的調整,而能以高精度實現蒸發速度為〇 ig/m2 · s以 下之安定狀態。 在獨立控制板20a及20b之溫度之情形,最好另外設 置可分別測定板20a、20b或空隙G1、G2之溫度的溫度感 測器26a、26b來對溫度控制部25a、2讣分別作回饋控制 ,但亦可參照其中之一(例如,與塗佈面對向之一側之溫度 感測器26a)的溫度測定值來對2個溫度控制部2九、2几 兩者作回饋控制。 其次,圖3為與上述不同之構成,表示設有在塗佈塗 布液後立刻包圍長形支撐體的包圍板(扁平通道構造體)2〇c 之構成。又,圖3表示垂直於長形支撐體1〇行進路徑之 剖面圖,長形支撐體1〇係在紙面的垂直方向上行進。 、圖3的構成中,包圍板2〇c係配置於長形支撐體1〇行 進路徑中緊隨塗佈裝置30之後,剛形成有塗佈膜U之長 ^支撐體10係進入包圍板2〇所形成之通道狀内部空間u 内即包圍板2〇c的構造不僅設置於長形支撐體丨〇之塗 布臈幵v成側及非形成側’且在旁側亦設有板,可顯著降低 2形支撐體ίο及塗佈膜π行進於包圍板2〇c内部空間21 又到來自周圍環境之風等影響。且,於包圍#反紙之與 塗佈膜11對向之面側,在塗佈膜u與包圍板20c間設置 14 200417421 有上述一定之空隙G1,使溶劑之蒸發速度為〇.lg/m2.s 以下。 又’為了控制溶劑之蒸發速度,將包圍板2〇c形成為 呈均一熱傳導性,且以含熱源之溫度控制部25使包圍板 20c的溫度(特別是内面側之溫度)在溶劑之露點以上之溫产 。藉此’可在包圍板20c與塗佈膜11間之空隙G1、或在 包圍板20C之内部空間21c防止溶劑之蒸氣之結露,且將 療r發速度在0 · 1 g/m2 · S以下之範圍内任意調整。 其次,圖4表示圖1之構成中在板20設置有平板狀之 複數個鰭片22a〜22d之構成。如圖4所示,鰭片22a〜22d 係垂直設置於板20之與塗佈膜對向之面,且橫越長形支 撐體10之行進路上。又,在鰭片22a〜22d下端部與塗佈 膜11間設置一定之間隙G,來使鰭片22a〜22d下端部不接 觸塗佈膜11。 由於在板20之與塗佈膜丨丨對向之面設置籍片 22a〜22d,故可減低伴隨塗佈有塗佈液之長形支撐體在 行進中產生之不規則氣流8對溶劑之蒸發速度造成不均一 之影響。即,鰭片22a可防止面向行進方向所產生之氣流 8侵入板20與塗佈膜U間之空隙空間G,而可在不受氣 流8之影響下安定進行乾燥。又,板2〇與塗佈膜丨丨間之 空隙空間G内推測亦會產生氣流,但藉由鰭片2几、32仏 防止該氣流發生廣泛的影響,而能進行安定的乾燥。又, 利用設置鰭片22a〜22d,可有效減低板2〇與塗佈膜n間 之空隙空間G受到來自周圍環境之影響。 15 200417421 上述鰭片22a〜22可、、儿且π +认 Τ〜長形支撐體1()行進方 =,亦可為板20端部附近之配置間隔、與板2:中二 =配置心不R。即,在料端部附近( 圖左側之入口附近)报容易在具有塗佈“之長形= 〇之各部在進入板20之下方空間時捲入空氣,但由於 立而部附近以較短間距排列 ; 作用。X Η 4 可加強防止氣流捲入的 用。又,如圖4所+,、>* & , …一二成了…_中端部側之 ^ 敢好°又置成與板2〇端面2〇e之位置整合。 错此’可利用板20之端部防止氣流8侵入。 ,二’2= 丄之構成同樣地’ 4 了控制溶劑之蒸發速度 將板20形成為呈均一執值道从 制部25使板2〇的溫产(特、0且以含熱源之溫度控 八 又(寺別疋舁塗佈面對向之面之溫度) 二為樣露點以上之溫度。藉此,可防止板2〇與塗 p 11與各鰭片22a〜22d間之空隙空間G内溶劑之蒸氣 ::二可將溶劑之蒸發速度在01g/m2. s以下之範圍内 ^通。又’亦可在每個被各鰭片22 對板20之溫度個別控制,此情形下,可更仔細 m佈h㈣狀態。如此之分割控制之情形下,若溫 ^感心26亦分別設置在各部分空間(分割空間),來進行 母W域之溫度的回饋控制’便可特別加強溫度調整機能 。又’亦可使板20之下面形成波狀來取代韓片,此情形 下’’、要將各往與長形皮撐體】〇行進方向成大致垂直的 方向延伸之複數個波狀構造’沿長形支撐體】〇之行進方 向平行排列即可。即,雖然如圖4般之鰭片的排列形成是 16 200417421 理想的態樣,但一般將沿與長形支撐體1〇行進方向大致 成垂直之方向延伸的複數個凸構造大致平行地排列於板 之下面’便可得到防止氣流捲入之效果。 利用上述之塗佈、乾燥的過程,可將上述塗佈膜丨丨當 作例如具有光學機能之光學機能層。且,可將使用於影像 顯示裝置之光學薄膜或偏光板當作積層有上述光學機=層 之構造。亦即,上述乾燥過程,尤其有助於在光學薄膜或 偏光板上形成光學機能層。 、/ 偏光板,係例如在含雙色性物質之聚乙烯醇系薄膜等 所構成之偏光元件之單面或雙面上設置保護片或其他光學 薄膜而構成的構造。 偏光元件不特別限定,可使用各種物質,例如有將碘 或雙色性染料等雙色性物質吸附於聚乙烯醇系薄膜、部: 甲醯化聚乙烯醇系薄膜、乙烯及乙酸乙烯酯共聚物部份皂 化薄膜等親水性高分子薄膜並進行單軸延伸而成者,以及 聚乙烯醇之脫水處理物、聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯 配合薄膜等。丨中又以聚乙稀醇系薄膜及峨等雙色性物質 所構成之偏光元件較佳。 ' 若將設於偏光7L件單面或雙面之保護片當作本發明之 實施形態之塗佈膜11,則該保護片之材料最好是透明度、 機械強度、熱安^性、水分遮蔽性、等向性良好者。例如 可為聚對苯二曱酸乙二醇酯(PET)或聚萘二曱酸乙二醇酯 (PEN)等聚酯系聚合物,二乙醯基纖維素或三乙醯基纖維 素等纖維素系聚合物,”基丙烯酸曱酯等丙烯酸酯系聚 17 合物、聚苯乙 系聚合物,取、x或丙腈及苯乙烯共聚物(As樹脂)等苯乙烯 物例如有,:碳酸酯系聚合物等。又,形成保護片之聚合 如聚烯炉、'有聚乙烯、聚丙烯、S系或降冰片烷構造例 烯系聚:物乙烯:丙烯共聚物等聚稀烴系聚合物,聚氣乙 系聚八物 f ’或芳香族酸胺等醯胺系聚合物、醯亞胺 合物二二楓系聚合物、聚醚楓系聚合物、聚醚醚酮系聚 合物、取Μ :系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氯乙烯系聚 合物、二烯醇縮丁醛、烯丙酸酯系聚合物、$甲醛系聚 ^氧系聚合物,或前述聚合物之混合物等。 车、a保濩片可由丙烯酸系、聚氨酯系、丙烯酸聚氨酯 化層步^ _系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂之硬 用之^成、。此情形,可將呈現熱硬化作用或紫外線硬化作 德 布夜以塗佈裝置30塗佈於長形支撐體(偏光元件)1 0 . 在進入乾燥裝置4〇内之前,使用上述乾燥方 次,便得到均一之安定硬化層。 又,如上之偏光板實際上是積層各種光學機能層後使 而上述乾燥方法在形成光學機能層時亦可使用。 、子亥光干機此層並無特別限定,例如,可在偏光元件 之未叹有保濩片之面施加硬覆膜處理或抗反射處理、以影 象歹成遠防止或擴散抗眩目等為目的之表面處理,或積層以 視角補4貝等為目的之配向液晶層。又,亦有將反射板或半 透過板、相位差板(含1/2或1/4等之波長板(又板))、視角 補秘層等影像顯不裝置形成時所用之光學機能層積層丨層 或2層以上而成者。特別較佳之偏光板,係於偏光板積層 18 200417421 反射板或半透過反射板之反射型偏光板或半透過型偏光板 、積層相位差板所形成之橢圓偏光板或圓偏光板、積層視 角補饧層所形成之廣視野角偏光板或積層有亮度提升層之 偏光板。 視角補償層為一種用於加寬視野角之光學機能層,其 使在非垂直於影像顯示裝置畫面而稍斜方向觀看時仍能看 見較清晰的影像。積層有該種視角補償層之廣視野角偏光 $ ’例如將液晶聚合物等配向層以相位差板、液晶聚合物 等-向膜或透明基材來支挣而構成。通常之相位差板係使 用沿面方向單轴延伸之具複折射性聚合膜,但使用於視角 補償膜之相位差板係使用沿面方向雙軸拉伸之具複折射性 聚合膜’或沿面方向單轴延伸且厚度方向亦延伸之控制厚 度方向折射率的具複折射性聚合物或如傾斜配向膜之雙向 延伸膜等。傾斜配向膜例如有將熱收縮膜接著於聚合膜, 再以加熱所產生收縮力之作周對聚合膜進行延伸處理㈣ 收縮處理而成者,亦有將液晶聚合物斜向配向而成者等。 相位差板之素材原料聚合物可 J依防止視認角隨液晶元件 (cell)之相位差而改變所造成之 耆巴之目的,或依加寬良視 認之視野角的目的等來選擇適當之聚合物。 、又從達成良視認廣之視野角的觀:等,較 將液晶聚合物之配向層(特別是圓 ' 、寸刃疋W盤(dlscotic)液晶聚 傾斜配向層)所構成之光學異向性屏 物之 ,_ . . 、、 9 一乙基纖維素膜來 支撐而成之光學補償相位差板。 、 ^ ^ 且升y成呈現該光學補償嬙 能之視角補償層時可使用上述乾 予補饧钱 钇各方法。例如,於長形之 19 200417421 三乙酿基纖維素膜塗佈含液晶性圓盤化合物之塗佈液,將 該塗佈膜乾燥時可使用上述乾燥方法,藉此方式可得到外 觀均一的相位差板。 積層有亮度提升層之偏光板通常係設置在液晶元件的 内側來使用。亮度提升層係呈現,當液晶顯示裝置等影像 顯示裝置之背光、或從裏側反射出之自然光入射時將既定 偏光軸之直線偏光或既定方向之圓偏光加以反射,而使其 他光穿透之特性者。積層有亮度提升層之偏光板,使來自 背光等光源之光入射而得到既定偏光狀態之透過光,同時 將前述既定偏光狀態以外之光反射而不使其穿透。使在亮 度提升層之膜面反射之光,進一步透過設於後方側之反射 層等反轉並再入射於亮度提升層,使其中一部分或全部之 光以既定偏光狀態的光的形式穿透,以增加穿透亮度提升 層之光量,同時對偏光元件供應難以吸收的偏光,以增加 可利用於影像顯示之光量,藉以來提升亮度。即,不使用 亮度提升層(亮度提升膜),以背光等使光從液晶元件裏側 經由偏光元件等入射時,具有與偏光元件之偏光軸不一致 偏光方向的光幾乎均被偏光元件所吸收,而不穿透偏光元 件。即,依所用偏光元件之特性而有所不同,但約有5〇% 的光會被偏光元件吸收,使利用於影像顯示之光量減少, 影像變暗。亮度提升層使具有能被偏光元件吸收偏光方向 的光,不入射於偏光元件,而先藉亮度提升層反射,再透 過設於後方側之反射層等反轉並再入射於亮度提升層,反 覆此過程,僅使在該兩者間反射、反轉之光之偏光方向為 20 200417421 可通過偏光元件之偏光方向的偏光穿透並供應給偏光元件 ,故可將背光等光有效率地使用於影像顯示,使畫面變亮 〇 又,亦可在亮度提升層與反射層等之間設置擴散板。 被度提升層反射呈偏光狀態的光雖然面向反射層等,但 所Α置之擴散板,係使通過的光均勻擴散的同時,解除偏 光狀恶,而成為非偏光狀態。即,恢復為原本的自然光狀 態。該非偏光狀態即自然光狀態之光,自向反射層等,透 過二射層等反射,再通過擴散板,再入射於亮度提升層, ^復此過耘。由於設置用於恢復為原本的自然光狀態之擴 政板故可維持顯不晝面之亮度,同時減少顯示晝面之明 儿又之不均,而提供均勻明亮之畫面。由於設置用於恢復 為^本自然光㈣之擴散板,故首次之人射光,係反射之 反覆次數增加,再加上擴散板之擴散機能,而能提供均句 之明売顯示晝面。 >呈現如1光學機能之亮度提升層彳適當使用例如將膽 口知尘液曰曰聚合物之配向膜或其配向液晶層以薄膜基材來 支撐而成者般呈現將往左或往右偏任—者之圓偏光反射而 使其他光穿透等之特性者等。此外,形成該亮度提升層時 上述乾燥方法亦可適用。例如於長形薄膜基材上塗佈用於 形成配向液晶居夕+ 、六 …。 曰層之塗佈液,將該塗佈膜乾燥時,可適用上 述乾燥方法’藉此,可形成外觀均-的亮度提升層。 勒二亮度提升層亦可使用例如誘電體之多層薄膜或折 ;、/、D性不同之薄膜多層積層體般呈現使既定偏光軸之 21 200417421 直線偏光穿透而使其他光反射之特性者,在該亮度提升層 ’使透過光直接以偏光軸與偏光板一致之方式入射,藉此 可抑制偏光板所造成之吸收損耗並使光有效率地穿透。因 此,該亮度提升層亦可積層於以上述乾燥方法形成之光學 機能層上,而形成多層構造之偏光板。 另外,如膽固醇型液晶層般使圓偏光穿透之類型的亮 度提升層雖亦可使透過光直接入射於偏光元件,但在抑制 吸收損耗之考量下,最好將圓偏光透過相位差板進行直線 偏光化再使其入射。又,以1/4波長板作為相位差板,便 可將圓偏光轉換為直線偏光。 在可見光區等廣波長範圍當作1/4波長板之相位差板 ,係例如可對於波長550nm之單色光將作為1/4波長板之 相位差層、與呈現別的相位差特性之相位差層(例如作為 1/2波長板之相位差層)重疊來得到。配置於偏光板與亮度 提升層間之相位差板亦可由丨層或2層以上之相位差層所 構成。又,該相位差層亦可將塗佈液塗佈形成塗佈膜後, 再將忒塗佈膜乾燥來形成,而可形成外觀均一之相位差層 〇 以該方式形成各種光學機能層時,於作為母材之長形 支撐體(薄膜等)塗佈塗佈液而形成塗佈膜,並將該塗佈膜 以上述軋燥方法乾燥’而形成均-之光學機能層。依此方 式將光學機能層積層於光學薄膜上,可得到均一之高品質 光學薄膜。再者,將該光學薄膜積層於偏光板,便可i至貝j 均一之高品質偏光板。 22 200417421 ☆又,偏光板亦可由將偏光板與2層或3層以上光學機 能1積層者所構成。因&,亦可為將反射型偏光板或半透 ^里偏光板、與相位差板組合成之反射型橢圓偏光板或半 透過型橢圓偏光板等。x,於光學薄臈或偏光板亦可設置 至^ 一層藉上述乾燥方法形成之光學機能層。因此,偏光 板,亦可為在具多層構造之光學薄膜或偏光板中至少有^ 層猎上述乾燥方法形成,而其他層係以習知方法形成者。 士又,於將如上述光學機能層積層於保護片時,積層之 時機可在將保護片貼合於偏光元件前,亦可在貼合後。在 將塗佈液塗佈於保護片以積層光學機能層的情形,使保護 片單獨或偏光元件與保護片之積層體為長形支撐體1〇,於 長形支撐體ίο藉塗佈裝置30塗佈具有光學機能之塗佈液 且在t»亥塗佈膜進入乾燥裝置4〇前的期間,可採用上 述乾燥方法。且藉該乾燥方法可進行安定的乾燥,形成均 〜的光學機能層。 又,在偏光板上積層如上述具有光學機能層之光學薄 軔時,亦可分別生成光學薄膜及偏光板,並在液晶顯示裝 ^等影像顯示裝置之製程中將光學薄膜及偏光板彼此貼合 來積層,但預先將光學薄膜積層於偏光板而成者,係品質 安定性或組裝作業等佳,使影像顯示裝置之製程有效率。 此外,依上述方法得到之偏光板可適用於液晶顯示裝 置之形成。例如,可使用於將偏光板設置於液晶元件單面 或雙面而成之反射型或半透過型、或透過反射兩用型之液 晶顯示裝置。液晶元件基板,係可為塑膠基板、玻璃基板 23 ZUU^-1 /^fZl 者又,形成液晶顯示裝i 2、# θ _ # 4 代# @ , 置之液晶兀件為任意,例如 表潯型電晶體之主動矩陣 w . 品良、代表扭曲向歹1J型或# 扭曲向列型之單純矩陣4超 件。 勖型寺,使用適當類型之液晶元 ^由於將以上述乾燥方法形成之光學機能層積層而 约先板使用於液晶顯示裝置’故實現液晶顯示裝置中 句—之高品質影像顯示。 中 又,以上述方式得到之偏光板不限於液晶顯示裝置, 亦可適用於有機EL顯千駐g斗、&收 _ 裝置。 ,、、、μ裴置或電桌顯示裝置等液晶顯示 战於上述液晶顯示袭置使用將藉上述乾燥方法形成之光 :機此層積層而成之偏光板,便能實現外觀均—之液晶顯 不I置’ 0時可安定得到該液晶顯示裝置。又,實現液晶 顯示裝置中均-之高品質影像顯示。 日日 以下,以實施例及比較例對本發明進一步具體說明。 惟,本發明不限定於該等實施例及比較例。 實施例1 將i外線硬化型液晶單體以有機溶劑(環戊酮)稀釋為 固體成分30%而成之黏度6mPa · s(測定裝置:Haake公司製 〜變什RS-1)之塗佈液,於PET膜(厚度75#叫上,藉模 塗機塗佈該塗佈液,並使該塗佈液乾燥後之厚度為4〇 “ m ’並使讜塗佈膜如圖1所示通過配置有板2〇(其與塗佈膜 間有一疋空隙G)之區域後,藉乾燥裝置4〇以7(KC之熱風 乾燥後,以紫外線照射(積算光量3〇〇mj/cm2)來使其硬化, 得到具有光學機能層之薄片。此時根據所產生蒸氣之氣體 24 200417421 濃度$布與風量(風速)來測定在配置有板20之區域中塗佈 液之蒸發速度之結果為0.03g/m2 · s。 一:發明者等確認了在批式乾燥方式中,蒸發速度與產 :氣之氣體》辰度分布之間有相關性。以批式將塗佈液載 置方、兒子天平上,邊監測氣體濃度與風速邊測定重量隨時 門之文化,藉此事先算出氣體濃度及風速、與乾燥速度之 關係(檢量線),本實施例係利用該關係算出蒸發速度。且 2而言,在板20中基材流動方向之中央部分且基材寬度 央Γ開孔,並於該孔配置氣體濃度測定裝置(橫河 ::公司製可攜式V〇C監測器)及風速㈣^ 司製風速計)等各感測器,以敎氣體濃度及風速 0.03g/m2.s。 仔上述蒸發速度為 又,本實施例中將風向定為盥 ,,^ f 為一基材行進方向為同向(順 向),所測定之風速為〇.lm/s。 比較例1 在實施例1除去板2〇,i 赠L . ,、則相同條件,來形成塗佈 膜。此時,以與上述同樣方式測 …土布 塗佈液之蒸發速度,結果為。·12g/m2 . s。 叙部分之 又,本比較例中,氣體濃度 之夂片钏哭执罢认命〜 又攻置及風速測定裝置 之各感测印叹置於與貫施例】同樣之 膜表面5腿的位置。且,確認此時,設置於距塗佈 1相同。 風逮,結果與實施例 評價1 25 200417421 圖5表示實施例1及比較例1之塗佈膜平均值分w ,圖6表示塗佈膜厚分散度。如圖5所示,塗佈膜之;: ^在實施们及比較例!無不同,但如圖6所示實施例】 在塗佈膜之分散度上比起比較例丨為小,故得知可 度偏差少之光學機能層…,由於在塗佈塗佈液後,: 刻以条發速度保持在G.lg/m2 . s以下的狀態進行乾燥 比起蒸發速度較快之情形’能形成厚度偏差少之光:機处 層。 月匕 則薄膜之外觀不 以下之蒸發速度 又,若厚度分散度為0·03//ηι以下 均不明顯,故如實施例i般以01g/m2 · 進行乾燥,便可得到良好的光學薄膜。 實施例2 將熱硬化型樹脂以有機溶劑(MIBK(曱基異丁基_ )稀 釋為固體成分10%之塗佈液(黏度25〇mPa · s),於TAC膜( 厚度85 // m)上藉模塗機塗佈該塗佈液,並使乾燥後厚度為 3,〇“m,使該塗佈膜如圖丨所示通過配置有板2〇(其與塗 佈膜間設有一定空隙⑺之區域後,藉乾燥裝置4〇以 C熱風乾燥,得到具有光學機能層之薄片。此時根據所產 生瘵氣之氣體濃度分布與風量(風速),與實施例丨同樣地 測疋配置有板20之區域中塗佈液之蒸發速度,結果為 〇-〇6g/m2 · s。 又’本實施例中,測定塗佈液黏度之裝置與實施例1 為相同’且確認此時風速,結果亦與實施例1相同。 比較例2 26 200417421 在實施例2除去板20,其他則與上述相同條件,來形 成塗佈膜。此時,將除去板20之部分之塗佈液之蒸發速 度以與上述同樣方式測定,結果為〇15g/m2 · s。 又’本比較例中亦將氣體濃度測定裝置及風速測定裝 置設置於與實施例2相同之位置。此外,確認此時之風速 ’結果為〇 . 1 ni/s。 評價2 圖7表示實施例2及比較例2之塗佈膜厚平均值,圖 8表示塗佈膜厚分散度。如圖7所示,塗佈膜之平均值在 實施例2及比較例2無不同,但如圖8所示實施例2在塗 佈膜之分散度上比起比較例2為小,故得知可形成厚度偏 差乂、之光干機此層。因此,由於在剛塗佈塗佈液後,立刻 以蒸發速度保持在0elg/m2 · s以下的狀態進行乾燥,故比 起蒸發速度較快之情形,能形成厚度偏差少之光學機能層 。又,實施例2,亦成為厚度分散度為〇 〇3“m以下、薄 膜之外觀均一的良好的光學薄膜。 以上係對本發明作詳細說明,但上述說明僅為例示, ^發明並不限定於此。在不脫離本發明之範圍内尚包含許 多未例示之變形例。 【圖式簡單說明】 (一)圖式部分 圖1為表示長形支撐體之塗佈膜形成側上設置板之構 成圖。 圖2為表示長形支擇體之塗佈膜形成側與非形成側兩 27 200417421 者之上設置板之構成圖。 <晋:二為表不剛塗佈塗佈液後以包圍長形支撐體之方式 5又置包圍板之構成圖。 上a置平板狀的·鰭片 之 圖4為表示圖丨的構成中在板 構成圖。 圖5為表示實施例1與比較例1塗佈膜厚度平均值。 圖6為表示實施例1與比較们塗佈膜厚度之分散性 圖7為表示實施例2與比較例2塗佈膜厚度平均值。 圖8為表示實施例2與比較例2塗佈膜厚度之分散性 (二)元件代表符號 10 長形支揮體 11 塗佈膜 20,20a,20b 板 20c 包圍板 22a〜22d 鰭片 25,25a,25b 溫度控制部 26 、 26a 、 26b 溫度感測器 30 塗佈裝置 35 輥子 40 乾燥裝置 G、G1、G2 空隙 28

Claims (1)

  1. 200417421 拾、申請專利範圍: 1·一種塗佈膜之乾燥方法,係於行 塗佈塗佈液而形成之塗佈膜之乾燥 之長形支撐體 々,其特徵在於: 於該長形支撐體塗佈塗佈液後,立 、 度保持在G.lg/m2.u下來進行乾燥。劑之蒸發速 2. 如申請專利範圍第"員之塗佈膜之 塗佈有該塗佈液之長形支撐體進入乾 ’、/糸於 燥。 ”衣置之前,進行乾 3. 如申請專利範圍帛i項之塗佈膜 與剛塗佈上塗佈液之該長形支撐體,'糸將 佈膜隔有空隙,以於塗佈膜在該空隙行二 4_如申請專利範圍第3項之塗佈膜之乾燥丁方:: ,該板之溫度控制於塗佈液之蒸氣之上、 /、 ,/.如申請專嶋第3㈣佈膜之^方法’其中 α亥板於長形支撐體側之面上設置鰭片。 6·如申請專利範圍第丨項至第5 夕仏降古土 甘士 員中任一項之塗佈膜 機能層。 成,、有先學機能之光學 予厚膜’其特徵在於,係將申請專利範圍第 項之塗佈膜之乾燥方法所形成之光學機能層積層而構成 〇 8.一種偏光板’其特徵在於,係具有巾請專利範圍第 7項之光學薄膜。 ^ $ 9一種影像顯示裝置,其特徵在於,係具有中請專利 29 200417421 範圍第8項之偏光板。 、、種^佈膜之乾燥方法,係於行進中之長形支撐體 塗佈塗:液而形成之塗佈膜之乾燥方法;其特徵在於: +將寬度較長形支擇體寬度為寬之板,在塗佈液之塗佈 1置下游側沿長形支撐體之行進路徑配置; 使剛藉塗佈裝置形成有塗佈膜之長形支撐體,在塗佈 膜與板之板面隔有既定間隙之狀態下沿行進路徑行進,藉 以於該間隙進行塗佈膜之乾燥之至少一部分。 曰 11.如申請專利範圍第1G項之塗佈膜之乾燥方法,直 中’將該板當作第丨板,並設置大致平行於第1板之第 板,其隔著間隔與長形支樓體兩面中塗佈膜側之相反側的 使剛形成有塗佈媒之長形支撑體,通過帛i板 板之間隙來行進。 12.如申請專利範圍第1〇項之塗佈膜之乾燥 ^ 中,將與該長形支撐體之行進方向成大致垂直^方:上: 伸之複數個凸構造,沿行進方向排列成與板之下面大致= 行0 之乾燥方法,其 的扁平通道構造 1 3 ·如申請專利範圍第1 〇項之塗佈膜 中該板,係形成包圍長形支撐體行進路徑 體之一面。 項之塗佈 之蒸氣之 14·如申請專利範圍第1〇項至第13項中任一 膜之乾燥方法,其中,該板之溫度調整成塗佈液 露點以上。 30
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